WO2013084708A1 - ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物 - Google Patents

ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
WO2013084708A1
WO2013084708A1 PCT/JP2012/080004 JP2012080004W WO2013084708A1 WO 2013084708 A1 WO2013084708 A1 WO 2013084708A1 JP 2012080004 W JP2012080004 W JP 2012080004W WO 2013084708 A1 WO2013084708 A1 WO 2013084708A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
hard disk
disk device
resin
component
resin composition
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/080004
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
茂樹 遠山
佳知 伝法
Original Assignee
協立化学産業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 協立化学産業株式会社 filed Critical 協立化学産業株式会社
Priority to US14/358,106 priority Critical patent/US9546306B2/en
Priority to CN201280056135.9A priority patent/CN103930463B/zh
Publication of WO2013084708A1 publication Critical patent/WO2013084708A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F4/00—Polymerisation catalysts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F4/00—Polymerisation catalysts
    • C08F4/06—Metallic compounds other than hydrides and other than metallo-organic compounds; Boron halide or aluminium halide complexes with organic compounds containing oxygen
    • C08F4/20—Metallic compounds other than hydrides and other than metallo-organic compounds; Boron halide or aluminium halide complexes with organic compounds containing oxygen of antimony, bismuth, vanadium, niobium or tantalum
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • C09J163/04—Epoxynovolacs
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
    • G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
    • G11B5/4826—Mounting, aligning or attachment of the transducer head relative to the arm assembly, e.g. slider holding members, gimbals, adhesive
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F216/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
    • C08F216/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
    • C08F216/125—Monomers containing two or more unsaturated aliphatic radicals, e.g. trimethylolpropane triallyl ether or pentaerythritol triallyl ether
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F216/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
    • C08F216/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
    • C08F216/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F216/1416—Monomers containing oxygen in addition to the ether oxygen, e.g. allyl glycidyl ether
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F216/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
    • C08F216/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an ether radical
    • C08F216/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F216/16—Monomers containing no hetero atoms other than the ether oxygen
    • C08F216/165—Carbocyclic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/02—Halogenated hydrocarbons
    • C08K5/03—Halogenated hydrocarbons aromatic, e.g. C6H5-CH2-Cl
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37—Thiols
    • C08K5/375—Thiols containing six-membered aromatic rings

