WO2013038718A1 - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル - Google Patents

透明導電性フィルムおよびタッチパネル Download PDF

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conductive film
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桐本高代志
北村豊
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東レフィルム加工株式会社
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    • G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact

Definitions

  • Patent Documents 1 to 6 do not sufficiently satisfy the effect of suppressing the bone appearance of the transparent conductive film pattern.
  • a transparent conductive film is used on the light incident surface side, so further improvement is required. ing.
  • oligomer examples include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkit (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate, and the like. Can be mentioned.
  • a raw material component of a resin containing a bromine atom for example, a compound obtained by brominating the ortho-para position of the phenyl group of acrylate can be used.
  • a commercially available product for example, BR-42 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. can be used.
  • Other commercially available products include BR-42M, BR-30M and BR-31 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. and RDX51027 manufactured by Daicel-Cytec.
  • the resin containing a chlorine atom N, N-dimethylaminoethyl methacrylate benzyl chloride salt or the like can be used, and two or more of these may be used in combination.
  • S, S ′-(thiodi-p-phenylene) bis (thiomethacrylate) (MPSMA manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) is preferably used, which is 4,4′-thiodibenzenethiol and an alkali metal compound.
  • MPSMA manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.
  • the thickness (d2) of the SiO 2 film is preferably 3 nm or more, and more preferably 5 nm or more.
  • the upper limit is preferably 40 nm or less, more preferably 30 nm or less, particularly preferably 25 nm or less, and most preferably 20 nm or less.
  • Total optical thickness of high refractive index layer and optical thickness of SiO 2 film In the transparent conductive film of the present invention, it is important that the sum of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the SiO 2 film satisfies (1/4) ⁇ .
  • the optical thickness is the product of the refractive index and the actual film thickness, and ⁇ is 380 to 780 nm, which is the wavelength range of the visible light region.
  • the unit of actual film thickness and optical thickness is nm, and the optical thickness is rounded off after the decimal point.
  • Transparent conductive film As a material of the transparent conductive film, for example, a known material used for an electrode of a touch panel can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), and ATO (antimony tin oxide). Among these, ITO is preferably used.
  • the thickness of the transparent conductive film is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and more preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring good electrical conductivity of, for example, a surface resistance value of 10 3 ⁇ / ⁇ or less. It is particularly preferred. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film is too large, the effect of suppressing the bone appearance phenomenon may be reduced, and there may be a disadvantage that the transparency is lowered. Therefore, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is 60 nm or less. Preferably, 50 nm or less is more preferable, and 40 nm or less is particularly preferable.
  • the method for forming the transparent conductive film is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used.
  • etching solution a conventionally known one is used.
  • inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.
  • the thickness of the base film is suitably in the range of 20 to 300 ⁇ m, preferably in the range of 50 to 250 ⁇ m, and more preferably in the range of 50 to 200 ⁇ m.
  • the optical thickness of the easy adhesion layer satisfies the following relational expression 2. (380 nm / 4) ⁇ (np ⁇ dp) ⁇ (780 nm / 4) 95 nm ⁇ (np ⁇ dp) ⁇ 195 nm (Formula 2).
  • a polyester resin As such a resin, a polyester resin, an acrylic resin, or a urethane resin is preferably used. Among these resins, a polyester resin is preferable, and a polyester resin having a naphthalene ring in the molecule is more preferably used.
  • the content of the particles in the easy adhesion layer is preferably in the range of 0.05 to 8% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the easy adhesion layer.
  • a coating method such as a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, or an extrusion coating method can be used.
  • Biaxial stretching may be longitudinal, transverse sequential stretching, or simultaneous biaxial stretching, and may be re-stretched in either the longitudinal or transverse direction after longitudinal and transverse stretching.
  • the difference (nf ⁇ np) between the refractive index (nf) of the base film and the refractive index (np) of the easy adhesion layer, and the difference (np ⁇ nh) between the refractive index (np) and the refractive index (nh) of the hard coat layer is preferably 0.1 or less, more preferably 0.09 or less, and particularly preferably 0.08 or less.
  • the lower limit is preferably 0.03 or more, and more preferably 0.04 or more.
  • Coating composition for hard coat layer As active energy ray-curable resin, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 55 parts by mass of urethane acrylate oligomer (“Art Resin UN901T” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), and photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd. “Irgacure (registered trademark) 184”) 5 parts by mass dispersed or dissolved in an organic solvent. The refractive index of this coating composition was 1.51.
  • Example 42 to 50 Comparative Examples 11 to 15
  • a transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 41 except that the configuration was changed as shown in Tables 3 and 4.
  • the transparent conductive film pattern is not visually recognized in the examples of the present invention, but the transparent conductive film pattern is visually recognized in the comparative example. Further, in the examples of the present invention, interference fringes were hardly generated, but in Comparative Example 15, interference fringes were generated.

