WO2012117933A1 - フィルム表面処理方法及び装置 - Google Patents
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- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
Definitions
- the present invention relates to a method and apparatus for surface-treating a resin-made processed film, and more particularly to a film surface-treating method and apparatus suitable for processing to improve adhesion durability of a protective film of a polarizing plate.
- a polarizing plate is mounted on the liquid crystal display device.
- the polarizing plate includes a polarizing film and a protective film.
- the polarizing film is made of a resin film containing polyvinyl alcohol (PVA) as a main component (hereinafter referred to as "PVA film”).
- the protective film is made of a resin film containing triacetate cellulose (TAC) as a main component (hereinafter referred to as "TAC film”).
- TAC film triacetate cellulose
- As an adhesive for bonding these films a water based adhesive such as polyvinyl alcohol or polyether is used.
- the PVA film has good adhesion to the above adhesive, but the TAC film has poor adhesion. So, in patent documents 1 and 2, after forming a thin film of a polymerizable monomer in the surface of a protective film before the above-mentioned adhesion process, atmospheric pressure plasma is irradiated.
- Bonding durability is insufficient only by plasma polymerization treatment of the polymerizable monomer.
- the plasma-polymerized film is a water-soluble polymer such as polyacrylic acid, the adhesive strength tends to be reduced in a high temperature, high humidity environment.
- the method of the present invention is a film surface treatment method for treating the surface of a resin-made treated film, A first treatment step of bringing a first gas containing a vaporized polymerizable monomer into contact with the film to be treated; After the first treatment step or in parallel with the first treatment step, the second gas containing the discharge produced gas is plasmatized (including excitation, activation, radicalization, ionization and the like) to form the target film.
- a second treatment process to be brought into contact After the second treatment step, a third treatment step of bringing a third gas containing a vaporized polymerizable monomer into contact with the film to be treated; After the third processing step or in parallel with the third processing step, a fourth processing step of plasmatizing a fourth gas containing a discharge generated gas and bringing the fourth gas into contact with the film to be treated; And the third gas or the fourth gas further contains an additive, and the additive is an oxygen gas, a hydrogen gas, a saturated hydrocarbon gas, or an unsaturated hydrocarbon gas, or a crosslinking accelerator. It is characterized by
- a first plasma polymerized film formed by plasma polymerization of the polymerizable monomer in the first gas is formed on the surface of the film to be treated. While the polymerization degree of the first plasma-polymerized film is increased by the third processing step and the fourth processing step, the second plasma-polymerized film formed by plasma-polymerizing the polymerizable monomer in the third gas is the first plasma-polymerized film. It is formed by laminating on a plasma polymerization film.
- hydrophobization or crosslinking including high molecular weight formation
- the reactivity (adhesion) of the plasma-polymerized membrane to the adhesive is improved. Therefore, the water resistance of the plasma polymerized film can be improved.
- the plasma-polymerized film is a water-soluble polymer such as polyacrylic acid, its water resistance can be reliably ensured.
- the adhesion durability of the film to be treated can be improved.
- the bonding durability refers to the degree to which the bonding strength does not decrease after the object after bonding is exposed to a high humidity and high temperature wet heat environment.
- the apparatus of the present invention is a film surface treatment apparatus for treating the surface of a resin-made treated film, A support portion for supporting the film to be treated; A first processing unit for performing a process of bringing a first gas containing a vaporized polymerizable monomer into contact with the film to be treated; A second processing unit that performs processing for plasmatizing a second gas containing a discharge generated gas and bringing the second gas into contact with the film to be treated; A third processing unit for performing a process of bringing a third gas containing a vaporized polymerizable monomer into contact with the film to be treated; A fourth processing unit that performs processing to plasmatize a fourth gas containing a discharge generated gas and bring it into contact with the film to be treated; Transport means for transporting the film to be processed in the order of the first processing unit, the second processing unit, the third processing unit, and the fourth processing unit; And the third gas or the fourth gas further contains an additive, and the additive is an oxygen gas, a hydrogen gas, a saturated hydrocarbon gas,
- the first treated portion can form a first condensed layer composed of the polymerizable monomer in the first gas on the surface of the film to be treated.
- the film to be treated is conveyed to the second treatment unit by the conveyance means, and the first condensation layer is plasma-polymerized by the second treatment unit to form a first plasma polymerization film on the surface of the treatment film.
- the to-be-treated film is conveyed to the third processing unit by the conveying means, and the third condensing unit forms the second condensed layer composed of the polymerizable monomer in the third gas on the surface of the to-be-treated film.
- a second condensation layer can be formed which is a mixture of the polymerizable monomer and the additive component in the third gas.
- the film to be treated is transported to the fourth processing unit by the transport means, and the polymerization degree of the first plasma polymerized film is increased by the fourth processing unit, and the second condensation layer is plasma polymerized to form the second plasma.
- a polymerized film can be laminated onto the first plasma polymerized film.
- the supporting portion includes metal first, second and third rolls arranged parallel to one another, the film to be treated is wound around these rolls, and the first rolls are rotated by rotation of these rolls.
- the second roll and the third roll are sent in this order.
- the first processing unit includes a first nozzle that blows the first gas while facing the circumferential surface of the first roll.
- the second processing unit includes a second nozzle for blowing the second gas into a gap between the first roll and the second roll, and the first and second rolls are in the vicinity of atmospheric pressure between each other. It is preferable to configure a pair of electrodes that generate a discharge.
- the third processing unit includes a third nozzle that blows the third gas while facing the circumferential surface of the second roll.
- the fourth processing unit includes a fourth nozzle for blowing out the fourth gas into the gap between the second roll and the third roll, and the second and third rolls are in the vicinity of atmospheric pressure between each other. It is preferable to configure a pair of electrodes that generate a discharge.
- the first gas is sprayed from the first nozzle onto the film to be treated on the circumferential surface of the first roll.
- the second gas can be plasmatized at the gap between the two rolls to irradiate the film to be treated.
- the third gas may be sprayed from the third nozzle onto the film to be treated on the circumferential surface of the second roll, and then the fourth gas may be plasmatized at the gap between the second and third rolls to irradiate the film to be treated.
- the three rolls also serve as the transport means.
- the first roll is provided as a definition unit that defines a first processing space of the first processing unit.
- the first roll and the second roll are provided as a defining unit that defines a pair of electrodes for plasmatizing the second gas and a second processing space of the second processing unit.
- the second roll is provided as a definition unit that defines a third processing space of the third processing unit.
- the second roll and the third roll are provided as a definition unit that defines a fourth processing space of the pair of electrodes for plasmatizing the fourth gas and the fourth processing unit.
- the surface treatment of the present invention is preferably performed near atmospheric pressure.
- near the atmospheric pressure means a range of 1.013 ⁇ 10 4 to 50.663 ⁇ 10 4 Pa, and in consideration of facilitation of pressure adjustment and simplification of the device configuration, 1.333 ⁇ 10 4 to 10.664 ⁇ 10 4 Pa is preferable, and 9.331 ⁇ 10 4 to 10.397 ⁇ 10 4 Pa is more preferable.
- the film to be treated is preferably an optical resin film having poor adhesion.
- the present invention is suitable for improving the adhesion and adhesion durability of the poorly adhesive optical resin film when the poorly adhesive optical resin film is adhered to the easily adhesive optical resin film.
- As a main component of the said poorly adhesive optical resin film for example, triacetate cellulose (TAC), polypropylene (PP), polyethylene (PE), cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), polyimide (PI) and the like.
- TAC triacetate cellulose
- PP polypropylene
- PE polyethylene
- COP cycloolefin polymer
- COC cycloolefin copolymer
- PET polyethylene terephthalate
- PMMA polymethyl methacrylate
- PI polyimide
- the said to-be-processed film is more preferably a T
- Examples of the main component of the easily adhesive optical resin film include polyvinyl alcohol (PVA) and ethylene vinyl acetate copolymer (EVA).
- PVA polyvinyl alcohol
- EVA ethylene vinyl acetate copolymer
- the polymerizable monomer of the first gas and the polymerizable monomer of the third gas are preferably the same polymerizable monomer, but may be different polymerizable monomers.
- Examples of the polymerizable monomer of the first and third gases include a monomer having an unsaturated bond and a predetermined functional group.
- the predetermined functional group is preferably selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an acetyl group, a glycidyl group, an epoxy group, an ester group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfone group, and an aldehyde group. Hydrophilic groups are preferred.
- Examples of the monomer having an unsaturated bond and a hydroxyl group include ethylene glycol methacrylate, allyl alcohol and hydroxyethyl methacrylate.
- Examples of the monomer having an unsaturated bond and a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, 2-methacryloyl propionic acid and the like.
- Examples of the monomer having an unsaturated bond and an acetyl group include vinyl acetate and the like.
- Examples of the monomer having an unsaturated bond and a glycidyl group include glycidyl methacrylate and the like.
- examples include butyl, t-butyl methacrylate, isopropyl methacrylate, 2-ethyl methacrylate and the like.
- Examples of the monomer having an unsaturated bond and an aldehyde group include acrylic aldehyde and crotonaldehyde.
- the said polymerizable monomer may be a water-soluble monomer and an olefin type monomer.
- the water-soluble monomer include acetaldehyde, vinyl alcohol, acrylic acid (AA), methacrylic acid, styrene sulfonic acid, acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-dimethylamide and the like.
- olefin monomer 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-cyclopentene, 1-cyclohexene, 1-cycloheptene, 1-cyclooctene, cyclopentadiene, dicyclopentadiene (DCPD) Etc.
- DCPD dicyclopentadiene
- the polymerizable monomer of the first gas in particular, has high affinity to the film to be treated when plasma polymerization is performed.
- the polymerizable monomer of the first gas and the polymerizable monomer of the third gas are more preferably acrylic acid or methacrylic acid, and still more preferably acrylic acid.
- the first gas and the second gas do not contain the additive component.
- the additive component is a compound different from the polymerizable monomer, and exhibits an action such as hydrophobization, crosslinking of the plasma polymer of the polymerizable monomer, or promotion of reactivity with an adhesive. preferable.
- the fourth gas preferably contains an oxygen gas, a hydrogen gas, a saturated hydrocarbon gas, or an unsaturated hydrocarbon gas as the additive component.
- these additive components are considered to induce actions such as hydrophobization, crosslinking of the plasma polymer of the polymerizable monomer, or promotion of reactivity with an adhesive in the fourth treatment step.
- the volume concentration of oxygen in the fourth gas is preferably 500 ppm to 3000 ppm. Desired adhesion durability can be ensured by setting the oxygen concentration to 500 ppm or more. By controlling the oxygen concentration to 3000 ppm or less, it is possible to prevent the polymerization reaction of the polymerizable monomer from being inhibited.
- the volume concentration of hydrogen in the fourth gas is preferably 500 ppm to 10000 ppm. Desired adhesion durability can be secured by setting the hydrogen concentration to 500 ppm or more. When the hydrogen concentration exceeds 8000 ppm to 10000 ppm, the degree of improvement in adhesion durability is saturated. By setting the hydrogen concentration to 10000 ppm or less, desired adhesion durability can be obtained and the amount of hydrogen gas used can be saved.
- saturated hydrocarbon methane, ethane, propane, butane etc. are mentioned.
- unsaturated hydrocarbon include ethylene and acetylene.
- the fourth gas may contain methane, ethylene, or acetylene as the additional component. It is believed that unsaturated hydrocarbons such as acetylene particularly contribute to the crosslinking of the plasma polymer.
- the additive component is a crosslinking accelerator
- the additive component is a compound different from the polymerizable monomer in the first gas and the polymerizable monomer in the third gas.
- the crosslinking accelerator include diallyl compounds, diamine compounds, glycidyl compounds, and hydroxy compounds. These compounds are known as crosslinking promoters, and are considered to particularly contribute to the crosslinking of the plasma polymer and the promotion of the reactivity with the adhesive.
- the crosslinking accelerator as the additive component is preferably contained in the third gas.
- diallyl compounds examples include diallylamine, diallyl maleate, allyl methacrylate and the like. Ethylene diamine etc. are mentioned as a diamine compound.
- glycidyl compounds include allyl glycidyl ether and glycidyl methacrylate.
- hydroxy compound hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate and the like can be mentioned.
- the first gas or the third gas may include a carrier gas for transporting the polymerizable monomer.
- the carrier gas is preferably selected from inert gases such as nitrogen, argon, helium and the like. From the economical point of view, it is preferable to use nitrogen as a carrier gas.
- polymerizable monomers such as acrylic acid and methacrylic acid are liquid phase at normal temperature and pressure.
- Such polymerizable monomers may be vaporized into a carrier gas such as an inert gas.
- a carrier gas such as an inert gas.
- an extrusion method of extruding saturated vapor on the liquid surface of the polymerizable monomer with the carrier gas As a method of vaporizing the polymerizable monomer in the carrier gas, an extrusion method of extruding saturated vapor on the liquid surface of the polymerizable monomer with the carrier gas, a bubbling method of bubbling the carrier gas in the polymerizable monomer liquid, a polymerizable monomer liquid And a heating method for promoting evaporation.
- the extrusion method and the heating method, or the bubbling method and the heating method may be used in combination.
- a part of the carrier gas may be introduced into the vaporizer, and the remaining part may not be passed through the vaporizer, and the part and the remaining part of the carrier gas may be merged downstream of the vaporizer.
- the concentration of the polymerizable monomer in the first gas or the third gas can be adjusted by the temperature of the vaporizer or the distribution ratio of the above part and the rest of the carrier gas.
- the polymerizable monomer having a boiling point of 300 ° C. or less in consideration of the load on the heater.
- the crosslinking accelerator in the third gas or the fourth gas When the crosslinking accelerator in the third gas or the fourth gas is in a liquid phase at normal temperature and pressure, the crosslinking accelerator may be vaporized in a carrier gas such as an inert gas.
- a carrier gas such as an inert gas.
- an extrusion method of extruding saturated vapor on the liquid surface of the crosslinking accelerator with the carrier gas As a method of vaporizing the crosslinking accelerator into the carrier gas, an extrusion method of extruding saturated vapor on the liquid surface of the crosslinking accelerator with the carrier gas, a bubbling system of bubbling the carrier gas into the liquid of the crosslinking accelerator, a crosslinking accelerator And a heating method for promoting evaporation by heating the solution.
- the extrusion method and the heating method, or the bubbling method and the heating method may be used in combination.
- a part of the carrier gas may be introduced into the vaporizer, and the remaining part may not be passed through the vaporizer, and the part and the remaining part of the carrier gas may be merged downstream of the vaporizer.
- the concentration of the crosslinking accelerator in the third gas or the fourth gas can be adjusted by the temperature of the vaporizer or the distribution ratio of the above part and the rest of the carrier gas.
- the crosslinking accelerator when the crosslinking accelerator is contained in the third gas, after mixing the polymerizable monomer in the liquid phase and the crosslinking accelerator in the liquid phase, the liquid mixture may be vaporized, and the polymerizable monomer in the liquid phase and the liquid phase After the crosslinking accelerator is vaporized separately from each other, the vaporized polymerizable monomer may be mixed with the vaporized crosslinking accelerator.
- the third gas contains the additive component
- the polymerizable monomer of the third gas and the additive component may be mixed on the surface of the film to be treated.
- the fourth gas contains the additive component
- the discharge produced gas of the fourth gas and the additive component may be mixed on the surface of the film to be treated.
- Examples of the discharge produced gas of the second gas and the discharge produced gas of the fourth gas include inert gases such as nitrogen (N 2 ) and rare gases (Ar, Ne, He, etc.).
- the discharge produced gas may be a mixed gas of a plurality of discharge produced gas components.
- the discharge produced gas of the second gas and the discharge produced gas of the fourth gas may be the same gas or may be different gases.
- the adhesion durability of the film to be treated can be improved.
- FIG. 1 It is a side view which shows the film surface treatment apparatus concerning a 1st embodiment of the present invention. It is a perspective view of the principal part of the said film surface processing apparatus.
- the surface treatment process of 1st Embodiment is shown, (a) is sectional drawing of the to-be-processed film after a 1st process process, (b) is sectional drawing of the to-be-processed film after a 2nd process process. (C) is a cross-sectional view of the film to be treated after the third treatment process, and (d) is a cross-sectional view of the film to be treated after the fourth treatment process. It is sectional drawing which shows a part of polarizing plate.
- FIG. 1 is a side view which shows the film surface treatment apparatus concerning a 2nd embodiment of the present invention.
- the surface treatment process of 2nd Embodiment is shown, (a) is sectional drawing of the to-be-processed film after a 1st process process, (b) is sectional drawing of the to-be-processed film after a 2nd process process.
- (C) is a cross-sectional view of the film to be treated after the third treatment process, and (d) is a cross-sectional view of the film to be treated after the fourth treatment process.
- FIG. 4 shows a polarizing plate PF.
- the polarizing plate PF includes a polarizing film 7 and a protective film 9. A polarizing film 7 is sandwiched between two protective films 9. Each protective film 9 and the polarizing film 7 are pasted together via an adhesive 8.
- the polarizing film 7 is comprised by the PVA film which contains a polyvinyl alcohol (PVA) as a main component.
- PVA polyvinyl alcohol
- As the adhesive 8 a PVA-based adhesive such as a PVA aqueous solution is used.
- the PVA-based adhesive may contain known additive components that enhance adhesion.
- the protective film 9 is made of a TAC film containing triacetate cellulose (TAC) as a main component. The thickness of the film 9 is, for example, about 100 ⁇ m.
