WO2006064795A1 - ガラス組成物およびその製造方法、並びに情報表示装置用ガラス基板とそれを用いた情報表示装置 - Google Patents

ガラス組成物およびその製造方法、並びに情報表示装置用ガラス基板とそれを用いた情報表示装置 Download PDF

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Junji Kurachi
Akihiro Koyama
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Nippon Sheet Glass Company, Limited
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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates

Definitions

  • the present invention relates to a glass composition that can be easily defoamed and clarified, and is particularly suitable for a glass substrate for an information display device, and a method for producing the same, and further uses the glass composition
  • the present invention relates to a glass substrate for information display device and an information display device using the glass substrate for information display device.
  • An alkali-free borosilicate glass composition has heretofore been used for a glass composition used for a glass substrate of an information display device, particularly an active matrix liquid crystal display device.
  • a typical example of this alkali-free borosilicate glass is code 7059 manufactured by US COUGING.
  • a clarification method using a clarifier there is a vacuum degassing method.
  • the glass melt is maintained in a reduced pressure atmosphere. Then, the gas dissolved in the melt will form bubbles. In addition, the bubbles present in the melt expand due to the reduced pressure, and the buoyancy increases, and they float and disappear on the surface of the melt.
  • the vacuum defoaming method is a method of clarifying by these two actions. An example of this vacuum defoaming method is disclosed in JP-A-2003-160340. It is shown.
  • JP-A-2003-300750 Another clarification force that does not depend on a clarifier is disclosed in JP-A-2003-300750.
  • the method disclosed in this publication is a method for clarifying a molten glass composition by containing a gas such as helium or neon.
  • glass compositions for information display device substrates typified by alkali-free borosilicate glass compositions are characterized by high melt viscosity during melting (high temperature viscosity). Defoaming melts with high viscosity 'Clarification is difficult, so it is inherently difficult to reduce defects such as bubbles in glass substrates using these glass compositions.
  • the vacuum defoaming method disclosed in JP-A-2003-160340 has the following problems, for example.
  • the glass composition used for the substrate for the information display device described above has the following characteristics. Sex is required.
  • the average linear thermal expansion coefficient is similar to that of silicon material. This is because a silicon material is used for a transistor for an active matrix liquid crystal display device.
  • the average linear thermal expansion coefficient of silicon is about 32 X 10—C— 1 .
  • the present invention provides a glass composition that can be easily defoamed and clarified at low cost and is suitably used as a glass substrate for an information display device, particularly an active matrix liquid crystal display device, and a method for producing the same. With the goal. Furthermore, another object of the present invention is to provide a glass substrate for an information display device using the glass composition and an information display device using the glass substrate for an information display device.
  • the glass composition of the present invention is represented by mass%,
  • a glass substrate for an information display device of the present invention uses the above glass composition.
  • An information display device of the present invention uses the above glass substrate for an information display device.
  • the method for producing a glass composition of the present invention is a method for producing a glass composition by melting a glass raw material prepared so as to have a predetermined composition, and obtaining the glass composition, wherein the glass composition In%
  • the glass raw material contains a chloride.
  • the glass composition of the present invention is represented by mass%,
  • the glass fiber composition is represented by mass%
  • the chlorine content is expressed in terms of mass%, and is 0.005 to 1
  • the glass composition of the present invention preferably contains substantially no oxide of any of Pb, Sb, As, V, Ti and Ce.
  • substantially free means that the content is mixed as an impurity, specifically 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less. .
  • the glass composition of the present invention does not substantially contain an oxide of As and an oxide of Sb.
  • the glass composition of the present invention has an average linear thermal expansion coefficient in the range of 50 to 350 ° C of 30 to
  • the glass composition of the present invention has better bubble removal during melting than conventional alkali-free borosilicate glass, etc., due to the clarification effect by containing chlorine in addition to the effect of the combination of the compositions. It is. Therefore, by using this glass composition, it is possible to provide a glass plate that does not contain a component with a high environmental load and has few defects such as bubbles at a low cost.
