WO2009107603A1 - カーボンナノチューブ及びカーボンナノチューブファイバー等の製造方法及び製造装置 - Google Patents

カーボンナノチューブ及びカーボンナノチューブファイバー等の製造方法及び製造装置 Download PDF

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carbon nanotube
silicon oxide
iron chloride
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翼 井上
守弘 岡田
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国立大学法人静岡大学
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    • C01B32/15—Nano-sized carbon materials
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    • C01B32/162—Preparation characterised by catalysts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00—Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/08—Aligned nanotubes

Definitions

  • the present invention relates to a method and apparatus for producing carbon nanotubes, and in particular, a method and apparatus for producing carbon nanotubes vertically aligned on a substrate, and a method for producing long carbon nanotube fibers and the like from the obtained carbon nanotubes. About.
  • Carbon nanotubes have characteristics such as high mechanical strength, lightness, good electrical conductivity, good thermal properties, and good field electron emission properties.
  • Emission display (FED) electrodes conductive resins, high-strength fiber reinforced resins, corrosion-resistant resins, wear-resistant resins, highly lubricious resins, secondary battery and fuel cell electrodes, LSI interlayer wiring materials, biosensors Application to such as.
  • Patent Document 1 discloses a method for producing a carbon nanotube by a CVD method.
  • a catalytic metal and a hydrocarbon as a carbon source coexist, and a carbon nano tube is synthesized at a process temperature of about 650 ° C. to 1300 ° C., for example.
  • Single-walled carbon nanotubes are obtained when the size of the catalyst particles is small. There are many variations in the type of catalyst and how it is supported (on the substrate, floating, etc.).
  • a metal film such as iron or alumina is formed as a catalyst on a flat substrate by sputtering or the like, and this is set in an electric furnace and the electric furnace is heated to a predetermined temperature.
  • JP 2006-265006 A US Patent Publication US20080170982A1 Special table 2008-517182 Japanese Patent No. 3954967 Special table 2008-523254
  • the above-mentioned prior art has a problem that it is not possible to easily produce carbon nanotubes, for example, it is necessary to form a metal film on a substrate, or carbon nanotubes do not grow when the gas blend ratio changes. was there.
  • the present invention has been made in consideration of the above-mentioned facts.
  • a carbon nanotube manufacturing method and a manufacturing apparatus capable of easily manufacturing vertically aligned carbon nanotubes are obtained, and a long carbon is obtained from these carbon nanotubes.
  • the object is to produce nanotube fibers and the like.
  • the method for producing a carbon nanotube of the invention evacuates a reaction vessel tube containing iron chloride and a substrate having at least a surface of silicon oxide, and Adjusting the inside of the reaction vessel tube to a predetermined temperature at which the iron chloride sublimes, supplying a hydrocarbon gas into the reaction vessel tube adjusted to the predetermined temperature, and forming carbon nanotubes on the substrate by chemical vapor deposition And growing in a vertical orientation.
  • the chemical vapor deposition method by the chemical vapor deposition method, the sublimated iron chloride and the hydrocarbon gas undergo a gas phase reaction, whereby the carbon nanotubes are vertically aligned with the silicon oxide portion of the substrate surface on the substrate surface.
  • the silicon oxide is preferably SiO x (x ⁇ 2).
  • the substrate is preferably a tubular substrate disposed in a heating furnace.
  • the hydrocarbon is preferably acetylene.
  • the iron chloride preferably contains at least one of ferrous chloride and ferric chloride.
  • a tape or sheet having a uniform and uniform thickness is formed in any width, not only in a fiber form, by the spinning method without any restriction on the length and width of spinning.
  • a substrate on which carbon nanotubes are vertically aligned is manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 5, and the invention according to the ninth aspect is to pattern the vertically aligned carbon nanotube forming region.
  • a substrate having carbon nanotubes vertically aligned in the region is formed.
  • An apparatus for producing a carbon nanotube according to claim 10 is an exhaust means for exhausting the inside of a reaction vessel tube on which a substrate having at least a part of the surface made of silicon oxide and iron chloride is placed, and the iron chloride is sublimated. Temperature adjusting means for adjusting to a predetermined temperature; and gas supply means for supplying hydrocarbon gas into the reaction vessel tube adjusted to the predetermined temperature and vertically aligning carbon nanotubes on the substrate by chemical vapor deposition. , Including. According to the present invention, it is not necessary to form a metal film on the substrate, and the gas supplied into the reaction vessel tube does not need to be blended with a gas other than hydrocarbons. Can do.
  • the tubular substrate is installed in the heating furnace, it is possible to cause carbon nanotube formation that occurs on the entire surface of the high-temperature heating part in the quartz tube only in the tubular substrate.
  • the carbon nanotubes produced by this method can be easily spun long as long as their aggregates are formed.
  • any shape of substrate such as plate, rod, or tube may be used. Therefore, a method of physically scraping and collecting carbon nanotubes grown on these substrates is effective.
  • other methods such as immersing the entire carbon nanotubes and equipment in an aqueous hydrogen fluoride solution, separating them from the silicon oxide substrate, and recovering the carbon nanotubes are possible. Not right.
  • the small container substrate When the small container substrate is used as a cylinder after the growth is finished and a piston is inserted from one of the ports and the inside of the small container substrate is squeezed to push out the carbon nanotubes, an aggregate of carbon nanotubes can be easily obtained from the other port.
  • the small container substrate that becomes the cylinder does not need to be a straight cylinder, but increases the surface area of the carbon nanotubes to grow, so if the piston can be made elastic, the surface can be polygonal or elliptical. There is no particular restriction such as a star shape, and it does not have to be twisted in the longitudinal direction or have a constant cross section. Further, when a plurality of small container substrates holding iron chloride inside are arranged in the reaction container, the area for growing carbon nanotubes increases, so that productivity can be improved.
  • the vertically aligned carbon nanotubes can be easily formed on the substrate, and the carbon nanotubes manufactured according to the present invention can form fibers, tapes or sheets from the aggregate, and
  • the substrate on which the aligned carbon nanotubes are formed has low reflectance characteristics with respect to light in a wide wavelength region, and the vertically aligned carbon nanotubes can be patterned on the substrate.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a CVD apparatus.
  • FIG. 2 is a flowchart showing a carbon nanotube growth method.
  • FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the partial pressure of each substance and the growth time of carbon nanotubes during the growth process of carbon nanotubes.
  • FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the flow rate of acetylene gas and the length of the grown carbon nanotubes.
  • FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the growth time of carbon nanotubes and the length of the grown carbon nanotubes.
  • FIG. 6A is a diagram showing the results of Raman measurement of carbon nanotubes grown with an acetylene gas pressure of 10 Torr, and FIG.
  • FIG. 6B is the result of Raman measurements of carbon nanotubes grown with an acetylene gas pressure of 1 Torr.
  • FIG. 7A is a diagram showing the appearance of a part of the quartz substrate
  • FIG. 7B is a diagram showing the appearance of the quartz substrate on which carbon nanotubes are grown.
  • FIG. 8 is a view showing the appearance of carbon nanotubes grown on a quartz substrate.
  • FIG. 9A is a diagram showing the appearance of carbon nanotubes observed with a scanning electron microscope.
  • FIG. 9B is an enlarged view thereof.
  • FIG. 10 is a view showing carbon nanotubes observed with a transmission electron microscope.
  • FIG. 11 is a diagram showing that carbon nanotube fibers can be spun by picking up carbon nanotubes grown on a quartz substrate with a pair of tweezers and pulling them out.
  • FIG. 12 is a diagram showing that carbon nanotube fibers can be spun from the aggregate of carbon nanotubes peeled and collected from the substrate.
  • FIG. 13 is a diagram showing that a carbon nanotube tape can be produced by pulling out one end of a carbon nanotube while keeping a certain width from the aggregate of carbon nanotubes.
  • FIG. 14 is a view showing a vertically aligned carbon nanotube pattern formed on a stainless steel substrate.
  • FIG. 15A is a diagram showing a light reflection spectrum in an ultraviolet region having a wavelength of 200 nm to 330 nm.
  • FIG. 15B is a diagram showing a light reflection spectrum in a visible light region having a wavelength of 500 nm to 600 nm.
  • FIG. 15C is a diagram showing a light reflection spectrum in an infrared region with a wavelength of 850 nm to 1800 nm.
  • FIG. 16 is a view of a small container holding a catalyst therein, which is suitable for obtaining a carbon nanotube aggregate.
  • A The cross-sectional area changes.
  • B A polygonal cross section with a star shape.
  • C It is twisted and the catalyst is applied inside.
  • FIG. 17 is a diagram in which a small container substrate 15 is arranged in the reaction container tube 14. This is suitable for producing more carbon nanotubes without increasing the size of the production apparatus.
  • FIG. 17 is a diagram in which a small container substrate 15 is arranged in the reaction container tube 14. This is suitable for producing more carbon nanotubes without increasing the size of the production apparatus.
  • FIG. 1 shows a schematic structure of a CVD apparatus 10 for growing carbon nanotubes on a substrate by a CVD method.
  • the CVD apparatus 10 includes an electric furnace 12.
  • a reaction vessel tube 14 is passed through the electric furnace 12, and a heater 16 and a thermocouple 18 are provided around the reaction vessel tube 14.
  • the heater 16 and the thermocouple 18 are connected to a control unit 20, which is detected by the thermocouple 18 so that the inside of the reaction vessel tube 14 has a predetermined temperature suitable for the growth of carbon nanotubes.
  • the heater 16 is controlled based on the detected temperature.
  • a gas supply unit 22 is connected to one side of the reaction vessel tube 14, and a pressure adjustment valve 23 and an exhaust unit 24 are connected to the other side of the reaction vessel tube 14.
  • the gas supply unit 22, the pressure adjustment valve 23, and the exhaust unit 24 are controlled by the control unit 20.
  • the gas supply unit 22 causes a hydrocarbon gas to flow into the reaction vessel pipe 14.
  • an acetylene (C 2 H 2 ) gas is used as an example of the hydrocarbon gas.
  • the pressure adjustment valve 23 is for adjusting the pressure of the acetylene gas supplied from the gas supply unit 22.
  • the exhaust unit 24 evacuates the reaction vessel tube 14 before allowing the acetylene gas to flow into the reaction vessel tube 14, and a rotary pump is used, for example.
  • step 100 the quartz dish substrate 28 on which the catalyst 26 is placed is set in the small container substrate 15.