- TAC triacetate cellulose
- the adhesion promoting film 80 is coated on the surface of the TAC film 9 on the adhesive 8 side.
- the adhesion promoting film 80 has a laminated structure of two plasma polymerization films 81 and 82.
- the first plasma polymerized film 81 is made of a plasma polymer of acrylic acid (polymerizable monomer) and is in contact with the TAC film 9.
- the second plasma-polymerized film 82 is made of a plasma polymer of acrylic acid, and is provided with properties such as water resistance and high reactivity with the adhesive 8.
- the second plasma polymerized film 82 is in contact with the adhesive 8.
- FIG. 1 shows a film surface treatment apparatus 1 for forming an adhesion promoting film 80 on a TAC film 9 (hereinafter, appropriately referred to as “treated film 9”).
- the film surface processing apparatus 1 includes a support unit 10, a first processing unit 91, a second processing unit 92, a third processing unit 93, and a fourth processing unit 94.
- the TAC film 9 to be processed is in the form of a continuous film.
- the film to be processed 9 is supported by the support portion 10.
- the first processing unit 91 performs a process of bringing the first gas g1 into contact with the film 9 to be processed (first processing step).
- the second processing unit 92 converts the second gas g2 into a plasma (including excitation, activation, radicalization, ionization, etc.) after the processing of the first processing unit 91 or in parallel with the processing of the first processing unit 91.
- the film to be processed 9 is brought into contact with it (second processing step).
- the first plasma polymerized film 81 is formed.
- the third processing unit 93 brings the third gas g3 into contact with the film 9 to be processed (third processing step).
- the fourth processing unit 94 converts the fourth gas g4 into plasma to be in contact with the processing target film 9 after the processing of the third processing unit 93 or concurrently with the processing of the third processing unit 93 (fourth processing step).
- the second plasma polymerized film 82 is formed. Further details will be described below.
- the support unit 10 includes three main rolls 11, 12 and 13 and guide rolls 16 and 17.
- the main rolls 11 to 13 are cylindrical bodies having the same diameter and the same axial length. At least the outer peripheral portion of the rolls 11 to 13 is made of metal, and the outer peripheral surface of the outer peripheral portion made of the metal is coated with a solid dielectric layer.
- the axis of each of the rolls 11, 12 and 13 is oriented in the horizontal direction (hereinafter referred to as "processing width direction") orthogonal to the paper surface of FIG.
- processing width direction orthogonal to the paper surface of FIG.
- the thicknesses of the gap 92a between the left first roll 11 and the center second roll 12 and the gaps 92a and 94a between the center second roll 12 and the right third roll 13 are mutually different. equal.
- the thickness of the narrowest portion of the gaps 92a and 94a is, for example, about 1 mm to several mm.
- the rolls 11 to 13 also serve as electrodes for generating plasma discharge of the film surface processing apparatus 1.
- a power supply is connected to the central roll 12 and the left and right rolls 11 and 13 are electrically grounded. Instead of this, power may be connected to the left and right rolls 11 and 13, respectively, and the central roll 12 may be electrically grounded.
- the power supply outputs, for example, high frequency power of pulse wave form.
- a plasma discharge is generated between the left roll 11 and the center roll 12 under a pressure close to the atmospheric pressure, and the gap 92a becomes a discharge space close to the atmospheric pressure.
- a plasma discharge is generated between the central roll 12 and the right roll 13 under a pressure close to the atmospheric pressure, and the gap 94a becomes a discharge space close to the atmospheric pressure.
- a continuous sheet-like film to be processed 9 is supported by the support portion 10 with the width direction directed to the above-mentioned processing width direction (the direction orthogonal to the sheet of FIG. 1).
- the to-be-processed film 9 is wound around the upper peripheral surfaces of the three rolls 11, 12, 13 by about half a circumference.
- the film 9 covers the semi-peripheral portion including the upper circumferential surface of each of the rolls 11, 12 and 13 and the portion defining the gaps 92a and 94a.
- the film 9 to be treated between the rolls 11 and 12 hangs downward from the gap 92 a and is wound around the guide rolls 16 and 16.
- the to-be-processed film 9 between the gap 92a and the guide rolls 16 and 16 forms the folding
- the folded portion 9a has a triangular shape as viewed from the processing width direction.
- the to-be-processed film 9 between the rolls 12 and 13 is hung down from the gap 94 a and wound around the guide rolls 17 and 17.
- the to-be-processed film 9 between the gap 94a and the guide rolls 17 and 17 forms the folding
- the folded portion 9 b has a triangular shape as viewed from the processing width direction.
- a rotation mechanism is connected to each of the rolls 11, 12, and 13.
- the rotation mechanism includes a drive unit such as a motor and transmission means for transmitting the driving force of the drive unit to the shafts of the rolls 11, 12 and 13.
- the transmission means is constituted by, for example, a belt / pulley mechanism or a gear train.
- the rolls 11, 12, 13 are respectively rotated about their own axis and in the same direction (clockwise in FIG. 1) in synchronization with each other by the rotation mechanism. Ru.
- the to-be-processed film 9 is conveyed to the substantially right direction in order of the 1st roll 11, the 2nd roll 12, and the 3rd roll 13.
- the support portion 10 also serves as a transport unit for the film 9 to be processed.
- Each roll 11, 12, 13 is provided with temperature control means (not shown).
- the temperature control means is constituted of, for example, a temperature control path formed in the rolls 11, 12, 13.
- the rolls 11, 12, 13 can be temperature-controlled by flowing a medium such as temperature-controlled water through the temperature control path.
- the set temperature of the rolls 11, 12, 13 is preferably lower than the condensation temperature of the polymerizable monomer.
- the first processing unit 91 includes a supply unit 21 of a first gas g1 and a first nozzle 31.
- the first gas g1 contains a polymerizable monomer and a carrier gas.
- Acrylic acid AA is used as the polymerizable monomer.
- Nitrogen (N 2 ) is used as a carrier gas.
- the first gas supply unit 21 includes a vaporizer.
- liquid acrylic acid is vaporized into the carrier gas.
- the vaporization may be bubbling or extrusion.
- a first gas g1 is generated by mixing the vaporized acrylic acid and the carrier gas.
- the first gas g1 does not contain the additive components described later.
- the first gas supply unit 21 is connected to the first nozzle 31 via a gas passage 21c.
- the first nozzle 31 is disposed above the first roll 11.
- the first nozzle 31 extends long in the processing width direction, and has a certain width in the circumferential direction (left and right in FIG. 1) of the first roll 11.
- An outlet is provided on the lower surface of the first nozzle 31.
- the blowout ports are formed to be distributed in a wide range (in the processing width direction and the roll circumferential direction) of the lower surface of the first nozzle 31.
- the blowout surface (lower surface) of the first nozzle 31 faces the film 9 to be processed on the first roll 11.
- the first gas g1 from the first gas supply unit 21 is supplied to the first nozzle 31 through the first gas supply line 21c, and is uniformed by the straightening unit (not shown) in the first nozzle 31.
- the air is blown out from the outlet of the first nozzle 31.
- the blowoff flow of the first gas g1 is a flow uniformly distributed in the processing width direction.
- the gas path 21 c and the first nozzle 31 are provided with temperature control means (not shown).
- the temperature control means of the gas passage 21c is constituted by a ribbon heater or the like.
- the temperature control means of the first nozzle 31 is configured of a temperature control path through which the temperature control water passes.
- the set temperature of the gas passage 21c and the first nozzle 31 is higher than the condensation temperature of acrylic acid. This can prevent the acrylic acid from condensing in the gas passage 21c or the nozzle 31 before it is blown out from the nozzle 31.
- a shielding member 41 is provided at the bottom of the first nozzle 31.
- the shielding member 41 has an arc-shaped cross section along the circumferential direction of the first roll 11 and has a curved plate shape extending substantially the same length as the roll 11 in the processing width direction. Both end portions of the shielding member 41 in the arc direction (left and right in FIG. 1) extend in the circumferential direction of the first roll 11 more than the first nozzle 31.
- the circumferential length of the shielding member 41 in the arc direction (left and right in FIG. 1) is, for example, about 240 to 300 mm. In FIG. 1, the left end of the shielding member 41 is released. In FIG. 1, the right end of the shielding member 41 is in contact with or close to the closing member 51 described later.
- a first processing space 91 a is defined between the shielding member 41 and the first roll 11.
- the first roll 11 is provided as a definition unit of the first processing space 91 a in the first processing unit 91.
- the first processing space 91 a is a space having an arc shape in cross section along the upper peripheral surface of the first roll 11.
- the blowout port on the lower surface of the first nozzle 31 penetrates the shielding member 41 and is in communication with the first processing space 91 a.
- the first processing space 91 a is extended to both sides in the circumferential direction of the first roll 11 more than the first nozzle 31 by the shielding member 41.
- the left end of the first processing space 91 a is continuous with the outer space on the left side (the side opposite to the roll 12) of the roll 11.
- the right end of the first processing space 91 a is connected to the gap between the closing member 51 and the roll 11 described later.
- the first processing space 91a is narrow at the central portion in the arc direction (left and right in FIG. 1), and is slightly wider as it goes to both end portions in the arc direction.
- the thickness of the first processing space 91a is preferably about 1 mm to 10 mm.
- the thickness of the narrowest portion of the first processing space 91a is preferably, for example, about 1 mm.
- the thickness of the widest portion of the first processing space 91a is preferably, for example, about 10 mm.
- the thickness of the first processing space 91a may be constant over the entire area.
- the shielding member 41 may be separated into a portion on the upstream side and a portion on the downstream side of the rotation direction of the first roll 11 with the first nozzle 31 interposed therebetween, and the bottom surface of the first nozzle 31 is the first processing space It may face 91a directly.
- the second processing unit 92 includes a supply unit 22 for the second gas g 2 and a second nozzle 32.
- the second gas g2 contains a discharge generated gas. Nitrogen (N 2 ) is used as a discharge generated gas.
- the second gas does not contain the additive components described later.
- the second nozzle 32 is connected to the second gas supply unit 22.
- the second nozzle 32 is provided inside the triangular folded portion 9 a of the film 9 to be processed.
- the second nozzle 32 is elongated in the processing width direction, and a cross section orthogonal to the extending direction is tapered upward.
- the outlet at the upper end (tip) of the second nozzle 32 faces the inter-roll gap 92 a.
- the lower end of the gap 92 a is closed to some extent by the second nozzle 32.
- the blowoff flow of the second gas g2 is a flow uniformly distributed in the processing width direction.
- the gap 92 a constitutes a second processing space of the second processing unit 92.
- the rolls 11 and 12 are provided as a definition unit of the second processing space 92 a in the second processing unit 92.
- a temperature adjustment path (second gas temperature adjustment means) not shown is provided in the second nozzle 32.
- a temperature control medium such as water is passed through the temperature control path in the second nozzle 32.
- the set temperature of the second nozzle 32 is lower than the set temperature of the first nozzle 31, and preferably lower than the condensation temperature of acrylic acid (polymerizable monomer).
- a closing member 51 is disposed between the rolls 11 and 12 above the second processing space 92a.
- the closing member 51 is opposed to the second nozzle 32 across the second processing space 92a.
- the closing member 51 is elongated in the processing width direction, and a cross section orthogonal to the extending direction is tapered downward.
- the lower end (front end) of the closing member 51 faces the second processing space 92a.
- the upper end portion of the second processing space 92 a is closed to some extent by the closing member 51.
- the first processing space 91 a and the second processing space 92 a communicate with each other through a gap between the closing member 51 and the first roll 11.
- a nozzle having the same structure as that of the second nozzle 32 may be installed upside down with respect to the second nozzle 32, and the second gas g2 may be blown out from the nozzle 51. May be
- the third processing unit 93 includes a third gas supply unit 23 and a third nozzle 33.
- the third gas supply unit 23 supplies the third gas g3 to the third nozzle 33.
- the third gas g3 is composed of the same gas as the first gas g1. That is, the third gas g3 contains a polymerizable monomer and a carrier gas. Acrylic acid AA is used as the polymerizable monomer. Nitrogen (N 2 ) is used as a carrier gas.
- the third gas supply unit 23 includes a vaporizer.
- liquid acrylic acid is vaporized into the carrier gas.
- the vaporization may be bubbling or extrusion.
- a third gas g3 is generated by mixing the vaporized acrylic acid and the carrier gas.
- the first gas supply unit 21 and the third gas supply unit 23 may be configured by a common acrylic acid supply source.
- the third gas supply unit 23 is connected to the third nozzle 33 via a gas passage 23c.
- the third nozzle 33 is disposed above the second roll 12.
- the third nozzle 33 extends long in the processing width direction, and has a certain width in the circumferential direction (left and right in FIG. 1) of the second roll 12.
- a blowout port is provided on the lower surface of the third nozzle 33.
- the blowout ports are formed to be distributed in a wide range (the processing width direction and the roll circumferential direction) of the lower surface of the third nozzle 33.
- the blowout surface (lower surface) of the third nozzle 33 faces the film 9 to be processed on the second roll 12.
- the third gas g3 from the third gas supply unit 23 is supplied to the third nozzle 33 through the third gas supply line 23c, and is uniformed by the straightening unit (not shown) in the third nozzle 33. , And from the outlet of the third nozzle 33.
- the blowoff flow of the third gas g3 is a flow uniformly distributed in the processing width direction.
- the gas passage 23 c and the third nozzle 33 are provided with temperature control means (not shown).
- the temperature control means of the gas passage 23c is constituted by a ribbon heater or the like.
- the temperature control means of the third nozzle 33 is constituted by a temperature control path through which the temperature control water passes.
- the set temperature of the gas passage 23c and the third nozzle 33 is higher than the condensation temperature of acrylic acid. This can prevent the acrylic acid from condensing in the gas passage 23c or the nozzle 31 before it is blown out from the nozzle 33.
- a shielding member 43 is provided at the bottom of the third nozzle 33.
- the shielding member 43 has an arc-shaped cross section along the circumferential direction of the second roll 12 and is in the form of a curved plate extending substantially the same length as the roll 12 in the processing width direction. Both end portions of the shielding member 43 in the arc direction (left and right in FIG. 1) extend in the circumferential direction of the second roll 12 more than the third nozzle 33.
- the circumferential length of the shielding member 43 in the arc direction (left and right in FIG. 1) is, for example, about 240 to 300 mm.
- the end (the left in FIG. 1) of the shielding member 43 in the rotational direction of the roll 12 is in contact with or close to the side of the closing member 51.
- the downstream end (right in FIG. 1) of the shielding member 43 in the rotational direction of the roll 12 is in contact with or close to the closing member 52 described later.
- a third processing space 93 a is defined between the shielding member 43 and the second roll 12.
- the second roll 12 is provided as a definition unit of the third processing space 93 a in the third processing unit 93.
- the third processing space 93 a is an arc-shaped space in cross section along the upper circumferential surface of the second roll 12.
- the blowout port on the lower surface of the third nozzle 33 penetrates the shielding member 43 and is in communication with the third processing space 93a.
- the third processing space 93 a is extended to both sides in the circumferential direction of the second roll 12 more than the third nozzle 33 by the shielding member 43.
- the left end of the third processing space 93 a is connected to the second processing space 92 a via a gap between the closing member 51 and the roll 12.
- the right end of the third processing space 93 a is continuous with the gap between the closing member 52 and the roll 12.
- the third processing space 93a is narrow at the central portion in the arc direction (left and right in FIG. 1), and is slightly wider toward both end portions in the arc direction.
- the thickness of the third processing space 93a is preferably about 1 mm to 10 mm.
- the thickness of the narrowest portion of the third processing space 93a is preferably, for example, about 1 mm.
- the thickness of the widest portion of the third processing space 93a is preferably, for example, about 10 mm.
- the thickness of the third processing space 93a may be constant throughout.
- the shielding member 43 may be separated into the upstream side portion and the downstream side portion of the second roll 12 in the rotational direction with the third nozzle 33 interposed therebetween, and the bottom surface of the third nozzle 33 is the third processing space It may face 93a directly.
- the fourth processing unit 94 includes a supply unit 24 for the fourth gas g4 and a fourth nozzle 34.
- the fourth gas g4 contains a discharge generated gas and an additive component.
- the fourth gas supply unit 24 includes a supply unit 24a of a discharge generated gas and a supply unit 24b of an additive component.
- Nitrogen (N 2 ) is used as a discharge generated gas of the fourth gas g4.
- the additive component is oxygen (O 2 ), hydrogen (H 2 ), or a saturated hydrocarbon gas (C n H 2 n + 2 (nn1)), or an unsaturated hydrocarbon gas (C n H 2 n-2 (n 2) and C n H 2n (n ⁇ 2)).
- the additive component is mixed with the discharge generated gas.
- the fourth gas g4 is generated.
- the oxygen concentration in the fourth gas g4 is preferably 500 ppm to 3000 ppm (volume concentration).
- the concentration of hydrogen in the fourth gas g4 is preferably 500 ppm to 10000 ppm (volume concentration).
- a saturated hydrocarbon gas methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), propane (C 3 H 8 ), butane (C 4 H 10 ) and the like can be mentioned.
- the unsaturated hydrocarbon gas ethylene (C 2 H 4), acetylene (C 2 H 2), and the like.
- the concentration of the saturated hydrocarbon gas or the unsaturated hydrocarbon gas in the fourth gas g4 is preferably 100 ppm to 10000 ppm (volume concentration).
- the fourth nozzle 34 is connected to the fourth gas supply unit 24.
- the fourth nozzle 34 is provided inside the triangular folded portion 9 b of the film 9 to be processed.