  • the glass composition of the present invention exhibits an average linear thermal expansion coefficient similar to that of silicon. Due to this feature, it can be suitably used for glass substrates for information display devices. it can. This is because the glass substrate for an information display device using the glass composition of the present invention is less likely to be warped or stressed due to a difference in thermal expansion from silicon.
  • the glass composition of the present invention has excellent durability against chemicals such as hydrofluoric acid. Due to this feature, it can be suitably used for a glass substrate for an information display device. This is because the glass substrate produced using the glass composition of the present invention is not unnecessarily damaged even if it is exposed to chemicals in the manufacturing process of the information display device.
  • the glass composition of the present invention has a small amount of Na O or LiO as a component, and does not contain or substantially contain the composition. For this reason, the elution amount of NaO and LiO is very small or substantially zero. Due to this feature, the glass substrate for an information display device using the glass composition of the present invention has no risk of impairing the performance of the information display device due to an alkaline component eluted from the glass substrate.
  • the method for producing a glass composition of the present invention is a method for producing a glass composition by melting a glass raw material prepared to have a predetermined composition, wherein the glass composition force mass In%
  • the glass raw material contains a chloride.
  • the glass composition is indicated by mass%
  • the glass raw material preferably contains a chloride so that chlorine contained in the glass composition is 0.05% to 1% in terms of mass%.
  • the chloride is preferably potassium chloride, preferably at least one selected from alkali metal chlorides and alkaline earth chlorides.
  • the glass composition strength Pb, Sb, As, V, Ti and Ce are substantially free of any oxide.
  • the glass composition strength is substantially free of an oxide of As and an oxide of Sb.
  • the glass composition it is preferable that the average linear thermal expansion coefficient in the range of 50 to 350 ° C is 30 ⁇ 50 X 10- 7 ° C- 1.
  • SiO is an essential component for forming a glass skeleton. If the SiO content is less than 70%
  • the heat resistance of the glass composition is lowered.
  • the content of SiO exceeds 88%, the viscosity of the glass melt increases and it becomes difficult to melt and clarify. Therefore, the content of SiO is 70%
  • B ⁇ improves glass meltability without increasing alkali elution from the glass composition. It is an essential ingredient. If the BO content is less than 6%, it becomes difficult to melt the glass raw material or to clarify the glass melt. On the other hand, BO is a component that promotes the phase separation of glass. If its content exceeds 18%, chemical durability deteriorates due to the phase separation and milky whitening tends to occur, and heat resistance also decreases. Therefore, the content of B0 must be 6 to 18%,
  • Al 2 O is an essential component that increases the heat resistance of the glass composition and suppresses phase separation.
  • the effect of suppressing phase separation is remarkable when the content of A10 is 0.5% or more.
  • Al 2 O is difficult to melt, and if it exceeds 4.5%, it remains as an undissolved foreign material in the glass, and further escapes bubbles in the glass melt. Therefore, the Al 2 O content needs to be 0.5 to 4.5%, and more preferably 0.5% to 3%.
  • K 2 O is an essential component that enhances the meltability of the glass. If its content is less than 2%, it becomes difficult to melt the glass.
  • salt ions when salt ions are present in the glass melt, it vaporizes as potassium chloride at 1400 ° C or higher, causing bubbles in the glass melt to expand and float, and the glass melt is homogenized by the flow. Make it.
  • K ions have a larger ion radius than Li and Na ions, the elution amount of K ions from glass articles whose movement speed in glass articles is small is very small. Therefore, there is no possibility that the performance of the product using the glass article made of the glass composition of the present invention is impaired by the eluted K ions.
  • K 2 O is a component that increases the thermal expansion coefficient of glass, and if it exceeds 10%, the difference in thermal expansion coefficient from the silicon material increases.
  • K ⁇ volatilizes from the glass melt surface as potassium borate.
  • the content of KO and BO will not match between the glass melt surface and the inside of the surface other than the surface.
  • the content of KO needs to be 2 to 10%, preferably 4 to 8%, and more preferably 5 to 8%.