  • the catalyst 26 does not necessarily have to be placed on the quartz dish substrate 28, and the catalyst 26 and the quartz dish substrate 28 may be in the small container substrate 15.
  • the quartz dish substrate need not be used.
  • iron chloride powder containing at least one of ferrous chloride (FeCl 2 ) and ferric chloride (FeCl 3 ) can be used.
  • ferrous chloride is used. It is preferable to use (FeCl 2 ).
  • the surface of the quartz dish substrate 28 may be silicon oxide, preferably quartz (SiO 2 ) as in this embodiment. Carbon nanotubes grow on this quartz part.
  • silicon oxide there are other SiO of the SiO 2 which is known as a so-called quartz, also a silicon oxide layer formed by sputtering is oxygen silicon ratio is changed from these (such as 1.9), but not constant, these And SiOx (x ⁇ 2).
  • step 102 the control unit 20 instructs the exhaust unit 24 to evacuate the reaction vessel tube. Accordingly, the exhaust unit 24 for exhausting the reaction vessel tube 14 for example so that the pressure in the reaction vessel tube 14 becomes less 10- 2 Torri.
  • step 104 the control unit 20 controls the heater 16 based on the temperature detected by the thermocouple 18 so that the temperature in the electric furnace 12 is increased to a predetermined temperature.
  • the predetermined temperature is set to a temperature equal to or higher than the lower limit of the temperature at which the catalyst 26 sublimates and reacts with the gas flowing into the reaction vessel pipe 14 at a gas phase, for example, a temperature in the range of 700 to 900 ° C. Is done.
  • step 106 the control unit 20 instructs the gas supply unit 22 to supply the acetylene gas 30 into the reaction vessel pipe 14 and adjusts the pressure adjustment valve 23 so that the acetylene gas 30 becomes a predetermined pressure.
  • the acetylene gas 30 having a predetermined pressure and a predetermined flow rate flows into the reaction vessel pipe 14.
  • the predetermined pressure and the predetermined flow rate are set to a pressure and a flow rate at which carbon nanotubes can grow.
  • the predetermined pressure is set to a pressure in the range of 0.1 to 50 Torr, for example, and the predetermined flow rate is set to a flow rate in the range of 20 to 500 sccm, for example, according to the inner diameter of the reaction vessel tube 14.
  • the gas supply time is set to at least the supply time from the start of gas supply to the stop of the growth of carbon nanotubes.
  • the reaction vessel tube 14 in which the catalyst 26 and the quartz dish substrate 28 are set is evacuated, and the reaction vessel tube 14 and the small vessel substrate 15 are heated to a temperature at which the catalyst is sublimated.
  • the acetylene gas 30 flows into the small container substrate 15, the sublimated catalyst 26 and the acetylene gas 30 undergo a gas phase reaction.
  • the inventors of the present invention have introduced the acetylene gas 30 into the small vessel substrate 15 to cause a gas phase reaction with the catalyst 26, and the gas generated during the reaction and their fractions. The pressure was measured. The result is shown in FIG. As shown in the figure, when acetylene gas (C 2 H 2 ) is introduced, hydrogen chloride (HCl) is rapidly generated in a short time. Further, hydrogen (H 2 ) increases from the start of inflow of acetylene to about 5 minutes, and then gradually decreases. This HCl and H 2 gas is considered to be related to the growth of carbon nanotubes.
  • the generation of hydrogen chloride is represented by the following chemical reaction formula.
  • FeC 2 (hereinafter referred to as iron carbide) and hydrogen chloride are generated by a gas phase reaction between ferrous chloride and acetylene.
  • the iron carbide powder repeatedly collides with each other and is deposited on the quartz dish substrate 28. Then, the iron carbide leaving iron carbon is precipitated (FeC 2 ⁇ Fe + 2C) , graphene layer is formed. This is thought to be the beginning of the growth of carbon nanotubes.
  • the pressure of the acetylene gas 30 is excessively high from the beginning, the particle size of the iron carbide powder produced by the chemical reaction between iron chloride and acetylene increases. Since the carbon nanotubes may not be vertically aligned, the pressure of the acetylene gas 30 is relatively low (for example, about 0.6 Torr), and the iron carbide powder becomes carbon nanotubes. May be arranged on the quartz dish substrate 28 at a density suitable for vertical alignment, and then the pressure may be increased (for example, about 10 Torr). Thereby, the carbon nanotube can be appropriately vertically aligned.
  • the above description is in line with the structure of the CVD apparatus in FIG. 1, but the method for producing carbon nanotubes of the present invention is not limited to the structure of these apparatuses.
  • the above gas phase chemical reaction only needs to be maintained on the surface of the substrate on which the carbon nanotubes grow. Therefore, iron chloride that performs catalytic action on these reaction systems is sublimated. Then, a hydrocarbon gas serving as a carbon source such as acetylene is supplied to the reaction temperature, and the substrate surface may be maintained in an atmosphere under these reaction conditions.
  • a substrate having a silicon oxide surface as a carbon nanotube growth substrate is placed, and this is also sublimated to an atmosphere maintained at a predetermined temperature, or iron chloride is supplied by a carrier gas. Further, by supplying a hydrocarbon gas such as acetylene and maintaining the atmospheric temperature at these chemical vapor reaction temperatures, the vertically aligned carbon nanotubes of the present invention can be produced efficiently.
  • the carbon nanotubes thus produced can be collected as an aggregate as will be described later, and a carbon nanotube long fiber or a long tape can be easily produced.
  • a carbon nanotube growth substrate is a small container substrate having a cylindrical shape and a silicon oxide layer whose inner wall surface grows carbon nanotubes, and the carbon nanotubes grown on the inner wall are squeezed with a piston and carbonized. It is effective to extrude the aggregate of nanotubes.
  • This cylinder does not have to be a straight cylinder, and if the elastic piston can pass through, the cross-sectional shape shown in FIG. 16 is polygonal, elliptical, star-shaped (FIG. 16-B), etc. Any shape is acceptable. In addition, it may be twisted in the longitudinal direction (FIG. 16-C) or even if the cross-sectional area is not constant (FIG. 16-A).
  • the material of these small container substrates is not necessarily made entirely of quartz, and any material may be used as long as a silicon oxide layer suitable for carbon nanotube growth is present on the surface.
  • the small container substrate shown in FIG. 17 has a catalyst placed on or applied to each inside, and the carbon nanotubes thus grown on the inner wall surface of the small container substrate are, for example, as shown in FIG.
  • it is extruded with a piston and intermittently supplied to a carbon tube long fiber manufacturing apparatus. In this way, it is possible to continuously produce long carbon nanotube fibers.
  • the inventors have grown carbon nanotubes on the quartz dish substrate 28 using the CVD apparatus 10 described above.
  • the size of the quartz dish substrate is 10 (mm) x 10 (mm) ⁇ 1 (mm), the diameter of the reaction vessel tube 14 is 36 mm.
  • the temperature of the carbon nanotubes grown by the above method was measured by setting the temperature in the electric furnace 12 to 820 ° C., the pressure of the acetylene gas 30 to 10 Torr, and changing the flow rate of the acetylene gas 30.
  • the result is shown in FIG.
  • the flow rate of the acetylene gas 30 was 200 sccm
  • the length of the carbon nanotube was about 2.1 mm, which was the longest.
  • it is thought that the flow rate of the acetylene gas 30 in which the length of the carbon nanotube is the longest changes depending on the diameter of the reaction vessel tube 14, it is preferable to set an optimum flow rate according to the diameter of the reaction vessel tube 14.
  • the temperature in the electric furnace 12 is 820 ° C.
  • the pressure of the acetylene gas 30 is 10 Torr
  • the relationship between the carbon nanotube growth time and the length when the flow rate of the acetylene gas 30 was 200 sccm was measured. The result is shown in FIG. As shown in the figure, the growth rate is high for the first 30 minutes, and then the growth stops.
  • the length of the carbon nanotube was 2.1 mm when the pressure was 10 Torr, and the growth time was 20 minutes.
  • FIG. 7A shows a part of a quartz substrate before carbon nanotubes are grown.
  • FIG. 7B shows an electric furnace temperature of 820 ° C., an acetylene gas pressure of 10 Torr, and acetylene.
  • a part of the carbon nanotubes grown by the above-described method with a gas flow rate of 200 sccm is shown.
  • FIG. 5B it can be seen that the carbon nanotubes grow in the vertical orientation on the front, back and side surfaces of the quartz dish substrate.
  • FIG. 8 shows the entire carbon nanotube grown on the quartz dish substrate 28.
  • FIG. 9A shows a view of the grown carbon nanotubes observed with a scanning electron microscope (SEM).
  • FIG. 5B shows an enlarged view observed by SEM.
  • the diameter of the nanotube is about 20 to 50 nm.
  • the grown carbon nanotube has a length of 2.1 mm.
  • FIG. 10 shows a view of the grown carbon nanotubes observed with a transmission electron microscope (TEM). The nanotubes were found to be hollow multi-walled carbon nanotubes.
  • the carbon nanotube fibers are similarly drawn out from the aggregate of carbon nanotubes prepared by peeling and collecting the carbon nanotubes deposited on the substrate or the siliceous surface and spinning. Can do.
  • the beginning of drawing out the carbon nanotube fiber may be pinched with tweezers as shown in FIG. 11, or may be drawn out by an adhesive means. Accordingly, when the adhesive tape or the like is used to pull out the width, the carbon nanotube tape or the carbon nanosheet can be pulled out as shown in FIG.
  • the carbon nanofibers obtained by the present invention can be made into various shapes from long fibers to tapes or sheets by a method of spinning from the dense form.
  • the carbon nanotube produced by the production method of the present invention has the property of growing only on the silicon oxide surface, a pattern of the silicon oxide layer is formed on the surface of the substrate made of an appropriate material by photolithography or the like, and the surface of the silicon oxide layer is formed. Carbon nanotubes can be grown.
  • a substrate prepared by this method is shown in FIG. As shown in the figure, the carbon nanotubes formed by being vertically aligned on the substrate can be formed with a very high density and a uniform length (height).
  • the carbon nanotubes produced according to the present invention grow in a shape and structure with extremely high density and high linearity in combination with the property of being oriented perpendicular to the growth surface. For this reason, the substrate on which the vertically aligned carbon nanotubes of the present invention are formed exhibits a very low light reflectance. As shown in FIGS. 15A, 15B, and 15C, these characteristics have a reflectance of 2% or less from an ultraviolet region having a wavelength of 200 nm to an infrared region having a wavelength of 1.8 ⁇ m.
  • vertically aligned carbon nanotubes can be grown by a simpler method than conventional methods, and fibers, tapes or sheets are directly produced from the carbon nanotubes thus obtained. It is possible to pattern the carbon nanotube formation region by utilizing the property that carbine nanotubes can be selectively formed by the silicon oxide layer, and low light emission by these vertically aligned carbon nanotubes. It has reflection characteristics, and new applications using these characteristics are expected, including the application fields described above.

