WO2007083623A1 - ポリイミド樹脂組成物及び金属ポリイミド積層体 - Google Patents

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WO2007083623A1
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Koya Matsuura
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Asahi Kasei Kabushiki Kaisha
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    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide

Definitions

  • the present invention relates to a polyimide resin adhesive excellent in adhesive strength with a non-thermoplastic polyimide film, and a metal polyimide laminate for a flexible printed wiring board using the same.
  • the three-layer flexible substrate has a problem in heat resistance because it uses epoxy resin as an adhesive.
  • problems occur in processes that require high temperatures, such as the process of joining the electrodes on the substrate and the semiconductor chip using solder, ultrasonic waves, or the like.
  • epoxy resin is generally flammable, it has traditionally been given flame retardancy by including brominated flame retardants.
  • brominated flame retardants have been made to satisfy flame retardant properties such as UL-094 V-0 and VTM-0, etc., while meeting the requirements of non-norogen, which has become a problem in recent years. This method is being studied.
  • polyimide is generally flame retardant, and can satisfy the flame retardant standard without using a flame retardant as described above, and has high heat resistance.
  • a solution of a polyimide precursor (polyamic acid) is also produced by casting a composite polyimide film by a casting film forming method, and then a metal foil is laminated (Japanese Patent Laid-Open No. 11-300887).
  • thermoplastic polyimide for laminating a polyimide layer and a metal foil, or laminating a polyimide film and a metal foil (JP-A-62-253827, JP-A-6- No. 93238 and JP-A-6-218880).
  • the three-layer flexible substrate material has low heat resistance, a halogen compound for ensuring flame retardancy, There are no disadvantages such as containing phosphorus compounds.
  • the epoxy resin-polyimide is the interface. Adhesiveness is difficult to obtain compared to the three-layer flexible substrate. Therefore, if the copper foil formed on the thermoplastic polyimide is peeled off, peeling occurs at the polyimide-polyimide interface, and there is a problem that high copper foil peeling strength cannot be obtained!
  • An object of the present invention is to provide a polyimide resin adhesive having a high metal foil peel strength and capable of forming a laminate having both heat resistance and flame retardancy. Moreover, the objective of this invention is providing the metal polyimide laminated body using the said polyimide resin adhesive, and a printed wiring board using the same.
  • the polyimide resin adhesive of the present invention comprises (a) a solvent-soluble polyimide, and (b) at least one of an alkylated melamine resin and an alkyl urea resin.
  • a phosphorus-containing compound and a halogen-containing compound It is preferable not to contain.
  • the polyimide resin adhesive of the present invention does not contain epoxy resin.
  • the metal polyimide laminate of the present invention is a metal polyimide laminate in which a metal foil is laminated on at least one surface of a non-thermoplastic polyimide film via an adhesive polyimide resin layer, and the adhesive polyimide resin The layer is made of the above polyimide resin adhesive.
  • the metal polyimide laminate of the present invention it is preferable that at least one surface treatment of corona discharge treatment and plasma discharge treatment is performed on at least one surface of the non-thermoplastic polyimide film! /. ! /
  • the metal polyimide laminate of the present invention it is preferable that at least one surface of the non-thermoplastic polyimide film is puffed! /.
  • a printed wiring board of the present invention is characterized by using the above laminate.
  • the metal polyimide laminate and the printed wiring board obtained by using the polyimide resin adhesive of the present invention have excellent metal foil peel strength, and are excellent in heat resistance and flame retardancy.
  • the present invention relates to a polyimide resin adhesive containing a solvent-soluble polyimide and at least one of an alkylated melamine resin and an alkylated urea resin.
  • the metal polyimide laminate of the present invention uses a polyimide resin adhesive, and a metal foil is laminated on at least one surface of the non-thermoplastic polyimide film via a layer formed using the polyimide resin adhesive. This is a featured laminate.
  • non-thermoplastic polyimide resin is a polymer having an imide ring, and has no glass transition temperature or a glass transition temperature. Plasticity that does not cause a large decrease in elastic modulus due to heating above the glass transition temperature!
  • the non-thermoplastic polyimide film according to the present invention is any known polyimide precursor.
  • a polyamic acid can be applied.
  • the polyamic acid used in the present invention is usually
  • Polyimide is a force obtained by imidizing a precursor polyamic acid.
  • Either a thermal cure method or a chemical cure method is used for the imidity.
  • the thermal cure method is a method in which the imidization reaction proceeds by heating alone without using a dehydrating ring-closing agent or the like.
  • the chemical cure method uses a chemical transfer agent (dehydrating agent) typified by acid anhydrides such as acetic anhydride and tertiary amines such as isoquinoline, ⁇ -picoline, and pyridine in an organic solvent solution of polyamic acid.
  • a catalyst represented by the above A chemical cure method and a thermal cure method can be used in combination.
  • the reaction conditions for imidization are appropriately set depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, the thermal curing method and the selection of the cocoon or chemical curing method.
  • tetracarboxylic dianhydride component in the non-thermoplastic polyimide film according to the present invention conventionally known ones can be used. Specifically, 3, 4, 3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, 1,3 dihydro-1,3 dixo 5 isobenzofuran carboxylic acid mono 1,4 phenylene ester, 2, 3, 3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, oxydiphthalic acid, diphenylsulfonate tetracarboxylic acid, 2, 3, 6, 7 naphthalenetetracarboxylic acid, cyclobutanetetracarboxylic acid And acid dianhydrides such as cyclohexanetetracarboxylic acid.
  • diamine components in the non-thermoplastic polyimide film according to the present invention can also be used.
  • diamine components in the non-thermoplastic polyimide film according to the present invention can also be used.
  • heat resistance such as a linear expansion coefficient and a glass transition temperature
  • the acid dianhydride component and the diamine component are 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic acid.
  • Polyimides synthesized by combining these monomers exhibit excellent properties such as moderate elastic modulus, dimensional stability, and low water absorption, and are suitable for use in the laminate of the present invention.
  • a preferred solvent for synthesizing the polyamic acid is an amide solvent such as N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, etc. Can be mixed and used.
  • a lubricant such as an inorganic or organic filler, an organic phosphorus compound, or an anti-oxidation agent can be added by a known method.
  • the thickness of the non-thermoplastic polyimide film according to the present invention is preferably 2 ⁇ m or more and 125 m or less. It is more preferable that it is 5 m or more from the viewpoint of the rigidity of the laminated body and film handling, and it is more preferable that the point strength of the printed circuit board to be thin and easy to be folded is 75 m or less.
  • non-thermoplastic polyimide film a commercially available polyimide film can also be used.
  • Upilex (registered trademark) S
  • Upilex (registered trademark) SGA
  • Upilex (registered trademark) SN (manufactured by Ube Industries, Ltd., trade name)
  • Kapton (registered trademark) H
  • Kapton (registered trademark) H
  • the non-thermoplastic polyimide film according to the present invention may be treated by sand blasting, wet blasting, puffing, or other methods, or by corona discharge treatment, plasma discharge treatment, or UV ozone treatment. Can do.
  • the surface treatment of the non-thermoplastic polyimide film is performed by at least one selected from corona discharge treatment and plasma discharge treatment power. Although it is known that these treatments can physically rough the film surface or chemically form functional groups that can contribute to adhesion such as carboxyl groups, the polyimide resin adhesive of the present invention. In the combination of the non-thermoplastic polyimide film, the effect of the treatment is unexpectedly remarkable, and the adhesive force can be further improved.
  • the treatment is performed in the combination of the polyimide resin adhesive of the present invention and the non-thermoplastic polyimide film. The effect is unexpectedly significant, and the adhesion can be further improved.
  • a known method is used for the corona discharge treatment.
  • Known electrodes such as stainless steel electrodes, aluminum electrodes, quartz electrodes, roll electrodes, and wire electrodes can be applied to the electrodes.
  • a known treatment roll such as a silicon lining roll, an EPT lining roll, a hyperon rubber lining roll, a ceramic coating roll, or a silicon sleep roll is applied.
  • the atmospheric gas and treatment density of the corona discharge treatment there are no particular limitations on the atmospheric gas and treatment density of the corona discharge treatment.
  • any condition can be selected, but it is preferable to perform the electrical treatment at a discharge density force of 0 W'minZm 2 or more, which is the value obtained by dividing the discharge output by the production rate and the treatment width. More preferably, the discharge density is 80 W'minZm 2 or more.
  • Corona discharge treatment can be applied to only one side of the polyimide film, but it can also be applied to both sides! ,.
  • a known method such as glow discharge is adopted as the plasma discharge treatment method, and the gas type, gas pressure, and treatment density of the plasma discharge treatment are not particularly limited.
  • the plasma discharge treatment conditions can be arbitrarily selected, but in the case of plasma discharge treatment by glow discharge, a discharge output of 20 to 2000 W'minZm 2 and a pressure of 1 Torr or less are preferable.
  • Plasma release The atmosphere gas for the electrotreatment can also be arbitrarily selected, preferably tetrafluoromethane (CF 3), oxygen, nitrogen, argon, helium, carbon dioxide, hydrogen, or two of these.
  • Non-reactive gas or reactive gas such as the above mixed gas is employed.
  • Plasma discharge treatment can be applied to only one side of the polyimide film, but it can also be applied to both sides! ,.
  • a known apparatus can be applied to the puff polishing treatment, and the puff roll type, the puff pressure, and the puff hole rotation speed are not particularly limited.
  • the puff polishing treatment may be performed only on one side of the polyimide film or on both sides.
  • a sandblast treatment, a wet blast treatment or a puff polishing treatment may be performed before the corona discharge treatment or plasma discharge treatment.
  • the polyimide resin adhesive of the present invention comprises (a) a solvent-soluble polyimide, (b) at least one of an alkylated melamine resin and an alkyl resin resin. Each will be described below.
  • the solvent-soluble polyimide as component (a) is obtained by imidization and ring closure of polyamic acid obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride component and a diamine component.
  • “soluble” means that 1% by weight or more dissolves in a solvent usable as a coating material when dissolved in a temperature range from room temperature to 100 ° C.
  • tetracarboxylic dianhydride component known tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.
  • tetracarboxylic dianhydride include, for example, pyromellitic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4 'monobenzophenonetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenol ) Ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfur dianhydride, bis (4 (4-aminophenoxy) phenol) sulfone, bis (3,4-dicarboxyphenyl) Sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarbox
  • diamines include noraf-direnamine, metaphene direndiamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminobenzophenone, 3, 4'-diaminodiphenyl ether, 4, 4 'diaminodiphenyl sulfone, 3, 3'-diaminodiphenyl sulfone, 4, 4'-diamino diphenyl sulfoxide, 3, 3'dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl 2, 2 ' Methyl 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3,1 dichloro-1,4,4,1 diaminobiphenyl, 1,4 bis (4 aminophenoxy) 1,3 bis (4 aminophenoxy) benzene, 1,3 bis (3 aminophenoxy) benz
  • aromatic diamines include 1,3 bis (3 aminophenoxy) benzene and 3,4, -diaminodiphenyl ether. Any of the above aromatic diamines can be used alone or in admixture of two or more.
  • an aromatic diamine an aliphatic diamine having an acyclic structure (hereinafter simply referred to as an aliphatic diamine), or a diamine having an alicyclic structure (hereinafter simply referred to as an alicyclic diamine).
