JP2016170467A - タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム - Google Patents
タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム Download PDFInfo
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Abstract
【課題】
透過色の着色が少なく、かつ透過率が高いベースフィルムを提供することにある。
【解決手段】
基材フィルムの一方の面に、第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第2色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長をλa、前記第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、下記条件1および条件2を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
(条件1)380nm≦λa≦500nm
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm
【選択図】なし
透過色の着色が少なく、かつ透過率が高いベースフィルムを提供することにある。
【解決手段】
基材フィルムの一方の面に、第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第2色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長をλa、前記第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、下記条件1および条件2を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
(条件1)380nm≦λa≦500nm
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm
【選択図】なし
Description
本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルムに関する。詳しくは、視認性が良好なタッチパネル用透明導電性フィルムを得るためのベースフィルムに関する。
以下の説明において、「タッチパネル用透明導電性フィルム」を単に「透明導電性フィルム」と言うことがあり、また、「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を単に「ベースフィルム」と言うことがある。
透明導電性フィルムのベースフィルムとして、基材フィルム上にハードコート層が設けられたハードコートフィルムが一般に知られている。透明導電性フィルムは、このようなベースフィルムの片面もしくは両面に透明導電膜を設けることにより得られる。
また、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を向上させるために、基材フィルム上に各種機能層を設けたベースフィルムが提案されている。
例えば、透明導電膜の色味を調整するために、基材フィルム上に光学機能層を積層したベースフィルムが提案されており(特許文献1〜3)、またパターン化された透明導電膜のパターンが視認される現象(いわゆる「骨見え」)を抑制するために、基材フィルム上に屈折率調整層を積層したベースフィルムが提案されている(特許文献4〜11)。
また、上記ベースフィルムの片面のみに透明導電膜が設けられた場合、その面とは反対面に、ハードコート層を設けることが知られている。これらのハードコート層は、ベースフィルムのカールバランスの調整やブロッキング防止及び基材フィルムからのオリゴマー析出防止等のために設けられている。
透明導電性フィルムとしては、基材フィルム上に、酸化錫を含有するインジウム酸化物(錫ドープ酸化インジウム、ITO)や酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが一般的に用いられている。このような透明導電性フィルムは、金属酸化物層の反射及び吸収に由来する可視光短波長領域の透過率の低下により、黄色の呈色が見られることが多い。
上記の透明導電膜の着色を軽減するには、透明導電性フィルムのベースフィルムの透過色は着色が少ない、いわゆる無彩色に近いことが好ましい。また、透明導電性フィルムのベースフィルムは透過率が高いことが好ましい。
上記特許文献には、基材フィルムに対して透明導電層側とは反対面(裏面)を含めたトータルでの色調補正については言及されていない。透明導電性フィルムの裏面(基材フィルムに対して透明導電層側とは反対面)には、従来からハードコート層を設けることが知られているが、裏面にハードコート層が設けられた透明導電性フィルムのベースフィルムでは、無彩色に近い透過光を得ることは難しく、また、透過率が十分に高いものではない。
従って、本発明の目的は、上記従来技術の課題に鑑み、透過色の着色が少ない(無彩色に近い)ベースフィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、このベースフィルムを用いた透明導電性フィルムを提供することにある。
本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
[1]基材フィルムの一方の面に、第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第2色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長をλa、前記第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、下記条件1および条件2を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[1]基材フィルムの一方の面に、第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第2色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長をλa、前記第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、下記条件1および条件2を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
(条件1)380nm≦λa≦500nm
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm
[2]前記第1色調補正層は少なくともA1層を含み、A1層は屈折率が1.40以下でかつ膜厚が70〜90nmである、[1]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[3]前記第1色調補正層は、さらにA2層を含み、A2層はA1層より基材フィルム側に位置し、A2層は屈折率が1.61以上1.70未満でかつ膜厚が0.1μm以上である、[2]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[4]前記第2色調補正層は、少なくともB1層およびB2層を含み、B2層はB1層より基材フィルム側に位置し、B1層は屈折率が1.55以下でかつ膜厚が70nm未満であり、B2層は屈折率が1.65〜1.85で膜厚50nm未満である、[1]から[3]のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[5]前記第2色調補正層は、更に、基材フィルムとB2層との間にB3層を含み、B3層は屈折率が1.48〜1.80でかつ膜厚が0.1μm以上である、[4]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[6][1]から[5]のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
[7]前記透明導電膜がパターン化されている、[6]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm
[2]前記第1色調補正層は少なくともA1層を含み、A1層は屈折率が1.40以下でかつ膜厚が70〜90nmである、[1]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[3]前記第1色調補正層は、さらにA2層を含み、A2層はA1層より基材フィルム側に位置し、A2層は屈折率が1.61以上1.70未満でかつ膜厚が0.1μm以上である、[2]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[4]前記第2色調補正層は、少なくともB1層およびB2層を含み、B2層はB1層より基材フィルム側に位置し、B1層は屈折率が1.55以下でかつ膜厚が70nm未満であり、B2層は屈折率が1.65〜1.85で膜厚50nm未満である、[1]から[3]のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[5]前記第2色調補正層は、更に、基材フィルムとB2層との間にB3層を含み、B3層は屈折率が1.48〜1.80でかつ膜厚が0.1μm以上である、[4]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
[6][1]から[5]のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
[7]前記透明導電膜がパターン化されている、[6]に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
本発明によれば、透過光の着色が少ない(無彩色に近い)透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することができる。また、本発明の好ましい態様によれば、透過光の着色が少なく、かつ透過率が高い透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することができる。また、本発明のベースフィルムを透明導電性フィルムに用いることにより、透明導電性フィルムの透過光の着色が抑制され、かつ透過率が高められる。
また、本発明の好ましい態様によれば、透明導電膜の視認性を向上させることができる。ここで、透明導電膜の視認性が向上する(良化する)とは、透明導電性フィルムの透明導電膜に起因する色味(例えば、ITO膜の黄色味)が抑制されて無彩色に近づくこと、あるいはパターン化された透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が抑制されることを意味する。
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの一方の面に、第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第2色調補正層を有する。そして、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長をλa、第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、下記条件1および条件2を満足することを特徴とする。
(条件1)380nm≦λa≦500nm
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm
本発明のベースフィルムを透明導電性フィルムに適用するに際し、ベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜が積層されることが好ましい。第1色調補正層の上には透明導電膜は積層されないことが好ましい。
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm
本発明のベースフィルムを透明導電性フィルムに適用するに際し、ベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜が積層されることが好ましい。第1色調補正層の上には透明導電膜は積層されないことが好ましい。
上記したような特徴的な構成を採ることによって、即ち、透明導電膜が積層されない第1色調補正層側の光学特性と、透明導電膜が積層される第2色調補正層側の光学特性とを、上記したような特徴的な光学特性および関係とすることにより、ベースフィルムの透過光の着色が抑えることができる(無彩色に近づけることができる)。
第2色調補正層の色調は、第2色調補正層の上に積層される透明導電膜の視認性を向上(例えば「骨見え」の抑制)させるために透明導電膜の色調に合わせて設計される。例えば、代表的な透明導電膜であるITO(酸化インジウム錫)膜は、通常、黄色に呈色しており、ITO膜を含む透明導電性フィルムの透過色を無彩色に近づけるには、第2色調補正層の光学特性、即ち第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長(λb)を低波長側(例えば、400nm以下)になるように設計することが好ましい。
しかし、上記のように設計された第2色調補正層を含むベースフィルムは透過色が着色を呈することがある。そこで、ベースフィルムの基材フィルムに対して第2色調補正層が積層された面とは反対面からアプローチし、反対面にベースフィルムの透過色が無彩色に近づくような光学特性をもつ第1色調補正層を設けるという着想を得た。
この着想に基づいて検討した結果、第1色調補正層の光学特性を、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nm領域における最小反射率波長(λa)が、条件1(380nm≦λa≦500nm)を満足し、かつ、条件2(100nm≦(λa−λb)≦200nm)を満足するように設計することによって、ベースフィルムの透過色が無彩色に近づくことが分かり、本発明を想到するに至った。
上記観点から、条件1は更に、380nm≦λa≦450nmであることが好ましく、条件2は更に、100nm≦(λa−λb)≦150nmであることが好ましい。