Definitions

  • the present invention relates to a cationic curable resin composition for assembling a hard disk device, a method for producing a hard disk device using the composition, and a hard disk device assembled using the composition.
  • Patent Document 1 discloses an epoxy compound, an epoxy compound partially introduced with a (meth) acryl group, a (meth) acryl compound, an amine-based curing agent, and light.
  • An epoxy resin composition containing an initiator is disclosed.
  • the epoxy resin composition disclosed in Patent Document 1 reduces an outgas component derived from a photoinitiator by using a component having an epoxy group capable of anion polymerization and a component having a radical polymerizable (meth) acryl group.
  • an adhesive method is adopted in which energy rays are irradiated to temporarily fix the components, and main curing is performed by heat curing.
  • radical polymerization of acrylate compounds by irradiation with energy rays is not preferable for use around the magnetic head of a hard disk, which is rapidly miniaturized and refined because there are many outgasses derived from unreacted monomers and radical initiators. .
  • the present invention is a cationic curing type resin composition for assembling a hard disk device, which has good adhesion by energy irradiation and heating, and can reduce outgas generated during energy beam irradiation, a method for producing a hard disk device using the composition, and It is an object of the present invention to provide a hard disk device assembled using the composition.
  • the present invention (1) A cationic curable resin composition for assembling a hard disk device, comprising a resin having a cationic polymerizable functional group (component A) and a cationic polymerization initiator (component B),
  • component B is represented by the following formula: X + (SbF 6 ) ⁇ (B1) X + (B (C 6 F 5 ) 4 ) ⁇ (B2), and X + ((Rf) n PF 6 ⁇ n ) ⁇ (B3) (Wherein X + is iodonium or sulfonium, Rf is fluorinated alkyl having 1 to 6 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 6).
  • a method of manufacturing a hard disk device including a step of bonding a peripheral portion of a magnetic head in the hard disk device using the cationic curable resin composition for assembling the hard disk device according to (1), and (3) It relates to a hard disk device assembled using the cationic curable resin composition for assembling the hard disk device described in 1).
  • the adhesiveness by energy irradiation and a heating is favorable, the outgas generated at the time of energy ray irradiation can be reduced, the cation hardening-type resin composition for hard disk apparatus assembly, The manufacturing method of the hard disk apparatus using the composition , And a hard disk device assembled using the composition.
  • the cationic curable resin composition for assembling a hard disk device of the present invention contains a resin having a cationic polymerizable functional group (component A) and a cationic polymerization initiator (component B).
  • the resin having a cationically polymerizable functional group is preferably a resin having an epoxy group, a resin having an oxetanyl group, and a resin having an oxetanyl group, from the viewpoint of reducing reactivity by improving the reactivity and eliminating oxygen inhibition. It is at least one selected from the group consisting of resins having a vinyl ether group, more preferably a resin having an epoxy group and / or a resin having an oxetanyl group, and still more preferably a resin having an epoxy group. Particularly preferred is a mixture of a resin having an epoxy group with an epoxy equivalent of 150 or more and a resin having an oxetanyl group or a resin having an epoxy group with an epoxy equivalent of less than 150.
  • the resin having an epoxy group needs to maintain the fixing accuracy of the hard disk assembly component, and since heat resistance is required, the glass transition temperature needs to be high, and from the viewpoint that the adhesion to the assembly member is necessary, preferably Bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, alicyclic epoxy resin and At least one resin selected from the group consisting of polybutadiene epoxy resins, more preferably bisphenol A type epoxy resins, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, cresol novolac type epoxies.
  • At least one resin selected from the group consisting of cis-resins and alicyclic epoxy resins more preferably bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins and / or alicyclic type epoxies.
  • Resin Particularly preferably, at least selected from the group consisting of a bisphenol A type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin having an epoxy equivalent of 150 or more.
  • One type of resin and particularly preferably an epoxy equivalent of 150 or more, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin and alicyclic type epoxy It is a mixture of at least one resin selected from the group consisting of resins and an alicyclic epoxy resin having an epoxy equivalent of less than 150.
  • bisphenol A type epoxy resin examples include EPICLON 850, 850-S, 860, and 1055 manufactured by DIC.
  • hydrogenated bisphenol A type epoxy resin examples include KRM-2408 manufactured by ADEKA and YX-8034 manufactured by JER.
  • bisphenol F type epoxy resin examples include EPICLON 830-S and EXA-830 LVP manufactured by DIC.
  • naphthalene type epoxy resins include EPICLON HP-4032D and HP-7200H manufactured by DIC.
  • phenol novolac type epoxy resin examples include EPICLON N-740 and N-770 manufactured by DIC.
  • cresol novolac type epoxy resin examples include EPICLON N-660, N-670 and N-655-EXP-S manufactured by DIC.
  • alicyclic epoxy resins having an epoxy equivalent of 150 or more include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (EHPE3150 manufactured by Daicel Corporation).
  • the resin having an oxetanyl group is preferably 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (oxetane alcohol) (for example, OXT-101 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 2-ethylhexyloxetane (for example, OXT-212 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) Xylylenebisoxetane (XDO: for example, OXT-121 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 3-ethyl-3 ⁇ [((3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl ⁇ oxetane (eg, OXT- manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 221), oxetanylsilsesquioxetane (eg, OXT-191 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), phenol novolac oxetane (
  • the resin having a vinyl ether group is preferably hydroxybutyl vinyl ether (for example, HBVE manufactured by ISP), vinyl ether of 1,4-cyclohexanedimethanol (for example, CHVE manufactured by ISP), or triethylene glycol divinyl ether (for example, ISP).
  • HBVE hydroxybutyl vinyl ether
  • CHVE vinyl ether of 1,4-cyclohexanedimethanol
  • ISP triethylene glycol divinyl ether
