WO2013088745A1 - 有機ｅｌ表示パネルの製造方法 - Google Patents

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WO2013088745A1
WO2013088745A1 PCT/JP2012/008030 JP2012008030W WO2013088745A1 WO 2013088745 A1 WO2013088745 A1 WO 2013088745A1 JP 2012008030 W JP2012008030 W JP 2012008030W WO 2013088745 A1 WO2013088745 A1 WO 2013088745A1
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light emitting
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夢二 高繁
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パナソニック株式会社
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    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display panel including a step of forming a light emitting layer by a printing method such as an inkjet method.
  • organic electroluminescence element (hereinafter referred to as “organic EL element”), which has been researched and developed in recent years, is a current-driven light-emitting element, and a light-emitting element utilizing an electroluminescence phenomenon of an organic fluorescent substance. It is.
  • an organic EL display panel in which the organic EL element is disposed on a substrate is widely used.
  • the organic EL element in the organic EL display panel is made of, for example, a TFT (thin film transistor) substrate, an anode made of a metal such as Al, a light emitting layer made of an organic light emitting material, and a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide).
  • the cathodes are sequentially stacked.
  • the organic EL element includes a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, a sealing layer, and the like as necessary.
  • a method for manufacturing a light emitting layer in an organic EL display panel As a method for manufacturing a light emitting layer in an organic EL display panel, a method of forming using a vacuum vapor deposition method and a printing method in which an organic material ink in which a small amount of an organic light emitting material is dissolved in a solvent are applied using an ink jet are formed. There is a method. If formed by the printing method, the light emitting layer can be formed with a simpler manufacturing apparatus than the vacuum deposition method. And since a printing system can be utilized also when manufacturing a large sized organic EL display panel with a manufacturing apparatus simpler than a vacuum evaporation method, it is useful in terms of manufacturing cost, for example.
  • a partition wall also referred to as a “bank” made of a material containing a liquid repellent component is formed on a substrate, and then This is performed by applying an organic material ink, which is an ink obtained by dissolving a small amount of an organic light-emitting material in a solvent, into a sub-pixel region surrounded by a partition wall and drying it (see Patent Documents 1 and 2).
  • the light emission colors of the adjacent light emitting layers are different from R (red: Red), G (green: Green), and B (blue: Blue). Further, the material of the light emitting layer is different for each emission color.
  • An object of the present invention is to suppress luminance unevenness in an organic EL display panel manufactured using a printing method.
  • the method for manufacturing an organic EL display panel includes a step of preparing a first ink containing a first organic light emitting material and a solvent, and a second organic light emitting device having a light emission wavelength different from that of the first organic light emitting material.
  • Preparing a second ink containing a material and a solvent preparing a third ink containing a third organic light emitting material having a light emission wavelength different from that of the first and second organic light emitting materials; and a solvent; Applying the first ink to a first subpixel region on the substrate; applying the second ink to a second subpixel region adjacent to the first subpixel region; and the first subpixel.
  • the second ink adjacent to the first sub-pixel region to which the first ink is applied is applied in the period from the start of the application of the first ink to the completion of the drying.
  • the difference in concentration of the solvent atmosphere between the solvent evaporated from the second sub-pixel region and the solvent evaporated from the third sub-pixel region to which the third ink adjacent to the first sub-pixel region is applied (hereinafter referred to as this) (Referred to as “solvent atmosphere difference around the sub-pixel region”).
  • the ink is applied to the second subpixel region and the third subpixel region on both sides adjacent to the first subpixel region.
  • the solvent atmosphere difference around the first sub-pixel region can be suppressed.
  • the difference in solvent atmosphere around each first sub-pixel region is suppressed, the occurrence of a difference in solvent atmosphere between the first sub-pixel regions located at different locations in the organic EL display panel can also be suppressed.
  • the distribution of the solute is different between the sub-pixel regions located at different places when the drying of the first ink is completed, and the first ink is formed by application of the first ink.
  • the shape may vary.
  • the organic EL display panel is formed by applying the first ink by suppressing a difference in solvent atmosphere between the first sub-pixel regions located at different locations in the organic EL display panel.
  • FIG. 2 is a top view of the organic EL display panel shown in FIG. 1 in a state where an electron injection layer, a cathode, and a sealing layer are removed. It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the organic electroluminescence display panel shown in FIG. (A) is a figure which shows operation
  • FIG. 6 is a top view illustrating a manufacturing process of the organic EL display panel illustrated in FIG. 5.
  • FIG. 6 is a time chart showing manufacturing steps of the organic EL display panel shown in FIG. 5.
  • (A)-(c) is a figure which shows the shape of the upper surface of the light emitting layer of each of three places of the conventional organic EL display panel
  • (d)-(e) is the organic EL display panel shown in FIG. It is a figure which shows the shape of the upper surface of the light emitting layer of each of these three places.
  • It is a figure explaining the manufacturing process of the organic electroluminescence display panel shown in FIG. It is a figure explaining the manufacturing process at the time of using a low-viscosity organic material ink.
  • FIG. 13 is a top view showing a manufacturing process of the organic EL display panel shown in FIG.
  • FIG. 13 is a time chart showing manufacturing steps of the organic EL display panel shown in FIG. 12.
  • FIG. 12 is a time chart figure which shows the manufacturing process of the organic electroluminescence display panel which concerns on a modification.
  • It is a schematic block diagram which shows schematic structure of the organic electroluminescence display provided with the organic electroluminescence display panel shown in FIG. It is an external view of the organic electroluminescence display provided with the organic electroluminescence display panel shown in FIG.
  • the order of vapor-depositing an organic light emitting material can consider the order of R, G, B, for example. This is because the lifetime of the organic EL element is generally considered to be shorter in the order of R, G, and B, and there is an advantage in forming it from the R light emitting layer having a long lifetime.
  • advantages of forming the light emitting layer with a long lifetime in order will be described.
  • the manufacture of the organic EL element is completed, for example, by forming a light emitting layer on a TFT substrate and then sealing the light emitting layer with a cathode or a sealing layer.
  • moisture and oxygen easily reach the light emitting layer, and the light emitting layer is likely to deteriorate. Therefore, the longer the period from formation of the light emitting layer to sealing, the greater the possibility of deterioration of the light emitting layer.
  • the light emitting layer having a long lifetime is formed, the light emitting layer having a short lifetime is placed in an environment where the possibility of deterioration is smaller. Therefore, the light emitting layer having a short lifetime is placed in an environment where the possibility of deterioration is greater. Rather than the deterioration of the lifetime of the entire organic EL display panel.
  • the inventors decided to manufacture an organic EL display panel by a printing method using an ink jet capable of forming a light emitting layer with a manufacturing apparatus simpler than the vacuum deposition method.
  • the printing method research and development on the application order of the organic light emitting material has not been made yet. Therefore, it is considered that the organic light emitting material is applied in the same order as the above-described example of the vapor deposition method. Therefore, the organic material ink is applied in order from the ink corresponding to the light-emitting layer having a long lifetime, as in the example of the order of forming the vapor-deposited light-emitting layers.
  • the reason why the cross-sectional shape of the light emitting layer formed using the organic material ink with low viscosity varies is that the organic material ink with low viscosity has a larger fluidity of the solvent than the organic material ink with high viscosity, and the surroundings This is considered to be easily affected by the solvent atmosphere.
  • the inventors focused on this point and decided to determine the application order of the organic material ink based on the viscosity of the organic material ink. As a result, even in a light emitting layer using a low-viscosity organic material ink, it is possible to suppress variations in the cross-sectional shape of the light-emitting layer between sub-pixel regions to which the low-viscosity organic material ink is applied. It was. One embodiment of the present invention has been obtained by such a process.
  • the method for manufacturing an organic EL display panel includes a step of preparing a first ink containing a first organic light emitting material and a solvent, and a second organic light emitting device having a light emission wavelength different from that of the first organic light emitting material Preparing a second ink containing a material and a solvent; preparing a third ink containing a third organic light emitting material having a light emission wavelength different from that of the first and second organic light emitting materials; and a solvent; Applying the first ink to a first subpixel region on the substrate; applying the second ink to a second subpixel region adjacent to the first subpixel region; and the first subpixel.
  • the influence of the solvent atmosphere around the first sub-pixel region in the period from the start of application of the first ink, which is a low-viscosity ink, to the completion of drying. Can be suppressed.
  • the ink is present in the second sub-pixel region and the third sub-pixel region adjacent to the first sub-pixel region, so that the adjacent second sub-pixel region
  • the solvent atmosphere difference from the adjacent second sub-pixel region and third sub-pixel region is suppressed.
  • the first sub-pixel region located at a different location in the organic EL display panel compared to the case where ink is present only in one of the second sub-pixel region and the third sub-pixel region adjacent to the first sub-pixel region. It is possible to suppress the occurrence of a difference in solvent atmosphere difference. As a result, when a plurality of light emitting layers formed of the first ink are compared, variation in shape can be suppressed.
  • the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention includes a step of drying the second and third inks after the step of applying the second and third inks,
  • the application of the first ink may be started after the process of drying the third ink is started.
  • the method for manufacturing an organic EL display panel includes a step of drying the second and third inks after the step of applying the second and third inks, And after completion of the step of drying the third ink, the application of the first ink may be started.
  • the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention includes a step of forcibly drying the second and third inks after the application of the second and third inks is completed.
  • the natural drying time from the completion of the application to the start of the forced drying process may be longer than the natural drying time from the completion of the application of at least one of the second and third inks to the start of the forced drying process.
  • the application of the second and third inks is completed, the application of the first ink is started, and after the application of the first ink is completed,
  • the first, second, and third inks may be forcibly dried.
  • the method for manufacturing an organic EL display panel includes a step of drying the second and third inks after the application of the second and third inks is completed. After completing the step of drying the three inks, the application of the first ink may be started, and the second and third inks may be forcibly dried.
  • the first ink may be dried by natural drying after the step of applying the first ink.
  • the application may be started from an ink having a long lifetime among the second ink and the third ink.
  • the application may be started from an ink having a low viscosity among the second ink and the third ink.
  • the natural drying time from the completion of application of the low viscosity ink of the second ink and the third ink to forced drying is It may be longer than the natural drying time from the completion of application of the high viscosity ink among the ink and the third ink to forced drying.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL display panel.
  • anode 13 made of a metal such as Al
  • a hole injection layer 14 an IL (intermediate) layer 15
  • light emitting layers 16R, 16G made of an organic material, 16B (hereinafter collectively referred to as “light emitting layer 16” when there is no need to distinguish).
  • an electron injection layer 17 that covers the partition wall layer 12 and the light emitting layer 16, a cathode 18 made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide), and a sealing made of a light transmissive material such as SiN or SiON.
  • the layer 19 is laminated in order.
  • a combination of three sub-pixels R, G, and B is one pixel. Further, the reason that the emission color of the sub-pixel region is different from R, G, and B is due to the difference in the material of the light emitting layer 16.
  • FIG. 2 is a top view of the organic EL display panel 1 with the electron injection layer 17, the cathode 18, and the sealing layer 19 removed, and the partition wall layer 12 and the light emitting layer 16 are visible.
  • FIG. 1 corresponds to a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1 and 2 show one pixel (three sub-pixels) of the organic EL display panel 1.
  • the partition layer 12 surrounds the light emitting layer 16. Further, the visible region of the light emitting layer 16 corresponds to each subpixel region. In a general 20-inch organic EL display panel, when 1280 ⁇ 768 pixels are arranged at an equal distance, the size of the sub-pixel region is about (64 ⁇ m ⁇ 234 ⁇ m).
  • the light emitting layers that emit blue, red, and green light are referred to as a B light emitting layer, an R light emitting layer, and a G light emitting layer, respectively.
  • the organic material inks that emit blue, red, and green light are referred to as B organic material ink BI, R organic material ink RI, and G organic material ink GI, respectively.
  • a substrate provided with a TFT substrate 11, a partition wall layer 12, an anode 13, a hole injection layer 14, and an IL layer 15 is prepared.
  • an organic material ink that is a material of the light emitting layer 16 is applied to a sub-pixel region surrounded by the partition wall layer 12 by a printing method using an ink jet, and then dried to emit light. Layer 16 is formed.
  • the organic material ink is dried by performing forced drying such as reduced pressure drying or baking after natural drying.
  • an electron injection layer 17 and a cathode 18 are formed so as to cover the partition wall layer 12 and the light emitting layer 16.
  • the organic EL display panel 1 is manufactured through the above steps. 3. Details of light emitting layer formation process (operation of inkjet head) Here, the details of the process of forming the light emitting layer 16, particularly the operation of the inkjet head, will be described in detail.
  • an inkjet apparatus including an inkjet head 20 having three ink ejection nozzles is used.
  • the ink jet apparatus scans the ink jet head 20 while controlling the positional relationship between the nozzle and the substrate, and discharges and applies organic material ink from the nozzle to the sub-pixel region.
  • the inkjet head 20 uses, for example, a piezo-type inkjet head that discharges ink by deformation of the piezo.
  • a multi-pass printing method is used in which the organic material ink is applied by repeating the operation of scanning the inkjet head 20 in the Y direction and then shifting in the X direction a plurality of times.