- the fourth nozzle 34 is elongated in the processing width direction, and a cross section orthogonal to the extending direction is tapered upward.
- the outlet at the upper end (tip) of the fourth nozzle 34 faces the inter-roll gap 94 a.
- the lower end of the gap 94 a is closed to some extent by the fourth nozzle 34.
- the blowoff flow of the fourth gas g4 is a flow uniformly distributed in the processing width direction.
- the gap 94 a constitutes a fourth processing space of the fourth processing unit 94.
- the rolls 12 and 13 are provided as a definition unit of the fourth processing space 94 a in the fourth processing unit 94.
- a temperature adjustment path (fourth gas temperature adjustment means) not shown is provided in the fourth nozzle 34.
- a temperature control medium such as water is passed through the temperature control path in the fourth nozzle 34.
- the set temperature of the fourth nozzle 34 is lower than the set temperature of the third nozzle 33, and preferably lower than the condensation temperature of acrylic acid (polymerizable monomer).
- a closing member 52 is disposed between the rolls 12 and 13 above the fourth processing space 94a.
- the closing member 52 is opposed to the fourth nozzle 34 across the fourth processing space 94a.
- the closing member 52 is elongated in the treatment width direction, and a cross section orthogonal to the extending direction is tapered downward.
- the lower end (front end) of the closing member 52 faces the fourth processing space 94 a.
- the upper end portion of the fourth processing space 94 a is closed to some extent by the closing member 52.
- the third processing space 93 a and the fourth processing space 94 a are in communication with each other through a gap between the closing member 52 and the second roll 12.
- the fourth processing space 94 a is continued to the upper external space of the third roll 13 via the gap between the closing member 52 and the third roll 13.
- a nozzle having the same structure as the fourth nozzle 34 may be used as the closing member 52 and may be installed upside down with the fourth nozzle 34 so that the second gas g2 is blown out from the
- a to-be-processed film 9 made of a TAC film is wound around the main rolls 11 to 13 and the guide rolls 16 and 17 of the support portion 10.
- the rolls 11 to 13 are rotated clockwise in FIG. 1, and the film 9 to be processed is conveyed in the order of the first roll 11, the second roll 12 and the third roll 13 in the approximate right direction in FIG.
- the first processing unit 91 supplies the first gas g1 from the supply unit 21 to the nozzle 31.
- the first gas g1 is blown out from the nozzle 31 into the first processing space 91a.
- the first gas g1 contacts the surface of the film 9 to be processed in the first processing space 91a.
- the acrylic acid monomer in the first gas g1 condenses and adheres to the film 9 to be treated, and the surface of the film 9 to be treated is made of acrylic acid monomer.
- a condensed layer 83 is formed.
- the majority of the first gas g1 in the first processing space 91a flows toward the second processing space 92a along the transport direction of the film 9 to be processed.
- the shielding member 41 can suppress or prevent the first gas g1 from leaking to the outside, and the amount of acrylic acid attached to the processing target film 9 can be secured.
- the to-be-processed film 9 which passed through the said 1st process process with the rotation of the 1st roll 11 is conveyed by the 2nd process space 92a.
- the second processing unit 92 supplies the second gas g 2 from the supply unit 22 to the nozzle 32.
- the second gas g2 is blown out from the nozzle 32 into the second processing space 92a.
- power is supplied to the roll 12, a discharge near the atmospheric pressure is generated in the second processing space 92a, and nitrogen of the discharge generated gas is plasmatized.
- the nitrogen plasma contacts the surface of the film 9 to be processed in the second processing space 92a.
- the acrylic acid monomer of the first condensed layer 83 is plasma-polymerized, and the first plasma-polymerized film 81 made of polyacrylic acid is formed on the surface of the film 9 to be treated.
- Polyacrylic acid has a good affinity to TAC, reacts sufficiently with the surface molecules of TAC, and adheres.
- the first gas g1 and the second gas g2 do not contain the above-mentioned additive components, the purity of the polyacrylic acid of the first plasma polymerized film 81 can be increased, and the above-mentioned affinity can be sufficiently ensured.
- the to-be-processed film 9 is reciprocated in the second processing space 92 a by being folded back by the guide roll 16, and processed twice in the second processing unit 92.
- the to-be-processed film 9 which reciprocates the 2nd process space 92a is conveyed along the 2nd roll 12 to the 3rd process space 93a.
- the third gas g3 is supplied from the third gas supply unit 23 to the third nozzle 33.
- the third gas g3 is blown out from the third nozzle 33 into the third processing space 93a.
- the third gas g3 contacts the surface of the film 9 to be processed in the third processing space 93a.
- the acrylic acid monomer in the third gas g3 condenses and adheres to the film 9 to be treated, and the second plasma second film further comprising acrylic acid monomer on the first plasma polymerized film 81.
- the condensation layer 84 is formed.
- the majority of the third gas g3 in the third processing space 93a flows to the fourth processing space 94a side along the transport direction of the film 9 to be processed.
- the shielding member 43 can suppress or prevent the third gas g3 from leaking to the outside, and can secure the adhesion amount of acrylic acid.
- the to-be-processed film 9 which passed through the said 3rd process process with the rotation of the 2nd roll 12 is conveyed by the 4th process space 94a.
- the fourth processing unit 94 supplies the fourth gas g 4 from the fourth gas supply unit 24 to the fourth nozzle 34.
- the fourth gas g4 is blown out from the fourth nozzle 34 into the fourth processing space 94a.
- a discharge near the atmospheric pressure is generated by the power supply.
- the nitrogen and the additive component of the fourth gas g4 are plasmatized, and the plasmatized gas comes in contact with the surface of the processing film 9 in the fourth processing space 94a.
- the degree of polymerization of the first plasma polymerized film 81 can be increased.
- the acrylic acid monomer of the second condensed layer 84 is plasma-polymerized, and a second plasma-polymerized film 82 made of polyacrylic acid is laminated on the first plasma-polymerized film 81, An adhesion promoting film 80 is formed.
- the second plasma-polymerized film 82 is provided with hydrophobicity or the degree of crosslinking of the second plasma-polymerized film 82 is increased by the decomposition of the additive component and bonding to the polyacrylic acid.
- the water resistance of the adhesion promoting film 80 can be improved.
- the to-be-processed film 9 is reciprocated in the fourth processing space 94 a by being folded back by the guide roll 17, and processed twice in the fourth processing unit 94.
- the to-be-processed film 9 which reciprocates the 4th process space 94a is sent along the 3rd roll 13, and is carried out from the support part 10. As shown in FIG.
- the to-be-processed film 9 after surface treatment by the film surface treatment apparatus 1 is adhered to the PVA film 7 via the PVA-based adhesive 8 to produce a polarizing plate PF.
- the adhesion promoting film 80 is formed on the surface of the film 9 to be treated, the adhesive strength between the film 9 to be treated and the PVA adhesive 8 can be enhanced.
- the second plasma-polymerized film 82 of the adhesion promoting film 80 is hydrophobized or highly crosslinked, it has high water resistance. Therefore, the adhesion durability of the polarizing plate can be enhanced.
- the first plasma-polymerized film 81 has high purity of polyacrylic acid, it can sufficiently exhibit affinity with TAC. Therefore, the adhesion between the film to be treated 9 and the adhesion promoting film 80 can be secured. Thereby, the quality of the polarizing plate PF can be enhanced.
- FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention.
- the third gas supply unit 23 of the third processing unit 93 includes an acrylic acid supply unit 23a and an addition component supply unit 23b.
- the fourth gas supply unit 24 of the fourth processing unit 94 supplies only the discharge generated gas (N 2 ).
- the acrylic acid supply unit 23a is the same as the third gas supply unit 23 of the first embodiment (FIG. 1), and vaporizes liquid acrylic acid into a carrier gas (N 2 ).
- the additive component of the additive component supply unit 23 b is configured of a crosslinking accelerator.
- the crosslinking accelerator include diallyl compounds, diamine compounds, glycidyl compounds, and hydroxy compounds.
- diallyl compounds include diallylamine, diallyl maleate, allyl methacrylate and the like. Ethylene diamine etc. are mentioned as a diamine compound.
- glycidyl compounds include allyl glycidyl ether and glycidyl methacrylate.
- hydroxy compound hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate and the like can be mentioned.
- the additive component supply unit 23 b includes a vaporizer.
- the additive component is vaporized into a carrier gas by this vaporizer.
- the vaporization may be performed by an extrusion method or a bubbling method.
- Nitrogen (N 2 ) is used as a carrier gas.
- the third gas supply unit 23 mixes the vaporized additive component into the vaporized acrylic acid.
- the liquid acrylic acid may be mixed with the liquid additive and the mixture may be vaporized into a carrier gas. Thereby, the third gas g3 is generated.
- the third gas g3 contains a vapor of acrylic acid, a vapor of the additive component, and a carrier gas (N 2 ).
- the set temperature of the gas passage 23c and the third nozzle 33 is preferably higher than the condensation temperature of acrylic acid and the additive component. By this, it is possible to prevent the acrylic acid and the additive component from being condensed in the gas path 23c or the third nozzle 33 before the third nozzle 23 blows off.
- the set temperature of the rolls 11, 12, 13 is preferably lower than the condensation temperature of the acrylic acid and the additive.
- the set temperature of the fourth nozzle 34 is preferably lower than the condensation temperature of acrylic acid and the additive component.
- the first condensing layer 83 is formed on the surface of the film 9 to be processed in the first processing unit 91 (first processing step),
- the first condensation layer 83 is plasma-polymerized in the second processing unit 92 to form a first plasma-polymerized film 81 (second processing step).
- the third gas g3 is blown out from the third nozzle 33 into the third processing space 93a (third processing step).
- the vaporized component (acrylic acid + added component) in the third gas g 3 condenses and adheres to the film 9 to be treated, and is deposited on the first plasma polymerized film 81. Furthermore, a second condensation layer 86 is formed.
- the second condensation layer 86 is composed of a mixed solution of an acrylic acid monomer and an additive component (crosslinking accelerator).
- the fourth gas g4 is blown out from the fourth nozzle 34 to the fourth processing space 94a to be plasma, and the second condensation layer 86 is irradiated with nitrogen plasma (fourth processing step).
- the degree of polymerization of the first plasma polymerized film 81 is increased.
- the acrylic acid monomer in the second condensed layer 86 is plasma-polymerized, and a second plasma-polymerized film 85 made of polyacrylic acid is laminated on the first plasma-polymerized film 81.
- the crosslinking accelerator copolymerizes to crosslink the polyacrylic acid of the second plasma polymerized film 85.
- the type of crosslinking accelerator it is considered that the reactivity (adhesion) of the polyacrylic acid to the adhesive 8 is promoted.
- an adhesion promoting film 80 composed of the two layers of the polymer films 81 and 85 is formed.
- the water resistance of the adhesion promoting film 80 can be enhanced because the second plasma polymerized film 85 on the surface layer of the adhesion promoting film 80 has a crosslinked structure.
- the adhesion strength between the adhesion promoting film 80 and the adhesive 8 can be enhanced. As a result, the adhesion durability of the polarizing plate can be improved.
- oxygen, hydrogen, saturated hydrocarbon gas or unsaturated hydrocarbon gas may be used as an additive component of the third gas g3.
- the crosslinking accelerator may be added to the fourth gas g4.
- the additive component is added to the third gas g3
- the polymerizable monomer of the third gas g3 and the additive component may be blown from nozzles different from each other.
- the additive component is added to the fourth gas g4
- the discharge produced gas of the fourth gas g4 and the additive component may be blown from nozzles different from each other.
- a polymerizable monomer of the first gas g1 and the third gas g3 methacrylic acid, itaconic acid, and maleic acid may be used instead of acrylic acid.
- a carrier gas a noble gas such as Ar or He may be used instead of N 2 .
- a noble gas such as Ar or He may be used instead of N 2 .
- the first processing step and the second processing step may be performed simultaneously.
- the first gas g1 may be directly introduced into the second processing space 92a from the first nozzle 31 to be plasmatized.
- the carrier gas in the first gas g1 may double as the discharge generated gas of the second gas g1.
- the third and fourth treatment steps may be performed simultaneously.
- the third gas g3 may be directly introduced into the fourth processing space 94a from the third nozzle 33 to be plasmatized.
- the carrier gas in the third gas g3 may also serve as the discharge generated gas of the fourth gas g4.
- the first gas supply unit 21 and the third gas supply unit 23 may be configured by a common acrylic acid supply unit.
- the first gas supply unit 21 and the acrylic acid supply unit 23a may be configured by a common acrylic acid supply unit.
- the portion 24a may be configured by a common nitrogen source.
- the carrier source of the first gas supply unit 21, the second gas supply unit 22, the carrier source of the third gas supply unit 23, and the fourth gas supply unit 24 are common. It may consist of a nitrogen source.
- the main component of the film 9 to be treated is not limited to TAC, and polypropylene (PP), polyethylene (PE), cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), polyethylene terephthalate (PET), polymethacrylic acid It may be methyl (PMMA), polyimide (PI) or the like.
- the present invention is not limited to the surface treatment of the protective film for polarizing plate, and is applicable to the treatment of forming a polymerizing film of a polymerizable monomer on various resin films.
- the surface treatment of the film 9 was performed using the film surface treatment apparatus 1 shown in FIG.
- the dimensions of the device 1 were as follows. Axis length in the roll width direction of rolls 11, 12 and 13: 390 mm The diameter of rolls 11, 12, 13: 320 mm The blowing width of the nozzles 31 to 34: 300 mm Peripheral length in the arc direction of the shielding members 41 and 43: 275 mm Thickness of the first processing space 91a: 5 mm (constant) over the entire area Thickness of the narrowest portion of the second processing space 92a: 1 mm Thickness of the third processing space 93a: 5 mm (constant) over the entire area Thickness of the narrowest portion of the fourth processing space 94a: 1 mm
- a TAC film was used as the film 9 to be treated.
- the width of the TAC film 9 was 325 mm.
- the conveying speed of the TAC film 9 was 30 m / min.
- the temperature of the rolls 11 to 13 and hence the temperature of the TAC film 9 was set to 40.degree.
- the power supplied from the power supply to the central roll electrode 12 was 3015 W (450 V, 6.7 A direct current to high frequency conversion).
- One half (1507.5 W) of this power was consumed for the plasma discharge between the roll electrodes 11 and 12 and the other half (1507.5 W) was consumed for the plasma discharge between the roll electrodes 12 and 13.
- the applied voltage between the roll electrodes 11 and 12 and the applied voltage between the roll electrodes 12 and 13 were both 18.1 kV.
- the first gas g1 was brought into contact with the TAC film 9.
- Acrylic acid was used as the polymerizable monomer of the first gas g1
- nitrogen (N 2 ) was used as the carrier gas.
- the temperature of the vaporizer of the first gas supply unit 21 was 140.degree.
- the flow rate of the carrier gas (N 2 ) of the first gas g1, and hence the flow rate of the first gas g1 (acrylic acid + N 2 ) was 40 slm.
- the acrylic acid flow rate in the first gas g1 was 7.5 g / min.
- the temperature of the first nozzle 31 and thus the temperature at which the first gas g1 was blown out were set to 75.degree.
- the second gas g 2 was plasmatized to be in contact with the TAC film 9. Nitrogen (N 2 ) was used as the second gas g2.
- the flow rate of the second gas g2 was 20 slm.
- the temperature of the second nozzle 32 and hence the temperature of the second gas g2 were set to 40.degree.
- the third gas g3 was brought into contact with the TAC film 9.
- Acrylic acid was used as the polymerizable monomer for the third gas g3, and nitrogen (N 2 ) was used as the carrier gas.
- the temperature of the vaporizer of the third gas supply unit 23 was 140.degree.
- the flow rate of the carrier gas (N 2 ) of the third gas g 3 was 40 slm.
- the acrylic acid flow rate in the third gas g3 was 7.5 g / min.
- the amount of additive components in the third gas g3 was zero.
- the temperature of the third nozzle 33 and thus the blowing temperature of the third gas g3 were set to 75.degree.
- the fourth gas g 4 was plasmatized to be in contact with the TAC film 9.
- Nitrogen (N 2 ) was used as a discharge generated gas of the fourth gas g 4, and O 2 was used as an additive component.
- the flow rate of N 2 in the fourth gas g4 was 20 slm.
- the flow rate of O 2 in the fourth gas g4 was 20 sccm.
- the concentration of O 2 in the fourth gas g4 was 1000 ppm.
- the temperature of the fourth nozzle 34 and hence the temperature of the fourth gas g4 were set to 40.degree.
- the adhesive 8 was applied to the surface to be treated of the TAC film 9 after the surface treatment, and it was bonded to the PVA film 7.
- an aqueous solution in which a 5 wt% aqueous solution of PVA having a polymerization degree of 500 and a 2 wt% aqueous solution of sodium carboxymethylcellulose (B) were mixed was used.
- the drying conditions of the adhesive were 80 ° C. and 5 minutes.
- the saponified TAC film was bonded to the opposite surface of the PVA film 7 with the same adhesive as described above. Thus, a plurality of polarizing plate samples having a three-layer structure were produced.
- the width of the polarizing plate sample was 25 mm.
- initial adhesive strength After the adhesive 8 was cured, the adhesive strength (referred to as “initial adhesive strength”) between the TAC film 9 to be treated and the PVA film 7 was measured for a polarizing plate sample which did not pass through the wet heat treatment described later.
- the measuring method was based on the floating roller method (JIS K6854). The result was 9.6 N / 25 mm with an average of 5 measurements.
