WO2010143503A1 - 反射防止膜、表示装置及び透光部材 - Google Patents

反射防止膜、表示装置及び透光部材 Download PDF

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WO2010143503A1
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moth
less
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eye
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田口登喜生
今奥崇夫
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シャープ株式会社
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/118Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502Antiglare, refractive index matching layers

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film, a display device, and a translucent member. More specifically, an antireflection film provided on the surface of a substrate, a display device including the antireflection film, and a translucent member including the antireflection film.
  • the surface of a display such as a cathode ray tube (CRT: Cathode Ray Tube) display, a liquid crystal display (LCD: Liquid Crystal Display), a plasma display (PDP: Plasma Display Panel), an electroluminescence (EL) display, etc. has an anti-scratch function.
  • a display such as a cathode ray tube (CRT: Cathode Ray Tube) display, a liquid crystal display (LCD: Liquid Crystal Display), a plasma display (PDP: Plasma Display Panel), an electroluminescence (EL) display, etc.
  • CTR Cathode Ray Tube
  • LCD Liquid Crystal Display
  • PDP Plasma Display Panel
  • an electroluminescence (EL) display etc.
  • Various functions such as an external light reflection prevention function and a dirt prevention function are required.
  • a material whose refractive index is different from the material constituting the display is coated on the surface of the display, and the light reflected on the surface of the display and the light reflected on the surface of the film are reflected.
  • LR low reflection
  • the reflection that occurs at the interface between the air and the coating surface and the reflection that occurs at the interface between the coating surface and the display surface usually have different amplitude reflectance and phase from the ideal conditions. Was not completely canceled out and was not sufficient as an antireflection effect. Therefore, only by performing the LR process, ambient light is reflected with a constant reflectivity, so that an image of a light source such as a fluorescent lamp is reflected on the display, which makes the display very difficult to see. Therefore, a fine concavo-convex pattern is formed on the surface of the display, and an anti-glare (AG) process that prevents the reflection of external light using the light scattering effect is further performed to scatter the light.
  • A anti-glare
  • Patent Documents 1 and 2 a method of forming a fine uneven pattern
  • a method of forming a relief hologram or diffraction grating attached to a credit card, an ID card, a gift certificate, a bill or the like for security purposes is known (for example, see Patent Documents 1 and 2.)
  • a liquid photocurable resin composition is applied on a transparent support such as a polyester film to form a liquid photocurable resin layer, and a fine uneven pattern is formed thereon.
  • a moth-eye that can obtain an antireflection effect without using optical interference (Moth-eye).
  • the structure has attracted attention.
  • the moth-eye structure is arranged on the surface of the article to be anti-reflective treated by arranging the concave and convex patterns that are finer than the AG treatment and spaced below the wavelength of light (for example, 380 nm or less) without any gaps.
  • the change in the refractive index at the boundary between and the material is made pseudo-continuous, almost all of the light is transmitted regardless of the refractive index interface, and light reflection on the surface of the article can be almost eliminated (for example, Patent Documents 3 and 4).
  • JP 2004-59820 A JP 2004-59822 A JP-T-2001-517319 Special Table 2003-531962
  • the present inventors have conducted various studies on an antireflection film having a moth-eye structure on the surface (hereinafter also referred to as a moth-eye film), and depending on the constituent material and manufacturing conditions of the moth-eye film, As a result, for example, when such a moth-eye film is attached to the surface of the display device, the image projected by the display device is visually recognized as an image with a cloudiness. I found out.
  • This invention is made
  • the present inventors have focused on the tip of each convex portion constituting the moth-eye film. And, as a feature of the structure of the moth-eye film that easily scatters light, it is found that it has a sticking structure formed by sticking the tip portions of each convex part, and the sticking structure scatters light. I found what was causing it.
  • the present inventors have found that it is possible to make it difficult to form such a sticking structure by devising the constituent materials and manufacturing conditions of the moth-eye film, and can solve the above-mentioned problems brilliantly.
  • the present inventors have arrived at the present invention by conceiving what can be done.
  • the present invention is an antireflection film having a moth-eye structure including a plurality of protrusions having a width between vertices of adjacent protrusions that is equal to or less than a visible light wavelength, and the moth-eye structure includes It is an antireflection film (hereinafter also referred to as a first antireflection film of the present invention) that does not have a sticking structure formed by bonding tip portions to each other.
  • the present invention is an antireflection film having a moth-eye structure including a plurality of protrusions having a width between vertices of adjacent protrusions that is equal to or less than a visible light wavelength, and the moth-eye structure includes The anti-reflection film having a sticking structure formed by bonding tip portions to each other and having a diameter of less than 0.3 ⁇ m per one (hereinafter also referred to as a second anti-reflection film of the present invention) .)
  • the present invention is an antireflection film having a moth-eye structure including a plurality of protrusions having a width between vertices of adjacent protrusions that is equal to or less than a visible light wavelength.
  • the tip portions have a sticking structure formed by bonding each other, the diameter of the sticking structure is 0.3 ⁇ m or more per one, and the density of the number of the sticking structures with respect to the plane area of the antireflection film is
  • It is also an anti-reflection film (hereinafter also referred to as a third anti-reflection film of the present invention) of less than 2.1 pieces / ⁇ m 2 .
  • the first to third antireflection films of the present invention have a moth-eye structure including a plurality of protrusions having a width (interval or pitch) between apexes of adjacent protrusions that is not more than a visible light wavelength on the surface.
  • the “visible wavelength or shorter” means 380 nm or lower, which is the lower limit of a general visible light wavelength range, more preferably 300 nm or shorter, and still more preferably about 1 ⁇ 2 of the visible light wavelength. 200 nm or less.
  • the width of the moth-eye structure exceeds 400 nm, it may be colored with a blue wavelength component, but its influence is sufficiently suppressed by setting the width to 300 nm or less, and hardly affected by setting the width to 200 nm or less. .
  • the moth-eye structure does not have a sticking structure formed by joining the tips of the convex portions to each other. That is, in the first antireflection film of the present invention, the density of the number of sticking structures with respect to the plane area of the antireflection film can be paraphrased as being less than 0 / ⁇ m 2 .
  • the sticking structure easily scatters the light incident on the antireflection film. For example, when the antireflection film is applied to a display device, the display tends to cause cloudiness.
  • the sticking structure refers to one bundle formed by bending the tip portions of the convex portions and joining the tip portions to each other, and specifically includes not only the tip portion but also the tip portion. Examples include those in which the entire convex portion is integrated, and those in which only the tip portions are coupled to each other and the inside is hollow.
  • the number of convex portions constituting the sticking structure is not particularly limited.
  • the shape of the sticking structure when the surface of the antireflection film is viewed in a plane includes a circle, an ellipse, a polygon, a star, a flower, and an indeterminate shape, and each convex portion has a regular structure. If it is, it tends to be a star shape, a saddle shape, a flower shape, or an indefinite shape.
  • the moth-eye structure has a sticking structure formed by connecting the tip portions of the convex portions to each other, and the diameter of the sticking structure is less than 0.3 ⁇ m per one , Preferably less than 0.2 ⁇ m.
  • the diameter of the sticking structure is less than 0.3 ⁇ m, preferably less than 0.2 ⁇ m, the sticking structure hardly scatters the light incident on the antireflection film.
  • the size (pitch) is sufficiently small with respect to the visible light wavelength, so that the moth-eye antireflection effect is sufficiently obtained and the influence of scattering is sufficiently small.
  • the diameter of the sticking structure refers to the width of the longest portion of the sticking structure when the surface of the antireflection film is viewed in plan.
  • the moth-eye structure has a sticking structure formed by joining the tip portions of the convex portions to each other, and the diameter of the sticking structure is 0.3 ⁇ m or more per one
  • the density of the number of sticking structures with respect to the plane area of the antireflection film is less than 2.1 / ⁇ m 2 . Even if the diameter of the sticking structure is 0.3 ⁇ m or more, if the ratio of the sticking structure to the fixed area is low, light scattering can be almost ignored.
  • the occupying range for example, even when an antireflection film is applied to a display device, a white turbidity is unlikely to occur in the display.
  • the configurations of the first to third antireflection films of the present invention are not particularly limited by other components as long as these components are formed as essential.
  • the aspect ratio per one of the plurality of convex portions is preferably less than 1.0. Moreover, it is preferable that the height per one of the plurality of convex portions is less than 200 nm.
  • the aspect ratio refers to the ratio of the height to the bottom per protrusion. That is, the value obtained by dividing the height by the base (height / base value) corresponds to the aspect ratio.
  • the tip part of the convex part becomes difficult to bend, so that the occurrence of a sticking structure can be prevented.
  • the convex part here refers to what does not comprise the sticking structure.
  • the aspect ratio per one of the plurality of convex portions is preferably 0.8 or more. Moreover, it is preferable that the height per one of the plurality of convex portions is 160 nm or more. If the aspect ratio or height per protrusion is too low, light on the long wavelength side (yellow to red) may be reflected. Therefore, by adjusting the aspect ratio per convex portion within such a range, for example, when an antireflection film is applied to a display device, a display with little color and high uniformity can be obtained.
  • the maximum value of the curve indicating the temperature dependence characteristics of tan ⁇ of the material of the antireflection film is preferably 0.4 or less, and more preferably 0.3 or less.
  • the aspect ratio per one of the plurality of convex portions is preferably 0.7 or more and 1.1 or less, and particularly effective when the aspect ratio is 0.9 or more and 1.1 or less. It is.
  • the height per one of the plurality of convex portions at this time is preferably 140 nm or more and 220 nm or less, and is particularly effective when it is 180 nm or more and 220 nm or less.
  • the shape of the convex portion hardly changes. Therefore, the tip of the convex portion is less likely to be bent, which can prevent the occurrence of a sticking structure.
  • the change in the shape of the convex portion can be suppressed even when the aspect ratio per convex portion, in which the tip portion of the convex portion is easily bent, is 0.9 or more. Similarly, even if the height per convex portion is 180 nm or more, a change in the shape of the convex portion can be suppressed.
  • the full width at half maximum with respect to the maximum value of the curve showing the temperature dependence characteristic of tan ⁇ of the material of the antireflection film is preferably 52 ° C. or more, and more preferably 92 ° C. or more.
  • the aspect ratio per one of the plurality of convex portions is preferably 0.7 or more and 1.1 or less, and particularly effective when the aspect ratio is 0.9 or more and 1.1 or less. It is.
  • the height per one of the plurality of convex portions at this time is preferably 140 nm or more and 220 nm or less, and is particularly effective when it is 180 nm or more and 220 nm or less.
  • the shape of the convex portion hardly changes. Therefore, the tip of the convex portion is less likely to be bent, which can prevent the occurrence of a sticking structure.
  • the change in the shape of the convex portion can be suppressed even when the aspect ratio per convex portion, in which the tip portion of the convex portion is easily bent, is 0.9 or more. Similarly, even if the height per convex portion is 180 nm or more, a change in the shape of the convex portion can be suppressed.
  • the differential coefficient of the curve showing the temperature dependence characteristics of the storage elastic modulus of the material of the antireflection film is preferably ⁇ 1.0 ⁇ 10 ⁇ 8 or more in the range from the start point of change to the end point of change, More preferably, it is 0.8 ⁇ 10 ⁇ 8 or more. Further, the differential coefficient in the temperature dependence characteristic of the storage elastic modulus of the material of the antireflection film is preferably 1.0 ⁇ 10 ⁇ 8 or less in the range from the start point of change to the end point of change, 0.8 It is more preferable that it is 10 ⁇ 8 or less.
  • the aspect ratio per one of the plurality of convex portions at this time is preferably 0.7 or more and 1.1 or less, particularly effective when it is 0.9 or more and 1.1 or less. It is.
  • the height per one of the plurality of convex portions is preferably 140 nm or more and 220 nm or less, and particularly effective when the height is 180 nm or more and 220 nm or less.
  • the differential coefficient in the range from the start point of the change in storage elastic modulus involved in the dynamic viscoelasticity of the material of the antireflection film to the end point of change is close to 0, that is, the slope of the storage elastic modulus curve based on the temperature dependence characteristics Since the shape of the convex portion is less likely to change and the tip end portion of the convex portion is less likely to be bent, the occurrence of the sticking structure can be prevented.
  • the change in the shape of the convex portion can be suppressed even when the aspect ratio per convex portion, in which the tip portion of the convex portion is easily bent, is 0.9 or more. Similarly, even if the height per convex portion is 180 nm or more, a change in the shape of the convex portion can be suppressed.
  • a resin film used as an antireflection film usually has dynamic viscoelasticity.
  • the dynamic viscoelasticity of the resin has temperature-dependent characteristics, and physical properties such as storage elastic modulus (E ′) and loss elastic modulus (E ′′) change depending on the temperature.
  • Loss elastic modulus (E ′′) / storage The value of tan ⁇ calculated by the elastic modulus (E ′) is used as a parameter representing the characteristics of the resin.
  • the physical properties of such a resin can be specified by, for example, dynamic viscoelasticity measurement.
  • dynamic viscoelasticity measurement data representing the storage elastic modulus (E ′), loss elastic modulus (E ′′) and tan ⁇ temperature change can be obtained for each measurement frequency.
  • the temperature at which glass transition occurs glass transition temperature
  • E ′ decreases
  • E ′′ and tan ⁇ peaks are observed.
  • the glass transition of the resin is a relaxation phenomenon and depends on the time factor
  • the change indicating the glass transition shows a temperature shift depending on the measurement frequency, and the transition region shifts to a higher temperature side as the frequency becomes higher.
  • the dynamic storage elastic modulus (E ′) and the dynamic loss elastic modulus (E ′′) are measured according to a method according to JIS K-7244, the sample dynamic amplitude speed (driving frequency) is 1 Hz, The value obtained when temperature dependent characteristics (temperature dispersion) are measured under the conditions of tensile mode, distance between chucks of 5 mm, strain amplitude of 10 ⁇ m, initial value of force amplitude of 100 mN, and temperature rise temperature of 2 ° C./min. .
  • the glass transition temperature (Tg) of the material of the antireflection film is preferably 200 ° C. or less, and more preferably 100 ° C. or less.
  • the glass transition temperature (Tg) of the antireflection film material is preferably 0 ° C. or higher.
  • the glass transition temperature (Tg) is a sample dynamic amplitude speed (driving frequency) of 1 Hz, a tensile mode, a distance between chucks of 5 mm, and a temperature rising temperature of 2 ° C. by a method according to JIS K-7244. This is the temperature at which tan ⁇ is maximized when the temperature-dependent characteristic (temperature dispersion) is measured under the condition of / min.
  • a mold having a plurality of concave portions in which the width between the apexes of adjacent convex portions is equal to or less than the visible light wavelength is pushed onto the surface of the resin film serving as the antireflection film.
  • Tg glass transition temperature
  • a resin having a Tg of more than 100 ° C. shrinkage tends to occur when the resin film is cured, and in particular, a film substrate such as PET (polyethylene terephthalate), TAC (triacetylcellulose), COP (cycloolefin polymer), etc.
  • PET polyethylene terephthalate
  • TAC triacetylcellulose
  • COP cycloolefin polymer
  • the storage elastic modulus (E ′) is preferably 0.1 GPa or more at 25 ° C.
  • the storage elastic modulus of the material of the antireflection film satisfies the above range, it is possible to improve the temporal stability of the shape of the antireflection film and the impact resistance in an environment where the antireflection film is actually used.
  • the first to third antireflection films of the present invention can be used for a display device, and can give a display that does not cause a cloudiness due to reflection to an observer. That is, the present invention is also a display device including any one of the first to third antireflection films of the present invention.
  • the display device of the present invention is not particularly limited, such as a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, an inorganic electroluminescence display device, a plasma display device, and a cathode ray tube display device.
  • the antireflection film of the present invention is preferably used for a translucent member (optical member) through which a person visually recognizes an object, for example, a lens, a window glass, a show window, a water tank, a display.
  • a translucent member optical member
  • the present invention is also an optical member provided with any one of the first to third antireflection films of the present invention.
  • the antireflection film of the present invention scattering of light incident on the antireflection film can be suppressed, and even when the antireflection film is arranged on the surface of a display device or an optical member, it is possible to make it difficult to produce a cloudiness.
  • FIG. 3 is a schematic plan view showing convex portions of the moth-eye film of Embodiment 1.
  • FIG. 15 is a schematic diagram showing a cross section taken along line A-A ′ in FIG.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a moth-eye film produced in Example 1.
  • FIG. 2 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Example 1.
  • FIG. 1 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Example 1.
  • FIG. 2 is a cross-sectional photograph of a moth-eye film produced in Example 2.
  • 3 is a schematic cross-sectional view of a moth-eye film produced in Example 2.
  • FIG. 2 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Example 2.
  • FIG. 3 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Example 2.
  • FIG. 2 is a cross-sectional photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 1.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a moth-eye film produced in Reference Example 1.
  • FIG. 2 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 1.
  • 3 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Reference Example 1.
  • FIG. 5 is a cross-sectional photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 2. It is a cross-sectional schematic diagram of the moth-eye film produced in Reference Example 2.
  • 4 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 2. It is a plane schematic diagram of the moth-eye film produced in Reference Example 2. It is the cross-sectional photograph which expanded the moth-eye film of the reference example 2 more.
  • FIG. 6 is a graph showing the temperature dependence of tan ⁇ of resins A to D.
  • 3 is a graph showing temperature dependency of dynamic storage elastic modulus (E ′) of resins A to D.
  • 3 is a graph showing the temperature dependence of dynamic loss modulus (E ′′) of resins A to D.
