JP2012164383A - 光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた反射防止機能を有する光情報記録媒体を提供する。
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、１層または２層以上の情報信号層上に形成された保護層とを備える。保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている。
【選択図】図２０

Description

本発明は、光情報記録媒体およびその製造方法に関する。詳しくは、反射防止機能を表面に有する光情報記録媒体に関する。

光ディスクは、取り扱いの便利さ、大量生産の容易さ、製造コストの安さなどの点で優れているため、映像や音楽などを記録するための記録媒体として広く普及している。光ディスクは、光学ドライブ装置を用い、光の照射および反射により情報信号の記録および再生を行う記録媒体であるが、従来、以下に示すように、（１）ドライブ装置側の問題点、（２）光ディスク側の問題点が指摘されている。

１．ドライブ（プレーヤー）用光学ピックアップ側から見た問題
光ディスク用として一般に使用されているポリカーボネート材等の光学用途樹脂材料では、表面反射率が可視光ほぼ全域に渡って約５％程度ある。このため、ドライブ（プレーヤー）にディスクをかけた際、ディスク信号を読み取るための光学ピックアップの光源レーザ（ＣＤ（Compact Disc）７８０ｎｍ、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）６５０ｎｍ、ＢＤ（Blu-ray Disc（登録商標））４０５ｎｍ）からの出射光は、ディスク基板に入射するときに約５％光量を減衰する。更に透過した光は信号面の反射層で反射した後ピックアップ側へ戻る際、ディスク基板表面を通過するときに再度約５％光量が減衰する。これにより再生系信号量総量では約１０％も光量が減衰してしまうため、ピックアップ用光源レーザとしては過剰な出射パワーが必要となり、この分レーザに負荷がかかりレーザの短寿命化等の悪影響がある。

記録系ディスクの場合には記録用レーザとして再生系より更に大きなパワーが必要となるが、表面反射により本来必要なパワーより約５％過剰に必要となりこの分レーザに負荷がかかりレーザの短寿命化等の悪影響がある。またディスクの再生信号となるディスク反射膜面からの反射光量がディスク基板表面から出る際に、入射時と同様に約５％光量を減衰し、信号品質の劣化を招く。

また、光ディスクをドライブ（プレーヤー）にかける際、光学ピックアップは最初にディスクの信号反射膜面に（多層膜の場合は表面に近い方から）サーボ用のフォーカスをかけようとするが、この時ディスクの表面の反射が高いとその表面を信号反射膜面と誤認識し、ディスク情報が読めずに再生できない問題が生じてしまう。この問題はＤＶＤ−ＤＬ仕様の２層構造ディスクで低反射率の膜が採用されてから顕在化した問題だが、後述のＢＤの将来的な容量拡張仕様である２５ＧＢ/層×８層：２００Ｇ構造では表面に近い反射膜の反射率が２％以下程度になる可能性もあり大きな問題となる可能性がある。

また、ＢＤでは８倍速といった記録・再生技術のための光学ピックアップが検討されているが（例えば非特許文献１参照）、ディスクの表面反射は高速記録の際に必要な高パワー化時のロス、高速再生時の再生信号量のロスとなり大きな障害になる。

２．光ディスク側から見た問題
再生信号量としての反射率は規格毎に明確に規定されている。例えば偏光系光学ピックアップを使用した条件でＣＤ：５８％＜（７８０ｎｍ）及び３５％＜（６５０ｎｍ）、ＤＶＤ−ＳＬ：４５〜８５％及びＤＬ１８〜３０％（６５０ｎｍ）、ＢＤ−ＳＬ：高反射率３５〜７０％及びＤＬ（ＳＬ低反射率含む）１２〜２８％（４０５ｎｍ）等である。これらの反射率規格を満たすためには、ディスク反射膜からの信号反射光量がディスク基板表面から出る際に約５％光量減衰することを見込んで、元の反射率をあらかじめ高めに設定し、反射光量を確保しなければならない。

特にＤＶＤ、ＢＤ等の２層構造のディスクの場合には、基板表面側に近い半透過層では反射光量を確保すると同時に奥側の反射層のために透過光量も確保するといったバランスを取るために精密な膜厚制御が必要となり製造上の大きな支障となっている。特にＢＤにおいては将来的な容量拡張のために２５ＧＢ/層：×８層２００Ｇ、２５ＧＢ/層×１６層４００Ｇ等の多層構造ディスクが発表されており盛んに検討されているが、多層になるほど各層の反射率は必然的に低くなり、信号光量も少なくならざるを得ないため、ディスク表面での約５％光量減衰は大きな問題とある。この信号光量の低下は前述した光学ピックアップ再生信号検出器側で電気的なノイズに信号が埋もれてしまい、読み取り誤りが生じる等の障害になる。

上述したような問題点を解決すべく、光ディスク表面に反射防止膜を設ける技術が提案されている（例えば特許文献１および特許文献２参照）。しかしながら、近年の光ディスクの高密度化に伴い、より優れた反射防止機能が望まれるようになっている。

特開平６−２８７１６号公報

特開２００３−２０８７３３号公報

ＣＸ−ＰＡＬ、Semiconductor & Component News、ソニー株式会社、２００７年１０月、vol.74

したがって、本発明の目的は、優れた反射防止機能を有する光情報記録媒体およびその製造方法を提供することにある。

上述の課題を解決するために、第１の発明は、
基板と、
基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、
１層または２層以上の情報信号層上に形成された保護層と
を備え、
保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。

第２の発明は、
第１の基板と、
第１の基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、
１層または２層以上の情報信号層上に形成された第２の基板と
を備え、
第２の基板の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。

第３の発明は、
基板と、
基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、
１層または２層以上の情報信号層上に形成された保護層と
を備え、
基板の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。

第４の発明は、
情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面を有し、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。

第５の発明は、
読み取り面形成用原盤の形状を樹脂材料に転写し、複数のサブ波長構造体が表面に形成された基板または保護層を形成する工程を備え、
基板または保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面である光情報記録媒体の製造方法である。

本発明において、サブ波長構造体とは、可視光波長領域から更に短めの寸法にて形成した構造体、具体的には１５０ｎｍから４８０ｎｍ範囲でほぼ一定の直径、または長径および短径を有した円、または楕円形状の底面、および１００ｎｍから２８０ｎｍ範囲の高さを有した円錐、または上部が平面に近い円錐台形状とした構造体のことを示す。

本発明では、サブ波長構造体を読み取り面に形成しているので、読み取り面に入射する記録光または再生光の反射を低減することができる。したがって、読み取り面における記録光または再生光の損出を低減することができる。

以上説明したように、本発明によれば、情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面に、サブ波長構造体を形成しているので、優れた反射防止機能を実現することができる。

図１は、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。 図２Ａは、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図２Ｂは、図２Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図２Ｃは、図２ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２Ｄは、図２ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２Ｅは、図２ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図２Ｆは、図２ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。 図３Ａは、図２Ｂに示した読み取り面のトラックの延在方向の断面図である。図３Ｂは、図２Ａに示した読み取り面のθ方向の断面図である。 図４Ａ、図４Ｂは、図２Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す斜視図である。 図５Ａ、図５Ｂは、図２Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す斜視図である。 図６Ａは、円錐形状または円錐台形状を有する構造体の配置の一例を示す略線図である。図６Ｂは、楕円錐形状または楕円錐台形状を有する構造体の配置の一例を示す略線図である。 図７Ａは、構造体を読み取り面に形成するための読み取り面形成用原盤の成形面の構成の一例を示す概略平面図である。図７Ｂは、図７Ａに示した読み取り面形成用原盤の成形面の一部を拡大して表す平面図である。 図８は、モスアイパターンの露光工程に用いる原盤露光装置の構成を説明するための略線図である。 図９Ａ〜図９Ｅは、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１０Ａ〜図１０Ｆは、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１１Ａ〜図１１Ｉは、本発明の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１２は、本発明の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。 図１３Ａ〜図１３Ｉは、本発明の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１４は、本発明の第４の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。 図１５Ａ〜図１５Ｊは、本発明の第４の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１６は、本発明の第５の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。 図１７Ａ〜図１７Ｊは、本発明の第５の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１８Ａ〜図１８Ｄは、本発明の第６の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図１９Ａ〜図１９Ｅは、本発明の第７の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図２０は、本発明の第８の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。 図２１Ａ〜図２１Ｇは、本発明の第８の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図２２Ａ〜図２２Ｈは、本発明の第９の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。 図２３Ａは、本発明の第１０の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図２３Ｂは、図２３Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図２３Ｃは、図２３ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２３Ｄは、図２３ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２３Ｅは、図２３ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図２３Ｆは、図２３ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。 図２４Ａは、本発明の第１１の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図２４Ｂは、図２４Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図２４Ｃは、図２４ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２４Ｄは、図２４ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２４Ｅは、図２４ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図２４Ｆは、図２４ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。 図２５Ａは、構造体を読み取り面に形成するための読み取り面形成用原盤の成形面の構成の一例を示す概略斜視図である。図２５Ｂは、図２５Ａに示した読み取り面形成用原盤の成形面の一部を拡大して表す平面図である。 図２６は、モスアイパターンの露光工程に用いるロール原盤露光装置の構成について説明するための略線図である。 図２７Ａは、本発明の第１２の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の一部を示す概略平面図である。図２７Ｂは、図２７Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面一部を拡大して表す平面図である。 図２８Ａは、本発明の第１３の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す概略平面図である。図２８Ｂは、図２８Ａに示した光情報記録媒体の一部を拡大して表す平面図である。図２８Ｃは、図２８ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２８Ｄは、図２８ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。 図２９は、図２８Ｂに示した光情報記録媒体の一部を拡大して表す斜視図である。 図３０は、試験例１〜３のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３１Ａ〜図３１Ｃは、試験例４のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３２Ａ〜図３２Ｃは、試験例５のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３３Ａ、図３３Ｂは、試験例６のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３４Ａ〜図３４Ｃは、試験例７のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３５Ａ〜図３５Ｃは、試験例８のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３６Ａ、図３６Ｂは、試験例９のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３７Ａ〜図３７Ｃは、試験例１０のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３８Ａ〜図３８Ｃは、試験例１１のシミュレーション結果を示すグラフである。 図３９Ａ、図３９Ｂは、試験例１２のシミュレーション結果を示すグラフである。 図４０Ａは、試験例１３のシミュレーション結果を示すグラフである。図４０Ｂは、試験例１４のシミュレーション結果を示すグラフである。図４０Ｃは、試験例１５のシミュレーション結果を示すグラフである。

本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（基板側が読み取り面となる光情報記録媒体の第１の例）
２．第２の実施形態（基板側が読み取り面となる光情報記録媒体の第２の例）
３．第３の実施形態（貼り合わせ型の光情報記録媒体の例）
４．第４の実施形態（２層の情報信号層を有する光情報記録媒体の第１の例）
５．第５の実施形態（２層の情報信号層を有する光情報記録媒体の第２の例）
６．第６の実施形態（光情報記録媒体の読み取り面に構造体を形成する第１の例）
７．第７の実施形態（光情報記録媒体の読み取り面に構造体を形成する第２の例）
８．第８の実施形態（保護層側が読み取り面となる光情報記録媒体の第１の例）
９．第９の実施形態（保護層側が読み取り面となる光情報記録媒体の第２の例）
１０．第１０の実施形態（構造体を四方格子状に配列した例）
１１．第１１の実施形態（構造体を直線状に配列した例）
１２．第１２の実施形態（構造体を蛇行配列した例）
１３．第１３の実施形態（凹形状の構造体を配置した例）

＜１．第１の実施形態＞
［光情報記録媒体の構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。この光情報記録媒体は、基板１と、基板１上に形成された情報信号層２と、情報信号層２上に形成された保護層３とを備える。レーザ光が照射される光情報記録媒体の読み取り面には、凸状を有する複数のサブ波長構造体（以下単に構造体と適宜称する。）１１が形成されている。ここで、読み取り面とは、レーザ光の照射により情報信号の記録および／または再生が行われる面を意味する。

この第１の実施形態に係る光情報記録媒体では、基板１の側からレーザ光を情報信号層２に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、７８０ｎｍ以上７９０ｎｍ以下の波長を有するレーザ光を、０．４５以上０．５０以下の開口数を有する対物レンズにより集光し、基板１の側から情報信号層２に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。このような光情報記録媒体としては、例えばＣＤ（Compact Disc）が挙げられる。