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Abstract

　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みの合計が（１／４）λである（但し、λは３８０～７８０ｎｍの範囲）。　本発明により、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルム、およびそれを備えたタッチパネルが提供される。

Description

透明導電性フィルムおよびタッチパネル
　本発明は、視認性の良好な透明導電性フィルムおよびそれを備えたタッチパネルに関する。
　近年、タッチパネル用途等にポリエステルフィルム等の基材フィルム上に透明導電膜を設けた透明導電性フィルムが用いられている。透明導電膜としては酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の金属酸化物の薄膜が一般的に用いられており、基材フィルム上にスパッタリング法や真空蒸着によって積層されている。
　タッチパネルの動作方式として、抵抗膜式が主流であるが近年静電容量式が急速に拡大している。抵抗膜式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、一般的にパターン化されていない透明導電膜（基板上を一面に覆う透明導電性膜）で構成されている。一方、静電容量式タッチパネルは、通常、パターン化された透明導電膜が積層された透明導電性フィルムが用いられている。
　静電容量式タッチパネルに用いられる透明導電性フィルムは、通常、フォトリソエッチング等によって透明導電膜がパターン化されており、平面視上透明導電膜のパターン部と非パターン部が存在する。
　このような透明導電膜がパターン化された透明導電性フィルムを用いた静電容量式タッチパネルは、透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」という現象が問題となっている。この「骨見え」現象は表示装置としての品質を低下させる。
　透明導電膜パターンの骨見えを抑制することが提案されている（例えば特許文献１～６）。
特開２０１１－８４０７５号公報 特開２０１０－２２８２９５号公報 特開２００９－７６４３２号公報 特開２００６－３０１５１０号公報 特許第４３６４９３８号公報 特許第４６６１９９５号公報
　しかしながら、特許文献１～６に開示されている技術では、透明導電膜パターンの骨見えの抑制効果が十分に満足するまでに至らない。特に、静電容量式のタッチパネルにおいては、透明導電膜が光の入射表面側に用いられているため、上記の骨見え現象は表示装置としての品質を低下させることから、更なる改善が求められている。
　従って、本発明の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを備えたタッチパネルを提供することにある。
　上記課題を達成できる本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が（１／４）λの透明導電性フィルムである。
但し、λは３８０～７８０ｎｍである。
　また、本発明のタッチパネルは、本発明の透明導電性フィルムを備えたタッチパネルである。
　本発明によれば、骨見え現象が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することができる。本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適に用いられ、特に静電容量式のタッチパネルに好適に用いられる。
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜がこの順に設けられている。
　以下、本発明の透明導電性フィルムを構成するそれぞれの構成要素について詳細に説明する。
　［高屈折率層］
　高屈折率層は、その屈折率（ｎ１）が１．６１～１．８０である。高屈折率層の屈折率（ｎ１）は、１．６２～１．７９の範囲が好ましく、１．６３～１．７８の範囲がより好ましく、１．６５～１．７５の範囲が特に好ましい。
　高屈折率層の厚み（ｄ１）は３０ｎｍ以上である。高屈折率層の厚み（ｄ１）は３５ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がより好ましく、５０ｎｍ以上が特に好ましく、５５ｎｍ以上が最も好ましい。上限は９５ｎｍ以下が好ましく、９０ｎｍ以下がより好ましく、８５ｎｍ以下が特に好ましい。高屈折率層の厚み（ｄ１）が３０ｎｍ未満であると、骨見え現象が十分に抑制できない。また、高屈折率層をウェットコーティング法により積層する場合、均一な塗工面を得ることが難しくなる。
　高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む層、高屈折率樹脂を含む層、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層であることが好ましく、樹脂と金属酸化物を含む層であることがより好ましい。
　さらに高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む組成物、高屈折率樹脂を含む組成物、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましい。即ち、高屈折率層は少なくとも樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましい。特に樹脂と金属酸化物を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましい。
　上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
　以下、樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物について説明する。
　樹脂としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、活性エネルギー線硬化性樹脂がより好ましい。
　このような活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂であり、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが好ましく用いられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。
　上記モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
　上記オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
　上記した、モノマーやオリゴマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
　金属酸化物としては、屈折率が１．６５以上の金属酸化物微粒子が好ましく、屈折率が１．７～２．８の金属酸化物微粒子がより好ましく用いられる。このような金属酸化物微粒子としては、チタン、ジルコニウム、亜鉛、錫、アンチモン、セリウム、鉄、インジウム等の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子の具体例としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物微粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに高屈折率層の屈折率を高めることができるので好ましい。
　組成物における金属酸化物の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましく、５５質量％以上が最も好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
　組成物における樹脂成分と金属酸化物との含有比率は、樹脂成分１００質量部に対して金属酸化物を５０～９００質量部の範囲で含むことが好ましく、１００～８００質量部の範囲で含むことがより好ましい。
　組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ｐ－ジメチルアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４，４’－ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ－イソプロピル－α－ヒドロキシイソブチルフェノン、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