  • 7 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye films of Examples 4 to 7, and showing a scattering spectrum based on an absolute value (W / sr / m 2 ) of scattering (radiation) luminance.
  • 10 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye film of Examples 4 to 7, and showing a scattering spectrum based on an increase rate of scattering (radiation) luminance.
  • 7 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye film of Examples 8 to 11, and showing a scattering spectrum based on an absolute value of scattering (radiation) luminance.
  • FIG. 11 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surfaces of the moth-eye films of Examples 8 to 11, and showing a scattering spectrum based on an increase rate of scattering (radiation) luminance.
  • 10 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Example 9.
  • FIG. 10 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Example 9.
  • FIG. 2 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Example 10.
  • FIG. 10 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Example 10.
  • FIG. 2 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Example 11.
  • 10 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Example 11.
  • FIG. 6 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye film of Examples 12 to 14 and Reference Example 3, and showing a scattering spectrum based on an absolute value of scattering (radiation) luminance.
  • FIG. 12 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye film of Examples 12 to 14 and Reference Example 3, and showing a scattering spectrum based on an increase rate of scattering (radiation) luminance. It is a plane photograph of the moth-eye film produced in Example 14. It is a plane schematic diagram of the moth-eye film produced in Example 14. 10 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 3. It is a plane schematic diagram of the moth-eye film produced in Reference Example 3. 7 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye films of Reference Examples 4 to 7, and showing a scattering spectrum based on an absolute value of scattering (radiation) luminance. FIG.
  • FIG. 10 is a graph showing a scattering spectrum of light scattered on the surfaces of the moth-eye films of Reference Examples 4 to 7, and showing a scattering spectrum based on an increase rate of scattering (radiation) luminance.
  • 6 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 4. It is a plane schematic diagram of the moth-eye film produced in Reference Example 4.
  • 10 is a plan photograph of a moth-eye film produced in Reference Example 5.
  • 10 is a schematic plan view of a moth-eye film produced in Reference Example 5.
  • FIG. 6 is a columnar graph summarizing the amount of increase in luminance (Y value) due to light scattered on the surface of a moth-eye film in a combination of molds 1 to 4 and resins A to D. It is a graph which shows correlation with a sticking density (piece / micrometer ⁇ 2 >) and the increase amount of a brightness
  • Embodiment 1 1 and 2 are schematic cross-sectional views of the moth-eye film (antireflection film) of the first embodiment.
  • FIG. 1 is an overall view
  • FIG. 2 is an enlarged view of a convex portion.
  • the moth-eye film 11 of Embodiment 1 is provided on the base material 16 used as the object which performs an antireflection process.
  • the material of the base material 16 is not particularly limited as long as each antireflection film can be placed thereon. It is not limited whether the substrate 16 is translucent or opaque. For an opaque base material, it becomes an anti-reflection effect on the surface of the opaque body.
  • the shape of the substrate 16 is not particularly limited, and examples thereof include melt molded products such as films, sheets, injection molded products, and press molded products.
  • Examples of the object to be subjected to the antireflection treatment include a display device and a translucent member.
  • a member that can be subjected to the antireflection treatment include a front plate, a polarizing plate, and a polarizing plate, which constitute the outermost surface of the display device, particularly a liquid crystal display device.
  • Examples include a retardation plate, a light reflection sheet, a prism sheet, a polarization reflection sheet, a protective plate made of acrylic, and a hard coat layer disposed on the surface of the polarizing plate.
  • the display device may be a self-luminous display element or a non-self-luminous display element.
  • the surface of the moth-eye film 11 has a moth-eye structure in which a plurality of minute convex portions are arranged.
  • the shape of each protrusion is tapered toward the tip.
  • the surface of the base material 16 has a concavo-convex structure in which the slope is gentler than that of the minute convex part, and the surface of the moth-eye film 11 also has a concavo-convex structure.
  • the gentle concavo-convex structure is formed by AG treatment, and the distance between the vertices of the convex portions constituting the concavo-convex structure is much larger than the visible light wavelength, for example, 5 to 100 ⁇ m. According to such a double structure, both an antireflection effect and an antiglare effect can be obtained at a time.
  • an AG-treated uneven structure may be provided on part of a flat surface. In the first embodiment, the AG process is not necessarily performed.
  • the moth-eye film 11 has a moth-eye structure on the surface, that is, the width between the vertices of the adjacent convex portions 12 is equal to or less than the visible light wavelength.
  • the convex portions 12 are arranged side by side with an interval or pitch equal to or smaller than the visible light wavelength.
  • the width means an interval between adjacent convex portions when the convex portion 12 has a non-periodic structure, and means a pitch between adjacent convex portions when the convex portion 12 has a periodic structure.
  • sequence non-periodic arrangement
  • the moth-eye film 11 includes such a convex portion 12 and a base portion 13 located under the convex portion 12 (base material side).
  • Examples of the material constituting the convex portion 12 of the moth-eye film include a resin capable of performing optical nanoimprinting and thermal nanoimprinting and exhibiting curability under certain conditions. In particular, optical nanoimprinting that performs precise patterning is performed.
  • a photocurable resin such as an acrylate resin or a methacrylate resin is preferable.
  • the base portion 13 includes a resin residual film layer generated when the convex portion 12 is molded, a film base material for forming and holding the moth-eye structure, and an adhesive layer for attaching the moth-eye film 11 to the base material 16. It consists of multiple layers.
  • the resin residual film layer is a residual film that has not become a part of the convex portion when the convex portion 12 is formed, and is made of the same material as the convex portion 12.
  • the film substrate examples include triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, cyclic olefin polymer (typically a product name “ZEONOR” (manufactured by ZEON Corporation), such as a norbornene resin, Such as polyolefin resin, polypropylene, polymethylpentene, polycarbonate resin, polyethylene naphthalate, polyurethane, polyetherketone, polysulfone, polyethersulfone, polyester, polystyrene resin, acrylic resin, etc. Materials and the like can be used.
  • an anchor treatment layer, a hard coat layer, or the like for improving adhesion may be formed on the surface of the film substrate.
  • the material of the adhesive layer is not particularly limited. On the surface of the adhesive layer on the substrate 16 side, a separator film (for example, PET) for protecting the adhesive layer may be attached.
  • a separator film for example, PET
  • FIG. 3 to 8 are perspective views in which the surface of the moth-eye film of Embodiment 1 is enlarged.
  • 3 shows a case where the convex unit structure is conical
  • FIG. 4 shows a case where the convex unit structure is a quadrangular pyramid
  • FIG. 5 shows that the convex unit structure approaches the apex from the bottom.
  • 6 shows a case where the slope is gentler and the tip is pointed
  • FIG. 6 shows a shape where the slope is gentler and the tip is rounded as the unit structure of the convex portion approaches the vertex from the bottom point.
  • 7 shows a case where FIG.
  • FIG. 7 shows a case where the unit structure of the convex part is steeper as the unit structure of the convex part approaches the apex, and the tip is rounded.
  • FIG. 8 shows the unit structure of the convex part. It shows a case where the slope is steeper as the distance from the bottom point approaches the vertex, and the tip is sharp.
  • the top of the convex portion 12 is the apex t, and the point where the convex portions 12 contact each other is the bottom point b.
  • the width w between the vertices of the adjacent convex portions 12 of the moth-eye structure is indicated by the distance between the two points when the perpendiculars are respectively lowered from the vertex t of the convex portion 12 to the same plane. It is. Further, the height h from the vertex of the moth-eye structure to the bottom point is indicated by the distance when the perpendicular is lowered from the vertex t of the convex portion 12 to the plane where the bottom point b is located.
  • the width w between vertices of adjacent convex portions 12 of the moth-eye structure is 380 nm or less, preferably 300 nm or less, more preferably 200 nm or less.
  • 3 to 8 exemplify a cone, a quadrangular pyramid, a bell shape, a dome shape, a bell shape, and a needle shape as the unit structure of the convex portion 12, the moth-eye structure in Embodiment 1 has a vertex and a bottom point.
  • the unit structure is not particularly limited as long as it is formed and has a concavo-convex structure in which the pitch is controlled to be equal to or less than the visible light wavelength.
  • the unit structure may be a shape having a stepped step on a slope of a cone.
  • the convex portion of the moth-eye film may have a plurality of alignment properties or may not have alignment properties. That is, the bottom point, which is the point at which the convex portions contact each other, is not limited to the form in which the adjacent convex portions have the same height. For example, as shown in FIGS. There may be a plurality of heights of points (contact points) on the surface where the convex portions are in contact with each other. At this time, it can be said that the buttock exists in these forms. A buttock is a place where the mountain ridgeline is depressed.
  • a convex portion having one vertex t when taken as a reference, there are a plurality of contacts at a position lower than the vertex t, forming a collar portion.
  • the lowest point of contact around any convex part is defined as the base point b, located below the vertex t, and above the base point b and serving as the equilibrium point of the buttocks.
  • the point is also called saddle point s.
  • the distance w between the vertices of the convex portion corresponds to the width between the adjacent vertices
  • the vertical distance h from the vertex to the bottom point corresponds to the height of the convex portion.
  • FIG.12 and FIG.13 is the perspective schematic diagram which showed the convex part of the moth-eye film in detail.
  • FIG. 12 is an enlarged view of the case where the slope is gentler as it approaches the apex from the bottom point and has a ridge and a saddle point
  • FIG. 13 is a steep slope as it approaches the apex from the base point, and It is an enlarged view in case it has a saddle point.
  • the height of the saddle point s is the bottom in the form in which the slope is gentler as it approaches the vertex from the bottom point and in the form in which the slope is steeper as it approaches the vertex from the bottom point. The closer to the apex from the point, the easier it is to form a lower slope in a steep form.
  • FIG. 14 is a schematic plan view illustrating a convex portion of the moth-eye film of the first embodiment.
  • the white circle points shown in FIG. 14 represent the vertices, the black circle points represent the bottom points, and the white squares represent the saddle points of the buttocks.
  • a base point and a saddle point are formed on a concentric circle with one vertex as the center.
  • FIG. 14 schematically shows a case in which six base points and six saddle points are formed on one circle, but the present invention is not limited to this and includes irregular ones.
  • the white circle ( ⁇ ) represents the apex
  • the white square ( ⁇ ) represents the saddle point
  • the black circle ( ⁇ ) represents the bottom point.
  • FIG. 15 is a schematic diagram showing a cross section taken along the line A-A ′ in FIG. 14 and a cross section taken along the line B-B ′ in FIG. 14.
  • the vertices are represented by a2, b3, a6, and b5, the ridges are represented by b1, b2, a4, b4, and b6, and the base points are represented by a1, a3, a5, and a7.
  • the relationship between a2 and b3 and the relationship between b3 and b5 are the relationship between adjacent vertices, and the distance between a2 and b3 and the distance between b3 and b5 are adjacent. It corresponds to the width w between matching vertices.
  • the distance between a2 and a1 or a3, and the distance between a6 and a5 or a7 correspond to the height h of the convex portion.
  • the plurality of convex portions as a whole are arranged side by side with a repeating unit having a period of less than or equal to the visible light wavelength.
  • variety between the arbitrary one convex parts of several convex parts and the several adjacent convex part may mutually differ.
  • the form having no periodicity has a performance advantage that transmission and reflection diffraction scattering due to the regular arrangement hardly occurs, and a manufacturing advantage that a pattern can be easily manufactured. Furthermore, as shown in FIGS.
  • a plurality of contacts having a height lower than the apex and different heights may be formed around one convex portion.
  • the surface of the moth-eye film may have irregularities on the order of microns larger than the irregularities on the order of nanometers, that is, may have a double irregular structure.
  • FIGS. 16 and 17 are schematic views illustrating the principle that the moth-eye film of Embodiment 1 achieves low reflection.
  • FIG. 16 shows a cross-sectional structure of the moth-eye film
  • FIG. 17 shows a refractive index (effective refractive index) felt by light incident on the moth-eye film.
  • the moth-eye film 11 according to the first embodiment includes a convex portion 12 and a base portion 13. As light travels from one medium to another, it is refracted, transmitted and reflected at the interface of these media. The degree of refraction or the like is determined by the refractive index of the medium through which light travels.
  • the refractive index is about 1.0 for air and about 1.5 for resin.
  • the unit structure of the concavo-convex structure formed on the surface of the moth-eye film has a conical shape, that is, has a shape in which the width gradually decreases toward the tip. Accordingly, as shown in FIG. 16 and FIG. 17, in the convex portion 12 (between XY) located at the interface between the air layer and the moth-eye film, the refractive index of air is about 1.0, and the film constituent material It can be considered that the refractive index continuously increases gradually up to the refractive index (about 1.5 for resin). Since the amount of reflected light depends on the refractive index difference between the media, by making the light refraction interface virtually non-existent in this way, most of the light passes through the moth-eye film, and the film The reflectance on the surface will be greatly reduced.
  • FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing a sticking structure in which convex portions of a moth-eye film are gathered together.
  • a portion formed by bending the tip portions 14 of the plurality of convex portions 12 and connecting the convex portions 12 to each other as shown in FIG. 18 is a sticking structure (bundle structure) 15.
  • FIG. 18 illustrates a form in which two or three tip portions 14 are coupled to each other, but the number of convex portions 12 constituting the sticking structure 15 is not particularly limited.
  • the sticking structure 15 is incident on the surface of the moth-eye film 11 on which the projections 12 are formed, and on the surface side where the projections of the moth-eye film 11 are not formed. Because it has the property of scattering the light emitted from the formed surface side, if the amount of sticking structure increases, for example, when a moth-eye film is attached to the surface of the display device, the display becomes cloudy due to the influence of the scattered light Is likely to occur.
  • the moth-eye film 11 of the first embodiment is a moth-eye film that is not formed with such a sticking structure 15 or has a little influence.
  • the sticking structure has a diameter of 0.3 ⁇ m or more per one.
  • a sticking structure of less than 0.3 ⁇ m per one has little effect of scattering light. If the sticking structure 15 is not formed at all, that is, if the density of the number of the sticking structure with respect to the plane area of the antireflection film is 0 / ⁇ m 2 , the sticking structure 15 is not affected at all, and thus the light scattering Does not happen.
  • the density of the number of sticking structures with respect to the plane area of the antireflection film may be less than 2.1 / ⁇ m 2 . If the density of the number of the sticking structures is suppressed within this range, even when the moth-eye film of Embodiment 1 is attached to the surface of the display device, it is difficult to feel the cloudiness based on light scattering, and it is clear. An indication can be obtained.
  • a 10 cm square glass substrate was prepared, and aluminum (Al) serving as a mold material was deposited on the glass substrate with a film thickness of 1.0 ⁇ m by a sputtering method.
  • Al aluminum
  • An oxide layer was formed.
  • a mold was produced by a flow (anodization 5 times, etching 4 times) in which anodization, etching, anodization, etching, anodization, etching, anodization, etching and anodization were sequentially performed.
  • the shape of the minute hole formed becomes a tapered shape (tapered shape) toward the inside of the mold.
  • the substrate of the mold is not limited to glass, but a metal material such as SUS, Ni, polypropylene, polymethylpentene, cyclic olefin polymer (typically a product name “ZEONOR” (Neonbornene resin, etc.) And other resin materials such as polyolefin resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and triacetyl cellulose (product name “ARTON” (manufactured by JSR Corporation)).
  • an aluminum bulk substrate may be used instead of the substrate on which aluminum is formed.
  • the shape of the mold may be a flat plate shape or a roll (cylindrical) shape.
  • the anodizing conditions were 0.6 wt% oxalic acid, a liquid temperature of 5 ° C., and an applied voltage of 80V.
  • the anodizing time was different for each example. By adjusting the anodizing time, a difference is made in the size of the hole to be formed. The relationship between the anodization time and the hole size will be specifically described with reference to Table 1 below.
  • the etching conditions in each example were phosphoric acid 1 mol / l, liquid temperature 30 ° C., and 25 minutes, respectively.
  • 2P (photopolymerizable) resin solution having translucency is dropped on the surface of each mold having different unevenness heights produced by the above manufacturing process, and 2P while taking care not to enter bubbles.
  • a TAC film was bonded onto the 2P resin layer made of the resin solution.
  • ultraviolet (UV) light was irradiated to the 2P resin layer at 2 J / cm 2 to cure the 2P resin layer, and then the cured 2P resin film and the laminated film of the TAC film were peeled off. .
  • a specific method for forming (replicating) fine irregularities on a substrate using a mold in addition to the 2P method (Photo-polymerization method), for example, a hot press method (embossing method), an injection molding method, or the like
  • Various methods such as a duplication method such as a sol-gel method, a laminating method for a fine unevenness forming sheet, and a transfer method for a fine unevenness layer may be appropriately selected according to the use of the antireflection article, the material of the base material, and the like.
  • multilayer film comprised by the TAC film were each affixed on the transparent acrylic board, and the sample of each example was completed.
  • Table 1 shows the anodizing time in Examples 1 to 3 and Reference Examples 1 and 2, the depth of the concave portion of the mold, the height of the convex portion of the moth-eye film (transfer product) onto which the concave and convex shape of the mold was transferred, Each numerical value of the transfer ratio and the aspect ratio of the moth-eye film (transfer product) is shown.
  • 19 to 34 are a plane photograph and a cross-sectional photograph of the moth-eye film produced in Examples 1 and 2 and Reference Examples 1 and 2, and a schematic view.
  • 19 to 22 show Example 1
  • FIGS. 23 to 26 show Example 2
  • FIGS. 27 to 30 show Reference Example 1
  • FIGS. 31 to 34 show Reference Example 2, respectively.
  • FIG. 23, FIG. 27 and FIG. 31 represent cross-sectional photographs
  • FIG. 20, FIG. 24, FIG. 28 and FIG. 32 represent schematic sectional views
  • FIG. 21, FIG. 25, FIG. FIG. 22, FIG. 26, FIG. 30, and FIG. 34 are schematic plan views.
  • the moth-eye films of Examples 1 and 2 are not formed with any sticking structure.
  • the moth-eye films of Reference Examples 1 and 2 are formed with a plurality of sticking structures.
  • the sticking structure was confirmed.
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of Example 2 was 0.5 / ⁇ m 2
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of Example 3 was 1.5 / ⁇ m 2 . .