- the adhesive strength (referred to as “durable adhesive strength”) between the TAC film 9 to be treated and the PVA film 7 was measured by the same floating roller method (JIS K 6854) as the initial adhesive strength. The result was 9.1 N / 25 mm with an average of 5 measurements. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- the TAC film was treated with the O 2 concentration in the fourth gas g 4 different from the above value, and the durable adhesive strength was measured on a polarizing plate sample using the TAC film.
- the O 2 concentration was less than 500 ppm, the durable adhesive strength decreased and the desired effect was not obtained.
- the O 2 concentration exceeded 3000 ppm, not only the durable adhesive strength but also the initial adhesive strength decreased.
- the O 2 concentration exceeds 3000 ppm, the polymerization reaction of acrylic acid itself is considered to be inhibited.
- Example 2 in the fourth processing step, the additive component in the fourth gas g4 is H 2 , and the flow rate thereof is 40 sccm.
- the H 2 concentration in the fourth gas g4 was 2000 ppm.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 9.8 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 7.2 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Example 3 in the fourth processing step, the additive component in the fourth gas g4 is H 2 , and the flow rate thereof is 100 sccm.
- the H 2 concentration in the fourth gas g4 was 5000 ppm.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 9.8 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 8.8 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Example 4 in the fourth processing step, the additive component in the fourth gas g4 is H 2 , and the flow rate thereof is 160 sccm.
- the H 2 concentration in the fourth gas g4 was 8000 ppm.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 9.8 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 9.3 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Example 5 in the fourth processing step, the additive component in the fourth gas g4 is methane, and the flow rate thereof is 160 sccm.
- the methane concentration in the fourth gas g4 was 8000 ppm.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 9.4 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 9.0 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Example 6 in the fourth treatment step, the additive component in the fourth gas g4 is acetylene, and the flow rate thereof is 160 sccm.
- the acetylene concentration in the fourth gas g4 was 8000 ppm.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 10.8 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 10.1 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Table 1 summarizes the processing conditions and the measurement results of Examples 1 to 6.
- Example 7 the additive component was added to the third gas g3 in the third treatment step using the apparatus 1A of the second embodiment (FIG. 5). Allyl methacrylate was used as an additive component.
- the flow rate of the carrier gas (N 2 ) of the third gas g3, and hence the flow rate of the entire third gas g3, is 40 slm
- the flow rate of acrylic acid in the third gas g3 is 7.5 g / min
- the third gas g3 The flow rate of allyl methacrylate in it was 0.375 g / min.
- the fourth gas g4 in the fourth treatment process is only N 2 20 slm, and the amount of the additive component in the fourth gas g4 is zero.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 10.2 N / 25 mm
- the durable adhesive strength was 9.8 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Example 8 using the apparatus 1A of the second embodiment (FIG. 5), diallylamine was used as an additive component of the third gas g3 in the third treatment step.
- the flow rate of the carrier gas (N 2 ) of the third gas g3, and hence the flow rate of the entire third gas g3, is 40 slm
- the flow rate of acrylic acid in the third gas g3 is 7.5 g / min
- the third gas g3 The ethylenediamine flow rate was 0.375 g / min.
- the other processing conditions were the same as in Example 5.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 10.1 N / 25 mm
- the durable adhesive strength was 9.6 N / 25 mm. Therefore, it was confirmed that the adhesive strength can be maintained even when exposed to a moist heat environment.
- Table 2 summarizes the processing conditions and the measurement results of Examples 7 and 8.
- Comparative Example 1 In Comparative Example 1, the additive component was not added to any of the third gas g3 in the third treatment process and the fourth gas g4 in the fourth treatment process.
- the other processing conditions were the same as in Example 1. Therefore, the processing conditions of the third processing step were the same as the processing conditions of the first processing step, and the processing conditions of the fourth processing step were the same as the second processing step.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 10.3 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 6.2 N / 25 mm. Therefore, the adhesion deteriorated when exposed to a moist heat environment.
- Comparative Example 2 In Comparative Example 2, 160 sccm of hydrogen (H 2 ) was added to the discharge produced gas (N 2 20 slm) of the second gas g 2 in the second treatment process. No additive component was added to the third gas g3 and the fourth gas g4. The other processing conditions were the same as in Example 1. The preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1. The initial adhesive strength was 10.3 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 5.5 N / 25 mm. Therefore, the adhesion deteriorated when exposed to a moist heat environment.
- Comparative Example 3 In Comparative Example 3, 160 sccm of hydrogen (H 2 ) is added to the discharge produced gas (N 2 20 slm) of the second gas g 2 in the second treatment process, and as an additive component to the fourth gas g 4 in the fourth treatment process, Hydrogen (H 2 ) was added at 160 sccm.
- the other processing conditions were the same as in Example 1.
- the preparation procedure of the polarizing plate sample after the surface treatment, and the measurement procedure of the initial adhesive strength and the durable adhesive strength were also the same as in Example 1.
- the initial adhesive strength was 10.3 N / 25 mm, and the durable adhesive strength was 5.9 N / 25 mm. Therefore, the adhesion deteriorated when exposed to a moist heat environment.
- Table 3 summarizes the processing conditions and the measurement results of Comparative Examples 1 to 3. From the above Examples and Comparative Examples, no additive component is added to the first gas g1 of the first treatment step and the second gas g2 of the second treatment step, and the third gas g2 of the third treatment step or the third gas g2 of the third treatment step It was confirmed that the adhesion durability of the TAC film 9 can be improved by adding the additive component to the fourth gas g2 of the fourth processing step.
- the present invention is applicable, for example, to the manufacture of polarizing plates for flat panel displays (FPDs).
- FPDs flat panel displays
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Abstract
フィルム表面処理装置1の支持部10にて被処理フィルム9を支持する。第1処理部91によって、重合性モノマーを含有する第1ガスg1を被処理フィルム9に接触させる。次に、第2処理部92によって、放電生成ガスを含有する第2ガスg2をプラズマ化して被処理フィルム9に接触させる。次に、第3処理部93によって、重合性モノマーを含有する第3ガスg3を被処理フィルム9に接触させる。次に、第4処理部94によって、放電生成ガスを含有する第4ガスg4をプラズマ化して被処理フィルム9に接触させる。第3ガスg3又は第4ガスg4には、添加成分を更に含有させる、添加成分は、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤である。これによって、樹脂フィルムの接着耐久性を向上させることができる。
Description
本発明は、樹脂製の被処理フィルムを表面処理する方法及び装置に関し、例えば偏光板の保護フィルムの接着耐久性を向上させる処理等に適したフィルム表面処理方法及び装置に関する。
例えば、液晶表示装置には、偏光板が搭載されている。偏光板は、偏光フィルムと保護フィルムを含む。一般に、偏光フィルムは、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として含む樹脂フィルム(以下「PVAフィルム」と称す)にて構成されている。保護フィルムは、トリアセテートセルロース(TAC)を主成分として含む樹脂フィルム(以下「TACフィルム」と称す)にて構成されている。これらフィルムを接着する接着剤としては、ポリビニルアルコール系やポリエーテル系等の水系接着剤が用いられている。PVAフィルムは、上記接着剤との接着性が良好であるが、TACフィルムは、接着性が良好でない。そこで、特許文献1、2では、上記接着工程の前に、保護フィルムの表面に重合性モノマーの薄膜を形成した後、大気圧プラズマを照射している。
重合性モノマーのプラズマ重合処理のみでは、接着耐久性が不充分である。特に、プラズマ重合膜がポリアクリル酸等の水溶性ポリマーである場合、高温、高湿度環境では接着強度が低下しやすい。
上記課題を解決するため、本発明方法は、樹脂製の被処理フィルムの表面を処理するフィルム表面処理方法であって、
気化させた重合性モノマーを含有する第1ガスを前記被処理フィルムに接触させる第1処理工程と、
前記第1処理工程後又は前記第1処理工程と併行して、放電生成ガスを含有する第2ガスをプラズマ化(励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含む)して前記被処理フィルムに接触させる第2処理工程と、
前記第2処理工程の後、気化させた重合性モノマーを含有する第3ガスを前記被処理フィルムに接触させる第3処理工程と、
前記第3処理工程後又は前記第3処理工程と併行して、放電生成ガスを含有する第4ガスをプラズマ化して前記被処理フィルムに接触させる第4処理工程と、
を備え、前記第3ガス又は前記第4ガスが添加成分を更に含有し、前記添加成分が、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤であることを特徴とする。
気化させた重合性モノマーを含有する第1ガスを前記被処理フィルムに接触させる第1処理工程と、
前記第1処理工程後又は前記第1処理工程と併行して、放電生成ガスを含有する第2ガスをプラズマ化(励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含む)して前記被処理フィルムに接触させる第2処理工程と、
前記第2処理工程の後、気化させた重合性モノマーを含有する第3ガスを前記被処理フィルムに接触させる第3処理工程と、
前記第3処理工程後又は前記第3処理工程と併行して、放電生成ガスを含有する第4ガスをプラズマ化して前記被処理フィルムに接触させる第4処理工程と、
を備え、前記第3ガス又は前記第4ガスが添加成分を更に含有し、前記添加成分が、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤であることを特徴とする。
第1処理工程及び第2処理工程によって、第1ガス中の重合性モノマーがプラズマ重合してなる第1のプラズマ重合膜が被処理フィルムの表面に形成される。第3処理工程及び第4処理工程によって、上記第1のプラズマ重合膜の重合度が高まるとともに、第3ガス中の重合性モノマーがプラズマ重合してなる第2のプラズマ重合膜が上記第1のプラズマ重合膜上に積層して形成される。前記第3ガス又は前記第4ガスに前記添加成分を添加することによって、第2のプラズマ重合膜の疎水化や架橋化(高分子量化を含む)がなされると考えられ、さらに添加成分によっては、プラズマ重合膜の接着剤に対する反応性(密着性)が向上すると考えられる。したがって、プラズマ重合膜の耐水性を向上できる。特に、プラズマ重合膜がポリアクリル酸等の水溶性ポリマーであっても、その耐水性を確実に確保できる。この結果、被処理フィルムの接着耐久性を向上できる。ここで、接着耐久性とは、接着後の対象物を高湿度かつ高温の湿熱環境に晒した後に接着強度が低下しない度合いを云う。