条件2を満足させるには、λbは、260〜320nmの範囲が好ましく、280〜300nmの範囲がより好ましい。
[第1色調補正層]
第1色調補正層は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長(λa)が、条件1(380nm≦λa≦500nm)を満足することが重要である。
第1色調補正層は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長(λa)が、条件1(380nm≦λa≦500nm)を満足することが重要である。
第1色調補正層の条件1を満足させる構成としては、第1色調補正層は、少なくともA1層含むことが好ましい。A1層は、屈折率が1.40以下でかつ膜厚が70〜90nmであることが好ましい。第1色調補正層が少なくとも上記A1層を含むことにより、ベースフィルムの透過色が無彩色に近づき、かつベースフィルムの透過率を高めることができる。
上記観点から、A1層の屈折率は、更に1.39以下が好ましく、1.38以下がより好ましく、1.36以下が特に好ましい。下限の屈折率は、1.31以上が好ましく、1.32以上がより好ましく、1.34以上が特に好ましい。
A1層の屈折率が1.40より大きくなると、ベースフィルムの透過率を十分に高められないことがある。一方、A1層の屈折率が1.31未満となると、ベースフィルムの透過色を十分に無彩色に近づけることができないことがある。
A1層の膜厚は、ベースフィルムの透過色を無彩色に近づけるという観点およびベースフィルムの透過率を高めるという観点から、70〜90nmの範囲が好ましい。更に上記観点から、A1層の膜厚は、75〜85nmの範囲が好ましく、75〜80nmの範囲が特に好ましい。
第1色調補正層は、更にA2層を含むことが好ましい。この構成において、A2層はA1層より基材フィルム側に位置する。つまり、「基材フィルム/A2層/A1層」の構成であることが好ましい。A2層は、屈折率が1.61以上1.70未満でかつ膜厚が0.1μm以上であることが好ましい。
第1色調補正層がA2層を含むことにより、ベースフィルムの耐擦傷性が向上し、基材フィルムからのオリゴマー析出が抑制される。
A2層の屈折率は、更に1.62〜1.69の範囲が好ましく、1.63〜1.68の範囲がより好ましく、1.64〜1.67の範囲が特に好ましい。また、干渉縞を抑制するという観点から、基材フィルムとA2層との屈折率差の絶対値は、0.03以下好ましく、0.02以下がより好ましく、0.01以下が特に好ましい。
A2層の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性の向上および基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制の観点から、0.2μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましく、0.5μm以上が特に好ましい。上限の膜厚は、ベースフィルムのカール性やクラック発生防止および透明性の観点から5μm以下が好ましく、3μm以下がより好ましく、2.5μm以下が特に好ましい。
[A1層の形成]
A1層は、屈折率が1.40以下であることが好ましく、このような比較的低い屈折率とするために、A1層は、低屈折率材料(例えば、低屈折率無機粒子および/または含フッ素化合物)を含有することが好ましい。
A1層は、屈折率が1.40以下であることが好ましく、このような比較的低い屈折率とするために、A1層は、低屈折率材料(例えば、低屈折率無機粒子および/または含フッ素化合物)を含有することが好ましい。
低屈折率無機粒子としては、例えば、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が挙げられる。更に、これらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。特に中空状のシリカやフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。これらの無機微粒子の屈折率は、1.20〜1.35であるのが好ましい。
A1層における低屈折率無機粒子の含有量は、A1層の固形分総量100質量%に対して10質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましく、特に30質量%以上が好ましい。上限は75質量%以下が好ましく、70質量%以下が好ましく、特に60質量%以下が好ましい。
含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化
合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマーあるいは含フッ素オリゴマーは、分子中に
前述の重合性官能基とフッ素原子とを有するモノマーあるいはオリゴマーである。
合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマーあるいは含フッ素オリゴマーは、分子中に
前述の重合性官能基とフッ素原子とを有するモノマーあるいはオリゴマーである。
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロ
エチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)ア
クリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフル
オロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メ
タ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、βー(パ
ーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリル酸エ
ステル類、 ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエチルエチレ
ングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロ
プロピルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,
4,4−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−
2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−
(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカ
フルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコー
ル、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロ
アクリル酸)−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオ
ロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4
,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレ
ングリコールなどのジ−(α−フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステル類が挙げ
られる。
エチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)ア
クリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフル
オロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メ
タ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、βー(パ
ーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリル酸エ
ステル類、 ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエチルエチレ
ングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロ
プロピルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,
4,4−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−
2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−
(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカ
フルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコー
ル、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロ
アクリル酸)−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオ
ロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4
,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレ
ングリコールなどのジ−(α−フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステル類が挙げ
られる。
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモ
ノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例
としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオラ
イド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、
パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部
分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化
学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等
である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子
内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル
基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー
(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(
メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。
ノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例
としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオラ
イド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、
パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部
分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化
学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等
である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子
内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーの他、カルボキシル
基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー
(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(
メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。
A1層における含フッ素化合物の含有量は、A1層の固形分総量100質量%に対して、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、50質量%以上が特に好ましい。上限は95質量%以下が好ましく、90質量%以下がより好ましく、80質量%以下が特に好ましい。
A1層は、上記した低屈折率無機粒子と含フッ素化合物を併用することができる。併用する場合の比率は特に限定されないが、低屈折率無機粒子の100質量部に対して含フッ素化合物を10〜500質量部の範囲が好ましく、特に10〜300質量部の範囲が好ましい。
A1層は、更に樹脂を含有することが好ましい。このような樹脂としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
上記熱硬化性樹脂としては、熱によって重合又は架橋する、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。
上記活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物(モノマーやオリゴマー)が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。
尚、以下の説明において、「・・・(メタ)アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」の総称である。