　上記光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物について説明する。
　高屈折率樹脂としては、フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂、ヨウ素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。これらの樹脂は透明性を有するものであればよく、公知または市販のものを使用することができ、また他の樹脂と併用することもできる。
　フッ素以外のハロゲン原子、例えば臭素原子、塩素原子を含む樹脂としては、臭素化アクリル樹脂、臭素化ウレタン樹脂、臭素化ポリエステル樹脂、臭素化ポリエーテル樹脂、臭素化エポキシ樹脂、臭素化スピロアセタール樹脂、臭素化ポリブタジエン樹脂、臭素化ポリチオールポリエン樹脂、塩素化アクリル樹脂、塩素化ウレタン樹脂、塩素化ポリエステル樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂、塩素化エポキシ樹脂等を用いることができる。臭素原子を含む樹脂の原料成分としては、例えばアクリレートのフェニル基のオルト・パラ位をブロモ化した化合物を用いることができる。これは、市販品としては例えば第一工業製薬社製のＢＲ－４２を用いることができる。その他の市販品としては第一工業製薬社製のＢＲ－４２Ｍ、ＢＲ－３０Ｍ、ＢＲ－３１等、ダイセル・サイテック社製のＲＤＸ５１０２７等を用いることができる。また塩素原子を含む樹脂としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルメタクリレートのベンジルクロライド塩などを用いることができ、これらを２種以上混合して用いてもよい。
　硫黄原子を含む樹脂としては、例えばＳ，Ｓ’－エチレンビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［チオビス（ジエチレンスルフィド）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（オキシジエチレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。ここでチオ（メタ）アクリレートとはチオメタクリレートおよびチオアクリレートを示す。
　これらの中でもＳ，Ｓ’－エチレンビス（チオメタクリレート）、Ｓ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）が好適に用いられる。Ｓ，Ｓ’－エチレンビス（チオメタクリレート）は、１，２－エタンジチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる１，２－エタンジチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。またＳ，Ｓ’－（チオジエチレン）ビス（チオメタクリレート）は日本触媒社製の商品名Ｓ２ＥＧとして市販されているものを用いることができる。
　また硫黄原子と芳香族環を含む樹脂としては、例えばＳ,Ｓ’－（チオジ－ｐ－フェニレン）ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－クロロベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジクロロベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－ブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジブロモベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３,５－ジメチルベンゼン）］（チオ（メタ）アクリレート）、Ｓ，Ｓ’－［４,４’－チオビス（３－メチルベンゼン）］ビス（チオ（メタ）アクリレート）等を用いることができる。これらの中でもＳ，Ｓ’－（チオジ－ｐ－フェニレン）ビス（チオメタクリレート）（住友精化社製ＭＰＳＭＡ）が好適に用いられるが、これは４,４’－チオジベンゼンチオールとアルカリ金属化合物とを反応させて得られる４,４’－チオジベンゼンチオールのアルカリ金属塩とメタクリロイルクロリドとを非極性有機溶媒中で反応させる方法等により製造することができる。
　芳香族環を含む樹脂としては、９，９－ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥＦ）、ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ－フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＬＥＮ－１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ－Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ－Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ－Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。
　高屈折率樹脂としては、上記で例示したように、アクリル基やエポキシ基等の重合性基を含む重合性モノマーまたは重合性オリゴマーであることがより好ましい。
　組成物は、高屈折率樹脂に加えて、前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、高屈折率樹脂１００質量部に対して、５～５０質量部の範囲が好ましく、１０～４０質量部の範囲がより好ましい。
　組成物における高屈折率樹脂の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。
　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　次に、金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物について説明する。この組成物は、前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせて使用するものである。金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）は、金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１～１：９の範囲が好ましく、８：２～２：８の範囲がより好ましく、特に７：３～３：７の範囲が好ましい。
　組成物は、さらに前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して、５～５０質量％の範囲が好ましく、１０～４０質量％の範囲がより好ましく、２０～４０質量％の範囲が特に好ましい。
　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１～１０質量％の範囲が適当であり、０．５～８質量％の範囲が好ましい。
　［ＳｉＯ２膜］
　本発明において、ＳｉＯ２膜は高屈折率層と透明導電膜との間に設けられる。このＳｉＯ２膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等のドライプロセスを用いて積層する方法、あるいはシリカゾル等をウェットコーティング法により塗布し積層する方法などにより形成することができる。これらの中でも、ドライプロセス法が好ましい。
　ＳｉＯ２膜の屈折率（ｎ２）は、１．４０～１．５０の範囲が好ましく、１．４２～１．４９の範囲がより好ましく、１．４３～１．４９の範囲が特に好ましく、１．４４～１．４８の範囲が最も好ましい。
　ＳｉＯ２膜の厚み（ｄ２）は、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましい。上限は４０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２５ｎｍ以下が特に好ましく、２０ｎｍ以下が最も好ましい。
　本発明において、高屈折率層と透明導電膜との間に設けられたＳｉＯ２膜は、骨見え現象を抑制するという効果に加えて、高屈折率層と透明導電膜との密着性向上に寄与する。本発明において、高屈折率層、ＳｉＯ２膜、および透明導電膜はこの順にそれぞれ隣接して積層されていることが好ましい。
　［高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みの合計］