  • Component B has the following formula: X + (SbF 6 ) ⁇ (B1), X + (B (C 6 F 5 ) 4 ) ⁇ (B2), and X + ((Rf) n PF 6 ⁇ n ) ⁇ (B3) (Wherein X + is iodonium or sulfonium, Rf is fluorinated alkyl having 1 to 6 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 6), and is at least one compound selected from the group consisting of .
  • Diphenyl 4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate for example, CPI-101A manufactured by San Apro Co., Ltd., SP-170, SP-172 manufactured by Adeka Co., Ltd., WPI-016 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Sanshin Chemical Co., Ltd.
  • SI-series compound B2 have the following formula (2):
  • 4-methylphenyl-4- (1-methylethyl) phenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate for example, PI-2074 manufactured by Rhodia
  • diphenyl 4-thiophenoxyphenylsulfonium tris for example, CPI-210S, CPI-200K manufactured by San Apro Co., Ltd.
  • Component C From the viewpoint of reducing the curing stress due to curing shrinkage, it is preferable to add a filler (component C) to the cationic curable resin composition for assembling the hard disk device of the present invention.
  • Component C includes an inorganic filler and an organic filler, and an organic filler is preferable from the viewpoint of suppressing the influence on the disk and the magnetic head due to dropping from the resin.
  • the inorganic filler include talc, silica, mica and the like.
  • the organic filler include polyacrylate particles, coalescent polyacrylate particles, polystyrene particles, acrylic-styrene copolymer particles, polypropylene particles, and polyethylene particles.
  • the average particle size of the particles constituting the filler is 0.5 to 150 ⁇ m from the viewpoint of requiring insulation when bonding the hard disk device assembly parts and further reducing outgassing by blending non-reactive components. More preferably, it is 1 to 100 ⁇ m, and further preferably 5 to 50 ⁇ m.
  • the average particle size of component C is measured with a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (for example, Partica LA-950V2 manufactured by HORIBA).
  • the cationic curable resin composition for assembling a hard disk device of the present invention can contain additives such as a silane coupling agent and a photosensitizer within the scope of the effects of the present invention.
  • the silane coupling agent is preferably tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, Tetraalkoxysilanes such as dimethoxydiethoxysilane, dimethoxydiisopropoxysilane, diethoxydiisopropoxysilane, diethoxydibutoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, ethyltriethoxysilane , Ethyltributoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
  • photosensitizer examples include carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfides, redox compounds, azo and diazo compounds, halogen compounds, and photoreductive dyes from the viewpoint of curability.
  • photosensitizers include benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, ⁇ , ⁇ -dimethoxy- ⁇ -phenylacetophenone; benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate.
  • Benzophenone derivatives such as 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone; thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone; 2-chloroanthraquinone, 2-methylanthraquinone, etc.
  • Anthraquinone derivatives; acridone derivatives such as N-methylacridone and N-butylacridone; other ⁇ , ⁇ -diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone, uranyl compounds Etc.
  • These photosensitizers may be used alone or in combination of two or more.
  • a preferred photosensitizer is 2,4-diethylthioxanthone (for example, DETX-S manufactured by Nippon Kayaku).
  • the total content of components A and B is the cation curable resin composition of the present invention.
  • the content is preferably 30.0 to 100% by weight, more preferably 40.0 to 90.0% by weight, still more preferably 50.0 to 80.0% by weight.
  • the weight ratio A / B of component A and component B is preferably 99.9 / 0.1 to 90.0 / 10.0, more preferably 99.5 / 0.5 to 93.0 / 7.0. More preferably, it is 99.0 / 1.0 to 97.0 / 3.0.
  • the content of Component C is preferably 5. with respect to 100 parts by weight of Component A from the viewpoint of stably mixing with the resin and suppressing curing shrinkage. It is 0 to 90.0 parts by weight, more preferably 10.0 to 85.0 parts by weight, still more preferably 20.0 to 80.0 parts by weight.
  • a photosensitizer is included, from the viewpoint of improving curability, it is preferably 0.3 to 30.0 parts by weight, more preferably 1.0 to 25.0 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of Component B.
  • the amount is more preferably 5.0 to 25.0 parts by weight, still more preferably 10.0 to 20.0 parts by weight.
  • Method of manufacturing hard disk drive In a method of manufacturing a hard disk device having a step of bonding a magnetic head peripheral portion in a hard disk device, the magnetic head peripheral portion is bonded using the cationic curable resin composition of the present invention, for example, fixing of a piezo element If the magnetic head is fixed, the magnetic head and the suspension are fixed (head, gimbal, assembly (HGA)), etc., the outgas component does not adhere to the disk surface or the magnetic head, and there is no error in reading and writing. High hard disk drive can be manufactured.
  • compositions of Examples 1-8 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared using the following raw materials: (1) Polymerizable resin [resin having a cationic polymerizable functional group (component A)] Bisphenol A type epoxy resin (DICIC, EPICLON 850); -Bisphenol F type epoxy resin (manufactured by DIC, EPICLON EXA-830LVP); A cresol novolac type epoxy resin (manufactured by DIC, EPICLON N-655-EXP-S); -Polyfunctional epoxy (3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate) (Dacel, Celoxide 2021P); -Monofunctional oxetane (3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane) (POX: manufactured by Toagosei Co., Ltd., OXT-211); Xylylene bisoxetane (1,4-bis [
  • polymerizable resin and polymerization initiator (total 154 g, in Comparative Example 2, total 104 g) were added to the mixing tank (NO.300 (manufactured by Kinki Container), capacity 300 ml, polyethylene).
  • the mixture was stirred with a stirrer (RW28 (manufactured by IKA), 600 rpm) under a room temperature environment until it became transparent, and the cationic curable resin compositions of Examples 1 to 8 of the present invention and Comparative Examples 1 and 2 A composition was prepared.
  • the room temperature of the Example was 23 degreeC.
  • a mold with a thickness of 1 mm and a diameter of 4.5 mm was made on silicon.
  • the resin compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 were poured therein, sandwiched between PET films, irradiated with 6000 mJ / cm 2 (365 nm) using a metal halide lamp manufactured by Eye Graphics, and a test piece. Was made.
  • the heat loss rate was calculated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)