分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物として、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エチルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート−トルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート−イソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。
また、多官能のウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学(株)製のウレタンアクリレートAHシリーズ、ウレタンアクリレートATシリーズ、ウレタンアクリレートUAシリーズ、根上工業(株)製のUN−3320シリーズ、UN−900シリーズ、新中村化学工業(株)製のNKオリゴUシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のEbecryl1290シリーズなどが挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂として、分子中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を3個以上有する化合物が好ましく用いられる。
A1層は、上記した低屈折率無機粒子および/または含フッ素化合物と、活性エネルギー線硬化性樹脂とを含有する活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成されたものであることが好ましい。
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
紫外線の照射光量は、50mJ/cm2以上が好ましく、100mJ/cm2以上がより好ましく、特に150mJ/cm2以上が好ましい。上限は2000mJ/cm2以下が好ましく、1000mJ/cm2以下がより好ましい。
活性エネルギー線硬化性組成物における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、5〜70質量%の範囲が好ましく、10〜60質量%の範囲がより好ましく、特に15〜55質量%の範囲が好ましい。
活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。か
かる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。
かる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば
、 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173等、
日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ
、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、
Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等
、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KA
YACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。
、 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173等、
日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ
、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、
Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等
、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KA
YACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。
上記光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、0.5〜10質量%の範囲が適当である。
活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合すること
ができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、粒子分散剤、滑り性付与剤、消泡剤、帯
電防止剤、防汚剤などを含有させることができる。
ができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、粒子分散剤、滑り性付与剤、消泡剤、帯
電防止剤、防汚剤などを含有させることができる。
[A2層の形成]
A2層は、屈折率が1.61以上1.70未満であることが好ましく、このような比較的高い屈折率とするために、A2層は金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。
A2層は、屈折率が1.61以上1.70未満であることが好ましく、このような比較的高い屈折率とするために、A2層は金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。
このような金属酸化物微粒子としては、屈折率が1.7〜2.8の金属酸化物からなる
微粒子が好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニ
ウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチ
モン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO
)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素
ドープ酸化錫等が挙げられる。これらの中でも、酸化ジルコニウムあるいは酸化チタンが
好ましく用いられる。これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用して
もよい。A2層に含有させる金属酸化物微粒子としては、特に酸化ジルコニウムあるいは酸化チタンが好ましく用いられる。
微粒子が好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニ
ウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチ
モン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO
)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素
ドープ酸化錫等が挙げられる。これらの中でも、酸化ジルコニウムあるいは酸化チタンが
好ましく用いられる。これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用して
もよい。A2層に含有させる金属酸化物微粒子としては、特に酸化ジルコニウムあるいは酸化チタンが好ましく用いられる。
A2層における金属酸化物微粒子の含有量は、A2層の固形分総量100質量%に対して30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、特に50質量%以上が好ましい。上限の含有量は、90質量%以下が好ましく、85質量%以下が好ましい。
A2層は、上記した金属酸化物微粒子と樹脂を含有することが好ましい。このような樹脂としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。ここで、活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。
活性エネルギー線硬化性樹脂を得るための重合性化合物としては、前述のA1層に用いられる重合性化合物と同様の化合物を用いることができる。
A2層は、上記した金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化性樹脂とを含有する活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成されたものであることが好ましい。
活性エネルギー線硬化性組成物における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、10〜65質量%の範囲が好ましく、15〜60質量%の範囲がより好ましく、特に20〜55質量%の範囲が好ましい。
活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。光
重合開始剤としては、前述のA1層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、0.5〜10質量%の範囲が適当である。
重合開始剤としては、前述のA1層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、0.5〜10質量%の範囲が適当である。
活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合すること
ができる。例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、粒子分散剤、レベリング剤、帯電防止剤
などを含有させることができる。
ができる。例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、粒子分散剤、レベリング剤、帯電防止剤
などを含有させることができる。
また、活性エネルギー線硬化性組成物は、更に上記高屈折率樹脂を含有することができ
る。
る。
[第2色調補正層]
第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、条件2(0nm≦(λa−λb)≦200nm)を満足させる必要がある。このためには、λbは、260〜320nmの範囲が好ましく、280〜300nmの範囲がより好ましい。
第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、条件2(0nm≦(λa−λb)≦200nm)を満足させる必要がある。このためには、λbは、260〜320nmの範囲が好ましく、280〜300nmの範囲がより好ましい。
第2色調補正層におけるλbを上記範囲とするには、第2色調補正層は、少なくともB1層およびB2層を含み、B2層はB1層より基材フィルム側に位置する構成とすることが好ましい。つまり、「基材フィルム/B2層/B1層」の構成であることが好ましい。
ここで、B1層は屈折率が1.55以下でかつ膜厚が70nm未満であることが好ましく、B2層は屈折率が1.65〜1.85で膜厚50nm未満であることが好ましい。
B1層の屈折率は、透明導電膜の「骨見え」抑制の観点から、更に1.54以下が好ましく、1.53以下がより好ましい。B1層の屈折率の下限は特に限定されないが、B1層の屈折率を小さくするためには、低屈折率材料(低屈折率無機粒子やフッ素化合物)を比較的多量に含有させる必要があり、その結果、B1層の透明性が低下したり、膜物性(強度)が低下するなどの不都合が生じることがあることから、B1層の屈折率の下限は1.35以上が好ましく、1.40以上がより好ましく、1.43以上が更に好ましく、特に1.45以上が好ましい。
B1層の膜厚は、更に透明導電膜の「骨見え」を抑制するという観点から、60nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、45nm以下が特に好ましい。B1層の膜厚の下限は、上記観点から、20nm以上が好ましく、25nm以上がより好ましく、30nm以上が更に好ましく、35nm以上が特に好ましい。
B2層の屈折率は、透明導電膜の「骨見え」抑制の観点から、更に1.67以上が好ましく、1.69以上がより好ましい。
B2層の屈折率の上限は、1.85以下が好ましく、1.80以下がより好ましく、1.78以下が特に好ましい。B2層は後述するように、高屈折率材料である金属酸化物微粒子と樹脂を含有させた層であることが好ましいが、このようなB2層の屈折率を、1.85を超えて大きくするには多量の金属酸化物微粒子を含有させる必要があり、その結果、B2層の透明性が低下したり、膜強度が低下したり、あるいは塗布性が低下するなどの不都合な問題が発生することがある。
B2層の屈折率は、基材フィルムの屈折率より0.03以上大きいことが好ましく、0.04以上大きいことがより好ましく、0.05以上大きいことが特に好ましい。上記差の上限は0.20以下が好ましく、0.15以下がより好ましく、0.10以下が特に好ましい。これによって、更に透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が向上する。
B2層の膜厚は、透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、更に45nm以下が好ましく、40nm以下が特に好ましい。下限の膜厚は、上記観点から20nm以上が好ましく、25nm以上がより好ましく、30nm以上が特に好ましい。
第2色調補正層は、更に、基材フィルムとB2層との間にB3層を含むことが好ましい。つまり、「基材フィルム/B3層/B2層/B1層」の構成であることが好ましい。
B3層は屈折率が1.48〜1.80でかつ膜厚が0.1μm以上であることが好ましい。
第2色調補正層がB3層を含むことにより、透明導電膜の視認性の向上を図りながら、ベースフィルムの耐擦傷性の向上効果や基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制効果が得られる。
B3層の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させるという観点および基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制するという観点から、0.1μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましく、0.5μm以上が特に好ましい。B3層の膜厚の上限は、透明導電膜の視認性、B3層のクラックの発生、ベースフィルムのカール性等の観点から、3μm以下が好ましく、2.5μm以下がより好ましく、特に2μm以下が好ましい。