　本発明の透明導電性フィルムは、高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が、（１／４）λを満足することが重要である。ここで、光学厚みは屈折率と実際の膜厚みの積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍである。実際の膜厚みおよび光学厚みの単位はｎｍであり、光学厚みは小数点以下を四捨五入するものとする。
　本発明は、高屈折率層の厚み（ｄ１）を３０ｎｍ以上とし、かつ高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みの合計を（１／λ）とすることにより、骨見え現象を抑制する。
　つまり、本発明において、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は以下の関係式１を満足する必要がある。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎ１×ｄ１）＋（ｎ２×ｄ２）≦１９５ｎｍ　・・・（式１）。
　つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、９５ｎｍ以上１９５ｎｍ以下であることが必要である。
　上記式１の範囲内において、λの上限は７００ｎｍ以下であることが好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１７５ｎｍ（λ／４＝７００ｎｍ／４）以下であることが好ましい。
　さらに、λの上限は６３５ｎｍ以下であることがより好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１５９ｎｍ（λ／４＝６３５ｎｍ／４）以下であることがより好ましい。
　上記式１の範囲内において、λの下限は４５０ｎｍ以上であることが好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１１３ｎｍ（λ／４＝４５０ｎｍ／４）以上であることが好ましい。
　さらに、λの下限は５００ｎｍ以上であることがより好ましい。つまり、高屈折率層の光学厚み（ｎ１×ｄ１）とＳｉＯ２膜の光学厚み（ｎ２×ｄ２）との合計は、１２５ｎｍ（λ／４＝５００ｎｍ／４）以上であることがより好ましい。
　［透明導電膜］
　透明導電膜の材料としては、例えばタッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
　透明導電膜の厚みは、例えば表面抵抗値を１０３Ω／□以下の良好な導電性を確保するという観点から、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることが特に好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると骨見え現象の抑制効果が小さくなること、および透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以下が特に好ましい。
　透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
　透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
　本発明の透明導電膜はパターン化されている。例えば、上記のようにして製膜した透明導電膜をパターン化する。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状等が挙げられる。
　透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
　エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
　［基材フィルム］
　本発明の基材フィルムは、公知のプラスチックフィルムを用いることができる。このようなプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン－メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。これらの中でもポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
　基材フィルムの厚みは、２０～３００μｍの範囲が適当であり、５０～２５０μｍの範囲が好ましく、５０～２００μｍの範囲がより好ましい。
　基材フィルムの屈折率（ｎｆ）は１．６１～１．７０の範囲が好ましく、１．６２～１．６９の範囲がより好ましく、１．６３～１．６８の範囲が特に好ましく、１．６４～１．６７の範囲が最も好ましい。
　［易接着層］
　基材フィルムは、高屈折率層や後述するハードコート層との密着力を強化するための易接着層が積層されていることが好ましい。
　易接着層は、その屈折率（ｎｐ）が１．５０～１．６０の範囲であることが好ましい。易接着層の屈折率（ｎｐ）は、１．５１～１．６０の範囲がより好ましく、１．５３～１．５９の範囲が特に好ましく、１．５５～１．５９の範囲が最も好ましい。
　易接着層の光学厚みは、（１／４）λを満足することが好ましい。ここで、光学厚みは、易接着層の屈折率（ｎｐ）と実際の厚み（ｄｐ）との積であり、λは可視光領域の波長範囲である３８０～７８０ｎｍを意味する。易接着層の厚み（ｄｐ）および光学厚みの単位はｎｍであり、光学厚みは小数点以下を四捨五入するものとする。
　すなわち、易接着層の光学厚みは以下の関係式２を満足することが好ましい。
（３８０ｎｍ／４）≦（ｎｐ×ｄｐ）≦（７８０ｎｍ／４）
　　　　　９５ｎｍ≦（ｎｐ×ｄｐ）≦１９５ｎｍ　・・・（式２）。
　さらに、λの範囲は４００～７００ｎｍであることがより好ましい。つまり、易接着層の光学厚みは以下の関係式３を満足することがより好ましい。
（４００ｎｍ／４）≦（ｎｐ×ｄｐ）≦（７００ｎｍ／４）
　　　　１００ｎｍ≦（ｎｐ×ｄｐ）≦１７５ｎｍ　・・・（式３）。
　またさらに、λの範囲は４５０～６５０ｎｍであることが特に好ましい。つまり、易接着層の光学厚みは以下の関係式４を満足することが特に好ましい。
（４５０ｎｍ／４）≦（ｎｐ×ｄｐ）≦（６５０ｎｍ／４）　
　　　　１１３ｎｍ≦（ｎｐ×ｄｐ）≦１６３ｎｍ　・・・（式４）。
　易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが特に好ましく、８０質量％以上含むことが最も好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が特に好ましい。
　かかる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂がより好ましく用いられる。
　易接着層は、後述する易接着機能を易接着層に付与するという観点から、架橋剤を含有することが好ましい。このような架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
　易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、１～４０質量％の範囲が好ましく、３～３５質量％の範囲がより好ましく、５～３０質量％の範囲が特に好ましい。
　易接着層は、さらに易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばコロイダルシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カーボンブラック、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
　易接着層における粒子の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５～８質量％の範囲が好ましく、０．１～５質量％の範囲がより好ましい。
　易接着層は、基材フィルム上にウェットコーティング法により積層されていることが好ましい。特に易接着層を基材フィルムの製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されていることが好ましい。基材フィルム上に易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材フィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
　上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