Abstract

　本発明は、カチオン重合性官能基を有する樹脂（成分Ａ）及びカチオン重合開始剤（成分Ｂ）を含有するハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物であって、前記成分Ｂが、Ｘ＋（ＳｂＦ６）-　（Ｂ１）、Ｘ＋（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）-　（Ｂ２）、及びＸ＋（（Ｒｆ）ｎＰＦ６－ｎ）-　（Ｂ３）（式中、Ｘ＋はヨードニウム又はスルホニウムであり、Ｒｆは炭素数１～６のフッ素化アルキルであり、ｎは１～６の整数である）からなる群から選ばれる少なくとも１種であるカチオン硬化型樹脂組成物、その組成物を使用するハードディスク装置の製造方法、及びその組成物を使用して組み立てたハードディスク装置を提供する。

Description

ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物
　本発明は、ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物、その組成物を使用するハードディスク装置の製造方法、及びその組成物を使用して組み立てたハードディスク装置に関する。
　ハードディスクを組み立てる場合、磁気ヘッドの周辺部位を接着剤で固定する工程が不可欠であり、例えば、ピエゾ素子の固定、磁気ヘッドの固定、磁気ヘッドとサスペンションの固定（ヘッド・ジンバル・アセンブル（ＨＧＡ））などの工程がある。これらの工程で使われる接着剤には、アウトガス成分がディスク表面や磁気ヘッドに付着して読み書きにエラーが生じないように低いアウトガス性能が要求される。このような低いアウトガス性能を追求した接着剤として、例えば、特許文献１には、エポキシ化合物、部分的に（メタ）アクリル基を導入したエポキシ化合物、（メタ）アクリル化合物、アミン系硬化剤及び光開始剤を含有するエポキシ樹脂組成物が開示されている。
特開２０１０－０１３５０７号公報
　特許文献１に開示されるエポキシ樹脂組成物は、アニオン重合できるエポキシ基を有する成分とラジカル重合性の（メタ）アクリル基を有する成分を併用して、光開始剤に由来するアウトガス成分を低減する一方で、生産性の観点から、エネルギー線を照射して部品を仮固定し、熱硬化で本硬化させる接着方法を採用している。しかし、エネルギー線照射によるアクリレート化合物のラジカル重合は、未反応モノマーやラジカル開始剤由来のアウトガスが多いので、小型化・精密化が急速に進むハードディスクの磁気ヘッド周辺の使用には好ましいとはいえない。
　本発明は、エネルギー照射及び加熱による接着性が良好で、エネルギー線照射時に発生するアウトガスを低減できる、ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物、その組成物を使用するハードディスク装置の製造方法、及びその組成物を使用して組み立てたハードディスク装置を提供することを課題とする。
　本発明は、
（１）カチオン重合性官能基を有する樹脂（成分Ａ）及びカチオン重合開始剤（成分Ｂ）を含有するハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物であって、
　前記成分Ｂが、下記式：
　Ｘ＋（ＳｂＦ６）-　　　　　　　（Ｂ１）
　Ｘ＋（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）-　　　　（Ｂ２）、及び
　Ｘ＋（（Ｒｆ）ｎＰＦ６－ｎ）-　　（Ｂ３）
（式中、Ｘ＋はヨードニウム又はスルホニウムであり、Ｒｆは炭素数１～６のフッ素化アルキルであり、ｎは１～６の整数である）からなる群から選ばれる少なくとも１種である組成物、
（２）前記（１）記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物を使用してハードディスク装置中の磁気ヘッド周辺部位を接着する工程を含む、ハードディスク装置の製造方法、及び
（３）前記（１）記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物を使用して組み立てたハードディスク装置に関する。
　本発明によれば、エネルギー照射及び加熱による接着性が良好で、エネルギー線照射時に発生するアウトガスを低減できる、ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物、その組成物を使用するハードディスク装置の製造方法、及びその組成物を使用して組み立てたハードディスク装置を提供することができる。
　本発明のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物は、カチオン重合性官能基を有する樹脂（成分Ａ）及びカチオン重合開始剤（成分Ｂ）を含有する。
〔カチオン重合性官能基を有する樹脂：成分Ａ〕
　カチオン重合性官能基を有する樹脂は、反応性の向上、酸素阻害をなくすことにより、未反応成分を抑えてアウトガスを低くする観点から、好ましくは、エポキシ基を有する樹脂、オキセタニル基を有する樹脂及びビニルエーテル基を有する樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、より好ましくはエポキシ基を有する樹脂及び／又はオキセタニル基を有する樹脂であり、更に好ましくはエポキシ基を有する樹脂である。特に好ましくは、エポキシ当量が１５０以上であるエポキシ基を有する樹脂と、オキセタニル基を有する樹脂又はエポキシ当量が１５０未満であるエポキシ基を有する樹脂との混合物である。
　エポキシ基を有する樹脂は、ハードディスク組み立て部品の固定精度を維持する必要があり、耐熱性が求められるためにガラス転移温度が高い必要があり、組み立て部材への密着性が必要な観点から、好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂及びポリブタジエンエポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であり、より好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び脂環型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であり、更に好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び／又は脂環型エポキシ樹脂である。特に好ましくは、エポキシ当量が１５０以上である、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び脂環型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であり、更に特に好ましくは、エポキシ当量が１５０以上である、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び脂環型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂と、エポキシ当量が１５０未満である脂環型エポキシ樹脂との混合物である。
　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の具体的な例には、ＤＩＣ社製ＥＰＩＣＬＯＮ８５０、８５０－Ｓ、８６０、１０５５などがある。
　水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の具体的な例には、ＡＤＥＫＡ社製ＫＲＭ－２４０８、ＪＥＲ社製のＹＸ－８０３４などがある。
　ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂の具体的な例には、ＤＩＣ社製ＥＰＩＣＬＯＮ８３０－Ｓ、ＥＸＡ－８３０ＬＶＰなどがある。
　ナフタレン型エポキシ樹脂の具体的な例には、ＤＩＣ社製ＥＰＩＣＬＯＮのＨＰ－４０３２Ｄ、ＨＰ－７２００Ｈなどがある。
　フェノールノボラック型エポキシ樹脂の具体的な例には、ＤＩＣ社製ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０，Ｎ－７７０などがある。