光情報記録媒体がＣＤ規格に準拠したものである場合、構造体１１の配置ピッチは、好ましくは９００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以上４８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２４０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。９００ｎｍを超えると、この数値に√３／２を乗じた値約７８０ｎｍが六方格子配置の場合に実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この波長以下の領域で急激な反射率上昇が認められるようになり、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体１１の高さは、好ましくは１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、より好ましくは１７０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下、さらに好ましくは１９０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である。１００ｎｍ未満であると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。一方、３００ｎｍを超えると、反射防止性能はまだ十分だが構造体自体の高さが大きくなるために作製が困難となる。
構造体１１の頂部の平坦部径は、好ましくは配置ピッチの０倍以上０．８倍以下または配置ピッチの０倍より大きく０．８倍以下、より好ましくは配置ピッチの０．４倍以上０．６倍以下、最も好ましくは０．５倍である。０．８倍を超えると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体１１の高さＨに対する、情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率（λ／Ｈ）は、好ましくは２以上６以下である。２未満であると、反射防止性能はまだ十分だが構造体１１の高さが大きくなるために作製が困難となる。一方、６を超えると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。

（基板）
基板１は、例えば、中央に開口（以下センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。基板１は、第１の主面および第２の主面を有している。基板１の第１の主面である読み取り面は、上述のように構造体１１が形成された微細凹凸面となっている。一方、基板１の第２の主面である信号面は、例えば、凹凸部１２が形成された凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層３が成膜される。ここで、信号面とは、情報信号層３が形成される面のことを意味する。この凹凸部１２の形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状、ピット列などの各種の形状を用いることができる。また、アドレス情報を付加するために、この凹凸部１２をウォブル（蛇行）させるようにしてもよい。

基板１の径（直径）は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ〜１．３ｍｍ、より好ましくは０．６ｍｍ〜１．３ｍｍ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。

基板１の材料としては、例えばプラスチック材料またはガラスを用いることができ、コストの観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができる。

（情報信号層）
情報信号層２は、情報信号を記録可能および／または再生可能に構成される。その構成は、例えば、所望とする光情報記録媒体が再生専用型、追記型および書換可能型のうちいずれであるかに応じて適宜選択される。

所望とする光情報記録媒体が再生専用型である場合には、情報信号層２は、例えば反射膜である。この反射膜の材料としては、例えば、金属元素、半金属元素、これらの化合物または混合物が挙げられる。より具体的には、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、コバルト（Ｃｏ）、シリコン（Ｓｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）などの単体、またはこれらの単体を主成分とする合金が挙げられる。そして、実用性の面を考慮すると、これらのうちのＡｌ系、Ａｇ系、Ａｕ系、Ｓｉ系またはＧｅ系の材料を用いることが好ましい。

所望とする光情報記録媒体が追記型である場合には、情報信号層２は、例えば、追記型の記録層であり、この記録層としては、従来公知の追記型光情報記録媒体において一般的に使用可能なものを用いることができる。追記型の記録層としては、具体的には例えば、反射膜、有機色素膜または無機記録膜を光ディスク基板１上に順次積層してなる積層膜が挙げられる。

所望とする光情報記録媒体が書換可能型である場合には、情報信号層２は、例えば、書換可能型の記録層であり、この記録層としては、従来公知の書換可能型光情報記録媒体において一般的に使用可能なものを用いることができる。書換可能型の記録層としては、具体的には例えば、例えば、反射膜、下層誘電体層、相変化記録層、上層誘電体層を基板１上に順次積層してなる積層膜を挙げることができる。

（保護層）
保護層３は、例えば、紫外線硬化樹脂（ＵＶレジン）などの感光性樹脂を硬化してなる。保護層３の材料としては、例えば紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。

［サブ波長構造体］
図２Ａは、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図２Ｂは、図２Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図２Ｃは、図２ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２Ｄは、図２ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２Ｅは、図２ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図２Ｆは、図２ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図３Ａは、図２Ｂに示した読み取り面のトラックの延在方向（Ｘ方向（以下、適宜トラック方向ともいう））の断面図である。図３Ｂは、図２Ａに示した読み取り面のθ方向の断面図である。図４Ａ〜図５Ｂは、図２Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す斜視図である。

読み取り面に形成された複数の構造体１１は、例えば同心円状に配列されている。読み取り面に形成された複数の構造体１１は、例えば、反射の低減を目的とするレーザ光の波長以下の配置ピッチで一主面に２次元配列されていることが好ましい。ここで、配置ピッチとは、配置ピッチＰ１または配置ピッチＰ２を意味する。

構造体１１は、光情報記録媒体の読み取り面において複数列のトラックＴ１、Ｔ２、Ｔ３、・・・（以下総称して「トラックＴ」ともいう。）をなすような配置形態を有する。ここで、トラックとは、光情報記録媒体の読み取り面において構造体１１が形成される部分のことをいう。トラックＴは、同心円状またはスパイラル状（螺旋状）であることが好ましい。

構造体１１は、隣接する２つのトラックＴ間において、半ピッチずれた位置に配置されている。具体的には、隣接する２つのトラックＴ間において、一方のトラック（例えばＴ１）に配列された構造体１１の中間位置（半ピッチずれた位置）に、他方のトラック（例えばＴ２）の構造体１１が配置されている。その結果、図２Ｂに示すように、隣接する３列のトラック（Ｔ１〜Ｔ３）間においてａ１〜ａ７の各点に構造体１１の中心が位置する六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成するように構造体１１が配置されている。

構造体１１が準六方格子パターンを形成するように配置されている場合には、図２Ｂに示すように、同一トラック（例えばＴ１）内における構造体１１の配置ピッチＰ１（ａ１〜ａ２間距離）は、隣接する２つのトラック（例えばＴ１およびＴ２）間における構造体１１の配置ピッチ、すなわちトラックの延在方向に対して±θ方向における構造体１１の配置ピッチＰ２（例えばａ１〜ａ７、ａ２〜ａ７間距離）よりも長くなっていることが好ましい。このように構造体１１を配置することで、構造体１１の充填密度の更なる向上を図れるようになる。

構造体１１が、成形の容易さの観点から、錐体形状、または錐体形状をトラック方向に延伸または収縮させた錐体形状を有することが好ましい。構造体１１が、軸対称な錐体形状、または錐体形状をトラック方向に延伸または収縮させた錐体形状を有することが好ましい。隣接する構造体１１に接合されている場合には、構造体１１が、隣接する構造体１１に接合されている下部を除いて軸対称な錐体形状、または錐体形状をトラック方向に延伸または収縮させた錐体形状を有することが好ましい。また、錐体形状の錐面を凹状または凸状に湾曲させるようにしてもよい。錐体形状としては、例えば、円錐形状、円錐台形状、楕円錐形状、楕円錐台形状、多角錐形状（例えば三角錐形状、四角錐形状、五角錐形状など）、多角錐台形状などを挙げることができる。ここで、錐体形状とは、上述のように、円錐形状および多角錐形状以外にも、円錐台形状、多角錐台形状、楕円錐形状、楕円錐台形状などを含む概念である。また、円錐台形状とは、円錐形状の頂部を切り落とした形状をいい、楕円錐台形状とは、楕円錐の頂部を切り落とした形状のことをいい、多角錐台形状とは、多角錐の頂部を切り落とした形状のことをいう。

構造体１１は、図４Ａおよび図４Ｂに示すように、底面が長軸と短軸をもつ楕円形、長円形または卵型の錐体構造で、頂部が曲面である楕円錐形状であることが好ましい。もしくは、図５Ｂに示すように、底面が長軸と短軸をもつ楕円形、長円形または卵型の錐体構造で、頂部が平坦である楕円錐台形状であることが好ましい。このような形状にすると、列方向の充填率を向上させることができるからである。

反射特性の向上の観点からすると、頂部の傾きが緩やかで中央部から底部に徐々に急峻な傾きの錐体形状（図４Ａ参照）が好ましい。また、反射特性および透過特性の向上の観点からすると、中央部の傾きが底部および頂部より急峻な錐形形状（図４Ｂ参照）、または、頂部が平坦な錐体形状（図５Ａ参照）であることが好ましい。構造体１１が楕円錐形状または楕円錐台形状を有する場合、その底面の長軸方向が、トラックの延在方向と平行となることが好ましい。図４Ａ〜図５Ｂでは、各構造体１１は、それぞれ同一の形状を有しているが、構造体１１の形状はこれに限定されるものではなく、基体表面に２種以上の形状の構造体１１が形成されていてもよい。また、構造体１１は、基体２と一体的に形成されていてもよい。

また、図４Ａ〜図５Ｂに示すように、構造体１１の周囲の一部または全部に突出部１１ｂを設けることが好ましい。このようにすると、構造体１１の充填率が低い場合でも、反射率を低く抑えることができるからである。具体的には例えば、突出部１１ｂは、図４Ａ〜図５Ａに示すように、隣り合う構造体１１の間に設けられる。また、細長い突出部１１ｂが、図５Ｂに示すように、構造体１１の周囲の全体またはその一部に設けられるようにしてもよい。この細長い突出部１１ｂは、例えば、構造体１１の頂部から下部の方向に向かって延びている。突出部１１ｂの形状としては、断面三角形状および断面四角形状などを挙げることができるが、特にこれらの形状に限定されるものではなく、成形の容易さなどを考慮して選択することができる。また、構造体１１の周囲の一部または全部の表面を荒らし、微細の凹凸を形成するようにしてもよい。具体的には例えば、隣り合う構造体１１の間の表面を荒らし、微細な凹凸を形成するようにしてもよい。また、構造体１１の表面、例えば頂部に微小な穴を形成するようにしてもよい。

構造体１１は図示する凸部形状のものに限らず、基体２の表面に形成した凹部で構成されていてもよい。構造体１１の高さは特に限定されず、例えば４２０ｎｍ程度、具体的には４１５ｎｍ〜４２１ｎｍである。なお、構造体１１を凹部形状とした場合には、構造体１１の深さとなる。

トラックの延在方向における構造体１１の高さＨ１は、列方向における構造体１１の高さＨ２よりも小さいことが好ましい。すなわち、構造体１１の高さＨ１、Ｈ２がＨ１＜Ｈ２の関係を満たすことが好ましい。Ｈ１≧Ｈ２の関係を満たすように構造体１１を配列すると、トラックの延在方向の配置ピッチＰ１を長くする必要が生じるため、トラックの延在方向における構造体１１の充填率が低下するためである。このように充填率が低下すると、反射特性の低下を招くことになる。

なお、構造体１１のアスペクト比は全て同一である場合に限らず、各構造体１１が一定の高さ分布（例えばアスペクト比０．８３〜１．４６程度の範囲）をもつように構成されていてもよい。高さ分布を有する構造体１１を設けることで、反射特性の波長依存性を低減することができる。したがって、優れた反射防止特性を有する光情報記録媒体を実現することができる。

ここで、高さ分布とは、２種以上の高さ（深さ）を有する構造体１１が基体２の表面に設けられていることを意味する。すなわち、基準となる高さを有する構造体１１と、この構造体１１とは異なる高さを有する構造体１１とが基体２の表面に設けられていることを意味する。基準とは異なる高さを有する構造体１１は、例えば基体２の表面に周期的または非周期的（ランダム）に設けられている。その周期性の方向としては、例えばトラックの延在方向、列方向などが挙げられる。

構造体１１の周縁部に裾部１１ａを設けることが好ましい。光情報記録媒体の製造工程において光情報記録媒体を金型などから容易に剥離することが可能になるからである。ここで、裾部１１ａとは、構造体１１の底部の周縁部に設けられた突出部を意味する。この裾部１１ａは、上記剥離特性の観点からすると、構造体１１の頂部から下部の方向に向かって、なだらかに高さが低下する曲面を有することが好ましい。なお、裾部１１ａは、構造体１１の周縁部の一部にのみ設けてもよいが、上記剥離特性の向上の観点からすると、構造体１１の周縁部の全部に設けることが好ましい。また、構造体１１が凹部である場合には、裾部は、構造体１１である凹部の開口周縁に設けられた曲面となる。