　上述のインラインコーティング法について、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）フィルムを用いた態様について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
　ＰＥＴフィルムの原料である極限粘度０．５～０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥する。真空乾燥したペレットを押し出し機に供給し２６０～３００℃で溶融する。溶融したＰＥＴポリマーをＴ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０～６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化して未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０～１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、その表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上にする。その処理面に易接着層の塗布液を塗布する。
　次に、塗布液が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥する。引き続きＴｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度でフィルムを乾燥する。引き続き連続的に７０～１５０℃の加熱ゾーンでフィルムを横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５～５倍延伸する。続いて１８０～２４０℃の加熱ゾーンでフィルムに５～４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルムに易接着層が積層されたＰＥＴフィルムが得られる。なお、上記熱処理中に必要に応じて３～１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。
　［ハードコート層］
　本発明において、基材フィルムと高屈折率層の間にハードコート層を設けることが好ましい。ハードコート層の屈折率（ｎｈ）は、１．４６～１．５５の範囲が好ましく、１．４８～１．５３の範囲がより好ましく、１．４８～１．５２の範囲が特に好ましい。
　ハードコート層の厚みは０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましい。厚みの上限は１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が特に好ましく、３μｍ以下が最も好ましい。
　基材フィルムと高屈折率層の間にハードコート層を設ける場合は、前述の易接着層を介して基材フィルム上にハードコート層を設けることが好ましい。この場合、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、易接着層の屈折率（ｎｐ）およびハードコート層の屈折率（ｎｈ）の関係は、透明導電性フィルムの干渉縞の発生を抑制するという観点から、ｎｆ＞ｎｐ＞ｎｈであることが好ましい。
　さらに透明導電性フィルムの干渉縞の発生を抑制するという観点から、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）と易接着層の屈折率（ｎｐ）との差（ｎｆ－ｎｐ）、および易接着層の屈折率（ｎｐ）とハードコート層の屈折率（ｎｈ）との差（ｎｐ－ｎｈ）は、いずれも０．１以下が好ましく、０．０９以下がより好ましく、特に０．０８以下が好ましい。下限は０．０３以上が好ましく、０．０４以上がより好ましい。
　本発明において、基材フィルムの片面にのみ、高屈折率層、ＳｉＯ２膜、透明導電膜、および必要に応じて易接着層やハードコート層を設ける場合は、反対面にハードコート層を設けることが好ましい。これにより、基材フィルムからのオリゴマーの析出を抑制することができる。この場合、透明導電性フィルムの干渉縞の発生を抑制するという観点から、基材フィルムとハードコート層との間に上記の屈折率の関係を満足するように易接着層を設けることが好ましい。
　本発明において、基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制と透明導電性フィルムの干渉縞発生の抑制の観点から、基材フィルムの両面に易接着層とハードコート層をこの順に設け、両面ともそれぞれ、基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、易接着層の屈折率（ｎｐ）およびハードコート層の屈折率（ｎｈ）が上記の関係を満足することが好ましい。この態様としては以下の（１）、（２）の構成が挙げられる。なお、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜であり、透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
（１）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
（２）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜。
　ハードコート層は、着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより、着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。
　ハードコート層は、熱硬化性あるいは活性エネルギー線硬化性の樹脂を含む組成物をウェットコーティング法により塗布後、必要に応じて乾燥した後、硬化させた層であることが好ましい。ハードコート層形成用組成物としては、特に活性エネルギー線硬化性樹脂を含む組成物が好ましい。ウェットコーティング法としては前述の塗布方法を用いることができる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の高屈折率層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。また、活性エネルギー線硬化性樹脂と併せて用いることができる光重合開始剤も、前述の高屈折率層に用いられるものと同様のものが用いられるので、ここでの説明は省略する。
　［透明導電性フィルム］
　本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルムの片面にのみ高屈折率層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜を設けたものであってもよいし、基材フィルムの両面に高屈折率層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜を設けたものであってもよい。基材フィルムの両面に高屈折率層、ＳｉＯ２膜および透明導電膜を設けた透明導電性フィルムの場合、前述した高屈折率層の光学厚みとＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計は、片面当たりの合計値である。
　前述の易接着層および／またはハードコート層についても、基材フィルムの片面側にのみ設けてもよいし、両面に設けてもよい。
　本発明の透明導電性フィルムの好ましい構成例の幾つかを以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜であり、透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
ａ）基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｂ）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｃ）基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｄ）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｅ）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／易接着層／基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｆ）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜。
　［各層の屈折率の関係］