　クレゾールノボラック型エポキシ樹脂の具体的な例には、ＤＩＣ社製のＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０，Ｎ－６７０、Ｎ－６５５－ＥＸＰ－Ｓなどがある。
　脂環型エポキシ樹脂、特にエポキシ当量が１５０未満である脂環型エポキシ樹脂の具体的な例には、３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル　３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ダイセル社製セロキサイド２０２１Ｐ）、１，２：８，９－ジエポキシリモネン（ダイセル社製セロキサイド３０００）、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン（ダイセル社製セロキサイド２０００）などがある。エポキシ当量が１５０以上である脂環型エポキシ樹脂の具体的な例には、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物（ダイセル社製ＥＨＰＥ３１５０）などがある。
　オキセタニル基を有する樹脂は、好ましくは、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコール）（例えば、東亞合成社製ＯＸＴ－１０１）、２－エチルヘキシルオキセタン（例えば、東亞合成社製ＯＸＴ－２１２）、キシリレンビスオキセタン（ＸＤＯ：例えば、東亞合成社製ＯＸＴ－１２１）、３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（例えば、東亞合成社製ＯＸＴ－２２１）、オキセタニルシルセスキオキセタン（例えば、東亜合成社製ＯＸＴ－１９１）、フェノールノボラックオキセタン（例えば、東亜合成社製ＰＨＯＸ）及び３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタン（ＰＯＸ：例えば、東亞合成社製ＯＸＴ－２１１）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物、より好ましくは、３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン、キシリレンビスオキセタン、オキセタニルシルセスキオキセタン、及び３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物、更に好ましくは、キシリレンビスオキセタン又は３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタンである。
　ビニルエーテル基を有する樹脂は、好ましくは、ヒドロキシブチルビニルエーテル（例えば、ＩＳＰ社製ＨＢＶＥ）、１，４－シクロヘキサンジメタノールのビニルエーテル（例えば、ＩＳＰ社製ＣＨＶＥ）、トリエチレングリコールジビニルエーテル（例えば、ＩＳＰ社製ＤＶＥ－３）、ドデシルビニルエーテル（例えば、ＩＳＰ社製ＤＤＶＥ）、及びシクロヘキシルビニルエーテル（例えば、ＩＳＰ社製ＣＶＥ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物、より好ましくは、１，４－シクロヘキサンジメタノールのビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、及びドデシルビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物、更に好ましくは、１，４－シクロヘキサンジメタノールのビニルエーテルを含む樹脂である。
〔カチオン重合開始剤：成分Ｂ〕
　成分Ｂは、下記式：
Ｘ＋（ＳｂＦ６）-　　　　　　　　（Ｂ１）、
Ｘ＋（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）-　　　　　（Ｂ２）、及び
Ｘ＋（（Ｒｆ）ｎＰＦ６－ｎ）-　　　（Ｂ３）
（式中、Ｘ＋はヨードニウム又はスルホニウムであり、Ｒｆは炭素数１～６のフッ素化アルキルであり、ｎは１～６の整数である）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。
　化合物Ｂ１としては、下記式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 で表わされるジフェニル４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（例えば、サンアプロ株式会社製ＣＰＩ－１０１Ａ、アデカ社製ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７２、和光純薬工業社製ＷＰＩ－０１６、三新化学社製ＳＩ－シリーズ）、化合物Ｂ２としては、下記式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 で表わされる４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（例えば、ローディア社製ＰＩ－２０７４）、化合物Ｂ３としては、下記式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 で表わされるジフェニル４－チオフェノキシフェニルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート（例えば、サンアプロ株式会社製ＣＰＩ－２１０Ｓ、ＣＰＩ－２００Ｋ）が挙げられる。
〔成分Ｃ〕
　本発明のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物には、硬化収縮による硬化応力を低減する観点から、フィラー（成分Ｃ）を添加することが好ましい。成分Ｃとして、無機フィラーと有機フィラーがあるが、樹脂からの脱落によるディスクや磁気ヘッドへの影響を抑制する観点から有機フィラーが好ましい。無機フィラーとしては、タルク、シリカ、マイカなどが挙げられる。有機フィラーとしては、ポリアクリレート粒子、コアシャル型のポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、アクリル－スチレン共重合粒子、ポリプロピレン粒子、ポリエチレン粒子などが挙げられる。
　ハードディスク装置組み立て部品を接着する際に絶縁性を要し、かつ、非反応成分を配合することでアウトガスをより低減する観点から、フィラーを構成する粒子の平均粒子径は、０．５～１５０μｍであり、より好ましくは１～１００μｍであり、更に好ましくは５～５０μｍである。なお、成分Ｃの平均粒径は、レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置（例えば、ＨＯＲＩＢＡ社製Ｐａｒｔｉｃａ　ＬＡ－９５０Ｖ２）により測定される。
〔その他の成分〕
　本発明のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物は、本発明の効果を奏する範囲内で、シランカップリング剤、光増感剤等の添加剤を含むことができる。
　本発明のカチオン硬化型樹脂組成物の硬化強度の安定性の観点から、シランカップリング剤としては、好ましくは、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ジメトキシジイソプロポキシシラン、ジエトキシジイソプロポキシシラン、ジエトキシジブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン類；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリブトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのトリアルコキシシラン類；及びジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、フェニルエチルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン類からなる群から選ばれる少なくとも１種のシランカップリング剤である。メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリブトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及び３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種のトリアルコキシシラン系シランカップリング剤がより好ましく、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランが更に好ましい。