本発明装置は、樹脂製の被処理フィルムの表面を処理するフィルム表面処理装置であって、
前記被処理フィルムを支持する支持部と、
気化させた重合性モノマーを含有する第1ガスを前記被処理フィルムに接触させる処理を行なう第1処理部と、
放電生成ガスを含有する第2ガスをプラズマ化して被処理フィルムに接触させる処理を行なう第2処理部と、
気化させた重合性モノマーを含有する第3ガスを被処理フィルムに接触させる処理を行なう第3処理部と、
放電生成ガスを含有する第4ガスをプラズマ化して被処理フィルムに接触させる処理を行なう第4処理部と、
前記被処理フィルムを、前記第1処理部、前記第2処理部、前記第3処理部、前記第4処理部の順に搬送する搬送手段と、
を備え、前記第3ガス又は前記第4ガスが添加成分を更に含有し、前記添加成分が、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤であることを特徴とする。
前記被処理フィルムを支持する支持部と、
気化させた重合性モノマーを含有する第1ガスを前記被処理フィルムに接触させる処理を行なう第1処理部と、
放電生成ガスを含有する第2ガスをプラズマ化して被処理フィルムに接触させる処理を行なう第2処理部と、
気化させた重合性モノマーを含有する第3ガスを被処理フィルムに接触させる処理を行なう第3処理部と、
放電生成ガスを含有する第4ガスをプラズマ化して被処理フィルムに接触させる処理を行なう第4処理部と、
前記被処理フィルムを、前記第1処理部、前記第2処理部、前記第3処理部、前記第4処理部の順に搬送する搬送手段と、
を備え、前記第3ガス又は前記第4ガスが添加成分を更に含有し、前記添加成分が、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤であることを特徴とする。
第1処理部によって、被処理フィルムの表面に第1ガス中の重合性モノマーからなる第1の凝縮層を形成できる。その後、搬送手段によって被処理フィルムを第2処理部へ搬送し、第2処理部によって、上記第1凝縮層をプラズマ重合させ、被処理フィルムの表面に第1のプラズマ重合膜を形成できる。その後、搬送手段によって被処理フィルムを第3処理部へ搬送し、第3処理部によって、被処理フィルムの表面に第3ガス中の重合性モノマーからなる第2の凝縮層をできる。又は第3ガス中の重合性モノマーと添加成分との混合物からなる第2の凝縮層を形成できる。その後、搬送手段によって被処理フィルムを第4処理部へ搬送し、第4処理部によって、上記第1プラズマ重合膜の重合度を高めるとともに、上記第2凝縮層をプラズマ重合させ、第2のプラズマ重合膜を上記第1のプラズマ重合膜上に積層できる。前記第3ガス又は前記第4ガスに前記添加成分を添加することによって、第2のプラズマ重合膜の疎水化や架橋化がなされると考えられ、さらに添加成分によっては、プラズマ重合膜の接着剤に対する反応性(密着性)が向上すると考えられる。したがって、プラズマ重合膜の耐水性を向上できる。特に、プラズマ重合膜がポリアクリル酸等の水溶性ポリマーであっても、その耐水性を確実に確保できる。この結果、被処理フィルムの接着耐久性を向上できる。
前記支持部が、互いに平行に並べられた金属製の第1、第2、第3のロールを含み、前記被処理フィルムが、これらロールに掛け回され、かつこれらロールの回転によって前記第1ロール、前記第2ロール、前記第3ロールの順に送られることが好ましい。前記第1処理部が、前記第1ロールの周面に面して前記第1ガスを吹き出す第1ノズルを含むことが好ましい。前記第2処理部が、前記第1ロールと前記第2ロールの間のギャップに前記第2ガスを吹き出す第2ノズルを含み、前記第1、第2ロールが、互いの間に大気圧近傍の放電を生成する一対の電極を構成することが好ましい。前記第3処理部が、前記第2ロールの周面に面して前記第3ガスを吹き出す第3ノズルを含むことが好ましい。前記第4処理部が、前記第2ロールと前記第3ロールの間のギャップに前記第4ガスを吹き出す第4ノズルを含み、前記第2、第3ロールが、互いの間に大気圧近傍の放電を生成する一対の電極を構成することが好ましい。
これによって、被処理フィルムを第1ロール、第2ロール、第3ロールの順に送りながら、第1ロールの周面で第1ノズルから第1ガスを被処理フィルムに吹き付け、次いで、第1、第2ロール間のギャップで第2ガスをプラズマ化して被処理フィルムに照射できる。続いて、第2ロールの周面で第3ノズルから第3ガスを被処理フィルムに吹き付け、その後、第2、第3ロール間のギャップで第4ガスをプラズマ化して被処理フィルムに照射できる。前記3つのロールは、前記搬送手段を兼ねる。第1ロールは、第1処理部の第1処理空間を画成する画成部として提供される。第1ロール及び第2ロールは、第2ガスをプラズマ化する一対の電極及び第2処理部の第2処理空間を画成する画成部として提供される。第2ロールは、第3処理部の第3処理空間を画成する画成部として提供される。第2ロール及び第3ロールは、第4ガスをプラズマ化する一対の電極及び第4処理部の第4処理空間を画成する画成部として提供される。
本発明の表面処理は、大気圧近傍下にて行なうことが好ましい。特に前記第2処理工程及び前記第4処理工程のプラズマ化は、大気圧近傍下にて行なうことが好ましい。ここで、大気圧近傍とは、1.013×104~50.663×104Paの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、1.333×104~10.664×104Paが好ましく、9.331×104~10.397×104Paがより好ましい。
前記被処理フィルムは、好ましくは難接着性の光学樹脂フィルムである。本発明は、難接着性の光学樹脂フィルムを易接着性の光学樹脂フィルムに接着するにあたり、難接着性の光学樹脂フィルムの接着性及び接着耐久性を向上させるのに好適である。前記難接着性の光学樹脂フィルムの主成分としては、例えばトリアセテートセルロース(TAC)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、シクロオレフィン重合体(COP)、シクロオレフィン共重合体(COC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリイミド(PI)等が挙げられる。前記被処理フィルムは、より好ましくはTACフィルムである。
前記易接着性の光学樹脂フィルムの主成分としては、例えばポリビニルアルコール(PVA)、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)等が挙げられる。
前記第1ガスの重合性モノマーと前記第3ガスの重合性モノマーは、好ましくは同一の重合性モノマーであるが、互いに異なる重合性モノマーであってもよい。
前記第1、第3ガスの重合性モノマーとしては、不飽和結合及び所定の官能基を有するモノマーが挙げられる。所定の官能基は、水酸基、カルボキシル基、アセチル基、グリシジル基、エポキシ基、炭素数1~10のエステル基、スルホン基、アルデヒド基から選択されることが好ましく、特に、カルボキシル基や水酸基等の親水基が好ましい。
前記第1、第3ガスの重合性モノマーとしては、不飽和結合及び所定の官能基を有するモノマーが挙げられる。所定の官能基は、水酸基、カルボキシル基、アセチル基、グリシジル基、エポキシ基、炭素数1~10のエステル基、スルホン基、アルデヒド基から選択されることが好ましく、特に、カルボキシル基や水酸基等の親水基が好ましい。
不飽和結合及び水酸基を有するモノマーとしては、メタクリル酸エチレングリコール、アリルアルコール、メタクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。
不飽和結合及びカルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、2-メタクリロイルプロピオン酸等が挙げられる。
不飽和結合及びアセチル基を有するモノマーとしては、酢酸ビニル等が挙げられる。
不飽和結合及びグリシジル基を有するモノマーとしては、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
不飽和結合及びエステル基を有するモノマーとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸2-エチル等が挙げられる。
不飽和結合及びアルデヒド基を有するモノマーとしては、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等が挙げられる。
前記被処理フィルムが、COP、COC、PP、PE等のオレフィン系モノマー重合フィルムである場合、前記重合性モノマーが、水溶性モノマー及びオレフィン系モノマーであってもよい。水溶性モノマーとしては、アセトアルデヒド、ビニルアルコール、アクリル酸(AA)、メタクリル酸、スチレンスルホン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N-ジメチルアミド等が挙げられる。オレフィン系モノマーとしては、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-シクロペンテン、1-シクロヘキセン、1-シクロヘプテン、1-シクロオクテンの他、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン(DCPD)等が挙げられる。
不飽和結合及びカルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸、2-メタクリロイルプロピオン酸等が挙げられる。
不飽和結合及びアセチル基を有するモノマーとしては、酢酸ビニル等が挙げられる。
不飽和結合及びグリシジル基を有するモノマーとしては、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
不飽和結合及びエステル基を有するモノマーとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸t-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸t-ブチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸2-エチル等が挙げられる。
不飽和結合及びアルデヒド基を有するモノマーとしては、アクリルアルデヒド、クロトンアルデヒド等が挙げられる。
前記被処理フィルムが、COP、COC、PP、PE等のオレフィン系モノマー重合フィルムである場合、前記重合性モノマーが、水溶性モノマー及びオレフィン系モノマーであってもよい。水溶性モノマーとしては、アセトアルデヒド、ビニルアルコール、アクリル酸(AA)、メタクリル酸、スチレンスルホン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N-ジメチルアミド等が挙げられる。オレフィン系モノマーとしては、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-シクロペンテン、1-シクロヘキセン、1-シクロヘプテン、1-シクロオクテンの他、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン(DCPD)等が挙げられる。
前記第1、第3ガスの重合性モノマーのうち、特に前記第1ガスの重合性モノマーは、プラズマ重合した際に被処理フィルムとの親和性が高いことがより好ましい。かかるモノマーとして、前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合及びカルボキシル基を有するモノマーが挙げられ、具体的にはアクリル酸(CH2=CHCOOH)、メタクリル酸(CH2=C(CH3)COOH)が挙げられる。前記第1ガスの重合性モノマー及び前記第3ガスの重合性モノマーは、アクリル酸又はメタクリル酸であることがより好ましく、アクリル酸であることがより一層好ましい。これによって、プラズマ重合させた際に被処理フィルムとの親和性を発現できる。したがって、被処理フィルムの接着性ひいては接着耐久性を確実に高めることができる。
前記第1ガス及び前記第2ガスには前記添加成分が含有されていないことが好ましい。これによって、前記第1ガス中の重合性モノマーがプラズマ重合した際、被処理フィルムとの親和性を確実に発現できる。ひいては、被処理フィルムの接着性及び接着耐久性を確実に高めることができる。
前記添加成分は、前記重合性モノマーとは異なる化合物であり、前記重合性モノマーのプラズマ重合体の疎水化、架橋化、又は接着剤との反応性促進などの作用を発現するものであることが好ましい。
前記第3、第4ガスのうち前記第4ガスが、前記添加成分としての酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、又は不飽和炭化水素ガスを含有していることが好ましい。これら添加成分は、第4処理工程において前記重合性モノマーのプラズマ重合体の疎水化、架橋化、又は接着剤との反応性促進などの作用を誘起するものと考えられる。
前記第4ガスが前記添加成分として酸素(O2)を含有する場合、第4ガス中の酸素の体積濃度は、500ppm~3000ppmであることが好ましい。酸素濃度を500ppm以上にすることで、所望の接着耐久性を確保できる。酸素濃度を3000ppm以下にすることによって、重合性モノマーの重合反応が阻害されるのを防止できる。
前記第4ガスが前記添加成分として水素(H2)を含有する場合、第4ガス中の水素の体積濃度は、500ppm~10000ppmであることが好ましい。水素濃度を500ppm以上にすることで、所望の接着耐久性を確保できる。水素濃度が8000ppm~10000ppmを上回ると、接着耐久性の向上度が飽和する。水素濃度を10000ppm以下にすることで、所望の接着耐久性を得るとともに水素ガスの使用量を節約できる。
前記飽和炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等が挙げられる。前記不飽和炭化水素としては、エチレン、アセチレン等が挙げられる。前記第4ガスが、前記添加成分としてメタン、又はエチレン、若しくはアセチレンを含有していてもよい。アセチレン等の不飽和炭化水素は、前記プラズマ重合体の架橋に特に寄与すると考えられる。
前記添加成分が架橋促進剤である場合、該添加成分(架橋促進剤)は、第1ガス中の重合性モノマー及び第3ガス中の重合性モノマーとは異なる化合物である。架橋促進剤として、ジアリル化合物、ジアミン化合物、グリシジル化合物、ヒドロキシ化合物等が挙げられる。これら化合物は、架橋促進剤として知られており、前記プラズマ重合体の架橋化や接着剤との反応性促進などに特に寄与すると考えられる。前記添加成分としての架橋促進剤は、前記第3ガスに含有されていることが好ましい。
ジアリル化合物としては、ジアリルアミン、マイレン酸ジアリル、メタクリル酸アリル等が挙げられる。ジアミン化合物としては、エチレンジアミン等が挙げられる。グリシジル化合物としては、アリルグリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。ヒドロキシ化合物としては、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。
前記第1ガス又は第3ガスが、重合性モノマーを搬送するキャリアガスを含んでいてもよい。キャリアガスは、好ましくは窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスから選択される。経済性の観点からは、キャリアガスとして窒素を用いるのが好ましい。
アクリル酸やメタクリル酸等の重合性モノマーの多くは、常温常圧で液相である。そのような重合性モノマーは、不活性ガス等のキャリアガス中に気化させるとよい。重合性モノマーをキャリアガス中に気化させる方法としては、重合性モノマーの液面上の飽和蒸気をキャリアガスで押し出す押し出し方式、重合性モノマー液中にキャリアガスをバブリングするバブリング方式、重合性モノマー液を加熱して蒸発を促進させる加熱方式等が挙げられる。押し出し方式と加熱方式、又はバブリング方式と加熱方式を併用してもよい。キャリアガスの一部を気化器に導入し、残部は気化器に通さないことにし、気化器の下流側でキャリアガスの上記一部と残部を合流させることにしてもよい。気化器の温度やキャリアガスの上記一部と残部の分配比によって、第1ガス又は第3ガス中の重合性モノマー濃度を調節できる。
加熱して気化させる場合、加熱器の負担を考慮し、重合性モノマーは、沸点が300℃以下のものを選択するのが好ましい。また、重合性モノマーは、加熱により分解(化学変化)しないものを選択するのが好ましい。
第3ガス又は第4ガス中の架橋促進剤が常温常圧で液相である場合、該架橋促進剤を不活性ガス等のキャリアガス中に気化させるとよい。架橋促進剤をキャリアガス中に気化させる方法としては、架橋促進剤の液面上の飽和蒸気をキャリアガスで押し出す押し出し方式、架橋促進剤の液中にキャリアガスをバブリングするバブリング方式、架橋促進剤の液を加熱して蒸発を促進させる加熱方式等が挙げられる。押し出し方式と加熱方式、又はバブリング方式と加熱方式を併用してもよい。キャリアガスの一部を気化器に導入し、残部は気化器に通さないことにし、気化器の下流側でキャリアガスの上記一部と残部を合流させることにしてもよい。気化器の温度やキャリアガスの上記一部と残部の分配比によって、第3ガス又は第4ガス中の架橋促進剤の濃度を調節できる。
架橋促進剤を第3ガスに含有させる場合、液相の重合性モノマーと液相の架橋促進剤を混合した後、その混合液を気化させてもよく、液相の重合性モノマーと液相の架橋促進剤を互いに別々に気化させた後、気化した重合性モノマーと、気化した架橋促進剤を混合してもよい。
前記第3ガスが前記添加成分を含有する場合、前記第3ガスの重合性モノマーと前記添加成分とを前記被処理フィルムの表面上で混合してもよい。
前記第4ガスが前記添加成分を含有する場合、前記第4ガスの放電生成ガスと前記添加成分とを前記被処理フィルムの表面上で混合してもよい。
前記第3ガスが前記添加成分を含有する場合、前記第3ガスの重合性モノマーと前記添加成分とを前記被処理フィルムの表面上で混合してもよい。
前記第4ガスが前記添加成分を含有する場合、前記第4ガスの放電生成ガスと前記添加成分とを前記被処理フィルムの表面上で混合してもよい。
前記第2ガスの放電生成ガス及び前記第4ガスの放電生成ガスとしては、窒素(N2)や希ガス(Ar、Ne、He等)の不活性ガスが挙げられる。前記放電生成ガスが、複数種の放電生成ガス成分の混合ガスであってもよい。前記第2ガスの放電生成ガスと前記第4ガスの放電生成ガスとが、互いに同一のガスであってもよく、互いに異なるガスであってもよい。
本発明によれば、被処理フィルムの接着耐久性を向上させることができる。
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図4は、偏光板PFを示したものである。偏光板PFは、偏光フィルム7と保護フィルム9を含む。偏光フィルム7が、2つの保護フィルム9の間に挟まれている。各保護フィルム9と偏光フィルム7が接着剤8を介して貼り合わされている。偏光フィルム7は、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として含むPVAフィルムにて構成されている。接着剤8としては、PVA水溶液等のPVA系接着剤が用いられている。PVA系接着剤が、接着力を高める公知の添加剤成分を含んでいてもよい。保護フィルム9は、トリアセテートセルロース(TAC)を主成分として含むTACフィルムにて構成されている。フィルム9の厚さは、例えば100μm程度である。
図4は、偏光板PFを示したものである。偏光板PFは、偏光フィルム7と保護フィルム9を含む。偏光フィルム7が、2つの保護フィルム9の間に挟まれている。各保護フィルム9と偏光フィルム7が接着剤8を介して貼り合わされている。偏光フィルム7は、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として含むPVAフィルムにて構成されている。接着剤8としては、PVA水溶液等のPVA系接着剤が用いられている。PVA系接着剤が、接着力を高める公知の添加剤成分を含んでいてもよい。保護フィルム9は、トリアセテートセルロース(TAC)を主成分として含むTACフィルムにて構成されている。フィルム9の厚さは、例えば100μm程度である。
TACフィルム9の接着剤8側の面には接着性促進膜80が被膜されている。接着性促進膜80は、2層のプラズマ重合膜81,82の積層構造になっている。第1のプラズマ重合膜81は、アクリル酸(重合性モノマー)のプラズマ重合体からなり、TACフィルム9に接している。第2のプラズマ重合膜82は、アクリル酸のプラズマ重合体からなり、かつ耐水性や接着剤8との高反応性などの特性が付与されている。第2のプラズマ重合膜82が接着剤8に接している。