  • the inkjet head 20 has an R print head, a G print head, and a B print head corresponding to each color of the emission color. Then, the heads of the respective colors cause one nozzle and one sub-pixel to correspond to each other and eject organic material ink droplets. The ink droplets land on a desired subpixel region and are dried to form the light emitting layer 16.
  • the number of nozzles of one head used in the present embodiment is 64 for each color. Therefore, by moving the head from the first scan to the portion where printing is not performed from the first scan and repeating the scan 20 times until the 20th scan, the organic material ink is applied to the entire surface of the panel. By carrying out with all colors G and B, the formation of the light emitting layer 16 of the entire organic EL display panel 1 is completed.
  • the viscosity adjustment of the ink and the conditions for dropping the ink onto the sub-pixel area are as follows: G organic material ink (viscosity: about 5 mPas), which is a relatively low-viscosity ink, is 72 pl in one sub-pixel, higher viscosity than the G organic material ink R organic material ink (viscosity: about 15 mPas), which is the ink of No. 1, is 72 pl in one subpixel, and B organic material ink (viscosity: about 12 mPas), which is higher in viscosity than the G organic material ink, is contained in one subpixel. Set to 70 pl, respectively. An organic solvent having a boiling point of about 200 ° C.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing details of the light emitting layer forming process of the manufacturing process shown in FIG. 3
  • FIG. 6 is a top view showing the manufacturing process of the organic EL display panel 1 shown in FIG.
  • the R organic material ink 16RI is applied to the R sub-pixel region by an ink jet method.
  • an R light emitting layer 16R is formed. Specifically, after applying the R organic material ink 16RI and performing vacuum drying at 0.5 Pa for 20 minutes, the R light emitting layer 16R is obtained in the R sub-pixel region.
  • the solvent of the R organic material ink 16RI is completely dried from within the R sub-pixel by natural drying and reduced-pressure drying. In addition to drying under reduced pressure, forced drying can be performed by heat drying such as baking.
  • Fig.6 (a) the figure which looked at the state of FIG.5 (b) from the top is Fig.6 (a).
  • the B organic material ink 16BI is applied to the B sub-pixel region by an inkjet method.
  • the B light emitting layer 16B is formed. Specifically, after applying the B organic material ink 16BI to the B sub-pixel region on the entire surface of the panel, vacuum drying is performed at 0.5 Pa for 20 minutes. In addition, the figure which looked at the state of FIG.5 (d) from the top is FIG.6 (b). In addition, in the time from the start of application of the R and B organic material inks 16RI and 16BI to the end of application, the ink is naturally dried in the first applied B sub-pixel region.
  • the G organic material ink 16G is applied to the G sub-pixel region by an inkjet method. Since R and B light emitting layers 16R and 16B are formed in the R and B sub pixel regions adjacent to the G sub pixel region, only one of the R and B sub pixel regions is applied when the G organic material ink is applied. The difference in the solvent atmosphere in the R and B sub-pixel regions, that is, the difference in the solvent atmosphere around the G sub-pixel region, is suppressed as compared with the case where undried ink is present.
  • a G light emitting layer 16G is formed. Specifically, after applying the G organic material ink 16GI to the G sub-pixel region on the entire surface of the panel, without waiting for the solvent in all the G sub-pixel regions in the panel to be dried without using forced drying. I do.
  • drying without leaving forced drying such as heating or decompression without leaving the substrate is called natural drying.
  • natural drying is performed until the solvent in all the sub-pixel regions in the panel is dried, and the waiting time required for natural drying is about 20 to 30 minutes. Thereafter, vacuum drying is performed at 0.5 Pa for 20 minutes.
  • FIG.6 (c) the figure which looked at the state of FIG.5 (f) from the top is FIG.6 (c).
  • the entire surface of the organic EL display panel 1 is baked and dried at 130 ° C. for 10 minutes in an N 2 atmosphere, the formation of the light emitting layer 16 is completed.
  • FIG. 7 is a time chart showing the manufacturing process of the organic EL display panel 1. Steps indicated by R, G, and B indicate steps for the R, G, and B sub-pixel regions, respectively.
  • the R organic material ink 16RI is applied, and then forced drying is performed under reduced pressure to obtain the R light emitting layer 16R.
  • forced drying by reduced pressure drying is performed to obtain the B light emitting layer 16B.
  • forced drying by natural drying and reduced pressure drying is performed to obtain the G light emitting layer 16G.
  • FIGS. 8A, 8B, and 8C show the shapes of the upper surfaces of three different G light-emitting layers 16G in the organic EL display panel 1 according to the comparative example.
  • FIGS. 8D, 8E, and 8F are diagrams showing the shapes of the upper surfaces of three different G light emitting layers 16G in the organic EL display panel 1 according to the present embodiment.
  • the inkjet head 20 scans and applies R, G, and B organic material inks 16RI, 16GI, and 16BI (hereinafter collectively referred to as “organic material ink 16” when there is no need to distinguish).
  • organic material ink 16I is dried, the shape of the upper surface of the obtained G light emitting layer 16G is subjected to scanning evaluation by an AFM (Atomic Force Microscope).
  • the shape of the upper surface of the G light emitting layer 16G in three different sub-pixel regions varies. Specifically, the uppermost portion of the upper surface of the G light emitting layer 16G is ⁇ 20 ⁇ m in FIG. 8A, 0 ⁇ m in FIG. 8B, and 5 ⁇ m in FIG. Further, the lowest part of the upper surface of the G light emitting layer 16G is 70 ⁇ m in FIG. 8A, ⁇ 75 ⁇ m in FIG. 8B, and 95 ⁇ m in FIG. 8C.
  • FIGS. 8D, 8E, and 8F in this embodiment, variations in the shape of the upper surface of the G light emitting layer 16G in three different sub-pixel regions are suppressed.
  • the uppermost portion of the upper surface of the G light emitting layer 16G is 0 ⁇ m in FIGS. 8D, 8E, and 8F
  • the lowermost portion of the upper surface of the G light emitting layer 16G is illustrated in FIG. e) It is ⁇ 100 ⁇ m in (f).
  • the cross-sectional shape of each sub-pixel region can be made more uniform by appropriately selecting the bank material, water repellency, side surface inclination angle, and the like.
  • FIG. 9 is a diagram for explaining a manufacturing process of the organic EL display panel 1, and in particular, a diagram for explaining a process of forming the G light emitting layer 16G.
  • the arrows in FIGS. 9A and 9B indicate solvent convection.
  • the G organic material ink 16GI in which the solute is distributed in the solvent is applied to the G sub-pixel region.
  • the solvent is dried by natural drying, but the drying speed of the solvent is different between the central region and the peripheral region in the sub-pixel region. The difference in drying speed of the solvent causes convection, and the solute moves in the solvent.
  • the G light emitting layer 16G is formed.
  • the convection of the solvent tends to be asymmetric. That is, the shape of the light emitting layer in the sub-pixel region is affected by the surrounding solvent atmosphere. Therefore, in the organic EL display panel 1, when attention is paid to two sub-pixel regions located at different locations, if the difference in solvent atmosphere between the sub-pixel regions adjacent to each sub-pixel region is different, the organic EL display panel 1 The cross-sectional shape of the light emitting layer varies.
  • FIG. 10 is a diagram for explaining a manufacturing process when a low-viscosity organic material ink is used
  • FIG. 11 is a diagram for explaining a manufacturing process when a high-viscosity organic material ink is used.
  • the arrows in FIGS. 10 (a) and 11 (a) indicate solvent convection.
  • FIG. 10 (a) when a low-viscosity organic material ink is used, the fluidity of the solvent increases, so the convection increases and the solute moves more intensely.
  • FIGS. 10 (b-1), (b-2), and (b-3) the distribution of solutes at the time of convection stop varies greatly.
  • This distribution variation is a distribution as shown in FIG. 10B-1 in a certain sub-pixel region, a distribution as shown in FIG. 10B-2 in another sub-pixel region, and a further sub-region. In the pixel area, the distribution is as shown in FIG.
  • the susceptibility to influence from adjacent sub-pixel regions varies depending on the viscosity of the organic material ink. Therefore, it is efficient to suppress the variation in the solvent atmosphere difference depending on the location of the sub-pixel region for the organic material ink having the lowest viscosity.
  • the application order is set so that the ink before drying does not exist in the adjacent sub-pixel region when the application of the low-viscosity organic material is started. Is adjusted.
  • the dried sub-pixels adjacent to the first sub-pixel region are adjacent to each other due to the presence of the dried ink in the second sub-pixel region and the third sub-pixel region.
  • the difference in solvent atmosphere from the adjacent second subpixel region and third subpixel region is suppressed.
  • the first subpixel located at a different location in the organic EL display panel 1 as compared with the case where ink is present only in one of the second subpixel region and the third subpixel region adjacent to the first subpixel region. Occurrence of a difference in solvent atmosphere difference between regions can be suppressed.
  • the area near the center of the organic EL display panel tends to be harder to dry than the area at the end of the organic EL display panel.
  • the R organic material ink 16RI and the B organic material ink 16BI are already dried before the G organic material ink 16GI is applied, the difference in the solvent atmosphere around the G sub-pixel region is further suppressed. can do.
  • the dried state of the other organic material inks already applied differs depending on the location of the sub-pixel region in the organic EL display panel. For example, in the sub-pixel region to which the organic material ink is applied in the initial stage, the drying of the organic material ink proceeds, and the solvent atmosphere difference from the sub-pixel region to which the organic material ink is not applied is relatively small. On the other hand, in the sub-pixel region where the organic material ink is applied relatively newly, a lot of solvent remains in the sub-pixel region, and the solvent atmosphere difference from the sub-pixel region where the organic material ink is not applied is relatively small. large.
  • the G organic material ink 16GI is dried by natural drying until the shape of the G light emitting layer 16G is determined, and then forced drying is performed. Therefore, when the G organic material ink 16GI is subjected to forced drying, the amount of the solvent is reduced to some extent and the shape thereof is determined.
  • R and B organic material inks 16RI and 16BI are naturally dried during the time from the start of application to the completion of application, and are forcibly dried after the application is completed.
  • the natural drying time after application of the G organic material ink 16GI having a low viscosity (that is, the time until forced drying) is longer than the natural drying time after application of the R organic material ink 16RI and the G organic material ink 16BI. long.
  • the reason why it is possible to suppress the variation of the light emitting layer whose shape is determined by natural drying and the variation of the cross-sectional shape of the light emitting layer formed by taking a long natural drying time will be described.
  • the shape may vary between the sub-pixel regions. If forced drying such as reduced pressure drying or heat drying is performed without sufficient natural drying in this state, the organic light emitting layer 16 may be formed with the solute distribution variation remaining.
  • the embodiment including both the order of applying the organic material ink and the drying method has been described.
  • the solute variation immediately after the application affects the final shape of the light emitting layer. It is possible to prevent this and suppress the variation in shape between the sub-pixel regions.
  • forced drying is performed at the same time as the application of the R and B organic material inks is completed.
  • the forced drying may be performed after natural drying for a predetermined time.
  • the tact time becomes long, and as described above, it is efficient to make the natural drying time of the low viscosity organic material ink the longest.
  • each sub-pixel region can be made more uniform.
  • the film thickness variation in each sub-pixel region is also caused by the material of the partition layer, the water repellency, the inclination angle of the side surface, and the like. Therefore, the film thickness in the sub-pixel region may not be uniform even when the left and right solvent atmospheres are the same for one sub-pixel region. However, the thickness of the light-emitting layer formed in the subpixel region can be made more uniform when the solvent atmosphere difference is smaller than when the solvent atmosphere difference between the left and right of one subpixel region is large. it can.
  • the natural drying time after application of the low viscosity G organic material ink 16GI (that is, the time until forced drying) is longer than the natural drying time after application of the R organic material ink 16RI and the G organic material ink 16GI. long. Therefore, the cross-sectional shape of the G light-emitting layer 16 whose cross-sectional shape is most likely to vary can be made more uniform between the G light-emitting layers 16 located at different locations in the organic EL display panel 1.
  • forced drying is performed on the G organic material ink GI.
  • drying may be completed by natural drying.
  • the G organic material ink When the G organic material ink is applied, if the undried ink is applied to both the R and B sub pixel areas that are adjacent to the G sub pixel area, the R and B sub pixel areas The absolute value of the solvent atmosphere difference is smaller than when the undried ink is applied to only one of these. As a result, variation in solvent atmosphere difference depending on the location is also suppressed. That is, when the G organic material ink is applied to the sub pixel area, the R organic material ink and the B organic material ink are already applied to the R and B sub pixel areas located on both sides of the G sub pixel area. Variations in the shape of the G light emitting layer 16G can be suppressed.
  • the organic material ink other than the G organic material ink having the lowest viscosity that is, the organic material ink having the longer lifetime among the B organic material ink and the R organic material ink first.
  • the R organic material ink has a longer life than the B organic material ink, it is formed by the G organic material ink by applying the R organic material ink, the B organic material ink, and the B organic material ink in this order.
  • the lifetime of the organic EL panel can be kept longer.
  • an organic material ink having a low viscosity may be applied first.