  • Both Na 2 O and Li 0 are components that increase the melting property of glass, and when coexisting with K 0, they have the effect of increasing the chemical durability of the glass composition. But Li-ion and Na ions have a smaller ion radius than K ions, and therefore move faster in glass. Therefore, it is easy to cause phase separation of glass melt. Furthermore, in a product using a glass article made of the glass composition of the present invention, Li ions or ⁇ a ions may be gradually eluted from the glass article, thereby impairing the product performance. Na O and Li O, like K ⁇ , are easily volatilized as borate from the surface of the glass melt during melting.
  • the contents of NaO, LiO, and BO are not the same between the surface of the glass melt and the inside other than the surface, similar to the volatilization of potassium borate. Then, the inhomogeneity of the glass melt becomes large, which is a major cause of striae. Furthermore, since Li ions and Na ions move at a high rate in the glass melt, they diffuse using the difference in content as a driving force. Due to this diffusion, the contents of Na 0, Li 2 O 3 and B 0 become non-uniform inside the glass melt other than the surface. Therefore, the contents of NaO and LiO need to be 0.5% or less, respectively, and it is preferable that they do not substantially contain NaO and LiO.
  • the total content of so-called alkali oxides of LiO, NaO and KO is preferably 5-8%.
  • Alkaline earth metal oxides such as MgO, CaO, SrO, and BaO are components that increase the heat resistance of glass, prevent phase separation by preventing alkali migration in the glass, and increase chemical durability. .
  • the content of alkaline earth needs to be 2% or less, preferably 0.5% or less.
  • the glass composition of the present invention contains chlorine (hereinafter may be referred to as C1), it is easy to obtain a glass article with little residual foam.
  • Chlorine is preferably contained in the glass composition by melting a glass raw material to which a chloride, particularly an alkali metal salt or alkaline earth metal chloride is added. In this way, an effective clarification effect of chlorine on the glass melt can be realized.
  • the clarification mechanism by the salty cake has not been completely elucidated, but the inventors consider as follows.
  • the boiling point of chlorides, particularly alkali metal salts is close to a temperature range suitable for melting the glass composition of the present invention, for example, 1400 ° C to: 1650 ° C.
  • LiCl has a boiling point of 1325 to 1360 ° C
  • NaCl has a boiling point of 1413 ° C
  • KC1 sublimes at 1500 ° C. That is, it is considered that the vapor pressure of the alkali metal chloride becomes high enough to be comparable to the atmospheric pressure in a temperature range suitable for melting the glass composition of the present invention.
  • the C1 content in the glass composition after melting and forming is preferably 0.001 to 1%, and more preferably 0.005 to 0.3%.
  • the glass composition of the present invention preferably contains substantially no oxide of any of Pb, Sb, As, V, Ti and Ce. This is because, when the glass composition of the present invention contains these compounds, the effect of clarification by chlorine described above may be hindered.
  • oxides having Pb, Sb, As, V, and Ti as cations will be described.
  • the boiling point of chlorides containing these metals as cations is very low compared to the temperature range suitable for melting the glass composition of the present invention. Therefore, when the glass raw material is melted, at the initial stage, that is, when the glass raw material is not sufficiently melted, a part of chlorine volatilizes in the form of these metal chlorides. And reached the temperature suitable for clarification Sometimes, there is not enough chlorine left in the glass melt. Therefore, the clarification effect by chlorine may be insufficient.
  • Ce has a boiling point of 1727 ° C and does not cause the above problems, but prevents clarification with chlorine. The cause of this is not clear, but Ce ions can take +3 and +4 states in glass. It is possible that this valence change may occur at specific temperatures and conditions and interfere with chlorine clarity.
  • the glass composition of the present invention can contain components other than the above-mentioned components as other components for the purpose of controlling the refractive index, controlling the temperature viscosity characteristics, improving devitrification, and the like.
  • Other components such as ZnO, ZrO, YO, LaO, TaO, NbO, GeO or GaO may be contained up to 3% in total.
  • components that are contained as trace impurities and are not described above may be mixed into glass materials that can be used industrially.
  • this trace impurity Fe 2 O can be exemplified.
  • the total content of these impurities is less than 0.5%, the effect on the physical properties of the glass composition is small and does not cause any substantial problem.