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、各層の屈折率の関係は以下の関係式５、関係式６を満足することが好ましい。これによって透明導電膜パターンの骨見え現象が一段と抑制される。
ｎｔ＞ｎ１≧ｎｆ＞ｎ２　・・・（式５）
ｎｔ＞ｎ１≧ｎｆ＞ｎｐ＞ｎｈ＞ｎ２　・・・（式６）
　式中、ｎｔは透明導電膜の屈折率、ｎ１は高屈折率層の屈折率、ｎｆは基材フィルムの屈折率、ｎｐは易接着層の屈折率、ｎ２はＳｉＯ２膜の屈折率を表す。
　[視感反射率]
　本発明の透明導電性フィルムにおいて、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差は、３．０％以下が好ましく、２．５％以下がより好ましく、２．０％以下が特に好ましく、１．５％以下が最も好ましい。
　[透明導電膜のパターン部と非パターン部の色差]
　透明導電膜パターンの視認（骨見え）を抑制するという観点から、透明導電膜のパターン部と非パターン部の反射色の色差ΔＥは７以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましく、５以下であることが特に好ましい。ここで、ΔＥは、下記関係式７で表される。
・ΔＥ＝｛（ΔＬ）２＋（Δａ）２＋（Δｂ）２｝１／２　　　・・・（式７）
　式中
ΔＬ＝（非パターン部におけるＬ*値）－（パターン部におけるＬ*値）
Δａ＝（非パターン部におけるａ*値）－（パターン部におけるａ*値）
Δｂ＝（非パターン部におけるｂ*値）－（パターン部におけるｂ*値）。
　本発明の層構成を採用することにより、透明導電膜のパターン部と非パターン部との視感反射率差と色差を上記のようにバランス良く小さくすることができ、その結果、骨見え現象を十分に抑制することが可能になる。
　[透明導電性フィルムの調色]
　基材フィルム、高屈折率層、およびＳｉＯ２膜の中から選ばれる少なくとも１層に着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。これにより、透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することができる。
　また、前述したようにハードコート層を設ける場合には、ハードコート層にも着色染料もしくは着色顔料を含有させることにより着色することができる。
　上記のようにして本発明の透明導電性フィルムの反射色や透過色を調整することにより、透明導電膜パターンの骨見え現象をさらに抑制することができる。
　[用途]
　本発明の透明導電性フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのディスプレイやタッチパネル等における透明電極、帯電防止性フィルム、あるいは電磁波シールドフィルム等に用いることができる。特に本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適であり、中でも静電容量式タッチパネルに好適である。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、本実施例における、測定方法、評価方法および各層の塗布組成物を以下に示す。
　（１）屈折率の測定その１（易接着層、高屈折率層およびハードコート層の屈折率）
　易接着層、高屈折率層およびハードコート層のそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ－１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
　（２）屈折率の測定その２（基材フィルムの屈折率）
　基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
　（３）屈折率の測定その３（透明導電膜およびＳｉＯ２膜の屈折率）
　透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜を、屈折率が既知のＰＥＴフィルム上に実際の積層条件と同条件で厚みが３３ｎｍとなるようにそれぞれ積層して屈折率測定用サンプルを作製する。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄もしくはＳｉＯ２膜の反射率と厚みをそれぞれ測定する。このようにして得られた反射率、膜厚み、およびＰＥＴフィルムの屈折率とから、透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜の屈折率を算出する。
上記反射率は、透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜が積層された面とは反対側のＰＥＴフィルム面に＃３２０～４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ－３１５０を用いて５５０ｎｍの反射率を測定する。
透明導電膜もしくはＳｉＯ２膜の厚みは、下記（４）の方法にて測定する。
　（４）それぞれの層および膜の厚みの測定
　サンプルの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ－７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍～３０万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれ層、膜の厚みを測定した。なお、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
　（５）透明導電膜パターンの視認性
　黒い板の上に、サンプルを透明導電膜が上になるように置き、目視によりパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
ＡＡ：パターン部が視認できない。
Ａ：パターン部が僅かに視認できる。
Ｃ：パターン部が明確に視認できる。
　（６）干渉縞の目視評価
　基材フィルムに対して透明導電膜が設けられた側とは反対面に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１　トクハバ　黒”）を貼り付け、暗室三波長蛍光灯下にて目視にて干渉縞を観察し、以下の基準で行った。
Ａ：干渉縞が見えないか、あるいは僅かに見えるが気にならないレベルである。
Ｃ：干渉縞が比較的強く見えており、気になるレベルである。
　（７）各層の塗布組成物の調製
　（易接着層の塗布組成物１ａ）
　ナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯＬ」）を１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。
　（易接着層の塗布組成物１ｂ）
　アクリル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を５質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯＬ」）を１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。
 （ハードコート層の塗布組成物）
　活性エネルギー線硬化性樹脂として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）５５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５１であった。
　（高屈折率層の塗布組成物２ａ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）２７質量部）３７質量部、酸化ジルコニウム６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．７０であった。
　（高屈折率層の塗布組成物２ｂ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレート２７質量部）３７質量部、酸化チタン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．７５であった。
　（高屈折率層の塗布組成物２ｃ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）１２質量部）２２質量部、五酸化アンチモン７５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。
　（高屈折率層の塗布組成物２ｄ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）２２質量部）３７質量部、五酸化アンチモン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．６２であった。