  • the portion surrounded by a circle is a sticking structure formed by joining the tip portions of the convex portions to each other and having a particle size of 0.3 ⁇ m or more.
  • the length of the vertical side of the planar photographs shown in FIGS. 29 and 33 is 1.9 ⁇ m
  • the length of the horizontal side is 2.5 ⁇ m
  • the area is 4.8 ⁇ m 2 . Therefore, the moth-eye film of Reference Example 1 has 10 sticking structures per 4.8 ⁇ m 2 area
  • the moth-eye film of Reference Example 2 has 19 sticking structures per 4.8 ⁇ m 2 area. Is formed.
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of Reference Example 1 is 2.1 / ⁇ m 2
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of Reference Example 2 is 4.0 / ⁇ m 2 . is there.
  • 35 to 38 are photographs and schematic views in which the moth-eye film of Reference Example 2 is further enlarged.
  • 35 represents a cross-sectional photograph
  • FIG. 36 represents a schematic cross-sectional view
  • FIG. 37 represents a planar photograph
  • FIG. 38 represents a schematic plan view.
  • the tips of the convex portions of the moth-eye film are bent, and some of the convex portions form a sticking structure by joining the tips of adjacent ones.
  • the white part represents the convex part of the moth-eye film, and the shape of the convex part when viewed from the direction perpendicular to the surface of the moth-eye film has a spherical or elliptical shape.
  • the shape of the sticking structure formed by joining the tips of the projections is a star shape and multiple circles that spread radially from the center when viewed from the direction perpendicular to the surface of the moth-eye film.
  • it has an oval shape or a flower shape formed by overlapping elliptical shapes, or an irregular shape with no regularity.
  • FIG. 39 is a graph showing the reflection spectrum of light reflected on the surfaces of the moth-eye films produced in Examples 1 to 3 and Reference Examples 1 and 2.
  • the moth-eye film of Example 1 has a high reflectance with respect to light on a longer wavelength side. More specifically, the reflectance value increases rapidly at about 500 nm. This is because the aspect ratio per convex part of the moth-eye film of Example 1 is small. Since the visible light range is 380 to 780 nm, the reflectance does not exceed 1% within the visible light range, but it can be seen that red or yellow is likely to be colored.
  • the moth-eye film of Example 2 has a slightly increased reflectance value at about 650 nm as a boundary, and has a high reflectance for light on a longer wavelength side as in the moth-eye film of Example 1.
  • the moth-eye films of Reference Examples 1 and 2 have a low reflectance with respect to light on the long wavelength side because of the large aspect ratio, but an increase in reflectance is observed on the short wavelength side. This is presumably because the light reflected on the surface of the moth-eye film was scattered by the influence of the sticking structure shown in FIGS.
  • FIG. 40 is a graph showing a transmission spectrum of light transmitted through the surfaces of the moth-eye films produced in Examples 1 to 3 and Reference Examples 1 and 2.
  • the moth-eye films of Examples 1 to 3 had similar transmittance curves, but the moth-eye films of Reference Examples 1 and 2 had a lower light transmittance on the shorter wavelength side. is doing. This is presumably because the light transmitted through the moth-eye film was scattered by the influence of the sticking structure.
  • FIG. 41 is a graph showing scattering spectra of light scattered on the surfaces of the moth-eye films produced in Examples 1 to 3 and Reference Examples 1 and 2. As shown in FIG. 41, in particular, in the moth-eye films of Reference Examples 1 and 2, the luminance is improved on the shorter wavelength side, and it can be seen that the scattering component due to the sticking structure is attributed to this improvement in luminance.
  • FIG. 42 is a conceptual diagram showing an evaluation system for evaluating the scattering characteristic of light reflected from the surface of the moth-eye film.
  • the subject 23 is a laminated body of a transparent acrylic plate (base material) 21 and a moth-eye film 22 disposed on the transparent acrylic plate 21.
  • the light source 24 is arranged on the surface side of the moth-eye film 22 (the side on which the irregularities are formed) and at an angle of 30 ° with respect to the main surface of the moth-eye film 22, and the moth-eye film Light was irradiated from a direction of 30 ° with respect to 22 main surfaces.
  • a black absorber 26 facing the light traveling direction was disposed at a position on the straight line of light and facing the light source 24 across the moth-eye film.
  • a body 27 was placed. That is, the luminance meter 25 and the absorber 27 are disposed at positions facing each other with the moth-eye film 22 interposed therebetween, and the measurement direction of the luminance meter 25 and the absorber 27 face each other.
  • the luminance meter 25 is disposed on the front surface side of the moth-eye film 22, and the absorber 27 is disposed on the back surface side of the moth-eye film 22.
  • the absorber 26 located on the straight line of light and facing the light source across the moth-eye film 22 removes scattered components from the light incident on the moth-eye film 22. It plays the role of absorbing the light (transmitted light) transmitted through the moth-eye film 22 as it is.
  • the absorber 26 and the absorber 27 having a main surface with respect to the measurement direction of the luminance meter 25 are components scattered on the surface side of the moth-eye film 22 among the light scattered on the surface of the moth-eye film 22. It serves to absorb the components scattered on the back side of the moth-eye film 22 that has been removed.
  • SR-UL1 manufactured by Topcon Technohouse
  • the measurement conditions were a measurement angle of 2.0 ° field of view and a distance from the subject 23 of 40 cm. Since the light passing through the back surface of the moth-eye film 22 is absorbed by the absorber 26 and the absorber 27, according to such a measurement system, the light is scattered on the surface of the moth-eye film 22, and the moth-eye film 22 The amount of light that has traveled toward the surface side (the amount of reflected and scattered light) can be measured.
  • a xenon lamp (MC-961C, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) was used.
  • the measurement conditions were an illuminance of 3000 Lx and a distance from the subject of 15 cm.
  • the resin material of the moth-eye film 22 is changed to a resin (resin A to D) different from the resin used in Examples 1 to 3 and Reference Examples 1 and 2, and used in Examples 1 to 3 and Reference Example 1.
  • a resin resin A to D
  • moth-eye films were produced.
  • Resins A to D are common in that they are acrylate-based UV curable monomers or oligomers (KAYARAD series, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), but each has dynamic storage elastic modulus (E ′) and dynamic loss. Physical properties such as elastic modulus (E ′′) and glass transition temperature (Tg) are different.
  • the storage elastic modulus (E ′), loss elastic modulus (E ′′), and tan ⁇ of temperature change of resins A to D were measured using a dynamic viscoelasticity measuring device DMS6100 (manufactured by Seiko Instruments Inc.).
  • FIG. 43 is a graph showing the temperature dependence of tan ⁇ of resins A to D.
  • tan ⁇ (Loss tangent) is a value (E ′ / E ′′) calculated from the dynamic storage elastic modulus (E ′) and the dynamic loss elastic modulus (E ′′), and the dynamic storage elastic modulus (E ′).
  • dynamic loss elastic modulus (E ′′) are measured according to JIS K-7244, sample dynamic amplitude speed (driving frequency) 1 Hz, tensile mode, distance between chucks 5 mm, strain amplitude 10 ⁇ m, initial value of force amplitude. It is a value obtained by measuring using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus DMS6100 under the conditions of 100 mN and a temperature rise temperature of 2 ° C./min. It corresponds to the glass transition temperature (Tg).
  • the curves representing the temperature dependence of the tan ⁇ of the resins A to D all vary depending on the temperature, and the resins A to D are all curved curves. ing.
  • the curves representing the resins A to D are different in the inclination angle, the temperature representing the maximum value, the magnitude of the maximum value, and the half-value width with respect to the maximum value.
  • the angle of inclination of tan ⁇ was the smoothest for resin A, followed by resins D and C, and the steepest for resin B.
  • the temperature representing the maximum value of tan ⁇ that is, the glass transition temperature (Tg)
  • resin B was 48 ° C.
  • resin C was 66 ° C.
  • resin D was 84 ° C.
  • the resin A did not show a clear Tg value, but the temperature representing the maximum value of tan ⁇ was 18 ° C.
  • the maximum values of tan ⁇ were 0.21 for resin A, 0.68 for resin B, 0.40 for resin C, and 0.38 for resin D. That is, the maximum value of tan ⁇ was smallest for resin A, followed by resins D and C, and resin B was the largest.
  • the half-value width with respect to the maximum value that is, the maximum value of tan ⁇ is used as a reference value
  • the temperature range including the half value of the maximum value of tan ⁇ to the value of the maximum value is 92 ° C. for resin A and tan ⁇
  • the symmetry of the graph was greatly broken, resin B was 26 ° C., resin C was 52 ° C., and resin D was 52 ° C. That is, the full width at half maximum with respect to the maximum value was largest for resin A, followed by resins D and C, and smallest for resin B.
  • the resin A has a characteristic that the symmetry of the peak of tan ⁇ is greatly broken and does not show a clear value as Tg.
  • the half width is separated into the low temperature side and the high temperature side based on the temperature at which tan ⁇ becomes a maximum value
  • the temperature ranges of the low temperature side region and the high temperature side region of each resin are 28 ° C. and 64 ° C. for resin A, 12 ° C. and 14 ° C. for resin B, 30 ° C. and 22 ° C. for resin C, and 34 ° C. for resin D. And 18 ° C.
  • FIG. 44 is a graph showing the temperature dependence of the dynamic storage modulus (E ′) of resins A to D. As shown in FIG. 44, the curves representing the temperature dependence of the dynamic storage elastic moduli (E ′) of the resins A to D all show a gentle decrease as the temperature rises. Although it is common in that it does not change much even if the temperature rises, the angle of inclination is different.
  • the differential coefficient in the range from the start point of the change to the end point of the change of the curve representing the dynamic storage elastic modulus (E ′) of the resins A to D is ⁇ 7.9 ⁇ 10 ⁇ 7 for the resin A.
  • Resin B was ⁇ 1.7 ⁇ 10 ⁇ 8
  • Resin C was ⁇ 9.6 ⁇ 10 ⁇ 7
  • Resin D was ⁇ 8.2 ⁇ 10 ⁇ 7 . That is, the angle of inclination of the curve representing the dynamic storage elastic modulus (E ′) was the gentlest for resin A, followed by resins D and C, and the steepest for resin B.
  • FIG. 45 is a graph showing the temperature dependence of the dynamic loss elastic modulus (E ′′) of resins A to D. As shown in FIG. 45, the dynamic loss elastic modulus (E ′′) of resins A to D is shown in FIG. Although the curves representing the temperature dependence all have undulations, they are common in that they show a change that gradually falls as the temperature rises, but the angle of change slope is different. Overall, the slope of the curve representing the dynamic loss modulus (E ′′) was the smoothest for resin A, followed by resins D and C, and the steepest for resin B.
  • FIG. 46 and 47 are graphs showing light scattering spectra scattered on the surfaces of the moth-eye films of Examples 4 to 7.
  • FIG. 46 represents a scattering spectrum based on the absolute value (W / sr / m 2 ) of the scattering (radiation) luminance
  • FIG. 47 represents a scattering spectrum based on the increasing rate of the scattering (radiation) luminance.
  • the vertical axis of the graph shown in FIG. 46 is the absolute value of the radiance due to scattering of light reflected on the surface of the moth-eye film, that is, the surface of the subject with the moth-eye film provided on the acrylic plate (base material).
  • a value obtained by subtracting (removing) the value of radiance caused by scattering of light scattered on the surface of the acrylic plate (base material) from the value of radiance caused by scattering of scattered light is shown.
  • the vertical axis of the graph shown in FIG. 47 indicates the radiance due to scattering of light reflected on the surface of the acrylic plate (base material), that is, the radiance of light scattered on the surface of the subject without the moth-eye film provided.
  • the increase rate of the radiance of the light scattered on the surface of the subject surface with the moth-eye film provided is shown.
  • luminance is the same as the method demonstrated using above-mentioned FIG.
  • the moth-eye film formed using the mold 1 has no significant change in the scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye film in any of the resins AD.
  • the moth-eye films of Examples 4 to 7 it was found that light scattering based on the sticking structure did not occur.
  • FIGS. 46 and 47 are graphs showing the scattering spectrum of light scattered on the surfaces of the moth-eye films of Examples 8 to 11.
  • FIG. 48 represents a scattering spectrum based on the absolute value of the scattering (radiation) luminance
  • FIG. 49 represents a scattering spectrum based on the increasing rate of the scattering (radiation) luminance.
  • the method for measuring the scattering spectrum is the same as the method described with reference to FIG.
  • the moth-eye film formed using the mold 2 did not change much in the scattering spectrum of light scattered on the surface of the moth-eye film in any of the resins A to D.
  • 50 to 55 show the moth-eye films produced in Examples 9 to 11.
  • 50, 52, and 54 are plan photographs
  • FIGS. 51, 53, and 55 are schematic plan views.
  • 50 and 51 correspond to Example 9
  • FIGS. 52 and 53 correspond to Example 10
  • FIGS. 54 and 55 correspond to Example 11, respectively.
  • the portion surrounded by a circle is a sticking structure formed by joining the tips of the convex portions to each other and having a particle size of 0.3 ⁇ m or more.
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 50 and 51 is 0.8 / ⁇ m 2
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 52 and 53 is 1.2 / ⁇ m 2.
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 54 and 55 was 1.3 / ⁇ m 2 .
  • FIG. 56 and 57 are graphs showing scattering spectra of light scattered on the surfaces of the moth-eye films of Examples 12 to 14 and Reference Example 3.
  • FIG. FIG. 56 represents a scattering spectrum based on the absolute value of the scattering (radiation) luminance
  • FIG. 57 represents a scattering spectrum based on the increasing rate of the scattering (radiation) luminance.
  • the method for measuring the scattering spectrum is the same as the method described with reference to FIG.
  • FIG. 58 to 61 show moth-eye films produced in Example 14 and Reference Example 3.
  • FIG. 58 and 59 correspond to Example 14, and
  • FIGS. 60 and 61 correspond to Reference Example 3, respectively.
  • a portion surrounded by a circle is a sticking structure formed by joining the tips of the convex portions to each other and having a particle size of 0.3 ⁇ m or more.
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 58 and 59 is 1.9 / ⁇ m 2
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 60 and 61 is 3.1 / ⁇ m 2 . there were.
  • FIG. 62 and 63 are graphs showing scattering spectra of light scattered on the surfaces of the moth-eye films of Reference Examples 4 to 7.
  • FIG. FIG. 62 represents a scattering spectrum based on the absolute value of the scattering (radiation) luminance
  • FIG. 63 represents a scattering spectrum based on the increasing rate of the scattering (radiation) luminance.
  • FIGS. 64 to 67 show the moth-eye films produced in Reference Example 4 and Reference Example 5.
  • FIG. 64 and 65 correspond to Reference Example 4
  • FIGS. 66 and 67 correspond to Reference Example 5, respectively.
  • the portion surrounded by a circle is a sticking structure formed by joining the tips of the convex portions to each other and having a particle size of 0.3 ⁇ m or more.
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 64 and 65 is 4.5 / ⁇ m 2
  • the density of the number of sticking structures in the moth-eye film of FIGS. 66 and 67 is 12.6 / ⁇ m 2 . there were.
  • the moth-eye film formed using the mold 4 has a sticking structure formed regardless of which resin A to D is used, and light scattering based on the sticking structure occurs.
  • Table 2 is a table summarizing the relationship between the combinations of the molds 1 to 4 and the resins A to D and each example and each reference example.
  • Table 3 shows the observer's view when the combination of the molds 1 to 4 and the resins A to D are arranged on a transparent substrate in an environment with an ambient brightness of 20000 Lx (corresponding to daytime outdoors in cloudy weather). It is the table
  • is a display with no white turbidity
  • is a display with little white turbidity
  • is a display with slight white turbidity but within an acceptable range
  • is a display with poor white turbidity
  • Means a display that feels cloudy and is treated as a defective product.
  • Table 4 summarizes the amount of increase (cd / m 2 ) in luminance (Y value) due to light scattered on the surface of the moth-eye film in the combination of the molds 1 to 4 and the resins A to D.
  • FIG. 68 is a columnar graph summarizing the amount of increase (cd / m 2 ) in luminance (Y value) due to light scattered on the surface of the moth-eye film in the combination of the molds 1 to 4 and the resins A to D. is there.
  • FIG. 69 is a graph showing the correlation between the sticking density (pieces / ⁇ m 2 ) and the amount of increase in luminance (Y value).
  • acrylate-based UV curable monomers or oligomers may be used as they are, or a plurality of types of acrylates in consideration of hardness, flexibility, curability, adhesion, and the like.
  • a system UV curable monomer or oligomer resin may be used in combination as appropriate by copolymerization.
  • Tg glass transition temperature
  • E ′ dynamic storage elastic modulus
  • E ′′ dynamic loss elastic modulus
  • the glass transition temperature (Tg) and the dynamic storage elastic modulus (E ') are increased by introducing into a resin using a rigid skeleton such as bisphenol-A.
  • the glass transition temperature (Tg) and the dynamic storage elastic modulus (E ′) are lowered by introducing the resin into a resin using a flexible skeleton such as polyethylene glycol.
  • the glass transition temperature Tg, dynamic storage elastic modulus E ′, dynamic loss elastic modulus E ′′, elongation at break, etc. can also be adjusted by a plasticizer, a crosslinking agent, etc.
  • the glass transition temperature Tg, the dynamic storage elastic modulus E ′, and the dynamic loss elastic modulus E ′′ decrease and the elongation at break increases as the amount of the plasticizer increases.
  • a cross-linking agent increasing the amount of addition or increasing the degree of cross-linking improves the glass transition temperature Tg, dynamic storage elastic modulus E ′ and dynamic loss elastic modulus E ′′, and increases the elongation at break.
  • the plasticizer and the crosslinking agent may be appropriately added so as to satisfy the target condition range.
  • Examples of the acrylate monomer that can be used in the antireflection film of Embodiment 1 include a monofunctional acrylate monomer, a bifunctional acrylate monomer, and a polyfunctional acrylate monomer.
  • monofunctional acrylate monomers include aliphatic acrylate monomers, cycloaliphatic acrylate monomers, ether acrylate monomers, cyclic ether acrylate monomers, hydroxyl group-containing acrylate monomers, aromatic acrylate monomers, carboxy-containing acrylate monomers, and the like. .
  • Tg tends to increase in the order of aliphatic (straight chain), aliphatic (branched), alicyclic, and aromatic.
  • the ester group has the lowest carbon number between 8 and 10 and increases as the carbon number increases.
  • the fluorine-containing acrylate monomer has a minimum value between 8 and 10 carbon atoms in the ester group.
  • the Tg of the resin using the monofunctional acrylate monomer can be adjusted in the range of ⁇ 80 ° C. to 150 ° C.
  • a cured product containing a bifunctional acrylate monomer has a relatively high hardness.
  • the Tg of the resin can be adjusted in the range of ⁇ 30 ° C. to 200 ° C.
  • the polyfunctional acrylate monomer is excellent in curability, and the cured product containing the polyfunctional acrylate monomer has high hardness.
  • the Tg of the resin can be adjusted in the range of 80 ° C to 250 ° C.
  • Acrylate oligomers are roughly classified into epoxy acrylate oligomers, urethane acrylate oligomers, and polyester acrylate oligomers based on the molecular structure.
  • a cured product containing an epoxy acrylate oligomer has high hardness and excellent heat resistance and chemical resistance.
  • the Tg of the resin can be adjusted in the range of 80 ° C to 250 ° C.
  • a cured product containing a urethane acrylate oligomer is generally excellent in strength and elongation and has flexibility.
  • the Tg of the resin can be adjusted in the range of ⁇ 50 ° C. to 80 ° C.
  • Cured products containing polyester acrylate oligomers range from soft to hard.
  • the Tg of the resin can be adjusted in the range of 20 ° C to 100 ° C.
  • a polybutadiene acrylate oligomer exhibiting high toughness a silicone acrylate oligomer that imparts weather resistance, abrasion resistance, water repellency, and flexibility to the properties by adding to other oligomers can also be used.