  • an aromatic diamine an aliphatic diamine having an acyclic structure
  • a diamine having an alicyclic structure hereinafter simply referred to as an alicyclic diamine
  • aliphatic diamines include ethylene glycol diamines such as bis (aminomethyl) ether, bis (2aminoethyl) ether, bis (3aminopropyl) ether, and bis [(2- Aminomethoxy) ethyl] ether, bis [2- (2-aminoethoxy) ethyl] ether, bis [2- (3aminoprotoxy) ethyl] ether, 1,2 bis (aminomethoxy) ethane, 1,2-bis (2-aminoethoxy) ethane, 1,2-bis [2- (aminomethoxy) ethoxy] ethane, 1,2-bis [2- (2-aminoethoxy] ethane, ethylene glycol bis (3-aminopropyl) Ether, diethylene glycol bis (3-aminopropy Ether), triethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, methylenediamines,
  • alicyclic diamines include, for example, isophorone diamine, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 1,8 diamino-p-menthane, 1,4-cyclohexanebis (methylamine), 1,3 cyclohexane.
  • solvent-soluble polyimide as the component (a), for example, all known and commonly used methods such as those described in JP-A-11-263839 and JP-A-2001-261824 can be applied.
  • Solvent-soluble polyimide synthesis solvents include y-petit latataton, y-valerolatatone, N-methyl 2-pyrrolidone, N, N dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, 1,3 dioxane, 1 , 4 Dioxane, cyclopentanone, cyclohexanone, diethylene glycol dimethyl ether, tetramethylurea and the like.
  • the imido catalyst known ones such as pyridine, imidazole and triazole can be used.
  • the terminal structure of the polyimide obtained by these known methods becomes an amine or acid anhydride structure depending on the molar charge ratio of total tetracarboxylic dianhydride and total diamine at the time of production.
  • the terminal structure When the terminal structure is ammine, the terminal structure may be capped with a carboxylic acid anhydride.
  • Examples of rubonic acid anhydrides include phthalic anhydride, 4-furphthalic anhydride, 4 Powers such as noxyphthalic anhydride, 4-phenylcarlophthalic anhydride, 4-phenylsulfophthalic anhydride, etc. are not limited thereto. These carboxylic anhydrides may be used alone or in admixture of two or more.
  • the glass transition temperature of the solvent-soluble polyimide, which is the component (a) of the present invention, measured by TMA is preferably 183 ° C or higher.
  • solder is generally used for connection with wiring. Since the melting point of eutectic solder is 183 ° C, it is preferable that the glass transition temperature of component (a) is higher than that in consideration of mounting using eutectic solder.
  • the glass transition temperature of solvent-soluble polyimide is more preferably 200 ° C or higher! /, .
  • the component (b) may be added using the reaction solution obtained by the synthesis reaction. You may add an organic solvent further as needed. In that case, the order of component (b) and organic solvent addition may be either.
  • the reaction solution obtained by the above synthesis reaction is poured into a poor solvent solution of the soluble polyimide such as alcohols to precipitate the soluble polyimide polymer, and then dried to obtain a powder. It may be dissolved in a solvent.
  • the organic solvent used when preparing the solvent-soluble polyimide resin adhesive solution as described above is a synthetic solvent as described above, a method of coating on a non-thermoplastic polyimide film, a drying speed according to the drying method, and From the viewpoint of wettability depending on the type of polyimide film used, other solvents may be appropriately selected and added.
  • the present invention is a polyimide resin obtained by adding (b) at least one of an alkylated melamine resin and an alkyl urea resin to (a) a solvent-soluble polyimide having excellent heat resistance as compared with an epoxy resin. It relates to a fat adhesive. Surprisingly, by adding component (b) to the solvent-soluble polyimide of component (a), the composition of the present invention does not require epoxy resin, a metal foil, and a non-thermoplastic polyimide film. Compared to the case where the component (b) is not added to the laminated structure, the adhesive strength can be remarkably improved.
  • the alkylated melamine resin and alkyl-urea resin are selected from melamine resin substituted with N-position chlorol group and Z or alkoxymethyl group, and urea resin.
  • alkylated melamine rosin include trimethylol melamine trimethyl ether, tetramethylol melamine trimethyl ether, pentamethylol melamine trimethyl ether, hexamethylol melamine trimethyl ether, tetramethylol melamine tetramethyl ether, Oxamethylol melamine tetramethyl ether, pentamethylol melamine tetramethyl ether, hexamethylol melamine tetramethyl ether, pentamethylol melamine pentamethyl ether, hexamethylol melamine pentamethyl ether, 2, 4, 6- (N, N —Meth such as bis (methoxymethyl) amino ⁇ — 1, 3, 5-triazine Examples thereof include alkoxymethyl melamine such as xymethyl melamine and ethoxymethyl melamine and butoxymethyl melamine corresponding to these.
  • the same melamine nucleus may have a different alkoxymethyl group such as a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, or a butoxymethyl group.
  • a polymer formed by a methylene bond, a dimethylene ether bond, or the like may be used.
  • the alkylated melamine greaves those having at least 3 or more, preferably 4 to 6, alkoxymethyl groups per melamine nucleus are used, and hexakismethoxymethylmelamine is particularly preferred. These may not necessarily be a single compound, but may be a mixture of two or more.
  • the alkylated melamine resin and alkyl urea resin can be used alone, in a mixture, or in a cocondensate. In particular, it is preferable to apply at least one of the alkylated melamine resin and the alkyl urea resin exemplified above. When the effect is obtained regardless of the front and back of the non-thermoplastic polyimide film, alkylated melamine resin is more preferable.
  • the polyimide resin adhesive of the present invention includes other heat-resistant resin, for example, polycarbonate, polyarylate, polyamide, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyether, as long as the object of the present invention is not impaired.
  • Ether ketone, polyphenylsulfur It is also possible to add an appropriate amount of amide, modified polyphenylene oxide, polyamideimide, polyetherimide, polyester, cyanate ester, and the like.
  • a dehydrating agent such as silica
  • a filler such as silica
  • a surface modifier such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent
  • the polyimide resin adhesive of the present invention can achieve flame retardancy without including a flame retardant such as a phosphorus-containing compound or a halogen-containing compound.
  • a flame retardant such as a phosphorus-containing compound or a halogen-containing compound.
  • does not contain means that it is not intentionally added, and does not mean that it is unavoidably contained as an impurity at 1% by weight or less. Phosphorus and halogen contents can be measured by methods such as fluorescent X-ray analysis.
  • the polyimide resin adhesive of the present invention can achieve excellent heat resistance without containing epoxy resin.
  • does not contain means that it is not added intentionally, and does not mean that it is inevitably contained as an impurity at about 1% by weight or less.
  • the metal foil used in the polyimide laminate of the present invention all known metal foils and alloy foils can be applied. Specifically, copper foil, aluminum foil, stainless steel foil or the like can be applied. As the copper foil, known electrolytic copper foil, rolled copper foil, and copper foil with carrier are preferable from the viewpoint of cost and availability.
  • the thickness of the copper foil is preferably 100 m or less. More preferably, it is 50 ⁇ m or less h.
  • the copper foil surface may be subjected to a surface treatment such as a mat treatment, a plating treatment, a chromate treatment, an aluminum alcoholate treatment, an aluminum chelate treatment, or a silane coupling agent treatment.
  • a surface treatment such as a mat treatment, a plating treatment, a chromate treatment, an aluminum alcoholate treatment, an aluminum chelate treatment, or a silane coupling agent treatment.
  • the metal polyimide laminate of the present invention has a metal layer on one or both outer layers, and the non-thermoplastic polyimide film and the metal layer are bonded via an adhesive layer using the polyimide resin adhesive of the present invention.
  • a multilayer structure A multilayer structure.
  • the above-mentioned solvent-soluble polyimide resin adhesive solution is applied on a non-thermoplastic polyimide film, and then a multilayer polyimide film in which the solvent is volatilized is applied.
  • the method of bonding metal foil is mention
  • the application of the polyimide resin adhesive solution on the non-thermoplastic polyimide film is not particularly limited, but includes a die coating method, a knife coating method, a gravure coating method, a comma coater, a triple reverse coater, a lip coater, etc. It can be carried out by a known and commonly used method. Then, a multilayer polyimide film is obtained by drying the solvent.
  • a multilayer polyimide film As a multilayer polyimide film, a double-sided adhesive polyimide film in which a layer formed using the polyimide resin adhesive of the present invention is formed on both sides of a non-thermoplastic polyimide film is used.
  • a metal polyimide laminate of double-sided metal is obtained.
  • both sides may be dried together, or After coating on one side, the surface may be dried to the extent that it becomes S-tack-free and then coated on the opposite side and then dried together, or coating and drying may be performed sequentially on each side.
  • the composition of the layers using the polyimide resin adhesive formed on both sides may be the same or different.
  • each film thickness may be the same or different.
  • the thickness of the layer formed using the polyimide resin adhesive is not particularly limited, but is preferably 0.5 to LO m. More preferably, the te is 0.5 to 5 ⁇ m.
  • a drying method when applying to one side of a non-thermoplastic polyimide film, a normal roll transport dryer can be used.
  • a floating dryer is suitable for application to both surfaces of a non-thermoplastic polyimide film.
  • Drying is performed until the amount of solvent remaining in the coating film is reduced to a predetermined amount.
  • drying is performed until the residual solvent amount is 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less based on the weight of the film after coating and drying. I do.
  • the amount of the residual solvent is preferably 1% by weight or less from the viewpoint of preventing foaming when laminating with the copper foil or when the printed wiring board made of the laminate is subjected to a solder heat resistance test.
  • the metal polyimide laminate of the present invention using the above-mentioned multilayer polyimide film is obtained by stacking metal foil on one side or both sides of the multilayer polyimide film, and by a method involving known heating and Z or pressurization. Obtained by laminating the multilayer polyimide film and metal foil it can.
  • a lamination method a known method such as batch processing by a single plate press, hot roll lamination or continuous processing by a double belt press (DBP) can be used.
  • the heating method in the laminating method is not particularly limited.
  • a heating means employing a conventionally known method capable of heating at a predetermined temperature such as a heat circulation method, a hot air heating method, an induction heating method, or the like is used. be able to.
  • the pressurization method in the above laminating method is not particularly limited.
  • a pressurization method adopting a conventionally known method that can apply a predetermined pressure such as a hydraulic method, a pneumatic method, a pressure method between gaps, etc. It is possible to use means.
  • a sheet of the polyimide resin adhesive of the present invention is prepared in advance, a non-thermoplastic polyimide film, a polyimide resin adhesive sheet, and a metal foil. And the like, and sequentially or simultaneously, may be mentioned by a known method involving heating and Z or pressurization, but is not limited to these methods.
  • the metal polyimide laminate of the present invention can be used for a printed wiring board.
  • the printed wiring board can be produced by a known method such as a subtractive method.
  • the printed wiring board of the present invention has excellent flame retardancy, excellent adhesion between the metal foil and the polyimide film, and high heat resistance. Therefore, the printed wiring board has a high temperature such as a soldering process or an IC package mounting process. Good process reliability.
  • the metal peel strength is high, it is excellent in fine wiring formability and enables high-density wiring formation.
  • the adhesion strength of the metal polyimide laminate was measured as follows.
  • a copper polyimide laminate produced using copper foil as a metal foil was cut out to a length of 150 mm and a width of 10 mm, and the width of 1 mm at the center of the width of 10 mm was masked with vinyl tape. This was immersed in a ferric chloride aqueous solution (manufactured by Tsurumi Soda Co., Ltd.), the copper foil layer was etched, and washed with water. Then, the vinyl tape was removed, and the obtained flexible substrate was dried with a hot air dryer at 105 ° C. Then, the copper foil having a width of 1 mm was peeled off from the polyimide layer, and the The stress was measured with an autograph manufactured by Shimadzu Corporation. The peeling angle was 90 degrees and the peeling speed was 50 mm / mm.
  • a solvent-soluble polyimide varnish was dried in an air-circulating drying furnace at 260 ° C for 30 minutes, and after 30 minutes, a film was formed to a thickness of about 10 m.
  • Nitrogen using TMA (Shimadzu: TMA-50) Measurement was performed under an air stream.