　光増感剤としては、硬化性の観点から、例えば、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ及びジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素など挙げられる。光増感剤として、具体的には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α，α－ジメトキシ－α－フェニルアセトフェノンのようなベンゾイン誘導体；ベンゾフェノン、２，４－ジクロロベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのようなベンゾフェノン誘導体；２，４－ジエチルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントンのようなチオキサントン誘導体；２－クロロアントラキノン、２－メチルアントラキノンのようなアントラキノン誘導体；Ｎ－メチルアクリドン、Ｎ－ブチルアクリドンのようなアクリドン誘導体；その他、α，α－ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物などが挙げられる。これらの光増感剤は、単独で使用しても、又は二種以上を組み合わせて使用してもよい。好ましい光増感剤は、２，４－ジエチルチオキサントン（例えば、日本化薬製ＤＥＴＸ－Ｓ）である。
〔カチオン硬化型樹脂組成物〕
　本発明のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物の硬化強度を安定に確保し、かつアウトガスを低減する観点から、成分Ａ及びＢの合計の含有量は、本発明のカチオン硬化型樹脂組成物中、好ましくは３０．０～１００重量％、より好ましくは４０．０～９０．０重量％、更に好ましくは５０．０～８０．０重量％である。成分Ａと成分Ｂの重量配合比Ａ／Ｂは、好ましくは９９．９／０．１～９０．０／１０．０、より好ましくは９９．５／０．５～９３．０／７．０、更に好ましくは９９．０／１．０～９７．０／３．０である。本発明のカチオン硬化型樹脂組成物が成分Ｃを含む場合は、成分Ｃの含有量は、樹脂に安定に混合され硬化収縮を抑制する観点から、成分Ａ１００重量部に対して、好ましくは５．０～９０．０重量部、より好ましくは１０．０～８５．０重量部、更に好ましくは２０．０～８０．０重量部である。
　光増感剤を含める場合は、硬化性を向上する観点から、成分Ｂ１００重量部に対して、　好ましくは０．３～３０．０重量部、より好ましくは１．０～２５．０重量部、更に好ましくは５．０～２５．０重量部、更に好ましくは１０．０～２０．０重量部である。
〔ハードディスク装置の製造方法〕
　ハードディスク装置中の磁気ヘッド周辺部位を接着する工程を有するハードディスク装置の製造方法において、本発明のカチオン硬化型樹脂組成物を使用して磁気ヘッド周辺部位の接着をして、例えば、ピエゾ素子の固定、磁気ヘッドの固定、磁気ヘッドとサスペンションの固定（ヘッド・ジンバル・アセンブル（ＨＧＡ））等を行うと、アウトガス成分がディスク表面や磁気ヘッドに付着して読み書きにエラーが生じることがなく、品質の高いハードディスク装置を製造できる。
　実施例１～８並びに比較例１及び２の各組成物を以下の原材料を使用して製造した。
（１）重合性樹脂
〔カチオン重合性官能基を有する樹脂（成分Ａ）〕
－　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、ＥＰＩＣＬＯＮ ８５０）；
－　ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、ＥＰＩＣＬＯＮ ＥＸＡ－８３０ＬＶＰ）；
－　クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ－６５５－ＥＸＰ－Ｓ）；
－　多官能エポキシ（３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル　３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）（ダイセル社製、セロキサイド２０２１Ｐ）；
－　単官能オキセタン（３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタン）（ＰＯＸ：東亞合成社製、ＯＸＴ－２１１）；
－　キシリレンビスオキセタン（１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン（主成分））（ＸＤＯ：東亞合成社製、ＯＸＴ－１２１）。
〔ラジカル重合性官能基を有する樹脂〕
－　ビスフェノールＡ型アクリル樹脂（日本化薬製、ＫＡＹＡＨＡＲＤ　Ｒ－２８０）（２０％２－ヒドロキシプロピルメタクリレート希釈品）。
（２）重合開始剤
〔カチオン重合開始剤（成分Ｂ）〕
－　ジフェニル４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（サンアプロ株式会社製、ＣＰＩ－１０１Ａ（実施例１）又はアデカ社製、ＳＰ－１７２（実施例６））（化合物Ｂ１：上記式（１））；
－　４－メチルフェニル－４－（１－メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ローディア社製、ＰＩ－２０７４）（化合物Ｂ２：上記式（２））；
－　ジフェニル４－チオフェノキシフェニルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート（サンアプロ株式会社製、ＣＰＩ－２１０Ｓ）（化合物Ｂ３：上記式（３））。
〔カチオン重合開始剤（成分Ｂ以外）〕
－　ジフェニル４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート（サンアプロ株式会社製、ＣＰＩ－１００Ｐ）（下記式（４））：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 で表わされる）。
〔ラジカル重合開始剤〕
　（１－ヒドロキシシクロヘキシル）フェニルケトン（ＢＡＳＦ製、イルガキュア１８４）。
　表１に記載の配合に基づき、重合性樹脂及び重合開始剤（合計１５４ｇ、但し比較例２では、合計１０４ｇ）を、配合槽（ＮＯ．３００（近畿容器製）、容量３００ｍｌ、ポリエチレン製）に添加し、室温環境の下、撹拌機（ＲＷ２８（ＩＫＡ社製）、６００ｒｐｍ）で透明になるまで撹拌して、実施例１～８の本発明のカチオン硬化型樹脂組成物並びに比較例１及び２の組成物を調製した。なお、実施例の室温は２３℃であった。
〔評価条件〕
　実施例１～８並びに比較例１及び２の各組成物の硬化中のアウトガスの発生を以下のようにして評価した。
　シリコンに厚さ１mm、直径４．５mmの型を作った。その中に実施例１～８並びに比較例１及び２の各樹脂組成物を流し込み、ＰＥＴフィルムで挟み込み、アイグラフィックス社製メタルハライドランプを用いて６０００mJ／cm2（３６５nm）を照射し、試験片を作製した。作製した試験片をＭＥＴＴＬＥＲ　ＴＯＬＥＤＯ社製ＴＧＡ／ＤＳＣ１を用いて加熱減量率を求めた。温度プログラムは、２５℃から１０℃/minで１２０℃まで昇温させ、１２０℃を５時間保持させた。作製直後の試験片の質量（ＷＯ）と、１２０℃５時間保持後の質量（Ｗ１）から、減量率（アウトガス）を求めた。
　　　減量率＝（（Ｗ１－Ｗ０）／Ｗ０）×１００
　以上の結果を表１、２にまとめた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　実施例１～８のカチオン硬化型樹脂組成物は、比較例１及び２の組成物に比べてアウトガスの発生が抑制され、減量率は１質量％未満であることが示された。