  • the glass bodies of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 were prepared according to the following procedure so that the glass yarns shown in Table 1 and Table 2 were formed, and for each of the obtained glass bodies, the C1 residual amount , Devitrification temperature, glass transition point, number of bubbles per 1 cm 3 , density, average linear thermal expansion coefficient, pitker's hardness and etching rate against hydrofluoric acid, respectively, and evaluation of heat resistance, clarity and acid resistance Went.
  • glass raw materials such as silica, alumina, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, basic magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate and zirconium oxide
  • a glass raw material (batch) was prepared by properly mixing the mixture and further potassium chloride.
  • potassium chloride was not added to the glass raw material used for preparation of the glass compositions of Comparative Examples 1 to 3.
  • potassium chloride was added to the batch in an amount of 0.4 g per lOOg of the glass composition, assuming that no decrease in content due to volatilization occurred.
  • the amount of C 1 described in the table is a value obtained by quantitative analysis of the produced glass body by the fluorescent X-ray method.
  • the formulated batch was melted and clarified in a platinum crucible.
  • the crucible was held in an electric furnace set at 1350 ° C. for 2 hours to melt the batch.
  • set the electric furnace at 2 o'clock The glass melt was clarified by raising the temperature to 1550 ° C over a period of time.
  • the glass melt was poured out on the iron plate outside the furnace and cooled and solidified to obtain a glass body.
  • the glass body was subsequently subjected to a slow cooling operation.
  • the slow cooling operation was performed by holding the glass body in another electric furnace set at 650 ° C for 30 minutes, and then turning off the electric furnace and cooling it to room temperature.
  • the glass body that had undergone this slow cooling operation was used as a sample glass.
  • the density of the sample glass was measured by the Archimedes method using pure water as the immersion liquid.
  • the sample glass was prepared using a conventional glass processing technique, c) a cylindrical shape having a length of 5 mm and a length of 15 mm, and used as a glass specimen.
  • a differential thermal dilatometer (Thermoflex TMA8140, manufactured by Rigaku Corporation) was used for this glass specimen, and the average linear thermal expansion coefficient and glass transition point were measured.
  • the sample glass described above was pulverized to prepare a sample for measuring devitrification temperature. Specifically, the sample glass was pulverized using an agate mortar, passed through a 2380 / im sieve, and the glass particles remaining on the 1000 ⁇ sieve were sieved. The glass particles were immersed in ethanol, subjected to ultrasonic cleaning, and then dried in a thermostatic bath to obtain a sample for measuring devitrification temperature.
  • devitrification was generated by holding the sample for measuring devitrification temperature in a temperature gradient furnace for a predetermined time. Specifically, 25 g of this sample is placed on a platinum boat having a width of 12 mm, a length of 200 mm, and a depth of 10 mm so that the thickness is almost constant, and then the platinum boat is placed at 980 to 1180 ° C. After maintaining in an electric furnace with a temperature gradient of 2 hours for devitrification, the white metal boat was removed from the furnace and allowed to cool to room temperature.
  • Acid resistance was evaluated by the etching rate (erosion rate) when exposed to hydrofluoric acid.
  • the above sample glass was cut, ground and processed into a substrate, and then the surface was optically polished, and a part of the optically polished surface was masked with an acid-resistant resin to obtain an acid resistance evaluation test piece. .
  • This specimen was immersed in a 0.2% aqueous hydrofluoric acid solution heated to 60 ° C. and etched. The masked part of the specimen is not etched, but the masked part is etched with hydrofluoric acid, so that there is a step between the masked part and the non-masked part. The level difference was measured with a surface unevenness meter, and the resistance to hydrofluoric acid was evaluated by calculating the erosion rate per unit time.
  • the heat resistance was evaluated as good when the glass transition point was 550 ° C or higher.
  • the above sample glass was cut and ground, and one surface was optically polished to prepare a sample for measuring Vickers hardness.
  • a Vickers hardness tester (MVK-G2 type manufactured by Akashi Co., Ltd.) was used.
  • MVK-G2 type manufactured by Akashi Co., Ltd. was used for the measurement of Vickers hardness.
