WO2006137212A1 - 光ファイバの処理方法 - Google Patents

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WO2006137212A1
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Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
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    • C03C25/60—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags by diffusing ions or metals into the surface
    • C03C25/607—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags by diffusing ions or metals into the surface in the gaseous phase

Definitions

  • the present invention relates to an optical fiber processing method. More specifically, the present invention relates to a processing method for improving the hydrogen resistance of an optical fiber used as an optical signal transmission medium.
  • a peak of absorption loss (hereinafter referred to as “WP”) due to the OH group in the optical fiber exists in a wavelength band of 1383 nm. For this reason, in optical communication using an optical fiber as a transmission medium, the wavelength band near 1400 nm is not used as a signal wavelength.
  • WP is very small! / And optical fiber is required! /.
  • WP is known to increase when an optical fiber is exposed to a hydrogen-containing atmosphere.
  • optical fibers often contain structural defects such as Si '( ⁇ ' center), Si- ⁇ ⁇ (non-bridging oxygen hole center, NBOHC), Si-OO- (peroxy radical).
  • NBOHC combines with diffusing hydrogen to form an OH group, which is thought to be the mechanism by which hydrogen increases WP.
  • the installed optical fiber will be used for a long time, there is a need for an optical fiber with high hydrogen resistance that can maintain a small WP even after being exposed to a hydrogen-containing atmosphere as well as the initial performance. .
  • Patent Document 1 Patent Document 2 and Patent Document 3 disclose a method for improving the hydrogen resistance property of an optical fiber by performing deuterium treatment exposed to a deuterium-containing atmosphere.
  • Non-Patent Document 1 describes that when an optical fiber is exposed to deuterium, absorption by deuterium molecules is observed as a peak centered at a wavelength of 1714 nm.
  • Non-Patent Document 2 reports that when an optical fiber is exposed to a hydrogen-containing atmosphere, the absorption peak near a wavelength of 63 Onm decreases. In other words, when measuring the loss of an optical fiber, an absorption peak may occur near the wavelength of 630 nm. This absorption peak around the wavelength of 630 nm is thought to be due to NBOHC. Patent Document 4 describes the relationship between absorption loss at a wavelength of 630 nm and WP. Based on this relationship, it may be possible to evaluate hydrogen resistance characteristics by measuring absorption loss at a wavelength of 630 nm.
  • Patent Document 4 does not mention a method for determining an absorption peak around 630 nm. Also, what is the behavior of the absorption peak around 630 nm when exposed to a deuterium-containing atmosphere? Considering that the Rayleigh scattering coefficient A can be different for each optical fiber in the following equation [Equation 1] indicating the loss a in the optical fiber, if the method for determining the absorption peak is not defined, the Rayleigh scattering coefficient A Depending on the difference, the size of the absorption peak around 630 nm may not be determined effectively. On the other hand, Patent Document 5 discloses that it is possible to confirm that NBOHC has disappeared as a result of the deuterium treatment by examining the change in loss in the wavelength band of 630 nm.
  • A is infrared absorption loss, a is other absorption loss due to impurities, etc.
  • Patent Document 1 Patent No. 1721913
  • Patent Document 2 British Patent Application Publication No. 2149392
  • Patent Document 3 European Patent Application Publication No. 1182176
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 9-132430
  • Patent Document 5 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-317750
  • Non-Patent Document 1 IEE PROCEEDINGS, Vol. 132, Pt. J, No. 3, JUNE 1
  • Non-Patent Document 2 OFC 1999, PD22-1
  • optical fibers have applications that require high hydrogen resistance. It is desirable to evaluate the hydrogen resistance of optical fibers used for such applications during the manufacturing process.
  • the hydrogen resistance evaluation test specified in IEC 60793-2 requires a long time for the test work and the optical fiber used as the measurement sample must be discarded.
  • the effect of deuterium treatment can be confirmed by the method described in Patent Document 5.
  • the loss at a wavelength of 630 nm of the optical fiber is very large at about 7 dBZkm without any defects in the optical fiber.