  • a 2 litter capacity three-necked separable flask was equipped with a stainless steel squid type stirrer, a nitrogen gas inlet tube and a reflux condenser with a ball condenser on the trap with a stopcock. The following reaction was performed.
  • BPDA 3,4,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride 29.4 g (100 mmol), APB 58.46 g (200 mmol), Ton 172g and toluene 40g were added and reacted at room temperature for 1 hour while passing nitrogen gas. Next, the reaction was carried out at 180 ° C. (bath temperature) for 3 hours while removing the azeotrope of toluene and water to obtain a solvent-soluble polyimide varnish 2.
  • BPDA 3,4,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride
  • a stainless steel Ikari-type stirrer and a nitrogen gas inlet tube were attached to a two-liter three-necked separable flask, and the following reaction was performed in a nitrogen gas stream.
  • APB 58.46 g (200 mmol) was dissolved in ⁇ -butyrolatatone 400 g, BPDA 58.8 g (200 mmol) was added with ice cooling, and the mixture was reacted at room temperature for 3 hours to obtain polyamic acid varnish 5.
  • Varnish 1 was diluted with N-methyl 2-pyrrolidone (hereinafter referred to as NMP) to a solid content of 10 wt%, and the compound represented by the following chemical formula (1) (2, 4, 6- ⁇ N, N bis (methoxy Methyl) amino ⁇ —1, 3, 5 Triazine: The following compound 1) was added to 6 parts by weight of the solid content in varnish 1 and dissolved. Then, apply the above solution to one side of polyimide film A (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd .: Kapton 80EN) kept at 80 ° C, leave it for 10 minutes, and then 120 ° C for 10 minutes in an air circulating drying oven.
  • NMP N-methyl 2-pyrrolidone
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and a copper foil laminate was prepared using Compound 1 in the same manner as Example 1. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 3 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and a copper foil laminate was prepared using Compound 1 in the same manner as in Example 1. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 4 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and a copper foil laminate was prepared using Compound 1 in the same manner as in Example 1. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10%, and 3 parts by weight of compound 1 was added to the solid content in varnish 2 and dissolved. Thereafter, a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 1, and the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and the compound represented by the following chemical formula (2) (tetramethoxymethyldaricoluril: compound 2) was solidified in varnish 2. 6 parts by weight per minute was dissolved. Thereafter, a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 1, and the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and a compound represented by the following chemical formula (3) (1,3-dimethoxymethyl-4,5-dimethoxyimidazolidine: hereinafter referred to as Compound 3) was added to varnish 2 6 parts by weight of the solid content was added and dissolved. Then, the copper foil laminated body was produced similarly to Example 1, and the adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and 6 parts by weight of the compound represented by the following chemical formula (4) (hereinafter referred to as Compound 4) was added to the solid content of varnish 2 and dissolved. Then, the copper foil laminated body was produced similarly to Example 1, and the adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10%, and 3 parts by weight of compound 1 was added to the solid content in varnish 2 and dissolved. Then, apply the above solution on one side of polyimide film B (Toray 'DuPont: Kapton 100EN) kept at 80 ° C, leave it for 10 minutes, and then leave it at 120 ° C for 10 minutes in an air circulation drying oven. C. for 10 minutes, 180.degree. C. for 10 minutes, 260.degree. C. for 30 minutes. Application The thickness of the dried polyimide resin layer was 5 m.
  • polyimide film B Toray 'DuPont: Kapton 100EN
  • a copper foil laminate was prepared in the same manner as in Example 9 except that varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10%, and 6 parts by weight of compound 1 was added to the solid content in varnish 2. Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10%, and 6 parts by weight of compound 1 was added to the solid content in varnish 2 and dissolved. Thereafter, a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 9 except that the plasma discharge-treated polyimide film B kept at 80 ° C. was used. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • a puffing treatment was performed on both sides of the polyimide film A using a single-sided belt conveyance type puffing machine (Ishii Notation Co., Ltd .: IDB-600).
  • a single-sided belt conveyance type puffing machine Ishii Notation Co., Ltd .: IDB-600.
  • polyurethane foam type # 800, outer diameter 150 mm (manufactured by Jabguchi Kogyo Co., Ltd .: JP Buffer Face UF, Buff Hardness S) was used.
  • the puffing treatment was carried out for each side at an oscillation of 470 times Z, a rotation speed of 2000 rpm, and a film conveyance speed of lmZmin.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10 wt%, and 6 parts by weight of Compound 1 was added to the solid content in the water source 2 and dissolved. Thereafter, the above solution was applied to one side of the polyimide film subjected to the above-described puff polishing treatment kept at 80 ° C., and left for 10 minutes, and then at 120 ° C. for 10 minutes, 150 ° C. for 10 minutes in an air circulation type drying furnace, 180 ° C for 10 minutes, 260 ° C for 30 minutes Let The thickness of the coated and dried polyimide resin layer was 2.5 m. Thereafter, using a vacuum press (Kitakawa Seiki Co., Ltd.), the copper foil a was laminated at 325 ° C. for 30 minutes under 50 kgfZcm 2 vacuum. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was prepared in the same manner as in Example 12 using # 1200 (manufactured by Jabguchi Kogyo Co., Ltd .: JP Buffer Face ULF, puff hardness S). Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was prepared in the same manner as in Example 12, using # 3000 (manufactured by Jabguchi Kogyo Co., Ltd .: JP Buffer Fest UMF, puff hardness S). Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 2 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10%, and 6 parts by weight of compound 1 was added to the solid content in varnish 2 and dissolved. Then, apply the above solution to one side of polyimide film A kept at 80 ° C, leave it for 10 minutes, and then use an air circulating drying oven at 120 ° C for 10 minutes, 150 ° C for 10 minutes, 180 ° C for 10 minutes, 260 It was dried at ° C for 30 minutes. Application The thickness of the dried polyimide resin layer was 2. Thereafter, using a vacuum press machine (manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd.), the copper foil a was laminated at 325 ° C. for 30 minutes under 50 kgfZcm 2 vacuum. Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was prepared in the same manner as in Example 15. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that Compound 1 was not added. Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 2 except that Compound 1 was not added. So Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 4 except that Compound 1 was not added. Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 9 except that Compound 1 was not added. Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • Varnish 5 was diluted with NMP to a solid content concentration of 10%, and 6 parts by weight of compound 1 was added to the solid content in varnish 5 and dissolved. Then, apply the above solution to one side of polyimide film A kept at 80 ° C, leave it for 10 minutes, and then 120 ° C for 10 minutes, 150 ° C for 10 minutes, 180 ° C for 10 minutes, 260 ° C in an air circulating drying oven C30 was dried. The thickness of the coated and dried greaves layer was 2. Thereafter, using a vacuum press machine (manufactured by Kitagawa Seiki Co., Ltd.), the copper foil a was laminated at 325 ° C. for 30 minutes under 50 kgfZcm 2 vacuum. Thereafter, the adhesive strength was measured. The results are shown in Table 1.
  • a copper foil laminate was produced in the same manner as in Example 15 except that Compound 1 was not added. Then, adhesive strength measurement was performed. The results are shown in Table 1.
  • Example 12 is for Puff Research l (800) Polyimide film A (* ⁇ Example 13 is buffed (# 1200) Polyimide film A is used (*?) Example 14 is buffed ( # 3000) Use polyimide film A (* ⁇ Example 11 uses polyimide film B with plasma treatment)
  • the laminates according to the comparative examples were inferior in adhesive strength.
  • Varnish 2 was diluted with NMP, 6 parts by weight of Compound 1 was added to the solid content of Varnish 2, and the solution was applied to one side of polyimide film A kept at 80 ° C using the dissolved solution. After leaving for 10 minutes, it was dried at 120 ° C. for 10 minutes in an air circulation type drying furnace. Thereafter, the solution was applied to the surface opposite to the surface to which the solution was applied, while keeping the film at 80 ° C., and left for 10 minutes. Then, it was dried at 120 ° C for 10 minutes, 150 ° C for 10 minutes, 180 ° C for 10 minutes, and 260 ° C for 30 minutes in an air circulation type drying furnace. The thickness of the coated and dried polyimide resin layer was 2.5 ⁇ m on each side.
  • the copper foil a and both sides of the film were laminated using a vacuum press (made by Kitagawa Seiki Co., Ltd.).
  • the lamination conditions were 325 ° C for 30 minutes and 50 kgf / cm 2 vacuum.
  • it is immersed in a ferric chloride aqueous solution (manufactured by Tsurumi Soda Co., Ltd.), the copper foil layer is etched, washed with water, dried in a hot air dryer at 105 ° C, and then the film is 125 mm x 13 mm. Cut into corners and tested for UL-94 flammability. The result was V-0, the most flame retardant.
  • the Tg of the polyimide adhesive obtained by adding 6 parts by weight of Compound 1 to solvent-soluble polyimide varnishes 2 to 4 was 262 ° C, 241 ° C, and 253 ° C, respectively.
  • the laminate according to the example had both heat resistance and flame retardancy.
  • the metal polyimide laminate and printed wiring board using the polyimide resin adhesive of the present invention have excellent metal foil peel strength, and are excellent in heat resistance and flame retardancy. Therefore, it is suitable for wiring substrates such as high-density wiring, highly reliable flexible printed wiring boards, and IC package substrates.