本発明においてアスペクト比は、以下の式（１）により定義される。
アスペクト比＝Ｈ／Ｐ・・・（１）
但し、Ｈ：構造体の高さ、Ｐ：平均配置ピッチ（平均周期）
ここで、平均配置ピッチＰは以下の式（２）により定義される。
平均配置ピッチＰ＝（Ｐ１＋Ｐ２＋Ｐ２）／３ ・・・（２）
但し、Ｐ１：トラックの延在方向の配置ピッチ（トラック延在方向周期）、Ｐ２：トラックの延在方向に対して±θ方向（但し、θ＝６０°−δ、ここで、δは、好ましくは０°＜δ≦１１°、より好ましくは３°≦δ≦６°）の配置ピッチ（θ方向周期）

また、構造体１１の高さＨは、構造体１１の列方向の高さとする。構造体１１のトラック延在方向（Ｘ方向）の高さは、列方向（Ｙ方向）の高さよりも小さく、また、構造体１１のトラック延在方向以外の部分における高さは列方向の高さとほぼ同一であるため、サブ波長構造体の高さを列方向の高さで代表する。但し、構造体１１が凹部である場合、上記式（１）における構造体の高さＨは、構造体の深さＨとする。

同一トラック内における構造体１１の配置ピッチをＰ１、隣接する２つのトラック間における構造体１１の配置ピッチをＰ２としたとき、比率Ｐ１/Ｐ２が、１．００≦Ｐ１／Ｐ２≦１．１、または１．００＜Ｐ１／Ｐ２≦１．１の関係を満たすことが好ましい。このような数値範囲にすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体１１の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。

基体表面における構造体１１の充填率は、１００％を上限として、６５％以上、好ましくは７３％以上、より好ましくは８６％以上の範囲内である。充填率をこのような範囲にすることで、反射防止特性を向上することができる。充填率を向上させるためには、隣接する構造体１１の下部同士を接合する、または、構造体底面の楕円率を調整などして構造体１１に歪みを付与することが好ましい。

ここで、構造体１１の充填率（平均充填率）は以下のようにして求めた値である。
まず、光情報記録媒体の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてＴｏｐ Ｖｉｅｗで撮影する。次に、撮影したＳＥＭ写真から無作為に単位格子Ｕｃを選び出し、その単位格子Ｕｃの配置ピッチＰ１、およびトラックピッチＴｐを測定する（図４Ｂ参照）。また、その単位格子Ｕｃの中央に位置する構造体１１の底面の面積Ｓを画像処理により測定する。次に、測定した配置ピッチＰ１、トラックピッチＴｐ、および底面の面積Ｓを用いて、以下の式（３）より充填率を求める。
充填率＝（Ｓ（hex.）／Ｓ（unit））×１００ ・・・（３）
単位格子面積：Ｓ（unit）＝Ｐ１×２Ｔｐ
単位格子内に存在する構造体の底面の面積：Ｓ（hex.）＝２Ｓ

上述した充填率算出の処理を、撮影したＳＥＭ写真から無作為に選び出された１０箇所の単位格子について行う。そして、測定値を単純に平均（算術平均）して充填率の平均率を求め、これを基体表面における構造体１１の充填率とする。

構造体１１が重なっているときや、構造体１１の間に突出部１１ｂなどの副構造体があるときの充填率は、構造体１１の高さに対して５％の高さに対応する部分を閾値として面積比を判定する方法で充填率を求めることができる。

構造体１１が準六方格子パターンを形成する場合には、構造体底面の楕円率ｅは、１００％＜ｅ＜１５０％以下であることが好ましい。この範囲にすることで、構造体１１の充填率を向上し、優れた反射防止特性を得ることができるからである。

ここで、楕円率ｅは、構造体底面のトラック方向（Ｘ方向）の径をａ、それとは直交する列方向（Ｙ方向）の径をｂとしたときに、（ａ／ｂ）×１００で定義される。なお、構造体１１の径ａ、ｂは以下のようにして求めた値である。光情報記録媒体の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてＴｏｐ Ｖｉｅｗで撮影し、撮影したＳＥＭ写真から無作為に構造体１１を１０個抽出する。次に、抽出した構造体１１それぞれの底面の径ａ、ｂを測定する。そして、測定値ａ、ｂそれぞれを単純に平均（算術平均）して径ａ、ｂの平均値を求め、これを構造体１１の径ａ、ｂとする。

図６Ａは、円錐形状または円錐台形状を有する構造体１１の配置の一例を示す。図６Ｂは、楕円錐形状または楕円錐台形状を有する構造体１１の配置の一例を示す。図６Ａおよび図６Ｂに示すように、構造体１１が、その下部同士を重ね合うようにして接合されていていることが好ましい。具体的には、構造体１１の下部が、隣接関係にある構造体１１の一部または全部の下部と接合されていることが好ましい。より具体的には、トラック方向において、θ方向において、またはそれら両方向において、構造体１１の下部同士を接合することが好ましい。より具体的には、トラック方向において、θ方向において、またはそれら両方向において、構造体１１の下部同士を接合することが好ましい。図６Ａ、図６Ｂでは、隣接関係にある構造体１１の全部の下部を接合する例が示されている。このように構造体１１を接合することで、構造体１１の充填率を向上することができる。構造体同士は、屈折率を考慮した光路長で使用環境下の光の波長帯域の最大値の１／４以下の部分で接合されていることが好ましい。これにより、優れた反射防止特性を得ることができる。

図６Ｂに示すように、楕円錐形状または楕円錐台形状を有する構造体１１の下部同士を接合した場合には、例えば、接合部ａ、ｂ、ｃの順序で接合部の高さが浅くなる。

配置ピッチＰ１に対する径２ｒの比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）が、８５％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上である。このような範囲にすることで、構造体１１の充填率を向上し、反射防止特性を向上できるからである。比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）が大きくなり、構造体１１の重なりが大きくなりすぎると反射防止特性が低減する傾向にある。したがって、屈折率を考慮した光路長で使用環境下の光の波長帯域の最大値の１／４以下の部分で構造体同士が接合されるように、比率（（２ｒ／Ｐ１）×１００）の上限値を設定することが好ましい。ここで、配置ピッチＰ１は、構造体１１のトラック方向の配置ピッチ、径２ｒは、構造体底面のトラック方向の径である。なお、構造体底面が円形である場合、径２ｒは直径となり、構造体底面が楕円形である場合、径２ｒは長径となる。

［読み取り面形成用原盤の構成］
図７Ａは、上述の構造体を読み取り面に形成するための読み取り面形成用原盤の成形面の構成の一例を示す概略平面図である。図７Ｂは、図７Ａに示した読み取り面形成用原盤の成形面の一部を拡大して表す平面図である。読み取り面形成用原盤２０１は、円盤状の形状を有し、その表面には凹状を有する複数の構造体２０２が配列されている。構造体２０２は、例えば、同心円状またはスパイラル状のトラック上に配置されている。読み取り面形成用原盤２０１の材料は、例えばガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。後述するロール原盤露光装置を用い、２次元パターンが空間的にリンクし、１トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、ＣＡＶで適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを記録することができる。極性反転フォマッター信号の周波数とロールの回転数を適切に設定することにより、所望の記録領域に空間周波数が一様な格子パターンを形成することができる。

［露光装置の構成］
まず、図８を参照して、モスアイパターンの露光工程に用いる原盤露光装置の構成について説明する。この原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。

レーザ光源２１は、記録媒体としての原盤２１１の表面に着膜されたレジスト層を露光するための光源であり、例えば波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザ光１５を発振するものである。レーザ光源２１から出射されたレーザ光１５は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Electro Optical Modulator）２２へ入射する。電気光学素子２２を透過したレーザ光１５は、ミラー２３で反射され、変調光学系２５に導かれる。

ミラー２３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２２を制御してレーザ光１５の位相変調を行う。

変調光学系２５において、レーザ光１５は、集光レンズ２６により、ガラス（ＳｉＯ₂）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Acoustic-Optic Modulator）２７に集光される。レーザ光１５は、音響光学素子２７により強度変調され発散した後、レンズ２８によって平行ビーム化される。変調光学系２５から出射されたレーザ光１５は、ミラー３１によって反射され、移動光学テーブル３２上に水平かつ平行に導かれる。

移動光学テーブル３２は、ビームエキスパンダ３３、および対物レンズ３４を備えている。移動光学テーブル３２に導かれたレーザ光１５は、ビームエキスパンダ３３により所望のビーム形状に整形された後、ミラー３８および対物レンズ３４を介して、原盤１２上のレジスト層へ照射される。原盤１２は、スピンドルモータ３５に接続されたターンテーブル３６の上に載置されている。そして、原盤２１１を回転させるとともに、レーザ光１５を原盤２１１の半径方向に移動させながら、レジスト層へレーザ光１５を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザ光１５の移動は、移動光学テーブル３２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。

露光装置は、六方格子または準六方格子の２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構３７を備えている。制御機構３７は、フォマッター２９とドライバ３０とを備える。フォマッター２９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザ光１５の照射タイミングを制御する。ドライバ３０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２７を制御する。

このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、音響光学素子２７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子または準六方格子パターンを記録することができる。例えば、円周方向の周期を３１５ｎｍ、円周方向に対して約６０度方向（約−６０度方向）の周期を３００ｎｍにするには、送りピッチを２５１ｎｍにすればよい（ピタゴラスの法則）。極性反転フォマッター信号の周波数はロールの回転数（１８００ｒｐｍ、９００ｒｐｍ、４５０ｒｐｍ）により変化させる。所望の記録領域に空間周波数（円周３１５ｎｍ周期、円周方向約６０度方向（約−６０度方向）３００ｎｍ周期）が一様な準六方格子パターンは、遠紫外線レーザ光を移動光学テーブル３２上のビームエキスパンダ（ＢＥＸ）３３により５倍のビーム径に拡大し、開口数（ＮＡ）０．９の対物レンズ３４を介して原盤１２上のレジスト層に照射し、微細な潜像を形成することにより得られる。

［光情報記録媒体の製造方法］
図９Ａ〜図１０Ｆは、本発明の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。

（レジスト成膜工程）
まず、図９Ａに示すように、円盤状の原盤２１１を準備する。次に、図９Ｂに示すように、原盤２１１の表面にレジスト層２１２を形成する。レジスト層２１２の材料としては、例えば有機系レジスト、および無機系レジストのいずれを用いてもよい。有機系レジストとしては、例えばノボラック系レジストや化学増幅型レジストを用いることができる。また、無機系レジストとしては、例えば、１種または２種以上の遷移金属からなる金属化合物を用いることができる。

（露光工程）
次に、図９Ｃに示すように、上述した原盤露光装置を用いて、原盤２１１を回転させると共に、露光ビームであるレーザ光２１３をレジスト層２１２に照射する。このとき、レーザ光２１３を原盤２１１の半径方向に移動させながら、レーザ光２１３を間欠的に照射することで、レジスト層２１２を全面にわたって露光する。これにより、レーザ光２１３の軌跡に応じた潜像２１４が、レジスト層２１２の全面にわたって形成される。

潜像２１４は、例えば、原盤表面において複数列のトラックをなすように配置されるとともに、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを形成する。潜像２１２は、例えば、トラックの延在方向に長軸方向を有する楕円形状である。

（現像工程）
次に、原盤２１１を回転させながら、レジスト層２１２上に現像液を滴下して、図９Ｄに示すように、レジスト層２１２を現像処理する。図示するように、レジスト層２１２をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザ光２１３で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、潜像（露光部）２１４に応じたパターンがレジスト層２１２に形成される。

（エッチング工程）
次に、原盤２１１の上に形成されたレジスト層２１２のパターン（レジストパターン）をマスクとして、原盤２１１の表面をエッチング処理する。これにより、図９Ｅに示すように、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状の凹部、すなわち構造体２０２を得ることができる。エッチング方法は、例えばドライエッチングによって行われる。このとき、エッチング処理とアッシング処理を交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体２０２のパターンを形成することができる。また、レジスト層２１２の３倍以上の深さ（選択比３以上）のガラスマスターを作製でき、構造体２０２の高アスペクト比化を図ることができる。以上により、図１０Ａに示すように、例えば六方格子パターンまたは準六方格子パターンを有する読み取り面形成用原盤２０１が得られる。