  • the organic material ink having a low viscosity is more likely to cause variation in the shape of the light emitting layer between the sub-pixel regions.
  • the organic material ink having a low viscosity is applied first, when the application of the organic material ink having the low viscosity of the two is started, another organic material is placed on the organic EL panel. Ink does not exist and is not easily affected by the solvent atmosphere.
  • the natural drying time after the application of the organic material ink having a low viscosity is completed is R
  • the natural drying time for an organic material having a low viscosity may be extended.
  • the application of the G organic material ink may be started before the application of the R organic material ink and the B material ink is completed.
  • the second embodiment is different from the first embodiment only in the process of forming the light emitting layer 16. Therefore, since the substrate configuration is the same as that in the first embodiment and an inkjet is used, the description of the configuration related to the substrate, the inkjet, and the organic material ink is omitted. Details of Light-Emitting Layer Formation Step First, as shown in FIG. 12A, R organic material ink 16RI is applied to the R sub-pixel region by an inkjet method.
  • the B organic material ink 16BI is applied to the B sub-pixel region by an inkjet method.
  • the R light emitting layer 16R and the B light emitting layer 16B are formed. Specifically, R and B organic material inks 16RI and 16BI were applied to the R and B subpixel regions on the entire surface of the panel, and then vacuum drying was performed at 0.5 Pa for 20 minutes.
  • FIG.13 (a) the figure which looked at the state of FIG.12 (c) from the top is FIG.13 (a).
  • the G organic material ink 16GI is applied to the G sub-pixel region. Since the R and B light emitting layers 16R and 16B are formed in the R and B sub pixel regions adjacent to the G sub pixel region, the solvent atmosphere difference between the R and B sub pixel regions is suppressed.
  • a G light emitting layer 16G is formed. Specifically, in a state where the substrate is left after application of the G organic material ink 16GI, the process waits until the solvents in all the G subpixel regions in the organic EL display panel 1 are dried. The waiting time is about 20 to 30 minutes. As a result, the G light emitting layer 16G made only by natural drying is obtained in the G subpixel region. In addition, the figure which looked at the state of FIG.12 (e) from the top is FIG.13 (b).
  • the entire surface of the organic EL display panel 1 is baked at 130 ° C. for 10 minutes in an N 2 atmosphere, whereby the formation of the light emitting layer 16 is completed.
  • FIG. 14 is a time chart showing the manufacturing process of the organic EL display panel 1.
  • R and B light emitting layers 16R and 16B are obtained by application of R and B organic material inks 16RI and 16BI and forced drying.
  • the G organic material ink 16GI is applied and naturally dried.
  • forced drying is performed by baking, and R, G, and B light emitting layers 16R, 16G, and 16B are obtained.
  • the natural drying time of the G organic material ink 16GI is longer than the natural drying time of the R organic material ink 16RI. Note that the R organic material ink 16RI and the B organic material ink 16BI, which are high-viscosity inks, are not easily changed in shape by the state of the solvent atmosphere difference between adjacent sub-pixel regions.
  • the two organic material inks can be forcibly dried at once after being applied to the entire panel regardless of the order of application. By simultaneously forcibly drying high viscosity organic material ink at the same time, the manufacturing time can be further reduced as compared with the first embodiment.
  • application of the G organic material ink is started after the drying of the B organic material ink and the R organic material ink is completed.
  • the present invention is not limited to this embodiment, and the application of the G organic material ink may be started before the drying of the B organic material ink and the R organic material ink is completed.
  • any one of the adjacent sub-pixel regions is started.
  • the difference in solvent atmosphere around the sub-pixel region to which the G organic material ink is applied can be suppressed. I can do it.
  • variation in the cross-sectional shape of the light emitting layer using the G organic material ink can be suppressed.
  • a solvent is present in the G sub-pixel region, so that it is affected by the difference in solvent atmosphere between the left and right. Therefore, before the application of the G organic material ink, the left and right sub-pixel regions are already in the applied state, so that only one of the left and right sub-pixel regions is in the applied state.
  • the solvent atmosphere difference around the pixel region can be suppressed. As a result, the variation in the solvent atmosphere difference around the sub-pixel regions located at different locations is suppressed, so that the shape variation of the light emitting layers located at different locations can be suppressed.
  • the application of the B organic material ink is started after the application of the R organic material ink is completed. Then, before the application of the R, B organic material ink is completed, the G organic material ink is applied, and the R, G, B organic material ink is forcibly dried.
  • the manufacturing time can be further reduced as compared with the first embodiment.
  • the B organic material ink is applied in the middle of the application of the R organic material ink
  • the G organic material ink is applied in the middle of the application of the B organic material ink. Perform forced drying.
  • the organic material ink is naturally dried immediately after application, in this modified example, when the G organic material ink is applied, the adjacent R and B organic material inks are completely dried before the application of the G organic material ink. If so, it is more preferable. Variation in the cross-sectional shape of the G light emitting layer between the G sub-pixel regions can be suppressed. Thereby, manufacturing time can be further shortened by repeating the application
  • Properties of organic material ink (viscosity) In the above embodiment, the description has been made on the assumption that the ink containing the first organic light-emitting material having the lowest viscosity among the organic material inks is green. However, the organic light-emitting material having the lowest viscosity is blue. Or it may be red.
  • the viscosity of the B organic material ink is lower than that of the other two color organic material inks, it is preferable to start application of the B organic material ink before application of the other organic material inks.
  • the organic material ink used for the device structure using the ink jet method an ink having an ink viscosity of 5 mPas to 50 mPas is preferable.
  • the high-viscosity organic material ink in the present invention is a generic term for an organic material ink having a viscosity of about 9 mPas to 15 mPas
  • the low-viscosity organic material ink is an organic material ink having a viscosity of about 4 mPas to 7 mPas.
  • the surface tension of the organic material ink is preferably 20 mN / m to 70 mN / m, and particularly preferably 25 mN / m to 45 mN / m. By setting the surface tension within this range, it is possible to suppress the flight bending of the droplets of the organic material ink during ink ejection.
  • the surface tension of the organic material ink is less than 20 mN / m
  • the wettability of the organic material ink on the nozzle surface increases, and when the organic material ink is ejected, the organic material ink is in the nozzle hole. May adhere asymmetrically around.
  • the organic material ink is ejected by non-uniform force, and so-called the target position cannot be reached. The frequency of occurrence of flight bends increases.
  • the solid content concentration of the organic material ink is preferably 0.01 wt% to 10.0 wt%, more preferably 0.1 wt% to 5 wt%, based on the entire composition. If the solid content concentration is too low, the number of ejections increases to obtain the required film thickness, resulting in poor production efficiency. On the other hand, if the solid content concentration is too high, the viscosity becomes high, which affects the dischargeability.
  • solvent an organic material constituting a layer having a light emitting function such as a light emitting layer and a hole injection layer used in the present invention is dissolved in an organic solvent and applied in the form of an organic material ink.
  • the selection of the solvent for the organic material is based on the solubility and stability of the organic material, the viscosity and surface tension of the organic material ink, which are important for forming the light emitting layer, and the solvent necessary to guarantee the uniformity of the light emitting layer. Carry out considering the boiling point.
  • a solvent having a boiling point exceeding 300 ° C. such as dodecylbenzene can be used from a solvent having a relatively low boiling point such as toluene and xylene.
  • n-dodecylbenzene isopropylbiphenyl, 3-ethylbiphenylnonylbenzene, 3-methylbiphenyl, 2-isopropylnaphthalene, 1,2-dimethylnaphthalene, 1,4-dimethylnaphthalene, 1,6 -Dimethylnaphthalene, 1,3-diphenylpropane, diphenylmethane, octylbenzene, 1,3-dimethylnaphthalene, 1-ethylnaphthalene, 2-ethylnaphthalene, 2,2'-dimethylbiphenyl, 3,3'-dimethylbiph Enyl, 2-methylbiphenyl, 1-methylnaphthalene, 2-methylnaphthalene, cyclohexylbenzene, 1,3,5-triisopropylbenzene, hex
  • monohydric alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and n-butanol
  • cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve can be used.
  • other solvents can be used.
  • solvents may be used alone, but are preferably mixed and used.
  • a solvent having a high boiling point is mixed with a solvent having a relatively low boiling point
  • the planarity of the light emitting layer during solvent drying can be improved.
  • a solvent having a boiling point of 250 ° C. to 350 ° C. is mixed with a solvent having a boiling point of 100 ° C. to 200 ° C.
  • a light emitting layer having excellent flatness can be obtained in the ink jet method and the nozzle coating method. 3.
  • a multi-pass printing method in which printing is performed by a plurality of inkjet head scans is used, but a method in which printing is performed by a single inkjet head scan may be used.
  • a printing method such as a line bank may be used. 4).
  • Printing Method The organic material ink printing method applicable to the present invention is not limited to the inkjet method.
  • the present invention can be applied even if a gravure printing method or the like is used. 5.
  • Drying method The drying method of the organic material ink is important for suppressing variation in the cross-sectional shape of the light emitting layer. As a drying method, vacuum drying, heat drying, or drying in an inert gas is used.
  • the layer configuration may be a bottom emission type in which light from the light emitting layer is extracted from the glass substrate side, in addition to a so-called top emission type in which the light is emitted from the opposite side of the glass substrate.
  • a substantially light-transmitting anode is preferably used as the anode
  • a cathode that reflects light is preferably used as the cathode.
  • the cathode and the anode often have a multilayer structure.
  • the light emitting layer may be of any type as long as it can be dissolved in a solvent and coated to form a thin film, including polyfluorene-based, polyphenylene vinylene-based, pendant-type, dendrimer-type, and coating-type low-molecular weight types. .
  • the light-emitting layer can contain a plurality of materials having a light-emitting function, and the mobility and injectability between holes and electrons and the emission chromaticity can be adjusted.
  • the coating liquid which mixed the dopant with the host material can be used.
  • the dopant a known fluorescent material or phosphorescent material can be used. These materials may be so-called low molecules, polymers or oligomers. In addition, various combinations such as addition of a low molecular dopant to the high molecular host material are possible. 8).
  • Partition Layer and Bank The thickness of the partition layer varies depending on the concentration of the organic material ink to be printed, but is desirably 100 nm or more.
  • any material having electrical insulation can be used arbitrarily, and it is an electrical insulation resin (for example, polyimide resin) having heat resistance and resistance to solvents. It is preferable.
  • the component contained in the organic material constituting the partition contains a component repellent to the organic material ink printed in the bank using an inkjet or the like. It is desirable to have a function to prevent overflow of organic material ink.
  • a photolithography technique or the like is used, and the partition layer is formed by patterning. For example, after a partition wall layer material is applied, a desired shape is formed on the hole injection layer by baking, mask exposure, development, or the like.
  • the shape of the partition wall layer is a forward taper shape, but it is preferable in terms of preventing ink overflow and confirming the formation state of the light emitting layer, but is not limited thereto.
  • the hole injection layer is an organic material
  • a material such as the above polythiophene-based PEDT: PSS is formed by a spin coating method, an inkjet method, or a nozzle coating method.
  • a polyaniline-based material can also be used.
  • Inorganic hole injection layers are also known, and molybdenum oxide, tungsten oxide, vanadium oxide, ruthenium oxide, and the like are used.
  • a carbon compound such as fullerene can be deposited and used as the hole injection layer, and is formed by a vacuum deposition method, an electron beam deposition method, or a sputtering method.
  • the thickness of the hole injection layer is preferably 5 nm to 200 nm.
  • a film formed by vapor deposition or sputtering of a carbon compound such as molybdenum oxide, tungsten oxide, or fullerene is preferably used.
  • Transition metal oxides are particularly preferable because of their high ionization potential, easy hole injection into the light-emitting material, and excellent stability. These oxides are effective in improving the hole injection property of the hole injection layer if they are formed so as to have a defect level during or after formation. 10.
  • Cathode As the cathode, a metal or alloy having a low work function is used.
  • an ultra-thin film using a metal having a low work function is formed, and an upper thin film is formed thereon.
  • a transparent cathode may be formed by stacking conductive films made of a light-transmitting material such as ITO or IZO.
  • This ultra-thin film made of a metal having a small work function is not limited to a Ba-AI two-layer structure, but a Ca-AI two-layer structure, or Li, Ce, Ca, Ba, In, Mg, Ti, etc.
  • Metals, oxides thereof, halides typified by fluoride, Mg alloys such as Mg-Ag alloy, Mg-In alloy, AI alloys such as AI-Li alloy, AI-Sr gold, AI-Ba alloy, etc. Is used.
  • Mg alloys such as Mg-Ag alloy, Mg-In alloy
  • AI alloys such as AI-Li alloy, AI-Sr gold, AI-Ba alloy, etc.
  • a laminated structure of an ultrathin film having a laminated structure such as LiO2 / AI or LiF / AI and a light-transmitting conductive film is also suitable as the cathode material.
  • a transition metal oxide such as TiOx, MoOx, WOx, TiOx, ZnO or the like that has oxygen deficiency and exhibits conductivity can be used as an electron injection layer.
  • the organic EL display panel of the above embodiment is connected to a drive circuit 31, and the drive circuit 31 is controlled by a control circuit 32.