  • a Vickers indenter made of diamond was pressed against the optically polished surface of the measurement sample with a load of 200 g and a load application time of 30 seconds. After removing the load, the size of the indentation was measured by observing with a microscope with a built-in hardness meter, and the measured value was input to the hardness meter to obtain the Vickers hardness. It was confirmed that there was no crack in the indentation, and the average value of the five measurements was taken as the measured value of Vickers hardness.
  • the number of bubbles remaining in the sample glasses of Examples 1 to 9 was very small compared to the comparative example.
  • the sample glass of the example does not contain a clarifying agent with a large environmental load such as arsenic oxide. Therefore, it can be seen from this result that the glass composition of the present invention can produce a glass substrate with very few defects such as bubbles without using a clarifier such as arsenic oxide.
  • the glass compositions of Examples! To 9 have an etching rate with respect to hydrofluoric acid as very low as 10 to 25 nm / min.
  • the above-mentioned acid resistance evaluation piece does not become cloudy after the etching treatment. . In other words, it is excellent in acid resistance that is not inappropriately attacked by hydrofluoric acid. Therefore, the glass substrate for an information display device manufactured using the glass composition of the present invention is not adversely affected by chemicals used in the manufacturing process of the information display device.
  • the glass compositions of Examples:! To 9 have an average linear thermal expansion coefficient in the range of 30 to 50 X 10—C- 1 . This value is sufficiently close to the average linear thermal expansion coefficient of silicon material (about 32 X 10-. Therefore, the glass substrate for information display devices manufactured using the glass composition of the present invention is used together with the silicon material. Warp and stress are less likely to occur.
  • the glass transition points T of the glass compositions of Examples 1 to 9 are all 500 ° C or higher. Shi
  • the glass substrate for an information display device produced using the glass composition of the present invention is subject to deformation, softening, devitrification, etc. with respect to the heat treatment history exposed during the manufacturing process of the information display device. It doesn't cause inconvenience.
  • the densities of the glass compositions of Examples:! To 9 are all in the range of 2.2 to 2.3 g'cm- 3 . This value is lighter than the glass body of Comparative Example 1, other non-alkali borosilicate glass, and architectural flat plate glass of 2.5 to 2.8 g'cm 3 . Therefore, according to the glass substrate for information display apparatuses produced using the glass composition of this invention, the weight reduction of an information display apparatus is realizable.
  • the devitrification temperatures of the glass compositions of Examples:! To 9 are all less than 980 ° C.
  • This devitrification temperature means that when the glass melt is cooled and solidified, devitrification does not occur until less than 980 ° C. Therefore, when producing a flat glass plate from the glass composition of the present invention, production methods such as a float method, a downdraw method, and a fusion method can be employed.
  • the float method in particular can produce a large amount of large-sized glass plates with excellent flatness and surface roughness.
  • Comparative Example 1 is a glass body having the same composition as a glass composition generally used as a substrate for a liquid crystal display device. Since Comparative Example 1 has a very large number of bubbles of 5000 / cm 3 , Comparative Example 1 The composition has poor clarity. Furthermore, the etching rate of Comparative Example 1 is very high at 590 nm / min. Therefore, it is not preferable to use the glass substrate having the composition of Comparative Example 1 for applications that require treatment with acidic chemicals and gases during production and use.
  • the glass body of Comparative Example 2 is also inferior in clarity with many bubbles as compared with Examples 1-9.
  • it contains sodium, which has a high movement speed in glass, striae due to volatilization occurred in the glass body.
  • sodium may be eluted from the glass substrate, which may hinder the functions of the electrode and the liquid crystal.
  • the etching rate of Comparative Example 2 is as high as 68 nmZmin, it is not preferable to use the glass substrate having the composition of Comparative Example 2 for applications that require treatment with acidic chemicals or gases during production and use.
  • the glass body of Comparative Example 3 has a high fining property in which the number of bubbles is close to that of Examples.
  • the glass body since it contains sodium moving speed is high in the glass, the glass body occurs striae strong due to volatilization and phase separation, the average linear thermal expansion coefficient is as large as 51 X 10- 7 ° C _1. Therefore, when the glass substrate having the composition of Comparative Example 3 is used as a substrate for a liquid crystal display device, sodium is eluted from the glass substrate, obstructing the functions of the electrodes and the liquid crystal, and warping the display device due to the difference in thermal expansion from silicon. May occur. Furthermore, since the etching rate of Comparative Example 3 is as high as 46 nm / min, it is not preferable to use the glass substrate having the composition of Comparative Example 3 for applications that require exposure to acidic chemicals or gases.