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Abstract

本発明は、光の散乱性が抑制された反射防止膜を提供する。本発明の反射防止膜は、隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有さない反射防止膜である。

Description

反射防止膜、表示装置及び透光部材
本発明は、反射防止膜、表示装置及び透光部材に関する。より詳しくは、基材の表面に設けられて用いられる反射防止膜、該反射防止膜を備える表示装置、及び、該反射防止膜を備える透光部材である。
ブラウン管(CRT:Cathode Ray Tube)ディスプレイ、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)、エレクトロルミネッセンス(EL:Electroluminescence)ディスプレイ等のディスプレイの表面には、傷つき防止機能、外光の映り込み防止機能、汚れ防止機能等の様々な機能が要求される。
外光の映り込み防止機能を付与する手段の一つとしては、ディスプレイの表面上に屈折率がディスプレイを構成する材料と異なった材料を被膜し、ディスプレイ表面で反射した光と被膜表面で反射した光との干渉効果によって反射を低減させる低反射(LR:Low Reflection)処理を施す方法が挙げられる。
しかしながら、空気と被膜表面との界面で起こる反射と、被膜表面とディスプレイ表面との界面で起こる反射とでは、通常、それぞれの振幅反射率や位相が理想的な条件と異なるため、これらの反射光は完全に打ち消されず、反射防止効果としては充分とはいえなかった。したがって、LR処理を行うだけでは一定の反射率で周囲光を反射するため、蛍光灯等の光源の像が表示に映りこみ、非常に見にくい表示となってしまっていた。そこで、ディスプレイの表面に微細な凹凸パターンを形成し、光の散乱効果を用いて外光の映り込みを防止する防眩(AG:Anti Glare)処理を更に行い、光を散乱させることによって蛍光灯等の光源の像をぼかすといった工夫がなされていた。
一般的に微細な凹凸パターンを形成する方法としては、例えば、クレジットカード、IDカード、商品券、紙幣等にセキュリティ目的として付される、レリーフホログラム又は回折格子を形成する方法が知られている(例えば、特許文献1及び2参照。)。特許文献1及び2には、液状の光硬化性樹脂組成物をポリエステルフィルム等の透明な支持体上に塗布して液状の光硬化性樹脂層を形成し、その上に微細な凹凸パターンを有するスタンパーを圧接した状態で支持体側から光照射を行って硬化させた後でスタンパーを取りはずす2P(Photo Polymer)法、及び、室温で高粘度又は固体の光硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布して光硬化性樹脂層を形成し、その上にスタンパーを圧接し、引き剥がした後で光照射を行って硬化させる方法が挙げられている。
ところで、近年、AG処理とは別の手段により表示面における低反射を実現するための方法として、光干渉を用いずに超反射防止効果を得ることができるモスアイ(Moth-eye:蛾の目)構造が注目されてきている。モスアイ構造は、反射防止処理を行う物品の表面に、AG処理よりも微細な、光の波長以下(例えば、380nm以下)間隔の凹凸パターンを隙間なく配列することで、外界(空気)と膜表面との境界における屈折率の変化を擬似的に連続なものとするものであり、屈折率界面に関係なく光のほぼ全てを透過させ、該物品の表面における光反射をほぼなくすことができる(例えば、特許文献3及び4参照。)。
特開2004-59820号公報 特開2004-59822号公報 特表2001-517319号公報 特表2003-531962号公報
本発明者らは、モスアイ構造を表面に有する反射防止膜(以下、モスアイフィルムともいう。)について種々検討を行ったところ、モスアイフィルムの構成材料及び製造条件によっては、モスアイフィルムの構造に起因して光が散乱することがあり、その結果、例えば、このようなモスアイフィルムが表示装置の表面に貼り付けられた場合、表示装置によって映し出された映像は、白濁感をもつ映像として視認されてしまうことを見いだした。
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、光の散乱性が抑制された反射防止膜を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、光を散乱させる要因となっているモスアイフィルムの構造について種々検討したところ、モスアイフィルムを構成する各凸部の先端部分に着目した。そして、光を散乱させやすいモスアイフィルムの構造の特徴として、各凸部の先端部分同士がくっつきあって形成されたスティッキング構造を有することが挙げられることを見いだすとともに、スティッキング構造が、光を散乱させる原因となっていたことを見いだした。
また、本発明者らは、モスアイフィルムの構成材料及び製造条件を工夫することで、このようなスティッキング構造を形成させにくくすることが可能となることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は、隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有さない反射防止膜(以下、本発明の第一の反射防止膜ともいう。)である。
また、本発明は、隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有し、上記スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm未満である反射防止膜(以下、本発明の第二の反射防止膜ともいう。)でもある。
更に、本発明は、隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有し、上記スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm以上であり、上記反射防止膜の平面積に対するスティッキング構造の個数の密度は、2.1個/μm未満である反射防止膜(以下、本発明の第三の反射防止膜ともいう。)でもある。
本発明の第一~第三の反射防止膜は、隣り合う凸部の頂点間の幅(間隔又はピッチ)が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する。本明細書において「可視光波長以下」とは、一般的な可視光波長域の下限である380nm以下をいい、より好ましくは300nm以下であり、更に好ましくは可視光波長の約1/2である200nm以下である。モスアイ構造の幅が400nmを超えると青の波長成分で色付くことがあるが、幅を300nm以下とすることで充分にその影響は抑制され、幅を200nm以下とすることでほとんど全く影響を受けない。
本発明の第一の反射防止膜において上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有していない。すなわち、本発明の第一の反射防止膜は、上記反射防止膜の平面積に対するスティッキング構造の個数の密度は、0個/μm未満であると言い換えることもできる。スティッキング構造は、反射防止膜に入射してきた光を散乱させやすく、例えば、反射防止膜を表示装置に適用した場合、表示に白濁感を生じさせやすくなる。
本明細書においてスティッキング構造とは、凸部の先端部が折れ曲がって、先端部同士が互いに結合することで形成された一つの束をいい、具体的には、先端部のみならず先端部を含む凸部全体が一体化したもの、及び、先端部だけが互いに結合し、中が空洞化したものが挙げられる。スティッキング構造を構成する凸部の数は特に限定されない。反射防止膜の表面を平面的に見たときのスティッキング構造の形状としては、円形、楕円形、多角形、星形、花形、不定形等が挙げられ、各凸部が規則的な構造を有している場合、星形、瓢箪型、花形、又は、不定形となりやすい。
本発明の第二の反射防止膜において、上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有し、上記スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm未満、好ましくは0.2μm未満である。スティッキング構造は、その径が一つ当たり0.3μm未満であるときに、好ましくは0.2μm未満であるときに、反射防止膜に入射してきた光をほとんど散乱させないので、スティッキング構造の径がこのような範囲に制限されることで、例えば、反射防止膜を表示装置に適用したとしても、表示に白濁感は生じにくくなる。上記サイズ未満の凸部構造においては、そのサイズ(ピッチ)が可視光波長に対して充分に小さいため、モスアイの反射防止効果が充分に得られ、散乱の影響も充分に少ないためである。なお、本明細書でいう「スティッキング構造の径」とは、反射防止膜の表面を平面的に見たときに、スティッキング構造の最も長い部分の幅をいう。
本発明の第三の反射防止膜において、上記モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有し、上記スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm以上であり、上記反射防止膜の平面積に対するスティッキング構造の個数の密度は、2.1個/μm未満である。スティッキング構造の径が一つ当たり0.3μm以上であっても、スティッキング構造の一定面積に占める割合が低いと、光の散乱性をほとんど無視することが可能となるので、スティッキング構造の一定面積に占める範囲が制限されることで、例えば、反射防止膜を表示装置に適用したとしても、表示に白濁感は生じにくくなる。
本発明の第一~第三の反射防止膜の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではない。
本発明の第一~第三の反射防止膜における好ましい形態について以下に詳しく説明する。
上記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、1.0未満であることが好ましい。また、上記複数個の凸部の一つ当たりの高さは200nm未満であることが好ましい。本明細書においてアスペクト比とは、凸部一つ当たりの底辺に対する高さの割合をいう。すなわち、高さを底辺で割った値(高さ/底辺の値)がアスペクト比に相当する。凸部一つ当たりのアスペクト比又は高さがこのような範囲を満たすことで、凸部の先端部が折れ曲がりにくくなるため、スティッキング構造の発生を妨げることができる。なお、ここでの凸部とは、スティッキング構造を構成していないものを指している。
上記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.8以上であることが好ましい。また、上記複数個の凸部の一つ当たりの高さは160nm以上であることが好ましい。凸部一つ当たりのアスペクト比又は高さが低すぎる場合、長波長側(黄~赤)の光を反射することがある。そのため、凸部一つ当たりのアスペクト比をこのような範囲に調整することで、例えば、表示装置に反射防止膜を適用した場合に、色味が少なく均一性の高い表示を得ることができる。
上記反射防止膜の材料のtanδの温度依存特性を示す曲線の極大値は、0.4以下であることが好ましく、0.3以下であることがより好ましい。また、このときの上記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.7以上、1.1以下であることが好ましく、0.9以上、1.1以下である場合に特に有効である。更に、このときの上記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、140nm以上、220nm以下であることが好ましく、180nm以上、220nm以下である場合に特に有効である。反射防止膜の材料のtanδの極大値がこのような範囲に抑制されることで、凸部の形状の変化が起こりにくくなる。したがって、凸部の先端部が折れ曲がりにくくなるため、スティッキング構造の発生を妨げることができる。本形態は、特に、凸部の先端部が折れ曲がりやすくなる凸部一つ当たりのアスペクト比が0.9以上の条件の場合であっても、凸部の形状の変化を抑制することができる。また、同様に、凸部一つ当たりの高さが180nm以上の条件の場合であっても、凸部の形状の変化を抑制することができる。
上記反射防止膜の材料のtanδの温度依存特性を示す曲線の極大値に対する半値幅は、52℃以上であることが好ましく、92℃以上であることがより好ましい。また、このときの上記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.7以上、1.1以下であることが好ましく、0.9以上、1.1以下である場合に特に有効である。更に、このときの上記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、140nm以上、220nm以下であることが好ましく、180nm以上、220nm以下である場合に特に有効である。反射防止膜の材料のtanδの極大値の半値幅がこのような範囲をもつことで、凸部の形状の変化が起こりにくくなる。したがって、凸部の先端部が折れ曲がりにくくなるため、スティッキング構造の発生を妨げることができる。本形態は、特に、凸部の先端部が折れ曲がりやすくなる凸部一つ当たりのアスペクト比が0.9以上の条件の場合であっても、凸部の形状の変化を抑制することができる。また、同様に、凸部一つ当たりの高さが180nm以上の条件の場合であっても、凸部の形状の変化を抑制することができる。
上記反射防止膜の材料の貯蔵弾性率の温度依存特性を示す曲線の微分係数は、変化の開始点から変化の終局点の範囲で-1.0×10-8以上であることが好ましく、-0.8×10-8以上であることがより好ましい。また、上記反射防止膜の材料の貯蔵弾性率の温度依存特性における微分係数は、変化の開始点から変化の終局点の範囲で1.0×10-8以下であることが好ましく、0.8×10-8以下であることがより好ましい。更に、このときの上記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.7以上、1.1以下であることが好ましく、0.9以上、1.1以下である場合に特に有効である。そして、このときの上記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、140nm以上、220nm以下であることが好ましく、180nm以上、220nm以下である場合に特に有効である。反射防止膜の材料の動的粘弾性に関与する貯蔵弾性率の変化の開始点から変化の終局点の範囲での微分係数が0に近い、すなわち、温度依存特性に基づく貯蔵弾性率曲線の傾きがなだらかであることで、凸部の形状の変化が起こりにくくなり、したがって、凸部の先端部が折れ曲がりにくくなるため、スティッキング構造の発生を妨げることができる。本形態は、特に、凸部の先端部が折れ曲がりやすくなる凸部一つ当たりのアスペクト比が0.9以上の条件の場合であっても、凸部の形状の変化を抑制することができる。また、同様に、凸部一つ当たりの高さが180nm以上の条件の場合であっても、凸部の形状の変化を抑制することができる。
反射防止膜として用いられる樹脂膜は、通常、動的粘弾性を有する。樹脂の動的粘弾性は温度依存特性を有しており、温度によって貯蔵弾性率(E’)、損失弾性率(E”)等の物性値が変化する。損失弾性率(E”)/貯蔵弾性率(E’)によって算出されるtanδの値は、樹脂の特性を表すパラメータとして用いられる。
このような樹脂の物性は、例えば、動的粘弾性測定によって特定することができる。動的粘弾性測定によれば、貯蔵弾性率(E’)、損失弾性率(E”)及びtanδの温度変化を表すデータを測定周波数ごとに得ることができる。また、動的粘弾性測定によれば、分子内構造に起因するガラス転移の有無に加え、ガラス転移が起こる温度(ガラス転移温度)を特定することもできる。一般的な樹脂であれば、ガラス転移温度(Tg)の前後で、E’の低下と、E”及びtanδのピークが見られる。
ただし、樹脂(ポリマー)のガラス転移は緩和現象であり、時間の因子に依存するため、ガラス転移を示す変化は測定周波数によって温度シフトを示し、高周波になるほど転移の領域が高温側にシフトする。
そのため、本明細書では、動的貯蔵弾性率(E’)及び動的損失弾性率(E”)は、JIS K-7244に準じた方法により、試料動的振幅速さ(駆動周波数)1Hz、引張モード、チャック間距離5mm、歪振幅を10μm、力振幅初期値100mN、及び、昇温温度2℃/minとした条件下で温度依存特性(温度分散)を測定したときに得られる値とする。
上記反射防止膜の材料のガラス転移温度(Tg)は、200℃以下であることが好ましく、100℃以下であることがより好ましい。また、上記反射防止膜の材料のガラス転移温度(Tg)は、0℃以上であることが好ましい。本明細書においてガラス転移温度(Tg)とは、JIS K-7244に準じた方法により、試料動的振幅速さ(駆動周波数)1Hz、引張モード、チャック間距離5mm、及び、昇温温度2℃/minとした条件下で温度依存特性(温度分散)を測定したときに、tanδが極大となる温度である。
本発明の反射防止膜を形成する方法としては、隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凹部を有する金型を、反射防止膜となる樹脂膜の表面に押し当て、光又は熱で樹脂膜を硬化させた後、金型を離型する方法が挙げられるが、ガラス転移温度(Tg)が、200℃を超える樹脂を用いた場合、樹脂の剛性が高くなり、高いアスペクト比(具体的には、2.0以上)を有する凸部で構成されるモスアイ構造を形成する際に、金型の離型が行いにくく、硬化した樹脂膜の破損や金型の破損(目詰まり)を招く可能性が高くなる。また、Tgが、100℃を超える樹脂を用いた場合、樹脂膜の硬化時に収縮が起こりやすく、特に、PET(ポリエチレンテレフタレート)、TAC(トリアセチルセルロース)、COP(シクロオレフィンポリマー)等のフィルム基板上に樹脂膜が形成される場合、該フィルム基板にカール(巻き)が発生し、また、樹脂膜とフィルム基板との間の界面に歪みが生じやすく、密着性の低下、及び、フィルム基板の破損を招く可能性が高くなる。更に、Tgが、100℃を超える樹脂を用いた場合、樹脂膜の脆性が大きくなる傾向にあるため、樹脂膜にクラック(ひび割れ)が生じる可能性が高くなる。
上記貯蔵弾性率(E’)は、25℃において0.1GPa以上であることが好ましい。反射防止膜の材料の貯蔵弾性率が上記範囲を満たすことで、実際に反射防止膜を使用する環境での、反射防止膜の形状の経時安定性、及び、耐衝撃性を高めることができる。
本発明の第一~第三の反射防止膜は、特に表示装置に用いることで、観察者に対し反射による白濁感を生じさせない表示を与えることができる。すなわち、本発明はまた、上記本発明の第一~第三のいずれかの反射防止膜を備える表示装置でもある。なお、本発明の表示装置は、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、無機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、ブラウン管表示装置等、特に限定されない。更に、本発明の反射防止膜は、人がその部材を通して目的物を視認する透光部材(光学部材)に対して用いることが好適であり、例えば、レンズ、窓ガラス、ショウウインドウ、水槽、表示装置の前面保護板といった透明な物体上に貼り付けた場合には、白濁間を生じさせることなく低反射効果すなわち高透過効果が発揮されるため、クリアで視認性の良いディスプレイ部材を実現することができる。すなわち、本発明はまた、上記本発明の第一~第三のいずれかの反射防止膜を備える光学部材でもある。
本発明の反射防止膜によれば、反射防止膜に入射する光の散乱を抑制し、表示装置や光学部材の表面に配置したとしても表示に白濁感を生じさせにくくすることができる。
実施形態1のモスアイフィルム(反射防止膜)の断面模式図であり、全体図を示す。 実施形態1のモスアイフィルム(反射防止膜)の断面模式図であり、凸部の拡大図を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の単位構造が円錐状である場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の単位構造が四角錐状である場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかであり、先端が尖っている形状である場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかであり、先端が丸みを帯びている形状である場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻であり、先端が丸みを帯びている形状である場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻であり、先端が尖っている形状である場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の周囲の高さがばらついている場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の周囲の高さがばらついている場合を示す。 実施形態1のモスアイフィルムの斜視図であり、凸部の周囲の高さがばらついている場合を示す。 モスアイフィルムの凸部を詳細に示した斜視模式図であり、底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかであり、かつ鞍部及び鞍点を有する場合の拡大図である。 モスアイフィルムの凸部を詳細に示した斜視模式図であり、底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻であり、かつ鞍部及び鞍点を有する場合の拡大図である。 実施形態1のモスアイフィルムの凸部を示す平面模式図である。 図14におけるA-A’線に沿った断面、及び、図14におけるB-B’線に沿った断面を示す模式図である。 実施形態1のモスアイフィルムが低反射を実現する原理を示す模式図であり、モスアイフィルムの断面構造を示す。 実施形態1のモスアイフィルムが低反射を実現する原理を示す模式図であり、モスアイフィルムに入射する光が感じる屈折率(有効屈折率)を示す。 モスアイフィルムの凸部同士が集まってできたスティッキング構造を示す断面模式図である。 実施例1において作製したモスアイフィルムの断面写真である。 実施例1において作製したモスアイフィルムの断面模式図である。 実施例1において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 実施例1において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 実施例2において作製したモスアイフィルムの断面写真である。 実施例2において作製したモスアイフィルムの断面模式図である。 実施例2において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 実施例2において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 参考例1において作製したモスアイフィルムの断面写真である。 参考例1において作製したモスアイフィルムの断面模式図である。 参考例1において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 参考例1において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 参考例2において作製したモスアイフィルムの断面写真である。 参考例2において作製したモスアイフィルムの断面模式図である。 参考例2において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 参考例2において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 参考例2のモスアイフィルムをより拡大した断面写真である。 参考例2のモスアイフィルムをより拡大した断面模式図である。 参考例2のモスアイフィルムをより拡大した平面写真である。 参考例2のモスアイフィルムをより拡大した平面模式図である。 実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの表面で反射する光の反射スペクトルを表すグラフである。 