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Abstract

 本発明は、(a)溶剤可溶性ポリイミドと、(b)アルキル化メラミン樹脂およびアルキル化尿素樹脂の少なくとも1種と、を含有してなるポリイミド樹脂接着剤、並びにこれを用いて得られた金属ポリイミド積層体である。これにより、高い金属箔剥離強度を有し、耐熱性と難燃性を兼ね備えた積層体を形成できるポリイミド樹脂接着剤を提供することができる。また、本発明は、これを用いた金属ポリイミド積層体、および、それを用いてなるプリント配線板を提供する。

Description

明 細 書
ポリイミド樹脂組成物及び金属ポリイミド積層体
技術分野
[0001] 本発明は、非熱可塑性ポリイミドフィルムとの接着強度に優れたポリイミド榭脂接着 剤、及びそれを用いたフレキシブルプリント配線板用金属ポリイミド積層体に関する。 背景技術
[0002] 従来より、表面に回路を有するプリント配線板が、電子部品や半導体チップ等を実 装するために広く用いられている。近年の電子機器の小型化、高機能化に伴い、プリ ント配線板の薄膜化、回路の高密度化が強く望まれている。これまで、一般的には金 属箔と耐熱性フィルム (例えば、ポリイミドフィルム)とをエポキシ榭脂等の熱硬化性接 着剤を介して積層した銅張積層板が使われてきた。こうした目的で使用される銅張積 層板用材料は一般に三層フレキシブル基板と呼ばれる。
[0003] しかし、三層フレキシブル基板は、接着剤としてエポキシ榭脂を用いるため耐熱性 に問題がある。すなわち、はんだや超音波等を用いた、基板上の電極と半導体チッ プとの接合工程等の高温を要する工程で問題が生じたり、また、高温にさらされる環 境下では耐熱劣化による接着力低下の問題があった。さらには、エポキシ榭脂は一 般に燃焼性であるため、従来は臭素系難燃剤等を含めることによって難燃性を付与 していた。最近は、近年問題となっているノンノヽロゲンの要求を満たしつつ UL— 94 規格の V— 0や VTM— 0等といった難燃性を満足させるために、臭素系難燃剤の添 加に代わる種々の手法が検討されている。
[0004] こうした問題を解決する手段として、難燃性を改良するためにリンを含有したェポキ シ榭脂を用い、さらに耐熱性改良のためにポリシロキサンイミドを添加する方法 (特開 2003— 213241号公報)等が検討されている。し力し、上記のような課題はエポキシ 榭脂が本来持っている特性に由来するものであって、エポキシ榭脂の組成による改 良手法では自ずカも限界がある。さらに、リン系化合物を用いて難燃ィ匕する場合に、 耐湿性や耐熱性や安全性に影響が及ぶことが懸念され、ハロゲン系化合物のみなら ずリン系化合物を含まないことは電子機器用材料としては理想的である。 [0005] 一方、他の解決手段として、エポキシ榭脂等の低耐熱性で燃焼性の熱硬化性接着 剤等を使用することなぐポリイミド層に金属層を形成してなる種々の材料が市販され ており、それらは上記の三層フレキシブル基板に対して、二層フレキシブル基板と呼 ばれる。ポリイミドは一般的に難燃性であり、上記のような難燃剤を用いなくても難燃 性の基準を満たすことが可能である上、高耐熱性である。二層フレキシブル基板の 例として、ポリイミド前駆体 (ポリアミド酸)の溶液力も流延製膜法により複合ポリイミドフ イルムを製造し、その後、金属箔を積層する方法 (特開平 11— 300887号公報)や、 ポリイミド層と金属箔との積層、又はポリイミドフィルムと金属箔との積層に熱可塑性ポ リイミドを使用することによって、積層体を製造する方法 (特開昭 62— 53827号公報 、特開平 6— 93238号公報、特開平 6— 218880号公報)がある。
[0006] これら二層フレキシブル基板材料の場合はエポキシ榭脂接着剤を用いな 、ため、 三層フレキシブル基板材料が有する、耐熱性が低いことや、難燃性確保のためのハ ロゲン系化合物やリン系化合物を含むこと、等の短所がない。しかし、一方で、ポリイ ミドフィルムと金属箔との積層に熱可塑性ポリイミドを用いる方法では、熱可塑性ポリ イミドとポリイミドフィルムとの間はポリイミドーポリイミドの界面となるため、エポキシ榭 脂一ポリイミドが界面となる三層フレキシブル基板に比べて接着性が得難い。そのた め、熱可塑性ポリイミド上に形成した銅箔を引き剥がそうとするとポリイミド ポリイミド 界面で剥離が生じ、高!、銅箔剥離強度が得られな!/、と!、う問題がある。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明の目的は、高 ヽ金属箔剥離強度を有し、耐熱性と難燃性を兼ね備えた積層 体を形成できるポリイミド榭脂接着剤を提供することである。また、本発明の目的は、 前記ポリイミド榭脂接着剤を用いた金属ポリイミド積層体、および、それを用いてなる プリント配線板を提供することである。
[0008] 本発明のポリイミド榭脂接着剤は、(a)溶剤可溶性ポリイミドと、(b)アルキル化メラミ ン榭脂およびアルキルィ匕尿素樹脂の少なくとも 1種と、を含有してなることを特徴とす る。
[0009] 本発明のポリイミド榭脂接着剤においては、含リンィ匕合物および含ハロゲンィ匕合物 を含まないことが好ましい。
[0010] 本発明のポリイミド榭脂接着剤にお!、ては、エポキシ榭脂を含まな 、ことが好ま ヽ
[0011] 本発明の金属ポリイミド積層体は、非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくとも片面に 金属箔が接着用ポリイミド榭脂層を介して積層された金属ポリイミド積層体であって、 該接着用ポリイミド榭脂層が上記ポリイミド榭脂接着剤を用いてなることを特徴とする
[0012] 本発明の金属ポリイミド積層体においては、非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくと も片面に、コロナ放電処理およびプラズマ放電処理の少なくとも一種の表面処理が 施されて!/、ることが好まし!/、。
[0013] 本発明の金属ポリイミド積層体においては、非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくと も片面に、パフ研磨処理が施されて!/、ることが好ま 、。
[0014] 本発明のプリント配線板は、上記の積層体を用いることを特徴とする。
[0015] 本発明のポリイミド榭脂接着剤を用いて得られる金属ポリイミド積層体およびプリント 配線板は、優れた金属箔剥離強度を有し、耐熱性、難燃性にも優れている。
発明を実施するための最良の形態
[0016] 以下、本発明について具体的に説明する。
本発明は、溶剤可溶性ポリイミドと、アルキル化メラミン榭脂およびアルキル化尿素 榭脂の少なくとも 1種を含むポリイミド榭脂接着剤に関する。本発明の金属ポリイミド 積層体は、ポリイミド榭脂接着剤を用い、非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくとも片 面に金属箔が該ポリイミド榭脂接着剤を用いてなる層を介して積層されていることを 特徴とする積層体である。
[0017] (非熱可塑性ポリイミドフィルムに関して)
本発明において、非熱可塑性ポリイミド榭脂 (非熱可塑性ポリイミド榭脂)とは、イミド 環を有する高分子であり、ガラス転移温度を有しないか、ガラス転移温度を有する場 合であっても、ガラス転移温度以上の加熱によって弾性率の大きな低下がなぐ可塑 ィ匕しな!、 (溶融流動しな!ヽ)榭脂を指す。
[0018] 本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムは、公知のあらゆるポリイミドの前駆体 であるポリアミド酸を適用することができる。本発明に用いられるポリアミド酸は、通常
、テトラカルボン酸二無水物の少なくとも 1種とジァミンの少なくとも 1種とを、実質的等 モル量、有機溶媒中に溶解、反応させて得ることができる。
[0019] ポリイミドは前駆体であるポリアミド酸をイミド化して得られる力 イミドィ匕には、熱キュ ァ法およびケミカルキュア法のいずれかを用いる。熱キュア法は、脱水閉環剤等を作 用させずに、加熱だけでイミド化反応を進行させる方法である。また、ケミカルキュア 法は、ポリアミド酸有機溶媒溶液に、無水酢酸等の酸無水物に代表される化学的転 ィ匕剤 (脱水剤)と、イソキノリン、 β ピコリン、ピリジン等の第三級ァミン類等に代表さ れる触媒とを作用させる方法である。ケミカルキュア法と熱キュア法を併用することも 出来る。イミド化の反応条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ、熱キュア法およ び Ζまたはケミカルキュア法の選択等により適宜設定する。
[0020] 本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムにおけるテトラカルボン酸二無水物成 分としては、従来公知のものを使用することができる。具体的には、 3, 4, 3' , 4'—ビ フエニルテトラカルボン酸、 1, 3 ジヒドロー 1, 3 ジォキソ 5 イソべンゾフランカ ルボン酸一 1, 4 フエ二レンエステル、 2, 3, 3' , 4'—ビフエニルテトラカルボン酸、 ピロメリット酸、ベンゾフエノンテトラカルボン酸、ォキシジフタル酸、ジフエ-ルスルホ ンテトラカルボン酸、 2, 3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸、シクロブタンテトラカル ボン酸、シクロへキサンテトラカルボン酸等の酸二無水物等があげられる。線熱膨張 率やガラス転移温度等の耐熱性の観点から、 3, 4, 3' , 4'ービフエニルテトラカルボ ン酸ニ無水物、 1, 3 ジヒドロー 1, 3 ジォキソ 5 イソべンゾフランカルボン酸一 1, 4 フエ-レンエステル二無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフエノンテトラ力 ルボン酸二無水物、 2, 3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物を使用するこ とが好ましい。また、各々のテトラカルボン酸二無水物を単独で用いても、併用して用 いてもよい。
[0021] 本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムにおけるジァミン成分においても、従 来公知のものを使用することができる。例えば、パラフエ-レンジァミン、メタフエニレ ンジァミン、 4, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 3, 4'ージアミノジフエニルエーテ ノレ、 4, 4'—ジァミノべンズァユリド、 2, 2 ジメチノレ一 4, 4 ジアミノビ、フエ二ノレ、 1, 3 ビス(4 アミノフエノキシ)ベンゼン、 1, 3 ビス(3 アミノフエノキシ)ベンゼン、 2, 2 ビス(4 -ァミノフエノキシフエ-ル)プロパン、ビス(4— (4 アミノフエノキシ)フ ェ -ル)スルホン、ビス(4— (3—アミノフエノキシ)フエ-ル)スルホン等があげられる。 線膨張係数やガラス転移温度等の耐熱性の観点から、ノ ラフエ-レンジァミン、 4, 4 ,ージアミノジフエ-ルエーテルを使用することが好ましい。また、各々のジァミンを単 独で用いても、併用してもよい。
[0022] 本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムにおいて、特に好ましい酸二無水物 成分とジァミン成分の組み合わせは、 3, 3' , 4, 4'ービフエ-ルテトラカルボン酸二 無水物、ピロメリット酸二無水物、 1, 3 ジヒドロー 1, 3 ジォキソー 5 イソべンゾフ ランカルボン酸 1, 4 フエ-レンエステルから選ばれた酸二無水物と、 4, 4'ージ アミノジフエ-ルエーテルおよび Zまたはパラフエ-レンジァミンとの組み合わせであ る。これらのモノマーを組み合わせて合成したポリイミドは適度な弾性率、寸法安定 性、低吸水率等の優れた特性を発現し、本発明の積層体に用いるのに好適である。
[0023] ポリアミド酸を合成するための好ましい溶媒は、アミド系溶媒、例えば、 N, N ジメ チルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、 N—メチル—2—ピロリドン等であり、 これらを単独あるいは、混合して使用できる。
[0024] 本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムには、公知の方法で無機物あるいは 有機物のフィラー、有機リン化合物等の滑剤や酸ィ匕防止剤を添加することが出来る。
[0025] 本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムの厚みは、 2 μ m以上、 125 m以下 であることが好ましい。積層体の剛性、フィルム取扱の点から 5 m以上であることが より好ましぐまた、プリント配線板の薄膜化、折り曲げやすさの点力も 75 m以下で あることがより好ましい。
[0026] また、非熱可塑性ポリイミドフィルムとしては、市販のポリイミドフィルムも使用できる。
例えば、ユーピレックス(登録商標) S、ユーピレックス(登録商標) SGA、ユーピレック ス (登録商標) SN (宇部興産株式会社製、商品名);カプトン (登録商標) H、カプトン
(登録商標) V、カプトン (登録商標) EN (東レ 'デュポン株式会社製、商品名);ァピ力 ル (登録商標) AH、アビカル (登録商標) NPI、アビカル (登録商標) NPP、アビカル
(登録商標) HP (株式会社カネ力製、商品名)、アビカル (登録商標) FP (株式会社力 ネカ製、商品名)等があげられる。