  • the glass composition of the present invention fining with easy, has an average linear thermal expansion coefficient in the range of 30 ⁇ 50 X 10- 7 ° C- 1 Excellent acid resistance.
  • the glass composition of the present invention is suitable for high yield, high efficiency, and low cost production of a glass substrate for an information display device, particularly a large glass substrate suitable for an active matrix liquid crystal display device. .
  • the glass composition of the present invention and the method for producing the same provide a glass article that is excellent in chemical resistance and heat resistance and requires a small thermal expansion coefficient, particularly a glass substrate for an information display device. It is effectively used to provide plates. Furthermore, it can be used for applications requiring glass articles that do not contain high environmental impact components such as arsenic oxide and antimony oxide.

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Abstract

　本発明のガラス組成物は、質量％で示して、ＳｉＯ2：７０～８８％、Ｂ2Ｏ3：６～１８％、Ａｌ2Ｏ3：０．５～４．５％、Ｌｉ2Ｏ：０～０．５％、Ｎａ2Ｏ：０～０．５％、Ｋ2Ｏ：２～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：０～２％を含み、さらに塩素（Ｃｌ）を含む。本発明のガラス組成物は、情報表示装置用のガラス基板などに好適に用いられる。

Description

明 細 書
ガラス組成物およびその製造方法、並びに情報表示装置用ガラス基板と それを用いた情報表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、脱泡 ·清澄が容易であって、特に情報表示装置用のガラス基板などに 好適に用いられるガラス組成物とその製造方法とに関し、さらに、そのガラス組成物 を用いた情報表示装置用ガラス基板と、その情報表示装置用ガラス基板を用いた情 報表示装置とに関する。
背景技術
[0002] 情報表示装置、特にアクティブマトリクス型液晶表示装置のガラス基板に用いられ るガラス組成物には、これまで無アルカリのホウケィ酸ガラス組成物が用いられてきた 。この無アルカリホウケィ酸ガラスの代表例としては、米国コーユング社のコード 7059 などが挙げられる。
[0003] このような情報表示装置は、近年、大型なものが求められるようになっており、用い られるガラス基板の面積もまた大型化している。この情報表示装置の製造において、 そのガラス基板に泡などの欠点が存在すると、製造歩留まりが大きく低下してしまう。
[0004] 一般に、ガラス物品の製造過程において、ガラス物品に泡などが残留しないように することを清澄するという。また、ガラス融液を清澄するために、融液に清澄剤を添加 する方法がごく一般に知られている。この清澄剤としては、酸化ヒ素、酸化アンチモン およびフッ化物が周知である。また、スズゃランタノイドなど、またはそれらの化合物を 、周知な清澄剤の代替として用いる方法力 例えば特開 2003— 192377号公報に 開示されている。
[0005] 一方、清澄剤によらなレ、清澄法としては、減圧脱泡法がある。この方法では、ガラス 融液を減圧雰囲気に保持する。そうすると、融液中に溶解していた気体は泡を形成 しゃすくなる。また、減圧によって融液中に存在する泡が膨張してその浮力が大きく なり、浮上して融液表面で消失する。減圧脱泡法とは、この 2つの作用によって清澄 を行なう方法である。この減圧脱泡法の一例は、特開 2003— 160340号公報に開 示されている。