実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの表面で透過する光の透過スペクトルを表すグラフである。 実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフである。 モスアイフィルムの表面で反射する光の散乱特性を評価するための評価システムを表す概念図である。 樹脂A~Dのtanδの温度依存性を示すグラフである。 樹脂A~Dの動的貯蔵弾性率(E’)の温度依存性を示すグラフである。 樹脂A~Dの動的損失弾性率(E”)の温度依存性を示すグラフである。 実施例4~7のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の絶対値(W/sr/m)に基づく散乱スペクトルを表す。 実施例4~7のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。 実施例8~11のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の絶対値に基づく散乱スペクトルを表す。 実施例8~11のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。 実施例9において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 実施例9において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 実施例10において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 実施例10において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 実施例11において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 実施例11において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 実施例12~14及び参考例3のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の絶対値に基づく散乱スペクトルを表す。 実施例12~14及び参考例3のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。 実施例14において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 実施例14において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 参考例3において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 参考例3において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 参考例4~7のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の絶対値に基づく散乱スペクトルを表す。 参考例4~7のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフであり、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。 参考例4において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 参考例4において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 参考例5において作製したモスアイフィルムの平面写真である。 参考例5において作製したモスアイフィルムの平面模式図である。 金型1~4と樹脂A~Dの組み合わせにおける、モスアイフィルムの表面で散乱する光による、輝度(Y値)の増加量をまとめた柱状グラフである。 スティッキング密度(個/μm)と輝度(Y値)の増加量との相関関係を示すグラフである。
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
実施形態1
図1及び図2は、実施形態1のモスアイフィルム(反射防止膜)の断面模式図である。図1は全体図であり、図2は凸部の拡大図である。図1及び図2に示すように、実施形態1のモスアイフィルム11は、反射防止処理を行う対象となる基材16上に設けられる。基材16の材質としては、各反射防止膜を載置することができるものであれば特に限定されない。基材16が半透明であるか、不透明であるかは限定されない。不透明な基材に対しては不透明体の表面反射防止効果となり、例えば、黒色の基材の場合には漆黒の見栄えが得られ、着色した基材の場合には高色純度の見栄えが得られるため、意匠性の高い物品が得られる。基材16の形状は特に限定されず、例えば、フィルム、シート、射出成形品、プレス成形品等の溶融成形品等が挙げられる。基材16が半透明である場合の材質としては、ガラスや、TAC(トリアセチルセルロース)、ポリエチレン、エチレン・プロピレン共重合物、PET(ポリエチレンテレフタレート)、アクリル樹脂、メタクリル樹脂等のプラスチック、金属等が挙げられる。
反射防止処理の対象物品としては、表示装置や透光部材が挙げられ、反射防止処理を行う対象となりうる部材としては、表示装置、特に液晶表示装置の最表面を構成する前面板、偏光板、位相差板、光反射シート、プリズムシート、偏光反射シート、アクリル等で構成される保護板、偏光板表面に配置されるハードコート層が挙げられる。表示装置は、自発光型表示素子であっても、非自発光型表示素子であってもよい。また、レンズ等の光学素子、窓ガラス、印刷物、写真、塗装物品、照明機器、筐体等に適用してもよい。
図1に示すように、モスアイフィルム11の表面は、微小な凸部が複数並んだモスアイ構造を有している。凸部一つ当たりの形状は、先端に向かって先細りになっている。基材16の表面は、上記微小な凸部よりも斜面がなだらかな凹凸構造を有しており、モスアイフィルム11の表面もまた、あわせてなだらかな凹凸構造を有している。上記なだらかな凹凸構造は、AG処理によって形成されるものであり、上記凹凸構造を構成する凸部の頂点間の距離は、可視光波長よりもはるかに大きく、例えば、5~100μmである。このような二重構造によれば、反射防止効果と防眩効果との両方を一度に得ることができる。また、平坦な表面の一部にAG処理の凹凸構造を設けてもよい。なお、実施形態1においてAG処理は、必ずしも行われなくてよい。
図2に示すように、モスアイフィルム11は、表面にモスアイ構造、すなわち、隣り合う凸部12の頂点間の幅は可視光波長以下であり、言い換えれば、モスアイフィルム11の表面には、複数の凸部12が可視光波長以下の間隔又はピッチをもって並んで配置されている。上記幅は、凸部12が非周期構造の場合には、その隣り合う凸部の間隔を意味し、凸部12が周期構造の場合には、その隣り合う凸部のピッチを意味する。なお、各凸部は、その配列に規則性を有していない場合(非周期性配列)に不要な回折光が生じないという利点があり、より好ましい。モスアイフィルム11は、このような凸部12と、凸部12の下(基材側)に位置する下地部13とで構成されている。
モスアイフィルムの凸部12を構成する材料としては、例えば、光ナノインプリントや熱ナノインプリントを行うことが可能な、一定条件で硬化性を示す樹脂が挙げられ、特に、精密なパターニングを行う光ナノインプリントを行うことが可能なアクリレート樹脂、メタアクリレート樹脂等の光硬化性樹脂が好ましい。
下地部13は、凸部12を成型する際に生じる樹脂残膜層、モスアイ構造を形成し保持するためのフィルム基材、及び、モスアイフィルム11を基材16に貼り付けるための粘着層を含む複数の層で構成されている。樹脂残膜層は、凸部12を形成する際に凸部の一部とならなかった残膜であり、凸部12と同じ材質で構成されている。
フィルム基材には、例えば、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィン系高分子(代表的にはノルボルネン系樹脂等である製品名「ゼオノア」(日本ゼオン株式会社製)、製品名「アートン」(JSR株式会社製)等)のポリオレフィン系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンナフタレート、ポリウレタン、ポリエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエステル、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂等の樹脂材料等を用いることができる。フィルム基材の表面には、密着性を上げるためのアンカー処理層、ハードコート層等が形成されていてもよい。
粘着層の材質は特に限定されない。粘着層の基材16側の表面上には、粘着層を保護するためのセパレーターフィルム(例えば、PET)が貼り付けられていてもよい。
図3~8は、実施形態1のモスアイフィルムの表面を拡大した斜視図である。図3は凸部の単位構造が円錐状である場合を示し、図4は凸部の単位構造が四角錐状である場合を示し、図5は凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかであり、先端が尖っている形状である場合を示し、図6は凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかであり、先端が丸みを帯びている形状である場合を示し、図7は凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻であり、先端が丸みを帯びている形状である場合を示し、図8は凸部の単位構造が底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻であり、先端が尖っている形状である場合を示している。
図3~8に示すように、モスアイ構造において、凸部12の頂上部は頂点tであり、各凸部12同士が接する点が底点bである。図3~8に示すように、モスアイ構造の隣り合う凸部12の頂点間の幅wは、凸部12の頂点tからそれぞれ垂線を同一平面上まで下ろしたときの二点間の距離で示される。また、モスアイ構造の頂点から底点までの高さhは、凸部12の頂点tから底点bの位置する平面まで垂線を下ろしたときの距離で示される。
実施形態1のモスアイフィルムにおいて、モスアイ構造の隣り合う凸部12の頂点間の幅wは380nm以下、好ましくは300nm以下、より好ましくは200nm以下である。なお、図3~8においては、凸部12の単位構造として円錐、四角錐、釣鐘型、ドーム型、ベル型、針型を例示したが、実施形態1におけるモスアイ構造は、頂点及び底点が形成され、かつ可視光波長以下にピッチが制御された凹凸構造であれば、その単位構造は特に限定されず、例えば、錐体の斜面に階段状のステップのある形状等であってもよい。
実施形態1においてモスアイフィルムの凸部は、複数の配列性を有していてもよく、配列性がなくてもよい。すなわち、凸部同士が接する点である底点が隣り合う凸部同士で同じ高さとなっている形態に限らず、例えば、図9~図11に示すように、凸部の周囲の高さがばらついており、各凸部同士が接する表面上の点(接点)の高さが複数存在していてもよい。このとき、これらの形態には鞍部が存在しているということができる。鞍部とは、山の稜線のくぼんだ所をいう。ここで、一つの頂点tを有する凸部を基準としてみたときに、その頂点tよりも低い位置にある接点は複数存在し、鞍部を形成している。本明細書では、任意の凸部の周りにある最も低い位置にある接点を底点bとし、頂点tよりも下に位置し、かつ底点bよりも上にあって鞍部の平衡点となる点を鞍点sともいう。この場合には、凸部の頂点間の距離wが隣り合う頂点間の幅に相当し、頂点から底点までの垂直方向の距離hが凸部の高さに相当することになる。
以下、より詳細に説明する。一つの頂点を有する凸部を基準としてみたときに、隣り合う凸部の接点は複数存在しており、頂点tよりも低い位置にあって鞍部(鞍点)を形成している場合の例を用いて示す。図12及び図13は、モスアイフィルムの凸部を詳細に示した斜視模式図である。図12は、底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかであり、かつ鞍部及び鞍点を有する場合の拡大図であり、図13は、底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻であり、かつ鞍部及び鞍点を有する場合の拡大図である。図12及び図13に示すように、凸部の一つの頂点tに対して、その頂点tよりも低い位置にある隣り合う凸部の接点は複数存在している。図12及び図13を比較して分かるように、底点から頂点に近づくほど傾斜が緩やかな形態と、底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻な形態とでは、鞍点sの高さは、底点から頂点に近づくほど傾斜が急峻な形態においてより低く形成されやすい。
図14は、実施形態1のモスアイフィルムの凸部を示す平面模式図である。図14に示す白丸の点が頂点を表し、黒丸の点が底点を表し、白四角が鞍部の鞍点を表している。図14に示すように、一つの頂点を中心として同心円上に底点と鞍点とが形成されている。図14では模式的に、一つの円上に6つの底点と6つの鞍点とが形成されたものを示しているが、実際にはこれに限定されず、より不規則なものも含まれる。白丸(○)が頂点を表し、白四角(□)が鞍点を表し、黒丸(●)が底点を表している。
図15は、図14におけるA-A’線に沿った断面、及び、図14におけるB-B’線に沿った断面を示す模式図である。頂点がa2,b3,a6,b5で表され、鞍部がb1,b2,a4,b4,b6で表され、底点がa1,a3,a5,a7で表されている。このとき、a2とb3との関係、及び、b3とb5との関係が、隣り合う頂点同士の関係となり、a2とb3との間の距離、及び、b3とb5との間の距離が、隣り合う頂点間の幅wに相当する。また、a2と、a1又はa3との間の距離、a6と、a5又はa7との間の距離が、凸部の高さhに相当する。
図3~図13においては、複数の凸部は、全体として可視光波長以下の周期の繰り返し単位をもって並んで配置されている形態を示しているが、周期性を有していない部分があってもよく、全体として周期性を有していなくてもよい。また、複数の凸部のうちの任意の一つの凸部と、その隣り合う複数ある凸部との間のそれぞれの幅は、互いに異なっていてもよい。周期性を有していない形態では、規則配列に起因する透過及び反射の回折散乱が生じにくいという性能上の利点と、パターンを製造しやすいという製造上の利点を有する。更に、図9~15に示すように、モスアイフィルムにおいては、一つの凸部に対し、その周りに頂点よりも低く、かつ高さの異なる複数の接点が形成されていてもよい。なお、モスアイフィルムの表面は、ナノオーダーの凹凸よりも大きな、ミクロンオーダー以上の凹凸を有していてもよく、すなわち、二重の凹凸構造を有していてもよい。
ここで、実施形態1のモスアイフィルムが低反射を実現することができる原理について説明する。図16及び図17は、実施形態1のモスアイフィルムが低反射を実現する原理を示す模式図である。図16はモスアイフィルムの断面構造を示し、図17はモスアイフィルムに入射する光が感じる屈折率(有効屈折率)を示す。図16及び図17に示すように、実施形態1のモスアイフィルム11は、凸部12と下地部13とで構成されている。光はある媒質から異なる媒質へ進むとき、これらの媒質界面で屈折、透過及び反射する。屈折等の程度は光が進む媒質の屈折率によって決まり、例えば、空気であれば約1.0、樹脂であれば約1.5の屈折率を有する。実施形態1においては、モスアイフィルムの表面に形成された凹凸構造の単位構造は錐状であり、すなわち、先端方向に向かって徐々に幅が小さくなっていく形状を有している。したがって、図16及び図17に示すように、空気層とモスアイフィルムとの界面に位置する凸部12(X-Y間)においては、空気の屈折率である約1.0から、膜構成材料の屈折率(樹脂であれば約1.5)まで、屈折率が連続的に徐々に大きくなっているとみなすことができる。光が反射する量は媒質間の屈折率差に依存するため、このように光の屈折界面を擬似的にほぼ存在しないものとすることで、光のほとんどがモスアイフィルム中を通り抜けることとなり、膜表面での反射率が大きく減少することとなる。
図18は、モスアイフィルムの凸部同士が集まってできたスティッキング構造を示す断面模式図である。図18に示す、複数の凸部12の先端部14が折れ曲がり、凸部12同士が互いに結合して形成された部分が、スティッキング構造(束構造)15である。図18においては、二つ又は三つの先端部14が互いに結合している形態を例示しているが、スティッキング構造15を構成する凸部12の数は特に限定されない。
スティッキング構造15は、モスアイフィルム11の凸部12が形成された表面に向かって照射した光、及び、モスアイフィルム11の凸部が形成されていない表面側から入射し、モスアイフィルム11の凸部が形成された表面側から出射する光を散乱させる特性を有するため、スティッキング構造の量が増えると、例えば、モスアイフィルムを表示装置の表面に貼り付けた場合、散乱した光の影響で表示に白濁感が生じやすくなる。
実施形態1のモスアイフィルム11は、このようなスティッキング構造15が全く形成されていない、又は、ほとんど影響がない程度に形成されたモスアイフィルムである。実施形態1において上記スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm以上のものをいう。一つ当たり0.3μm未満のスティッキング構造については、光を散乱させる効果が少ない。スティッキング構造15が全く形成されていない、すなわち、上記反射防止膜の平面積に対するスティッキング構造の個数の密度が0個/μmであれば、スティッキング構造15の影響は全く受けないため、光の散乱は起こらない。
上記反射防止膜の平面積に対するスティッキング構造の個数の密度は、2.1個/μm未満であってもよい。スティッキング構造の個数の密度がこの範囲に抑えられていれば、表示装置の表面に実施形態1のモスアイフィルムを貼り付けた場合であっても、光の散乱に基づく白濁感は感じにくく、明瞭な表示を得ることができる。
以下、実施形態1のモスアイフィルムの作製方法について、実際にモスアイフィルムを作製した実施例1~3並びに参考例1及び2を用いて説明する。
まず、10cm角のガラス基板を用意し、金型の材料となるアルミニウム(Al)をスパッタリング法によりガラス基板上に膜厚1.0μmでデポした。次に、アルミニウムを陽極酸化させ、直後にエッチングを行う工程を繰り返すことによって、隣り合う穴(凹部)の底点間の距離が可視光波長以下の長さである多数の微小な穴をもつ陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング及び陽極酸化を順に行うフロー(陽極酸化5回、エッチング4回)によって、金型を作製した。このような陽極酸化とエッチングとの繰り返し工程によれば、形成される微小な穴の形状は、金型の内部に向かって先細りの形状(テーパ形状)となる。なお、モールドの基板はガラスに限られず、SUS、Ni等の金属材料や、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子(代表的にはノルボルネン系樹脂等である製品名「ゼオノア」(日本ゼオン株式会社製)、製品名「アートン」(JSR株式会社製)等)のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂材料であってもよい。また、アルミニウムを成膜した基板の代わりに、アルミニウムのバルク基板を用いてもよい。なお、金型の形状は、平板状であってもロール(円筒)状であってもよい。
陽極酸化の条件は、シュウ酸0.6wt%、液温5℃、80Vの印加電圧とした。陽極酸化時間については、各例でそれぞれ異なるものとした。陽極酸化時間を調節することで、形成される穴の大きさに違いが生まれる。陽極酸化時間と穴の大きさとの関係については、下記表1を用いて具体的に説明する。エッチングの条件は、いずれの例においても、それぞれリン酸1mol/l、液温30℃、25分とした。
上記製造工程によって作製された、それぞれ凹凸高さが異なる各金型の表面上に、透光性を有する2P(光重合性)樹脂溶液を滴下し、気泡が入らないように注意しながら、2P樹脂溶液でできた2P樹脂層上にTACフィルムを貼り合わせた。次に、紫外(UV)光を2P樹脂層に対して2J/cm照射して2P樹脂層を硬化させ、その後、硬化してできた2P樹脂フィルム及びTACフィルムの積層フィルムの剥離を行った。金型を用いて基材上に微細凹凸を形成(複製)する具体的な方法としては、上記2P法(Photo-polymerization法)の他に、例えば、熱プレス法(エンボス法)、射出成形法、ゾルゲル法等の複製法、微細凹凸賦形シートのラミネート法、微細凹凸層の転写法等の各種方法を、反射防止物品の用途及び基材の材料等に応じて適宜選択すればよい。
そして最後に、モスアイフィルムとなる2P樹脂フィルム、及び、TACフィルムで構成された積層フィルムを、それぞれ透明なアクリル板上に貼り付け、各例のサンプルを完成させた。
完成したサンプル及び金型については、SEM(Scanning Electron Microscope:走査型電子顕微鏡)を用いて凹凸の深さを測定し、更に、SEMによってスティッキングの構造の観察を行った。
表1は、実施例1~3並びに参考例1及び2における陽極酸化時間、金型の凹部の深さ、金型の凹凸形状が転写されたモスアイフィルム(転写物)の凸部の高さ、転写比率、及び、モスアイフィルム(転写物)のアスペクト比の各数値を表している。
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図19~34は、実施例1及び2並びに参考例1及び2において作製したモスアイフィルムの平面写真及び断面写真、並びに、模式図である。図19~図22が実施例1を、図23~図26が実施例2を、図27~図30が参考例1を、図31~図34が参考例2をそれぞれ示している。図19、図23、図27、図31は断面写真を表し、図20、図24、図28、図32は断面模式図を表し、図21、図25、図29、図33は平面写真を表し、図22、図26、図30、図34は平面模式図を表している。
図21、22、25、26からわかるように、実施例1及び2のモスアイフィルムには、スティッキング構造が全く形成されていない。一方、図29、30、33、34からわかるように、参考例1及び2のモスアイフィルムには、スティッキング構造が複数個形成されている。なお、実施例2及び実施例3のモスアイフィルムについては、より広い範囲で観察を行ったときに、スティッキング構造が確認された。実施例2のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、0.5個/μmであり、実施例3のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、1.5個/μmであった。
図29、30、33、34内の、円で囲った部分が、凸部の先端部同士が互いに結合して形成され、かつ0.3μm以上の粒径をもつスティッキング構造である。図29、33で示される平面写真の縦の辺の長さは1.9μm、横の辺の長さは2.5μmであり、面積は4.8μmである。したがって、参考例1のモスアイフィルムには、4.8μmの面積当たり10個のスティッキング構造が形成されており、参考例2のモスアイフィルムには、4.8μmの面積当たり19個のスティッキング構造が形成されている。すなわち、参考例1のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、2.1個/μmであり、参考例2のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、4.0個/μmである。
図35~38は、参考例2のモスアイフィルムをより拡大した写真及び模式図である。図35は断面写真を表し、図36は断面模式図を表し、図37は平面写真を表し、図38は平面模式図を表している。図35及び図36に示すように、モスアイフィルムの凸部の先端は折れ曲がっており、凸部のいくつかは、隣り合うもの同士の先端が結合することでスティッキング構造を形成している。また、図37及び図38において、白色の部分がモスアイフィルムの凸部を表しており、モスアイフィルムの表面に対して垂直の方向から見たときの凸部の形状は、球形又は楕円形を有しているものが多い。一方、凸部の先端同士が結合してできたスティッキング構造の形状は、モスアイフィルムの表面に対して垂直の方向から見たときに、一つ当たり、中心から放射状に広がる星型、複数の円又は楕円形状が重複してできた瓢箪形若しくは花形、又は、規則性のない不定形を有している。