図1は、TACフィルム9(以下、適宜「被処理フィルム9」と称す)に接着性促進膜80を形成するフィルム表面処理装置1を示したものである。フィルム表面処理装置1は、支持部10と、第1処理部91と、第2処理部92と、第3処理部93と、第4処理部94を備えている。処理対象のTACフィルム9は連続フィルム状になっている。この被処理フィルム9を支持部10にて支持する。第1処理部91は、第1ガスg1を被処理フィルム9に接触させる処理を行なう(第1処理工程)。第2処理部92は、第1処理部91の処理後又は第1処理部91の処理と併行して、第2ガスg2をプラズマ化(励起、活性化、ラジカル化、イオン化等を含む)して被処理フィルム9に接触させる(第2処理工程)。これによって、第1プラズマ重合膜81が形成される。第3処理部93は、第2処理部92の処理後、第3ガスg3を被処理フィルム9に接触させる(第3処理工程)。第4処理部94は、第3処理部93の処理後又は第3処理部93の処理と併行して、第4ガスg4をプラズマ化して被処理フィルム9に接触させる(第4処理工程)。これによって、第2プラズマ重合膜82が形成される。以下、更に詳述する。
図1及び図2に示すように、支持部10は、3つの主ロール11,12,13と、ガイドロール16,17を備えている。これら主ロール11~13は、互いに同一径、同一軸長の円筒体になっている。ロール11~13の少なくとも外周部は、金属にて構成され、かつ該金属からなる外周部の外周面には固体誘電体層が被膜されている。各ロール11,12,13の軸線が、図1の紙面と直交する水平方向(以下「処理幅方向」と称す。)に向けられている。3つのロール11,12,13が、この順に、かつ平行に並べられている。図1において左側の第1ロール11と中央の第2ロール12との間のギャップ92aと、中央の第2ロール12と右側の第3ロール13との間のギャップ92a,94aの厚さは互いに等しい。ギャップ92a,94aの最も狭い箇所の厚さは、例えば1mm~数mm程度になっている。
ロール11~13は、フィルム表面処理装置1のプラズマ放電生成用の電極を兼ねている。図示は省略するが、中央のロール12に電源が接続され、かつ左右のロール11,13が電気的に接地されている。これに代えて、左右のロール11,13に電源がそれぞれ接続され、かつ中央のロール12が電気的に接地されていてもよい。電源は、例えばパルス波状の高周波電力を出力する。この電力供給によって、左側のロール11と中央のロール12との間に大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電が生成され、ギャップ92aが大気圧近傍の放電空間になる。また、上記電力供給によって、中央のロール12と右側のロール13との間に大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電が生成され、ギャップ94aが大気圧近傍の放電空間になる。
ロール11,12の下方に複数(図では2つ)の前段ガイドロール16,16が配置されている。ロール12,13の下方に複数(図では2つ)の後段ガイドロール17,17が配置されている。
連続シート状の被処理フィルム9が、幅方向を上記処理幅方向(図1の紙面直交方向)に向けて、支持部10に支持されている。被処理フィルム9は、3つのロール11,12,13の上側の周面にそれぞれ半周程度掛け回されている。各ロール11,12,13の上側の周面及びギャップ92a,94aを画成する部分を含む約半周部分が、被処理フィルム9にて覆われている。
ロール11,12間の被処理フィルム9は、ギャップ92aから下方に垂らされ、ガイドロール16,16に掛け回されている。これによって、ギャップ92aとガイドロール16,16との間の被処理フィルム9が、折り返し部分9aを形成している。折り返し部分9aは、処理幅方向から見て三角形状になっている。
ロール12,13間の被処理フィルム9は、ギャップ94aから下方に垂らされ、ガイドロール17,17に掛け回されている。これによって、ギャップ94aとガイドロール17,17との間の被処理フィルム9が、折り返し部分9bを形成している。折り返し部分9bは、処理幅方向から見て三角形状になっている。
図示は省略するが、各ロール11,12,13に回転機構が連結されている。回転機構は、モータ等の駆動部と、該駆動部の駆動力をロール11,12,13の軸に伝達する伝達手段とを含む。伝達手段は、例えばベルト・プーリ機構やギア列にて構成されている。図1において白抜き円弧状矢印にて示すように、回転機構によって、ロール11,12,13が、それぞれ自らの軸線まわりに、かつ互いに同期して同方向(図1において時計周り)に回転される。これにより、被処理フィルム9が、第1ロール11、第2ロール12、第3ロール13の順に概略右方向へ搬送される。支持部10は、被処理フィルム9の搬送手段を兼ねている。
各ロール11,12,13には、温調手段(図示省略)が設けられている。温調手段は、例えばロール11,12,13内に形成された温調路にて構成されている。温調路に、温調された水等の媒体を流すことにより、ロール11,12,13を温調できる。ひいては、ロール11,12,13の周面上の被処理フィルム9を温調できる。ロール11,12,13の設定温度は、好ましくは重合性モノマーの凝縮温度より低温である。
第1処理部91は、第1ガスg1の供給部21と、第1ノズル31を備えている。第1ガスg1は、重合性モノマー及びキャリアガスを含有する。重合性モノマーとしては、アクリル酸AAが用いられている。キャリアガスとしては窒素(N2)が用いられている。
詳細な図示は省略するが、第1ガス供給部21は、気化器を含む。気化器において、液体のアクリル酸がキャリアガス中に気化される。気化は、バブリング方式でもよく、押し出し方式でもよい。気化したアクリル酸とキャリアガスとが混合することにより、第1ガスg1が生成される。第1ガスg1には、後述する添加成分が含有されていない。
第1ガス供給部21は、ガス路21cを介して第1ノズル31に接続されている。第1ノズル31は、第1ロール11の上方に配置されている。第1ノズル31は、処理幅方向に長く延び、かつ第1ロール11の周方向(図1の左右)にある程度の幅を有している。第1ノズル31の下面には、吹出し口が設けられている。吹き出し口は、第1ノズル31の下面の広い範囲(処理幅方向及びロール周方向)に分布するよう形成されている。第1ノズル31の吹出し面(下面)が、第1ロール11上の被処理フィルム9に面している。第1ガス供給部21からの第1ガスg1が、第1ガス供給ライン21cを経て第1ノズル31に供給され、第1ノズル31内の整流部(図示省略)にて均一化されたうえで、第1ノズル31の吹出し口から吹き出される。第1ガスg1の吹出し流は、処理幅方向に均一に分布した流れになる。
ガス路21c及び第1ノズル31には、温調手段(図示省略)が設けられている。ガス路21cの温調手段はリボンヒータ等にて構成されている。第1ノズル31の温調手段は、温調水を通す温調路にて構成されている。ガス路21c及び第1ノズル31の設定温度は、アクリル酸の凝縮温度より高温である。これによって、アクリル酸がノズル31から吹出される前にガス路21c又はノズル31内で凝縮するのを防止できる。
第1ノズル31の底部には遮蔽部材41が設けられている。遮蔽部材41は、第1ロール11の周方向に沿う円弧状の断面をなして、処理幅方向にロール11とほぼ同じ長さ延びる湾曲板状になっている。遮蔽部材41の円弧方向(図1において左右)の両端部が、第1ノズル31よりも第1ロール11の周方向に延び出ている。遮蔽部材41の上記円弧方向(図1において左右)の周長は、例えば240~300mm程度である。図1において、遮蔽部材41の左側の端部は解放されている。図1において、遮蔽部材41の右側の端部は、後記閉塞部材51に当接又は近接している。
遮蔽部材41と第1ロール11との間に第1処理空間91aが画成されている。第1ロール11は、第1処理部91における第1処理空間91aの画成部として提供されている。第1処理空間91aは、第1ロール11の上側の周面に沿う断面円弧状の空間になっている。第1ノズル31の下面の吹き出し口が、遮蔽部材41を貫通して第1処理空間91aに連通している。遮蔽部材41によって、第1処理空間91aが、第1ノズル31よりも第1ロール11の周方向の両側に延長されている。図1において、第1処理空間91aの左側の端部は、ロール11の左側(ロール12側とは反対側)の外部空間に連なっている。図1において、第1処理空間91aの右側の端部は、後記閉塞部材51とロール11との間の隙間に連なっている。
第1処理空間91aは、上記円弧方向(図1において左右)の中央部では狭く、上記円弧方向の両端部に向かうにしたがってやや広くなっている。第1処理空間91aの厚さは、1mm~10mm程度が好ましい。第1処理空間91aの最も狭い箇所の厚さは、例えば1mm程度が好ましい。第1処理空間91aの最も広い箇所の厚さは、例えば10mm程度が好ましい。第1処理空間91aの厚さが全域で一定であってもよい。遮蔽部材41が、第1ノズル31を挟んで、第1ロール11の回転方向の上流側の部分と下流側の部分とに分離されていてもよく、第1ノズル31の底面が第1処理空間91aに直接面していてもよい。
第2処理部92は、第2ガスg2の供給部22と、第2ノズル32を備えている。第2ガスg2は、放電生成ガスを含有する。放電生成ガスとして窒素(N2)が用いられている。第2ガスには、後述する添加成分が含有されていない。
第2ガス供給部22に第2ノズル32が接続されている。第2ノズル32は、被処理フィルム9の三角形状の折り返し部分9aの内部に設けられている。第2ノズル32は、処理幅方向に長く延び、かつその延び方向と直交する断面が上方に向かって先細になっている。第2ノズル32の上端(先端)の吹き出し口がロール間ギャップ92aに臨んでいる。ギャップ92aの下端部が、第2ノズル32によってある程度閉塞されている。第2ガス供給部22からの第2ガスg2が、第2ノズル32内の整流部(図示省略)にて処理幅方向に均一化されたうえで、第2ノズル32の吹出し口からギャップ92aへ向けて吹き出される。この第2ガスg2の吹出し流は、処理幅方向に均一に分布した流れになる。
ギャップ92aは、第2処理部92の第2処理空間を構成する。ロール11,12は、第2処理部92における第2処理空間92aの画成部として提供されている。
ギャップ92aは、第2処理部92の第2処理空間を構成する。ロール11,12は、第2処理部92における第2処理空間92aの画成部として提供されている。
第2ノズル32内には、図示しない温調路(第2ガス温調手段)が設けられている。水等の温調媒体が第2ノズル32内の温調路に通される。これによって、第2ノズル32を温調でき、ひいては第2ガスg2の吹き出し温度を調節できる。第2ノズル32の設定温度は、第1ノズル31の設定温度より低温であり、好ましくはアクリル酸(重合性モノマー)の凝縮温度より低温である。
第2処理空間92aより上側のロール11,12どうし間に閉塞部材51が配置されている。閉塞部材51が、第2処理空間92aを挟んで第2ノズル32と対向している。閉塞部材51は、処理幅方向に長く延び、かつその延び方向と直交する断面が下方に向かって先細になっている。閉塞部材51の下端(先端)が第2処理空間92aに臨んでいる。第2処理空間92aの上端部が、閉塞部材51によってある程度閉塞されている。閉塞部材51と第1ロール11との間の隙間を介して、第1処理空間91aと第2処理空間92aとが連通している。閉塞部材51として、第2ノズル32と同一構造のノズルを用い、これを第2ノズル32とは上下に反転させて設置してもよく、このノズル51から第2ガスg2が吹出されるようにしてもよい。
第3処理部93は、第3ガス供給部23と、第3ノズル33を備えている。第3ガス供給部23は、第3ガスg3を第3ノズル33に供給する。第3ガスg3は第1ガスg1と同一のガスにて構成されている。すなわち、第3ガスg3は、重合性モノマー及びキャリアガスを含有する。重合性モノマーとしてはアクリル酸AAが用いられている。キャリアガスとしては窒素(N2)が用いられている。
詳細な図示は省略するが、第3ガス供給部23は、気化器を含む。気化器において、液体のアクリル酸がキャリアガス中に気化される。気化は、バブリング方式でもよく、押し出し方式でもよい。気化したアクリル酸とキャリアガスとが混合することにより、第3ガスg3が生成される。第1ガス供給部21と第3ガス供給部23が共通のアクリル酸供給源にて構成されていてもよい。
第3ガス供給部23は、ガス路23cを介して第3ノズル33に接続されている。第3ノズル33は、第2ロール12の上方に配置されている。第3ノズル33は、処理幅方向に長く延び、かつ第2ロール12の周方向(図1の左右)にある程度の幅を有している。第3ノズル33の下面には、吹出し口が設けられている。吹き出し口は、第3ノズル33の下面の広い範囲(処理幅方向及びロール周方向)に分布するよう形成されている。第3ノズル33の吹出し面(下面)が、第2ロール12上の被処理フィルム9に面している。第3ガス供給部23からの第3ガスg3が、第3ガス供給ライン23cを経て第3ノズル33に供給され、第3ノズル33内の整流部(図示省略)にて均一化されたうえで、第3ノズル33の吹出し口から吹き出される。第3ガスg3の吹出し流は、処理幅方向に均一に分布した流れになる。
ガス路23c及び第3ノズル33には、温調手段(図示省略)が設けられている。ガス路23cの温調手段はリボンヒータ等にて構成されている。第3ノズル33の温調手段は、温調水を通す温調路にて構成されている。ガス路23c及び第3ノズル33の設定温度は、アクリル酸の凝縮温度より高温である。これによって、アクリル酸がノズル33から吹出される前にガス路23c又はノズル31内で凝縮するのを防止できる。
第3ノズル33の底部には遮蔽部材43が設けられている。遮蔽部材43は、第2ロール12の周方向に沿う円弧状の断面をなして、処理幅方向にロール12とほぼ同じ長さ延びる湾曲板状になっている。遮蔽部材43の円弧方向(図1において左右)の両端部が、第3ノズル33よりも第2ロール12の周方向に延び出ている。遮蔽部材43の上記円弧方向(図1において左右)の周長は、例えば240~300mm程度である。遮蔽部材43におけるロール12の回転方向の上流側(図1において左)の端部は、閉塞部材51の側部に当接又は近接している。遮蔽部材43におけるロール12の回転方向の下流側(図1において右)の端部は、後記閉塞部材52に当接又は近接している。
遮蔽部材43と第2ロール12との間に第3処理空間93aが画成されている。第2ロール12は、第3処理部93における第3処理空間93aの画成部として提供されている。第3処理空間93aは、第2ロール12の上側の周面に沿う断面円弧状の空間になっている。第3ノズル33の下面の吹き出し口が、遮蔽部材43を貫通して第3処理空間93aに連通している。遮蔽部材43によって、第3処理空間93aが、第3ノズル33よりも第2ロール12の周方向の両側に延長されている。図1において、第3処理空間93aの左側の端部は、閉塞部材51とロール12との間の隙間を介して、第2処理空間92aに連なっている。図1において、第3処理空間93aの右側の端部は、後記閉塞部材52とロール12との間の隙間に連なっている。
第3処理空間93aは、上記円弧方向(図1において左右)の中央部では狭く、上記円弧方向の両端部に向かうにしたがってやや広くなっている。第3処理空間93aの厚さは、1mm~10mm程度が好ましい。第3処理空間93aの最も狭い箇所の厚さは、例えば1mm程度が好ましい。第3処理空間93aの最も広い箇所の厚さは、例えば10mm程度が好ましい。第3処理空間93aの厚さが全域で一定であってもよい。遮蔽部材43が、第3ノズル33を挟んで、第2ロール12の回転方向の上流側の部分と下流側の部分とに分離されていてもよく、第3ノズル33の底面が第3処理空間93aに直接面していてもよい。
第4処理部94は、第4ガスg4の供給部24と、第4ノズル34を備えている。第4ガスg4は、放電生成ガス及び添加成分を含有する。第4ガス供給部24は、放電生成ガスの供給部24aと、添加成分の供給部24bを含む。
第4ガスg4の放電生成ガスとして、窒素(N2)が用いられている。添加成分は、酸素(O2)、水素(H2)、又は飽和炭化水素ガス(CnH2n+2(n≧1))、若しくは不飽和炭化水素ガス(CnH2n-2(n≧2)、CnH2n(n≧2))にて構成される。第4ガス供給部24において、放電生成ガスに添加成分が混合される。これによって、第4ガスg4が生成される。
添加ガスが酸素である場合、第4ガスg4中の酸素濃度は、500ppm~3000ppm(体積濃度)であることが好ましい。添加ガスが水素である場合、第4ガスg4中の水素濃度は、500ppm~10000ppm(体積濃度)であることが好ましい。飽和炭化水素ガスとしては、メタン(CH4)、エタン(C2H6)、プロパン(C3H8)、ブタン(C4H10)等が挙げられる。不飽和炭化水素ガスとしては、エチレン(C2H4)、アセチレン(C2H2)等が挙げられる。第4ガスg4中の飽和炭化水素ガス又は不飽和炭化水素ガスの濃度は、100ppm~10000ppm(体積濃度)であることが好ましい。
第4ガス供給部24に第4ノズル34が接続されている。第4ノズル34は、被処理フィルム9の三角形状の折り返し部分9bの内部に設けられている。第4ノズル34は、処理幅方向に長く延び、かつその延び方向と直交する断面が上方に向かって先細になっている。第4ノズル34の上端(先端)の吹き出し口がロール間ギャップ94aに臨んでいる。ギャップ94aの下端部が、第4ノズル34によってある程度閉塞されている。第4ガス供給部24からの第4ガスg2が、第4ノズル34内の整流部(図示省略)によって処理幅方向に均一化されるたうえで、第4ノズル34の吹出し口からギャップ94aへ向けて吹き出される。この第4ガスg4の吹出し流は、処理幅方向に均一に分布した流れになる。
ギャップ94aは、第4処理部94の第4処理空間を構成する。ロール12,13は、第4処理部94における第4処理空間94aの画成部として提供されている。
ギャップ94aは、第4処理部94の第4処理空間を構成する。ロール12,13は、第4処理部94における第4処理空間94aの画成部として提供されている。
第4ノズル34内には、図示しない温調路(第4ガス温調手段)が設けられている。水等の温調媒体が第4ノズル34内の温調路に通される。これによって、第4ノズル34を温調でき、ひいては第4ガスg4の吹き出し温度を調節できる。第4ノズル34の設定温度は、第3ノズル33の設定温度より低温であり、好ましくはアクリル酸(重合性モノマー)の凝縮温度より低温である。
第4処理空間94aより上側のロール12,13どうし間に閉塞部材52が配置されている。閉塞部材52が、第4処理空間94aを挟んで第4ノズル34と対向している。閉塞部材52は、処理幅方向に長く延び、かつその延び方向と直交する断面が下方に向かって先細になっている。閉塞部材52の下端(先端)が第4処理空間94aに臨んでいる。第4処理空間94aの上端部が、閉塞部材52によってある程度閉塞されている。閉塞部材52と第2ロール12との間の隙間を介して、第3処理空間93aと第4処理空間94aとが連通している。閉塞部材52と第3ロール13との間の隙間を介して、第4処理空間94aが第3ロール13の上側の外部空間に連なっている。閉塞部材52として、第4ノズル34と同一構造のノズルを用い、これを第4ノズル34とは上下に反転させて設置してもよく、このノズル52から第2ガスg2が吹出されるようにしてもよい。
上記構成のフィルム表面処理装置1によって被処理フィルム9を表面処理する方法、ひいては偏光板を製造する方法を説明する。
[支持工程、搬送工程]
支持部10の主ロール11~13及びガイドロール16,17にTACフィルムからなる被処理フィルム9を掛け回す。
ロール11~13を図1において時計周りに回転させ、被処理フィルム9を第1ロール11、第2ロール12、第3ロール13の順に、図1において概略右方向へ搬送する。
[支持工程、搬送工程]
支持部10の主ロール11~13及びガイドロール16,17にTACフィルムからなる被処理フィルム9を掛け回す。
ロール11~13を図1において時計周りに回転させ、被処理フィルム9を第1ロール11、第2ロール12、第3ロール13の順に、図1において概略右方向へ搬送する。
[第1処理工程]
第1処理部91では、第1ガスg1を供給部21からノズル31に供給する。この第1ガスg1をノズル31から第1処理空間91aに吹き出す。第1ガスg1は、第1処理空間91a内の被処理フィルム9の表面に接触する。これによって、図3(a)に示すように、第1ガスg1中のアクリル酸モノマーが凝縮して、被処理フィルム9に付着し、被処理フィルム9の表面にアクリル酸モノマーからなる第1の凝縮層83が形成される。第1処理空間91a内の第1ガスg1の過半は、被処理フィルム9の搬送方向に沿って第2処理空間92aの側へ流れる。遮蔽部材41によって第1ガスg1が外部に漏れるのを抑制又は防止でき、アクリル酸の被処理フィルム9への付着量を確保できる。
第1処理部91では、第1ガスg1を供給部21からノズル31に供給する。この第1ガスg1をノズル31から第1処理空間91aに吹き出す。第1ガスg1は、第1処理空間91a内の被処理フィルム9の表面に接触する。これによって、図3(a)に示すように、第1ガスg1中のアクリル酸モノマーが凝縮して、被処理フィルム9に付着し、被処理フィルム9の表面にアクリル酸モノマーからなる第1の凝縮層83が形成される。第1処理空間91a内の第1ガスg1の過半は、被処理フィルム9の搬送方向に沿って第2処理空間92aの側へ流れる。遮蔽部材41によって第1ガスg1が外部に漏れるのを抑制又は防止でき、アクリル酸の被処理フィルム9への付着量を確保できる。
[第2処理工程]