　（高屈折率層の塗布組成物２ｅ）
　活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）５７質量部）７７質量部、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）２０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５４であった。
　［実施例１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムは、「ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。
＜易接着層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で上記の易接着層塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に易接着層を積層した。
＜ハードコート層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの一方の面の易接着層上にハードコート層の塗布組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが２μｍのハードコート層を積層した。
＜高屈折率層の積層＞
　ＰＥＴフィルムのハードコート層が積層されている面とは反対面の易接着層上に高屈折率層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが７０ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
＜ＳｉＯ２膜の積層＞
　上記の高屈折率層上に、厚みが１０ｎｍとなるようにＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）をスパッタリング法により積層した。
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（屈折率２．００）を厚みが３３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
　［実施例２～１４、比較例１～５］
　表１，２に示すような構成に変更する以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
　＜評価＞
　上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、透明導電膜パターンの視認性を評価した。その結果を表１，２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１，２の結果から明らかなように、本発明の実施例は透明導電膜パターンが視認されないが、比較例は透明導電膜パターンが視認される。
　［実施例２１～３４］
　実施例１～１４において、ハードコート層を積層する代わりに、実施例１～１４と同様の高屈折率層、ＳｉＯ２膜、透明導電膜（ＩＴＯ膜）をそれぞれ積層して、実施例２１～３４の透明導電性フィルムを作製した。これらの実施例２１～３４の透明導電性フィルムは、「透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。なお、実施例２１は実施例１に対応し、実施例２２は実施例２に対応し、以下同様にして、実施例２３～３４はそれぞれ実施例３～１４に対応する。
　＜評価＞
　実施例２１～３４の透明導電性フィルムについて、両面それぞれの透明導電膜パターンの視認性を評価したところ、両面ともに実施例１～１４と同様に良好であった。
　［実施例４１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムは、「ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。
＜易接着層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で上記の易接着層塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に易接着層を積層した。
＜ハードコート層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの両面の易接着層上にそれぞれハードコート層の塗布組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが２μｍのハードコート層を積層した。
＜高屈折率層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの一方の面のハードコート層上に高屈折率層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが８５ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
＜ＳｉＯ２膜の積層＞
　上記の高屈折率層上、厚みが５ｎｍとなるようにＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）をスパッタリング法により積層した。
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（屈折率２．００）を厚みが３３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。
　［実施例４２～５０、比較例１１～１５］
　表３，４に示すような構成に変更する以外は、実施例４１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。
　＜評価＞
　上記で作製したそれぞれの透明導電性フィルムについて、透明導電膜パターンの視認性と干渉縞を評価した。その結果を表３，４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表３，４の結果から明らかなように、本発明の実施例は透明導電膜パターンが視認されないが、比較例は透明導電膜パターンが視認される。また、本発明の実施例は干渉縞の発生はほとんどなかったが、比較例１５は干渉縞の発生があった。
　［実施例５１～６０］
　実施例４１～５０において、透明導電膜が積層された面とは反対面のハードコート層上に、実施例４１～５０と同様の高屈折率層、ＳｉＯ２膜、透明導電膜（ＩＴＯ膜）をそれぞれ積層して、実施例５１～６０の透明導電性フィルムを作製した。これらの実施例５１～６０の透明導電性フィルムは、「透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。なお、実施例５１は実施例４１に対応し、実施例５２は実施例４２に対応し、以下同様にして、実施例５３～６０はそれぞれ実施例４３～５０に対応する。
　＜評価＞
　実施例５１～６０の透明導電性フィルムについて、両面それぞれの透明導電膜パターンの視認性と干渉縞を評価したところ、両面ともに実施例４１～５０と同様に良好であった。

Claims (13)

  1. 　基材フィルム上に、屈折率が１．６１～１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が（１／４）λである、透明導電性フィルム。
    　但し、λは３８０～７８０ｎｍである。
  2. 　前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が９５ｎｍ以上１５９ｎｍ以下である、請求項１の透明導電性フィルム。
  3. 　前記高屈折率層が、少なくとも樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成されたものである、請求項１または２の透明導電性フィルム。
  4. 　前記高屈折率層が、活性エネルギー線硬化性樹脂と金属酸化物を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成されたものである、請求項１～３のいずれかの透明導電性フィルム。
  5. 　前記ＳｉＯ２膜の厚みが３ｎｍ以上２０ｎｍ以下である、請求項１～４のいずれかの透明導電性フィルム。
  6. 　前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項１～５のいずれかの透明導電性フィルム。
  7. 　前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、前記高屈折率層の屈折率（ｎ１）、前記ＳｉＯ２膜の屈折率（ｎ２）、および前記透明導電膜の屈折率（ｎｔ）の関係が、ｎｔ＞ｎ１≧ｎｆ＞ｎ２を満足する、請求項１～６のいずれかの透明導電性フィルム。