Abstract

ＣＶＤ装置１０は、電気炉１２内に反応容器管１４および小型容器基板１５配置し、その外周にヒータ１６、熱電対１８を配置する。 反応容器管１４の一方には、ガス供給部２２が、他方には圧力調整バルブ２３及び排気部２４が接続されている。これらは、制御部２０によって制御され、排気部２４により反応容器管１４内を真空排気し、ヒータ１６により小型容器基板１５内を触媒となる塩化鉄２６を昇温して昇華させてから、ガス供給部２２によりアセチレンガス３０を小型容器基板１５に流入させる。これにより塩化鉄とアセチレンガスとが気相反応し、酸化ケイ素層を形成し基板２８上にカーボンナノチューブ成長核を形成した後カーボンナノチューブが垂直配向して成長する。

Description

カーボンナノチューブ及びカーボンナノチューブファイバー等の製造方法及び製造装置
　本発明は、カーボンナノチューブの製造方法及び製造装置に関し、特に、基板上に垂直配向したカーボンナノチューブの製造方法及び製造装置及びこれらの得られたカーボンナノチューブから長尺のカーボンナノチューブファイバーなどを製造する方法に関する。
　カーボンナノチューブ（CNT）は、機械的強度が高い、軽い、電気伝導特性が良い、熱特性が良い、電界電子放出特性が良いなどの特性を有することから、走査プローブ顕微鏡（SPM）のプローブ、電界放出ディスプレイ（FED）の電極、導電性樹脂、高強度繊維強化樹脂、耐腐食性樹脂、耐摩耗性樹脂、高度潤滑性樹脂、二次電池や燃料電池の電極、LSIの層間配線材料、バイオセンサーなどへの応用が注目されている。
　カーボンナノチューブの製造方法として、たとえばアーク放電法やレーザー蒸発法、化学気相成長法（CVD）等があり、特許文献1にはCVD法によりカーボンナノチューブを製造する方法が開示されている。
　CVD法では、基本的には触媒金属と炭素源の炭化水素を共存させ、例えば、６５０℃～１３００℃程度のプロセス温度でカーボンナノ」チューブを合成させる。触媒粒子のサイズが小さいときには単層カーボンナノチューブ（SWNT）が得られる。触媒の種類、その支持の仕方（基板上や浮遊など）に多くのバリエーションがある。
　例えば、平板状の基板上に触媒として鉄やアルミナ等の金属膜をスパッタリング等により形成し、これを電気炉内にセットして電気炉内を所定温度に昇温させた状態で、アセチレンや水素、アンモニウム等がブレンドされたガスを電気炉内に流入させて触媒と化学反応させることにより、基板上にカーボンナノチューブを垂直配向させる技術がある。
特開２００６－２６５００６号公報 米国特許公開ＵＳ２００８０１７０９８２Ａ１公報 特表２００８－５１７１８２号公報 特許第３９５４９６７号公報 特表２００８－５２３２５４号公報
　しかしながら、上記従来技術は、基板上に金属膜を形成する必要があったり、ガスのブレンド比率が変化するとカーボンナノチューブが成長しなかったりする等、簡単にカーボンナノチューブを製造することができない、という問題があった。
　本発明は、上記事実を考慮してなされたものであり、垂直配向したカーボンナノチューブを簡単に製造することができるカーボンナノチューブの製造方法及び製造装置を得ると共に、これらのカーボンナノチューブから長尺のカーボンナノチューブファイバーなどを製造することを目的とする。
　上記目的を達成するため、請求項1記載の発明のカーボンナノチューブの製造方法は、少なくとも一部の表面が酸化ケイ素である基板と塩化鉄とが収容された反応容器管内を排気するステップと、前記反応容器管内を前記塩化鉄が昇華する所定温度に調整するステップと、前記所定温度に調整された前記反応容器管内に炭化水素のガスを供給し、化学気相
成長法により前記基板上にカーボンナノチューブを垂直配向して成長させるステップとを含むことを特徴とする。
　この発明によれば、化学気相成長法により、昇華した塩化鉄と炭化水素のガスとが気相反応することで基板表面に基板表面の酸化ケイ素の部分にカーボンナノチューブが垂直配向する。このように、基板上に金属膜を形成する必要はなく、反応容器管内に供給するガスも炭化水素以外の他のガスをブレンドする必要がないので、簡単に垂直配向したカーボンナノチューブを製造することができる。
　なお、請求項２に記載したように、前記酸化ケイ素はＳｉＯx（ｘ＜２）であることが好ましい。請求項３に記載したように、前記基板は加熱炉中に配置した管状の基板であることが好ましい。
　また、請求項４に記載したように、前記炭化水素はアセチレンであることが好ましい。
　さらに、請求項５に記載したように、前記塩化鉄は、塩化第一鉄および塩化第二鉄の少なくとも一方を含むことが好ましい。
　請求項６、７は、これらの製造方法により形成されたカーボンナノチューブを収集して集合塊状として、これを紡糸用素材として紡糸することにより、基板上に形成された状態のカーボンナノチューブから紡糸する方法に対して紡糸される長さや幅などの制約なく、しかも紡糸法によってファイバー状のものばかりでなく任意の幅で均一一様な厚さのテープ、シートが形成する。
　請求項８は、カーボンナノチューブが垂直配向した基板を、請求項１～５記載の製造方法によって製造するものであり、また、請求項９記載の発明は、その垂直配向したカーボンナノチューブ形成領域をパターニングすることにより、該領域にカーボンナノチューブ垂直配向した基板を作成する。
　請求項１０記載の発明のカーボンナノチューブの製造装置は、すくなくとも一部の表面が酸化ケイ素である基板と塩化鉄とが載置された反応容器管内を排気する排気手段と、前記塩化鉄が昇華する所定温度に調整する温度調整手段と、前記所定温度に調整された前記反応容器管内に炭化水素のガスを供給し、化学気相成長法により前記基板上にカーボンナノチューブを垂直配向させるガス供給手段と、を含むことを特徴とする。
　この発明によれば、基板上に金属膜を形成する必要がなく、反応容器管内に供給するガスも炭化水素以外のガスをブレンドする必要がないので、簡単に垂直配向したカーボンナノチューブを製造することができる。
　また、この発明によれば、加熱炉中に管状の基板を設置しているため、石英管内高温加熱部の全表面で生じるカーボンナノチューブ形成を管状基板内部にのみ生じさせることが可能となる。
　本方法で作成されたカーボンナノチューブは、その集合塊ができさえすれば、長尺の紡糸が容易にできる。集合塊を得るためには、板状、棒状、管状など、どんな形の基材でも良いため、それら基材の上に成長させたカーボンナノチューブを物理的にそぎ落として回収する方法が有効である。
　ほかに、フッ化水素水溶液にカーボンナノチューブと機材を丸ごと浸漬して、酸化ケイ素下地から分離して、カーボンナノチューブを回収する、などといった別の方法も可能であるが、薬剤や工程が増え、経済的でない。
　また、カーボンナノチューブを物理的にそぎ落として回収する方法を使用する場合、例えば、稲穂のように基材が繊維状の束になったものの表面にカーボンナノチューブを成長させて櫛の歯でしごくようにしてカーボンナノチューブを収集する方法、多数の小型金属球やガラス球などの球体基材にカーボンナノチューブを成長させてそれらを回転するドラム内でカーボンナノチューブのみを分離回収する方法など、工業的にはさまざまな方法を採ることができる。中でも反応容器内に塩化鉄を収容した小型容器となる管状の基板を基材として設置すると、該小型反応容器内壁面にのみカーボンナノチューブが稠密に成長する。成長終了後にこの小型容器基板をシリンダーとして一方の口からピストンを差し込み、該小型容器基板内部をしごいてカーボンナノチューブを押し出すと、他方の口からカー