  • optical fibers as industrial products often have an optical fiber of 25 km or more wound on one spool. Therefore, since the loss at a wavelength of 630 nm cannot be measured for the entire spool, the effect of deuterium treatment cannot be confirmed unless a portion is cut out as a measurement sample. As a result, there still remains a problem that a part of the product must be discarded as a measurement sample.
  • a start procedure for starting the process of exposing an optical fiber to an atmosphere containing deuterium, and a loss value of the optical fiber with respect to propagating light having a wavelength of 1714 nm or the vicinity thereof And a termination procedure for terminating the exposure when the amount of change in the loss value exceeds a predetermined value.
  • deuterium treatment can be carried out while confirming the effect, so that the effect can be surely achieved, and at the same time, excessive processing time can be avoided.
  • no evaluation test is performed after deuterium treatment, the time required to ship optical fiber products can be shortened. Furthermore, since it is not necessary to cut out the sample for evaluation, the yield of the product is also improved.
  • a start procedure for starting a process of exposing an optical fiber to an atmosphere containing deuterium, and 1714 nm from one end of the optical fiber exposed to deuterium or its A measuring procedure for measuring the loss value by monitoring the propagating light emitted from the other end of the optical fiber with incident propagating light having a nearby wavelength, and exposure when the amount of change in the loss value exceeds a predetermined value.
  • An optical fiber processing method is provided that includes a termination procedure for termination. This makes it possible to monitor loss changes in optical fibers with simple equipment while performing deuterium treatment. In addition, it is possible to monitor changes in loss for the entire optical fiber, rather than cutting out a part of the optical fiber as a test sample.
  • the wavelength of the target for monitoring the loss value is in the range of 1709 nm or more and 1719 nm or less. This reliably detects deuterium diffusion and NBOHC disappearance. In addition, the entire target optical fiber can be monitored.
  • the predetermined value is a value increased by 0. OldB / km or more with respect to the loss value at the start procedure.
  • the loss value increase is selected to be lower than 0. OldBZkm, a significant improvement in the hydrogen resistance characteristics with less deuterium treatment effect can be obtained. I can't.
  • the predetermined range is a value increased by 0.03 dBZkm or more with respect to the loss value at the start procedure.
  • the method according to the present invention facilitates deuterium diffusion and NB OHC extinction while performing deuterium treatment by a unique method of monitoring loss at a wavelength of 1714 nm in an optical fiber. And it can detect reliably.
  • deuterium treatment can be performed while confirming the effect, it is possible to achieve the effect with certainty and at the same time avoid excessive processing time.
  • no evaluation test is performed after the deuterium treatment, the time required to ship the optical fiber product can be shortened.
  • the entire optical fiber subject to deuterium treatment can be monitored. Therefore, it is not necessary to cut out a sample for evaluation, and the yield of the product is also improved.
  • FIG. 1 is a graph showing changes in loss spectrum due to deuterium treatment.
  • FIG. 2 is a graph showing an enlarged band from 1200 nm to 1700 nm in the graph shown in FIG.
  • FIG. 3 A graph showing the change in loss in an optical fiber exposed to a deuterium atmosphere in a hydrogen test.
  • FIG. 4 A graph showing the change in loss due to a hydrogen test of an optical fiber, exposed to a deuterium atmosphere.
  • An optical fiber with a small WP was manufactured, and 25 km of the optical fiber was scraped off to the spool as an evaluation sample.
  • a 2 km long preliminary evaluation sample was cut from the same optical fiber for the purpose of measuring the effect of deuterium treatment described later.
  • a 2 km long optical fiber was further cut and stored as a comparative sample.
  • the loss spectrum was measured for each of the evaluation sample and the preliminary evaluation sample.
  • a large absorption loss peak of 6 dBZkm was measured for the preliminary evaluation sample with a length of 2 km.
  • the loss at 630 ⁇ m was too large, and the loss per unit length was too strong to measure.
  • the loss at a wavelength of 1714 nm was measured to be 0.750 dBZkm for both the evaluation sample and the preliminary evaluation sample.