  8. 　前記基材フィルムと高屈折率層との間にハードコート層を有する、請求項１～７のいずれかの透明導電性フィルム。
  9. 　前記基材フィルムとハードコート層との間に易接着層を有する、請求項８の透明導電性フィルム。
  10. 　下記（１）または（２）の構成である、請求項９の透明導電性フィルム。
    　（１）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
    　（２）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
  11. 　前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）、前記易接着層の屈折率（ｎｐ）、および前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）の関係が、ｎｆ＞ｎｐ＞ｎｈを満足し、かつ前記基材フィルムの屈折率（ｎｆ）と前記易接着層の屈折率（ｎｐ）との差（ｎｆ－ｎｐ）、および前記易接着層の屈折率（ｎｐ）と前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）との差（ｎｐ－ｎｈ）がいずれも０．１以下である、請求項９または１０の透明導電性フィルム。
  12. 　請求項１～１１のいずれかの透明導電性フィルムを備えたタッチパネル。
  13. 　前記タッチパネルが静電容量式タッチパネルである、請求項１２のタッチパネル。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016004458A (ja) * 2014-06-18 2016-01-12 凸版印刷株式会社 静電容量タッチパネル
KR20160038797A (ko) 2014-09-30 2016-04-07 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 터치 패널용 감광성 수지 조성물 및 그 경화막, 그리고 당해 경화막을 갖는 터치 패널
JP2016052718A (ja) * 2014-09-02 2016-04-14 株式会社巴川製紙所 透明電極用フィルム
WO2016067337A1 (ja) * 2014-10-27 2016-05-06 リンテック株式会社 透明導電膜積層用フィルムおよび透明導電性フィルム
JP2016083939A (ja) * 2014-10-24 2016-05-19 積水化学工業株式会社 光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム
JP2017215979A (ja) * 2017-07-11 2017-12-07 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサおよびタッチパネル付表示装置
JP2017224115A (ja) * 2016-06-14 2017-12-21 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、および、タッチパネル
CN107849273A (zh) * 2015-09-30 2018-03-27 株式会社Lg化学 塑料膜
JP2020086177A (ja) * 2018-11-27 2020-06-04 大日本印刷株式会社 調光ユニット、該調光ユニットを備える調光部材及び該調光部材を備える移動体

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6014551B2 (ja) 2013-05-27 2016-10-25 日東電工株式会社 タッチパネルセンサ
JP5964273B2 (ja) 2013-05-27 2016-08-03 日東電工株式会社 タッチパネルセンサ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004086328A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd タッチパネル、その製造方法、およびタッチパネル付き表示装置
WO2004057381A1 (ja) * 2002-12-20 2004-07-08 Teijin Limited 透明導電性積層体,タッチパネル及びタッチパネル付液晶表示装置
JP2011136562A (ja) * 2007-01-18 2011-07-14 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
JP2011175900A (ja) * 2010-02-25 2011-09-08 Toppan Printing Co Ltd 透明導電性積層体及びその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004086328A (ja) * 2002-08-23 2004-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd タッチパネル、その製造方法、およびタッチパネル付き表示装置
WO2004057381A1 (ja) * 2002-12-20 2004-07-08 Teijin Limited 透明導電性積層体,タッチパネル及びタッチパネル付液晶表示装置
JP2011136562A (ja) * 2007-01-18 2011-07-14 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
JP2011175900A (ja) * 2010-02-25 2011-09-08 Toppan Printing Co Ltd 透明導電性積層体及びその製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016004458A (ja) * 2014-06-18 2016-01-12 凸版印刷株式会社 静電容量タッチパネル
JP2016052718A (ja) * 2014-09-02 2016-04-14 株式会社巴川製紙所 透明電極用フィルム
KR20160038797A (ko) 2014-09-30 2016-04-07 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 터치 패널용 감광성 수지 조성물 및 그 경화막, 그리고 당해 경화막을 갖는 터치 패널
JP2016083939A (ja) * 2014-10-24 2016-05-19 積水化学工業株式会社 光透過性導電性フィルム、およびハードコート付き光透過性フィルム
WO2016067337A1 (ja) * 2014-10-27 2016-05-06 リンテック株式会社 透明導電膜積層用フィルムおよび透明導電性フィルム
JP5933137B1 (ja) * 2014-10-27 2016-06-08 リンテック株式会社 透明導電膜積層用フィルムおよび透明導電性フィルム
JP2018525248A (ja) * 2015-09-30 2018-09-06 エルジー・ケム・リミテッド プラスチックフィルム
CN107849273A (zh) * 2015-09-30 2018-03-27 株式会社Lg化学 塑料膜
KR102058141B1 (ko) * 2015-09-30 2019-12-20 주식회사 엘지화학 플라스틱 필름
US10662305B2 (en) 2015-09-30 2020-05-26 Lg Chem, Ltd. Plastic film
CN107849273B (zh) * 2015-09-30 2021-08-27 株式会社Lg化学 塑料膜
JP2017224115A (ja) * 2016-06-14 2017-12-21 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、および、タッチパネル
JP2017215979A (ja) * 2017-07-11 2017-12-07 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサおよびタッチパネル付表示装置
JP2020086177A (ja) * 2018-11-27 2020-06-04 大日本印刷株式会社 調光ユニット、該調光ユニットを備える調光部材及び該調光部材を備える移動体

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