[B1層の形成]
B1層は、スパッタリング等のドライプロセスで形成された無機膜であってもよいし、ウェットコーティング法で形成された樹脂含有層であってもよい。
B1層は、スパッタリング等のドライプロセスで形成された無機膜であってもよいし、ウェットコーティング法で形成された樹脂含有層であってもよい。
B1層は、後者の樹脂含有層であることが好ましい。樹脂含有層をウェットコーティング法で形成する方法は、無機膜をドライプロセスで形成する方法に比べて生産効率に優れること、また後述のB2層やB3層と同一生産工程で生産できることから生産設備の統一化によるコストダウンが図られる。
上記したようにB1層は、樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。また、B1層は、樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂を併用することができる。この場合の活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂の比率(質量比)は、95:5〜50:50の範囲が適当である。
上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述のA1層と同様の樹脂を用いることができる。
B1層における樹脂の含有量は、B1層の固形分総量100質量%に対して30質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましく、60質量%以上が特に好ましい。上限は99質量%以下が好ましく、98質量%以下がより好ましい。
B1層は、屈折率を1.55以下に調整するために、低屈折率無機粒子や含フッ素化合物を含有することができる。低屈折率無機粒子および含フッ素化合物はそれぞれ単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。
低屈折率無機粒子および含フッ素化合物としては、前述のA1層と同様の材料を用いることができる。B1層が低屈折率無機粒子を含有する場合の含有量は、B1層の固形分総量100質量%に対して1〜45質量%の範囲が好ましく、3〜35質量%の範囲がより好ましく、特に5〜30質量%の範囲が好ましい。
B1層が含フッ素化合物を含有する場合の含有量は、B1層の固形分総量100質量%に対して1〜50質量%の範囲が好ましく、5〜45質量%の範囲がより好ましく、特に10〜40質量%の範囲が好ましい。
B1層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、B1層は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述のA1層と同様の光重合開始剤を用いることができる。
B1層における光重合開始剤の含有量は、B1層の固形分総量100質量%に対して0.1〜10質量%の範囲が適当であり、0.5〜8質量%の範囲が好ましい。
B1層の好ましい一つの態様として、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を含有する態様が挙げられる。かかるオリゴマー型光重合開始剤は、光重合開始性能(光によりラジカルを発生させる基)を有する繰り返し単位を2〜50有する化合物である。この繰り返し単位は、側鎖に光ラジカル発生基を有するものが好ましく、かかる光ラジカル発生基としては公知の光ラジカル発生剤に由来する官能基を用いることができる。
本発明に用いることができるオリゴマー型光重合開始剤の代表例として、例えば、下記の一般式(1)に示す化合物が挙げられる。
式中、Yは直鎖状又は分岐状の3価の炭化水素基を表す。R1、R2はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、R1とR2は相互に結合して環を形成してもよい。nは2〜50の整数を表す。
Yの直鎖状又は分岐状の3価の炭化水素基の炭素数は、特に制限されないが、2〜10が好ましく、2〜6がより好ましく、特に2〜3が好ましい。R1及びR2の直鎖状又は分岐状のアルキル基の炭素数は、特に制限されないが、1〜8が好ましく、1〜5がより好ましく、特に1〜3が好ましい。nは2〜30が好ましく、2〜20がより好ましく、2〜10が特に好ましい。
上記の一般式(1)の中でも、下記一般式(2)の化合物が好ましく用いられる。
式中、R3は水素原子またはメチル基を表す。R1、R2およびnは一般式(1)と同義である。
また、一般式(1)、(2)において、オリゴマー型光重合開始剤の繰り返し単位の連鎖部の末端は、置換基が結合されている。置換基としては、オリゴマー重合開始剤に由来する基であってもよいし、オリゴマー重合停止剤に由来する基であってもよいが、通常は水素原子、炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロへプチル基、シクロオクチル基およびこれ等のアルキル基置換体などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、およびそのアルキル基置換体等が挙げられる。
上記の一般式(1)、(2)で表されるオリゴマー型光重合開始剤の具体例としては、ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−ビニル−フェニル〕プロパノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−エチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−エチル−1−〔4−ビニル−フェニル〕プロパノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕ブタノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−ビニル−フェニル〕ブタノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−エチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕ブタノン]、ポリ[2−ヒドロキシ−2−エチル−1−〔4−ビニル−フェニル〕ブタノン]等が挙げられる。
上記の一般式(1)、(2)で表されるオリゴマー型光重合開始剤は、一般に市販されており入手することができる。例えば、ランベルティ社製の商品名「エザキュアワン」、「エザキュアKIP150」、「エザキュアKIP65LT」、「エザキュアKIP100F」、「エザキュアKT37」、「エザキュアKT55」、「エザキュアKTO46」、「エザキュアKIP75/B」等を挙げることができる。
また、オリゴマー型光重合開始剤として、特開2011−99974号公報に開示されている光ラジカル発生基を有するエチレン性不飽和化合物(同公報の式(2)〜式(7)の化合物)を重合して得られた化合物を用いることができる。
B1層におけるオリゴマー型光重合開始剤の含有量は、B1層の固形分総量100質量%に対して0.1〜10質量%の範囲が適当であり、0.5〜8質量%の範囲が好ましい。
B1層がオリゴマー型光重合開始剤を含有することの効果として以下の点が挙げられる。
オリゴマー型光重合開始剤は、前述した単量体の光重合開始剤に比べて昇華性が低いので、B1層を塗布した後の乾燥工程(溶剤等加熱蒸発させる工程)の乾燥温度(加熱温度)を高くすることができる。
活性エネルギー線硬化性樹脂と光重合開始剤を含有するB1層は、一般に基材フィルム上に塗布され、乾燥工程で乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化されることによって形成される。この製造過程の中で、乾燥工程での乾燥温度を高くすると、B1層中の光重合開始剤が昇華し減少することにより硬化が十分に行われないことがある。しかし、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を用いることによって、上記課題が軽減される。
B1層の乾燥工程での乾燥温度を高くすることによって、後工程(透明導電膜の製膜工程)に不利となる揮発成分(水分、有機溶剤、低分子量成分等)を、B1層あるいは基材フィルムとB1層の間に配置される他の層(例えば、B2層やB3層)から蒸発させることができる。
このような揮発成分がベースフィルムに比較的多く存在すると、透明導電膜の製膜工程において真空度の調整に必要以上の時間を要したり、あるいは透明導電膜の結晶化が安定的に行われないなどの不都合な問題が起こることがある。
B1層の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも活性エネルギー線硬化性樹脂、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物(B1層の塗布液)を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。
塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、前述のA1層と同様の塗布方法を用いることができる。
基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、50〜120℃の範囲が一般的である。
塗布組成物に含有される光重合開始剤として前述のオリゴマー型光重合開始剤を用いた場合は、乾燥温度(乾燥工程における最高乾燥温度)を130℃以上とすることが好ましい。このように、乾燥温度を高くすることにより、前述したように揮発成分(水分、有機溶剤、低分子量成分)を、B1層あるいは基材フィルムとB1層の間に配置される他の層(例えば、B2層やB3層)から蒸発させることができる。
塗布組成物がオリゴマー型光重合開始剤を含有する場合の乾燥温度(乾燥工程における最高乾燥温度)は、上記したように揮発成分を蒸発させると言う観点から、更に140℃以上が好ましく、特に150℃以上が好ましい。乾燥温度(乾燥工程における最高乾燥温度)の上限は200℃以下が好ましく、190℃以下がより好ましい。
基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、B1層が形成される。
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
紫外線の照射光量は、50mJ/cm2以上が好ましく、100mJ/cm2以上がより好ましく、特に150mJ/cm2以上が好ましい。上限は2000mJ/cm2以下が好ましく、1000mJ/cm2以下がより好ましい。
[B2層の形成]
B2層は、屈折率が1.65〜1.85であることが好ましく、このような比較的高い屈折率とするために、B2層は、金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物微粒子としては、前述のA2層と同様の金属酸化物微粒子を用いることができる。
B2層は、屈折率が1.65〜1.85であることが好ましく、このような比較的高い屈折率とするために、B2層は、金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物微粒子としては、前述のA2層と同様の金属酸化物微粒子を用いることができる。
B2層における金属酸化物微粒子の含有量は、B2層の固形分総量100質量%に対して20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が特に好ましく、45質量%以上が最も好ましい。上限は90質量%以下が好ましく、85質量%以下がより好ましく、特に80質量%以下が好ましい。
B2層は、樹脂を含有することがこのましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述のA1層と同様の樹脂を用いることができる。
B2層における樹脂の含有量は、B2層の固形分総量100質量%に対して20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が特に好ましい。上限は90質量%以下が好ましく、85質量%以下がより好ましい。
B2層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、B2層は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述のA1層と同様の光重合開始剤を用いることができる。
B2層における光重合開始剤の含有量は、B2層の固形分総量100質量%に対して0.1〜10質量%の範囲が適当であり、0.5〜8質量%の範囲が好ましい。
[B1層およびB2層の積層方法]
B1層とB2層とを、それぞれウェットコーティングにより塗布して積層する場合、B1層とB2層とをそれぞれ別々に塗布して積層してもよいし、同時に積層塗布してもよいし、あるいは1つの塗布液を1回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成してもよい。
B1層とB2層とを、それぞれウェットコーティングにより塗布して積層する場合、B1層とB2層とをそれぞれ別々に塗布して積層してもよいし、同時に積層塗布してもよいし、あるいは1つの塗布液を1回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成してもよい。
B1層とB2層とをそれぞれ別々に塗布して積層する方法は、B2層をウェットコーティングし、乾燥および硬化せしめて形成した後、B1層をウェットコーティングし、乾燥および硬化せしめて形成する方法である。B1層とB2層の形成は、別々の工程で行ってもよいし、1つの工程で連続的に行ってもよい。
B1層とB2層とをウェットコーティング法により同時に積層塗布する方法は、同時に積層塗布が可能なコーティング方法、例えば、多層スロットダイコーター、多層スライドビードコーター、エクストルージョン型ダイコーター等を用いてB1層とB2層とを同時に積層塗布し、乾燥および硬化せしめる方法である。