  • an evaluation sample having a length of 25 km and a preliminary evaluation sample having a length of 2 km were subjected to deuterium treatment at the same time in one facility.
  • the atmosphere of the optical fiber being processed contains 1% deuterium and 99% nitrogen at room temperature and atmospheric pressure.
  • the 25 km long evaluation sample was pulled out of the processing room at both ends and connected to the light source and light receiving part of the optical loss measuring instrument. Under these conditions, deuterium treatment was started while monitoring the change in the loss value at a wavelength of 1714 nm in the evaluation sample.
  • FIG. 1 is a graph showing the results of measuring a change in the loss spectrum of an optical fiber due to deuterium treatment performed as described above, on a preliminary evaluation sample having a length of 2 km.
  • FIG. 2 is a graph showing an enlarged band from 1200 nm to 1700 nm in the graph shown in FIG. As shown in the figure, when the deuterium treatment was completed, the loss value at 1714 nm increased by 0. OldBZkm. On the other hand, the loss value at a wavelength of 630 nm is significantly low. I'm down.
  • Figure 3 shows that for the preliminary evaluation sample and the comparative sample, as shown in the figure, the increase in WP in the preliminary evaluation sample is about 0.003 dBZkm, confirming that it has high hydrogen resistance.
  • FIG. 4 is a graph showing a loss spectrum before and after the evaluation test in the comparative sample. As shown in the figure, in the comparative sample, the loss near 1383 ⁇ m significantly increased after the evaluation test, confirming the improvement in hydrogen resistance by deuterium treatment.
  • the loss measurement at a wavelength of 1600 nm or more in an optical fiber is strongly influenced by physical stress such as bending applied to the optical fiber. Therefore, the optical fiber was fixed consistently so that the stress applied to the optical fiber did not change during the deuterium treatment and before and after the loss measurement. Therefore, each of the above measurements is not affected by changes in stress applied to the optical fiber.