[0027] (非熱可塑性ポリイミドフィルムの処理に関して)
本発明に関わる非熱可塑性ポリイミドフィルムは、サンドブラストやウエットブラストや パフ研磨などの手法で表面を処理したり、あるいは、コロナ放電処理やプラズマ放電 処理や UVオゾン処理などの手法で表面を処理することができる。
[0028] 本件発明においては、コロナ放電処理およびプラズマ放電処理力 選ばれる少な くとも一種により非熱可塑性ポリイミドフィルムの表面処理が施されて 、ることが好まし い。これらの処理によってフィルム表面を物理的に粗ィ匕したり、化学的にカルボキシ ル基等の接着に寄与し得る官能基を形成できることは知られているが、本発明のポリ イミド榭脂接着剤と非熱可塑性ポリイミドフィルムとの組み合わせにお 、ては、その処 理の効果は予想外に顕著であり、接着力をさらに向上させることが出来る。
[0029] また、本発明にお 、ては、パフ研磨処理によって非熱可塑性ポリイミドフィルム表面 を処理すると、本発明のポリイミド榭脂接着剤と非熱可塑性ポリイミドフィルムとの組み 合わせにおいて、その処理の効果は予想外に顕著であり、接着力をさらに向上させ ることが出来る。
[0030] コロナ放電処理は、公知の方法が採用される。電極にはステンレス電極、アルミ電 極、クォーツ電極、ロール電極、ワイヤー電極などの公知の電極が適用できる。また、 処理ロールはシリコンライニングロール、 EPTライニングロール、ハイパロンゴムライ二 ングロール、セラミックコーティングロール、シリコンスリープロールなどの公知の処理 ロールが適用される。コロナ放電処理の雰囲気ガス、処理密度は特に限定されない 。コロナ放電処理の条件に関しては、任意の条件が選択可能であるが、放電出力を 生産速度と処理幅で割った値である放電密度力 0W'minZm2以上で電気処理す ることが好ましぐより好ましくは放電密度が 80W'minZm2以上である。コロナ放電 処理はポリイミドフィルムの片面にのみ施してもょ 、が、両面に施してもよ!、。
[0031] プラズマ放電処理の方法は、グロ一放電等の公知の方法が採用され、プラズマ放 電処理のガス種類、ガス圧、処理密度は特に限定されない。また、プラズマ放電処理 の条件は任意に選択することが可能であるが、グロ一放電によるプラズマ放電処理 の場合、放電出力 20〜2000W'minZm2、圧力 lTorr以下が好ましい。プラズマ放 電処理の雰囲気ガスも任意に選択することが可能であり、好ましくはテトラフルオルメ タン (CF )、酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素、水素、またはこれらの 2種
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以上の混合気体等の非反応性ガスあるいは反応性ガスが採用される。プラズマ放電 処理はポリイミドフィルムの片面にのみ施してもょ 、が、両面に施してもよ!、。
[0032] パフ研磨処理は、公知の装置を適用することができ、パフロール種、パフ圧、パフ口 ール回転数は特に限定されない。パフ研磨処理はポリイミドフィルムの片面にのみ施 してもよく、両面に施してもよい。
[0033] コロナ放電処理やプラズマ放電処理の前に、サンドブラスト処理やウエットブラスト 処理やパフ研磨処理を行ってもょ ヽ。
[0034] (ポリイミド榭脂接着剤に関して)
本発明のポリイミド榭脂接着剤は、(a)溶剤可溶性ポリイミド、(b)アルキル化メラミン 榭脂およびアルキルィ匕尿素樹脂の少なくとも 1種、を含有してなる。以下、それぞれ について説明する。
[0035] (a)溶剤可溶性ポリイミド
(a)成分の溶剤可溶性ポリイミドは、テトラカルボン酸二無水物成分とジァミン成分 とを反応させて得られるポリアミド酸をイミド化閉環して得られるものである。本発明に おいて、「可溶性」とは、溶解した時に塗布材として使用可能な溶媒に室温から 100 °Cの温度範囲にお!、て 1重量%以上溶解することを!ヽぅ。
[0036] テトラカルボン酸二無水物成分としては、公知のテトラカルボン酸二無水物を 1種、 または 2種以上組み合わせて用いることができる。テトラカルボン酸二無水物の具体 例としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、 4, 4'ーォキシジフタル酸二無水物、 3 , 3' , 4, 4,ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 2, 3, 3' , 4,ービフエ-ルテトラ カルボン酸二無水物、 3, 3' , 4, 4'一べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、ビス (3, 4ージカルボキシフエ-ル)エーテル二無水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ- ル)スルフイド二無水物、ビス(4一(4一アミノフエノキシ)フエ-ル)スルフォン、ビス(3 , 4ージカルボキシフエ-ル)スルホン二無水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル) メタン二無水物、 2, 2 ビス(3, 4 ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物、 2, 2 ビス(3, 4 ジカルボキシフエニル) 1, 1, 1, 3, 3, 3 へキサフルォロプロパン 二無水物、 1, 3 ビス(3, 4 ジカルボキシフエノキシ)ベンゼン二無水物、 1, 4ービ ス(3, 4—ジカルボキシフエノキシ)ベンゼン二無水物、 4, 4 '—ビス(3, 4—ジカルボ キシフエノキシ)ビフエ-ルニ無水物、 2, 2 ビス [ (3, 4 ジカルボキシフエノキシ)フ ェ -ル]プロパン二無水物、 2, 3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 1, 4 , 5, 8 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 1, 3 ジヒドロー 1, 3 ジォキソ 5 —イソべンゾフランカルボン酸一 1, 4 フエ-レンエステル二無水物、ブタン一 1, 2 , 3, 4ーテトラカルボン酸二無水物、ペンタン 1, 2, 4, 5—テトラカルボン酸二無 水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン 1, 2, 3, 4ーテトラ力 ルボン酸二無水物、シクロへキサン 1, 2, 4, 5—テトラカルボン酸二無水物、シク 口へキサー1ーェン—2, 3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 3 ェチルシクロへキ サ— 1—ェン— 3— (1, 2) , 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 1—メチル—3 ェチ ルシクロへキサン— 3—(1, 2) , 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 1ーメチルー 3— ェチルシクロへキサー1ーェンー3—(1, 2) , 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 1 ェチルシクロへキサン— 1一(1, 2) , 3, 4ーテトラカルボン酸二無水物、 1 プロピル シクロへキサン 1一(2, 3) , 3, 4ーテトラカルボン酸二無水物、 1, 3 ジプロピル シクロへキサン一 1 (2, 3) , 3- (2, 3)—テトラカルボン酸二無水物、ジシクロへキ シルー 3, 4, 3' , 4,ーテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ [2. 2. 1]ヘプタン—2, 3 , 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ [2. 2. 2]オクタン 2, 3, 5, 6—テトラ カルボン酸二無水物、ビシクロ [2. 2. 2]オタトー 7 ェン 2, 3, 5, 6—テトラカル ボン酸二無水物、 5- (2, 5 ジォキソテトラヒドロー 3 フラ-ル)ー3—メチルー 3— シクロへキセン— 1, 2—ジカルボン酸二無水物等があげられる。これらの芳香族テト ラカルボン酸二無水物は、単独でも二種以上を一緒に用いることも可能である。 また、ジァミン成分としては、公知のジァミンを 1種、または 2種以上組み合わせて用 いることができる。ジァミン類の具体的な例としては、ノ ラフエ-レンジァミン、メタフエ 二レンジァミン、 4, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 4, 4'ージアミノジフエニルスル フイド、 4, 4'ージァミノべンゾフエノン、 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテル、 4, 4' ジアミノジフエニルスルフォン、 3, 3'—ジアミノジフエニルスルフォン、 4, 4'—ジァミノ ジフエニルスルフォキシド、 3, 3' ジメチルー 4, 4'ージアミノビフエニル、 2, 2'ージ メチルー 4, 4'ージアミノビフエニル、 3, 3'—ジメトキシ 4, 4'ージアミノビフエニル 、 3, 3,一ジクロロ一 4, 4,一ジアミノビフエ-ル、 1, 4 ビス(4 アミノフエノキシ)ベ ンゼン、 1, 3 ビス(4 アミノフエノキシ)ベンゼン、 1, 3 ビス(3 アミノフエノキシ) ベンゼン、ビス [4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル]スルフォン、ビス [4— (3—ァミノ フエノキシ)フエ-ル]スルフォン、 4, 4'—ビス(4—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 4, 4 ,一ビス(3—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、ビス [4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル]ェ 一テル、 1, 4 ビス(4 ァミノフエ-ル)ベンゼン、 9, 10 ビス(4 ァミノフエ-ル) アントラセン、 1, 1, 1, 3, 3, 3 へキサフルオロー 2, 2 ビス(4 ァミノフエ-ル)プ 口パン、 1, 1, 1, 3, 3, 3 へキサフルォロ一 2, 2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ) フエ-ル]プロパン、 1, 1, 1, 3, 3, 3 へキサフルオロー 2, 2 ビス(3 アミノー 4 メチルフエ-ル)プロパン、 1 , 4 ビス(3 ァミノプロピルジメチルシリル)ベンゼン 、 3, 5—ジァミノ安息香酸、 3, 3,一ジヒドロキシ一 4, 4,一ジアミノビフエ-ル、あるい はこれらの芳香族ジァミン類の芳香族環と直接結合した水素原子の一部がメチル基 、ェチル基、およびハロゲン基力もなる群力も選択される基で置換されたもの等をあ げることができる。
[0038] これらの中でより好ましい芳香族ジァミン類として、 1, 3 ビス(3 アミノフエノキシ) ベンゼン、 3, 4,ージアミノジフエ-ルエーテルがあげられる。上記の芳香族ジァミン 類は 、ずれも単独あるいは 2種以上を混合して用いることができる。
[0039] また、芳香族ジアミン觀こ加え,非環状構造を有する脂肪族ジァミン類 (以下、単に 脂肪族ジァミン類という。)、または脂環式構造を有するジァミン類 (以下、単に脂環 式ジァミン類という。)を、耐熱性や難燃性を損なわない範囲で用いることができる。
[0040] 脂肪族ジァミン類の具体例としては、エチレングリコールジァミン類である、ビス(ァ ミノメチル)エーテル、ビス(2 アミノエチル)エーテル、ビス(3 ァミノプロピル)エー テル、ビス [ (2—アミノメトキシ)ェチル]エーテル、ビス [2—(2—アミノエトキシ)ェチ ル]エーテル、ビス [2—(3 ァミノプロトキシ)ェチル]エーテル、 1, 2 ビス(アミノメ トキシ)エタン、 1, 2—ビス(2—アミノエトキシ)ェタン、 1, 2—ビス [2—(アミノメトキシ )エトキシ]ェタン、 1, 2—ビス [2— (2—アミノエトキシ)エトキシ]ェタン、エチレングリ コールビス(3—ァミノプロピル)エーテル、ジエチレングリコールビス(3—ァミノプロピ ル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3—ァミノプロピル)エーテル、メチレンジァ ミン類である、エチレンジァミン、 1, 3 ジァミノプロパン、 1, 4ージアミノブタン、 1, 5 ージァミノペンタン、 1, 6 ジァミノへキサン、 1, 7 ジァミノヘプタン、 1, 8 ジァミノ オクタン、 1, 9 ジアミノノナン、 1, 10 ジァミノデカン、 1, 11—ジアミノウンデカン、 1, 12—ジアミノドデカン等があげられる。これらの脂肪族ジァミン類は、 1種でも、あ るいは 2種以上を混合して用いてもょ 、。