1つの塗布液を1回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成する方法は、例えば、特開2008−7414号公報、特開2008−7415号公報、特開2009−58954号公報、特開2009−75576号公報、特開2009−198748号公報、特開2010−39417号公報、特開2010−196043号公報、特開2010−215746号公報、特開2011−84710号公報、特開2012−31325号公報、特開2013−36394号公報等に記載されており、これらの方法を参照して用いることができる。
[B3層の形成]
B3層は、樹脂を含有することがこのましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
B3層は、樹脂を含有することがこのましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述のA1層と同様の樹脂を用いることができる。
B3層における樹脂の含有量は、B3層の固形分総量100質量%に対して20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が特に好ましい。上限は90質量%以下が好ましく、85質量%以下がより好ましい。
B3層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、B3層は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述のA1層と同様の化合物を用いることができる。
B3層における光重合開始剤の含有量は、B3層の固形分総量100質量%に対して0.1〜10質量%の範囲が適当であり、0.5〜8質量%の範囲が好ましい。
B3層は、更に粒子を含有することが好ましい。B3層が粒子を含有することにより、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムの耐ブロッキング性が向上する。かかる粒子の平均粒子径(r:μm)は、B3層の膜厚(d:μm)に対する比率(r/d)が、0.02〜0.50の範囲が好ましい。このような粒子をB3層に含有させることにより、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムのヘイズ値を上昇させることなく耐ブロッキング性の向上が図られる。
かかる粒子としては、有機粒子および無機粒子の中から適宜選択して用いることができる。例えば、有機粒子としては、アクリル粒子、ポリスチレン粒子、シリコーン粒子など、無機粒子としては、シリカ粒子などが好ましく用いられる。
B3層におけるシリカ粒子の含有量は、B3層の固形分総量100質量%に対して1〜30質量%の範囲が好ましく、3〜25質量%の範囲がより好ましく、5〜20質量%の範囲が特に好ましい。
[基材フィルム]
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、かかる材料として、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と称することがある。)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど)、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。このポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、かかる材料として、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と称することがある。)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど)、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。このポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は、通常1.61〜1.70の範囲であり、このような屈折率を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを基材フィルムとして用いることにより、前述の第1色調補正層および第2色調補正層との組み合わせにより、上記した効果(透明導電膜の視認性の向上(「骨見え」抑制)、および全光線透過率の向上)が得られやすくなる。
上記観点から、基材フィルムの屈折率は、更に1.62〜1.69の範囲が好ましく、1.63〜1.68の範囲がさらに好ましく、1.64〜1.67の範囲が特に好ましい。
基材フィルムの厚みは、20〜300μmの範囲が適当であるが、剛性、強度、加工性等の観点から、50μm以上が好ましく、75μm以上がより好ましい。基材フィルムの上限の厚みは300μm以下が好ましく、250μm以下がより好ましく、200μm以下が特に好ましい。
[易接着層]
基材フィルムは、第1色調補正層が積層される面および第2色調補正層が積層される面に、それぞれ易接着層が設けられていることが好ましい。基材フィルムと第1色調補正層との間、および基材フィルムと第2色調補正層との間に、それぞれ易接着層を介在させることにより、基材フィルムと第1色調補正層および第2色調補正層との密着力が向上する。
基材フィルムは、第1色調補正層が積層される面および第2色調補正層が積層される面に、それぞれ易接着層が設けられていることが好ましい。基材フィルムと第1色調補正層との間、および基材フィルムと第2色調補正層との間に、それぞれ易接着層を介在させることにより、基材フィルムと第1色調補正層および第2色調補正層との密着力が向上する。
易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量100質量%に対して樹脂を50質量%以上含むことが好ましく、60質量%以上含むことがより好ましく、70質量%以上含むことが特に好ましく、80質量%以上含むことが最も好ましい。上限は99質量%以下が好ましく、98質量%以下がより好ましく、特に95質量%以下が好ましい。
このような樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。
易接着層の厚みは、10〜200nmの範囲が好ましく、15〜150nmの範囲がより好ましく、20〜120nmの範囲が特に好ましい。
また、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、易接着層の屈折率は、第1色調補正層および第2色調補正層の干渉縞を抑制するという観点から、1.55〜1.70の範囲が好ましく、1.57〜1.66の範囲がより好ましく、1.58〜1.65の範囲が特に好ましい。
易接着層の屈折率を上記範囲に調整するには、樹脂としてナフタレン環を有するポリエステル樹脂やフルオレン環を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。また、前述した屈折率が1.65以上である金属酸化物粒子を含有させることによって、易接着層の屈折率を上記範囲に調整することができる。
[ベースフィルム]
本発明にかかるベースフィルムは、基材フィルムの一方の面に第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に第2色調補正層を有する。
本発明にかかるベースフィルムは、基材フィルムの一方の面に第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に第2色調補正層を有する。
第1色調補正層は、少なくともA1層含むことが好ましく、更にA2層を含むことが好ましい。
第2色調補正層は、少なくともB1層およびB2層を含むことが好ましく、更にB3層を含むことが好ましい。
本発明にかかるベースフィルムの好ましい構成は、「A1層/基材フィルム/B2層/B1層」であり、更に好ましい構成は、「A1層/基材フィルム/B3層/B2層/B1層」であり、特に好ましい構成は、「A1層/A2層/基材フィルム/B3層/B2層/B1層」である。ここで、基材フィルムの両面にはそれぞれ易接着層が設けられていることが好ましい。
本発明におけるベースフィルムの全光線透過率は90%以上が好ましく、91%以上がより好ましく、92%以上が特に好ましい。全光線透過率は高いほど好ましく、上限は特に限定されないが、現実的には98%程度である。
また、ベースフィルムの透過色は無彩色であることが好ましく、L*a*b*表色系で示されるa*及びb*はそれぞれ、−1.0以上0.5以下であることが好ましく、−0.5以上0.2以下であることがより好ましく、−0.3以上0.0以下であることが特に好ましい。
[透明導電性フィルム]
透明導電性フィルムは、前述のベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
透明導電性フィルムは、前述のベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネルと静電容量式タッチパネルが主流であるが、本発明の透明導電性フィルムはいずれのタッチパネルにも用いることができる。特に、本発明の透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。
静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部(透明導電膜がエッチングされずに残存している部分(導電部))と非パターン部(透明導電膜がエッチングされて除去された部分(非導電部))との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。
また、ベースフィルムで発生する干渉縞も透明導電膜の視認性低下の原因となっている。
これらの透明導電膜の視認性低下の問題(特に「骨見え」の問題)は、本発明のベースフィルムを用いることにより解決する。
透明導電性フィルムは、全光線透過率が85%以上であることが好ましく、87%以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが、現実的には98%程度である。このような透明導電性フィルムは、本発明のベースフィルムを用いることによって得ることができる。
例えば、本発明のベースフィルムの第2色調補正層の上に、透明導電膜としてITO膜(膜厚25nm)を積層して得られた透明導電性フィルムの全光線透過率は、ベースフィルムの全光線透過率に対して、0.2〜2%程度低下することを確認している。従って、透過率の高いベースフィルムを用いることによって、透過率の高い透明導電性フィルムが得られる。なお、以下の実施例および比較例においても、透明導電性フィルムの透過率は、ベースフィルムの透過率から0.2〜2%低下するに留まった。
[透明導電膜]
透明導電膜の表面抵抗値は、タッチパネル用途であることに鑑みて、1000Ω/□以下が好ましく、500Ω/□以下がより好ましく、200Ω/□以下が特に好ましい。下限の表面抵抗値は、10Ω/□程度である。
透明導電膜の表面抵抗値は、タッチパネル用途であることに鑑みて、1000Ω/□以下が好ましく、500Ω/□以下がより好ましく、200Ω/□以下が特に好ましい。下限の表面抵抗値は、10Ω/□程度である。
上記観点(表面抵抗値を小さくするという観点)から、透明導電膜の厚みは、10nm以上が好ましく、15nm以上がより好ましく、20nm以上が特に好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると視認性が低下したり、透明性が低下するなどの不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、50nm以下が好ましく、40nm以下がより好ましく、35nm以下が特に好ましい。
上記したように、透明導電膜の表面抵抗値を小さくするために、透明導電膜の厚みを大きくすると、視認性が低下する(特に「骨見え」が起こりやすくなる)。
従って、本発明のベースフィルムは、厚みが20nm以上でパターン化された透明導電膜の場合に、その「骨見え」を有効に抑制することができる。
透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO(酸化インジウム錫)、ATO(酸化アンチモン錫)などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもITOが好ましく用いられる。
透明導電膜の屈折率は1.81以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率は1.85以上が好ましく、1.90以上がより好ましい。上限は2.20以下が好ましく、2.10以下がより好ましい。
透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
透明導電膜はパターン化されていることが好ましい。透明導電膜のパターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開2006−344163号公報、特開2011−128896号公報等に開示されているパターンが挙げられる。
透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
[測定方法および評価方法]
(1)第1色調補正層の最小反射率波長(λa)の測定
得られたベースフィルムの第2色調補正層側の面を#320〜400の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、第1色調補正層の面の波長380〜780nmにおける反射スペクトルを、島津製作所(株)の分光光度計UV−3150を用いて測定した。次に、上記得られた反射スペクトルから、波長380〜780nmにおける最小反射率波長(λa)を求めた。
(1)第1色調補正層の最小反射率波長(λa)の測定
得られたベースフィルムの第2色調補正層側の面を#320〜400の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、第1色調補正層の面の波長380〜780nmにおける反射スペクトルを、島津製作所(株)の分光光度計UV−3150を用いて測定した。次に、上記得られた反射スペクトルから、波長380〜780nmにおける最小反射率波長(λa)を求めた。
(2)第2色調補正層の最小反射率波長(λb)の測定
得られたベースフィルムの第1色調補正層側の面を#320〜400の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、第2色調補正層の面の波長200〜780nmにおける反射スペクトルを、島津製作所(株)の分光光度計UV−3150を用いて測定した。次に、上記得られた反射スペクトルから、波長200〜780nmにおける最小反射率波長(λb)を求めた。