ボンナノチューブ集合塊を容易に得ることができる。
　ここでシリンダーとなる小型容器基板は、ストレートの円筒である必要はなく、カーボンナノチューブの成長する表面積を増すため、ピストンに弾力性を持たせるなどして内部を通過できれば面形状を多角形、楕円、星形など格別の制約はなく、長手方向に捩れたり、一定断面でなくともかまわない。
　さらに内部に塩化鉄を保持した複数の小型容器基板を反応容器内に配置するとカーボンナノチューブが成長する面積が増加するため生産性が向上できる。
　　なお、上記のようにして得られるカーボンナノチューブ集合塊からは、集合塊の一部を引き出すことにより、カーボンナノチューブファイバーやテープなどを容易に製造することが可能である。上記のようにカーボンナノチューブ集合塊の収集とファイバー紡糸とを独立した工程に分割できるため、ファイバー紡糸源へ新たにカーボンナノチューブ集合塊の供給を続ける限り、ファイバー紡糸をいくらでも長くすることが可能である。
　本発明によれば、基板上に垂直配向したカーボンナノチューブを容易に形成することができ、また、本発明により製造されたカーボンナノチューブは集合塊からファイバー、テープ或いはシートを作成することができ、垂直配向したカーボンナノチューブを形成した基板は広い波長領域の光に対して低い反射率特性を有し、さらに垂直配向したカーボンナノチューブを基板上にパターン形成することができる。
図１は、ＣＶＤ装置の概略構成図である。 図２は、カーボンナノチューブの成長方法を示すフローチャートである。 図３は、カーボンナノチューブの成長過程における各物質の分圧とカーボンナノチューブの成長時間との関係を示す図である。 図４は、アセチレンガスの流量と成長したカーボンナノチューブの長さとの関係を示す図である。 図５は、カーボンナノチューブの成長時間と成長したカーボンナノチューブの長さとの関係を示す図である。 図６（Ａ）は、アセチレンガスの圧力を１０Ｔｏｒrとして成長させたカーボンナノチューブのラマン測定の結果を示す図、（Ｂ）は、アセチレンガスの圧力を１Ｔｏｒrとして成長させたカーボンナノチューブのラマン測定の結果を示す図である。 図７（Ａ）は、石英基板の一部の外観を示す図、（Ｂ）はカーボンナノチューブが成長した石英基板の外観を示す図である。 図８は、石英基板上に成長したカーボンナノチューブの外観を示す図である。 図９（Ａ）は、走査電子顕微鏡により観察したカーボンナノチューブの外観を示す図である。 図９（Ｂ）は、はその拡大図である。 図１０は、透過型電子顕微鏡により観察したカーボンナノチューブを示す図である。 図１１は、石英基板上に成長したカーボンナノチューブをピンセットでその一端をつまんで引き出すことにより、カーボンナノチューブファイバーを紡糸できることを示す図である。 図１２は、基板から剥離、収集したカーボンナノチューブ集合塊からカーボンナノチューブファイバーを紡糸できることを示す図である。 図１３は、カーボンナノチューブ集合塊からある程度の幅を保ちながら、カーボンナノチューブの一端を引き出すことにより、カーボンナノチューブテープを作成できることを示す図である。 図１４は、ステンレス基板上に形成した、垂直配向したカーボンナノチューブパターンを示す図である。 図１５（Ａ）は、波長２００ｎｍから３３０ｎｍの紫外線領域の光反射スペクトルを示す図である。 図１５（Ｂ）は、波長５００ｎｍから６００ｎｍの可視光線領域の光反射スペクトルを示す図である。 図１５（Ｃ）は、波長８５０ｎｍから１８００ｎｍの赤外線領域の光反射スペクトルを示す図である。 図１６は、カーボンナノチューブ集合塊を得るのに適した、触媒を内部に保持した小型容器の図である。（A）断面積が変化するもの。（B）断面が星形の多角形状のもの。（C）ねじれていてかつ触媒が内部に塗布されているもの。 図１７は、反応容器管１４内に小型容器基板１５を配置した図。製造装置を大型化せず、より多くのカーボンナノチューブを製造するのに適している。 図１８は、成長したカーボンナノチューブを内壁面に保持した小型容器基板から、ピストンによってカーボンナノチューブをしごいて押し出して、カーボンナノチューブ集合塊に供給している様子と、該カーボンナノチューブ集合塊から長尺のカーボンナノチューブファイバーを同時に紡糸している様子を示す図である。
符号の説明
　　１０　　ＣＶＤ装置
　　１２　　電気炉
　　１４　　石英管
　　１５　　小型容器基板
　　１６　　ヒータ
　　１８　　熱電対
　　２０　　制御部
　　２２　　ガス供給部
　　２３　　圧力調整バルブ
　　２４　　排気部
　　２６　　触媒
　　２８　　石英基板
　　３０　　アセチレンガス
　　３１　　ピストン
　　３２　　カーボンナノチューブを内壁に保持した管状小型容器基板。
　　３３　　カーボンナノチューブ除去後の管状小型容器基板。
　　３４　　カーボンナノチューブ集合塊。
　　３５　　カーボンナノチューブファイバー。
　以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
　図１には、CVD法により基板上にカーボンナノチューブを成長させるCVD装置１０の概略構造を示す。
　同図に示すように、CVD装置１０は、電気炉１２を備えている。電気炉１２内には反応容器管１４が通されており、この反応容器管１４の周囲にはヒーター１６、熱電対１８が設けられている。
　ヒータ１６及び熱電対１８は、制御部２０に接続されており、この制御部２０は、反応容器管１４の内部がカーボンナノチューブの成長に適した所定温度になるように、熱電対１８により検出された温度に基づいてヒータ１６を制御する。
　また、反応容器管１４の一方には、ガス供給部２２が接続されており、反応容器管１４の他方には圧力調整バルブ２３及び排気部２４が接続されている。ガス供給部２２、圧力
調整バルブ２３及び排気部２４は制御部２０によって制御される。
　ガス供給部２２は、炭化水素のガスを反応容器管１４に流入させる。本実施例では、炭化水素ガスの一例として、アセチレン（C2H2）のガスを用いる。
　圧力調整バルブ２３は、ガス供給部２２から供給されるアセチレンのガスの圧力を調整するものである。
　排気部２４は、アセチレンのガスを反応容器管１４内に流入させる前に、反応容器管１４内を真空排気するものであり、例えばロータリーポンプが用いられる。
　次に、カーボンナノチューブの製造方法について、図２に示すフローチャートを参照して説明する。
　まず、ステップ１００では図１に示すように、触媒２６を載せた石英皿基板２８を小型容器基板１５内にセットする。なお、触媒２６を石英皿基板２８上に必ずしも載せておく必要はなく、触媒２６と石英皿基板２８とが小型容器基板１５内にあればよい。もしくは、小型容器基板内壁にのみカーボンナノチューブを成長させるのが目的であれば、石英皿基板を使用しなくても良い。
　なお、触媒２６として、塩化第一鉄（ＦｅＣｌ2）及び塩化第二鉄（FeCl3）の少なくとも一方を含む塩化鉄の粉体を用いることができるが、本実施例のように塩化第一鉄（FeCl2）を用いることが好ましい。
　また、石英皿基板２８は、少なくとも表面が酸化ケイ素、好ましくは本実施例のように石英（ＳｉＯ2）であればよい。この石英の部分にカーボンナノチューブが成長する。
　カーボンナノチューブを育成する基材として、工業的によく利用され、高温耐熱性のあるアルミナ、サファイアなど酸化ケイ素以外に種々試みたが、カーボンナノチューブ成長核となる鉄炭化物も適切に形成されず、良好な結果を得られなかった。