  • 12 Product Form The organic EL display panel of the above embodiment can be distributed as it is to a sales channel as a single device. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 17, it may be incorporated and distributed in a display device such as a digital television.
  • the present invention can suppress luminance unevenness generated in the organic EL display panel when using a low-viscosity ink. Since it is possible to provide a high-quality organic EL display that does not cause luminance unevenness due to the viscosity of the ink material, it is highly versatile and useful in the display field of various electronic devices.

Landscapes

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Abstract

　有機ＥＬ表示パネル１の製造方法は、発光波長が異なるＧ、Ｒ及びＢ有機発光材料の内の１つと溶媒とからなるＧ、Ｒ及びＢインクを準備する工程と、基板上のＧサブ画素領域にＧインクを塗布する工程と、Ｒサブ画素領域及びＢサブ画素領域にＲインク及びＢインクを対応させて塗布する工程とを含む。Ｒサブ画素領域は、Ｇサブ画素領域に隣り合う。Ｂサブ画素領域はＲサブ画素領域とは反対側でＧサブ画素領域に隣り合う。Ｇインクの粘度は、Ｒ及びＢインクの粘度よりも低い。また、Ｒ及びＢインクの塗布開始後に、Ｇインクの塗布を開始する。

Description

有機ＥＬ表示パネルの製造方法
　本発明は、インクジェット方式等の印刷方法による発光層の形成工程を含む有機ＥＬ表示パネルの製造方法に関する。
　近年、研究、開発が進んでいる有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と記載する。）は、電流駆動型の発光素子であり、有機蛍光性物質の電界発光現象を利用した発光素子である。そして、有機ＥＬ素子を用いた表示装置として、基板上に有機ＥＬ素子を配設した有機ＥＬ表示パネルが広く活用されている。有機ＥＬ表示パネルにおける有機ＥＬ素子は、例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板と、Ａｌのような金属からなる陽極と、有機発光材料からなる発光層と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）のような透明材料からなる陰極とが順に積層されて構成されている。また、有機ＥＬ素子は、必要に応じて、ホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層、封止層等を備える。
　有機ＥＬ表示パネルにおける発光層の製造方法には、真空蒸着法を用いて形成する方法と、微量の有機発光材料を溶媒に溶解した有機材料インクを、インクジェットを用いて塗布する印刷方式で形成する方法とがある。印刷方式で形成すれば、真空蒸着法よりも簡便な製造装置で発光層を形成できる。そして、印刷方式は、真空蒸着法よりも簡便な製造装置で大型の有機ＥＬ表示パネルを製造する際にも利用できるため、例えば、製造コスト面で有用である。
　ここで、インクジェットを用いた印刷方式で発光層を形成する従来の方法は、まず、基板上に、撥液成分を含んだ材料からなる隔壁（「バンク」とも称される）を形成し、次いで、隔壁で囲まれたサブ画素領域内に、微量の有機発光材料を溶媒に溶解したインクである有機材料インクを塗布し、これを乾燥することにより行われる（特許文献１、２を参照）。隣り合う発光層の発光色は、Ｒ（赤：Ｒｅｄ），Ｇ（緑：Ｇｒｅｅｎ）,Ｂ（青：Ｂｌｕｅ）とそれぞれ異なる。また、発光色毎に、発光層の材料は異なる。
特開２００２－２２２６９５号公報 特開２０１１－１８６３２号公報
　しかしながら、印刷方式を用いて有機ＥＬ表示パネルを製造すると、サブ画素領域間での発光層の断面形状がばらついてしまい、これが原因となって、輝度ムラが発生するおそれがあることが発明者らの実験により判明した。
　本発明は、印刷方式を用いて製造した有機ＥＬ表示パネルにおける輝度ムラを抑制することを目的とする。
　本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、第１有機発光材料と溶媒とを含む第１インクを準備する工程と、前記第１有機発光材料と発光波長が異なる第２有機発光材料と、溶媒とを含む第２インクを準備する工程と、前記第１及び第２有機発光材料と発光波長が異なる第３有機発光材料と、溶媒とを含む第３インクを準備する工程と、基板上の第１サブ画素領域に、前記第１インクを塗布する工程と、前記第１サブ画素領域に隣り合う第２サブ画素領域に、前記第２インクを塗布すると共に、前記第１サブ画素領域を挟んで前記第２サブ画素領域とは反対側で前記第１サブ画素領域に隣り合う第３サブ画素領域に、前記第３インクを塗布する工程と、を有し、前記第１インクの粘度は、前記第２及び第３インクの粘度よりも低く、前記第２及び第３インクの塗布の開始後に、前記第１インクの塗布を開始することを特徴とする。
　上記一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１インクの塗布の開始から乾燥の完了までの期間における、第１インクが塗布される第１サブ画素領域と隣り合う第２インクが塗布される第２サブ画素領域から蒸発した溶媒、および第１サブ画素領域と隣り合う第３インクが塗布される第３サブ画素領域から蒸発した溶媒による、溶媒雰囲気の濃度の差（以下、これを「サブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差」という）を抑制できる。例えば、上記一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、第１インクの塗布を開始する際に、第１サブ画素領域と隣り合う両側の第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域にインクが存在する。これにより、隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域の一方のみにインクが存在する場合に比べて、第１サブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差を抑制できる。さらに、それぞれの第１サブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差が抑制されると、有機ＥＬ表示パネルにおける異なる場所に位置する第１サブ画素領域間の溶媒雰囲気差の違いの発生も抑制できる。
　ところで、第１インクの塗布の開始から乾燥の完了までの期間において、第１サブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差により、第１サブ画素領域内において第１インクに含まれる溶媒の蒸発速度に違いが生じて、この蒸発速度の違いに応じた対流が発生する。そのため、有機ＥＬ表示パネルにおける異なる場所に位置する第１サブ画素領域間の溶媒雰囲気差に違いが発生すると、第１インクに含まれる溶媒の対流が異なるおそれがある。第１インクに含まれる溶媒の対流が異なると、第１インクの乾燥の完了時点で、異なる場所に位置するサブ画素領域間で溶質の分布が異なってしまい、第１インクの塗布により形成される複数の発光層を比較した場合に、その形状がばらつくおそれがある。
　そのため、上記一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、有機ＥＬ表示パネル内の異なる場所に位置する第１サブ画素領域間の溶媒雰囲気差を抑制することで、第１インクの塗布により形成される複数の発光層を比較した場合に、その形状ばらつきを抑制することができる。
実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図である。 電子注入層、陰極、封止層を取り除いた状態の図１に示した有機ＥＬ表示パネルの上面図である。 図１に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す断面図である。 （ａ）は、図１に示した有機ＥＬ表示パネルの製造時におけるインクジェットヘッドの動作を示す図、（ｂ）は、図１に示した有機ＥＬ表示パネルの製造時における上面図である。 図３に示した製造工程の発光層形成工程の詳細を示す断面図である。 図５に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す上面図である。 図５に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すタイムチャート図である。 （ａ）～（ｃ）は、従来の有機ＥＬ表示パネルの３箇所それぞれの発光層の上面の形状を示す図であり、（ｄ）～（ｅ）は、図１に示した有機ＥＬ表示パネルの３箇所それぞれの発光層の上面の形状を示す図である。 図１に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を説明する図である。 低粘度な有機材料インクを用いた場合の製造工程を説明する図である。 高粘度な有機材料インクを用いた場合の製造工程を説明する図である。 図３に示した製造工程の発光層形成工程の詳細を示す断面図である。 図１２に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す上面図である。 図１２に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すタイムチャート図である。 変形例に係る有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すタイムチャート図である。 図１に示した有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す模式ブロック図である。 図１に示した有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置の外観図である。
［本発明の一態様を得るに至った経緯］
　以下、本発明の一態様を具体的に説明するに先立ち、本発明の一態様を得るに至った経緯について説明する。
　まず、蒸着方式を用いて発光層を形成する場合、有機発光材料を蒸着する順序は、例えばＲ、Ｇ、Ｂという順序が考えられる。これは、有機ＥＬ素子の寿命が、一般にＲ、Ｇ、Ｂの順で短くなると考えられ、寿命が長いＲ発光層から形成することに利点があるためである。以下、寿命が長い発光層から順に形成することによる利点について記述する。
　有機ＥＬ素子の製造は、例えば、ＴＦＴ基板に発光層を形成した後、陰極や封止層で発光層が封止されることで完了する。ところが、発光層の形成から封止までの期間では、発光層に水分や酸素が到達しやすく、発光層が劣化しやすい。そのため、発光層の形成後から封止までの期間が長いほど、発光層の劣化の可能性が大きくなる。ここで、寿命が長いＲ発光層から形成すると、寿命が短い発光層ほど劣化の可能性がより小さい環境におかれるので、寿命が短い発光層ほど劣化の可能性がより大きい環境におかれる場合よりも、有機ＥＬ表示パネル全体の寿命の劣化を抑制できる。
　ところで、発明者らは、真空蒸着法よりも簡便な製造装置で発光層を形成できるインクジェットを用いた印刷方式で、有機ＥＬ表示パネルの製造をすることにした。一方、印刷方式においては、有機発光材料の塗布順序についての研究、開発は未だなされていない。そのため、上述した蒸着方式の一例と同じ順番で、有機発光材料を塗布すると考えられる。そこで、有機材料インクの塗布は、蒸着方式の発光層の形成順序の一例と同様に、寿命が長い発光層に対応するインクから順に行うこととした。すなわち、Ｒ、Ｇ、Ｂの有機材料インクを用いた場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂの順序で有機材料インクを塗布し、その後、ベーク乾燥や減圧乾燥等の強制乾燥をすることで発光層を形成することとした。しかしながら、この製造方法では、サブ画素領域間での発光層の断面形状がばらついてしまい、輝度ムラが発生するおそれがあることが判明した。
　そして、輝度ムラと発光層の材料である有機材料インクの粘度との関係を確認すると、輝度ムラは、特に、比較的低粘度の有機材料インクを用いて形成した発光層で大きいことが明らかになった。
　このように、低粘度の有機材料インクを用いて形成した発光層の断面形状がばらつく理由は、低粘度の有機材料インクが、高粘度の有機材料インクと比べ溶媒の流動性が大きく、周囲の溶媒雰囲気の影響を受けやすいためと考えられる。
　発明者らは、この点に着目して、有機材料インクの粘度に基づいて、有機材料インクの塗布順序を決めることとした。その結果、低粘度の有機材料インクを用いた発光層であっても、低粘度の有機材料インクが塗布されるサブ画素領域間の発光層の断面形状のばらつきを抑制できる、という結果が得られた。本発明の一態様はこのような経緯により得られたものである。
［本発明の一態様の概要］