（転写工程）
次に、図１０Ｂに示すように、表面に信号面を形成するための凹凸が形成された信号面形成用原盤２２１を準備する。この信号面形成用原盤２２１としては、従来ＣＤなどの光ディスクの製造において公知のスタンパ（ナノインプリント用途では一般にモールドまたはテンプレートと称される。）を用いることができる。このようなスタンパとしては、例えばニッケル製スタンパが挙げられる。

次に、図１０Ｃに示すように、例えば射出成形法により、樹脂材料１３に対して読み取り面形成用原盤２０１および信号面形成用原盤２２１の形状を転写する。これにより、図１０Ｄに示すように、両面に形状が転写された基板１が得られる。具体的には例えば、以下のようにして基板１を成形する。まず、読み取り面形成用原盤２０１を射出成形装置の一方の金型のミラー面に対して配置し、信号面形成用原盤２２１を射出成形装置の他方の金型のミラー面に対して配置する。次に、例えば、両金型を突き合わせてキャビティを形成し、このキャビティ内に溶融した樹脂材料を供給し、固化させた後、両金型を離間させる。これにより、信号面に凹凸部１２が形成され、読み取り面に複数の構造体１１が形成された基板１が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図１０Ｅに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層２を基板１の凹凸部１２上に形成する。

（保護層形成工程）
次に、図１０Ｆに示すように、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を情報信号層２上に塗布し、紫外線などの光を照射し、硬化することにより、保護層３を形成する。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

第１の実施形態によれば、光情報記録媒体の読み取り面に複数の構造体１１を形成しているので、記録光または再生光に対する読み取り面の反射を低減することができる。

例えば、光ディスクの表面反射率を約４〜５％程度低下させることで、プレーヤー（ドライブ）の光学ピックアップにおける再生、および記録レーザのレーザ光として過剰なパワーを投入する必要が無くなり、レーザの負荷を低減できるのでレーザの寿命を延ばすことができる。特に高パワーが必要な記録用途、例えばＤＶＤやＢＤの高速回転（例えば６Ｘ、８Ｘ等）記録に効果がある。

例えば、ディスク再生時のディスクからの信号反射率低下分約４〜５％を抑止することで、信号量の低下、これに伴うＳ／Ｎ比劣化といった信号品質の劣化が防ぐことができる。また、プレーヤー（ドライブ）側の再生系での負荷も低減でき良好な信号再生が可能となる。特にＤＶＤやＢＤの高速回転（例えば６Ｘ、８Ｘ等）再生においては再生信号量が低下するのでそのロス、Ｓ／Ｎ劣化を防ぐことは有効である。

ＤＶＤ−ＤＬ仕様、ＢＤ―ＤＬ仕様、更に将来的なＢＤ多層構造仕様といった低反射率の反射膜仕様が増える中でディスク表面の反射率がプレーヤー（ドライブ）で反射層として御認識されることを防ぐことができる。

例えば、ディスク反射膜からの戻り信号がディスク表面での反射により低下される約４〜５％分を抑止することができるので、規格上このロス分をあらかじめ見込んで高めに設定しなければならなかった分の設定が不要となる。したがって、反射膜を薄めに設定できる等のプロセスマージン、材料コスト面で有利となる。

特に多層構造ディスクの場合、反射膜の反射率向上により反射率を元のままとしたときには、その分反射膜の薄膜化により透過率を向上させることで全体のバランスを改善できる、反射膜数を増やせる等の効果がある。

例えば、サブ波長構造体は４００〜８５０ｎｍの可視光領域全帯域で反射率を０．２％以下に低減できるため、単一構造でＣＤ用７８０ｎｍ、ＤＶＤ用６５０ｎｍ、ＢＤ用４０５ｎｍピックアップレーザ全てに同等の反射率低減効果を持たせることができる。

上記光ディスク光学特性の改善以外にディスク読み取り面へのサブ波長体構造の形成は蓮の葉構造と類似で撥水機能を有するため、汚れ抑止の機能を付加できる。

＜２．第２の実施形態＞
図１１は、本発明の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。本発明の第２の実施形態は、第１の成形体１ａと第２の成形体１ｂとを貼り合わせることにより、基板１を形成する点において、第１の実施形態とは異なっている。なお、第２の実施形態において第１の実施形態と対応する箇所には同一の符号を付す。

（転写工程）
まず、図１１Ａに示すように、読み取り面形成用原盤２０１を準備する。次に、図１１Ｂに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面形成用原盤２０１の形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１１Ｃに示すように、一主面に複数の構造体１１が形成され、他主面に平坦面が形成された第１の成形体１ａが得られる。第１の成形体１ａは、例えばシート状または板状を有し、取り扱いの容易さの観点から板状であることが好ましい。

次に、図１１Ｄに示すように、信号面形成用原盤２２１を準備する。次に、図１１Ｅに示すように、例えば射出成形法により、信号面形成用原盤２０１の形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１１Ｆに示すように、一主面に凹凸部１２が形成され、他主面に平坦面が形成された第２の成形体１ｂが得られる。第２の成形体１ｂは、例えばシート状または板状を有し、取り扱いの容易さの観点から板状であることが好ましい。

（貼り合わせ工程）
次に、図１１Ｇに示すように、第１の成形体１ａと第２の成形体１ｂとの平坦面同士を、貼合層１４を介して貼り合わせることにより、基板１を得る。貼合層１４の材料としては、例えば紫外線硬化性樹脂、感圧性粘着剤（Pressure Sensitive Adhesive：ＰＳＡ）などを主成分とする材料を用いることができる。貼合層１４が感圧性粘着剤を主成分とする場合、第１の成形体１ａおよび第２の成形体１ｂの一方の平坦面に予め貼合層１４を形成しておくようにしてもよい。

（情報信号層形成工程）
次に、図１１Ｈに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層２を基板１の凹凸部１２上に形成する。

（保護層形成工程）
次に、図１１Ｉに示すように、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を情報信号層２上に塗布し、紫外線などの光を照射し、硬化することにより、保護層３を形成する。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

＜３．第３の実施形態＞
図１２は、本発明の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、第１の基板４１と、第１の基板４１上に形成された情報信号層２と、情報信号層２上に形成された第２の基板４２とを備える。第２の基板４２の表面には、凸状を有する複数の構造体１１が形成されている。第３の実施形態において第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。

この光情報記録媒体では、第２の基板４２の側から情報信号層２にレーザ光を照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。例えば、６５０ｎｍ以上６６５ｎｍ以下の波長を有するレーザ光を、０．６４以上０．６６以下の開口数を有する対物レンズにより集光し、第２の基板４１の側から情報信号層２に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。このような光情報記録媒体としては、例えばＤＶＤ（Digital Versatile Disc）が挙げられる。

光情報記録媒体がＤＶＤ規格に準拠したものである場合、構造体１１の配置ピッチは、好ましくは７５０ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下、さらに好ましは２４０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。７５０ｎｍを超えると、この数値に√３／２を乗じた値約６５０ｎｍが六方格子配置の場合に実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この波長以下の領域で急激な反射率上昇が認められるようになり、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体１１の高さは、好ましくは８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下、より好ましくは１４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１６０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下である。８０ｎｍ未満であると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。一方、２４０ｎｍを超えると、反射防止性能はまだ十分だが構造体１１の高さが大きくなるために作製が困難となる。
構造体１１の頂部の平坦部径は、好ましくは配置ピッチの０倍以上０．７倍以下または０倍より大きく０．７倍以下、より好ましくは配置ピッチの０．４倍以上０．６倍以下、最も好ましくは０．５倍である。０．７倍を超えると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体１１の高さＨに対する、情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率（λ／Ｈ）は、好ましくは２以上６以下である。２未満であると、反射防止性能はまだ十分だが構造体１１の高さが大きくなるために作製が困難となる。一方、６を超えると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。

第１の基板４１および第２の基板４２は、中央にセンターホール（図示せず）が形成された円環形状を有し、その厚さは、例えば０．６ｍｍに選ばれる。第２の基板４２の一主面には複数の構造体１１が形成され、他主面には凹凸部１１が形成されている。第１の基板４１および第２の基板４２の材料としては、第１の実施形態における基板１と同様の材料を用いることができる。

図１３Ａ〜図１３Ｉは、本発明の第３の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。

（転写工程）
まず、図１３Ａおよび図１３Ｂに示すように、読み取り面成形用原盤２０１と信号面形成用原盤２２１とを準備する。次に、図１３Ｃに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面成形用原盤２０１と信号面形成用原盤２２１との形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１３Ｄに示すように、一主面に複数の構造体１１が形成され、他主面に凹凸部１２が形成された第２の基板４２が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図１３Ｅに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第２の基板４２の凹凸部１２上に情報信号層２を形成する。

（転写工程）
次に、図１３Ｆに示すように、例えば平滑な成形面を有する原盤２３１または金型を準備する。次に、図１３Ｇに示すように、例えば射出成形法により原盤２３１または金型の平滑な成形面の形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１３Ｈに示すように、平滑面を両主面に有する第１の基板４１が形成される。

（貼り合わせ工程）
次に、図１３Ｉに示すように、第１の基板４１の平滑面と、第２の基板４２の情報信号層形成面とを、貼合層１４により貼り合わせる。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

＜４．第４の実施形態＞
（光情報記録媒体の構成）
図１４は、本発明の第４の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、第１の基板４１、第１の情報信号層（Ｌ０層と称される。）４３、中間層４４、第２の情報信号層（Ｌ１層と称される。）４５、第２の基板４２がこの順序で順次積層された構成を有している。第４の実施形態において第３の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。

第１の情報信号層４３および第２の情報信号層４５は、情報信号を記録可能および／または再生可能に構成される。その構成は、例えば、所望とする光情報記録媒体が再生専用型、追記型および書換可能型のうちいずれであるかに応じて適宜選択される。第２の情報信号層４５は、レーザ光を反射するとともに、レーザ光を透過可能な構成を有する半透過層である点において、第１の情報信号層４３と異なっている。

中間層４４は、情報信号の記録および／または再生を行うためのレーザ光に対して透明性を有する樹脂材料からなり、このような材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。

（光情報記録媒体の製造方法）
図１５Ａ〜図１５Ｊは、本発明の第４の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。

（転写工程）
まず、図１５Ａおよび図１５Ｂに示すように、読み取り面成形用原盤２０１と第１の信号面形成用原盤２４１とを準備する。次に、図１５Ｃに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面成形用原盤２０１と第１の信号面形成用原盤２４１との形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１５Ｄに示すように、一主面に複数の構造体１１が形成され、他主面に凹凸部１２が形成された第２の基板４２が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図１５Ｅに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層４５を第２の基板４２の凹凸部１２上に形成する。

（転写工程）
次に、図１５Ｆに示すように、第２の信号面形成用原盤２４２を準備する。次に、図１５Ｇに示すように、例えば射出成形法により第２の信号面形成用原盤２４２の形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１５Ｈに示すように、一主面に凹凸部１２が形成され、他主面に平滑面が形成された第１の基板４１が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図１５Ｉに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第１の基板４１の凹凸部１２上に情報信号層４３を形成する。

（貼り合わせ工程）
次に、図１５Ｊに示すように、第１の基板４１の第１の情報信号層形成面と、第２の基板４２の第２の情報信号層形成面とを、中間層４４により貼り合わせる。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

＜５．第５の実施形態＞
（光情報記録媒体の構成）
図１６は、本発明の第５の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、第１の基板５１、第１の情報信号層５２、第２の基板５３、第２の情報信号層５４、保護層３がこの順序で順次積層された構成を有している。第５の実施形態において第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。

第１の基板５１および第２の基板５３は、中央にセンターホール（図示せず）が形成された円環形状を有し、その厚さは、例えば約０．６ｍｍに選ばれる。第１の基板５１の一主面には、複数の構造体１１が形成れ、他主面には凹凸部１２が形成されている。第２の基板５３の一主面には、凹凸部１２が形成されている。第１の基板５１および第２の基板５３の材料としては、第１の実施形態における基板１と同様の材料を用いることができる。第１の情報信号層５２は、レーザ光を反射するとともに、レーザ光を透過可能な構成を有する半透過層である。第１の情報信号層５２は、例えば、第２の情報信号層５４に比べて高密度記録が可能な構成を有している。