  • An evaluation sample with a length of 25 km and a preliminary comparison sample with a length of 2 km were prepared.
  • Deuterium treatment was performed under the same conditions as in Example 1 except that the amount of change in loss at a wavelength of 1714 nm when deuterium treatment was terminated was set to 0.03 dBZkm.
  • the loss at 1714 nm monitored reached 0.780 dBZkm, and the change exceeded 0.03 dBZkm, so the deuterium treatment was terminated.
  • An optical fiber excellent in hydrogen resistance can be reliably manufactured in a short time. Therefore, the manufacturing cost can be reduced, and an optical fiber product having high hydrogen resistance can be manufactured industrially.

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Abstract

　重水素を含む雰囲気に光ファイバを曝露する処理を開始する開始手順と、１７１４ｎｍまたはその近傍の波長を有する伝播光に対する光ファイバの損失値を監視して、損失値の変化量が所定の範囲を越えた場合に暴露を終了させる終了手順とを含む。損失値の監視は、例えば、重水素を含む雰囲気に光ファイバを暴露しつつ、光ファイバの一端から１７１４ｎｍまたはその近傍の波長を有する伝播光を入射させ、光ファイバの他端から出射される伝播光を監視して損失値を測定することにより知ることができる。これにより、耐水素特性に優れた光ファイバを確実に低コストで製造できる。

Description

明 細 書
光ファイバの処理方法
技術分野
[0001] 本発明は光ファイバの処理方法に関する。より詳細には、光信号の伝送媒体として 使用される光ファイバの耐水素特性を向上させる処理の方法に関する。
[0002] なお、文献の参照による組み込みが認められる指定国については、下記特許出願 の明細書に記載された内容を参照により本出願に組み込み、本件明細書の記載の 一部とする。
特願 2005— 182468号 出願曰 2005年 6月 22曰
背景技術
[0003] 光ファイバにおいては、光ファイバ中の OH基に起因する吸収損失のピーク（以下、 「WP」と記載する）が波長 1383nmの帯域に存在する。このため、光ファイバを伝送 媒体とする光通信においては、 1400nm付近の波長帯域は信号波長として使用され ない。しかしながら、 CWDM等の通信技術、ラマン増幅等の技術が開発されるに及 んで、 WPが非常に小さ!/、光ファイバが求められて!/、る。
[0004] WPは、光ファイバが水素含有雰囲気に曝露された場合に増加することが知られて いる。即ち、光ファイバには、 Si' (Ε'センター）、 Si-Ο · (非架橋酸素ホールセンター 、 NBOHC) , Si-O-O- (パーォキシラジカル)などの構造欠陥が含まれることが多 い。このうちの NBOHCが拡散する水素と結合して OH基を形成することが、水素に よる WP増加のメカニズムと考えられる。敷設された光ファイバが長期にわたつて使用 されることを考えると、初期性能はもちろん、水素含有雰囲気に晒された後も WPが小 さい状態を維持できる耐水素特性の高い光ファイバが求められる。
[0005] 特許文献 1、特許文献 2および特許文献 3には、重水素含有雰囲気に暴露する重 水素処理を実施することにより光ファイバの耐水素特性を向上させる方法が開示され る。また、非特許文献 1には、光ファイバを重水素に晒すと、重水素分子による吸収 が波長 1714nmを中心とするピークとして観察されることが記載される。
[0006] ところで、光ファイバの耐水素特性は、国際規格である IEC 60793— 2に定めら れた試験方法で評価される。この試験方法では、まず、評価の対象となる光ファイバ を、波長 1240nmにおける損失が 0. 03dBZkm以上に上昇するまで、 1%の水素を 含む室温'常圧の雰囲気に暴露する。次いで、その光ファイバを大気中に 14日間放 置した後に WPを測定して、試験前の数値と比較する。
[0007] 上記の方法において、光ファイバの波長 1240nmにおける損失が 0. 03dB/km 以上に上昇までには 3日から 7日程度の時間を要する、従って、光ファイバの耐水素 特性を評価するためには 3週間程度かかる。従って、上記のような評価方法は、工業 的な光ファイバ生産の過程における製品の評価方法には適していない。また、この 方法では、評価対象の光ファイノから長さ lkm以上の測定試料を切り取らなければ ならず、切り取った評価試料は評価後に廃棄される。従って、製品の実質的な歩留り も低下させることになり、この点からも工業的な利用には適していない。