得られたベースフィルムの第1色調補正層側の面を#320〜400の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、第2色調補正層の面の波長200〜780nmにおける反射スペクトルを、島津製作所(株)の分光光度計UV−3150を用いて測定した。次に、上記得られた反射スペクトルから、波長200〜780nmにおける最小反射率波長(λb)を求めた。
(3)ベースフィルムの全光線透過率の測定
JIS K 7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−2000」を用いて測定した。測定に際し、ベースフィルムの第2色調補正層の表面に光が入射するように配置した。
JIS K 7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−2000」を用いて測定した。測定に際し、ベースフィルムの第2色調補正層の表面に光が入射するように配置した。
(4)ベースフィルムの透過色の測定
分光光度計(島津製作所製の「UV3150PC」)を用いて、波長380〜780nmの透過率を測定し、C光源における透過色(JIS Z8781−4:2013において規定されているa*、b*)を求めた。
分光光度計(島津製作所製の「UV3150PC」)を用いて、波長380〜780nmの透過率を測定し、C光源における透過色(JIS Z8781−4:2013において規定されているa*、b*)を求めた。
(5)屈折率の測定1
各層を形成するための塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で589nmの屈折率を測定した。この塗工形成した塗膜の屈折率をもって各層の屈折率とする。よって、下記の実施例および比較例における各層の屈折率の値は、ここで測定した屈折率の値である。
各層を形成するための塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で589nmの屈折率を測定した。この塗工形成した塗膜の屈折率をもって各層の屈折率とする。よって、下記の実施例および比較例における各層の屈折率の値は、ここで測定した屈折率の値である。
(6)屈折率の測定2
基材フィルム(PETフィルム)の屈折率は、JIS K7105(1981)に準じて、アッベ屈折率計で589nmの屈折率を測定した。
基材フィルム(PETフィルム)の屈折率は、JIS K7105(1981)に準じて、アッベ屈折率計で589nmの屈折率を測定した。
(7)屈折率の測定その3(透明導電膜の屈折率)
透明導電膜を、屈折率が既知のPETフィルム上に実際の積層条件と同条件で所定の厚み(例えば25nm)となるように積層して屈折率測定用サンプルを作製した。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄の反射率と膜厚をそれぞれ測定した。このようにして得られた反射率、膜厚、およびPETフィルムの屈折率とから、透明導電膜の屈折率を算出した。
透明導電膜を、屈折率が既知のPETフィルム上に実際の積層条件と同条件で所定の厚み(例えば25nm)となるように積層して屈折率測定用サンプルを作製した。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄の反射率と膜厚をそれぞれ測定した。このようにして得られた反射率、膜厚、およびPETフィルムの屈折率とから、透明導電膜の屈折率を算出した。
上記反射率は、透明導電膜が積層された面とは反対側のPETフィルム面に#320〜400の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所(株)の分光光度計UV−3150を用いて550nmの反射率を測定する。
透明導電膜の厚みは、下記(8)の方法にて測定する。
(8)第1色調補正層、第2色調補正層及び透明導電膜の厚みの測定
ベースフィルムの断面を超薄切片に切り出し、TEM(透過型電子顕微鏡)で加速電圧100kVにて観察(1〜30万倍の倍率で観察)し、その断面写真から厚みを測定する。尚、表面に粒子もしくは粒子集合体の突起を有する層については、突起が存在しない部分における厚みである。厚みの測定は5箇所で行い、その平均値を厚みとした。
ベースフィルムの断面を超薄切片に切り出し、TEM(透過型電子顕微鏡)で加速電圧100kVにて観察(1〜30万倍の倍率で観察)し、その断面写真から厚みを測定する。尚、表面に粒子もしくは粒子集合体の突起を有する層については、突起が存在しない部分における厚みである。厚みの測定は5箇所で行い、その平均値を厚みとした。
(9)易接着層の厚みの測定
易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、RuO4染色、OsO4 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、TEM(透過型電子顕微鏡)で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。尚、測定個所は粒子が存在しない部分である。なお、5箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置:透過型電子顕微鏡(日立(株)製 H−7100FA型)
・測定条件:加速電圧 100kV
・試料調整:凍結超薄切片法
・倍率:30万倍。
易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、RuO4染色、OsO4 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、TEM(透過型電子顕微鏡)で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。尚、測定個所は粒子が存在しない部分である。なお、5箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置:透過型電子顕微鏡(日立(株)製 H−7100FA型)
・測定条件:加速電圧 100kV
・試料調整:凍結超薄切片法
・倍率:30万倍。
(10)透明導電膜の表面抵抗値の測定
パターン化する前の透明導電膜の表面抵抗値を、株式会社三菱アナリテック製の抵抗率計(AX MCP−T370、ASPプローブ MCP−TP03P)を用いて測定した。
パターン化する前の透明導電膜の表面抵抗値を、株式会社三菱アナリテック製の抵抗率計(AX MCP−T370、ASPプローブ MCP−TP03P)を用いて測定した。
測定は10cm×10cmのサンプルの無作為に選択した5箇所について行い、平均した。
(11)透明導電膜のパターンの視認性(「骨見え」)の評価
黒い板の上に、透明導電性フィルムを透明導電膜が上になるように置いて、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
○(最良):パターン部が視認できない。
△(良好):パターン部が僅かに視認できる。
×(不良):パターン部が明確に視認できる。
黒い板の上に、透明導電性フィルムを透明導電膜が上になるように置いて、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
○(最良):パターン部が視認できない。
△(良好):パターン部が僅かに視認できる。
×(不良):パターン部が明確に視認できる。
[原料]
《易接着層の塗布組成物》
易接着層形成用塗布液として下記の2種類の塗布液を用意した。
《易接着層の塗布組成物》
易接着層形成用塗布液として下記の2種類の塗布液を用意した。
<易接着層形成用塗布液b1>
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、酸化ジルコニウムを60質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は1.65であった。
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、酸化ジルコニウムを60質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は1.65であった。
<ナフタレン環含有のポリエステル樹脂>
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸 35モル%
2,6−ナフタレンジカルボン酸 9モル%
5−Naスルホイソフタル酸 6モル%
・グリコール成分
エチレングリコール 49モル%
ジエチレングリコール 1モル%。
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸 35モル%
2,6−ナフタレンジカルボン酸 9モル%
5−Naスルホイソフタル酸 6モル%
・グリコール成分
エチレングリコール 49モル%
ジエチレングリコール 1モル%。
<易接着層形成用塗布液b2>
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は1.58であった。
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を100質量部、メラミン系架橋剤(メチロール型メラミン系架橋剤(三和ケミカル(株)製の「ニカラック MW12LF」))を15質量部、平均粒子径が190nmのコロイダルシリカを1質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は1.58であった。
<A1層の塗布組成物>
(塗布組成物c1)
無機微粒子として中空シリカを固形分で55質量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートを42質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イ
ルガキュア907)3質量部を、有機溶媒(イソプロピルアルコール)に溶解・分散して
調製した。この塗布組成物の屈折率は1.35であった。
(塗布組成物c1)
無機微粒子として中空シリカを固形分で55質量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートを42質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イ
ルガキュア907)3質量部を、有機溶媒(イソプロピルアルコール)に溶解・分散して
調製した。この塗布組成物の屈折率は1.35であった。
(塗布組成物c2)
無機微粒子として中空シリカを固形分で45質量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートを52質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イ
ルガキュア907)3質量部を、有機溶媒(イソプロピルアルコール)に溶解・分散して
調製した。この塗布組成物の屈折率は1.38であった。
無機微粒子として中空シリカを固形分で45質量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートを52質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イ
ルガキュア907)3質量部を、有機溶媒(イソプロピルアルコール)に溶解・分散して
調製した。この塗布組成物の屈折率は1.38であった。
<A2層の塗布組成物>
(塗布組成物d1)
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート13質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)34質量部)47質量部、酸化ジルコニウム50質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.65であった。
(塗布組成物d1)
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート13質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)34質量部)47質量部、酸化ジルコニウム50質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.65であった。
(塗布組成物d2)
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート16質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)38質量部)54質量部、酸化ジルコニウム43質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.62であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート16質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)38質量部)54質量部、酸化ジルコニウム43質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.62であった。
(塗布組成物d3)
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)30質量部)40質量部、酸化ジルコニウム57質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.68であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)30質量部)40質量部、酸化ジルコニウム57質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶剤(メチイソブチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.68であった。
<B1層の塗布組成物>