次に、実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの特性について比較する。図39は、実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの表面で反射する光の反射スペクトルを表すグラフである。
図39に示すように、実施例1のモスアイフィルムは、より長波長側の光に対して高い反射率を有するものとなっている。より詳しくは、約500nmを境に、反射率の値が急増している。これは、実施例1のモスアイフィルムが有する凸部一つ当たりのアスペクト比が小さいことに起因している。可視光の範囲は380~780nmであるため、可視光の範囲内では反射率が1%を超えていないが、赤又は黄に色付きやすいものであることが分かる。また、実施例2のモスアイフィルムは、約650nmを境に、反射率の値が微増しており、実施例1のモスアイフィルムと同様、より長波長側の光に対して高い反射率を有する。
一方、参考例1及び2のモスアイフィルムは、アスペクト比が大きいため長波長側の光に対して低い反射率を有するが、短波長側に反射率の増加が見られる。これは、図27~図34で示したスティッキング構造の影響によってモスアイフィルムの表面で反射する光に散乱が起こったためと考えられる。
図40は、実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの表面で透過する光の透過スペクトルを表すグラフである。
図40に示すように、実施例1~3のモスアイフィルムは、それぞれ同様の透過率曲線が得られたが、参考例1及び2のモスアイフィルムは、より短波長側の光の透過率が低下している。これは、スティッキング構造の影響によってモスアイフィルムを透過する光に散乱が起こったためと考えられる。
図41は、実施例1~3並びに参考例1及び2で作製したモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフである。図41に示すように、特に参考例1及び2のモスアイフィルムにおいて、より短波長側で輝度が向上しており、スティッキング構造による散乱成分がこの輝度の向上に起因していることがわかる。
このような散乱スペクトルは、以下のようにして測定した。図42は、モスアイフィルムの表面で反射する光の散乱特性を評価するための評価システムを表す概念図である。
図42に示すように、被験体23は、透明アクリル板(基材)21と、透明アクリル板21上に配置されたモスアイフィルム22との積層体である。測定を行うに当たっては、モスアイフィルム22の表面側(凹凸が形成されている側)であって、モスアイフィルム22の主面に対して30°の角度をなす方向に光源24を配置し、モスアイフィルム22の主面に対して30°の方向から光の照射を行った。光の直進線上であってモスアイフィルムを挟んで光源24の対面となる位置には、光の進行する方向に面する黒色の吸収体26を配置した。また、光源24及び黒色の吸収体26と直交する方向に、すなわち、モスアイフィルム22の主面に対して60°の方向であってかつ光の進行方向と直交する方向に、輝度計25及び吸収体27を配置した。すなわち、輝度計25と吸収体27とは、モスアイフィルム22を挟んで、互いに対向する位置に配置されており、輝度計25の測定方向と、吸収体27とが互いに面している。輝度計25はモスアイフィルム22の表面側に、吸収体27はモスアイフィルム22の裏面側に、それぞれ配置した。
これら2つの吸収体26,27のうち、光の直進線上であってモスアイフィルム22を挟んで光源の対面に位置する吸収体26は、モスアイフィルム22に入射した光のうち、散乱成分を除いた、モスアイフィルム22をそのまま透過した光(透過光)を吸収する役目を果たす。また、この吸収体26、及び、輝度計25の測定方向に対して主面をもつ吸収体27は、モスアイフィルム22の表面で散乱した光のうち、モスアイフィルム22の表面側に散乱した成分を除いた、モスアイフィルム22の裏面側に散乱した成分を吸収する役目を果たす。
輝度計25には、SR-UL1(トプコンテクノハウス社製)を用いた。測定条件は、測定角2.0°視野とし、被験体23との距離を40cmとした。吸収体26及び吸収体27によって、モスアイフィルム22の裏面側に抜けた光が吸収されることになるので、このような測定系によれば、モスアイフィルム22の表面で散乱し、モスアイフィルム22の表面側に向かって進んだ光の量(反射散乱光量)を測定することができる。
光源24には、キセノンランプ(MC-961C、大塚電子社製)を用いた。測定条件は、照度3000Lxとし、被験体との距離を15cmとした。
次に、モスアイフィルム22の樹脂材料を、実施例1~3並びに参考例1及び2で用いた樹脂と異なる樹脂(樹脂A~D)に変え、かつ実施例1~3及び参考例1で用いたものと同様の金型(金型1~4)を用いて、それぞれモスアイフィルムを作製した。
樹脂A~Dは、いずれもアクリレート系UV硬化性モノマー又はオリゴマー(日本化薬社製、KAYARADシリーズ)である点で共通しているが、それぞれ動的貯蔵弾性率(E’)、動的損失弾性率(E”)、ガラス転移温度(Tg)等の物性値が異なっている。
また、樹脂A~Dの貯蔵弾性率(E’)、損失弾性率(E”)及びtanδの温度変化を、動的粘弾性測定装置DMS6100(セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、それぞれ測定した。
図43は、樹脂A~Dのtanδの温度依存性を示すグラフである。tanδ(Loss tangent)は、動的貯蔵弾性率(E’)及び動的損失弾性率(E”)から算出される値(E’/E”)であり、動的貯蔵弾性率(E’)及び動的損失弾性率(E”)は、JIS K-7244に準じた方法により、試料動的振幅速さ(駆動周波数)1Hz、引張モード、チャック間距離5mm、歪振幅10μm、力振幅初期値100mN、及び、昇温温度2℃/minとした条件で動的粘弾性測定装置DMS6100を用いて測定することで得られた値である。また、各曲線のtanδが極大を示す温度が原則としてガラス転移温度(Tg)に相当する。
図43に示すように、樹脂A~Dのtanδの温度依存性を表す曲線は、いずれも温度に依存して値が変動しており、樹脂A~Dは、いずれも山なりの曲線となっている。樹脂A~Dを表す曲線は、それぞれ傾斜の角度、極大値を表す温度、極大値の大きさ、及び、極大値に対する半値幅が異なっている。
tanδの傾斜の角度は、樹脂Aが最もなだらかであり、次いで樹脂D及びCであり、樹脂Bが最も急であった。tanδの極大値を表す温度、すなわち、ガラス転移温度(Tg)は、樹脂Bは48℃であり、樹脂Cは66℃であり、樹脂Dは84℃であった。なお、樹脂Aは明確なTgの値を示さないもののtanδの極大値を表す温度は18℃であった。tanδの極大値の大きさは、樹脂Aが0.21であり、樹脂Bが0.68であり、樹脂Cが0.40であり、樹脂Dが0.38であった。すなわち、tanδの極大値の大きさは、樹脂Aが最も小さく、次いで樹脂D及びCであり、樹脂Bが最も大きかった。
また、極大値に対する半値幅、すなわち、tanδの極大値を基準の値とし、tanδの極大値の半分の値から極大値の値までが含まれる温度範囲は、樹脂Aは92℃でありtanδのグラフの対称性が大きく崩れており、樹脂Bは26℃であり、樹脂Cは52℃であり、樹脂Dは52℃であった。すなわち、極大値に対する半値幅は、樹脂Aが最も大きく、次いで樹脂D及びCであり、樹脂Bが最も小さかった。なお、樹脂Aに関してはtanδのピークの対称性が大きく崩れており、Tgとしての明確な値を示していない特徴を有している。ここで、tanδのグラフの対称性が大きく崩れTgが明確な値を示さない場合とは、tanδが極大値となる温度を基準に上記半値幅を低温側と高温側に分離した場合に、低温側領域又は高温側領域の温度範囲の一方が他方の2倍以上となる場合をいう。各樹脂における半値幅の低温側領域及び高温側領域の温度範囲は、樹脂Aでは28℃及び64℃、樹脂Bでは12℃及び14℃、樹脂Cでは30℃及び22℃、樹脂Dでは34℃及び18℃である。
図44は、樹脂A~Dの動的貯蔵弾性率(E’)の温度依存性を示すグラフである。図44に示すように、樹脂A~Dの動的貯蔵弾性率(E’)の温度依存性を表す曲線は、いずれも、温度が上昇するにつれてなだらかに下がる変化を示し、一定温度以上は、温度が上昇してもあまり変化しない点で共通しているが、傾斜の角度はそれぞれ異なっている。
樹脂A~Dの動的貯蔵弾性率(E’)を表す曲線の、変化の開始点から変化の終局点までの範囲での微分係数は、樹脂Aが-7.9×10-7であり、樹脂Bが-1.7×10-8であり、樹脂Cが-9.6×10-7であり、樹脂Dが-8.2×10-7であった。すなわち、動的貯蔵弾性率(E’)を表す曲線の傾斜の角度は、樹脂Aが最もなだらかであり、次いで樹脂D及びCであり、樹脂Bが最も急であった。
図45は、樹脂A~Dの動的損失弾性率(E”)の温度依存性を示すグラフである。図45に示すように、樹脂A~Dの動的損失弾性率(E”)の温度依存性を表す曲線は、いずれも起伏を有するものの、全体としては温度が上昇するにつれてなだらかに下がる変化を示す点で共通しているが、変化の傾斜の角度はそれぞれ異なっている。全体としては、動的損失弾性率(E”)を表す曲線の傾斜の角度は、樹脂Aが最もなだらかであり、次いで樹脂D及びCであり、樹脂Bが最も急であった。
(評価試験1)
樹脂A~Dを用い、金型1を用いて作製された各モスアイフィルムを、それぞれ実施例4~7のモスアイフィルムとした。樹脂Aが実施例4に相当し、樹脂Bが実施例5に相当し、樹脂Cが実施例6に相当し、樹脂Dが実施例7に相当する。
図46及び図47は、実施例4~7のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフである。図46は散乱(放射)輝度の絶対値(W/sr/m)に基づく散乱スペクトルを表し、図47は、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。図46で示されるグラフの縦軸は、モスアイフィルムの表面で反射する光の散乱による放射輝度の絶対値、すなわち、アクリル板(基材)上にモスアイフィルムを設けた状態での被験体表面で散乱する光の散乱による放射輝度の値からアクリル板(基材)の表面で散乱する光の散乱による放射輝度の値を差し引いた(除去した)値を示している。図47で示されるグラフの縦軸は、アクリル板(基材)の表面で反射する光の散乱による放射輝度、すなわち、モスアイフィルムを設けていない状態での被験体表面で散乱する光の放射輝度に対する、モスアイフィルムを設けた状態での被験体表面の表面で散乱する光の放射輝度の増加率を示している。それぞれの輝度の測定方法は、上述の図42を用いて説明した方法と同様である。
図46及び図47に示すように、金型1を用いて形成されるモスアイフィルムは、いずれの樹脂A~Dにおいても、モスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルに大きな変化はなく、したがって、実施例4~7のモスアイフィルムにおいてスティッキング構造に基づく光の散乱は起こっていないことがわかった。
(評価試験2)
樹脂A~Dを用い、金型2を用いて作製された各モスアイフィルムを、それぞれ実施例8~11のモスアイフィルムとした。樹脂Aが実施例8に相当し、樹脂Bが実施例9に相当し、樹脂Cが実施例10に相当し、樹脂Dが実施例11に相当する。
図48及び図49は、実施例8~11のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフである。図46及び図47と同様、図48は散乱(放射)輝度の絶対値に基づく散乱スペクトルを表し、図49は、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。散乱スペクトルの測定方法は、上述の図42を用いて説明した方法と同様である。
図48及び図49に示すように、金型2を用いて形成されるモスアイフィルムは、いずれの樹脂A~Dにおいても、モスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルに大きな変化はなかった。
図50~55は、実施例9~11において作製したモスアイフィルムを示している。図50、52、54が平面写真であり、図51、53、55が平面模式図である。図50及び図51が実施例9に、図52及び53が実施例10に、図54及び55が実施例11にそれぞれ相当する。図50~55内の、円で囲った部分が、凸部の先端部同士が互いに結合して形成され、かつ0.3μm以上の粒径をもつスティッキング構造である。図50及び図51のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、0.8個/μmであり、図52及び53のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、1.2個/μmであり、図54及び55のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、1.3個/μmであった。
したがって、実施例8~11のモスアイフィルムにスティッキング構造に基づく光の散乱は起こっていないことがわかった。
(評価試験3)
樹脂A~Dを用い、金型3を用いて作製された各モスアイフィルムを、それぞれ実施例12~14及び参考例3のモスアイフィルムとした。樹脂Aが実施例12に相当し、樹脂Bが参考例3に相当し、樹脂Cが実施例13に相当し、樹脂Dが実施例14に相当する。
図56及び57は、実施例12~14及び参考例3のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフである。図56は散乱(放射)輝度の絶対値に基づく散乱スペクトルを表し、図57は、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。散乱スペクトルの測定方法は、上述の図42を用いて説明した方法と同様である。
図56及び57に示すように、実施例12のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルに大きな変化はなかったものの、実施例13及び14並びに参考例3のモスアイフィルムの表面で散乱する光の量に変化が見られた。より具体的には、実施例13及び14並びに参考例3のモスアイフィルムにおいて、より短波長側で輝度の増加が見られ、特に、参考例3のモスアイフィルムにおいて、実施例13及び14のモスアイフィルムと比べて、高い反射率の増加が見られた。
図58~61は、実施例14及び参考例3において作製したモスアイフィルムを示している。図58及び59が実施例14に、図60及び61が参考例3にそれぞれ相当する。図58~61内の、円で囲った部分が、凸部の先端部同士が互いに結合して形成され、かつ0.3μm以上の粒径をもつスティッキング構造である。図58及び59のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、1.9個/μmであり、図60及び61のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、3.1個/μmであった。
したがって、金型3を用いてモスアイフィルムを形成した場合、樹脂Aを用いたモスアイフィルムにスティッキング構造に基づく光の散乱は起こっていなかったものの、樹脂B又はCを用いた場合、微小なスティッキング構造に基づく光の散乱がわずかに起こり、樹脂Dを用いた場合に、スティッキング構造に基づく光の散乱が起こっていることがわかった。
(評価試験4)
樹脂A~Dを用い、金型4を用いて作製された各モスアイフィルムを、それぞれ参考例4~7のモスアイフィルムとした。樹脂Aが参考例4に相当し、樹脂Bが参考例5に相当し、樹脂Cが参考例6に相当し、樹脂Dが参考例7に相当する。
図62及び63は、参考例4~7のモスアイフィルムの表面で散乱する光の散乱スペクトルを表すグラフである。図62は散乱(放射)輝度の絶対値に基づく散乱スペクトルを表し、図63は、散乱(放射)輝度の増加率に基づく散乱スペクトルを表す。
図62及び63に示すように、参考例4~7のいずれのモスアイフィルムの表面で散乱する光の量にも変化が見られた。より具体的には、いずれのモスアイフィルムにおいても、より短波長側で輝度の増加が見られ、参考例4~7のいずれのモスアイフィルムにおいても、上述の評価試験3で得られた参考例3のモスアイフィルムの結果と比べ、高い輝度が検出された。
図64~67は、参考例4及び参考例5において作製したモスアイフィルムを示している。図64及び65が参考例4に、図66及び67が参考例5にそれぞれ相当する。図64~67内の、円で囲った部分が、凸部の先端部同士が互いに結合して形成され、かつ0.3μm以上の粒径をもつスティッキング構造である。図64及び65のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、4.5個/μmであり、図66及び67のモスアイフィルムにおけるスティッキング構造の個数の密度は、12.6個/μmであった。
したがって、金型4を用いて形成されるモスアイフィルムは、いずれの樹脂A~Dを用いたとしても、スティッキング構造が形成され、スティッキング構造に基づく光の散乱が起こっていることがわかった。
表2は、金型1~4と樹脂A~Dの組み合わせと、各実施例及び各参考例との関係をまとめた表である。また、表3は、周囲の明るさ20000Lxの環境下(曇天時の日中屋外に相当)における金型1~4と樹脂A~Dの組み合わせを透明基板上に配置したときの、観察者の目視によるクリア感の評価をまとめた表である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
表3において、◎は全く白濁感を感じない表示、○はほとんど白濁感を感じない表示、▲はわずかに白濁感を感じるが許容範囲である表示、△は白濁感を感じ良好でない表示、×は白濁感を感じ不良品扱いとなる表示を意味する。
このことから、散乱輝度が高い参考例3~7のモスアイフィルムについては、実際に目視を行った場合に白濁感を感じやすく、一方、散乱輝度が低い実施例4~14のモスアイフィルムについては、実際に目視を行った場合に白濁感を感じにくく、クリアな表示が得られるという結果が得られた。
表4は、金型1~4と樹脂A~Dの組み合わせにおける、モスアイフィルムの表面で散乱する光による、輝度(Y値)の増加量(cd/m)をまとめた表である。また、図68は、金型1~4と樹脂A~Dの組み合わせにおける、モスアイフィルムの表面で散乱する光による、輝度(Y値)の増加量(cd/m)をまとめた柱状グラフである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
表4及び図68を考察すると、モスアイフィルムの表面で散乱する光による、輝度(Y値)の増加量が、少なくとも、参考例3に相当する1.11(cd/m)以上の場合に、白濁感による良好な表示が得られず、一方、少なくとも、実施例14に相当する0.652(cd/m)以下の場合に、白濁感を感じにくい良好な表示が得られることがわかった。
表5は、金型1~4と樹脂A~Dの組み合わせにおける、スティッキング密度(個/μm)をまとめた表である。また、図69は、スティッキング密度(個/μm)と輝度(Y値)の増加量との相関関係を示すグラフである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
表5を考察すると、モスアイフィルムの表面に形成されるスティッキング密度(個/μm)は、少なくとも、参考例3に相当する3.1(個/μm)以上の場合に、白濁感による良好な表示が得られず、一方、少なくとも、実施例14に相当する1.9(個/μm)以下の場合に、白濁感を感じにくい良好な表示が得られることがわかった。また、図69を考察すると、スティッキング密度が大きくなるにつれ輝度(Y値)が増加することが明確であることがわかる。
実施形態1で用いられた樹脂A~Dとしては、アクリレート系UV硬化性モノマー又はオリゴマーをそのまま用いてもよいし、硬度、柔軟性、硬化性、密着性等を考慮して、複数種のアクリレート系UV硬化性モノマー又はオリゴマー樹脂を共重合等させて適宜組み合わせたものを用いてもよい。複数種の樹脂を組み合わせることで、使用する樹脂のガラス転移温度(Tg)、動的貯蔵弾性率(E’)及び動的損失弾性率(E”)を調節することができる。
例えば、ビスフェノール-Aのような剛直な骨格を使用する樹脂に導入することによって、ガラス転移温度(Tg)及び動的貯蔵弾性率(E’)が上昇する。一方、ポリエチレングリコールのような柔軟な骨格を使用する樹脂に導入することによって、ガラス転移温度(Tg)及び動的貯蔵弾性率(E’)が低下する。
また、可塑剤、架橋剤等によっても、ガラス転移温度Tg、動的貯蔵弾性率E’、動的損失弾性率E”、破断伸度等を調節することができる。可塑剤の場合、その種類、添加量によって調節することができる。可塑剤の量が多くなるほどガラス転移温度Tg、動的貯蔵弾性率E’及び動的損失弾性率E”は低下し、破断伸度は向上する。架橋剤の場合、その添加量を多くする、又は、架橋の進行度を高くすると、ガラス転移温度Tg、動的貯蔵弾性率E’及び動的損失弾性率E”が向上し、破断伸度が低下する。これら可塑剤及び架橋剤を適宜添加することによって、目的の条件範囲を満たすように調整してもよい。
実施形態1の反射防止膜に使用可能なアクリレートモノマーとしては、単官能アクリレートモノマー、二官能アクリレートモノマー及び多官能アクリレートモノマーが挙げられる。
単官能アクリレートモノマーの例としては、脂肪族アクリレートモノマー、脂環式アクリレートモノマー、エーテル系アクリレートモノマー、環状エーテル系アクリレートモノマー、水酸基含有アクリレートモノマー、芳香族系アクリレートモノマー、カルボキシ含有アクリレートモノマー等が挙げられる。
単官能アクリレートモノマーについては、同一分子量で比較した場合、脂肪族(直鎖)、脂肪族(分岐)、脂環式、芳香族の順にTgが高くなる傾向がある。脂肪族ではエステル基の炭素数が8~10の間が最も低く、炭素数が増すにつれて増加する。フッ素含有アクリレートモノマーでは、エステル基の炭素数8~10の間に極小値を有する。単官能アクリレートモノマーを用いた樹脂のTgは、-80℃から150℃の範囲で調節できる。
二官能アクリレートモノマーを含む硬化物は、比較的高い硬度を有する。二官能アクリレートモノマーを用いることで、樹脂のTgは、-30℃から200℃の範囲で調節できる。
多官能アクリレートモノマーは硬化性に優れ、多官能アクリレートモノマーを含む硬化物は、高い硬度を有する。多官能アクリレートモノマーを用いることで、樹脂のTgは、80℃から250℃の範囲で調節できる。
アクリレートオリゴマーは、分子構造を基準として、エポキシアクリレートオリゴマーと、ウレタンアクリレートオリゴマーと、ポリエステルアクリレートオリゴマーとに大別される。
エポキシアクリレートオリゴマーを含む硬化物は、硬度が高く、耐熱性及び耐薬品性に優れている。エポキシアクリレートオリゴマーを用いることで、樹脂のTgは、80℃から250℃の範囲で調節できる。
ウレタンアクリレートオリゴマーを含む硬化物は、一般的に強度と伸びに優れ、柔軟性を持つ。ウレタンアクリレートオリゴマーを用いることで、樹脂のTgは、-50℃から80℃の範囲で調節できる。
ポリエステルアクリレートオリゴマーを含む硬化物は、柔らかいものから硬いものまで広範囲にわたっている。ポリエステルアクリレートオリゴマーを用いることで、樹脂のTgは、20℃から100℃の範囲で調節できる。
その他、高い靭性を示すポリブタジエンアクリレートオリゴマー、他のオリゴマーに対して添加することで特性に耐候性、耐磨耗性、撥水性、可撓性を付与するシリコーンアクリレートオリゴマー等を使用することもできる。
なお、本願は、2009年6月12日に出願された日本国特許出願2009-141130号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。
11,22:モスアイフィルム
12:凸部
13:下地部
14:先端部
15:スティッキング構造
16:基材
21:透明アクリル板(基材)
23:被験体
24:光源
25:輝度計
26,27:吸収体