（光情報記録媒体の製造方法）
図１７Ａ〜図１７Ｊは、本発明の第５の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。

（転写工程）
まず、図１７Ａおよび図１７Ｂに示すように、読み取り面成形用原盤２０１と第１の信号面形成用原盤２５１とを準備する。次に、図１７Ｃに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面成形用原盤２０１と第１の信号面形成用原盤２５１との形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１７Ｄに示すように、一主面に複数の構造体１１が形成され、他主面に凹凸部１２が形成された第１の基板５１が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図１７Ｅに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第１の情報信号層５２を第１の基板５１の凹凸部１２上に形成する。

（転写工程）
次に、図１７Ｆに示すように、第２の信号面形成用原盤２５２を準備する。次に、図１７Ｇに示すように、例えば射出成形法により第２の信号面形成用原盤２５２の形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図１７Ｈに示すように、一主面に凹凸部１２が形成され、他主面に平滑面が形成された第２の基板５３が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図１７Ｉに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第２の情報信号層５４を第２の基板５３の凹凸部１２上に形成する。

（保護層形成工程）
次に、図１７Ｉに示すように、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を第２の情報信号層２上に塗布し、紫外線などの光を照射し、硬化することにより、保護層３を形成する。

（貼り合わせ工程）
次に、図１７Ｊに示すように、第１の基板５１の信号面と、第２の基板４２の平滑面とを、貼合層１４により貼り合わせる。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

＜６．第６の実施形態＞
図１８Ａ〜図１８Ｄは、本発明の第６の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。本発明の第６の実施形態は、最終工程において光情報記録媒体の読み取り面に複数の構造体１１を形成する点において、第４の実施形態とは異なっている。なお、第６の実施形態において第１の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付す。

まず、図１８Ａに示すように、読み取り面形成用原盤２０１を準備する。次に、図１８Ｂに示すように、第１の基板４１、第２の情報信号層４３、中間層４４、第２の情報信号層４５、第２の基板４２ａがこの順序で積層された光情報記録媒体を準備する。第２の基板４２ａは、一主面に構造体１１が形成されておらず、平滑面が形成されている以外は、第４の実施形態の第２の基板４２と同様である。

次に、図１８Ｃに示すように、例えばスピンコート法により、光情報記録媒体の読み取り面上に紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を塗布する。次に、読み取り面形成用原盤２０１を紫外線硬化樹脂に押し当て、紫外線などの光を照射し、硬化させる。これにより、図１８Ｄに示すように、光情報記録媒体の読み取り面に複数の構造体１１が形成される。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

第６の実施形態によれば、光情報記録媒体の製造工程の最終工程において、読み取り面に複数の構造体１１を形成するので、従来の光情報記録媒体の製造ラインを大幅に変更することなく、優れた反射防止特性を有する光情報記録媒体を作製することができる。

＜７．第７の実施形態＞
図１９Ａ〜図１９Ｅは、本発明の第７の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。本発明の第７の実施形態は、複数の構造体１１が形成された成形体１５を光情報記録媒体の読み取り面に貼り合わせることにより、読み取り面に複数の構造体１１を形成する点において、第６の実施形態とは異なっている。なお、第７の実施形態において第６の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付す。

まず、図１９Ａに示すように、読み取り面形成用原盤２０１を準備する。次に、図１９Ｂに示すように、樹脂材料１３に読み取り面形成用原盤２０１を押し当て、読み取り面形成用原盤２０１の形状を樹脂材料１３に転写する。転写の方法としては、例えば、ＵＶ転写などの光転写、熱転写などを用いることができる。これにより、図１９Ｃに示すように、一主面に構造体１１が形成された成形体１５が得られる。成形体１５の形状としては、例えば、シート状または板状が挙げられる。樹脂材料１３としては、例えば、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。

次に、図１９Ｄに示すように、第１の基板４１、第２の情報信号層４３、中間層４４、第２の情報信号層４５、第２の基板４２ａがこの順序で積層された光情報記録媒体を準備する。次に、図１９Ｅに示すように、光情報記録媒体の読み取り面に対して、成形体１５を貼合層１４を介して貼り合わせる。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

第７の実施形態によれば、光情報記録媒体の製造工程の最終工程において、読み取り面に複数の構造体１１を形成するので、第６の実施形態と同様の効果を得ることができる。

＜８．第８の実施形態＞
（光情報記録媒体の構成）
図２０は、本発明の第８の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、基板１と、基板１上に形成された情報信号層２と、情報信号層２上に形成された保護層６１とを備える。保護層６１の表面には、凸状を有する複数の構造体１１が形成されている。第８の実施形態において第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。

この光情報記録媒体では、光透過層としての保護層６１の側からレーザ光を情報信号層２に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長を有するレーザ光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する対物レンズにより集光し、保護層６１の側から情報信号層２に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光情報記録媒体としては、例えばＢＤ（Blu-ray Disc（登録商標））が挙げられる。

光情報記録媒体がＢＤ規格に準拠したものである場合、構造体１１の配置ピッチは、好ましくは４７０ｎｍ以下、より好ましくは１５０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２００ｎｍ以上３１５ｎｍ以下である。４７０ｎｍ超えると、この数値に√３／２を乗じた値 約４０７ｎｍが六方格子配置の場合に実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この波長以下の領域で急激な反射率上昇が認められるようになり、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体１１の高さは、好ましくは８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以上１６０ｎｍ以下、さらに好ましくは１１０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下である。８０ｎｍ未満であると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。一方、２００ｎｍを超えると、反射防止性能はまだ十分だが構造体１１の高さが大きくなるために作製がやや困難となる。
構造体１１の頂部の平坦部径は、好ましくは配置ピッチの０倍以上０．７倍以下または０倍より大きく０．７倍以下、より好ましくは配置ピッチの０．２倍以上０．５倍以下、さらに好ましくは０．３倍以上０．４倍以下である。０．７倍を超えると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体１１の高さＨに対する、情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率（λ／Ｈ）は、好ましくは２以上６以下である。２未満であると、反射防止性能はまだ十分だが構造体１１の高さが大きくなるために作製がやや困難となる。一方、６を超えると、反射率が１％を超えて反射防止効果が不十分となる。

光透過層である保護層６１は、例えば、円環形状を有する光透過性シートと、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから構成される。光透過性シートは、記録および／または再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えばポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））が挙げられる。光透過性シートの厚さは、好ましくは０．３ｍｍ以下に選ばれ、より好ましくは３μｍ〜１７７μｍの範囲内から選ばれる。接着層は、例えば紫外線硬化樹脂または感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）からなる。また、保護層６１が、ＵＶレジンなどの感光性樹脂を硬化してなるレジンカバーから構成するようにしてもよい。レジンカバーの材料としては、例えば紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。

保護層６１の厚さは、好ましくは１０μｍ〜１７７μｍの範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。このような薄い保護層６１と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。

（光情報記録媒体の製造方法）
図２１Ａ〜図２１Ｇは、本発明の第８の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。

（転写工程）
まず、図２１Ａに示すように、信号面形成用原盤２２１を準備する。次に、図２１Ｂに示すように、例えば射出成形法により、信号面形成用原盤２２１の形状を樹脂材料１３に転写する。これにより、図２１Ｃに示すように、一主面に凹凸部１２が形成された基板１が得られる。

（情報信号層形成工程）
次に、図２１Ｄに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層２を基板１の凹凸部１２上に形成する。

（転写工程）
次に、図２１Ｅに示すように、読み取り面形成用原盤２０１を準備する。次に、図２１Ｆに示すように、例えばスピンコート法により基板１の情報信号層２上に紫外線硬化樹脂などの樹脂材料１３を塗布する。次に、この樹脂材料１３に対して読み取り面形成用原盤２０１を押し当てた後、樹脂材料１３に紫外線などを照射することにより、硬化させる。これにより、図２１Ｇに示すように、読み取り面に複数の構造体１１が形成された光情報記録媒体が得られる。

＜９．第９の実施形態＞
図２２Ａ〜図２２Ｈは、本発明の第９の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。

まず、図２２Ａ〜図２２Ｄに示すように、第８の実施形態と同様にして、凹凸部１２上に情報信号層２が形成された基板１を作製する。次に、図２２Ｅに示すように、読み取り面形成用原盤２０１を準備する。次に、例えばスピンコート法により基体６１ａ上に紫外線硬化樹脂などの樹脂材料１３を塗布する。基体６１ａの形状としては、例えばシート状が挙げられる。次に、図２２Ｆに示すように、この樹脂材料１３に対して読み取り面形成用原盤２０１を押し当て、樹脂材料１３に対して紫外線などを照射することにより、硬化させる。これにより、図２２Ｇに示すように、基体６１ａの一主面に多数の構造体１１を備える反射防止層６１ｂが形成される。次に、図２２Ｈに示すように、基体６１ａの平滑面と基板１の信号面とを貼合層１４を介して貼り合わせる。これにより、読み取り面に複数の構造体１１が形成された光情報記録媒体が得られる。

＜１０．第１０の実施形態＞
図２３Ａは、本発明の第１０の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図２３Ｂは、図２３Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図２３Ｃは、図２３ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２３Ｄは、図２３ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２３Ｅは、図２３ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図２３Ｆは、図２３ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。

第４の実施形態に係る光情報記録媒体は、各構造体１１が、隣接する３列のトラック間において四方格子パターンまたは準四方格子パターンをなしている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。

同一トラック内における構造体１１の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における構造体１１の配置ピッチＰ２よりも長いことが好ましい。また、同一トラック内における構造体１１の配置ピッチをＰ１、隣接する２つのトラック間における構造体１１の配置ピッチをＰ２としたとき、Ｐ１/Ｐ２が１．４＜Ｐ１／Ｐ２≦１．５の関係を満たすことが好ましい。このような数値範囲にすることで、楕円錐または楕円錐台形状を有する構造体１１の充填率を向上することができるので、反射防止特性を向上することができる。また、トラックに対して４５度方向または約４５度方向における構造体１１の高さまたは深さは、トラックの延在方向における構造体１１の高さまたは深さよりも小さいことが好ましい。

トラックの延在方向に対して斜となる構造体１１の配列方向（θ方向）の高さＨ２は、トラックの延在方向における構造体１１の高さＨ１よりも小さいことが好ましい。すなわち、構造体１１の高さＨ１、Ｈ２がＨ１＞Ｈ２の関係を満たすことが好ましい。

構造体１１が四方格子または準四方格子パターンを形成する場合には、構造体底面の楕円率ｅは、１５０％≦ｅ≦１８０％であることが好ましい。この範囲にすることで、構造体１１の充填率を向上し、優れた反射防止特性を得ることができるからである。

基体表面における構造体１１の充填率は、１００％を上限として、６５％以上、好ましくは７３％以上、より好ましくは８６％以上の範囲内である。充填率をこのような範囲にすることで、反射防止特性を向上することができる。

ここで、構造体１１の充填率（平均充填率）は以下のようにして求めた値である。
まず、光情報記録媒体の表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてＴｏｐ Ｖｉｅｗで撮影する。次に、撮影したＳＥＭ写真から無作為に単位格子Ｕｃを選び出し、その単位格子Ｕｃの配置ピッチＰ１、およびトラックピッチＴｐを測定する（図２３Ｂ参照）。また、その単位格子Ｕｃに含まれる４つの構造体１１のいずれかの底面の面積Ｓを画像処理により測定する。次に、測定した配置ピッチＰ１、トラックピッチＴｐ、および底面の面積Ｓを用いて、以下の式（２）より充填率を求める。
充填率＝（Ｓ（tetra）／Ｓ（unit））×１００ ・・・（２）
単位格子面積：Ｓ（unit）＝２×（（Ｐ１×Ｔｐ）×（１／２））＝Ｐ１×Ｔｐ
単位格子内に存在する構造体の底面の面積：Ｓ（tetra）＝Ｓ

上述した充填率算出の処理を、撮影したＳＥＭ写真から無作為に選び出された１０箇所の単位格子について行う。そして、測定値を単純に平均（算術平均）して充填率の平均率を求め、これを基体表面における構造体１１の充填率とする。