　本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、第１有機発光材料と溶媒とを含む第１インクを準備する工程と、前記第１有機発光材料と発光波長が異なる第２有機発光材料と、溶媒とを含む第２インクを準備する工程と、前記第１及び第２有機発光材料と発光波長が異なる第３有機発光材料と、溶媒とを含む第３インクを準備する工程と、基板上の第１サブ画素領域に、前記第１インクを塗布する工程と、前記第１サブ画素領域に隣り合う第２サブ画素領域に、前記第２インクを塗布すると共に、前記第１サブ画素領域を挟んで前記第２サブ画素領域とは反対側で前記第１サブ画素領域に隣り合う第３サブ画素領域に、前記第３インクを塗布する工程と、を有し、前記第１インクの粘度は、前記第２及び第３インクの粘度よりも低く、前記第２及び第３インクの塗布の開始後に、前記第１インクの塗布を開始することを特徴とする。
　本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、低粘度のインクである第１インクの塗布の開始から乾燥の完了までの期間における、第１サブ画素領域周辺の溶媒雰囲気の影響を抑制できる。例えば、低粘度の第１インクの塗布を開始する際に、第１サブ画素領域と隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域にインクが存在することにより、隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域の一方のみにインクが存在する場合と比べて、隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域からの溶媒雰囲気差が抑制される。その結果、第１サブ画素領域と隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域の一方のみにインクが存在する場合に比べて、有機ＥＬ表示パネルにおける異なる場所に位置する第１サブ画素領域間の溶媒雰囲気差の違いの発生を抑制することができる。その結果、第１インクにより形成される複数の発光層を比較した場合に、その形状ばらつきを抑制することができる。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２及び第３インクを塗布する工程の後に、前記第２及び第３インクを乾燥する工程を有し、前記第２及び第３インクを乾燥する工程の開始後に、前記第１インクの塗布を開始してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２及び第３インクを塗布する工程の後に、前記第２及び第３インクを乾燥する工程を有し、前記第２及び第３インクを乾燥する工程の完了後に、前記第１インクの塗布を開始してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２及び第３インクの塗布完了後、前記第２及び第３インクを強制乾燥する工程を有し、前記第１インクの塗布完了後から強制乾燥工程開始までの自然乾燥時間が、前記第２及び第３インクの少なくとも一方の塗布完了後から強制乾燥工程開始までの自然乾燥時間よりも長くてもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２及び第３インクの塗布完了後、前記第１インクの塗布を開始し、前記第１インクの塗布完了後、前記第１、第２、及び第３インクを強制乾燥してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２及び第３インクの塗布完了後、前記第２及び第３インクを乾燥する工程を有し、前記第２及び第３インクを乾燥する工程の完了後、前記第１インクの塗布を開始し、前記第２及び第３インクを強制乾燥してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第１インクを塗布する工程の後に、前記第１インクを自然乾燥により乾燥してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２インクと前記第３インクのうち、寿命の長いインクから塗布を開始してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２インクと前記第３インクのうち、粘度の低いインクから塗布を開始してもよい。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２インクと前記第３インクのうち粘度の低いインクの塗布完了後から強制乾燥までの自然乾燥時間が、前記第２インクと前記第３インクのうち粘度の高いインクの塗布完了後から強制乾燥までの自然乾燥時間よりも長くてもよい。
＜実施の形態１＞
１．全体構成
　以下、実施の形態を、図面を参照しつつ、詳細に説明する。図１は、有機ＥＬ表示パネルの断面図である。有機ＥＬ表示パネル１は、ガラス基板、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）層及び平坦化膜層等を含むＴＦＴ基板１１と、ＴＦＴ基板１１上に形成された隔壁層１２とを備える。有機ＥＬ表示パネル１を点灯させる際には、ガラス基板と陽極１３との間の平坦化膜層は、ガラス基板上に配置された薄膜トランジスタ及びトランジスタによるラフネスを緩和する。なお、薄膜トランジスタ及び平坦化膜の構成は周知のものを使用しているため、ここでは図示しない。隔壁層１２の膜厚は１ｕｍ程度であり、その断面形状は順テーパー状である。
　隣り合う隔壁層１２の間にあるサブ画素領域には、Ａｌのような金属からなる陽極１３と、ホール注入層１４と、ＩＬ（中間）層１５と、有機材料からなる発光層１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂ（以下、区別の必要が無いときには、「発光層１６」と総称する）とが積層されている。さらに、隔壁層１２及び発光層１６を覆うような電子注入層１７と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）のような透明材料からなる陰極１８と、ＳｉＮ、ＳｉＯＮのような光透過性材料からなる封止層１９とが順に積層されている。有機ＥＬ表示パネル１では、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのサブ画素の組み合わせを１画素としている。また、サブ画素領域の発光色がＲ、Ｇ、Ｂとそれぞれ異なるのは、発光層１６の材料の違いによる。
　図２は、電子注入層１７、陰極１８、封止層１９を取り除いた状態の、有機ＥＬ表示パネル１の上面図であり、隔壁層１２と発光層１６とが見えている。図１は、図２のＡ－Ａ´断面図に相当する。また、図１及び図２には、有機ＥＬ表示パネル１の１画素（３サブ画素）分が示されている。隔壁層１２は発光層１６を囲んでいる。また、発光層１６の見えている領域が、それぞれのサブ画素領域に相当する。一般的な２０インチの有機ＥＬ表示パネルで、１２８０×７６８画素が均等な距離で配置されている場合、サブ画素領域のサイズは（６４ｕｍ×２３４ｕｍ）程度となる。
　なお、本実施の形態では、青色、赤色、緑色の光を発光する発光層を、それぞれＢ発光層、Ｒ発光層、Ｇ発光層、と呼ぶ。また、青色、赤色、緑色の光を発光する有機材料インクを、それぞれ、Ｂ有機材料インクＢＩ、Ｒ有機材料インクＲＩ、Ｇ有機材料インクＧＩ、と呼ぶ。
２．有機ＥＬ表示パネル１の製造工程
　次に、有機ＥＬ表示パネルの製造工程について説明する。まず、図３を用いて全体の工程を説明し、その後、図４から図７を用いて発光層の形成工程を詳細に説明する。
　図３（ａ）に示すように、まず、ＴＦＴ基板１１と、隔壁層１２と、陽極１３と、ホール注入層１４と、ＩＬ層１５とを備えた基板を準備する。
　図３（ｂ）に示すように、隔壁層１２に囲まれたサブ画素領域に、インクジェットを用いた印刷方式で、発光層１６の材料である有機材料インクを塗布し、その後乾燥させることにより発光層１６を形成する。有機材料インクの乾燥は、自然乾燥を行った後、減圧乾燥やベークなどの強制乾燥を実施することでなされる。
　図３（ｃ）に示すように、隔壁層１２及び発光層１６を覆うような電子注入層１７、及び陰極１８を形成する。
　図３（ｄ）に示すように、陰極１８上に封止層１９を形成すると、有機ＥＬ表示パネル１が完成する。
　なお、電子注入層１７、陰極１８、封止層１９については公知の有機発光デバイス技術おける一般的な部材と形成技術を用いる。
　以上の工程により、有機ＥＬ表示パネル１を製造する。
３．発光層形成工程の詳細
（インクジェットヘッドの動作）
　ここで、発光層１６を形成する工程の詳細、特に、インクジェットヘッドの動作について詳しく説明する。
　本実施の形態では、インクジェット装置として、３つのインク吐出用ノズルを有するインクジェットヘッド２０を備えるものを用いる。インクジェット装置は、ノズルと基板との位置関係を制御しながら、図４（ａ）に示すように、インクジェットヘッド２０を走査させ、ノズルから有機材料インクをサブ画素領域に吐出させて塗布する。なお、インクジェットヘッド２０は、例えば、ピエゾの変形でインクを吐出するピエゾ型インクジェットヘッドを用いる。印刷方式としては、インクジェットヘッド２０をＹ方向へ走査し、その後Ｘ方向へずらす動作を、複数回繰り返すことにより有機材料インクを塗布する、マルチパス印刷方式を用いる。
　以下、より詳細に印刷方式を説明する。インクジェットヘッド２０は、発光色の各色に対応するＲ印刷ヘッド、Ｇ印刷ヘッド、Ｂ印刷ヘッドを有する。そして、その各色のヘッドが１ノズルと１サブ画素とを対応させて、有機材料インクの液滴を吐出する。当該インク液滴は、所望のサブ画素領域に着弾し、これを乾燥させることで発光層１６が形成される。ところで、本実施の形態で用いている１ヘッドのノズル数は、各色６４本である。そのため、１色の塗布を第１走査から印刷していない部分にヘッドを移動しながら、第２０走査まで走査を２０回繰り返すことで、パネル全面に有機材料インクの塗布を行い、これをＲ、Ｇ、Ｂ全色で実施することで、有機ＥＬ表示パネル１全体の発光層１６の形成が完了する。
　インクの粘度調整及びサブ画素領域へのインクの滴下条件は、比較的低粘度のインクであるＧ有機材料インク（粘度：５ｍＰａｓ程度）を１サブ画素内に７２ｐｌ，Ｇ有機材料インクよりも高粘度のインクであるＲ有機材料インク（粘度：１５ｍＰａｓ程度）を１サブ画素内に７２ｐｌ，Ｇ有機材料インクよりも高粘度のインクであるＢ有機材料インク（粘度：１２ｍＰａｓ程度）を１サブ画素内に７０ｐｌにそれぞれ設定する。すべての有機材料インクの溶媒には、沸点２００℃程度の有機溶媒を使用する。
（発光層形成工程の詳細）
　図５は、図３に示した製造工程の発光層形成工程の詳細を示す断面図であり、図６は、図５に示した有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を示す上面図である。
　まず、図５（ａ）に示すように、インクジェット方式で、Ｒサブ画素領域にＲ有機材料インク１６ＲＩを塗布する。
　次に、図５（ｂ）に示すように、Ｒ発光層１６Ｒを形成する。具体的には、Ｒ有機材料インク１６ＲＩを塗布後に、０．５Ｐａで減圧乾燥を２０分実施すると、Ｒサブ画素領域にＲ発光層１６Ｒが得られる。Ｒ有機材料インク１６ＲＩの溶媒は、自然乾燥と減圧乾燥とによってＲサブ画素内から完全に乾燥する。減圧乾燥以外にも、ベークなどの加熱乾燥によっても強制乾燥を実施できる。なお、図５（ｂ）の状態を上から見た図が、図６（ａ）である。
　Ｒ発光層１６Ｒの形成後、図５（ｃ）に示すように、インクジェット方式で、Ｂサブ画素領域にＢ有機材料インク１６ＢＩを塗布する。
　次に、図５（ｄ）に示すように、Ｂ発光層１６Ｂを形成する。具体的には、パネル全面のＢサブ画素領域にＢ有機材料インク１６ＢＩを塗布した後、０．５Ｐａで減圧乾燥を２０分実施する。なお、図５（ｄ）の状態を上から見た図が、図６（ｂ）である。また、Ｒ、Ｂ有機材料インク１６ＲＩ、１６ＢＩの塗布の開始から塗布の終了までの時間において、最初に塗布されたＢサブ画素領域では、インクが自然乾燥する。
　Ｂ発光層１６Ｂの形成後、図５（ｅ）に示すように、インクジェット方式で、Ｇサブ画素領域にＧ有機材料インク１６Ｇを塗布する。なお、Ｇサブ画素領域に隣り合うＲ、Ｂサブ画素領域にはＲ、Ｂ発光層１６Ｒ、１６Ｂが形成されているため、Ｇ有機材料インクの塗布時にＲ、Ｂサブ画素領域のうち一方のみに未乾燥状態のインクが存在する場合よりも、Ｒ、Ｂサブ画素領域の溶媒雰囲気差、すなわちＧサブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差は抑制されている。
　次に、図５（ｆ）に示すように、Ｇ発光層１６Ｇを形成する。具体的には、パネル全面のＧサブ画素領域にＧ有機材料インク１６ＧＩを塗布した後、強制乾燥を用いず、基板を放置した状態でパネル内全てのＧサブ画素領域の溶媒が乾燥するまで待機を行う。ここで、加熱や減圧などの強制乾燥を用いず、基板を放置した状態で乾燥を行うことを自然乾燥と呼ぶ。本実施の形態では、パネル内全てのサブ画素領域の溶媒が乾燥するまで自然乾燥を行っており、自然乾燥に要する待機時間は２０分～３０分間程度である。その後、０．５Ｐａで減圧乾燥を２０分実施する。なお、図５（ｆ）の状態を上から見た図が、図６（ｃ）である。
　さらに、有機ＥＬ表示パネル１の全面に、Ｎ2雰囲気下１３０℃でベーク乾燥を１０分間実施すると、発光層１６の形成が完了する。
　以下、上述の発光層１６の製造工程について、時系列で説明する。図７は、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を示すタイムチャート図である。Ｒ、Ｇ、Ｂで示す工程は、それぞれ、Ｒ、Ｇ、Ｂサブ画素領域に対する工程を示している。