[0008] これに対して、非特許文献 2には、水素含有雰囲気に光ファイバを晒すと、波長 63 Onm付近の吸収ピークが低下することが報告されている。即ち、光ファイバの損失を 測定すると波長 630nm付近に吸収ピークが生じる場合がある。この波長 630nm付 近の吸収ピークは、 NBOHCに起因すると考えられる。また、特許文献 4には、波長 6 30nmの吸収損失と WPとの関係が記載されている。この関係に基づいて、波長 630 nmの吸収損失を測定することにより、耐水素特性を評価することも考えられる。
[0009] ただし、 特許文献 4は、 630nm付近の吸収ピークの決定方法について言及して いない。また、重水素含有雰囲気に晒した場合の 630nm付近の吸収ピークの挙動 につ ヽても何ら言及して 、な 、。光ファイバにおける損失 aを示す下記の式 [数 1]に おいてレーリー散乱係数 Aが光ファイバ毎に異なり得ることを考慮すると、吸収ピーク の決定方法が定められていないと、レーリー散乱係数 Aの相違によって 630nm付近 の吸収ピークの大きさを有効に判定できない場合がある。これに対して、特許文献 5 には、波長 630nmの帯域における損失の変化を調べることにより、重水素処理の効 果で NBOHCがなくなったことが確認できる旨が開示される。
[数 1]
" = Α/λ4 + αΙΜ + aIR {X) + other{X) [0010] 上記式 [数 1]において、 αは損失を、 Aはレーリー散乱係数を、 α は構造不完全
ΙΜ
性損失を、 a は赤外吸収損失を、 a は不純物などによるその他の吸収損失を、
IR other
それぞれ表す。
特許文献 1 :特許第 1721913号
特許文献 2 :英国特許出願公開第 2149392号明細書
特許文献 3：欧州特許出願公開第 1182176号明細書
特許文献 4：特開平 9 - 132430号公報
特許文献 5：特開 2004 - 317750号公報
非特許文献 1 :IEE PROCEEDINGS, Vol. 132, Pt. J, No. 3, JUNE 1
985, pp. 172- 176
非特許文献 2 : OFC 1999, PD22- 1
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0011] 前記のように、光ファイバには、高い耐水素特性が求められる用途がある。このよう な用途に供される光ファイバは、製造過程において耐水素特性を評価することが望 ましい。しかしながら、 IEC 60793— 2に規定された耐水素特性評価試験は、試験 作業に多大な時間を要すると共に、測定試料とした光ファイバを破棄しなければなら ない。
[0012] そこで、特許文献 5に記載された方法で重水素処理の効果を確認し得ることが提案 されている。しかしながら、光ファイバの波長 630nmにおける損失は、光ファイバに 欠陥がない状態で約 7dBZkmと非常に大きい。また、工業製品としての光ファイバ は、ひとつのスプールに 25km以上の光ファイバが巻かれている場合が多い。従って 、スプール全体を対象として波長 630nmの損失を測定することはできないので、結 局、一部を測定試料として切り出さなければ重水素処理の効果を確認できない。そ の結果、依然として製品の一部を測定試料として破棄しなければならな 、と 、う問題 が残る。
[0013] そこで、重水素処理が十分に行われていることを容易且つ確実に確認でき、更に、 短期間で評価作業を終えることができる方法が求められている。また、重水素処理効 果の測定に伴って廃棄される光ファイバを減少させることも技術課題のひとつである 課題を解決するための手段
[0014] 本発明の第 1の形態として、重水素を含む雰囲気に光ファイバを曝露する処理を開 始する開始手順と、 1714nmまたはその近傍の波長を有する伝播光に対する光ファ ィバの損失値を監視して損失値の変化量が所定の値を越えた場合に暴露を終了さ せる終了手順とを含む光ファイバの処理方法が提供される。これにより、効果を確認 しながら重水素処理を実施できるので、確実に効果をあげることができると同時に、 過剰に処理時間をかけることが避けられる。また、重水素処理後に評価試験を実施 することがないので、光ファイバ製品の出荷までに要する時間を短縮できる。更に、 評価用の試料を切り取らなくてもよいので、製品の歩留りも向上される。
[0015] また、本発明の第 2の形態として、重水素を含む雰囲気に光ファイバを曝露する処 理を開始する開始手順と、重水素に暴露されて 、る光ファイバの一端から 1714nm またはその近傍の波長を有する伝播光を入射させ光ファイバの他端から出射される 伝播光を監視して損失値を測定する測定手順と、損失値の変化量が所定の値を越 えた場合に暴露を終了させる終了手順とを含む光ファイバの処理方法が提供される 。これにより、重水素処理を実施しながら、簡潔な設備で光ファイバにおける損失の 変化を監視できる。また、光ファイバの一部を試験試料として切り出すのではなぐ光 ファイバ全体につ 、て損失の変化を監視できる。