脂環式ジァミン類の具体例としては、例えば、イソホロンジァミン、 4, 4'ージアミノジ シクロへキシルメタン、 1, 8 ジアミノー p—メンタン、 1, 4ーシクロへキサンビス(メチ ルァミン)、 1, 3 シクロへキサンビス(メチルァミン)、 2, 5 ジアミノメチルービシクロ [2, 2, 2]才クタン、 2, 5 ジアミノメチノレ一 7, 7 ジメチノレビシクロ [2, 2, 1]ヘプタ ン、 2, 5 ジアミノメチルー 7, 7 ジフルォロビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジァ ミノメチノレ一 7, 7, 8, 8—テトラフノレ才ロヒ、、シクロ [2, 2, 2]才クタン、 2, 5 ジアミノメ チルー 7, 7 ビス(へキサフルォロメチル)ビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジアミ ノメチル一 7—ォキサビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジァミノメチル 7 チアビ シクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジアミノメチルー 7—ォキソビシクロ [2, 2, 1]ヘプタ ン、 2, 5 ジァミノメチル 7 ァザビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジアミノメチ ルービシクロ [2, 2, 2]オクタン、 2, 6 ジァミノメチル 7, 7 ジメチルビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジアミノメチルー 7, 7 ジフルォロビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン 、 2, 6 ジア メチル—7, 7, 8, 8—テ卜ラフルォロビシクロ [2, 2, 2]オクタン、 2, 6 ージアミノメチルー 7, 7 ビス(へキサフルォロメチル)ビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2 , 6 ジアミノメチルー 7—ォキシビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジアミノメチルー 7 チオビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジァミノメチル 7—ォキソビシクロ [2, 2 , 1]ヘプタン、 2, 6 ジァミノメチル 7—イミノビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジ アミノービシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジアミノービシクロ [2, 2, 2]オクタン、 2, 5 ジァミノ一 7, 7 ジメチルビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジァミノ一 7, 7 ジ フルォロビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジァミノ一 7, 7, 8, 8—テトラフルォロビ シクロ [2, 2, 2]オクタン、 2, 5 ジアミノー 7, 7 ビス(へキサフルォロメチル)ビシク 口 [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジアミノー 7—ォキサビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ージアミノー 7 チアビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジアミノー 7—ォキソビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 5 ジアミノー 7 ァザビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジ アミノービシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジアミノービシクロ [2, 2, 2]オクタン、 2, 6 ジァミノ一 7, 7 ジメチルビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジァミノ一 7, 7 ジ フルォロビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジァミノ一 7, 7, 8, 8—テトラフルォロビ シクロ [2, 2, 2]オクタン、 2, 6 ジアミノー 7, 7 ビス(へキサフルォロメチル)ビシク 口 [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジアミノー 7—ォキシビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 —ジァミノ一 7 チオビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジァミノ一 7—ォキソビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 2, 6 ジアミノー 7 イミノビシクロ [2, 2, 1]ヘプタン、 1, 2 ジ アミノシクロへキサン、 1, 3 ジアミノシクロへキサン、 1, 4ージアミノシクロへキサン、 1, 2 ジ(2 アミノエチル)シクロへキサン、 1, 3 ジ(2 アミノエチル)シクロへキ サン、 1, 4 ジ(2 アミノエチル)シクロへキサン、ビス(4 アミノシクロへキシル)メタ ン、 3, 9 ビス(3 ァミノプロピル) 2, 4, 8, 10—テトラオキサスピロ [5, 5]ゥンデ カン、ビシクロ [2, 2, 1]ヘプタンビスメチルァミン等があげられる。これらの脂環式ジ アミン類は、 1種でも、あるいは 2種以上を混合して用いてもよい。
[0042] 前記のようなテトラカルボン酸二無水物成分とジァミン成分とを反応させて本発明の
(a)成分である溶剤可溶性ポリイミドを得る方法としては、例えば、特開平 11— 2638 39号公報ゃ特開 2001— 261824号公報に記載された方法等の公知慣用の方法が 全て適用できる。溶剤可溶性ポリイミドの合成溶媒としては、 y—プチ口ラタトン、 y —バレロラタトン、 N—メチル 2—ピロリドン、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N— ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホキシド、 1, 3 ジォキサン、 1, 4 ジォキサン、 シクロペンタノン、シクロへキサノン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラメ チル尿素等が挙げられる。イミドィ匕触媒としてはピリジン、イミダゾール、トリァゾール などの公知慣用のものを使用できる。
[0043] それら公知の方法で得られるポリイミドの末端構造は、製造時における全テトラカル ボン酸二無水物と全ジァミンのモル仕込み比によって、ァミンもしくは酸無水物構造 となる。末端構造がァミンの場合は、カルボン酸無水物にて末端封止してもよい。力 ルボン酸無水物の例としては、無水フタル酸、 4 フ -ルフタル酸無水物、 4 フエ ノキシフタル酸無水物、 4 フエ-ルカルポ-ルフタル酸無水物、 4 フエ-ルスルホ -ルフタル酸無水物等があげられる力 これに限るものではない。これらのカルボン 酸無水物を単独もしくは 2種以上を混合して用いてもょ ヽ。
[0044] また、末端構造が酸無水物の場合は、モノアミン類にて末端封止してもよ!ヽ。モノア ミン類の例としては、ァ-リン、トルイジン、ァミノフエノール、アミノビフエ-ル、ァミノべ ンゾフエノン、ナフチルァミン等があげられる。これらのモノアミンを単独もしくは 2種以 上を混合して用いてもょ ヽ。溶剤可溶性ポリイミドのポリイミドを構成する繰り返し単位 は、ブロック構造であってもよぐランダム構造であってもよい。
[0045] 本発明の(a)成分である溶剤可溶性ポリイミドの TMAで測定したガラス転移温度は 、 183°C以上であることが好ましい。銅張積層板を用いたプリント配線板では、配線と の接続にはんだが一般的に使用される。共晶はんだの融点は 183°Cであるので、共 晶はんだを用いた実装を考慮すると、(a)成分のガラス転移温度はそれ以上であるこ とが好ましい。また、近年、埋立地等に廃棄された電気 ·電子製品に用いられた鉛の 溶出が地下水や河川の汚染を引き起こすという問題があり、鉛を含まないはんだへ の転換が進められている。鉛フリーはんだは、共晶はんだより融点が高温であるので 、鉛フリーはんだを用いた際の耐熱性を考慮すると、溶剤可溶性ポリイミドのガラス転 移温度は 200°C以上がより好まし!/、。
[0046] こうした溶剤可溶性ポリイミドより本願溶剤可溶性ポリイミド榭脂接着剤溶液を調整 する方法としては、前記合成反応で得た反応溶液を用いて (b)成分を添加すればよ い。必要に応じてさらに有機溶媒を添加してもよい。その場合、(b)成分と有機溶媒 添加の順番はどちらでも良い。また、前記合成反応で得た反応溶液をアルコール類 など該可溶性ポリイミドの貧溶媒液中に注入して該可溶性ポリイミドポリマーを析出さ せた後、乾燥させて粉末とし、改めて (b)成分と有機溶媒に溶解させても良い。上記 のような溶剤可溶性ポリイミド榭脂接着剤溶液調整時に使用する有機溶媒は、前記 のような合成溶媒の他、非熱可塑性ポリイミドフィルム上への塗布の方法、乾燥方法 に応じた乾燥速度、および、用いるポリイミドフィルムの種類による濡れ性、などの観 点から、その他の溶媒を適宜選択して加えても良い。
[0047] (b)アルキル化メラミン榭脂、アルキル化尿素樹脂 本発明のポリイミド榭脂接着剤は、 (b)成分としてアルキル化メラミン榭脂およびァ ルキルイ匕尿素樹脂の少なくとも 1種を含む。
[0048] 従来、アルキル化メラミン榭脂を用いた熱硬化性接着剤を銅張積層板に検討した 技術が開示されている(特開 2003— 213241号公報)。この技術におけるアルキル ィ匕メラミン榭脂はエポキシ榭脂の硬化剤として用いられ、その目的のためにはェポキ シ榭脂が必須であったため、耐熱性に問題があった。
[0049] 本発明は、エポキシ榭脂と比較して耐熱性に優れた (a)溶剤可溶性ポリイミドに、 ( b)アルキル化メラミン榭脂およびアルキルィ匕尿素樹脂の少なくとも 1種を加えたポリイ ミド榭脂接着剤に関するものである。 (b)成分を (a)成分の溶剤可溶性ポリイミドに添 加することにより、驚くべきことに、エポキシ榭脂を必須としない本組成物力 金属箔と 非熱可塑性ポリイミドフィルムと 、う二つの材料の積層構造にお!、て、 (b)成分を加え ない場合に比べて接着強度を著しく改良することができる。
[0050] (b)アルキル化メラミン榭脂およびアルキルィ匕尿素樹脂は、 N位カ^チロール基お よび Zまたはアルコキシメチル基で置換されたメラミン榭脂、尿素樹脂から選ばれる。
[0051] 本発明に関わるアルキル化メラミン榭脂は、メチロールメラミンのメチロール基の一 部または全部がエーテルィ匕されているものである。これは、メラミンとホルムアルデヒド を塩基性下に反応させて得られるメチロールメラミンを、メチルアルコール、ェチルァ ノレコーノレ、プロピノレアノレコーノレ、ブチノレアノレコーノレ、アミノレアノレコーノレ、へキシノレアノレ コール等の脂肪族アルコールある 、はべンジルアルコール等の芳香族アルコールと 酸性下で反応させるか、あるいはメラミン、ホルムアルデヒドおよびアルコールを同時 に反応させる等の方法によって得られる。
[0052] このようなアルキル化メラミン榭脂の具体例としては、トリメチロールメラミントリメチル エーテル、テトラメチロールメラミントリメチルエーテル、ペンタメチロールメラミントリメ チルエーテル、へキサメチロールメラミントリメチルエーテル、テトラメチロールメラミン テトラメチルエーテル、へキサメチロールメラミンテトラメチルエーテル、ペンタメチロー ルメラミンテトラメチルエーテル、へキサメチロールメラミンテトラメチルエーテル、ペン タメチロールメラミンペンタメチルエーテル、へキサメチロールメラミンペンタメチルェ 一テル、 2, 4, 6- {N, N—ビス(メトキシメチル)アミノ}— 1, 3, 5—トリアジン等のメト キシメチルメラミンおよびこれらに対応するエトキシメチルメラミン、ブトキシメチルメラミ ン等のアルコキシメチルメラミンがあげられる。更には同一メラミン核にメトキシメチル 基、エトキシメチル基、ブトキシメチル基等の異種のアルコキシメチル基を有するもの であってもよい。また、メチレン結合、ジメチレンエーテル結合等によって多量体ィ匕し たものでもよい。アルキル化メラミン榭脂は通常、メラミン核当り、アルコキシメチル基 を少なくとも 3個以上、好ましくは 4個から 6個有するものが使用され、特に好ましいも のとしてへキサキスメトキシメチルメラミンが使用される。これらは必ずしも単一化合物 である必要はなぐ 2種以上の混合物でもあってもよい。
[0053] 本発明に関わるアルキルィ匕尿素樹脂は、例えば沸騰水溶液中で尿素をホルマリン と反応させて縮合物を得たのち、これをメチルアルコール、エチルアルコール、プロピ ルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール類でエーテル化させ、次いで反 応液を冷却して析出する榭脂を取り出すことにより調製することができる。このようにし て得られるアルキルィ匕尿素樹脂としては、例えばメトキシメチルイ匕尿素樹脂、エトキシ メチル化尿素樹脂、プロポキシメチルイ匕尿素樹脂、ブトキシメチルイ匕尿素樹脂などが ある。具体的には、テトラメトキシメチルダリコールゥリル、 1, 3—ジメトキシメチル— 4, 5—ジメトキシイミダゾリジン等が好ましく用いられる。これらは単独で用いてもよぐ 2 種以上を組み合わせて用いてもょ 、。