Claims (31)

  1. 隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、
    該モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有さない
    ことを特徴とする反射防止膜。
  2. 隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、
    該モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有し、
    該スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm未満である
    ことを特徴とする反射防止膜。
  3. 隣り合う凸部の頂点間の幅が可視光波長以下である複数個の凸部を含むモスアイ構造を表面に有する反射防止膜であって、
    該モスアイ構造は、凸部の先端部同士が互いに結合して形成されたスティッキング構造を有し、
    該スティッキング構造の径は、一つ当たり0.3μm以上であり、
    該反射防止膜の平面積に対するスティッキング構造の個数の密度は、2.1個/μm未満である
    ことを特徴とする反射防止膜。
  4. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、1.0未満であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  5. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは200nm未満であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  6. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.8以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  7. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは160nm以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  8. 前記反射防止膜の材料のtanδの温度依存特性を示す曲線の極大値は、0.4以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  9. 前記反射防止膜の材料のtanδの温度依存特性を示す曲線の極大値は、0.3以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  10. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.7以上、1.1以下であることを特徴とする請求項8又は9記載の反射防止膜。
  11. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、140nm以上、220nm以下であることを特徴とする請求項8又は9記載の反射防止膜。
  12. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.9以上、1.1以下であることを特徴とする請求項8又は9記載の反射防止膜。
  13. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、180nm以上、220nm以下であることを特徴とする請求項8又は9記載の反射防止膜。
  14. 前記反射防止膜の材料のtanδの温度依存特性を示す曲線の極大値の半値幅は、52℃以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  15. 前記反射防止膜の材料のtanδの温度依存特性を示す曲線の極大値の半値幅は、92℃以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  16. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.7以上、1.1以下であることを特徴とする請求項14又は15記載の反射防止膜。
  17. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、140nm以上、220nm以下であることを特徴とする請求項14又は15記載の反射防止膜。
  18. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.9以上、1.1以下であることを特徴とする請求項14又は15記載の反射防止膜。
  19. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、180nm以上、220nm以下であることを特徴とする請求項14又は15記載の反射防止膜。
  20. 前記反射防止膜の材料の動的貯蔵弾性率の温度依存特性を示す曲線の微分係数は、変化の開始点から変化の終局点の範囲で-1.0×10-8以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  21. 前記反射防止膜の材料の動的貯蔵弾性率の温度依存特性を示す曲線の微分係数は、変化の開始点から変化の終局点の範囲で-0.8×10-8以上であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  22. 前記反射防止膜の材料の動的貯蔵弾性率の温度依存特性を示す曲線の微分係数は、変化の開始点から変化の終局点の範囲で1.0×10-8以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  23. 前記反射防止膜の材料の動的貯蔵弾性率の温度依存特性を示す曲線の微分係数は、変化の開始点から変化の終局点の範囲で0.8×10-8以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の反射防止膜。
  24. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.7以上、1.1以下であることを特徴とする請求項20~23のいずれかに記載の反射防止膜。
  25. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、140nm以上、220nm以下であることを特徴とする請求項20~23のいずれかに記載の反射防止膜。
  26. 前記複数個の凸部の一つ当たりのアスペクト比は、0.9以上、1.1以下であることを特徴とする請求項20~23のいずれかに記載の反射防止膜。
  27. 前記複数個の凸部の一つ当たりの高さは、180nm以上、220nm以下であることを特徴とする請求項20~23のいずれかに記載の反射防止膜。
  28. 前記動的貯蔵弾性率は、25℃において0.1GPa以上であることを特徴とする請求項20~27のいずれかに記載の反射防止膜。
  29. 前記反射防止膜の材料のガラス転移温度は、200℃未満であることを特徴とする請求項1~28のいずれかに記載の反射防止膜。
  30. 請求項1~29のいずれかに記載の反射防止膜を備えることを特徴とする表示装置。
  31. 請求項1~29のいずれかに記載の反射防止膜を備えることを特徴とする透光部材。
PCT/JP2010/058443 2009-06-12 2010-05-19 反射防止膜、表示装置及び透光部材 WO2010143503A1 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201080025910.5A CN102460227B (zh) 2009-06-12 2010-05-19 防反射膜、显示装置以及透光部件
US13/375,040 US9158038B2 (en) 2009-06-12 2010-05-19 Antireflection film, display device and light transmissive member
BR112012000218A BR112012000218A2 (pt) 2009-06-12 2010-05-19 filme antirreflexo, dispositivo de exibição e membro transmissor de luz.
JP2011518379A JP5250107B2 (ja) 2009-06-12 2010-05-19 反射防止膜、表示装置及び透光部材
EP10786034A EP2426520A4 (en) 2009-06-12 2010-05-19 ANTIREFLECTION FILM, DISPLAY DEVICE, AND LIGHT TRANSMISSION ELEMENT
RU2012100739/28A RU2493574C1 (ru) 2009-06-12 2010-05-19 Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент
US13/315,321 US8384998B2 (en) 2009-06-12 2011-12-09 Antireflection film, display device and light transmissive member

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US13/375,040 A-371-Of-International US9158038B2 (en) 2009-06-12 2010-05-19 Antireflection film, display device and light transmissive member
US13/315,321 Division US8384998B2 (en) 2009-06-12 2011-12-09 Antireflection film, display device and light transmissive member

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PCT/JP2010/058443 WO2010143503A1 (ja) 2009-06-12 2010-05-19 反射防止膜、表示装置及び透光部材

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US (2) US9158038B2 (ja)
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RU (2) RU2493574C1 (ja)
WO (1) WO2010143503A1 (ja)