(塗布組成物e1)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを78質量部、含フッ素化合物として(ダイキン工業(株)製のフッ素樹脂「AR110」)を20質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])2質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.48であった。
(塗布組成物e1)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを78質量部、含フッ素化合物として(ダイキン工業(株)製のフッ素樹脂「AR110」)を20質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])2質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.48であった。
(塗布組成物e2)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを68質量部、含フッ素化合物として(ダイキン工業(株)製のフッ素樹脂「AR110」)を30質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])2質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.46であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを68質量部、含フッ素化合物として(ダイキン工業(株)製のフッ素樹脂「AR110」)を30質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])2質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.46であった。
(塗布組成物e3)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを97質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])3質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.52であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを97質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤(ランベルティ社製のエザキュアワン;ポリ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパノン])3質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.52であった。
<B2層の塗布組成物>
(塗布組成物f1)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート37質量部、酸化ジルコニウム60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.70であった。
(塗布組成物f1)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート37質量部、酸化ジルコニウム60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.70であった。
(塗布組成物f2)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート43質量部、酸化ジルコニウム54質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.67であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート43質量部、酸化ジルコニウム54質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.67であった。
(塗布組成物f3)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート37質量部、酸化チタン60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.75であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート37質量部、酸化チタン60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.75であった。
(塗布組成物f4)
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート27質量部、酸化チタン70質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.80であった。
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート27質量部、酸化チタン70質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)3質量部を有機溶媒(プロピレングリコールモノエチルエーテル)に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は1.80であった。
<B3層の塗布組成物>
(塗布組成物g1)
活性エネルギー線硬化性樹脂として(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート42質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)41質量部)83質量部、下記の表面処理シリカ粒子分散液を固形分換算で12質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.51であった。
(塗布組成物g1)
活性エネルギー線硬化性樹脂として(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート42質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)の「UN−901T」)41質量部)83質量部、下記の表面処理シリカ粒子分散液を固形分換算で12質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア(登録商標)184」)5質量部を有機溶剤(メチルイソブチルケトン)に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は1.51であった。
<表面処理シリカ粒子分散液>
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル IPA−ST−ZL」、平均粒子径0.13μm)330質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)8質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)2質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加した。次に、この分散液にシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行って分散液を得た。
コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル IPA−ST−ZL」、平均粒子径0.13μm)330質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)8質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)2質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5質量部加え混合した後に、イオン交換水9質量を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加した。次に、この分散液にシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行って分散液を得た。
[実施例1]
下記の要領でベースフィルムを作製した。
下記の要領でベースフィルムを作製した。
<ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の作製>
実質的に外部添加粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面(第1面)に易接着層の塗布液b1、他方の面(第2面)に易接着層の塗布液b2をそれぞれ塗布した。
実質的に外部添加粒子を含有しないPETペレット(極限粘度0.63dl/g)を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融し、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面(第1面)に易接着層の塗布液b1、他方の面(第2面)に易接着層の塗布液b2をそれぞれ塗布した。
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布液が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度75℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて110℃に上げ、再度90℃で乾燥した後、引き続き連続的に120℃の加熱ゾーンで幅方向に3.5倍延伸し、続いて220℃の加熱ゾーンで20秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸PETフィルムを作製した。このPETフィルム(易接着層積層PETフィルム)は、両面に易接着層を有するPETフィルムである。
このPETフィルムの厚みは100μm、第1面に設けられた易接着層の厚みは20nm、第2面に設けられた易接着層の厚みは80nmであった。
PETフィルムの屈折率は1.65、第1面の易接着層の屈折率は1.65、第2面の易接着層の屈折率は1.58であった。
尚、PETフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したPETフィルムの屈折率を測定し、その値をPETフィルムの屈折率とした。
<ベースフィルムの作製>
上記で作製したPETフィルムの第2面の易接着層上に、B3層、B2層およびB1層をこの順で積層し、次いでPETフィルムの第1面の易接着層上にA1層を積層してベースフィルムを作製した。
上記で作製したPETフィルムの第2面の易接着層上に、B3層、B2層およびB1層をこの順で積層し、次いでPETフィルムの第1面の易接着層上にA1層を積層してベースフィルムを作製した。
<B3層の積層>
上記で作製したPETフィルムの第2面の易接着層上に、塗布組成物g1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を500mJ/cm2照射し硬化させてB3層を形成した。このB3層は、厚み1.0μm、屈折率が1.51であった。
上記で作製したPETフィルムの第2面の易接着層上に、塗布組成物g1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を500mJ/cm2照射し硬化させてB3層を形成した。このB3層は、厚み1.0μm、屈折率が1.51であった。
なお、B3層に含まれるシリカ粒子の平均粒子径(r:μm)は0.13μmで、シリカ粒子の含有量はB3層の固形分総量100質量%に対して12質量%である。B3層の膜厚(d:μm)に対するシリカ粒子の平均粒子径(r:μm)の比率(r/d)は、0.13である。
<B2層の積層>
上記で積層したB3層の上に、塗布組成物f1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を350mJ/cm2照射し硬化させてB2層を形成した。このB2層は、厚みが30nm、屈折率が1.70であった。
上記で積層したB3層の上に、塗布組成物f1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を350mJ/cm2照射し硬化させてB2層を形成した。このB2層は、厚みが30nm、屈折率が1.70であった。
<B1層の積層>
上記で積層したB2層の上に、塗布組成物e1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、150℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を350mJ/cm2照射し硬化させてB1層を形成した。このB1層は、厚みが50nm、屈折率が1.48であった。
上記で積層したB2層の上に、塗布組成物e1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、150℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を350mJ/cm2照射し硬化させてB1層を形成した。このB1層は、厚みが50nm、屈折率が1.48であった。
<A1層の積層>
PETフィルムの第1面の易接着層の上に、塗布組成物c1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を350mJ/cm2照射し硬化させてA1層を形成した。このA1層は、厚みが80nm、屈折率が1.35であった。
PETフィルムの第1面の易接着層の上に、塗布組成物c1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を350mJ/cm2照射し硬化させてA1層を形成した。このA1層は、厚みが80nm、屈折率が1.35であった。
<透明導電性フィルムの作成>