Claims (8)

  1. 　カチオン重合性官能基を有する樹脂（成分Ａ）及びカチオン重合開始剤（成分Ｂ）を含有するハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物であって、
    　前記成分Ｂが、下記式
    　Ｘ＋（ＳｂＦ６）-　　　　　　　（Ｂ１）
    　Ｘ＋（Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）-　　　　（Ｂ２）、及び
    　Ｘ＋（（Ｒｆ）ｎＰＦ６－ｎ）-　　（Ｂ３）
    （式中、Ｘ＋はヨードニウム又はスルホニウムであり、Ｒｆは炭素数１～６のフッ素化アルキルであり、ｎは１～６の整数である）からなる群から選ばれる少なくとも１種である組成物。
  2. 　前記成分Ａが、エポキシ基を有する樹脂、オキセタニル基を有する樹脂及びビニルエーテル基を有する樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物。
  3. 　前記エポキシ基を有する樹脂が、エポキシ当量が１５０以上であるエポキシ基を有する樹脂である、請求項１又は２記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物。
  4. 　前記成分Ａが、エポキシ当量が１５０以上であるエポキシ基を有する樹脂と、オキセタニル基を有する樹脂との混合物である、請求項１～３のいずれか記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物。
  5. 　前記成分Ａが、エポキシ当量が１５０以上であるエポキシ基を有する樹脂と、エポキシ当量が１５０未満であるエポキシ基を有する樹脂との混合物である、請求項１～３のいずれか記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物。
  6. 　硬化物の加熱減量率が１質量％未満である、請求項１～５のいずれか記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物を使用してハードディスク装置中の磁気ヘッド周辺部位を接着する工程を含む、ハードディスク装置の製造方法。
  8. 　請求項１～６のいずれか１項記載のハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物を使用して組み立てた、ハードディスク装置。
PCT/JP2012/080004 2011-12-05 2012-11-20 ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物 WO2013084708A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/358,106 US9546306B2 (en) 2011-12-05 2012-11-20 Cationically curable resin composition for assembling hard disk devices
CN201280056135.9A CN103930463B (zh) 2011-12-05 2012-11-20 硬盘装置组装用阳离子固化型树脂组合物

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-265917 2011-12-05
JP2011265917 2011-12-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013084708A1 true WO2013084708A1 (ja) 2013-06-13

Family

ID=48574086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/080004 WO2013084708A1 (ja) 2011-12-05 2012-11-20 ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9546306B2 (ja)
JP (2) JPWO2013084708A1 (ja)
CN (1) CN103930463B (ja)
WO (1) WO2013084708A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104910843A (zh) * 2014-03-12 2015-09-16 东莞新科技术研究开发有限公司 可阳离子固化的粘接剂及其应用
WO2016043024A1 (ja) * 2014-09-17 2016-03-24 株式会社ダイセル 硬化性組成物、及びそれを用いた光学素子
JP2016102170A (ja) * 2014-11-28 2016-06-02 株式会社ダイセル 光学素子用接着剤、及びそれを用いた光学ユニット