[0016] また、ひとつの実施形態によると、上記処理方法において、損失値を監視する対象 の波長は、 1709nm以上、 1719nm以下の範囲である。これにより、重水素の拡散と NBOHCの消滅を確実に検出できる。また、対象となる光ファイバ全体に対して監視 を実施できる。
[0017] 更に、ひとつの実施形態によると、上記処理方法において、所定の値が、開始手順 のときの損失値に対して 0. OldB/km以上増加した値である。これにより、監視対 象となる光ファイバの個々のレーリー散乱係数 Aのばらつきの影響を受けることなぐ 有効な重水素処理の効果を確認できる。なお、損失値の増加が 0. OldBZkmよりも 低い値を選択すると、重水素処理の効果が少なぐ耐水素特性の有意な向上が得ら れない。
[0018] また更に、ひとつの実施形態によると、上記処理方法において、所定の範囲が、開 始手順のときの損失値に対して 0. 03dBZkm以上増加した値である。これにより、 監視対象となる光ファイバの個々のレーリー散乱係数 Aのばらつきの影響を受けるこ となぐ有効な重水素処理の効果を確認できる。なお、損失値の増加が 0. 03dB/k mよりも低い値を選択すると、光ファイバ中に NBOHCが残留する場合がある。従つ て、 0. 03dBZkm以上まで増加した値を選択することにより、耐水素特性の高い光 ファイバ製品を製造できる。
発明の効果
[0019] 上記のように、この発明に係る方法は、光ファイバにおける波長 1714nmの損失を 監視するという独特の方法により、重水素処理を実施しながら、重水素の拡散と NB OHCの消滅を容易且つ確実に検出できる。また、効果を確認しながら重水素処理を 実施できるので、確実に効果をあげることができると同時に、過剰に処理時間をかけ ることが避けられる。更に、重水素処理後に評価試験を実施することがないので、光 ファイバ製品の出荷までに要する時間を短縮できる。また更に、重水素処理の対象と なる光ファイバ全体を監視の対象として実施できる。従って、評価用の試料を切り取 らなくてもよいので、製品の歩留りも向上される。
[0020] ただし、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではな V、。これらの特徴群のサブコンビネーションもまた発明となり得る。
図面の簡単な説明
[0021] [図 1]重水素処理による損失スペクトルの変化を示すグラフである。
[図 2]図 1に示すグラフにおける 1200nmから 1700nmまでの帯域を拡大して示すグ ラフである。
[図 3]重水素雰囲気に曝露した光ファイバの水素試験による損失の変化を示すグラフ である。
[図 4]重水素雰囲気に曝露して ヽな 、光ファイバの水素試験による損失の変化を示 すグラフである。
発明を実施するための最良の形態 [0022] 以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明する。ただし、以下の実施形態は 請求の範隨こかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明され て 、る特徴の組み合わせの全てが課題の解決手段に必須であるとは限らな 、。
[0023] (実施例 1)
WPの小さい光ファイバを製造して、そのうちの長さ 25kmを評価試料としてスプー ルに卷き取った。また、後述する重水素処理の効果測定に用いる目的で、同じ光ファ ィバから長さ 2kmの予備評価試料を切り取った。更に、同じ光ファイバから、比較試 料として、長さ 2kmの光ファイバを更に切り取って保存した。
[0024] 重水素処理に先立ち、評価試料および予備評価試料の各々について、損失スぺク トルを測定した。波長 630nmについては、長さ 2kmの予備評価試料では 6dBZkm という大きな吸収損失ピークが測定された。一方、長さ 25kmの評価試料では、 630η mでの損失は大き過ぎて、単位長さ当たりの損失は測定できな力つた。これに対して 、波長 1714nmでの損失は、評価試料および予備評価試料のいずれについても、 0 . 750dBZkmであることが測定できた。
[0025] 次に、長さ 25kmの評価試料と、長さ 2kmの予備評価試料とを、ひとつの設備で同 時に重水素処理に付した。処理中の光ファイバの雰囲気は、常温且つ大気圧で、 1 %の重水素と 99%の窒素とを含む。また、長さ 25kmの評価試料は、その両端を処 理室から引き出して、光損失測定器の光源および受光部にそれぞれ接続した。これ らの条件で、評価試料における波長 1714nmの損失値の変化を監視しながら重水 素処理を開始した。
[0026] 重水素雰囲気への曝露を 3日間継続した時点で、監視している 1714nmにおける 損失値が 0. 760dBZkmとなり、重水素処理を開始したときに比べて 0. OldB/km 上昇していることが確認されたので、重水素処理を終了した。