　まず、Ｒ有機材料インク１６ＲＩを塗布した後、減圧乾燥による強制乾燥を行い、Ｒ発光層１６Ｒを得る。次に、Ｂ有機材料インク１６ＢＩを塗布した後、減圧乾燥による強制乾燥を行い、Ｂ発光層１６Ｂを得る。最後に、Ｇ有機材料インク１６ＧＩを塗布した後、自然乾燥及び減圧乾燥による強制乾燥を行い、Ｇ発光層１６Ｇを得る。このように、Ｇ有機材料インク１６ＧＩの塗布の開始の時点において、隣り合うサブ画素領域にはＲ、Ｂ発光層１６Ｒ、１６Ｂが形成されているため、隣り合うサブ画素領域からは溶媒が乾燥しない。なお、最後の強制乾燥の開始時点において、Ｇ有機材料インク１６Ｇが十分に乾燥しているため、Ｇ発光層１６Ｇの形状は定まっている。
５．効果
（５－１）発光層の断面形状の観測結果
　図８（ａ）（ｂ）（ｃ）は、比較例に係る有機ＥＬ表示パネル１における３つの異なるＧ発光層１６Ｇの上面の形状を示す図であり、図８（ｄ）（ｅ）（ｆ）は、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１における３つの異なるＧ発光層１６Ｇの上面の形状を示す図である。具体的には、インクジェットヘッド２０がＲ、Ｇ、Ｂ有機材料インク１６ＲＩ、１６ＧＩ、１６ＢＩ（以下、区別の必要がないときは「有機材料インク１６」と総称する）を各々２０回ずつ走査塗布し、その後有機材料インク１６Ｉを乾燥した後に、得られたＧ発光層１６Ｇの上面の形状をＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ　Ｆｏｒｃｅ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：原子間力顕微鏡）によって走査評価を行っている。
　図８（ａ）（ｂ）（ｃ）に示す結果が得られる比較例では、例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの順番で有機材料インクの寿命が長い場合に、Ｒ、Ｇ、Ｂの順で有機材料インク１６Ｉを塗布した後、減圧乾燥を行う。この塗布順序とする目的は、塗布後の雰囲気下において長時間放置される状態が続いたとき、塗布順序が長寿命順であることで、ある特定の発光色が早く劣化してしまう可能性を低減することである。すなわち、最も寿命が短いＢ発光層１６Ｂについて、Ｂ有機材料インク１６ＢＩの塗布から封止までの時間を最も短くすることで、全体として発光層１６の寿命の劣化を抑制する目的で、Ｒ、Ｇ、Ｂを順に塗布する。
　図８（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、比較例では、３つの異なるサブ画素領域のＧ発光層１６Ｇの上面の形状がばらついている。具体的には、Ｇ発光層１６Ｇの上面の最上部は、図８（ａ）において－２０μｍ、図８（ｂ）において０μｍ、図８（ｃ）において、５μｍである。また、Ｇ発光層１６Ｇの上面の最下部は、図８（ａ）において７０μｍ、図８（ｂ）において－７５μｍ、図８（ｃ）において、９５μｍである。
　一方、図８（ｄ）（ｅ）（ｆ）に示すように、本実施の形態では、３つの異なるサブ画素領域のＧ発光層１６Ｇの上面の形状のばらつきが抑制されている。具体的には、Ｇ発光層１６Ｇの上面の最上部は、図８（ｄ）（ｅ）（ｆ）において、０μｍであり、Ｇ発光層１６Ｇの上面の最下部は、図８（ｄ）（ｅ）（ｆ）において－１００μｍである。なお、それぞれのサブ画素領域の断面形状は、バンクの材料や撥水性、側面の傾斜角度などを適宜選択することにより、より均一化することができる。
（５－２－１）塗布順序についての考察
　本実施の形態のインクの塗布順序による効果について、以下で詳しく考察する。
　図９は、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を説明する図であり、特にＧ発光層１６Ｇを形成する工程を説明する図である。図９（ａ）、（ｂ）における矢印は、溶媒の対流を示す。
　図９（ａ）に示すように、Ｇサブ画素領域に、溶媒内に溶質が分布するＧ有機材料インク１６ＧＩを塗布する。Ｇ有機材料インク１６ＧＩを塗布すると、自然乾燥により溶媒が乾燥するが、サブ画素領域における中央領域と周辺領域では、溶媒の乾燥速度が異なる。この溶媒の乾燥速度の差により対流が起き、溶質が溶媒の中を動く。
　図９（ｂ）に示すように、溶媒がある程度乾燥すると、対流が小さくなり溶質が動きにくくなる。
　図９（ｃ）に示すように、溶媒の多くが乾燥すると、対流は停止し溶質の動きも停止する。この時点の溶質の分布が、最終的なＧ発光層１６Ｇの断面形状に反映される。
　図９（ｄ）に示すように、溶媒が完全に乾燥すると、Ｇ発光層１６Ｇが形成される。
　ここで、ある特定のサブ画素領域に着目した場合に、当該サブ領域の両側で溶媒雰囲気差に差があると、溶媒の対流が左右非対称となりやすい。すなわち、サブ画素領域の発光層の形状は、周囲の溶媒雰囲気に影響を受ける。そのため、有機ＥＬ表示パネル１内において、異なる場所に位置する２つのサブ画素領域に着目した場合、それぞれのサブ画素領域に隣り合うサブ画素領域の溶媒雰囲気差が異なると有機ＥＬ表示パネル１内で、発光層の断面形状にばらつきが生じる。
　また、溶媒の対流は、隣り合うサブ画素領域の溶媒雰囲気差に加え、有機材料インクの粘度によっても異なる。図１０は、低粘度な有機材料インクを用いた場合の製造工程を説明する図であり、図１１は、高粘度な有機材料インクを用いた場合の製造工程を説明する図である。図１０（ａ）、図１１（ａ）における矢印は、溶媒の対流を示す。
　図１０（ａ）に示すように、低粘度の有機材料インクを用いると、溶媒の流動性が大きくなるため、対流が大きくなり溶質の動きが激しくなる。これにより、図１０（ｂ－１）（ｂ－２）（ｂ－３）に示すように、対流停止時点における溶質の分布が、大きくばらついてしまう。この分布のばらつきとは、あるサブ画素領域では図１０（ｂ－１）に示すような分布となり、別のサブ画素領域では図１０（ｂ－２）に示すような分布となり、さらに別のサブ画素領域では図１０（ｂ－３）に示すような分布となるということである。そのため、隣り合うサブ画素領域に溶媒雰囲気差がある場合に、低粘度の有機材料インクを用いると、図１０（ｃ－１）（ｃ－２）（ｃ－３）に示すように、隣り合うサブ画素領域からの影響を受けやすく、サブ画素領域間の発光層１６の断面形状のばらつきが顕著になる。
　一方、図１１（ａ）に示すように、高粘度の有機材料インクを用いると、溶媒の流動性が小さくなるため、対流が小さくなり溶質の動きか緩やかになる。これにより、図１１（ｂ）に示すように、対流停止時点における溶質の分布が、さほどばらつかない。そのため、隣り合うサブ画素領域に溶媒雰囲気差がある場合であっても、高粘度の有機材料インクを用いると、図１１（ｃ）に示すように、隣り合うサブ画素領域からの影響を受けにくく、サブ画素領域間の発光層１６の断面形状のばらつきが小さくなる。
　このように、隣り合うサブ画素領域からの影響の受けやすさは、有機材料インクの粘度により異なる。そのため、最も粘度が低い有機材料インクについて、サブ画素領域の場所による溶媒雰囲気差のばらつきを抑制することが効率的である。本実施の形態では、発光層１６の断面形状のばらつきを抑制するために、低粘度の有機材料の塗布を開始する時点で、隣り合うサブ画素領域に乾燥前のインクが存在しないよう、塗布順序を調整している。
　例えば、低粘度の第１インクの塗布を開始する際に、第１サブ画素領域と隣り合う両側の第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域に乾燥済みのインクが存在することにより、隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域の一方のみにインクが存在する場合と比べて、隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域からの溶媒雰囲気差が抑制される。その結果、第１サブ画素領域と隣り合う第２サブ画素領域及び第３サブ画素領域の一方のみにインクが存在する場合に比べて、有機ＥＬ表示パネル１における異なる場所に位置する第１サブ画素領域間の溶媒雰囲気差の違いの発生を抑制することができる。
　また、有機材料インクが塗布された後、有機ＥＬ表示パネルの中央付近の領域は、有機ＥＬ表示パネルの端部の領域よりも有機材料インクが乾燥しにくい傾向がある。本実施の形態では、Ｇ有機材料インク１６ＧＩを塗布する前に、Ｒ有機材料インク１６ＲＩ、Ｂ有機材料インク１６ＢＩを既に乾燥しているため、よりＧサブ画素領域の周辺の溶媒雰囲気差をより抑制することができる。
　さらに、有機材料インクが塗布されてからの経過時間が異なると、有機ＥＬ表示パネル内におけるサブ画素領域の場所によって、既に塗布された他の有機材料インクの乾燥状態が異なる。例えば、初期に有機材料インクが塗布されたサブ画素領域では、有機材料インクの乾燥が進み、有機材料インクが塗布されていないサブ画素領域との溶媒雰囲気差が比較的小さい。それに対して、比較的新しく有機材料インクが塗布されたサブ画素領域では、サブ画素領域内に溶媒が多く残っており、有機材料インクが塗布されていないサブ画素領域との溶媒雰囲気差が比較的大きい。本実施の形態では、Ｇ有機材料インク１６ＧＩを塗布する前に、Ｒ有機材料インク１６ＲＩ、Ｂ有機材料インク１６ＢＩを既に乾燥しているため、よりＧサブ画素領域の周辺の溶媒雰囲気差をより抑制することができる。
（５－２－２）乾燥方法についての考察
　有機材料インクを塗布する順番に加えて、有機材料インクの乾燥方法が発光層の形状に与える影響について検討する。
　本実施の形態では、Ｇ発光層１６Ｇの形状が定まるまでのＧ有機材料インク１６ＧＩの自然乾燥で乾燥させたのち、強制乾燥を行っている。そのため、Ｇ有機材料インク１６ＧＩは強制乾燥を行うときには、ある程度溶媒の量が減少してその形状が定まっている。
　これに対して、Ｒ、Ｂ有機材料インク１６ＲＩ、１６ＢＩは、塗布開始から塗布完了までの時間に自然乾燥が進むとともに、塗布が完了した後に強制乾燥されている。
　すなわち、粘度の低いＧ有機材料インク１６ＧＩの塗布後の自然乾燥時間（すなわち、強制乾燥を行うまでの時間）が、Ｒ有機材料インク１６ＲＩ及びＧ有機材料インク１６ＢＩの塗布後の自然乾燥時間よりも長い。
　以下、自然乾燥で形状を定めた発光層のばらつき、及び長い自然乾燥時間をかけて形成した発光層の断面形状のばらつきを抑制できる理由について説明する。塗布された直後のＧ有機材料インク１６ＧＩの有機材料インクでは、サブ画素領域間で、形状にばらつきがある場合がある。この状態で、十分な自然乾燥を行わずに、減圧乾燥や加熱乾燥などの強制乾燥を行うと、溶質の分布ばらつきが残った状態で、有機発光層１６が形成されるおそれがある。これに対して、最もばらつきが発生しやすいＧ有機材料インク１６ＧＩに対して、Ｒ有機材料インク１６ＲＩ及びＢ有機材料インク１６ＢＩに対して自然乾燥時間を最も長く確保すると、塗布後の有機材料インクの溶質の分布ばらつきを抑制し、発光層１６の断面形状ばらつきを抑制できる。
　なお、本実施の形態では、有機材料インクを塗布する順番と乾燥方法との両方の特徴を備えた実施の形態を述べた。しかし、上述したように、有機材料インクを塗布する順番、又は乾燥方法のいずれか一方のみを特徴とする場合であっても、塗布直後の溶質のばらつきが最終的な発光層の形状に影響するのを防止し、サブ画素領域間の形状ばらつきを抑制するという効果を奏することが出来る。
　なお、図７に示す工程では、Ｒ、Ｂ有機材料インクの塗布が完了すると同時に強制乾燥を行ったが、所定の時間自然乾燥させてから強制乾燥を行ってもよい。ただし、両インクに対して自然乾燥時間を確保すると、タクトタイムが長くなるため、上述したように低粘度の有機材料インクの自然乾燥時間を最も長くすることが効率的である。
（５－３）効果のまとめ
　本実施の形態では、隣り合うサブ画素領域において、Ｒ、Ｂ発光層１６Ｒ、１６Ｂの塗布、および乾燥が完了している時点で、Ｇ有機材料インク１６ＧＩの塗布を開始する。これにより、特定のＧサブ画素領域に隣り合うサブ画素領域の溶媒雰囲気差を抑制できる。
それぞれのＧサブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差が抑制されると、有機ＥＬ表示パネル１における異なる場所に位置するＧサブ画素領域間の溶媒雰囲気差の違いの発生も抑制される。その結果、Ｇサブ画素領域と隣り合うＲ、Ｂサブ画素領域の一方のみにインクが存在する場合に比べて、有機ＥＬ表示パネル１における異なる場所に位置するＧサブ画素領域間の溶媒雰囲気差の違いの発生を抑制することができる。これにより、有機ＥＬ表示パネル１における異なる場所に位置するＧ発光層１６Ｇ同士を比較した場合に、その断面形状のばらつきが抑制され、輝度ムラを抑制できる。
　なお、サブ画素領域ごとの膜厚をより均一化することもできる。
　各サブ画素領域における膜厚ばらつきは、隔壁層の材料や撥水性、側面の傾斜角度などにも起因する。そのため、一つのサブ画素領域に対して左右の溶媒雰囲気が等しい状態であっても、サブ画素領域における膜厚は均一ではない場合もある。しかしながら、一つのサブ画素領域の左右の溶媒雰囲気差が大きい場合よりも、その溶媒雰囲気差が小さい場合の方が、当該サブ画素領域に形成される発光層の膜厚をより均一化することができる。
　さらに、粘度の低いＧ有機材料インク１６ＧＩの塗布後の自然乾燥時間（すなわち、強制乾燥を行うまでの時間）が、Ｒ有機材料インク１６ＲＩ及びＧ有機材料インク１６ＧＩの塗布後の自然乾燥時間よりも長い。そのため、最も断面形状がばらつきやすいＧ発光層１６の断面形状を、有機ＥＬ表示パネル１における異なる場所に位置するＧ発光層１６同士でより均一化することができる。
　なお、本実施の形態では、Ｇ有機材料インクＧＩに対して強制乾燥を行なっていたが、自然乾燥により乾燥を完了させてもよい。