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012105724A1 (ja) * 2011-02-04 2012-08-09 ソニー株式会社 光情報記録媒体およびその製造方法
JP2012152987A (ja) * 2011-01-25 2012-08-16 Dainippon Printing Co Ltd 印刷物
WO2012133943A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 ソニー株式会社 印刷物および印画物
WO2012133946A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 ソニー株式会社 光学素子、表示装置および入力装置
JP2012220675A (ja) * 2011-04-07 2012-11-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
CN102855817A (zh) * 2011-06-29 2013-01-02 群康科技(深圳)有限公司 显示装置、抗反射基板及其制造方法
WO2013028321A1 (en) * 2011-08-19 2013-02-28 Apple Inc. Electronic devices with flexible glass polarizers
WO2013125312A1 (ja) * 2012-02-20 2013-08-29 シャープ株式会社 表示装置
JP2013237157A (ja) * 2012-05-11 2013-11-28 Kuraray Co Ltd 樹脂成形体の製造方法、樹脂成形体、およびモールド
WO2013191091A1 (ja) * 2012-06-22 2013-12-27 シャープ株式会社 反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置
WO2014021377A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型
WO2014021376A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
JP2014071220A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Dainippon Printing Co Ltd 絵柄付きフィルム及び表示体
JP2014098864A (ja) * 2012-11-15 2014-05-29 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2014145868A (ja) * 2013-01-29 2014-08-14 Ricoh Co Ltd 光学素子、モールド、光学装置
JP2014178662A (ja) * 2012-07-31 2014-09-25 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型
WO2014162374A1 (ja) 2013-04-02 2014-10-09 パナソニック株式会社 光学部材および光学装置
JP2014209233A (ja) * 2013-03-29 2014-11-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
JP2014209234A (ja) * 2013-03-28 2014-11-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
JP2014209235A (ja) * 2013-03-28 2014-11-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP5652516B1 (ja) * 2013-07-18 2015-01-14 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2015138042A (ja) * 2014-01-20 2015-07-30 大日本印刷株式会社 表示体
WO2016035776A1 (ja) * 2014-09-01 2016-03-10 デクセリアルズ株式会社 光学体、表示装置および光学体の製造方法
JP2016122114A (ja) * 2014-12-25 2016-07-07 株式会社クラレ 微細構造体及び光学部材
JP2016126066A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2017161590A (ja) * 2016-03-07 2017-09-14 富士フイルム株式会社 反射防止部材及びその製造方法
WO2018043627A1 (ja) * 2016-09-01 2018-03-08 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
WO2018173867A1 (ja) * 2017-03-21 2018-09-27 シャープ株式会社 防汚性フィルム
JP2019023730A (ja) * 2018-07-25 2019-02-14 株式会社エガリム ホログラフィック光学素子の作製装置及び作製方法
JP2021062512A (ja) * 2019-10-11 2021-04-22 東洋インキScホールディングス株式会社 積層体、及びその製造方法
CN114709273A (zh) * 2022-06-06 2022-07-05 陕西半导体先导技术中心有限公司 一种异质结紫外场效应光电晶体管及制备方法

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102395905B (zh) * 2009-04-24 2014-03-19 夏普株式会社 防反射膜、防反射膜的制造方法和显示装置
RU2493574C1 (ru) 2009-06-12 2013-09-20 Шарп Кабусики Кайся Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент
WO2011125367A1 (ja) * 2010-04-06 2011-10-13 シャープ株式会社 光学素子、反射防止構造体及びその製造方法
WO2013191089A1 (ja) * 2012-06-22 2013-12-27 シャープ株式会社 反射防止フィルムの製造方法
JP6386700B2 (ja) * 2012-07-04 2018-09-05 キヤノン株式会社 構造体、光学部材、反射防止膜、撥水性膜、質量分析用基板、位相板、構造体の製造方法、及び反射防止膜の製造方法
JP6064467B2 (ja) * 2012-09-11 2017-01-25 株式会社リコー 光拡散素子および画像表示装置
CN102998723B (zh) * 2012-11-29 2016-03-16 法国圣戈班玻璃公司 减反光学组件及制造方法
US9207363B2 (en) * 2013-04-30 2015-12-08 The Boeing Company Anti-reflection nanostructure array and method
CN103399367B (zh) * 2013-07-30 2016-02-17 合肥京东方光电科技有限公司 一种显示基板及其制造方法、显示装置
JP2015038579A (ja) * 2013-08-19 2015-02-26 ソニー株式会社 光学素子、光学系、撮像装置、光学機器、ならびに原盤およびその製造方法
JP2015087762A (ja) * 2013-09-25 2015-05-07 大日本印刷株式会社 反射部材
JP2015102787A (ja) * 2013-11-27 2015-06-04 三菱電機株式会社 投写型映像表示装置
US9530636B2 (en) 2014-03-20 2016-12-27 Kla-Tencor Corporation Light source with nanostructured antireflection layer
JP6696114B2 (ja) * 2014-07-18 2020-05-20 大日本印刷株式会社 低反射シート
KR101776065B1 (ko) * 2014-09-25 2017-09-07 코오롱인더스트리 주식회사 나노패턴을 포함하는 광학시트 및 그 제조방법
JP6424550B2 (ja) * 2014-09-30 2018-11-21 大日本印刷株式会社 反射防止物品及び美術品展示体
CN105867674A (zh) * 2015-01-23 2016-08-17 联想(北京)有限公司 触摸屏及其制作方法
CN104816410B (zh) * 2015-03-27 2017-03-29 豪威光电子科技(上海)有限公司 一种镜头模具及其制造方法、及镜头基片的制造方法
JP6627546B2 (ja) * 2015-07-29 2020-01-08 大日本印刷株式会社 車両用内装材および車両用内装材用フィルム
CN104991680A (zh) * 2015-08-05 2015-10-21 信利光电股份有限公司 一种触摸屏
TWI700847B (zh) * 2015-09-10 2020-08-01 日商王子控股股份有限公司 有機發光二極體製造用之模具
CN108290786B (zh) * 2015-11-30 2021-03-09 Agc株式会社 夹层玻璃
JP2018077304A (ja) * 2016-11-08 2018-05-17 株式会社デンソー 撮像装置
CN107300807A (zh) * 2017-06-01 2017-10-27 武汉华星光电技术有限公司 一种光学元件、液晶显示模组及蛾眼微结构的制备方法
FR3068977B1 (fr) * 2017-07-12 2020-09-04 Arkema France Composition comprenant un polymere a phases multiples et un polymere (meth)acrylique, son procede de preparation et son utilisation
CN107359186A (zh) * 2017-08-21 2017-11-17 信利半导体有限公司 一种oled显示模组
CN109841644B (zh) * 2017-11-24 2021-07-27 上海和辉光电股份有限公司 一种显示面板及显示装置
JP7182438B2 (ja) * 2017-12-21 2022-12-02 信越化学工業株式会社 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、及び眼鏡型ディスプレイ
JP7125863B2 (ja) * 2018-06-08 2022-08-25 デクセリアルズ株式会社 光学積層体の製造方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001517319A (ja) 1997-03-04 2001-10-02 フラウンホファー.ゲゼルシャフト.ツール.フォルデンウング.デール.アンゲヴァンドテン.フォルシュング.エー.ファウ. 反射防止膜とその製法
JP2003531962A (ja) 2000-04-28 2003-10-28 アルコーブ サーフィシーズ ゲーエムベーハー 型押し具、これを製造する方法、加工物の表面を構築する方法、及び陽極酸化表面層の使用
JP2004059820A (ja) 2002-07-31 2004-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー
JP2004059822A (ja) 2002-07-31 2004-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー
JP2005258120A (ja) * 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光学部品用硬化性樹脂組成物、光学部品及び画像表示装置
WO2007040159A1 (ja) * 2005-10-04 2007-04-12 The Inctec Inc. 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の(メタ)アクリル系重合性組成物
JP2007118449A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Fujifilm Corp 凹凸状シートの製造方法及び装置
JP2007240707A (ja) * 2006-03-07 2007-09-20 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム及び画像表示装置
JP2009141130A (ja) 2007-12-06 2009-06-25 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ及びその製造方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4190321A (en) * 1977-02-18 1980-02-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Microstructured transmission and reflectance modifying coating
US4812352A (en) 1986-08-25 1989-03-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Article having surface layer of uniformly oriented, crystalline, organic microstructures
JPH03196451A (ja) 1989-12-26 1991-08-27 Pioneer Electron Corp 表示装置用フィルタおよびその製造方法
US5247390A (en) 1991-11-05 1993-09-21 Aharon Zeev Hed Lightweight low-loss refractive light diffusion system
JPH11281818A (ja) 1998-03-31 1999-10-15 Casio Comput Co Ltd 偏光板及びそれを用いた表示装置
JP4562894B2 (ja) * 2000-04-17 2010-10-13 大日本印刷株式会社 反射防止膜およびその製造方法
US7066234B2 (en) 2001-04-25 2006-06-27 Alcove Surfaces Gmbh Stamping tool, casting mold and methods for structuring a surface of a work piece
JP2003084106A (ja) 2001-09-10 2003-03-19 Nippon Sheet Glass Co Ltd 無機材料からなる凸状膜及びその形成方法
JP4197100B2 (ja) 2002-02-20 2008-12-17 大日本印刷株式会社 反射防止物品
JP2003279705A (ja) * 2002-03-25 2003-10-02 Sanyo Electric Co Ltd 反射防止部材
JP4406553B2 (ja) * 2003-11-21 2010-01-27 財団法人神奈川科学技術アカデミー 反射防止膜の製造方法
JP2005331607A (ja) 2004-05-18 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd 光学部品及び画像表示装置
US20060061868A1 (en) * 2004-07-28 2006-03-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antireflection structure and optical material comprising the same
WO2006059686A1 (ja) 2004-12-03 2006-06-08 Sharp Kabushiki Kaisha 反射防止材、光学素子、および表示装置ならびにスタンパの製造方法およびスタンパを用いた反射防止材の製造方法
CN101080656B (zh) 2004-12-16 2011-04-20 东丽株式会社 偏振光片、其制造方法和使用该偏振光片的液晶显示装置
WO2007032367A1 (ja) 2005-09-14 2007-03-22 Fujifilm Corporation 凹凸状シートの製造方法及び製造装置
JP5015462B2 (ja) 2006-01-11 2012-08-29 株式会社ダイセル 防眩性フィルム及びその製造方法
US20070236939A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-11 3M Innovative Properties Company Structured Composite Optical Films
WO2008018570A1 (fr) * 2006-08-09 2008-02-14 Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Organization Structure antireflet, procédé pour la produire et procédé pour produire un élément optique
JP4398507B2 (ja) 2006-08-21 2010-01-13 ソニー株式会社 光学素子、光学素子作製用原盤の製造方法、および光電変換装置
JP4935513B2 (ja) * 2007-06-06 2012-05-23 ソニー株式会社 光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子作製用複製基板およびその製造方法
JP5146722B2 (ja) 2007-07-12 2013-02-20 日産自動車株式会社 反射防止構造及び構造体
JP4539759B2 (ja) 2007-10-01 2010-09-08 オムロン株式会社 反射防止シート、表示素子及びディスプレイ装置
CN102395905B (zh) * 2009-04-24 2014-03-19 夏普株式会社 防反射膜、防反射膜的制造方法和显示装置
RU2493574C1 (ru) 2009-06-12 2013-09-20 Шарп Кабусики Кайся Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001517319A (ja) 1997-03-04 2001-10-02 フラウンホファー.ゲゼルシャフト.ツール.フォルデンウング.デール.アンゲヴァンドテン.フォルシュング.エー.ファウ. 反射防止膜とその製法
JP2003531962A (ja) 2000-04-28 2003-10-28 アルコーブ サーフィシーズ ゲーエムベーハー 型押し具、これを製造する方法、加工物の表面を構築する方法、及び陽極酸化表面層の使用
JP2004059820A (ja) 2002-07-31 2004-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー
JP2004059822A (ja) 2002-07-31 2004-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー
JP2005258120A (ja) * 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光学部品用硬化性樹脂組成物、光学部品及び画像表示装置
WO2007040159A1 (ja) * 2005-10-04 2007-04-12 The Inctec Inc. 特定の表面形状と物性を有する構造体及びその構造体形成用の(メタ)アクリル系重合性組成物
JP2007118449A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Fujifilm Corp 凹凸状シートの製造方法及び装置
JP2007240707A (ja) * 2006-03-07 2007-09-20 Konica Minolta Opto Inc 防眩性反射防止フィルムの製造方法、防眩性反射防止フィルム及び画像表示装置
JP2009141130A (ja) 2007-12-06 2009-06-25 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ及びその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2426520A4 *

Cited By (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012152987A (ja) * 2011-01-25 2012-08-16 Dainippon Printing Co Ltd 印刷物
WO2012105724A1 (ja) * 2011-02-04 2012-08-09 ソニー株式会社 光情報記録媒体およびその製造方法
JP2012164383A (ja) * 2011-02-04 2012-08-30 Sony Corp 光情報記録媒体およびその製造方法
CN103460077A (zh) * 2011-03-31 2013-12-18 索尼公司 印刷材料及照相材料
CN103518149A (zh) * 2011-03-31 2014-01-15 迪睿合电子材料有限公司 光学元件、显示装置及输入装置
WO2012133946A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 ソニー株式会社 光学素子、表示装置および入力装置
JPWO2012133946A1 (ja) * 2011-03-31 2014-07-28 デクセリアルズ株式会社 光学素子、表示装置および入力装置
WO2012133943A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 ソニー株式会社 印刷物および印画物
KR101911568B1 (ko) * 2011-03-31 2018-10-24 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 광학 소자, 표시 장치 및 입력 장치
US9618657B2 (en) 2011-03-31 2017-04-11 Dexerials Corporation Optical element, display device, and input device
JPWO2012133943A1 (ja) * 2011-03-31 2014-07-28 ソニー株式会社 印刷物および印画物
US8998429B2 (en) 2011-03-31 2015-04-07 Sony Corporation Printed material and photographic material
JP2012220675A (ja) * 2011-04-07 2012-11-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 積層体ならびに反射防止物品および撥水性物品
CN102855817A (zh) * 2011-06-29 2013-01-02 群康科技(深圳)有限公司 显示装置、抗反射基板及其制造方法
WO2013028321A1 (en) * 2011-08-19 2013-02-28 Apple Inc. Electronic devices with flexible glass polarizers
US8525405B2 (en) 2011-08-19 2013-09-03 Apple Inc. Electronic devices with flexible glass polarizers
CN103048825B (zh) * 2011-08-19 2016-03-23 苹果公司 具有柔性玻璃偏振器的电子设备
CN103048825A (zh) * 2011-08-19 2013-04-17 苹果公司 具有柔性玻璃偏振器的电子设备
CN104115208A (zh) * 2012-02-20 2014-10-22 夏普株式会社 显示装置
WO2013125312A1 (ja) * 2012-02-20 2013-08-29 シャープ株式会社 表示装置
JPWO2013125312A1 (ja) * 2012-02-20 2015-07-30 シャープ株式会社 表示装置
JP2013237157A (ja) * 2012-05-11 2013-11-28 Kuraray Co Ltd 樹脂成形体の製造方法、樹脂成形体、およびモールド
WO2013191091A1 (ja) * 2012-06-22 2013-12-27 シャープ株式会社 反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置
US9678248B2 (en) 2012-07-31 2017-06-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antireflective article, image display device, production mold for antireflective article and production method for antireflective article production mold
JP2014178662A (ja) * 2012-07-31 2014-09-25 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型
US9442222B2 (en) 2012-07-31 2016-09-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Antireflective article, image display device, and production mold for antireflective article
WO2014021376A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
WO2014021377A1 (ja) * 2012-07-31 2014-02-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型
JP2014071220A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Dainippon Printing Co Ltd 絵柄付きフィルム及び表示体
JP2014098864A (ja) * 2012-11-15 2014-05-29 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2014145868A (ja) * 2013-01-29 2014-08-14 Ricoh Co Ltd 光学素子、モールド、光学装置
JP2014209235A (ja) * 2013-03-28 2014-11-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2014209234A (ja) * 2013-03-28 2014-11-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
JP2014209233A (ja) * 2013-03-29 2014-11-06 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
WO2014162374A1 (ja) 2013-04-02 2014-10-09 パナソニック株式会社 光学部材および光学装置
JP5652516B1 (ja) * 2013-07-18 2015-01-14 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2015022108A (ja) * 2013-07-18 2015-02-02 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
JP2015138042A (ja) * 2014-01-20 2015-07-30 大日本印刷株式会社 表示体
GB2544017B (en) * 2014-09-01 2019-04-10 Dexerials Corp Optical body, display device and method for rmanufacturing optical body
GB2544017A (en) * 2014-09-01 2017-05-03 Dexerials Corparation Optical body, display device and method for producing optical body
US11143795B2 (en) 2014-09-01 2021-10-12 Dexerials Corporation Optical body, display device, and method for manufacturing optical body
JP2016051116A (ja) * 2014-09-01 2016-04-11 デクセリアルズ株式会社 光学体、表示装置および光学体の製造方法
WO2016035776A1 (ja) * 2014-09-01 2016-03-10 デクセリアルズ株式会社 光学体、表示装置および光学体の製造方法
JP2016122114A (ja) * 2014-12-25 2016-07-07 株式会社クラレ 微細構造体及び光学部材
JP2016126066A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 大日本印刷株式会社 反射防止物品、及び画像表示装置
WO2017154649A1 (ja) * 2016-03-07 2017-09-14 富士フイルム株式会社 反射防止部材及びその製造方法
JP2017161590A (ja) * 2016-03-07 2017-09-14 富士フイルム株式会社 反射防止部材及びその製造方法
KR102348582B1 (ko) 2016-09-01 2022-01-07 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치
WO2018043627A1 (ja) * 2016-09-01 2018-03-08 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
JPWO2018043627A1 (ja) * 2016-09-01 2019-06-24 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置
US10792901B2 (en) 2016-09-01 2020-10-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical film and image display device
KR20190042637A (ko) * 2016-09-01 2019-04-24 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 필름 및 화상 표시 장치
WO2018173867A1 (ja) * 2017-03-21 2018-09-27 シャープ株式会社 防汚性フィルム
JPWO2018173867A1 (ja) * 2017-03-21 2020-04-23 シャープ株式会社 防汚性フィルム
JP2019023730A (ja) * 2018-07-25 2019-02-14 株式会社エガリム ホログラフィック光学素子の作製装置及び作製方法
JP2021062512A (ja) * 2019-10-11 2021-04-22 東洋インキScホールディングス株式会社 積層体、及びその製造方法
JP7294048B2 (ja) 2019-10-11 2023-06-20 東洋インキScホールディングス株式会社 積層体、及びその製造方法
CN114709273A (zh) * 2022-06-06 2022-07-05 陕西半导体先导技术中心有限公司 一种异质结紫外场效应光电晶体管及制备方法
CN114709273B (zh) * 2022-06-06 2022-09-16 陕西半导体先导技术中心有限公司 一种异质结紫外场效应光电晶体管及制备方法

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