上記で作成したベースフィルムのB1層の上に、透明導電膜としてITO膜を厚みが25nmとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのITO膜のみをストライプ状にパターン加工(エッチング処理)して、透明導電性フィルムを得た。透明導電膜の屈折率は2.00、表面抵抗値は100Ω/□であった。
上記で作成したベースフィルムのB1層の上に、透明導電膜としてITO膜を厚みが25nmとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのITO膜のみをストライプ状にパターン加工(エッチング処理)して、透明導電性フィルムを得た。透明導電膜の屈折率は2.00、表面抵抗値は100Ω/□であった。
[比較例1]
実施例1において、A1層を積層しないこと以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、A1層を積層しないこと以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[実施例2〜5および比較例2、3]
実施例1において、A1層の膜厚を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、A1層の膜厚を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[実施例6]
実施例1において、A1層の塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、A1層の塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[実施例7、8および比較例4]
実施例1において、B1層の膜厚を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、B1層の膜厚を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[実施例9、10]
実施例1において、B1層の塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、B1層の塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[実施例11〜13]
実施例1において、B2層の塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、B2層の塗布組成物を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[実施例14、15および比較例5]
実施例1において、B2層の膜厚を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、B2層の膜厚を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[比較例6〜9]
実施例1において、A1層、B1層及びB2層の膜厚をそれぞれ表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、A1層、B1層及びB2層の膜厚をそれぞれ表1に示すように変更する以外は、実施例1と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[比較例10]
第1色調補正層として、従来のハードコート層に相当する下記のハードコート層を積層する以外は、実施例1と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。このとき、易接着層積層PETフィルムとして、PETフィルムの両面に易接着層塗布液b2(屈折率1.58)が乾燥厚み80nmでそれぞれ積層されたものを用いた。
第1色調補正層として、従来のハードコート層に相当する下記のハードコート層を積層する以外は、実施例1と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。このとき、易接着層積層PETフィルムとして、PETフィルムの両面に易接着層塗布液b2(屈折率1.58)が乾燥厚み80nmでそれぞれ積層されたものを用いた。
<ハードコート層の積層>
市販のハードコート剤(JSR(株)製 オプスター(登録商標)Z7534;固形分濃度60質量%)を、固形分濃度が45質量%になるようにメチルエチルケトンで希釈してハードコート層用塗工液とした。この塗工液をグラビアコーターで、易接着層積層PETフィルムの一方の面(第1面)に塗工し、90℃で乾燥後、紫外線500mJ/cm2を照射して硬化させ、厚みが1.0μmのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は1.51であった。
市販のハードコート剤(JSR(株)製 オプスター(登録商標)Z7534;固形分濃度60質量%)を、固形分濃度が45質量%になるようにメチルエチルケトンで希釈してハードコート層用塗工液とした。この塗工液をグラビアコーターで、易接着層積層PETフィルムの一方の面(第1面)に塗工し、90℃で乾燥後、紫外線500mJ/cm2を照射して硬化させ、厚みが1.0μmのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は1.51であった。
[評価]
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムの両面から測定した最小反射率波長(λaおよびλb)、ベースフィルムの全光線透過率と透過色、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表1、評価結果を表2に示す。
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムの両面から測定した最小反射率波長(λaおよびλb)、ベースフィルムの全光線透過率と透過色、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表1、評価結果を表2に示す。
本発明の実施例のベースフィルムは、透過色の着色が抑えられ且つ全光線透過率が向上しており、これらのベースフィルムを用いた透明導電性フィルムはいずれも、透明導電膜の視認性(パターン化された透明導電膜の「骨見え」)が良好である。
一方、比較例1は、第1色調補正層を塗布していないため、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)が780nm以上であり、全光線透過率が低下している。
比較例2は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)が380nm未満であり、全光線透過率が低下している。
比較例3は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)が500nmより大きいので、透過色が着色している。
比較例4、5は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)と第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λb)の差が200nmより大きく、透過色が着色している。
比較例6,7は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)と第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λb)の差が100nmより小さく、透過色が着色している。
比較例8,9は、第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)と第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λb)の差が200nmより大きく、透過色が着色している。
比較例10は、層第1色調補正層(ハードコート層)を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長(λa)が500nmより高く、透過色が着色しており、透過率が低下している。
[実施例16]
実施例1において、第1面の易接着層とA1層の間に下記のA2層を設けたこと以外は、実施例1と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例1において、第1面の易接着層とA1層の間に下記のA2層を設けたこと以外は、実施例1と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
<A2層の積層>
実施例1と同様にして作製したPETフィルムの第1面の易接着層上に、塗布組成物d1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を500mJ/cm2照射し硬化させてA2層を形成した。このA2層は、厚み1.0μm、屈折率が1.65であった。
実施例1と同様にして作製したPETフィルムの第1面の易接着層上に、塗布組成物d1をウェットコーティング法(グラビアコート法)により塗布して、90℃(最高温度)で乾燥後、紫外線を500mJ/cm2照射し硬化させてA2層を形成した。このA2層は、厚み1.0μm、屈折率が1.65であった。
[実施例17、18]
実施例16において、A2層の塗布組成物を表3に示すように変更する以外は、実施例16と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
実施例16において、A2層の塗布組成物を表3に示すように変更する以外は、実施例16と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
[評価]
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムの両面から測定した最小反射率波長、ベースフィルムの透過色、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表3、評価結果を表4に示す。
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムの両面から測定した最小反射率波長、ベースフィルムの透過色、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表3、評価結果を表4に示す。
Claims (7)
- 基材フィルムの一方の面に、第1色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第2色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第1色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長380〜780nmの領域における最小反射率波長をλa、前記第2色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長200〜780nmの領域における最小反射率波長をλbとしたとき、下記条件1および条件2を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
(条件1)380nm≦λa≦500nm
(条件2)100nm≦(λa−λb)≦200nm - 前記第1色調補正層は少なくともA1層を含み、A1層は屈折率が1.40以下でかつ膜厚が70〜90nmである、請求項1に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
- 前記第1色調補正層は、さらにA2層を含み、A2層はA1層より基材フィルム側に位置し、A2層は屈折率が1.61以上1.70未満でかつ膜厚が0.1μm以上である、請求項2に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
- 前記第2色調補正層は、少なくともB1層およびB2層を含み、B2層はB1層より基材フィルム側に位置し、B1層は屈折率が1.55以下でかつ膜厚が70nm未満であり、B2層は屈折率が1.65〜1.85で膜厚50nm未満である、請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
- 前記第2色調補正層は、更に、基材フィルムとB2層との間にB3層を含み、B3層は屈折率が1.48〜1.80でかつ膜厚が0.1μm以上である、請求項4に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの第2色調補正層の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
- 前記透明導電膜がパターン化されている、請求項6に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
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JP2015048041A JP2016170467A (ja) | 2015-03-11 | 2015-03-11 | タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルム |
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KR20200050047A (ko) * | 2018-10-31 | 2020-05-11 | 에스케이씨하이테크앤마케팅(주) | 유색의 투명 전도성 필름 |
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2015
- 2015-03-11 JP JP2015048041A patent/JP2016170467A/ja active Pending
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KR102567452B1 (ko) * | 2018-10-31 | 2023-08-17 | 에스케이마이크로웍스솔루션즈 주식회사 | 유색의 투명 전도성 필름 |
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