　Ｇ有機材料インクを塗布するときに、Ｇサブ画素領域と隣り合うサブ画素領域であるＲ、Ｂサブ画素領域の両方に未乾燥状態のインクが塗布されている場合は、Ｒ、Ｂサブ画素領域の一方のみに未乾燥状態のインクが塗布されている場合よりも、溶媒雰囲気差の絶対値が小さくなる。その結果、場所による溶媒雰囲気差のばらつきも抑制される。すなわち、Ｇ有機材料インクをサブ画素領域に塗布する際に、Ｒ有機材料インク及びＢ有機材料インクが既にＧサブ画素領域の両側に位置するＲ、Ｂサブ画素領域に塗布されていることで、Ｇ発光層１６Ｇの形状ばらつきを抑制することができる。なお、Ｇ有機材料インクを塗布する際に、パネルの全面においてＲ有機材料インク及びＢ有機材料インクの塗布が完了している必要は無く、Ｇ有機材料インクを塗布しようとするＧサブ画素領域と隣り合う２つのＲ、Ｂサブ画素領域に、Ｒ有機材料インク及びＢ有機材料インクが塗布されていればよい。
　以下、最も粘度の低いＧ有機材料インク以外のインクの塗布及び乾燥について説明する。Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクとは同時に塗布を開始してもよい。また、Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクとの両方に対して、一括して強制乾燥を行ってもよい。
　さらに、最も粘度の低いＧ有機材料インク以外の有機材料インク、すなわち、Ｂ有機材料インクおよびＲ有機材料インクのうち、寿命の長い方の有機材料インクを先に塗布することが好ましい。例えば、Ｂ有機材料インクよりもＲ有機材料インクが長寿命である場合、Ｒ有機材料インク、Ｂ有機材料インク、Ｂ有機材料インクの順番に塗布を行うことで、Ｇ有機材料インクにより形成されるＧ発光層の形状ばらつきを抑制すると共に、有機ＥＬパネルとしての寿命をより長く保つことが出来る。
　また、Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクのうち、粘度が低い有機材料インクを先に塗布してもよい。粘度が低い有機材料インクの方が、サブ画素領域間の発光層の形状ばらつきが発生しやすい。Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクのうち、粘度が低い有機材料インクを先に塗布すると、２つのうち粘度が低い有機材料インクの塗布を開始する時には、有機ＥＬパネル上には他の有機材料インクが存在せず、溶媒雰囲気の影響を受けにくい。したがって、Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクのうち、粘度が低い有機材料インクによって形成される発光層の、サブ画素領域間の形状ばらつきを抑制することが出来る。この場合、Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクのうち、粘度が低い有機材料インクの塗布が終了した後の自然乾燥時間（すなわち、塗布が完了してから強制乾燥までの放置時間）が、Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクのうち、粘度が低い有機材料に対しての自然乾燥時間を長くしてもよい。上述したように、Ｒ有機材料インクとＢ有機材料インクのうち、粘度が低い有機材料インクを用いて形成される発光層の、サブ画素領域間の形状ばらつきを抑制することが出来る。
　また、実施の形態２以降に示すように、Ｒ有機材料インクとＢ材料インクの塗布が完了する前に、Ｇ有機材料インクの塗布を開始してもよい。
＜実施の形態２＞
　以下、実施の形態２は、発光層１６の形成工程のみが、上記実施の形態１と異なる。よって、上記実施の形態１と基板構成が重複し、インクジェットを使用するため、基板、インクジェット、及び有機材料インクに関する構成の説明は割愛する
１．発光層形成工程の詳細
　まず、図１２（ａ）に示すように、インクジェット方式で、Ｒサブ画素領域にＲ有機材料インク１６ＲＩを塗布する。
　次に、図１２（ｂ）に示すように、インクジェット方式で、Ｂサブ画素領域にＢ有機材料インク１６ＢＩを塗布する。
　その後、図１２（ｃ）に示すように、Ｒ発光層１６Ｒ及びＢ発光層１６Ｂを形成する。具体的には、パネル全面のＲ、Ｂサブ画素領域にＲ，Ｂ有機材料インク１６ＲＩ、１６ＢＩを塗布した後、０．５Ｐａで減圧乾燥を２０分実施した。なお、図１２（ｃ）の状態を上から見た図が、図１３（ａ）である。
　Ｒ、Ｂ発光層１６Ｒ、Ｂの形成後、図１２（ｄ）に示すように、Ｇサブ画素領域にＧ有機材料インク１６ＧＩを塗布する。なお、Ｇサブ画素領域に隣り合うＲ、Ｂサブ画素領域にはＲ、Ｂ発光層１６Ｒ、１６Ｂが形成されているため、Ｒ、Ｂサブ画素領域の溶媒雰囲気差は抑制されている。
　その後、図１２（ｅ）に示すように、Ｇ発光層１６Ｇを形成する。具体的には、Ｇ有機材料インク１６ＧＩの塗布後に基板を放置した状態で、有機ＥＬ表示パネル１内全てのＧサブ画素領域の溶媒が乾燥するまで待機する。待機時間は２０分～３０分間程度である。これにより、Ｇサブ画素領域に自然乾燥のみでなるＧ発光層１６Ｇを得る。なお、図１２（ｅ）の状態を上から見た図が、図１３（ｂ）である。
　その後、有機ＥＬ表示パネル１全面にＮ2雰囲気下１３０℃でベーク乾燥を１０分間実施することで、発光層１６の形成が完了する。
　図１４は、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を示すタイムチャート図である。
　まず、Ｒ、Ｂ有機材料インク１６ＲＩ、１６ＢＩの塗布及び強制乾燥でＲ、Ｂ発光層１６Ｒ、１６Ｂを得る。次に、Ｇ有機材料インク１６ＧＩを塗布及び自然乾燥する。その後、ベーク乾燥により強制乾燥を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂ発光層１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂを得る。Ｇ有機材料インク１６ＧＩの自然乾燥時間は、Ｒ有機材料インク１６ＲＩの自然乾燥時間よりも長い。なお、高粘度のインクであるＲ有機材料インク１６ＲＩ、Ｂ有機材料インク１６ＢＩは、隣り合うサブ画素領域の溶媒雰囲気差の状態によって形状変化を受けにくい。
　なお、図１４では、Ｇ有機材料インクのみに強制乾燥を行っているように見えるが、減圧乾燥や加熱乾燥は有機ＥＬパネルの全体に対して行うものであるため、同時にＢ有機材料インク（もしくはＢ発光層）とＲ有機材料インク（もしくはＲ発光層）にも強制乾燥がおこなわれる。
２．効果
　この工程では、Ｒ、Ｂ有機材料インク１６Ｒ、Ｂのベーク乾燥による強制乾燥を同時に行うことで、実施の形態１に比べ、製造時間をさらに短縮できる。また、Ｒ有機材料インクの自然乾燥時間をより長く確保することで、Ｒ有機材料インクにより形成されるＲ発光層の形状ばらつきを抑制することが出来る。
　なお、Ｒ有機材料インク１６ＲＩ、Ｂ有機材料インク１６ＢＩは高粘度であるため、塗布の順序に関係なくパネル全面に塗布後、２種類の有機材料インクを一括で強制乾燥できる。高粘度の有機材料インクを同時に強制乾燥させることで、実施の形態１に比べ、製造時間をさらに短縮できる。
［変形例］
１．発光層形成の工程
　上記実施の形態では、Ｂ有機材料インクとＲ有機材料インクの乾燥が完了した後にＧ有機材料インクの塗布を開始した。Ｇ有機材料インクが受ける溶媒雰囲気差の影響をさらに抑制するためには、Ｂ有機材料インクとＲ有機材料インクの塗布が完了した後に、他の有機材料インクの塗布を開始することが望ましい。しかし、この実施の形態に限られず、Ｇ有機材料インクの塗布を、Ｂ有機材料インクとＲ有機材料インクとの乾燥が完了する前に開始してもよい。
　Ｂ有機材料インクとＲ有機材料インクとの塗布を開始した後に、Ｇ有機材料インクの塗布を開始することで、Ｇ有機材料インクの塗布が開始するときに、隣り合うサブ画素領域のうちいずれか一方のみ（例えば、Ｂ有機材料インクのみ、もしくはＲ有機材料インクのみ）が塗布されている場合に比べて、Ｇ有機材料インクが塗布されるサブ画素領域の周囲の溶媒雰囲気差を抑制することが出来る。その結果、Ｇ有機材料インクを用いた発光層の断面形状の形状ばらつきを抑制できる。以下、図１５に示す発光層形成の工程のタイムチャート図を用いて、効果が期待できる塗布順序の一例を、変形例として説明する。
　Ｇ有機材料インクの塗布直後は、Ｇサブ画素領域に溶媒が存在するため、左右の溶媒雰囲気差の影響を受ける。したがって、Ｇ有機材料インクの塗布前に、左右のサブ画素領域が既に塗布状態となっていることで、左右のサブ画素領域のうち一方のみが塗布状態となっている場合に比べて、当該サブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差を抑制することができる。その結果、異なる場所に位置するサブ画素領域周辺の溶媒雰囲気差のばらつきが抑制されるため、異なる場所に位置する発光層の形状ばらつきを抑制することが出来る。
　例えば、図１５（ａ）に示すように、Ｒ有機材料インクの塗布が完了した後にＢ有機材料インクの塗布を開始する。そしてＲ、Ｂ有機材料インクの塗布が完了する前に、Ｇ有機材料インクの塗布を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂ有機材料インクの強制乾燥を行う。Ｒ、Ｇ、Ｂ有機材料インクの強制乾燥を同時に行うことで、実施の形態１に比べ、製造時間をさらに短縮できる。
　また、図１５（ｂ）に示すように、Ｒ有機材料インクの塗布の途中で、Ｂ有機材料インクを塗布し、さらに、Ｂ有機材料インクの塗布の途中で、Ｇ有機材料インクを塗布し、強制乾燥を行う。
　また、有機材料インクは塗布直後から自然乾燥が進むため、この変形例では、Ｇ有機材料インクの塗布開始時に、Ｇ有機材料インクの塗布までに隣り合うＲ、Ｂ有機材料インクの自然乾燥が完了していればより好ましい。Ｇサブ画素領域間のＧ発光層の断面形状のばらつきを抑制できる。これにより、有機材料インクの塗布工程を重ねることで、製造時間をさらに短縮できる。
２．有機材料インクの特性
（粘度）
　上記実施の形態では、有機材料インクのうち、最も粘度の低い第１有機発光材料を含むインクが緑であるとして説明を行ったが、これに限らず、最も粘度の低い有機発光材料が青、又は赤であってもよい。
　例えば、Ｂ有機材料インクの粘度が他の２色の有機材料インクより低い場合は、Ｂ有機材料インク塗布を他の有機材料インクの塗布よりも先に開始することが好ましい。
　また、インクジェット法を用いたデバイス構造に用いられる有機材料インクとしては、インク粘度が５ｍＰａｓ～５０ｍＰａｓのものが良い。ここで、本発明における高粘度の有機材料インクとは、粘度が９ｍＰａｓ～１５ｍＰａｓ程度の範囲、低粘度の有機材料インクとは、粘度が４ｍＰａｓ～７ｍＰａｓ程度の有機材料インクを総称する。
　また、有機材料インクを３種類よりも多く使用する場合があるとしても、同様に最も粘度の低い有機材料インクから塗布を開始することにより、上述した実施の形態と同様の効果を得ることが出来る。
（表面張力）
　有機材料インクの表面張力は、好ましくは２０ｍＮ／ｍ～７０ｍＮ／ｍであって、特に好ましくは２５ｍＮ／ｍ～４５ｍＮ／ｍである。この範囲の表面張力にすることにより、インク吐出の際の、有機材料インクの液滴の飛行曲がりを抑制できる。具体的には、有機材料インクの表面張力が２０ｍＮ／ｍ未満であると、有機材料インクのノズル面上での濡れ性が増大し、有機材料インクを吐出する際、有機材料インクがノズル孔の周囲に非対称に付着することがある。この場合、ノズル孔に付着した有機材料インクと吐出しようとする付着物との相互間に引力が働くため、有機材料インクは不均一な力により吐出されることになり、目標位置に到達できない所謂飛行曲がりが生じる頻度が高くなる。また、有機材料インクの表面張力が７０ｍＮ／ｍを超えると、ノズル先端での液滴の形状が安定しないため、有機材料インクの吐出径、及び吐出タイミングの制御が困難になる。
（固形物濃度）
　有機材料インクの固形分濃度は、組成物全体に対して０．０１ｗｔ％～１０．０ｗｔ％が好ましく、０．１ｗｔ％～５、０ｗｔ％が更に好ましい。固形分濃度が低すぎると必要な膜厚を得るために吐出回数が多くなってしまい、製造効率が悪くなってしまう。また、固形分濃度が高すぎると粘度が高くなってしまい、吐出性に影響を与える。
（溶媒）
　本発明に用いられる発光層、ホール注入層などの発光機能を有する層を構成する有機材料は、有機溶媒に溶解させて有機材料インクの形にして塗布するのが一般的である。有機材料用の溶媒の選択は、有機材料の溶解性や安定性、発光層を形成する場合に重要な有機材料インクの粘度及び表面張力、発光層の均一性を保証するために必要な溶媒の沸点などを考慮して行う。
　有機材料インクの溶媒としては、トルエン、キシレン等の比較的低沸点の溶媒から、ドデシルベンゼンのような３００℃を超える沸点のものが使用可能である。
　例えば、ｎ－ドデシルベンゼン、ｎ－デシルベンゼン、イソプロピルビフエニル、３－エチルビフエニルノニルベンゼン、３－メチルビフエニル、２ーイソプロピルナフタレン、１，２－ジメチルナフタレン、１，４－ジメチルナフタレン、１，６－ジメチルナフタレン、１，３－ジフエニルプロパン、ジフエニルメタン、オクチルベンゼン、１，３－ジメチルナフタレン、１－エチルナフタレン、２－エチルナフタレン、２，２′－ジメチルビフエニル、３，３′－ジメチルビフエニル、２－メチルビフエニル、１－メチルナフタレン、２－メチルナフタレン、シクロヘキシルベンゼン、１，３，５－トリイソプロピルベンゼン、ヘキシルベンゼン、１，４ージイソプロピルベンゼン、テトラリン、１，３－ジイソプロピルベンゼン、５－ｔｅｒｔ－ブチル－ｍ－キシレン、アミルベンゼン、１，２，３，５－テトラメチルベンゼン、５－イソプロピルｍ－キシレン、３，５－ジメチルアニソール、４－エチル－ｍ－キシレン、ｎ－ブチルベンゼン、メトキシトルエン、ｓｅＧ－ブチルベンゼン、イソブチルベンゼン、１，２，４－トリメチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン、１，３，５－トリメチルベンゼン、アニソール、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、ジシクロへキシルケトン、シクロペンチルフエニルケトン、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメチル、安息香酸ヘキシル、安息香酸イソアミル、安息香酸ｎ－ブチル、２－シクロヘキシルシクロヘキサノン、２－ｎ－へプチルシクロペンタノン、フエノキシトルエン、ジフエニルエーテル、１－エトキシナフタレン、２－メトキシビフエニル、安息香酸イソブチル、安息香酸プロビル、イソ吉草酸シクロヘキシル、安息香酸エチル、シクロプロピルフエニルケトン、２－へキシルシクロペンタノン、２－ピロリドン、２－シクロペンチルシクロペンタノン、１ーメチル２－ピロリドン、６－メトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン、２，５－ジメトキシトルエン、１－メトキシ－２，３，５－トリメチルベンゼン、プチルフエニルエーテル、３，４－ジメチルアニソール、安息香酸メチル、４－エチルシクロヘキサノン等の炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が用いられる。また、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノールなどの一価アルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤等を用いることも出来る。なお、材料の溶解性等を考慮すれば、これ以外の溶媒も用いることが出来る。