　酸化ケイ素は、いわゆる石英として知られるＳｉＯ2のほかＳｉＯがあり、また、スパッタリングなどによって形成した酸化ケイ素層は酸素ケイ素比がこれらから変化（１．９など）しており、一定しないが、これらを含め、ＳｉＯｘ（ｘ＜２）であればよい。
　ステップ１０２では、制御部２０は、排気部２４に対して反応容器管内を真空排気するように指示する。これにより、排気部２４は、例えば反応容器管１４内の圧力が１０－2Ｔｏｒrｉ以下となるように反応容器管１４内を排気する。
　ステップ１０４では、制御部２０は、電気炉１２内が所定温度に昇温するように、熱電対１８により検出された温度に基づいてヒータ１６を制御する。なお、所定温度は、少なくとも触媒２６が昇華すると共に反応容器管１４内に流入されるガスと気相反応する温度の下限値以上の温度に設定され、例えば７００～９００℃の範囲の温度に設定される。
　ステップ１０６では、制御部２０は、ガス供給部２２に対して反応容器管１４内にアセチレンガス３０を供給するように指示すると共に、アセチレンガス３０が所定圧力となるように圧力調整バルブ２３を調整する。これにより、所定圧力及び所定流量のアセチレンガス３０が反応容器管１４内に流入される。なお、所定圧力および所定流量は、カーボンナノチューブが成長可能な圧力及び流量に設定される。所定圧力は、例えば、０．１～５０Ｔｏｒｒの範囲内の圧力に設定され、所定流量は反応容器管１４の内径に応じて、例えば、２０～５００ｓｃｃｍの範囲内の流量に設定される。
　このように、反応容器管１４内の触媒が昇華した状態で所定圧力及び所定流量のアセチレンガス３０が反応容器管１４内に流入すると、触媒２６とアセチレンガス３０とが気相反応し、石英皿基板２８上にカーボンナノチューブが垂直配向して成長する。なお、成長時間は、条件によるが、例えば、５～６０分である。従って、ガスの供給時間は、少なくともガスの供給開始からカーボンナノチューブの成長が停止するまでの供給時間以上に設定される。
　次に、カーボンナノチューブの成長過程について説明する。
　上記のように、触媒２６及び石英皿基板２８がセットされた反応容器管１４内が真空排気され、触媒が昇華する温度に反応容器管１４内及び小型容器基板１５内が昇温された状態でアセチレンガス３０が小型容器基板１５内に流入すると、昇華した触媒２６とアセチレンガス３０とが気相反応する。
　本発明者らは、カ－ボンナノチューブの成長過程について考察するため、小型容器基板１５にアセチレンガス３０を流入させて触媒２６と気相反応させた時に反応に伴って発生するガスとこれらの分圧について測定した。その結果を図３に示す。
　同図に示すように、アセチレンガス（Ｃ2Ｈ2）を流入させると短時間で塩化水素（ＨＣｌ）が急激に生成される。また、アセチレンの流入開始から５分位までの間に水素（Ｈ2）が増加し、その後徐々に減っていく。このＨＣｌとＨ2のガスがカーボンナノチューブの成長に関係すると考えられる。
　本実施の形態では、触媒２６は塩化第一鉄であるので、塩化水素の生成は以下の化学反応式により表わされる。
　ＦｅＣｌ2　＋　Ｃ2Ｈ2　　→　　ＦｅＣ2　＋　２ＨＣｌ　　　　・・・・・・・・（１）
　このように、塩化第一鉄とアセチレンとが気相反応することにより、ＦｅＣ2（以下、鉄炭化物と呼ぶ。）と塩化水素が生成される。この鉄炭化物の粉体は、互いに衝突を繰り返し、石英皿基板２８上に堆積する。そして、この鉄炭化物から鉄を残してカーボンが析出し（ＦｅＣ2　→　Ｆｅ　＋　２Ｃ）、グラフェン層が形成される。これがカーボンナノチューブの成長の始まりであると考えられる。
　そして、残った鉄と塩化水素による脱水素反応により水素が生成される。これは以下の化学反応式により表わされる。
　Ｆｅ　＋　２ＨＣｌ　　→　　ＦｅＣｌ2　＋　Ｈ2　　　　　　　・・・・・・・（２）
　以上のような化学反応が繰り返されることにより、カーボンナノチューブが成長する。すなわち、塩化鉄とアセチレンとの化学反応により鉄炭化物と塩化水素が生成され、生成された鉄炭化物からカーボンが析出して鉄が残り、残った鉄と塩化水素との化学反応により塩化鉄と水素が生成され、再び塩化鉄とアセチレンとが化学反応して鉄炭化物と塩化水素が生成される。これが繰り返されることでカーボンナノチューブが成長する。
　なお、塩化鉄は水素化合物に対する脱水素作用が大変顕著であるため、（１）式に示されるアセチレン分解が速やかに行われる。これにより、カーボンナノチューブ成長核に速やかに炭素が供給されるため、カーボンナノチューブ生成も速やかに行われる。
　図で基板上に置かれた触媒２６はすべて昇華して、基板上から消失し、基板上のカーボンナノチューブ形成の障害とはならない。
　こうした事実や考察を踏まえて鋭意研究した結果、発明者らは本発明を完成した。
　なお、アセチレンガス３０を小型容器基板１５内に供給する際、最初からアセチレンガス３０の圧力が大きすぎると、塩化鉄とアセチレンとの化学反応により生成される鉄炭化物の粉体の粒径が大きくなりすぎてしまい、カーボンナノチューブが垂直配向しない場合があるため、アセチレンガス３０の供給開始時はその圧力を比較的低め(例えば、０．６Ｔｏｒr程度)としておいて、鉄炭化物の粉体がカーボンナノチューブが垂直配向するのに
適した密度で石英皿基板２８上に配置されるようにしておき、その後圧力を大きくする(例えば、１０Ｔorr程度)ようにしてもよい。これにより、適切にカーボンナノチューブを垂直配向させることができる。
　以上の説明は、図１のCVD装置の構造に沿ったものであるが本発明のカーボンナノチューブの製造法は、これらの装置の構造に制約されるものではない。
　本発明のCVD反応は、カーボンナノチューブの成長する基板表面に対して上記の気相化学反応が維持されればよいのであるから、これらの反応系に対して触媒的な働きを行う塩化鉄が昇華して反応温度にあり、これに対してアセチレンのような炭素源となる炭化水素ガスが供給されて上記の基板表面がこれらの反応条件下の雰囲気に保たれればよい。
　したがって、工業的な生産効率からは、カーボンナノチューブ成長基板となる酸化ケイ素表面を有する基板を配置し、所定の温度に維持された雰囲気に、これも昇華させて、あるいは担体ガスにより塩化鉄を供給し、さらにアセチレンなどの炭化水素ガスを供給して上記雰囲気温度をこれらの化学気相反応温度に保つことによって、効率的に本発明の垂直配向したカーボンナノチューブが製造可能である。
　このようにして製造したカーボンナノチューブは後述するように集合塊として収集して、カーボンナノチューブ長尺ファイバー又は長尺テープが容易に製造できる。
　このような製造においては、カーボンナノチューブを成長する基板として、シリンダー状で内壁面がカーボンナノチューブを成長させる酸化ケイ素層とした小型容器基板とし、内壁に成長させたカーボンナノチューブをピストンでしごいてカーボンナノチューブ集合塊を押し出すことが有効である。このシリンダーは、ストレートの円筒である必要はなく、弾力性のあるピストンが中を通過することができれば、図１６に示すような断面形状が多角形、楕円、星型（図１６－B）など、あらゆる形状であってもかまわない。かつ、長手方向に捩れていても（図１６－C）、断面積が一定でなくとも（図１６－A）かまわない。これらの小型容器基板（シリンダー）の材料は、全体を石英とする必要はなく、表面にカーボンナノチューブ成長に適した酸化ケイ素層があればどのような材料でも良い。
