WO2009020150A1 - Appareil composite à faisceau ionique focalisé, et procédé de surveillance d'usinage et procédé d'usinage utilisant un appareil composite à faisceau ionique focalisé - Google Patents

Appareil composite à faisceau ionique focalisé, et procédé de surveillance d'usinage et procédé d'usinage utilisant un appareil composite à faisceau ionique focalisé Download PDF

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Abstract

L'invention concerne un appareil composite à faisceau ionique focalisé qui comprend un premier système d'émission de faisceau ionique (10) ayant une source d'ion métallique liquide pour générer des premiers ions ; et un second système d'émission de faisceau ionique (20) ayant une source d'ions à ionisation de champ gazeuse pour générer des seconds ions. Le diamètre de faisceau du second faisceau ionique (20A) émis par le second système d'émission de faisceau ionique (20) est inférieur au diamètre de faisceau du premier faisceau ionique (10A) émis par le premier système d'émission de faisceau ionique (10). Etant donné que le second système d'émission de faisceau ionique (20) ayant la source d'ions à ionisation de champ gazeuse peut réduire le diamètre de faisceau jusqu'à 1nm ou moins, une surveillance à haute résolution peut être effectuée.
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