　また、これらの溶媒は、１種類で用いてもよいが、混合して用いることが好ましい。ここで、比較的低沸点の溶媒に高沸点の溶媒を混合して用いると、溶媒乾燥時の発光層の平面性を上げることが可能である。例えば、１００℃～２００℃の沸点を有する溶媒に、２５０℃～３５０℃の沸点を有する溶媒を混合すると、インクジェット法及びノズルコート法において、平面性に優れた発光層を得ることが出来る。
３．インクジェットヘッド
　ピエゾ型インクジェットヘッドは、ピエゾの変形でインクを吐出するため、あまりに高粘度のインクでは吐出性が悪化し、着弾制度が悪くなる。従って、高粘度のインクを用いる場合、ピエゾ型インクジェットヘッドの性能を考慮する必要がある。
　また、本実施の形態等では、複数回のインクジェットヘッド走査によって印刷するマルチパス印刷方式を用いたが、一回のインクジェットヘッド走査によって印刷する方式を用いてもよい。例えば、ラインバンク等の印刷方式を用いてもよい。
４．印刷方法
　本発明に適用できる有機材料インクの印刷方法は、インクジェット方式に限らない。例えば、グラビア印刷方式等を用いても、本発明を適用できる。
５．乾燥方法
　有機材料インクの乾燥方法は、発光層の断面形状ばらつきの抑制のために重要である。乾燥方法としては、真空乾燥、加熱乾燥、不活性ガス中での乾燥が用いられ、他に、有機材料インクの溶媒である程度満たした雰囲気下で、乾燥させる場合もある。
６．層構成
　層構成は、ガラス基板の反対側から取り出すいわゆるトップエミッション型の他に、発光層からの光をガラス基板側から取り出すボトムエミッション型でもよい。ボトムエミッション型の場合は、陽極には実質的に透光性のある陽極を用いることが好ましく、陰極には光を反射する陰極を用いることが好ましい。ここで、陰極及び陽極は、多層構成とする場合が多い。さらに、基板に近い方の電極を陰極とする、いわゆるリバース構造をとることも可能である。リバース構造においてもボトムエミッション型、及びトップエミッション型があり、本発明においては、どちらの構造でも効果が期待できる。
７．発光層及びＩＬ層
　ホール注入層の上には、有機半導体材料を塗布して、発光層を形成する。また、発光層と陰極との間には、電子注入層が形成される。この際、発光層とホール注入層との間に、ホールブロッキング層としてＩＬ層を設けると、発光効率の点で好ましい。このホールブロッキング層としては、ポリフルオレン系の高分子材料で発光層に用いる材料よりＬＵＭＯ（最低空軌道）レベルが高いか、もしくは電子の移動度が小さいＴＦＢ等が用いられるが、これに限ったものではない。発光層としては、ポリフルオレン系、ポリフエニレンビニレン系、ペンダント型、デンドリマー型、塗布型の低分子系を含め、溶媒に溶解させ、塗布して薄膜を形成出来るものであれば種類を問わない。
　発光層には、発光機能を有する材料を複数種含むことができ、ホールと電子との移動度や注入性、及び発光色度の調節をすることができる。また、発光材料をドーパントとして用いる場合は、ホスト材料にドーパントを混合した塗布液を用いることができる。ドーパントとしては、公知の蛍光発光材料や燐光発光材料を用いることができる。これらの材料は、いわゆる低分子、高分子あるいはオリゴマ一等いずれであってもよい。また、高分子のホスト材料に低分子のドーパントを添加する等、種々の組み合わせをとることも可能である。
８．隔壁層及びバンク
　隔壁層の厚みは、印刷を行う有機材料インクの濃度によって大きくことなるが、１００ｎｍ以上であることが望ましい。また、上記実施の形態における隔壁層の材料としては電気絶縁性を有する材料であれば任意に用いることができ、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ電気絶縁性樹脂（例えば、ポリイミド樹脂等）であることが好ましい。加えて、さらに好ましいのは、その隔壁を構成する有機材料中に含まれる成分に、有機材料インクに対して撥液する成分を含有することが、インクジェットなどを用いてバンク内に印刷を行った際の、有機材料インクの溢れを防ぐ機能を持たせることが望ましい。隔壁層の形成方法としては、フォトリソグラフィ技術等が用いられており、パターニングにより形成される。例えば、隔壁層材料を塗布した後、ベーク処理、マスク露光処理、現像処理等により所望の形状がホール注入層上に形成される。また、上記実施の形態では、隔壁層の形状が、順テーパー状であったが、インクの溢れを防ぐ点、発光層の形成状態を確認する点で好ましいが、これに限るものではない。
９．ホール注入層
　ホール注入層として、有機物であれば上記のポリチオフエン系のＰＥＤＴ：ＰＳＳ等の材料をスピンコート法で、あるいは、インクジェット法、ノズルコート法のいずれかで形成する。ホール注入層としては、ポリアニリン系の材料も用いることが出来る。また、無機物のホール注入層も知られており、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化バナジウム、酸化ルテニウム等が用いられる。その他に、ホール注入層としてフラーレン等の炭素化合物を蒸着して用いることができ、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法によって形成される。
　ホール注入層の膜厚は、５ｎｍ～２００ｎｍが好ましい。また、ホール注入層として、酸化モリブデンや、酸化タングステン、フラーレン等の炭素化合物等蒸着やスパッタ法で形成される膜が好ましく用いられる。遷移金属の酸化物類は、イオン化ポテンシャルが大きく、発光材料へのホール注入が容易であり、安定性にも優れていることから特に好ましい。これらの酸化物類は、形成時または形成後に欠陥準位を有するように作製すると、ホール注入層のホール注入性を高めるのに有効である。
１０．陰極
　陰極としては、仕事関数の小さい金属もしくは合金が用いられるが、トップエミッション構造では、本実施の形態では、仕事関数の小さい金属を用いた光透過性の高い超薄膜を形成し、その上部にＩＴＯ，ＩＺＯなどの透光性材料からなる導電膜を積層することで、透明陰極を形成すればよい。この仕事関数の小さい金属からなる超薄膜は、Ｂａ－ＡＩの２層構造に限定されることなく、Ｃａ－ＡＩの２層構造、あるいはＬｉ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｂａ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｔｉ等の金属やこれらの酸化物、フッ化物に代表されるハロゲン化物、Ｍｇ－Ａｇ合金、Ｍｇ－Ｉｎ合金等のＭｇ合金や、ＡＩ－Ｌｉ合金、ＡＩ－Ｓｒ金、ＡＩ－Ｂａ合金等のＡＩ合金等が用いられる。あるいはＬｉＯ２／ＡＩやＬｉＦ／ＡＩ等の積層構造の超薄膜と、透光性導電膜との積層構造も陰極材料として好適である。さらに、ＴｉＯｘや、ＭｏＯｘ，ＷＯｘ，ＴｉＯｘ，ＺｎＯ等の遷移金属酸化物で酸素欠損をもち、導電性をしめすものを、電子の注入層として使用することが出来る。
１１．有機ＥＬ表示パネルの電気的接続
　図１６に示すように、上記実施の形態の有機ＥＬ表示パネルは、駆動回路３１に接続され、駆動回路３１は制御回路３２により制御される。
１２．製品形態
　上記実施の形態の有機ＥＬ表示パネルは、単独での装置として、そのまま販売経路に流通できる。しかしながら、これに限らず、図１７に示すように、デジタルテレビ等の表示装置に組み込まれて流通してもよい。
　本発明は、インクジェット装置によって作製される有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示パネルの生産において、低粘度インクを使用した際の有機ＥＬ表示パネル内に発生する輝度ムラを抑制することができ、例えばインク材料の粘度起因する輝度ムラの発生することのない高画質の有機ＥＬディスプレイを提供することができるため、各種電子機器のディスプレイ分野などにおいての汎用性が高く、有用である。
１　有機ＥＬ表示パネル
１１　ＴＦＴ基板
１２　隔壁層
１３　陽極
１４　ホール注入層
１５　ＩＬ層
１６　発光層
１６Ｒ　Ｒ発光層
１６Ｇ　Ｇ発光層
１６Ｂ　Ｂ発光層
１６Ｉ　有機材料インク
１６ＲＩ　Ｒ有機材料インク
１６ＧＩ　Ｇ有機材料インク
１６ＢＩ　Ｂ有機材料インク
１７　電子注入層
１８　陰極
１９　封止層
２０　インクジェットヘッド
３１　駆動回路
３２　制御回路

Claims (10)

  1. 　第１有機発光材料と溶媒とを含む第１インクを準備する工程と、
    　前記第１有機発光材料と発光波長が異なる第２有機発光材料と、溶媒とを含む第２インクを準備する工程と、
    　前記第１及び第２有機発光材料と発光波長が異なる第３有機発光材料と、溶媒とを含む第３インクを準備する工程と、
    　基板上の第１サブ画素領域に、前記第１インクを塗布する工程と、
    　前記第１サブ画素領域に隣り合う第２サブ画素領域に、前記第２インクを塗布すると共に、前記第１サブ画素領域を挟んで前記第２サブ画素領域とは反対側で前記第１サブ画素領域に隣り合う第３サブ画素領域に、前記第３インクを塗布する工程と、
    　を有し、
    　前記第１インクの粘度は、前記第２及び第３インクの粘度よりも低く、
    　前記第２及び第３インクの塗布の開始後に、前記第１インクの塗布を開始する
    　ことを特徴とする有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  2. 　前記第２及び第３インクを塗布する工程の後に、前記第２及び第３インクを乾燥する工程を有し、
    　前記第２及び第３インクを乾燥する工程の開始後に、前記第１インクの塗布を開始する
    　ことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  3. 　前記第２及び第３インクを塗布する工程の後に、前記第２及び第３インクを乾燥する工程を有し、
    　前記第２及び第３インクを乾燥する工程の完了後に、前記第１インクの塗布を開始する
    　ことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法
  4. 　前記第２及び第３インクの塗布完了後、前記第２及び第３インクを強制乾燥する工程を有し、
    　前記第１インクの塗布完了後から強制乾燥工程開始までの自然乾燥時間が、前記第２及び第３インクの少なくとも一方の塗布完了後から強制乾燥工程開始までの自然乾燥時間よりも長い
    　ことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  5. 　前記第２及び第３インクの塗布完了後、前記第１インクの塗布を開始し、
    　前記第１インクの塗布完了後、前記第１、第２、及び第３インクを強制乾燥する
    　ことを特徴とする請求項２～４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  6. 　前記第２及び第３インクの塗布完了後、前記第２及び第３インクを乾燥する工程を有し、
    　前記第２及び第３インクを乾燥する工程の完了後、前記第１インクの塗布を開始し、
    　前記第２及び第３インクを強制乾燥する
    　ことを特徴とする請求項２～４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  7. 　前記第１インクを塗布する工程の後に、前記第１インクを自然乾燥により乾燥する工程を有する
    　ことを特徴とする請求項１～６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  8. 　前記第２インクと前記第３インクのうち、寿命の長いインクから塗布を開始する
    　ことを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  9. 　前記第２インクと前記第３インクのうち、粘度の低いインクから塗布を開始する
    　ことを特徴とする請求項１～７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
  10. 　前記第２インクと前記第３インクのうち粘度の低いインクの塗布完了後から強制乾燥までの自然乾燥時間が、前記第２インクと前記第３インクのうち粘度の高いインクの塗布完了後から強制乾燥までの自然乾燥時間よりも長い
    　ことを特徴とする請求項９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
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