　工業的な適用例を挙げれば、同一の規模の装置で同一の時間をかけてカーボンナノチューブを製造できるのであれば、一回の操業でより多くのカーボンナノチューブが製造できるほうが好ましい。そのためには、図１７のように、小型容器基板を反応容器内に複数配置することが効果的である。図１７に示す小型容器基板内には各々内部に載置、または塗布して触媒が配されており、このようにして小型容器基板内壁面に成長させたカーボンナノチューブは、例えば図１８に示すように、ピストンで押し出して断続的にカーボンのチューブ長尺ファイバー製造装置に供給する。このようにして、カーボンナノチューブ長尺ファイバーを連続的に製造することが可能となる。
　　次に本発明の実施例を説明する。
　　本発明者らは、上記で説明したＣＶＤ装置１０を用いてカーボンナノチューブを石英皿基板２８上に成長させた。なお、石英皿基板のサイズは、１０(ｍｍ) ×　１０(ｍｍ)
×１(ｍｍ)、反応容器管１４の径は３６ｍｍである。
　　そして、電気炉１２内の温度を８２０℃、アセチレンガス３０の圧力を１０Ｔｏｒｒとし、アセチレンガス３０の流量を変化させて前述の方法により成長させたカーボンナノチューブの長さを測定した。その結果を図４に示す。同図に示すように、アセチレンガス３０の流量が２００ｓｃｃｍの時にカーボンナノチューブの長さが約２．１ｍｍと最も長かった。なお、カーボンナノチューブの長さが最も長くなるアセチレンガス３０の流量は反応容器管１４の径によって変化すると考えられるため、反応容器管１４の径に応じて最適な流量を設定することが好ましい。
　　また、電気炉１２内の温度を８２０℃、アセチレンガス３０の圧力を１０Ｔｏｒｒ、
アセチレンガス３０の流量を２００ｓｃｃｍとした時のカーボンナノチューブの成長時間と、その長さとの関係を測定した。その結果を図５に示す。同図に示すように、最初の３０分間は成長率が高く、その後は成長が止まっていくのが解る。なお、カーボンナノチューブの長さは、圧力が１０Ｔｏｒrの場合が２．１ｍｍであり、成長時間は２０分であった。
　　また、図７（Ａ）には、カーボンナノチューブを成長させる前の石英基板の一部を示し、同図（Ｂ）には、電気炉内の温度を８２０℃、アセチレンガスの圧力を１０Ｔｏｒr、アセチレンガスの流量を２００ｓｃｃｍとして、前述した方法によりカーボンナノチューブを成長させたものの一部を示す。同図（Ｂ）に示すように、石英皿基板の表面及び裏面、側面にカーボンナノチューブが垂直配向して成長しているのがわかる。また、図８には、石英皿基板２８上にカーボンナノチューブを成長させたものの全体を示す。さらに、図９（Ａ）には成長したカーボンナノチューブ概観を走査電子顕微鏡（ＳEM）により観察した図を示す。また、同図（Ｂ）にはＳＥＭにより拡大して観察した図を示す。ナノチューブの径は２０～５０ｎｍ程度である。なお、成長したカーボンナノチューブの長さは２．１ｍｍである。
　さらに、図１０には成長したカーボンナノチューブを透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察した図を示す。ナノチューブは、中空状の多層カーボンナノチューブであることがわかった。
　成長したカーボンナノチューブ層は、基板上に密集して形成されているため、図１１に示すように一端を引き出すと隣接するカーボンナノチューブ同士が連なって切れ目のない長い繊維状に紡糸され、カーボンナノチューブファイバーを作成することができる。
　カーボンナノチューブの連なったファイバーを紡糸することは、材料としての応用面で有用であることから、これまで種々試みられており、例えば特表2008－517182号公報、特許第3954967号公報、或いは特表２００８－５２３２５４号公報などに、収集したカーボンナノチューブから長尺のファイバーを紡糸する方法が提案されているが、これらは収集したカーボンナノチューブを溶媒中に懸濁するなどした状態から、カーボンナノチューブを整列させて紡糸するものであり、また、最近の研究論文では基板上に密集して成長したカーボンナノチューブをそれらの一端から引き出すとカーボンナノチューブが連なって引き出されることにより、紡糸できることが報告されている。
　しかしながら、この方法によっても基板上に形成されたカーボンナノチューブの一定範囲のみ紡糸されるなどその形態や量的な面で制約があり、得られるものは一定長さのファイバーに限られていた。
　本発明においては、基板や石英質表面に堆積したカーボンナノチューブを剥離、収集して作成したカーボンナノチューブの集合塊からも、図１２に示すように、同様にしてカーボンナノチューブファイバーを引き出して紡糸することができる。カーボンナノチューブファイバーを引き出す端緒は、図１１のようにピンセットでつまんでもよく、あるいは粘着手段により引き出しても良い。
　そこで、粘着テープなどを用いて幅を持たせて引き出すと、それに倣って図１３に示すようにカーボンナノチューブテープ,あるいはカーボンナノシートとして引き出すことができる。このように、本発明により得られたカーボンナノファイバーは、その密集した形態から紡糸する手法によって、長尺のファイバーから、テープあるいはシートの形態まで様々な形状とすることができる。
　これは、カーボンナノチューブが隣接するカーボンナノチューブ同士で連らなって紡糸されるとき、隣接するカーボンナノチューブ間でこれらの力が働くため、最初に引き出されるカーボンナノチューブを横方向に整列しておけば、その配列形状を鋳型として、横方向、すなわち幅方向にファイバーが連なった任意の幅のテープもしくはシートがこれらの紡糸の手法によって作成できることとなる。
　このようにして作成されたテープ、もしくはシートは、図１３の写真図に示すとおり、カーボンナノチューブから紡糸されたカーボンナノチューブファイバーが一様に幅方向に連なった形態で、その厚さも均一一様であって、鋳型としたカーボンナノチューブの形態を維持していた。
　本発明の製法によるカーボンナノチューブは、酸化ケイ素表面にのみ成長する性質を有することから、適宜の材料からなる基板表面にフォトリソグラフィ等により、酸化ケイ素層のパターンを形成し、その酸化ケイ素層表面にカーボンナノチューブを成長させることができる。この方法によって作成した基板を図１４に示す。
　図に示すように、基板上に垂直配向して形成されたカーボンナノチューブは、極めて高密度にかつ均一な長さ（高さ）に形成することができる。
　また、本発明によって製造したカーボンナノチューブは、成長面に垂直配向したという特性と合わせて極めて高密度に、かつ直線性の高い形状、構造として成長する。
　このため、本発明の垂直配向したカーボンナノチューブを形成した基板は、非常に低い光反射率を呈する。これらの特性を図１５（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に示すように波長２００ｎｍの紫外線領域から波長１．８μの赤外線領域まで反射率２％以下の特性を有する。
　　このように、本発明によれば、従来の方法よりも簡単な方法で垂直配向したカーボンナノチューブを成長させることができ、このようにして得られたカーボンナノチューブから直接ファイバー、テープ或いはシートを作成することが可能であり、また、カービンナノチューブを酸化ケイ素層によって選択的に形成可能である性質を利用してカーボンナノチューブの形成領域をパターニング可能であり、さらにこれらの垂直配向されたカーボンナノチューブによる低光反射特性を具えるものであり、前記した応用分野を含め、これらの特性を利用した新たな応用が期待される。