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017175735A1 (ja) * 2016-04-06 2017-10-12 株式会社スリーボンド カチオン硬化性樹脂組成物
WO2021059419A1 (ja) * 2019-09-26 2021-04-01 積水化学工業株式会社 電子デバイス用光硬化性樹脂組成物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006511670A (ja) * 2002-12-23 2006-04-06 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー カチオン硬化性組成物用の硬化剤
JP2009062510A (ja) * 2007-03-29 2009-03-26 Jsr Corp 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物
WO2011093236A1 (ja) * 2010-01-26 2011-08-04 日産化学工業株式会社 硬化性長鎖アルキレン基含有エポキシ樹脂組成物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19641138A1 (de) * 1996-10-05 1998-04-09 Merck Patent Gmbh Lithiumfluorphosphate sowie deren Verwendung als Leitsalze
JP4224679B2 (ja) 2002-10-16 2009-02-18 株式会社スリーボンド ハードディスク部品用接着剤組成物およびハードディスク
EP1752463B1 (en) 2004-05-28 2013-07-17 San-Apro Limited Novel fluorinated alkylfluorophosphoric acid salt of onium and transition metal complex
JP4042067B2 (ja) * 2006-03-31 2008-02-06 大日本インキ化学工業株式会社 多官能オキセタニル基含有紫外線硬化性樹脂組成物
CN101809500A (zh) 2007-03-20 2010-08-18 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 立体光刻树脂组合物以及由其制成的三维物品
JP5360359B2 (ja) 2008-07-01 2013-12-04 株式会社スリーボンド エポキシ樹脂組成物
JP5498832B2 (ja) * 2009-03-25 2014-05-21 電気化学工業株式会社 エネルギー線硬化性樹脂組成物とそれを用いた接着剤及び硬化体
CN102449799B (zh) * 2009-06-01 2016-09-28 日立化成工业株式会社 有机电子材料及含有该有机电子材料的油墨组合物、以及使用它们形成的有机薄膜、有机电子元件、有机电致发光元件、照明装置及显示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006511670A (ja) * 2002-12-23 2006-04-06 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー カチオン硬化性組成物用の硬化剤
JP2009062510A (ja) * 2007-03-29 2009-03-26 Jsr Corp 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物
WO2011093236A1 (ja) * 2010-01-26 2011-08-04 日産化学工業株式会社 硬化性長鎖アルキレン基含有エポキシ樹脂組成物

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104910843A (zh) * 2014-03-12 2015-09-16 东莞新科技术研究开发有限公司 可阳离子固化的粘接剂及其应用
WO2016043024A1 (ja) * 2014-09-17 2016-03-24 株式会社ダイセル 硬化性組成物、及びそれを用いた光学素子
JPWO2016043024A1 (ja) * 2014-09-17 2017-07-13 株式会社ダイセル 硬化性組成物、及びそれを用いた光学素子
EP3196222A4 (en) * 2014-09-17 2018-05-02 Daicel Corporation Curable composition and optical element obtained using same
US10351663B2 (en) 2014-09-17 2019-07-16 Daicel Corporation Curable composition and optical element obtained using same
JP2016102170A (ja) * 2014-11-28 2016-06-02 株式会社ダイセル 光学素子用接着剤、及びそれを用いた光学ユニット

Also Published As

Publication number Publication date
JP5973685B2 (ja) 2016-08-23
JP2016117905A (ja) 2016-06-30
US20140316081A1 (en) 2014-10-23
JPWO2013084708A1 (ja) 2015-04-27
US9546306B2 (en) 2017-01-17
CN103930463B (zh) 2016-10-26
CN103930463A (zh) 2014-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5973685B2 (ja) ハードディスク装置組み立て用カチオン硬化型樹脂組成物
JP5592733B2 (ja) 柔軟性にすぐれたカチオン硬化性樹脂組成物
KR20140004568A (ko) 실록산 하드코팅 수지 조성물
JP2010018797A (ja) 光学部品用硬化性組成物、光学部品用接着剤及び有機エレクトロルミネッセンス素子用封止剤
WO2018092463A1 (ja) カメラモジュール用カチオン硬化性接着剤組成物、硬化物および接合体
JP6922638B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性接着剤組成物、偏光板用接着剤組成物、偏光板用接着剤、およびそれを用いた偏光板
JPWO2008153076A1 (ja) 基板貼り合わせ用光学接着剤、及び、基板貼り合わせ用光学接着剤硬化体
JP2016004205A (ja) 偏光板およびこれを用いた表示装置
TW201300484A (zh) 能量線硬化性樹脂組成物
JP2008214555A (ja) 樹脂組成物及び樹脂硬化物
JP7024706B2 (ja) 硬化性組成物及び光学部材
JP7266881B2 (ja) 光硬化性および熱硬化性を有する樹脂組成物およびその硬化物、接着剤、半導体装置、ならびに電子部品
JP2004155954A (ja) 光硬化性組成物及びその製造方法、並びに硬化物
JP6293051B2 (ja) ハードディスク装置用硬化性組成物
KR102496513B1 (ko) 활성 에너지선 경화성 접착제 조성물, 편광판용 접착제 조성물, 편광판용 접착제, 및 이를 사용한 편광판
JP4934085B2 (ja) エネルギー線硬化性樹脂組成物とそれを用いた接着剤及び硬化体
JP2010195932A (ja) 光学成型用樹脂組成物及び光学部材
JP2004339246A (ja) 紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物
JP2006008740A (ja) 紫外線硬化型樹脂組成物
JP7481011B2 (ja) 熱カチオン重合性樹脂組成物
JP5716221B2 (ja) カチオン硬化型樹脂組成物
JP4331644B2 (ja) 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2012077122A (ja) 電子線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
JP2012082272A (ja) 電子線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
JP2013216731A (ja) カチオン硬化型樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12854649

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013548168

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14358106

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12854649

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1