配置ピッチＰ１に対する径２ｒの２倍の比率（（（２×２ｒ）／Ｐ１）×１００）が、１２７％以上、好ましくは１３７％以上、より好ましくは１４６％以上である。このような範囲にすることで、構造体１１の充填率を向上し、反射防止特性を向上できるからである。ここで、配置ピッチＰ１は、構造体１１のトラック方向の配置ピッチ、径２ｒは、構造体底面のトラック方向の径である。なお、構造体底面が円形である場合、径２ｒは直径となり、構造体底面が楕円形である場合、径２ｒは長径となる。

＜１１．第１１の実施形態＞
［光情報記録媒体の構成］
図２４Ａは、本発明の第１１の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図２４Ｂは、図２４Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図２４Ｃは、図２４ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２４Ｄは、図２４ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２４Ｅは、図２４ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図２４Ｆは、図２４ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。

第１１の実施形態に係る光情報記録媒体は、構造体１１が直線状に配列されて複数のトラックをなしている点において、第１の実施形態とは異なっている。

［読み取り面形成用原盤の構成］
図２５Ａは、上述の構造体を読み取り面に形成するための読み取り面形成用原盤の成形面の構成の一例を示す概略斜視図である。図２５Ｂは、図２５Ａに示した読み取り面形成用原盤の成形面の一部を拡大して表す平面図である。読み取り面形成用原盤２０１は、その表面に凹部である構造体２０２が多数配置された構成を有している。読み取り面形成用原盤２０１は、円柱状または円筒状の形状を有する。読み取り面形成用原盤２０１の材料は、例えばガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。後述するロール原盤露光装置を用い、２次元パターンが空間的にリンクし、１トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、ＣＡＶで適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを記録することができる。極性反転フォマッター信号の周波数とロールの回転数を適切に設定することにより、所望の記録領域に空間周波数が一様な格子パターンを形成することができる。

［露光装置の構成］
図２６を参照して、モスアイパターンの露光工程に用いる原盤露光装置の構成について説明する。この原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。

レーザ光源２１は、記録媒体としての原盤２０１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザ光１５を発振するものである。レーザ光源２１から出射されたレーザ光１５は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Electro Optical Modulator）２２へ入射する。電気光学素子２２を透過したレーザ光１５は、ミラー２３で反射され、変調光学系２５に導かれる。

ミラー２３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２２を制御してレーザ光１５の位相変調を行う。

変調光学系２５において、レーザ光１５は、集光レンズ２６により、ガラス（ＳｉＯ₂）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Acoustic-Optic Modulator）２７に集光される。レーザ光１５は、音響光学素子２７により強度変調され発散した後、レンズ２８によって平行ビーム化される。変調光学系２５から出射されたレーザ光１５は、ミラー３１によって反射され、移動光学テーブル３２上に水平かつ平行に導かれる。

移動光学テーブル３２は、ビームエキスパンダ３３、および対物レンズ３４を備えている。移動光学テーブル３２に導かれたレーザ光１５は、ビームエキスパンダ３３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ３４を介して、原盤１２上のレジスト層へ照射される。原盤１２は、スピンドルモータ３５に接続されたターンテーブル３６の上に載置されている。そして、原盤１２を回転させるとともに、レーザ光１５を原盤１２の高さ方向に移動させながら、レジスト層へレーザ光１５を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザ光１５の移動は、移動光学テーブル３２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。

露光装置は、六方格子または準六方格子の２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構３７を備えている。制御機構３７は、フォマッター２９とドライバ３０とを備える。フォマッター２９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザ光１５の照射タイミングを制御する。ドライバ３０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２７を制御する。

このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、音響光学素子２７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子または準六方格子パターンを記録することができる。例えば、円周方向の周期を３１５ｎｍ、円周方向に対して約６０度方向（約−６０度方向）の周期を３００ｎｍにするには、送りピッチを２５１ｎｍにすればよい（ピタゴラスの法則）。極性反転フォマッター信号の周波数はロールの回転数（１８００ｒｐｍ、９００ｒｐｍ、４５０ｒｐｍ）により変化させる（表１参照）。所望の記録領域に空間周波数（円周３１５ｎｍ周期、円周方向約６０度方向（約−６０度方向）３００ｎｍ周期）が一様な準六方格子パターンは、遠紫外線レーザ光を移動光学テーブル３２上のビームエキスパンダ（ＢＥＸ）３３により５倍のビーム径に拡大し、開口数（ＮＡ）０．９の対物レンズ３４を介して原盤１２上のレジスト層に照射し、微細な潜像を形成することにより得られる。

［光情報記録媒体の製造方法］
上述の構成を有する光情報記録媒体は、読み取り面形成用原盤２０１を用いて例えば以下のようにして作製される。
まず、シート上に紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を塗布する。次に、読み取り面形成用原盤２０１を回転させながら、その成形面を、シート上に塗布された感光性樹脂に押し当てるとともに、シート側から紫外線などの光を感光性樹脂に対して照射することにより、感光性樹脂を硬化させる。その後、読み取り面形成用原盤２０１の回転を維持しながら、その成形面を、硬化した感光性樹脂から剥離する。これにより、直線状に配列された複数の構造体１１がシートの一主面に形成される。次に、このシートを円環形状に打ち抜き、打ち抜いた円環形状のシートを、紫外線硬化性樹脂、または感圧性粘着剤などからなる貼合層を介して、基板上に形成された情報信号層上に貼り合わせる。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られる。

＜１２．第１２の実施形態＞
図２７Ａは、本発明の第１２の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の一部を示す概略平面図である。図２７Ｂは、図２７Ａに示した光情報記録媒体の読み取り面一部を拡大して表す平面図である。

第１２の実施形態に係る光情報記録媒体は、構造体１１を蛇行するトラック（以下ウォブルトラックと称する。）上に配列している点において、第１の実施形態とは異なっている。基体２上における各トラックのウォブルは、同期していることが好ましい。すなわち、ウォブルは、シンクロナイズドウォブルであることが好ましい。このようにウォブルを同期させることで、六方格子または準六方格子の単位格子形状を保持し、充填率を高く保つことができる。ウォブルトラックの波形としては、例えば、サイン波、三角波などを挙げることができる。ウォブルトラックの波形は、周期的な波形に限定されるものではなく、非周期的な波形としてもよい。ウォブルトラックのウォブル振幅は、例えば±１０μｍ程度に選択される。
この第１２の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。

第１２の実施形態によれば、構造体１１をウォブルトラック上に配列していので、外観上のムラの発生を抑制できる。

＜１３．第１３の実施形態＞
図２８Ａは、本発明の第１３の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す概略平面図である。図２８Ｂは、図２８Ａに示した光情報記録媒体の一部を拡大して表す平面図である。図２８Ｃは、図２８ＢのトラックＴ１、Ｔ３、・・・における断面図である。図２８Ｄは、図２８ＢのトラックＴ２、Ｔ４、・・・における断面図である。図２９は、図２８Ｂに示した光情報記録媒体の一部を拡大して表す斜視図である。

第１３の実施形態に係る光情報記録媒体１は、凹形状を有する構造体１１が基体表面に多数配列されている点において、第１の実施形態のものとは異なっている。この構造体１１の形状は、第１の実施形態における構造体１１の凸形状を反転して凹形状としたものである。なお、上述のように構造体１１を凹部とした場合、凹部である構造体１１の開口部（凹部の入り口部分）を下部、基板１の深さ方向の最下部（凹部の最も深い部分）を頂部と定義する。すなわち、非実体的な空間である構造体１１により頂部、および下部を定義する。また、第１３の実施形態では、構造体１１が凹部であるため、式（１）などにおける構造体１１の高さＨは、構造体１１の深さＨとなる。

この第１３の実施形態において、上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
この第１３の実施形態では、第１の実施形態における凸形状の構造体１１の形状を反転して凹形状としているので、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

（実施例１）
まず、ＣＤ規格に準拠した情報信号を記録した信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域（半径２０ｍｍ〜５９ｍｍ）に、以下に示すサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。
構造体のピッチ（構造中心間距離）：約３００ｎｍ
構造体の高さ：約２５０ｎｍ
構造体の配置パターン：準六方格子配置
構造体の形状：楕円錐台形状

次に、信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、読み取り面形成用スタンパを他方の金型に取り付け、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、サブ波長構造体パターンが形成された読み取り面とを有する厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板（以下ＰＣ基板と称する）が得られた。

次に、スパッタリング法により、この基板の信号面にアルミ膜（反射膜）を成膜した。次に、スピンコート法によりアルミ膜上に紫外線硬化樹脂を塗布し硬化させることにより、保護膜を形成した。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＣＤ規格に準拠した光ディスクが得られた。

（実施例２）
まず、実施例１と同様の信号面形成用スタンパと読み取り面形成用スタンパとを準備した。次に、信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ０．６ｍｍの第１のＰＣ基板が得られた。次に、読み取り面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、サブ波長構造体パターンが形成された読み取り面と、平坦面とを有する厚さ０．６ｍｍの第２のＰＣ基板が得られた。

次に、第１および第２の基板の平坦面同士を紫外線硬化樹脂により貼り合わせることで、一主面に凹凸パターンが形成された信号面を有し、他主面に複数のサブ波長構造体パターンが形成された読み取り面を有する基板を作製した。次に、スパッタリング法により、この基板の信号面にアルミ膜（反射膜）を成膜した。次に、スピンコート法によりアルミ膜上に紫外線硬化樹脂を塗布し硬化させることにより、保護膜を形成した。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＣＤ規格に準拠した光ディスクが得られた。

（実施例３）
まず、ＤＶＤ−ＳＬ（DVD-Single Layer）規格に準拠した情報信号を記録した信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域（半径２０ｍｍ〜５９ｍｍ）に、実施例１と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。

次に、信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、読み取り面形成用スタンパを他方の金型に取り付け、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、サブ波長構造体パターンが形成された読み取り面とを有する厚さ０．６ｍｍの第２のＰＣ基板が得られた。次に、スパッタリング法により、この第２のＰＣ基板の信号面にアルミ膜（反射膜）を成膜した。

次に、上記ＤＶＤ−ＳＬ用の信号面形成用スタンパスタンパの信号領域を平坦面（ミラー）としたスタンパを準備した。次に、このスタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、両面が平坦面である第１のＰＣ基板が得られた。

次に、第１の基板の信号面と第２の基板の平坦面とを紫外線硬化樹脂により貼り合わせた。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＤＶＤ−ＳＬ規格に準拠した光ディスクが得られた。

（実施例４）
まず、ＤＶＤ−ＤＬ（DVD-Dual Layer）のＬ０層の規格に準拠した情報信号を記録したＬ０層用の信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域（半径２０ｍｍ〜５９ｍｍ）に、実施例１と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。

次に、Ｌ０層用の信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、読み取り面形成用スタンパを他方の金型に取り付け、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、サブ波長構造体パターンが形成された読み取り面とを有する厚さ０．６ｍｍの第２のＰＣ基板が得られた。次に、スパッタリング法により、この第２のＰＣ基板の信号面にシリコン膜、または銀合金膜（半透過反射膜）を成膜した。

次に、ＤＶＤ−ＤＬのＬ１層の規格に準拠した情報信号を記録したＬ１層用の信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）を準備した。次に、Ｌ１層用の信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ０．６ｍｍの第１のＰＣ基板が得られた。次に、スパッタリング法により、この第１のＰＣ基板の信号面にアルミ膜、または銀合金膜（全反射膜）を成膜した。

次に、第１および第２の基板の信号面同士を紫外線硬化樹脂により貼り合わせた。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクが得られた。

（実施例５）
まず、ＳＡＣＤ−ＨＤ（SACD-Hybrid）規格に準拠した情報信号を記録した信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域（半径２０ｍｍ〜５９ｍｍ）に、実施例１と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。

次に、ＳＡＣＤ層用の信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ０．６ｍｍの第１のＰＣ基板が得られた。次に、スパッタリング法により、この第１のＰＣ基板の信号面にシリコン膜、または銀合金膜（半透過反射膜）を成膜した。

次に、ＳＡＣＤ−ＨＤのＣＤ層の規格に準拠した情報信号を記録したＣＤ層用の信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）を準備した。次に、ＣＤ層用の信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ０．６ｍｍの第２のＰＣ基板が得られた。次に、スパッタリング法により、この第２のＰＣ基板の信号面にアルミ膜、または銀合金膜（全反射膜）を成膜した。次に、スピンコート法によりアルミ膜上に紫外線硬化樹脂を塗布し硬化させることにより、保護膜を形成した。