　
　

　

Claims (11)

  1. 　昇華した塩化鉄及び炭化水素からなる雰囲気中で、該塩化鉄の存在下で化学気相反応によって形成した鉄炭化物から解離したグラフェンにより酸化ケイ素面上にカーボンナノチューブを垂直配向して成長させる、
    　ことを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
  2. 　　前記酸化ケイ素は、SiOx（ｘ＜２）である、酸化ケイ素化合物であることを特徴とする請求項１記載のカーボンナノチューブの製造方法。
  3. 　前記酸化ケイ素面が、加熱炉中に配置された断面形状が円、もしくは多角形である管状の基板の内壁面であり、該内壁に該塩化鉄を具備させた状態から、カーボンナノチューブの製造を開始させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
  4. 　　前記炭化水素は、アセチレンであることを特徴とする請求項１または請求項２記載のカーボンナノチューブの製造方法。
  5. 　前記塩化鉄は、塩化第二鉄及び塩化第二鉄の少なくとも一方であることを特徴とする請求項１乃至３にいずれか１項に記載のカーボンナノチューブの製造方法。
  6. 　上記方法により形成されたカーボンナノチューブから形成されたカーボンナノチューブを集合塊とし、該集合塊よりカーボンナノチューブ一端を引き出して紡糸することを特徴とするカーボンナノチューブからなる長尺ファイバー又は長尺テープ又はシートを形成する製造方法。
  7. 　上記方法により形成されたカーボンナノチューブから形成されたカーボンナノチューブを集合塊とし、該集合塊よりカーボンナノチューブ一端を幅方向に揃えて引き出すことにより、該引き出し端を鋳型としてテープ又はシートを紡糸することを特徴とするカーボンナノチューブからなる長尺テープ又はシートの製造方法。
  8. 　昇華した塩化鉄及び炭化水素からなる雰囲気中で、該塩化鉄の存在下で化学気相反応によって形成した鉄炭化物によって解離したグラフェンにより酸化ケイ素を具えた基板上にカーボンナノチューブを垂直配向して成長させる、
    　ことを特徴とするカーボンナノチューブが垂直配向した基板の製造方法。
  9. 　上記酸化ケイ素は、基板上にパターニングされ、
    該基板上に垂直配向したカーボンナノチューブ形成領域がパターニングされていることを特徴とする、請求項６記載のカーボンナノチューブが垂直配向した基板の製造方法。
  10. 　真空及び反応雰囲気を維持する反応容器、及び、
    　該反応容器内の雰囲気温度を塩化鉄の昇華温度以上に維持する加熱手段、該反応容器内に塩化鉄を直接若しくは昇華供給する手段及び炭化水素を供給する手段を具え、
    　該反応容器内に酸化ケイ素を少なくとも表面に形成したカーボンナノチューブ生成基板を配置した、
    　構成からなることを特徴とするカーボンナノチューブ製造装置。
  11. 　上記請求項の構成からなる、
    　表面にカーボンナノチューブが垂直配向した基板の製造装置。
    　
    　
    　
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011207646A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Osaka Prefecture カーボンナノチューブ集合体、その製造方法及びカーボンナノチューブ撚糸
WO2012153816A1 (ja) 2011-05-10 2012-11-15 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造方法及び製造装置
WO2015030132A1 (ja) * 2013-08-28 2015-03-05 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造装置および当該製造装置の一部となる供給ユニットならびにカーボンナノチューブの製造方法
WO2015030145A1 (ja) * 2013-08-28 2015-03-05 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造装置および当該製造装置の一部となる供給ユニットならびにカーボンナノチューブの製造方法
JP2015155368A (ja) * 2015-02-25 2015-08-27 ニッタ株式会社 多層ｃｎｔ集合構造
JPWO2015083701A1 (ja) * 2013-12-03 2017-03-16 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブ撚糸、カーボンナノチューブ撚糸の製造方法および紡績源