第1ロール11の回転に伴ない、上記第1処理工程を経た被処理フィルム9が第2処理空間92aへ搬送される。第2処理部92では、第2ガスg2を供給部22からノズル32に供給する。この第2ガスg2をノズル32から第2処理空間92aに吹き出す。併行して、ロール12に電力を供給し、第2処理空間92a内に大気圧近傍の放電を生成し、放電生成ガスの窒素をプラズマ化する。この窒素プラズマが第2処理空間92a内の被処理フィルム9の表面に接触する。これによって、図3(b)に示すように、上記第1凝縮層83のアクリル酸モノマーがプラズマ重合し、被処理フィルム9の表面にポリアクリル酸からなる第1プラズマ重合膜81が形成される。ポリアクリル酸は、TACとの親和性が良好であり、TACの表面分子と充分に反応して密着する。特に第1ガスg1及び第2ガスg2には上記添加成分が含有されていないため、第1プラズマ重合膜81のポリアクリル酸の純度を高めることができ、上記親和性を充分に確保できる。被処理フィルム9は、ガイドロール16にて折り返されることによって、第2処理空間92aを往復し、第2処理部92にて2回処理される。
第1ロール11の回転に伴ない、上記第1処理工程を経た被処理フィルム9が第2処理空間92aへ搬送される。第2処理部92では、第2ガスg2を供給部22からノズル32に供給する。この第2ガスg2をノズル32から第2処理空間92aに吹き出す。併行して、ロール12に電力を供給し、第2処理空間92a内に大気圧近傍の放電を生成し、放電生成ガスの窒素をプラズマ化する。この窒素プラズマが第2処理空間92a内の被処理フィルム9の表面に接触する。これによって、図3(b)に示すように、上記第1凝縮層83のアクリル酸モノマーがプラズマ重合し、被処理フィルム9の表面にポリアクリル酸からなる第1プラズマ重合膜81が形成される。ポリアクリル酸は、TACとの親和性が良好であり、TACの表面分子と充分に反応して密着する。特に第1ガスg1及び第2ガスg2には上記添加成分が含有されていないため、第1プラズマ重合膜81のポリアクリル酸の純度を高めることができ、上記親和性を充分に確保できる。被処理フィルム9は、ガイドロール16にて折り返されることによって、第2処理空間92aを往復し、第2処理部92にて2回処理される。
[第3処理工程]
第2処理空間92aを往復後の被処理フィルム9は、第2ロール12に添って第3処理空間93aへ搬送される。第3処理部93では、第3ガスg3を第3ガス供給部23から第3ノズル33に供給する。この第3ガスg3を第3ノズル33から第3処理空間93aに吹き出す。第3ガスg3は、第3処理空間93a内の被処理フィルム9の表面に接触する。図3(c)に示すように、この第3ガスg3中のアクリル酸モノマーが凝縮して、被処理フィルム9に付着し、第1プラズマ重合膜81の上に更にアクリル酸モノマーからなる第2の凝縮層84が形成される。第3処理空間93a内の第3ガスg3の過半は、被処理フィルム9の搬送方向に沿って第4処理空間94aの側へ流れる。遮蔽部材43によって第3ガスg3が外部に漏れるのを抑制又は防止でき、アクリル酸の付着量を確保できる。
第2処理空間92aを往復後の被処理フィルム9は、第2ロール12に添って第3処理空間93aへ搬送される。第3処理部93では、第3ガスg3を第3ガス供給部23から第3ノズル33に供給する。この第3ガスg3を第3ノズル33から第3処理空間93aに吹き出す。第3ガスg3は、第3処理空間93a内の被処理フィルム9の表面に接触する。図3(c)に示すように、この第3ガスg3中のアクリル酸モノマーが凝縮して、被処理フィルム9に付着し、第1プラズマ重合膜81の上に更にアクリル酸モノマーからなる第2の凝縮層84が形成される。第3処理空間93a内の第3ガスg3の過半は、被処理フィルム9の搬送方向に沿って第4処理空間94aの側へ流れる。遮蔽部材43によって第3ガスg3が外部に漏れるのを抑制又は防止でき、アクリル酸の付着量を確保できる。
[第4処理工程]
第2ロール12の回転に伴ない、上記第3処理工程を経た被処理フィルム9が第4処理空間94aへ搬送される。第4処理部94では、第4ガスg4を第4ガス供給部24から第4ノズル34に供給する。この第4ガスg4を第4ノズル34から第4処理空間94aに吹き出す。第4処理空間94a内は、上記電力供給によって大気圧近傍の放電が生成される。これにより、第4ガスg4の窒素及び添加成分がプラズマ化され、このプラズマ化したガスが第4処理空間94a内の被処理フィルム9の表面に接触する。これによって、第1プラズマ重合膜81の重合度を高めることができる。加えて、図3(d)に示すように、第2凝縮層84のアクリル酸モノマーがプラズマ重合し、ポリアクリル酸からなる第2プラズマ重合膜82が第1プラズマ重合膜81上に積層され、接着性促進膜80が形成される。このとき、上記添加成分が分解してポリアクリル酸に結合することで、第2プラズマ重合膜82に疎水性が付与されたり、第2プラズマ重合膜82の架橋度が高まったりすると考えられる。この結果、接着性促進膜80の耐水性を向上できる。被処理フィルム9は、ガイドロール17にて折り返されることによって、第4処理空間94aを往復し、第4処理部94にて2回処理される。第4処理空間94aを往復後の被処理フィルム9は、第3ロール13に添って送られ、支持部10から搬出される。
第2ロール12の回転に伴ない、上記第3処理工程を経た被処理フィルム9が第4処理空間94aへ搬送される。第4処理部94では、第4ガスg4を第4ガス供給部24から第4ノズル34に供給する。この第4ガスg4を第4ノズル34から第4処理空間94aに吹き出す。第4処理空間94a内は、上記電力供給によって大気圧近傍の放電が生成される。これにより、第4ガスg4の窒素及び添加成分がプラズマ化され、このプラズマ化したガスが第4処理空間94a内の被処理フィルム9の表面に接触する。これによって、第1プラズマ重合膜81の重合度を高めることができる。加えて、図3(d)に示すように、第2凝縮層84のアクリル酸モノマーがプラズマ重合し、ポリアクリル酸からなる第2プラズマ重合膜82が第1プラズマ重合膜81上に積層され、接着性促進膜80が形成される。このとき、上記添加成分が分解してポリアクリル酸に結合することで、第2プラズマ重合膜82に疎水性が付与されたり、第2プラズマ重合膜82の架橋度が高まったりすると考えられる。この結果、接着性促進膜80の耐水性を向上できる。被処理フィルム9は、ガイドロール17にて折り返されることによって、第4処理空間94aを往復し、第4処理部94にて2回処理される。第4処理空間94aを往復後の被処理フィルム9は、第3ロール13に添って送られ、支持部10から搬出される。
図4に示すように、フィルム表面処理装置1にて表面処理後の被処理フィルム9を、PVA系接着剤8を介してPVAフィルム7と接着し、偏光板PFを作製する。被処理フィルム9の表面には接着性促進膜80が形成されているため、被処理フィルム9とPVA接着剤8との接着強度を高めることができる。しかも、接着性促進膜80の第2プラズマ重合膜82は疎水化又は高架橋度化されているため、耐水性が高い。したがって、偏光板の接着耐久性を高めることができる。加えて、第1プラズマ重合膜81は、ポリアクリル酸の純度が高いから、TACとの親和性を充分に発現できる。したがって、被処理フィルム9と接着性促進膜80の密着性を確保できる。これによって、偏光板PFの品質を高めることができる。
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を簡略化する。
図5は、本発明の第2実施形態を示したものである。第2実施形態のフィルム表面処理装置1Aでは、第3処理部93の第3ガス供給部23が、アクリル酸の供給部23aと、添加成分の供給部23bとを含む。第4処理部94の第4ガス供給部24は、放電生成ガス(N2)のみを供給する。
図5は、本発明の第2実施形態を示したものである。第2実施形態のフィルム表面処理装置1Aでは、第3処理部93の第3ガス供給部23が、アクリル酸の供給部23aと、添加成分の供給部23bとを含む。第4処理部94の第4ガス供給部24は、放電生成ガス(N2)のみを供給する。
アクリル酸供給部23aは、第1実施形態(図1)の第3ガス供給部23と同じであり、液体アクリル酸をキャリアガス(N2)中に気化させる。
添加成分供給部23bの添加成分は、架橋促進剤にて構成されている。架橋促進剤として、ジアリル化合物、ジアミン化合物、グリシジル化合物、ヒドロキシ化合物等が挙げられる。
ジアリル化合物としては、ジアリルアミン、マイレン酸ジアリル、メタクリル酸アリル等が挙げられる。
ジアミン化合物としては、エチレンジアミン等が挙げられる。
グリシジル化合物としては、アリルグリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
ヒドロキシ化合物としては、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。
ジアリル化合物としては、ジアリルアミン、マイレン酸ジアリル、メタクリル酸アリル等が挙げられる。
ジアミン化合物としては、エチレンジアミン等が挙げられる。
グリシジル化合物としては、アリルグリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
ヒドロキシ化合物としては、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。
添加成分供給部23bは気化器を含む。この気化器にて上記添加成分をキャリアガス中に気化させる。気化は、押し出し方式でもよく、バブリング方式でもよい。キャリアガスとしては、窒素(N2)が用いられている。第3ガス供給部23は、気化させた添加成分を、気化させたアクリル酸に混合する。或いは、液体のアクリル酸に液体の添加成分を混合し、この混合液をキャリアガス中に気化させてもよい。これによって、第3ガスg3が生成される。第3ガスg3は、アクリル酸の蒸気と、上記添加成分の蒸気と、キャリガス(N2)を含む。第3ガスg3中のアクリル酸と添加成分の重量配合比は、(アクリル酸):(添加成分)=99:1~70:30程度が好ましい。
ガス路23c及び第3ノズル33の設定温度は、アクリル酸及び添加成分の凝縮温度より高温であることが好ましい。これによって、アクリル酸及び添加成分が第3ノズル23から吹出される前にガス路23c又は第3ノズル33内で凝縮するのを防止できる。
ロール11,12,13の設定温度は、アクリル酸及び添加成分の凝縮温度より低温であることが好ましい。
第4ノズル34の設定温度は、アクリル酸及び添加成分の凝縮温度より低温であることが好ましい。
ロール11,12,13の設定温度は、アクリル酸及び添加成分の凝縮温度より低温であることが好ましい。
第4ノズル34の設定温度は、アクリル酸及び添加成分の凝縮温度より低温であることが好ましい。
第2実施形態のフィルム表面処理装置1Aでは、図6(a)に示すように、第1処理部91において被処理フィルム9の表面に第1凝縮層83を形成し(第1処理工程)、次いで、図6(b)に示すように、第2処理部92において第1凝縮層83をプラズマ重合させて第1プラズマ重合膜81を形成する(第2処理工程)。その後、第3処理部93において、第3ガスg3を第3ノズル33から第3処理空間93aに吹出す(第3処理工程)。これによって、図6(c)に示すように、第3ガスg3中の気化成分(アクリル酸+添加成分)が凝縮して、被処理フィルム9に付着し、第1プラズマ重合膜81の上に更に第2の凝縮層86が形成される。第2凝縮層86は、アクリル酸モノマーと添加成分(架橋促進剤)の混合液にて構成される。
続いて、第4処理部94において、第4ガスg4を第4ノズル34から第4処理空間94aに吹き出してプラズマ化し、第2凝縮層86に窒素プラズマを照射する(第4処理工程)。これによって、第1プラズマ重合膜81の重合度が高まる。加えて、図6(d)に示すように、第2凝縮層86中のアクリル酸モノマーがプラズマ重合して、ポリアクリル酸からなる第2プラズマ重合膜85が第1プラズマ重合膜81上に積層されるとともに、架橋促進剤が共重合して、第2プラズマ重合膜85のポリアクリル酸を架橋すると考えられる。更に、架橋促進剤の種類によってはポリアクリル酸の接着剤8に対する反応性(密着性)が促進されると考えられる。
これによって、2層の重合膜81,85からなる接着性促進膜80が形成される。この接着性促進膜80の表層の第2プラズマ重合膜85が架橋構造であることで、接着性促進膜80の耐水性を高めることができる。更に、上記添加成分によっては、接着性促進膜80と接着剤8との接着強度を高めることができる。この結果、偏光板の接着耐久性を向上させることができる。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。
例えば、酸素、水素、飽和炭化水素ガス、又は不飽和炭化水素ガスを、第3ガスg3の添加成分としてもよい。架橋促進剤を、第4ガスg4の添加成分としてもよい。
第3ガスg3に添加成分を添加する場合、第3ガスg3の重合性モノマーと添加成分を互いに別々のノズルから吹き出してもよい。
第4ガスg4に添加成分を添加する場合、第4ガスg4の放電生成ガスと添加成分を互いに別々のノズルから吹き出してもよい。
例えば、酸素、水素、飽和炭化水素ガス、又は不飽和炭化水素ガスを、第3ガスg3の添加成分としてもよい。架橋促進剤を、第4ガスg4の添加成分としてもよい。
第3ガスg3に添加成分を添加する場合、第3ガスg3の重合性モノマーと添加成分を互いに別々のノズルから吹き出してもよい。
第4ガスg4に添加成分を添加する場合、第4ガスg4の放電生成ガスと添加成分を互いに別々のノズルから吹き出してもよい。
第1ガスg1及び第3ガスg3の重合性モノマーとして、アクリル酸に代えて、メタクリル酸、イタコン酸、マイレン酸等を用いてもよい。キャリアガスとして、N2に代えて、Ar、He等の希ガスを用いてもよい。放電生成ガスとして、N2に代えて、Ar、He等の希ガスを用いてもよい。
第1処理工程と第2処理工程を同時併行して行なってもよい。第1ノズル31から第1ガスg1を第2処理空間92aに直接導入してプラズマ化してもよい。第1ガスg1中のキャリアガスが、第2ガスg1の放電生成ガスを兼ねていてもよい。
第3処理工程と第4処理工程を同時併行して行なってもよい。第3ノズル33から第3ガスg3を第4処理空間94aに直接導入してプラズマ化してもよい。第3ガスg3中のキャリアガスが、第4ガスg4の放電生成ガスを兼ねていてもよい。
第3処理工程と第4処理工程を同時併行して行なってもよい。第3ノズル33から第3ガスg3を第4処理空間94aに直接導入してプラズマ化してもよい。第3ガスg3中のキャリアガスが、第4ガスg4の放電生成ガスを兼ねていてもよい。
第1実施形態(図1)において、第1ガス供給部21と第3ガス供給部23が共通のアクリル酸供給部にて構成されていてもよい。第2実施形態(図5)において、第1ガス供給部21とアクリル酸供給部23aが共通のアクリル酸供給部にて構成されていてもよい。
第1実施形態(図1)において、第1ガス供給部21のキャリア源と、第2ガス供給部22と、第3ガス供給部23のキャリア源と、第4ガス供給部24の放電ガス供給部24aが、共通の窒素供給源にて構成されていてもよい。第2実施形態(図5)において、第1ガス供給部21のキャリア源と、第2ガス供給部22と、第3ガス供給部23のキャリア源と、第4ガス供給部24が、共通の窒素供給源にて構成されていてもよい。
第1実施形態(図1)において、第1ガス供給部21のキャリア源と、第2ガス供給部22と、第3ガス供給部23のキャリア源と、第4ガス供給部24の放電ガス供給部24aが、共通の窒素供給源にて構成されていてもよい。第2実施形態(図5)において、第1ガス供給部21のキャリア源と、第2ガス供給部22と、第3ガス供給部23のキャリア源と、第4ガス供給部24が、共通の窒素供給源にて構成されていてもよい。
被処理フィルム9の主成分は、TACに限られず、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、シクロオレフィン重合体(COP)、シクロオレフィン共重合体(COC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリイミド(PI)等であってもよい。
本発明は、偏光板用保護フィルムの表面処理に限られず、種々の樹脂フィルムに重合性モノマーの重合膜を形成する処理に適用可能である。
実施例を説明するが、本発明が以下の実施例に限定されるものではない。
図1に示すフィルム表面処理装置1を用い、フィルム9の表面処理を行なった。
装置1の寸法構成は、以下の通りであった。
ロール11,12,13の処理幅方向の軸長:390mm
ロール11,12,13の直径:320mm
ノズル31~34の吹き出し幅:300mm
遮蔽部材41,43の円弧方向の周長:275mm
第1処理空間91aの厚さ:全域で5mm(一定)
第2処理空間92aの最狭部の厚さ:1mm
第3処理空間93aの厚さ:全域で5mm(一定)
第4処理空間94aの最狭部の厚さ:1mm
図1に示すフィルム表面処理装置1を用い、フィルム9の表面処理を行なった。
装置1の寸法構成は、以下の通りであった。
ロール11,12,13の処理幅方向の軸長:390mm
ロール11,12,13の直径:320mm
ノズル31~34の吹き出し幅:300mm
遮蔽部材41,43の円弧方向の周長:275mm
第1処理空間91aの厚さ:全域で5mm(一定)
第2処理空間92aの最狭部の厚さ:1mm
第3処理空間93aの厚さ:全域で5mm(一定)
第4処理空間94aの最狭部の厚さ:1mm
被処理フィルム9として、TACフィルムを用いた。TACフィルム9の幅は、325mmであった。
TACフィルム9の搬送速度は、30m/minとした。
ロール11~13の温度、ひいてはTACフィルム9の温度は、40℃に設定した。
TACフィルム9の搬送速度は、30m/minとした。
ロール11~13の温度、ひいてはTACフィルム9の温度は、40℃に設定した。
電源から中央のロール電極12への供給電力は、3015W(450V、6.7Aの直流を高周波変換)であった。この電力の半分(1507.5W)をロール電極11,12間のプラズマ放電に消費し、残り半分(1507.5W)をロール電極12,13間のプラズマ放電に消費した。ロール電極11,12間の印加電圧及びロール電極12,13間の印加電圧は、共に18.1kVであった。
[第1処理工程]
第1処理部91において、第1ガスg1をTACフィルム9に接触させた。
第1ガスg1の重合性モノマーとしてアクリル酸を用い、キャリアガスとして窒素(N2)を用いた。
第1ガス供給部21の気化器の温度は140℃とした。
第1ガスg1のキャリアガス(N2)の流量、ひいては第1ガスg1(アクリル酸+N2)の流量は、40slmとした。第1ガスg1中のアクリル酸流量は、7.5g/minであった。
第1ノズル31の温度ひいては第1ガスg1の吹き出し温度は、75℃に設定した。
第1処理部91において、第1ガスg1をTACフィルム9に接触させた。
第1ガスg1の重合性モノマーとしてアクリル酸を用い、キャリアガスとして窒素(N2)を用いた。
第1ガス供給部21の気化器の温度は140℃とした。
第1ガスg1のキャリアガス(N2)の流量、ひいては第1ガスg1(アクリル酸+N2)の流量は、40slmとした。第1ガスg1中のアクリル酸流量は、7.5g/minであった。
第1ノズル31の温度ひいては第1ガスg1の吹き出し温度は、75℃に設定した。
[第2処理工程]
次に、第2処理部92において、第2ガスg2をプラズマ化してTACフィルム9に接触させた。
第2ガスg2として窒素(N2)を用いた。第2ガスg2の流量は、20slmとした。
第2ノズル32の温度ひいては第2ガスg2の温度は、40℃に設定した。
次に、第2処理部92において、第2ガスg2をプラズマ化してTACフィルム9に接触させた。
第2ガスg2として窒素(N2)を用いた。第2ガスg2の流量は、20slmとした。
第2ノズル32の温度ひいては第2ガスg2の温度は、40℃に設定した。
[第3処理工程]
次に、第3処理部93において、第3ガスg3をTACフィルム9に接触させた。
第3ガスg3の重合性モノマーとしてアクリル酸を用い、キャリアガスとして窒素(N2)を用いた。
第3ガス供給部23の気化器の温度は140℃とした。
第3ガスg3のキャリアガス(N2)の流量、ひいては第3ガスg3(アクリル酸+N2)の流量は、40slmとした。第3ガスg3中のアクリル酸流量は、7.5g/minであった。第3ガスg3中の添加成分量は0であった。
第3ノズル33の温度ひいては第3ガスg3の吹き出し温度は、75℃に設定した。
次に、第3処理部93において、第3ガスg3をTACフィルム9に接触させた。
第3ガスg3の重合性モノマーとしてアクリル酸を用い、キャリアガスとして窒素(N2)を用いた。
第3ガス供給部23の気化器の温度は140℃とした。
第3ガスg3のキャリアガス(N2)の流量、ひいては第3ガスg3(アクリル酸+N2)の流量は、40slmとした。第3ガスg3中のアクリル酸流量は、7.5g/minであった。第3ガスg3中の添加成分量は0であった。
第3ノズル33の温度ひいては第3ガスg3の吹き出し温度は、75℃に設定した。
[第4処理工程]
次に、第4処理部94において、第4ガスg4をプラズマ化してTACフィルム9に接触させた。
第4ガスg4の放電生成ガスとして窒素(N2)を用い、添加成分としてO2を用いた。第4ガスg4中のN2の流量は、20slmとした。第4ガスg4中のO2の流量は、20sccmとした。第4ガスg4中のO2の濃度は1000ppmであった。第4ノズル34の温度ひいては第4ガスg4の温度は、40℃に設定した。