次に、第１のＰＣ基板の信号面と第２のＰＣ基板の平坦面とを紫外線硬化樹脂により貼り合わせた。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＳＡＣＤ−ＨＤ規格に準拠した光ディスクが得られた。

（実施例６）
まず、ＤＶＤ−ＤＬ（DVD-Dual Layer）のＬ０層の規格に準拠した情報信号を記録したＬ０層用の信号面形成用スタンパ（ニッケル製スタンパ）を準備した。次に、Ｌ０層用の信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面（平坦面）とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ０．６ｍｍの第２のＰＣ基板が得られた。

次に、実施例１と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパを準備した。次に、スピンコート法により、第２のＰＣ基板の平坦面上に、少なくともサブ波長構造体の高さ以上の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布した。次に、この紫外線硬化樹脂に対して読み取り面形成用スタンパに押しつけ、第２の基板の信号面側から紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化した後、スタンパを剥離した。これにより、第２の基板の読み取り面側に複数のサブ波長構造体が形成された。これ以降の工程は、上述の実施例４と同様にして、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクを得た。

（実施例７）
まず、ＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクを準備した。次に、実施例１と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用石英製スタンパ（厚さ０．７〜１．２ｍｍ）を準備した。次に、スピンコート法により、光ディスクの読み取り面上に、少なくともサブ波長構造体の高さ以上（４００ｎｍ以上）の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布した。次に、この紫外線硬化樹脂に対して読み取り面形成用スタンパに押しつけ、石英製スタンパの背面側から紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化することにより、光ディスクの読み取り面に複数のサブ波長構造体を形成した。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクが得られた。
なお、この実施例７では、石英製スタンパを用いる場合を例として説明したが、ニッケル製スタンパを用いて成形転写で作製した透明基板を石英スタンパの代わりに用いることも可能である。また、この実施例７で用いたサブ波長構造体の形成方法は、ＤＶＤ−ＤＬに限らず、ＣＤやＢＤなどの種々の規格の光ディスクに適用可能である。

（実施例８）
まず、ＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクを準備した。次に、実施例１と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用石英製スタンパ（厚さ０．７〜１．２ｍｍ）を準備した。次に、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、またはＰＥＴなどからなる厚さ約０．１ｍｍのフィルム基体上に、サブ波長構造体の高さ以上（４００ｎｍ以上）の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布した。次に、石英製スタンパを紫外線硬化樹脂に対して押しつけ、石英製スタンパの背面側から紫外線を照射して硬化させた後、石英製スタンパをフィルム基体から剥離した。これにより、表面に所望のサブ波長構造体を有する厚さ約０．１ｍｍのフィルム基体が得られた。

次に、第２の基板の厚さを０．５ｍｍとしたＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクを準備した。次に、この第２の基板の読み取り面に、フィルム基体を接着剤を介して貼り合わせた。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、ＤＶＤ−ＤＬ規格に準拠した光ディスクが得られた。
この実施例８で用いたサブ波長構造体の形成方法は、ＤＶＤ−ＤＬに限らず、ＣＤやＢＤなどの種々の規格の光ディスクに適用可能である。

次に、ＢＤ、ＤＶＤ、ＣＤ規格に準拠した光ディスクの表面反射防止用モスアイパターンのサイズおよび形状をＲＣＷＡシミュレーション法を用いて検討した。
この検討に際しては以下の２つの条件を前提条件とした。
（１）現行の成形条件で対応可能、または製造に大きな影響を及ぼさない程度の簡単な条件で設定変更に対応可能である。
（２）現行の信号パターン露光装置で簡単にパターン形成可能である。

そのために、パターンの高さは一番高いＣＤのピット高さ１５０ｎｍを考慮し目標値として２００ｎｍ以下、パターンピッチは解像力から２００ｎｍ以上、パターンピッチに対する高さの比（アスペクト比）は成形し易さから考えて１以下で適度な傾斜を有した円錐台形状を目安とした。
また、反射防止効果の指標である反射率はポリカーボネート、アクリル、ガラスなど基板を念頭にｎ＝約１．５に対して効果があるレベルとして０．２％以下、望ましいレベルの目安を０．１％以下とした。

（試験例１）
ＢＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３０に示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：１２０ｎｍ
パターン上部の平坦部径：９０ｎｍ
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状
本実施例において、平坦部径は平坦部の直径を意味する。

上記シミュレーション結果から、ＢＤ読取ピックアップ波長４０５ｎｍに対して反射率は殆ど０％であることがわかる。また、ピックアップレンズＮＡ値０．８５を考慮し入射角４５度で反射率を確認したところ、０．５％程度であり、垂直入射に比較すれば劣化するものの反射防止効果は得られることがわかった。

（試験例２）
ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３０に示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ、
パターン高さ：１８０ｎｍ、
パターン上部の平坦部径：１５０ｎｍ
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状

上記シミュレーション結果から、ＤＶＤ読取ピックアップ波長６５０ｎｍに対して反射率は殆ど０％であることがわかる。

（試験例３）
ＣＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３０に示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：２１５ｎｍ
パターン上部の平坦部径：１５０ｎｍ
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状

上記シミュレーション結果から、ＣＤ読取ピックアップ波長７８０ｎｍに対して反射率は殆ど０％であることがわかる。

（試験例４）
ＢＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３１Ａ〜図３１Ｃに示す。
パターンピッチ：１２０〜４５０ｎｍの範囲内で変更
パターン高さ：１２０ｎｍ
パターン上部の平坦部径：設定ピッチの０．３倍（円錐台形）、および０（円錐形）
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３１Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０．３倍（円錐台形）とした場合のグラフを示す。図３１Ｂに、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合のグラフを示す。図３１Ｃに、ＯＰ（Optical Pickup）波長４０５ｎｍにおける反射率をパターンピッチに対して纏めたグラフを示す。

図３１Ｃから、目的ＯＰ波長４０５ｎｍの場合、本設定条件ではパターン上部の平坦部径をピッチの０．３倍（楕円錐形）としたときの方が、その平坦部径をピッチの０倍（円錐形）としたときに比べて反射率が低いことがわかる。しかし、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍とした場合でも、ピッチ１２０〜４５０ｎｍの範囲で反射率は１％以下なので、反射防止の効果は得られる。
また、図３１Ａ、図３１Ｂから、何れの場合もピッチを４５０ｎｍとした場合、約３９０ｎｍ波長付近以下で急激な反射率上昇が認められる。これは、ピッチ４５０ｎｍに対して√３／２を乗じた値で、六方格子配置の場合の実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当する。これは、正三角形の各頂点にパターンが配置された場合の三角形の高さの値である（一辺の長さはピッチ寸法）。
なお、四方格子配置の場合にはピッチ寸法そのものが実効的な最隣接の回折格子間隔になるのでそのまま４５０ｎｍとなる。
パターン密度は六方格子配置の方が四方格子より大きくなり有利なので六方格子を中心に説明するが、ピッチ４５０ｎｍの場合 波長３９０ｎｍ以下では回折の影響による反射率上昇があるため、反射防止効果が得られないことを示している。
このことから、ＢＤのＯＰ波長４０５ｎｍの場合にこの回折格子による反射率上昇の影響が生じるピッチ寸法は４０５ｎｍを√３／２で割った４６８ｎｍであり、約４７０ｎｍ以下のピッチ寸法にすればＯＰ波長４０５ｎｍに対して反射防止効果が得られることになる。

以上により、ＢＤ規格に準拠した光ディスクの場合、反射防止効果を得るためには、パターンピッチを約４７０ｎｍ以下の範囲にすることが好ましい。

（試験例５）
ＢＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３２Ａ〜図３２Ｃに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：４０〜２００ｎｍの範囲内で変更
パターン上部の平坦部径：設定ピッチの０．３倍（円錐台形）、および０（円錐形）
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３２Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０．３倍（円錐台形）とした場合のグラフを示す。図３２Ｂに、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合のグラフを示す。図３２Ｃに、ＯＰ波長４０５ｎｍにおける反射率をパターン高さに対して纏めたグラフを示す。

図３２Ｃから、目的ＯＰ波長４０５ｎｍの場合、高さ１５０ｎｍ以下のとき、パターン上部の平坦部径をピッチの０．３倍（楕円錐形）としたときの方が、その平坦部径をピッチの０倍（円錐形）としたきに比べて反射率が低いことがわかる。しかし、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍とした場合でも、高さ８０〜２００ｎｍ範囲で反射率は２％以下なので、反射防止の効果は得られる。
また、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合、高さが高くなるにつれて反射率は低くなり効果が大きくなっていくものの、反射率０％付近を得るには１６０ｎｍ以上の高さが必要となる。広く考えれば高さ８０〜２００ｎｍ範囲で反射防止の効果は得られるといえる。
高さは低い程本発明の目的にはかなっているが、反射防止効果としては高い程有利な面があるので、ＢＤピット高さ約１００ｎｍの２倍が上限値の目安と考えられる。

（試験例６）
ＢＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３３Ａ、図３３Ｂに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ ：１２０ｎｍ
ターン上部の平坦部径：ピッチの０〜０．７倍まで変化
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３３Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０〜０．７倍まで変化させたグラフを示す。図３３Ｂに、ＯＰ波長４０５ｎｍにおける反射率をパターン上部の平坦部径に対して纏めたグラフを示す。

図３３Ｂから、目的ＯＰ波長４０５ｎｍの場合、パターン上部の平坦部径をピッチの０．３倍（９０ｎｍ）付近としたときに一番反射率が低くなることがわかる。なお、パターン上部の平坦部径が一番狭い、ピッチの０倍とした場合で、反射率は０．５％程度、パターン上部の平坦部径が一番広い、ピッチの０．７倍（２１０ｎｍ）とした場合で、反射率は１．２％程度なので、これらの範囲で反射防止の効果は得られる。

（試験例７）
ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３４Ａ〜図３４Ｃに示す。
パターンピッチ：１２０〜７５０ｎｍの範囲内で変更
パターン高さ：１８０ｎｍ
パターン上部の平坦部径 ： 設定ピッチの０．５倍（円錐台形）、および０（円錐形）
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３４Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（円錐台形）とした場合のグラフを示す。図３４Ｂに、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合のグラフを示す。図３４Ｃに、ＯＰ波長６５０ｎｍにおける反射率をパターンピッチに対して纏めたグラフを示す。

図３４Ｃから、目的ＯＰ波長６５０ｎｍの場合、本設定条件ではパターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（楕円錐形）としたきの方が、その平坦部径をピッチの０倍（円錐形）としたときに比べて反射率が低いことがわかる。パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍とした場合、ピッチ寸法１５０〜４５０ｎｍの範囲で反射率は殆ど０％となる。パターン上部の平坦部径をピッチの０倍とした場合でも、ピッチ１２０〜７５０ｎｍの範囲で反射率は２％以下なので、反射防止の効果は得られる。
また、上記ＢＤ規格に準拠した光ディスクの場合と同様に、図３４Ａ、図３４Ｂから、何れの場合もピッチを大きくした場合に、回折の影響による反射率が急激に変化する領域が現れるようになる。
六方格子配置でピッチを７５０ｎｍとした場合には上述したように、この数値に√３／２を乗じた値約６５０ｎｍが 実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この寸法以下の波長領域で急激な反射率上昇が認められるようになる。
ここで、６５０ｎｍはそのままＤＶＤのＯＰ波長となるため、ＤＶＤの場合にはピッチ寸法７５０ｎｍ以下で反射防止効果が得られることになる。なお、四方格子配置の場合はピッチ寸法が最隣接の回折格子間隔となるので、ピッチ寸法６５０ｎｍ以下で反射防止の効果が得られることになる。
以上により、ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの場合に反射防止効果を得るためには、パターンピッチを約７５０ｎｍ以下の範囲にすることが好ましい。

（試験例８）
ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３５Ａ〜図３５Ｃに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：８０〜２６０ｎｍの範囲内で変更
パターン上部の平坦部径：設定ピッチの０．５倍（円錐台形）、および０（円錐形）
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３５Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（円錐台形）とした場合のグラフを示す。図３５Ｂに、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合のグラフを示す。図３５Ｃに、ＯＰ波長６５０ｎｍにおける反射率をパターン高さに対して纏めたグラフを示す。