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8822843B2 (en) 2011-03-07 2014-09-02 Nokia Corporation Apparatus and associated methods
JP5892841B2 (ja) 2011-06-01 2016-03-23 東京応化工業株式会社 カーボンナノチューブの製造方法、及びカーボンナノチューブ生成触媒
US11247901B2 (en) * 2012-10-29 2022-02-15 Odysseus Technologies, Inc. Free atom nanotube growth
WO2014080707A1 (ja) 2012-11-22 2014-05-30 Jnc株式会社 カーボンナノチューブアレイの製造方法、紡績源部材、およびカーボンナノチューブを備える構造体
JP5768232B2 (ja) * 2013-07-31 2015-08-26 国立大学法人静岡大学 垂直配向したカーボンナノチューブの製造方法
US9637385B2 (en) * 2013-11-01 2017-05-02 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Carbon nanotubes and methods of forming same at low temperature
US9505624B2 (en) 2014-02-18 2016-11-29 Corning Incorporated Metal-free CVD coating of graphene on glass and other dielectric substrates
JP6278018B2 (ja) 2015-09-18 2018-02-14 コニカミノルタ株式会社 帯電装置及び画像形成装置
CN105543804B (zh) * 2015-12-23 2017-11-28 北京控制工程研究所 一种在钛合金遮光罩内部生长碳纳米管的均匀性控制方法
WO2018030044A1 (ja) * 2016-08-12 2018-02-15 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブアレイの製造方法
WO2020123651A1 (en) * 2018-12-12 2020-06-18 Carbon Technology, Inc. Systems and methods for generating aligned carbon nanotubes

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005102924A1 (ja) * 2004-04-19 2005-11-03 Japan Science And Technology Agency 炭素系微細構造物群、炭素系微細構造物の集合体、その利用およびその製造方法
JP2005350308A (ja) * 2004-06-11 2005-12-22 Teijin Ltd カーボンナノチューブおよびその製造方法
JP2007182352A (ja) * 2006-01-06 2007-07-19 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 配向カーボンナノチューブ・バルク集合体ならびにその製造方法および用途

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6682677B2 (en) 2000-11-03 2004-01-27 Honeywell International Inc. Spinning, processing, and applications of carbon nanotube filaments, ribbons, and yarns
DE60201176T2 (de) * 2001-02-26 2005-09-22 Nanolight International Ltd. Verfahren zur bildung einer kohlenstoffnanoröhren enthaltenden beschichtung auf einem substrat
US7282191B1 (en) * 2002-12-06 2007-10-16 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Carbon nanotube growth
JP2007523822A (ja) * 2004-01-15 2007-08-23 ナノコンプ テクノロジーズ インコーポレイテッド 伸長した長さのナノ構造の合成のためのシステム及び方法
US20100297441A1 (en) 2004-10-18 2010-11-25 The Regents Of The University Of California Preparation of fibers from a supported array of nanotubes
CN101437663B (zh) * 2004-11-09 2013-06-19 得克萨斯大学体系董事会 纳米纤维带和板以及加捻和无捻纳米纤维纱线的制造和应用
JP2006265006A (ja) 2005-03-22 2006-10-05 National Univ Corp Shizuoka Univ カーボンナノチューブの製造方法および装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005102924A1 (ja) * 2004-04-19 2005-11-03 Japan Science And Technology Agency 炭素系微細構造物群、炭素系微細構造物の集合体、その利用およびその製造方法
JP2005350308A (ja) * 2004-06-11 2005-12-22 Teijin Ltd カーボンナノチューブおよびその製造方法
JP2007182352A (ja) * 2006-01-06 2007-07-19 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 配向カーボンナノチューブ・バルク集合体ならびにその製造方法および用途

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
KAZUYUKI KAKIHATA ET AL.: "Netsu CVD Ho o Mochiita Choshaku Taso Carbon Nanotube no Sakusei", DAI 68 KAI EXTENDED ABSTRACTS; THE JAPAN SOCIETY OF APP, 4 September 2007 (2007-09-04), pages 532 *

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011207646A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Osaka Prefecture カーボンナノチューブ集合体、その製造方法及びカーボンナノチューブ撚糸
WO2012153816A1 (ja) 2011-05-10 2012-11-15 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造方法及び製造装置
US9428391B2 (en) 2011-05-10 2016-08-30 National University Corporation Shizuoka University Method and apparatus for producing carbon nanotubes
WO2015030132A1 (ja) * 2013-08-28 2015-03-05 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造装置および当該製造装置の一部となる供給ユニットならびにカーボンナノチューブの製造方法
WO2015030145A1 (ja) * 2013-08-28 2015-03-05 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造装置および当該製造装置の一部となる供給ユニットならびにカーボンナノチューブの製造方法
JP2015044715A (ja) * 2013-08-28 2015-03-12 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造装置および当該製造装置の一部となる供給ユニットならびにカーボンナノチューブの製造方法
CN105492383A (zh) * 2013-08-28 2016-04-13 国立大学法人静冈大学 碳纳米管的制造装置及成为该制造装置的一部分的供给单元以及碳纳米管的制造方法
CN105492384A (zh) * 2013-08-28 2016-04-13 国立大学法人静冈大学 碳纳米管的制造装置及成为该制造装置的一部分的供给单元以及碳纳米管的制造方法
JP5942069B2 (ja) * 2013-08-28 2016-06-29 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブの製造装置および当該製造装置の一部となる供給ユニットならびにカーボンナノチューブの製造方法
JPWO2015083701A1 (ja) * 2013-12-03 2017-03-16 国立大学法人静岡大学 カーボンナノチューブ撚糸、カーボンナノチューブ撚糸の製造方法および紡績源
JP2015155368A (ja) * 2015-02-25 2015-08-27 ニッタ株式会社 多層ｃｎｔ集合構造

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Publication number Publication date
JP2009196873A (ja) 2009-09-03
US8246927B2 (en) 2012-08-21
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US20110008240A1 (en) 2011-01-13

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