[0054] また、上記アルキル化メラミン榭脂、アルキルィ匕尿素樹脂は単独、または混合物あ るいは共縮合物で使用することができる。特に、上記に例示したアルキル化メラミン榭 脂、あるいはアルキルィ匕尿素樹脂の少なくとも 1種を適用することが好ましい。非熱可 塑性ポリイミドフィルムの表裏によらず効果が得られると ヽぅ点で、アルキル化メラミン 榭脂がより好ましい。
[0055] 上記 (b)成分の添加量は、(a)成分の溶剤可溶性ポリイミド 100重量部に対して、 好ましくは 0. 5〜20重量部であり、より好ましくは 0. 5〜: LO重量部である。接着強度 の観点から、 10重量部以下がより好ましい。
[0056] 本発明のポリイミド榭脂接着剤には、本発明の目的を損なわない範囲で他の耐熱 性榭脂、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアミド、ポリスルホン、ポリエー テルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフエニルスルフ イド、変性ポリフエ-レンォキシド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステル、 シァネートエステル等を適当量配合することも可能である。
[0057] また、物性を損なわない範囲において、添加剤として、脱水剤、シリカ等のフィラー 、およびシランカップリング剤やチタネートカップリング剤等の表面改質剤をさらに加 えてもよい。それらフイラ一類は、予め上記の表面改質剤で処理されていてもよい。
[0058] 本発明のポリイミド榭脂接着剤は、含リン化合物、含ハロゲンィ匕合物等の難燃剤を 含むことなぐ難燃化を達成できる。ここで「含まない」とは、意図して添加しないことを 意味しており、不純物として 1重量%程度以下で不可避的に含有されるものは意味し ない。リンおよびハロゲンの含有量は蛍光 X線分析等の方法によって測定することが 可能である。
[0059] また本発明のポリイミド榭脂接着剤は、エポキシ榭脂を含むことなぐ優れた耐熱性 を達成することができる。ここで「含まない」とは、意図して添加しないことを意味して おり、不純物として 1重量%程度以下で不可避的に含有されるものは意味しない。
[0060] (金属箔に関して)
本発明のポリイミド積層体に用いる金属箔としては、公知の金属箔、合金箔全てが 適用可能である。具体的には、銅箔、アルミ箔、ステンレス箔等が適用できる。銅箔と しては、公知の電解銅箔、圧延銅箔、キャリア付銅箔がコスト面、入手性の点から好 ましい。銅箔の厚みとしては、 100 m以下が好ましく利用できる。より好ましくは 50 μ m以" hである。
[0061] 銅箔表面には、マット処理、メツキ処理、クロメート処理、アルミニウムアルコラート処 理、アルミニウムキレート処理、シランカップリング剤処理等の表面処理を行ってもよ い。
[0062] (金属ポリイミド積層体に関して)
本発明の金属ポリイミド積層体は、片側ないし両側の外層に金属層があり、非熱可 塑性ポリイミドフィルムと金属層とが本発明のポリイミド榭脂接着剤を用いてなる接着 層を介して結合された多層構造体である。
[0063] その作製方法としては、例えば、前記の溶剤可溶性ポリイミド榭脂接着剤溶液を非 熱可塑性ポリイミドフィルム上に塗布後、溶剤を揮発させた多層ポリイミドフィルムに 金属箔を貼り合わせる方法があげられる。
[0064] ポリイミド榭脂接着剤溶液の非熱可塑性ポリイミドフィルム上への塗布は、特に限定 されないが、ダイコート法、ナイフコート法、グラビアコート法、コンマコーター、 3本リ バースコーター、リップコーター等、公知慣用の方法によって行うことができる。その 後、溶媒を乾燥することで多層ポリイミドフィルムが得られる。
[0065] 多層ポリイミドフィルムとして、非熱可塑性ポリイミドフィルムの両面に、本発明のポリ イミド榭脂接着剤を用いてなる層を形成した両面接着性ポリイミドフィルムを用いると
、両面金属の金属ポリイミド積層体が得られる。そのような両面接着性ポリイミドフィル ムを得るには、上記のような方法にて両面それぞれに本発明のポリイミド榭脂接着剤 溶液を塗布した後、両面をまとめて乾燥してもよぐあるいは、片面塗布後にその面 力 Sタックフリーとなる程度まで乾燥後さらに反対面を塗布してから両面合わせて乾燥 してもよく、あるいは、塗布と乾燥を片面ずつ逐次で行ってもよい。また、両面に形成 されるポリイミド榭脂接着剤を用いてなる層の組成は同じでも、異なって ヽてもよ 、。 また、それぞれの膜厚は同じでも異なっていてもよい。ポリイミド榭脂接着剤を用いて なる層の厚さは、特に制限はないが、 0. 5〜: LO mが好適である。より好ましくは、 0 . 5~5 μ mで teる。
[0066] 乾燥方法としては、非熱可塑性ポリイミドフィルムの片面に塗布する場合は、通常の ロール搬送のドライヤーが使用できる。また、非熱可塑性ポリイミドフィルムの両面に 塗布する場合はフローティングドライヤーが好適である。
[0067] 乾燥は塗布膜中に残存する溶媒量が所定量に減少するまで行う。用いる溶媒種に 応じて乾燥における温度および時間を適宜設定することにより、残存溶媒量が塗布 乾燥後膜の重量に対して 1重量%以下、より好ましくは 0. 5重量%以下になるまで乾 燥を行う。残存溶媒量は、銅箔と積層させる際、あるいは、該積層体からなるプリント 配線板をはんだ耐熱試験に供した場合に発泡を防ぐと 、う観点から、 1重量%以下 が好ましい。
[0068] 上記の多層ポリイミドフィルムを用いた本発明の金属ポリイミド積層体は、該多層ポ リイミドフィルムの片側または両側に金属箔を重ね、公知の加熱および Zまたは加圧 を伴った方法により、該多層ポリイミドフィルムと金属箔とを積層することで得ることが できる。積層方法は単板プレスによるバッチ処理、熱ロールラミネートあるいはダブル ベルトプレス (DBP)による連続処理等公知の方法を用いることができる。
[0069] 上記積層方法における加熱方式は特に限定されるものではなぐ例えば、熱循環 方式、熱風加熱方式、誘導加熱方式等、所定の温度で加熱し得る従来公知の方式 を採用した加熱手段を用いることができる。同様に、上記積層方法における加圧方 式も特に限定されるものではなぐ例えば、油圧方式、空気圧方式、ギャップ間圧力 方式等、所定の圧力を加えることができる従来公知の方式を採用した加圧手段を用 いることがでさる。
[0070] 本発明の金属ポリイミド積層体の他の作製方法としては、本発明のポリイミド榭脂接 着剤のシートを予め作製し、非熱可塑性ポリイミドフィルムとポリイミド榭脂接着剤シー ト、金属箔とをその順番で重ね、逐次に、あるいは同時に、公知の加熱および Zまた は加圧を伴った方法により貼り合わせる方法等をあげることができるが、これらの方法 に限定されない。
[0071] 本発明の金属ポリイミド積層体は、プリント配線板に用いることができる。プリント配 線板はサブトラクティブ法などの公知の方法で作製することができる。本発明のプリン ト配線板は、難燃性に優れ、また、金属箔とポリイミドフィルムとの接着性に優れ、耐 熱性が高いため、はんだを用いた接合工程や、 ICパッケージ実装工程等の高温プロ セスでの信頼性が良好である。また、金属剥離強度が高いため、微細配線形成性に 優れ、高密度配線形成が可能である。
[0072] 以下実施例により本発明を具体的に説明する力 本発明はこれらの例によって何ら 限定されるものではない。尚、以下の実施例において、金属ポリイミド積層体の接着 強度測定は、次のようにして行った。
[0073] [接着強度測定]
金属箔として銅箔を用いて作製した銅ポリイミド積層体を、長さ 150mm、幅 10mm に切出し、幅 10mmの中央部の幅 lmmをビニールテープにてマスキングした。これ を塩化第 2鉄水溶液 (鶴見曹達株式会社製)に浸漬し、銅箔層をエッチング処理し、 水洗を行った。その後、ビニールテープを除去し、得られたフレキシブル基板を 105 °Cにて熱風乾燥機にて乾燥させた後、幅 lmmの銅箔をポリイミド層から剥離し、その 応力を島津製作所製 オートグラフにて測定した。剥離角度を 90度、剥離速度を 50 mm/ mmとした。
[0074] [ガラス転移温度 (Tg)測定]
溶剤可溶性ポリイミドワニスを空気循環式の乾燥炉中で 260°Cで 30分後の乾燥後 膜厚が約 10 mとなるように成膜し、 TMA (島津製作所: TMA— 50)を用いて窒素 気流下にて測定した。
[0075] [合成例 1]
2リツター容量の三つ口セパラブルフラスコに、ステンレス製のイカリ型攪拌器、窒素 ガス導入管およびストップコックのついたトラップの上に玉付き冷却管をつけた還流 冷却器を取り付け、窒素ガス気流中で以下の反応を行った。
[0076] 1, 3 ビス一(3 アミノフエノキシ)ベンゼン(以下 APB) 58. 46g (200ミリモル)を y ブチロラタトン 400gに溶解させ、氷冷しながらベンゾフエノンテトラカルボン酸二 無水物 64. 4g (200ミリモル)を加え、室温で 2時間反応させた。次に γ ノ レ口ラタ トン 3. Og (30ミリモル)、ピリジン 4. lg (46ミリモル)、 γ—ブチ口ラタトン 344g、トルェ ン 100gを加えた。これに窒素ガスを通じながら 180°C (浴温)で、トルエンと水の共沸 物を除きながら 3時間反応させ、溶剤可溶性ポリイミドワニス 1を得た。
[0077] [合成例 2]
上記と同様の容器で、以下の反応を行った。ビシクロ(2, 2, 2)オタトー 7 ェンー2 , 3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物(以下 BTA) 44. 9g (200ミリモル)、 3, 5—ジ ァミノ安息香酸(以下 DABZ) 15. 2g (100ミリモル)、 γ バレロラタトン 3. 0g (30ミリ モル)、ピリジン 4. lg (46ミリモル)、 γ ブチロラタトン 172gとトルエン 60gを加えた 。これに窒素ガスを通じながら 180°C (浴温)で 1時間反応した。トルエンと水の共沸 物を除いた。この反応液中に、 3, 4, 3 ' , 4'ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物( 以下 BPDA) 29. 4g ( 100ミリモル)、 APB 58. 46g (200ミリモル)、 γ—ブチ口ラタ トン 172g、トルエン 40gをカ卩え、窒素ガスを通じながら室温で 1時間反応した。次いで 180°C (浴温)で 3時間、トルエンと水の共沸物を除きながら反応させ、溶剤可溶性ポ リイミドワニス 2を得た。
[0078] [合成例 3] 上記と同様の容器で、以下の反応を行った。 BTA 44. 9g (200ミリモル)、 3, 4' ージアミノジフエニノレエーテノレ 20. 0g (100ミジモノレ)、 γ ノ レ Pラタ卜ン 3. Og (30ミ リモル)、ピリジン 4. lg (46ミリモル)、 γ ブチロラタトン 172g、トルエン 60gを加え た。これに窒素ガスを通じながら 180°C (浴温)で 1時間反応した。トルエンと水の共 沸物を除 ヽた。この反応液中【こ、 BPDA 29. 4g (100ミリモノレ)、 APB 58. 46g (2 00ミリモル)、 y—ブチ口ラタトン 172g、トルエン 40gを加え、窒素ガスを通じながら室 温で 1時間反応した。次いで 180°C (浴温)で 3時間、トルエンと水の共沸物を除きな 力 反応させ、溶剤可溶性ポリイミドワニス 3を得た。
[0079] [合成例 4]
上記と同様の容器で、以下の反応を行った。 BTA 44. 9g (200ミリモル)、 DABZ 15. 28 (100ミリモル)、八? 58. 46g (200ミリモル)、 BPDA 29. 4g (100ミリモル )、 γ—ノル口ラタ卜ン 3. Og (30ミリモル)、ピリジン 4. lg (46ミリモル)、 γ ブチロラ タトン 344g、トルエン 100gを加えた。これに窒素ガスを通じながら 180°C (浴温)で、 トルエンと水の共沸物を除きながら 4時間反応させ、溶剤可溶性ポリイミドワニス 4を得 た。
[0080] [合成例 5]
2リツター容量の三つ口セパラブルフラスコに、ステンレス製のイカリ型攪拌器、窒素 ガス導入管を取り付け、窒素ガス気流中で以下の反応を行った。 APB 58. 46g (2 00ミリモル)を γ ブチロラタトン 400gに溶解させ、氷冷しながら BPDA 58. 8g (2 00ミリモル)を加え、室温で 3時間反応させ、ポリアミド酸ワニス 5を得た。
[0081] [実施例 1]
ワニス 1を N メチル 2—ピロリドン(以下 NMP)で固形分濃度 10 wt %になるよう 希釈し、下記の化学式(1)で表される化合物(2, 4, 6- {N, N ビス (メトキシメチル )アミノ}— 1, 3, 5 トリァジン:以下化合物 1)をワニス 1中の固形分に対し 6重量部 加え、溶解させた。その後、 80°Cに保温されたポリイミドフィルム A (東レ'デュポン株 式会社製:カプトン 80EN)に上記溶液を片面に塗布し、 10分放置後、空気循環式 の乾燥炉で 120°C10分、 150°C10分、 180°C10分、 260°C30分乾燥させた。塗布 '乾燥されたポリイミド榭脂層の厚みは 2. 5 mであった。その後、真空プレス機(北 J 11精機株式会社製)を用い、銅箔 a (日本電解株式会社: USLPSE 12 μ m厚)と 3 25°C30分 50kgfZcm2真空下にて積層させた。その後、接着強度測定を行った。 結果を表 1に示す。
[0082]
Figure imgf000021_0001