[0027] 図 1は、上記のように実施した重水素処理による光ファイバの損失スペクトルの変化 を、長さ 2kmの予備評価試料について測定した結果を示すグラフである。また、図 2 は、図 1に示すグラフにおける 1200nmから 1700nmまでの帯域を拡大して示すダラ フである。同図に示すように、重水素処理が終了した時点で、 1714nmにおける損失 値は 0. OldBZkm上昇していた。一方、波長 630nmにおける損失値は大幅に低 下している。
[0028] また、確認のために、長さ 2kmの予備評価試料について、 IEC 60793— 2に規定 された方法で耐水素特性の評価試験を実施した。また、予備評価試料と共に、重水 素処理を実施することなく保存しておいた比較試料に対しても、予備評価試料と同じ 条件で評価試験を実施した。
[0029] 図 3は、予備評価試料および比較試料について、同図に示すように、予備評価試 料における WPの増加は 0. 003dBZkm程度であり、高い耐水素特性を有すること が確認された。
[0030] 一方、図 4は、比較試料における、評価試験評価の前後の損失スペクトルを併せて 示すグラフである。同図に示すように、比較試料においては、評価試験後に 1383η m付近の損失が顕著に増加しており、重水素処理による耐水素特性の向上が確認さ れた。
[0031] なお、光ファイバにおける波長 1600nm以上の損失測定は、光ファイバにかかる曲 げ等の物理的応力による影響を強く受ける。従って、重水素処理中およびその前後 の損失測定においては、光ファイバに力かる応力が変化しないように、一貫して光フ アイバを固定していた。従って、上記の各測定は、光ファイバに力かる応力の変化は 影響していない。
[0032] (実施例 2)
長さ 25kmの評価試料および長さ 2kmの予備比較試料を用意した。重水素処理を 終了するときの波長 1714nmにおける損失の変化量を 0. 03dBZkmに設定したこ と以外は、実施例 1と同じ条件で重水素処理を実施した。重水素雰囲気に略 4日間 曝露した時点で、監視している 1714nmにおける損失が 0. 780dBZkmに達し、変 化量が 0. 03dBZkmを越えたので、重水素処理を終了した。
[0033] 長さ 2kmの予備評価試料について損失スペクトルを測定したところ、波長 630nm 付近において損失が大幅に低下していた。また、 IEC 60793— 2に規定された方 法で予備評価試料に対して評価試験を実施したところ WPの増加は皆無であった。 従って、 1714nmにおける損失の変化量が 0. 03dBZkmになるまで重水素処理を 実施した場合、耐水素特性が非常に高い光ファイバが得られることが確認された。 [0034] 以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実 施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または 改良を加え得ることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形 態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、請求の範囲の記載力も明らかである。 産業上の利用可能性
[0035] 耐水素特性に優れた光ファイバを、短時間で確実に製造できる。従って、製造コス トも低減させることができ、耐水素特性の高い光ファイバ製品を工業的に製造できる。

Claims

請求の範囲
[1] 重水素を含む雰囲気に光ファイバを曝露する処理を開始する開始手順と、
1714nmまたはその近傍の波長を有する伝播光に対する前記光ファイバの損失値 を監視して、前記損失値の変化量が所定の値を越えた場合に前記暴露を終了させ る終了手順と
を含む光ファイバの処理方法。
[2] 重水素を含む雰囲気に光ファイバを曝露する処理を開始する開始手順と、
前記重水素に暴露されている前記光ファイバの一端から 1714nmまたはその近傍 の波長を有する伝播光を入射させ、前記光ファイバの他端から出射される前記伝播 光を監視して損失値を測定する測定手順と、
前記損失値の変化量が所定の値を越えた場合に前記暴露を終了させる終了手順 と
を含む光ファイバの処理方法。
[3] 前記損失値を監視する対象の波長が、 1709nm以上、 1719nm以下の範囲であ る請求項 1または請求項 2に記載の処理方法。
[4] 前記所定の値が、前記開始手順のときの前記損失値に対して 0. OldBZkm以上 増加した値である請求項 1から請求項 3までのいずれか 1項に記載の処理方法。
[5] 前記所定の範囲が、前記開始手順のときの前記損失値に対して 0. 03dBZkm以 上増加した値である請求項 1から請求項 3までのいずれか 1項に光ファイバの処理方 法。
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