図３５Ｃから、目的ＯＰ波長６５０ｎｍにおいては高さ８０〜２３０ｎｍの領域においてパターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（楕円錐形）としたときの方が、その平坦部形をピッチの０倍（円錐形）としたときに比べて反射率が低い。パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍とした場合、高さ８０ｎｍ以上で反射率２％以下、高さ１１０ｎｍ以上で反射率１％以下、高さ１６０〜２００ｎｍ付近で反射率は殆ど０％となる。
また、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合には、高さが高くなるにつれて反射率は低くなり、反射防止の効果が大きくなっていくものの、反射率０％付近を得るには少なくとも２６０ｎｍ以上の高さが必要となる。
広く考えれば高さ８０〜２６０ｎｍ範囲で反射防止の効果は得られるといえる。
高さは低い程、本発明の目的にはかなっているが、反射防止効果としては高い程有利な面があるので、ＤＶＤピット高さの約１３０ｎｍの２倍が上限値の目安と考えられる。

（試験例９）
ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３６Ａ〜図３６Ｃに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：１８０ｎｍ
パターン上部の平坦部径：ピッチの０〜０．７倍まで変化
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３６Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０〜０．７倍まで変化させたグラフを示す。図３６Ｂに、ＯＰ波長６５０ｎｍにおける反射率をパターン上部の平坦部径に対して纏めたグラフを示す。

図３６Ｂから、目的ＯＰ波長６５０ｎｍの場合、パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（１５０ｎｍ）付近としたときに、一番反射率が低くなることがわかる。なお、パターン上部の平坦部径が一番狭い、ピッチの０倍とした場合で、反射率は１．１％程度、パターン上部の平坦部径が一番広い、ピッチの０．７倍（２１０ｎｍ）とした場合で、反射率は０．５％程度なので、これらの範囲で反射防止の効果は得られる。

（試験例１０）
ＣＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３７Ａ〜図３７Ｃに示す。
パターンピッチ：１２０〜９００ｎｍの範囲内で変更
パターン高さ：２１５ｎｍ
パターン上部の平坦部径：設定ピッチの０．５倍（円錐台形）、および０（円錐形）
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３７Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（円錐台形）とした場合のグラフを示す。図３７に、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合のグラフを示す。図３７Ｃに、ＯＰ波長７８０ｎｍにおける反射率をパターンピッチに対して纏めたグラフを示す。

図３７Ｃから、目的ＯＰ波長７８０ｎｍの場合、本設定条件ではパターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（円錐台形）としたときの方が、その平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合よりも反射率が低いことがわかる。パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍とした場合、ピッチ寸法２００〜５５０ｎｍの範囲で反射率は殆ど０％となる。
パターン上部の平坦部径をピッチの０倍とした場合でも、ピッチ１５０〜９００ｎｍの範囲で反射率は２％以下なので、反射防止の効果は得られる。
また、上記ＢＤ、ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの場合と同様に、図３７Ａ、図３７Ｂから、何れの場合もピッチを大きくした場合に、回折の影響による反射率が急激に変化する領域が現れるようになる。
六方格子配置でピッチを９００ｎｍとした場合には先述したようにこの数値に√３／２を乗じた値約７８０ｎｍが実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この寸法以下の波長領域で急激な反射率上昇が認められるようになる。
ここで、７８０ｎｍはそのままＣＤのＯＰ波長となるため、ＣＤの場合にはピッチ寸法９００ｎｍ以下で反射防止効果が得られることになる。なお、四方格子配置の場合はピッチ寸法が最隣接の回折格子間隔となるので、ピッチ７８０ｎｍ以下の領域にて反射防止効果が得られる。
以上により、ＣＤに準拠した光ディスクの場合には、反射防止効果を得るためには、パターンピッチを９００ｎｍ以下の範囲にすることが好ましい。

（試験例１１）
ＣＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３８Ａ〜図３８Ｃに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：１００〜３５０ｎｍの範囲内で変更
パターン上部の平坦部径：設定ピッチの０．５倍（円錐台形）、及び０（円錐形）
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３８Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（円錐台形）とした場合のグラフを示す。図３８Ｂに、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合のグラフを示す。図３８Ｃに、ＯＰ波長７８０ｎｍにおける反射率をパターン高さに対して纏めたグラフを示す。

図３８Ｃから、目的ＯＰ波長７８０ｎｍにおいては、高さ１００〜２８０ｎｍの領域においてパターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（円錐台形）としたときの方が、その平坦部径をピッチの０倍（円錐形）としたときよりも反射率が低い。パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍とした場合、高さ１００ｎｍ以上で反射率２％以下、高さ約１３０ｎｍ以上で反射率１％以下、高さ２００〜２２０ｎｍ付近で反射率は殆ど０％となる。
また、パターン上部の平坦部径をピッチの０倍（円錐形）とした場合には、パターン高さが高くなるにつれて反射率は低くなり、反射防止の効果が大きくなっていくものの、反射率０％付近を得るには、少なくとも３５０ｎｍ以上の高さが必要となる。広く考えれば高さ１００〜３００ｎｍ範囲で、反射防止の効果は得られるといえる。
高さは低い程、本発明の目的にはかなっているが、反射防止効果としては高い程有利な面があるので、ＣＤピット高さ約１５０ｎｍの２倍が上限値の目安と考えられる。

（試験例１２）
ＣＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図３９Ａ、図３９Ｂに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：２１５ｎｍ
パターン上部の平坦部径：ピッチの０〜０．８倍まで変化
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状、円錐形状

図３９Ａに、パターン上部の平坦部径をピッチの０〜０．８倍まで変化させたグラフを示す。図３９Ｂに、ＯＰ波長７８０ｎｍにおける反射率をパターン上部の平坦部径に対して纏めたグラフを示す。

図３９Ｂから、目的ＯＰ波長７８０ｎｍの場合、パターン上部の平坦部径をピッチの０．５倍（１５０ｎｍ）付近としたときに一番反射率が低くなることがわかる。なお、パターン上部の平坦部径が一番狭い、ピッチの０倍とした場合で、反射率１．２％程度、パターン上部の平坦部径が一番広い、ピッチの０．８倍（２４０ｎｍ）とした場合でも、反射率１．２％程度なので、これらの範囲で反射防止の効果は得られる。

（試験例１３）
ＢＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図４０Ａに示す。
パターンピッチ：２４０ｎｍ
パターン高さ：８０〜２００ｎｍの範囲内で変更
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状

（試験例１４）
ＤＶＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図４０Ｂに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：１００〜２６０ｎｍの範囲内で変更
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状

（試験例１５）
ＣＤ規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、ＲＣＷＡシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図４０Ｃに示す。
パターンピッチ：３００ｎｍ
パターン高さ：１２０〜３５０ｎｍの範囲内で変更
パターン配列：六方格子状
パターン形状：円錐台形状

図４０Ａ〜図４０Ｃ中、横軸は、構造体高さに対するＯＰ波長(ＢＤ４０５ｎｍ、ＤＶＤ６５０ｎｍ、ＣＤ７８０ｎｍ)の比率(ＯＰ波長／高さ)を示す。また、縦軸は、各構造体高さにおいて最低反射率となる比率(上部の平坦部径／ピッチ)、およびその最低反射率（％）を示す。なお、ＢＤ規格に準拠した光ディスクでは、ＣＤ規格およびＤＶＤ規格に準拠した光ディスクのようにパターンピッチを３００ｎｍとすると、影響は小さいが一部干渉の影響を受けるので、影響を受けない２４０ｎｍとした。

図４０Ａ〜図４０Ｃから以下のことがわかる。
ＢＤ、ＤＶＤおよびＣＤ規格の何れの光ディスクの場合でも、比率（ＯＰ波長／高さ）(横軸)が約３．５近辺において、殆ど０％となる最少反射率が得られることがわかる。上記比率の値より大きくても（すなわち構造体高さが低くても）、小さくても（すなわち構造体高さが高くても）、反射率は大きくなる傾向にある。
殆ど０％となる最少反射率を得るためには、比率（ＯＰ波長／高さ）を約３．５とすると共に、ＢＤ準拠の光ディスクの場合には、比率（上部の平坦部径／ピッチ）を０．３〜０．４とし、ＤＶＤおよびＣＤに準拠する光ディスクの場合には、約０．５に設定することが好ましい。

反射率１％以下の良好な反射防止特性を得るためには、ＢＤ、ＤＶＤおよびＣＤ準拠の光ディスクに共通として、比率（ＯＰ波長／高さ）を約２〜６、比率（上部の平坦部径／ピッチ）を約０〜０．７の範囲に設定することが好ましい。

以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。

また、上述の実施形態の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。

また、本発明は、上述の実施形態に係る光情報記録媒体に限定されるものではなく、情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面を有する光情報記録媒体であれば適用可能である。例えば、体積型情報記録媒体（体積ホログラム）などの次世代の情報記録媒体に対しても本発明は適用可能である。

また、上述の実施形態では、複数の構造体を規則的または周期的に配列する場合を例として説明したが、複数の構造体をランダムに配列するようにしてもよい。

また、上述の実施形態では、複数の構造体を同一の大きさとする場合を例として説明したが、複数の構造体の大きさをランダムに変化させるようにしてもよい。また、複数の構造体の大きさをランダムに変化させるとともに、それらをさらにランダムに配置するようにしてもよい。

また、上述の実施形態では、１層または２層の情報信号層を備える光情報記録媒体に対して本発明を適用する場合を例として説明したが、情報信号層の総数はこの例に限定されるものではなく、１層または２層以上の情報信号層を備える光情報記録媒体に対して本発明は適用可能である。

１ 基板
１ａ 第１の成形体
１ｂ 第２の成形体
２ 情報信号層
３ 保護層
１１ 構造体
１２ 凹凸部
１３ 樹脂材料
１４ 貼合層
４１ 第１の基板
４２ 第２の基板
４３ 第１の情報信号層
４４ 中間層
４５ 第２の情報信号層
５１ 第１の基板
５２ 第１の情報信号層
５３ 第２の基板
５４ 第２の情報信号層
６１ 基板
６２ 保護層

Claims (13)

1. 基板と、
   上記基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、
   上記１層または２層以上の情報信号層上に形成された保護層と
   を備え、
   上記保護層の表面が、上記情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
   上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。
2. 上記サブ波長構造体の配置ピッチが、４７０ｎｍ以下であり、
   上記サブ波長構造体の高さが、８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１記載の光情報記録媒体。
3. 第１の基板と、
   上記第１の基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、
   上記１層または２層以上の情報信号層上に形成された第２の基板と
   を備え、
   上記第２の基板の表面が、上記情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
   上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。
4. 上記サブ波長構造体の配置ピッチが、７５０ｎｍ以下であり、
   上記サブ波長構造体の高さが、８０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下である請求項３記載の光情報記録媒体。
5. 基板と、
   上記基板上に形成された１層または２層以上の情報信号層と、
   上記１層または２層以上の情報信号層上に形成された保護層と
   を備え、
   上記基板の表面が、上記情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
   上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。
6. 上記サブ波長構造体の配置ピッチが、９００ｎｍ以下であり、
   上記サブ波長構造体の高さが、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下である請求項５記載の光情報記録媒体。
7. 上記複数のサブ波長構造体は、複数列のトラックをなすように配置され、
   上記トラックは、同心円状、螺旋状または直線状である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
8. 上記複数のサブ波長構造体は、六方格子パターン、準六方格子パターン、四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成している請求項７記載の光情報記録媒体。
9. 上記トラックは、蛇行している請求項７記載の光情報記録媒体。
10. 上記サブ波長構造体の高さＨに対する、上記情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率（λ／Ｈ）が、２以上６以下である請求項１、３または５記載の光情報記録媒体。
11. 上記サブ波長構造体の配置ピッチＰに対する、上記サブ波長構造体上部の平坦部径Ｒの比率（Ｒ／Ｐ）が、０以上０．７以下である請求項１、３または５記載の光情報記録媒体。
12. 情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面を有し、
    上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。
13. 読み取り面形成用原盤の形状を樹脂材料に転写し、複数のサブ波長構造体が表面に形成された基板または保護層を形成する工程を備え、
    上記基板または上記保護層の表面が、情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面である光情報記録媒体の製造方法。

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