[実施例 2]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、化合物 1を用いて実施例 1と同様に銅箔積層体を作製した。その後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示 す。
[0083] [実施例 3]
ワニス 3を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、化合物 1を用いて実施例 1と同様に銅箔積層体を作製した。その後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示 す。
[0084] [実施例 4]
ワニス 4を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、化合物 1を用いて実施例 1と同様に銅箔積層体を作製した。その後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示 す。
[0085] [実施例 5]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10 %になるよう希釈し、化合物 1をワニス 2中の固 形分に対し 3重量部加え、溶解させた。その後、実施例 1と同様に銅箔積層体を作製 し、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0086] [実施例 6]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、下記の化学式(2)で表さ れる化合物 (テトラメトキシメチルダリコールゥリル:以下化合物 2)をワニス 2中の固形 分に対し 6重量部加え、溶解させた。その後、実施例 1と同様に銅箔積層体を作製し 、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0087] [化 2]
Figure imgf000022_0001
[0088] [実施例 7]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、下記の化学式(3)で表さ れる化合物(1, 3—ジメトキシメチルー 4, 5—ジメトキシイミダゾリジン:以下化合物 3) をワニス 2中の固形分に対し 6重量部加え、溶解させた。その後、実施例 1と同様に 銅箔積層体を作製し、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0089] [化 3]
Figure imgf000022_0002
[0090] [実施例 8]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、下記の化学式 (4)で表さ れる化合物(以下化合物 4)をワニス 2中の固形分に対し 6重量部加え、溶解させた。 その後、実施例 1と同様に銅箔積層体を作製し、接着強度測定を行った。結果を表 1 に示す。
[0091] [化 4]
Figure imgf000022_0003
[0092] [実施例 9]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10 %になるよう希釈し、化合物 1をワニス 2中の固 形分に対し 3重量部加え、溶解させた。その後、 80°Cに保温されたポリイミドフィルム B (東レ 'デュポン株式会社製:カプトン 100EN)に上記溶液を片面に塗布し、 10分 放置後、空気循環式の乾燥炉で 120°C10分、 150°C10分、 180°C10分、 260°C3 0分乾燥させた。塗布 '乾燥されたポリイミド榭脂層の厚みは 5 mであった。その後、 真空プレス機 (北川精機株式会社製)を用い、銅箔 b (古河サーキットフオイル株式会 社: F3— WS 18 m厚)と 305°C5分 50kgf/cm2 真空下にて積層させた。その 後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0093] [実施例 10]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10 %になるよう希釈し、化合物 1をワニス 2中の固 形分に対し 6重量部加えた以外は実施例 9と同様にして銅箔積層体を作製した。そ の後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0094] [実施例 11]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10 %になるよう希釈し、化合物 1をワニス 2中の固 形分に対し 6重量部加え、溶解させた。その後、 80°Cに保温されたプラズマ放電処 理済みポリイミドフィルム Bを使用した以外は実施例 9と同様にして銅箔積層体を作 製した。その後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0095] [実施例 12]
片面ベルト搬送タイプパフ研磨機 (株式会社 石井表記製: IDB— 600)を用い、ポ リイミドフィルム Aの両面に、パフ研磨処理を実施した。パフロールはポリウレタン発泡 タイプ、 # 800、外径 150mm (ジャブ口工業株式会社製: JPバフサ一フェス UF、バ フ硬度 S)を使用した。この時のパフ研磨処理条件は、オシレーシヨン 470回 Z分、バ フロール回転数 2000rpm、フィルム搬送速度 lmZminで、片面ずつパフ研磨処理 を実施した。ワニス 2を NMPで固形分濃度 10wt%になるよう希釈し、化合物 1をヮ- ス 2中の固形分に対し 6重量部加え、溶解させた。その後、上記溶液を、 80°Cに保温 された上記パフ研磨処理を施したポリイミドフィルム片面に塗布し、 10分放置後、空 気循環式の乾燥炉で 120°C10分、 150°C10分、 180°C10分、 260°C30分乾燥さ せた。塗布'乾燥されたポリイミド榭脂層の厚みは 2. 5 mであった。その後、真空プ レス機 (北川精機株式会社製)を用い、銅箔 aと 325°C30分 50kgfZcm2 真空下 にて積層させた。その後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0096] [実施例 13]
パフロールを # 1200 (ジャブ口工業株式会社製: JPバフサ一フェス ULF、パフ硬 度 S)を使用し、実施例 12と同様に銅箔積層体を作製した。その後、接着強度測定 を行った。結果を表 1に示す。
[0097] [実施例 14]
パフロールを # 3000 (ジャブ口工業株式会社製: JPバフサ一フェス UMF、パフ 硬度 S)を使用し、実施例 12と同様に銅箔積層体を作製した。その後、接着強度測 定を行った。結果を表 1に示す。
[0098] [実施例 15]
ワニス 2を NMPで固形分濃度 10 %になるよう希釈し、化合物 1をワニス 2中の固 形分に対し 6重量部加え、溶解させた。その後、 80°Cに保温されたポリイミドフィルム A上の片面に上記溶液を塗布し、 10分放置後、空気循環式の乾燥炉で 120°C10分 、 150°C10分、 180°C10分、 260°C30分乾燥させた。塗布 '乾燥されたポリイミド榭 脂層の厚みは 2. であった。その後、真空プレス機 (北川精機株式会社製)を用 い、銅箔 aと 325°C30分 50kgfZcm2 真空下にて積層させた。その後、接着強度 測定を行った。結果を表 1に示す。
[0099] [実施例 16]
ポリイミドフィルム Aに COプラズマ放電処理を施したフィルムを用いる以外は実施
2
例 15と同様に銅箔積層体を作製した。その後、接着強度測定を行った。結果を表 1 に示す。
[0100] [比較例 1]
化合物 1を添加しないこと以外は、実施例 1と同様にして銅箔積層体を作製した。そ の後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0101] [比較例 2]
化合物 1を添加しないこと以外は、実施例 2と同様にして銅箔積層体を作製した。そ の後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0102] [比較例 3]
化合物 1を添加しないこと以外は、実施例 4と同様にして銅箔積層体を作製した。そ の後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0103] [比較例 4]
化合物 1を添加しないこと以外は、実施例 9と同様にして銅箔積層体を作製した。そ の後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0104] [比較例 5]
ワニス 5を NMPで固形分濃度 10 %になるよう希釈し、化合物 1をワニス 5中の固 形分に対し 6重量部加え、溶解させた。その後、 80°Cに保温されたポリイミドフィルム Aに上記溶液を片面に塗布し、 10分放置後、空気循環式の乾燥炉で 120°C10分、 150°C10分、 180°C10分、 260°C30分乾燥させた。塗布'乾燥された榭脂層の厚 みは 2. であった。その後、真空プレス機 (北川精機株式会社製)を用い、銅箔 aと 325°C30分 50kgfZcm2 真空下にて積層させた。その後、接着強度測定を行 つた。結果を表 1に示す。
[0105] [比較例 6]
化合物 1を添加しないこと以外は、実施例 15と同様にして銅箔積層体を作製した。 その後、接着強度測定を行った。結果を表 1に示す。
[0106] [表 1]
¾¾^¾#¾¾§¾^¾00$ ¾¾|¾/〔?^^0107:〜。
Figure imgf000026_0001
※ l 例 12は、パフ研 l 処理 ( 800)ポ イミドフィルム A 用 (※^実施例 13は、バフ研磨処理 (#1200)ポリイミドフィルム A使用 (※?)実施例 14は、バフ研磨処理 (#3000)ポリイミドフィルム A使用 (※^実施例 11は、プラズマ処理済みポリイミドフィルム B使用
(※ )実施例 16は、 C02プラズマ処理ポリイミドフィルム A使用
mまたはそれ以上であり、十分な接着強度を有していた。一方、比較例に係る積層 体は ヽずれも接着強度に劣って 、た。
[0108] [実施例 17]
ワニス 2を NMPで希釈し、ワニス 2中の固形分に対し化合物 1を 6重量部加え、溶 解させた液を用い、 80°Cに保温されたポリイミドフィルム Aに上記溶液を片面に塗布 し、 10分放置後、空気循環式の乾燥炉で 120°C 10分乾燥させた。その後、上記溶 液を塗布した面と反対面に、フィルムを 80°Cに保温しながら、上記溶液を塗布し、 10 分放置した。その後、空気循環式の乾燥炉で 120°C 10分、 150°C 10分、 180°C 10 分、 260°C30分乾燥させた。塗布 ·乾燥されたポリイミド榭脂層の厚みは片面 2. 5 μ mずつであった。その後、真空プレス機 (北川精機株式会社製)を用い、銅箔 aとフィ ルム両面と積層させた。積層の条件は、 325°C30分 50kgf/cm2 真空下であつ た。その後、塩化第 2鉄水溶液 (鶴見曹達株式会社製)に浸潰し、銅箔層をエツチン グ処理し、水洗し、 105°Cにて熱風乾燥機にて乾燥させた後、フィルムを 125mm X 13mm角にカットし、 UL— 94規格の燃焼性試験を行った。結果は、最も難燃性であ る V— 0であった。
[0109] 溶剤可溶性ポリイミドワニス 2〜4に化合物 1を 6重量部加えて得たポリイミド接着剤 の Tgを測定したところ、それぞれ、 262°C、 241°C、 253°Cであった。このように、実 施例に係る積層体は、耐熱性と難燃性を兼ね備えたものであった。
産業上の利用可能性
[0110] 本発明のポリイミド榭脂接着剤を用いた金属ポリイミド積層体およびプリント配線板 は、優れた金属箔剥離強度を有し、耐熱性、難燃性にも優れている。そのため、高密 度配線や高信頼性のフレキシブルプリント配線板や ICパッケージ基板等の配線基材 に好適である。
[0111] この出願は、 2006年 1月 17曰出願の特願 2006— 9078号に基づくものである。こ の内容はすべてここに含まれる。

Claims

請求の範囲
[1] (a)溶剤可溶性ポリイミドと、 (b)アルキル化メラミン榭脂およびアルキルィ匕尿素樹脂 の少なくとも 1種と、を含有してなるポリイミド榭脂接着剤。
[2] 含リンィ匕合物および含ハロゲンィ匕合物を含まない請求項 1記載のポリイミド榭脂接 着剤。
[3] エポキシ榭脂を含まない請求項 1または請求項 2記載のポリイミド榭脂接着剤。
[4] 非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくとも片面に金属箔が接着用ポリイミド榭脂層 を介して積層された金属ポリイミド積層体であって、該接着用ポリイミド榭脂層が請求 項 1から請求項 3のいずれかに記載のポリイミド榭脂接着剤を用いてなる金属ポリイミ ド積層体。
[5] 非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくとも片面に、コロナ放電処理およびプラズマ 放電処理の少なくとも一種の表面処理が施されている請求項 4記載の金属ポリイミド 積層体。
[6] 非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくとも片面に、パフ研磨処理が施されている請 求項 4または請求項 5記載の金属ポリイミド積層体。
[7] 請求項 4力 請求項 6の 、ずれかに記載の金属ポリイミド積層体を備えたプリント配 板。
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