次に、第4処理部94において、第4ガスg4をプラズマ化してTACフィルム9に接触させた。
第4ガスg4の放電生成ガスとして窒素(N2)を用い、添加成分としてO2を用いた。第4ガスg4中のN2の流量は、20slmとした。第4ガスg4中のO2の流量は、20sccmとした。第4ガスg4中のO2の濃度は1000ppmであった。第4ノズル34の温度ひいては第4ガスg4の温度は、40℃に設定した。
表面処理後のTACフィルム9の被処理面に接着剤8を塗布し、PVAフィルム7と貼り合わせた。接着剤8として、(A)重合度500のPVA 5wt%水溶液と、(B)カルボキシメチルセルロースナトリウム 2wt%水溶液とを混合した水溶液を用いた。(A)及び(B)の混合比は、(A):(B)=20:1とした。接着剤の乾燥条件は80℃、5分間とした。
PVAフィルム7の反対側の面には、鹸化処理したTACフィルムを上記と同じ接着剤にて貼り合わせた。これにより、3層構造の偏光板サンプルを複数作製した。偏光板サンプルの幅は、25mmとした。
PVAフィルム7の反対側の面には、鹸化処理したTACフィルムを上記と同じ接着剤にて貼り合わせた。これにより、3層構造の偏光板サンプルを複数作製した。偏光板サンプルの幅は、25mmとした。
[初期接着強度]
接着剤8が硬化した後、後述する湿熱処理を経ていない偏光板サンプルについて、被処理TACフィルム9とPVAフィルム7との接着強度(「初期接着強度」と称す)を測定した。測定方法は浮動ローラー法(JIS K6854)に依った。結果は、5つの測定値の平均で、9.6N/25mmであった。
接着剤8が硬化した後、後述する湿熱処理を経ていない偏光板サンプルについて、被処理TACフィルム9とPVAフィルム7との接着強度(「初期接着強度」と称す)を測定した。測定方法は浮動ローラー法(JIS K6854)に依った。結果は、5つの測定値の平均で、9.6N/25mmであった。
[耐久接着強度]
残りの偏光板サンプルに対して、接着剤8が硬化した後、湿熱処理した。湿熱処理槽の内部を60℃、96%RHの高温高湿度環境にし、この湿熱処理槽内に偏光板サンプルを1時間留置した。その後、偏光板サンプルを湿熱処理槽から出し、室温下で15分間冷却した。そして、被処理TACフィルム9とPVAフィルム7との接着強度(「耐久接着強度」と称す)を上記初期接着強度と同じ浮動ローラー法(JIS K6854)にて測定した。結果は、5つの測定値の平均で、9.1N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
残りの偏光板サンプルに対して、接着剤8が硬化した後、湿熱処理した。湿熱処理槽の内部を60℃、96%RHの高温高湿度環境にし、この湿熱処理槽内に偏光板サンプルを1時間留置した。その後、偏光板サンプルを湿熱処理槽から出し、室温下で15分間冷却した。そして、被処理TACフィルム9とPVAフィルム7との接着強度(「耐久接着強度」と称す)を上記初期接着強度と同じ浮動ローラー法(JIS K6854)にて測定した。結果は、5つの測定値の平均で、9.1N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
さらに、第4処理工程において第4ガスg4中のO2濃度を上記と異なる値にしてTACフィルムの処理を行ない、該TACフフィルムを用いた偏光板サンプルに対して、耐久接着強度を測定したところ、O2濃度が500ppmを下回ると、耐久接着強度が低下し、所望の効果を得られなかった。O2濃度が3000ppmを超えると、耐久接着強度だけでなく初期接着強度までもが低下した。O2濃度が3000ppmを超えると、アクリル酸の重合反応そのものが阻害されるものと考えられる。
実施例2では、第4処理工程において、第4ガスg4中の添加成分をH2とし、その流量を40sccmとした。第4ガスg4中のH2濃度は2000ppmであった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、9.8N/25mmであり、耐久接着強度は、7.2N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
実施例3では、第4処理工程において、第4ガスg4中の添加成分をH2とし、その流量を100sccmとした。第4ガスg4中のH2濃度は5000ppmであった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、9.8N/25mmであり、耐久接着強度は、8.8N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
実施例4では、第4処理工程において、第4ガスg4中の添加成分をH2とし、その流量を160sccmとした。第4ガスg4中のH2濃度は8000ppmであった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、9.8N/25mmであり、耐久接着強度は、9.3N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
実施例2~4から明らかな通り、第4ガスg4中のH2の濃度が200ppm~8000ppmの範囲では、H2濃度が大きくなるにしたがって耐久接着強度が増大した。さらに、第4処理工程において第4ガスg4中のH2濃度を上記実施例2~3と異なる値にして処理を行なった偏光板サンプルに対して、耐久接着強度を測定したところ、H2濃度が500ppmを下回ると、耐久接着強度が低下し、所望の効果を得られなかった。H2濃度が8000ppm以上の範囲では、H2濃度を変えても耐久接着強度は8000ppmのときと同程度の大きさであった。したがって、接着耐久性の向上効果が飽和した。
実施例5では、第4処理工程において、第4ガスg4中の添加成分をメタンとし、その流量を160sccmとした。第4ガスg4中のメタン濃度は8000ppmであった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、9.4N/25mmであり、耐久接着強度は、9.0N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
実施例6では、第4処理工程において、第4ガスg4中の添加成分をアセチレンとし、その流量を160sccmとした。第4ガスg4中のアセチレン濃度は8000ppmであった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.8N/25mmであり、耐久接着強度は、10.1N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
実施例7では、第2実施形態(図5)の装置1Aを用い、第3処理工程において、第3ガスg3に添加成分を添加した。添加成分として、メタクリル酸アリルを用いた。第3ガスg3のキャリアガス(N2)の流量、ひいては第3ガスg3全体の流量は40slmであり、第3ガスg3中のアクリル酸流量は、7.5g/minであり、第3ガスg3中のメタクリル酸アリルの流量は、0.375g/minであった。第4処理工程の第4ガスg4は、N2 20slmのみとし、第4ガスg4中の添加成分量は0とした。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.2N/25mmであり、耐久接着強度は、9.8N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
実施例8では、第2実施形態(図5)の装置1Aを用い、第3処理工程において、第3ガスg3の添加成分として、ジアリルアミンを用いた。第3ガスg3のキャリアガス(N2)の流量、ひいては第3ガスg3全体の流量は40slmであり、第3ガスg3中のアクリル酸流量は、7.5g/minであり、第3ガスg3中のエチレンジアミンの流量は、0.375g/minであった。それ以外の処理条件は、実施例5と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順については実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.1N/25mmであり、耐久接着強度は、9.6N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒されても接着強度を維持できることが確認された。
[比較例1]
比較例1では、第3処理工程における第3ガスg3、及び第4処理工程における第4ガスg4の何れにも添加成分を添加しなかった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。したがって、第3処理工程の処理条件は、第1処理工程の処理条件と同じであり、第4処理工程の処理条件は、第2処理工程と同じであった。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.3N/25mmであり、耐久接着強度は、6.2N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒すと接着性が劣化した。
比較例1では、第3処理工程における第3ガスg3、及び第4処理工程における第4ガスg4の何れにも添加成分を添加しなかった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。したがって、第3処理工程の処理条件は、第1処理工程の処理条件と同じであり、第4処理工程の処理条件は、第2処理工程と同じであった。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.3N/25mmであり、耐久接着強度は、6.2N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒すと接着性が劣化した。
[比較例2]
比較例2では、第2処理工程における第2ガスg2の放電生成ガス(N2 20slm)に水素(H2)を160sccm添加した。第3ガスg3及び第4ガスg4には、添加成分を添加しなかった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.3N/25mmであり、耐久接着強度は、5.5N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒すと接着性が劣化した。
比較例2では、第2処理工程における第2ガスg2の放電生成ガス(N2 20slm)に水素(H2)を160sccm添加した。第3ガスg3及び第4ガスg4には、添加成分を添加しなかった。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.3N/25mmであり、耐久接着強度は、5.5N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒すと接着性が劣化した。
[比較例3]
比較例3では、第2処理工程における第2ガスg2の放電生成ガス(N2 20slm)に水素(H2)を160sccm添加し、かつ、第4処理工程における第4ガスg4に添加成分として、水素(H2)を160sccm添加した。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.3N/25mmであり、耐久接着強度は、5.9N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒すと接着性が劣化した。
比較例3では、第2処理工程における第2ガスg2の放電生成ガス(N2 20slm)に水素(H2)を160sccm添加し、かつ、第4処理工程における第4ガスg4に添加成分として、水素(H2)を160sccm添加した。それ以外の処理条件は、実施例1と同じとした。表面処理後の偏光板サンプルの作製手順、並びに初期接着強度及び耐久接着強度の測定手順についても実施例1と同じであった。初期接着強度は、10.3N/25mmであり、耐久接着強度は、5.9N/25mmであった。したがって、湿熱環境に晒すと接着性が劣化した。
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ(FPD)の偏光板の製造に適用可能である。
PF 偏光板
1 フィルム表面処理装置
7 PVAフィルム
8 PVA接着剤
9 被処理フィルム
10 支持部(搬送手段)
11 第1ロール
12 第2ロール
13 第3ロール
16 前段ガイドロール
17 後段ガイドロール
21 第1ガス供給部
21c 第1ガス供給ライン
22 第2ガス供給部
23 第3ガス供給部
23a アクリル酸供給部(重合性モノマー供給部)
23b 添加成分供給部
23c 第3ガス供給ライン
24 第4ガス供給部
24a 放電ガス供給部
24b 添加成分供給部
31 第1ノズル
32 第2ノズル
33 第3ノズル
34 第4ノズル
41,43 遮蔽部材
51,52 閉塞部材
80 接着性促進膜
81 第1プラズマ重合膜
82 第2プラズマ重合膜
83 第1凝縮層
84 第2凝縮層
85 第2プラズマ重合膜
86 第2凝縮層
91 第1処理部
91a 第1処理空間
92 第2処理部
92a 第2処理空間(第1、第2ロール間のギャップ)
93 第3処理部
93a 第3処理空間
94 第4処理部
94a 第4処理空間(第2、第3ロール間のギャップ)
g1 第1ガス
g2 第2ガス
g3 第3ガス
g4 第4ガス
1 フィルム表面処理装置
7 PVAフィルム
8 PVA接着剤
9 被処理フィルム
10 支持部(搬送手段)
11 第1ロール
12 第2ロール
13 第3ロール
16 前段ガイドロール
17 後段ガイドロール
21 第1ガス供給部
21c 第1ガス供給ライン
22 第2ガス供給部
23 第3ガス供給部
23a アクリル酸供給部(重合性モノマー供給部)
23b 添加成分供給部
23c 第3ガス供給ライン
24 第4ガス供給部
24a 放電ガス供給部
24b 添加成分供給部
31 第1ノズル
32 第2ノズル
33 第3ノズル
34 第4ノズル
41,43 遮蔽部材
51,52 閉塞部材
80 接着性促進膜
81 第1プラズマ重合膜
82 第2プラズマ重合膜
83 第1凝縮層
84 第2凝縮層
85 第2プラズマ重合膜
86 第2凝縮層
91 第1処理部
91a 第1処理空間
92 第2処理部
92a 第2処理空間(第1、第2ロール間のギャップ)
93 第3処理部
93a 第3処理空間
94 第4処理部
94a 第4処理空間(第2、第3ロール間のギャップ)
g1 第1ガス
g2 第2ガス
g3 第3ガス
g4 第4ガス
Claims (8)
- 樹脂製の被処理フィルムの表面を処理するフィルム表面処理方法であって、
気化させた重合性モノマーを含有する第1ガスを前記被処理フィルムに接触させる第1処理工程と、
前記第1処理工程後又は前記第1処理工程と併行して、放電生成ガスを含有する第2ガスをプラズマ化して前記被処理フィルムに接触させる第2処理工程と、
前記第2処理工程の後、気化させた重合性モノマーを含有する第3ガスを前記被処理フィルムに接触させる第3処理工程と、
前記第3処理工程後又は前記第3処理工程と併行して、放電生成ガスを含有する第4ガスをプラズマ化して前記被処理フィルムに接触させる第4処理工程と、
を備え、前記第3ガス又は前記第4ガスが添加成分を更に含有し、前記添加成分が、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤であることを特徴とするフィルム表面処理方法。 - 前記第4ガスが、前記添加成分として酸素を500ppm~3000ppm含有していることを特徴とする請求項1に記載のフィルム表面処理方法。
- 前記第4ガスが、前記添加成分として水素を500ppm~10000ppm含有していることを特徴とする請求項1に記載のフィルム表面処理方法。
- 前記第4ガスが、前記添加成分としてメタン、又はエチレン、若しくはアセチレンを含有していることを特徴とする請求項1に記載のフィルム表面処理方法。
- 前記第3ガスが、前記添加成分として、ジアリル化合物、ジアミン化合物、グリシジル化合物、又はヒドロキシ化合物からなる架橋促進剤の気化ガスを含有していることを特徴とする請求項1に記載のフィルム表面処理装置。
- 前記第1ガスの重合性モノマー及び前記第3ガスの重合性モノマーが、アクリル酸であることを特徴とする請求項1~5の何れか1項に記載のフィルム表面処理装置。
- 樹脂製の被処理フィルムの表面を処理するフィルム表面処理装置であって、
前記被処理フィルムを支持する支持部と、
気化させた重合性モノマーを含有する第1ガスを前記被処理フィルムに接触させる処理を行なう第1処理部と、
放電生成ガスを含有する第2ガスをプラズマ化して被処理フィルムに接触させる処理を行なう第2処理部と、
気化させた重合性モノマーを含有する第3ガスを被処理フィルムに接触させる処理を行なう第3処理部と、
放電生成ガスを含有する第4ガスをプラズマ化して被処理フィルムに接触させる処理を行なう第4処理部と、
前記被処理フィルムを、前記第1処理部、前記第2処理部、前記第3処理部、前記第4処理部の順に搬送する搬送手段と、
を備え、前記第3ガス又は前記第4ガスが添加成分を更に含有し、前記添加成分が、酸素ガス、水素ガス、飽和炭化水素ガス、若しくは不飽和炭化水素ガス、又は架橋促進剤であることを特徴とするフィルム表面処理装置。 - 前記支持部が、互いに平行に並べられた第1、第2、第3のロールを含み、前記被処理フィルムが、これらロールに掛け回され、かつこれらロールの回転によって前記第1ロール、前記第2ロール、前記第3ロールの順に送られ、
前記第1処理部が、前記第1ロールの周面に面して前記第1ガスを吹き出す第1ノズルを含み、
前記第2処理部が、前記第1ロールと前記第2ロールの間のギャップに前記第2ガスを吹き出す第2ノズルを含み、前記第1、第2ロールが、互いの間に大気圧近傍の放電を生成する一対の電極を構成し、
前記第3処理部が、前記第2ロールの周面に面して前記第3ガスを吹き出す第3ノズルを含み、
前記第4処理部が、前記第2ロールと前記第3ロールの間のギャップに前記第4ガスを吹き出す第4ノズルを含み、前記第2、第3ロールが、互いの間に大気圧近傍の放電を生成する一対の電極を構成することを特徴とする請求項7に記載のフィルム表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013502266A JPWO2012117933A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-02-23 | フィルム表面処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011042294 | 2011-02-28 | ||
JP2011-042294 | 2011-02-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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TW (1) | TW201241490A (ja) |
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JP2004075738A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 高機能フィルムの製造方法及び製造装置 |
WO2010150551A1 (ja) * | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 積水化学工業株式会社 | フィルムの表面処理方法及び装置並びに偏光板の製造方法 |
-
2012
- 2012-02-23 WO PCT/JP2012/054397 patent/WO2012117933A1/ja active Application Filing
- 2012-02-23 JP JP2013502266A patent/JPWO2012117933A1/ja active Pending
- 2012-02-24 TW TW101106409A patent/TW201241490A/zh unknown
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KR101930972B1 (ko) | 2011-08-30 | 2018-12-19 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 필름 표면 처리 방법 및 장치 |
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WO2017115615A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 住友化学株式会社 | 樹脂フィルム付光学部材の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW201241490A (en) | 2012-10-16 |
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