[0006] また、清澄剤によらない別の清澄法力 特開 2003— 300750号公報に開示されて いる。この公報に開示されている方法は、熔融したガラス組成物にヘリウム、ネオンな どのガスを含有させることにより清澄する方法である。
[0007] しかし、無アルカリホウケィ酸ガラス組成物に代表される情報表示装置基板用ガラ ス組成物は、熔融時の融液の粘性が高レ、（高温粘性）という特徴がある。粘性の高い 融液の脱泡 '清澄は難しいので、これらのガラス組成物を用いたガラス基板の泡など の欠点を低減させることは元来困難である。
[0008] このような粘性の高いガラス組成物を脱泡 ·清澄させるために、上述した酸化ヒ素、 酸化アンチモンまたはフッ化物力 清澄剤として用いられている。しかし、近年の環境 意識の高まりのなかで、酸化ヒ素を使用すると、環境に与える負荷が大きいとの指摘 が強くなつてきている。したがって、これらの周知な清澄剤の使用を極力控えるべき である。
[0009] また、特開 2003— 192377号公報で開示されている実施例の多くに、周知な清澄 剤である Sb oが含まれている。すなわち、同公報で開示されている代替清澄剤で 周知な清澄剤を完全に置き換えることは困難であるといえる。
[0010] 一方、特開 2003— 160340号公報に開示されている真空脱泡法には、例えば以 下のような問題点がある。
•高低差を設けた複雑な構造の熔解炉が必要であること
'熔解する高い温度で気密を保つ必要があること
•高価な白金類による内張りが必要であること
•耐火物の目地を塞ぐための特殊な構造や作業が必要であること
•特殊な構造を維持するための頻繁な補修が必要であること
•熔解炉の稼働率が低レ、こと
[0011] さらに、特開 2003— 300750号公報に開示されている、熔融ガラスにガスを含有さ せる方法は、大規模な生産には不向きである。なぜなら、同方法に用いるガスは高価 であり、大量生産においては多量に使用するので、製造コストが高くなるからである。
[0012] なお、上述した情報表示装置用の基板に用いられるガラス組成物には、以下の特 性が求められる。
(1)平均線熱膨張係数がシリコン材料に類似していること。アクティブマトリクス型液 晶表示装置用のトランジスタにはシリコン材料が用いられるからである。なお、シリコン の平均線熱膨張係数は約 32 X 10— C—1である。
(2)高温に耐え得ること。上述のトランジスタの製造プロセスにおいて、ガラス基板は 熱処理に曝される。その熱処理に対して、ガラス組成物力 変形、融解および失透を 起こさないことが必要である。
(3)プロセスの処理液に侵されないこと。上述のトランジスタの製造プロセスにおいて 使われるフッ酸などの化学薬品に対して、ガラス組成物が不適切に溶解および白濁 しないことが必要である。
(4)アルカリ成分の溶出が少ないこと。アルカリ成分の溶出が多いガラス組成物を用 いたガラス基板を用いると、上述した製造プロセスの過程で、多量のアルカリ成分が 、ガラス基板から上述のトランジスタへ拡散してしまう。アルカリが多量に拡散すること によって、このトランジスタが劣化し、結果として情報表示装置の性能が損われる。な お、アルカリ成分のうち、特にナトリウム成分が、とりわけ装置に大きな影響を与える。 発明の開示
[0013] 本発明は、容易かつ安価に脱泡 ·清澄が可能であり、情報表示装置、特にァクティ ブマトリクス型液晶表示装置のガラス基板として好適に用いられるガラス組成物およ びその製造方法の提供を目的とする。さらに、本発明の別の目的は、このガラス組成 物を用いた情報表示装置用ガラス基板と、この情報表示装置用ガラス基板を用いた 情報表示装置とを提供することにある。
[0014] 本発明のガラス組成物は、質量％で示して、
SiO 70〜88%
B〇 6〜： 18%
A1〇 0. 5〜4· 5%
Li Ο 0〜0· 5%
Na Ο 0〜0. 5%
Κ Ο 2〜： 10% MgO + CaO + SrO + BaO 0〜2%
の成分を含み、さらに塩素（CI)を含む。
[0015] 本発明の情報表示装置用ガラス基板は、上記ガラス組成物を用いたものである。
[0016] 本発明の情報表示装置は、上記情報表示装置用ガラス基板を用レ、たものである。
[0017] 本発明のガラス組成物の製造方法は、所定の組成になるように調合したガラス原料 を熔融してガラス組成物を得るガラス組成物の製造方法であって、前記ガラス組成物 力 質量％で示して、
SiO 70〜88%
B〇 6〜： 18%
A1〇 0. 5〜4. 5%
Li O 0〜0. 5%
Na O 0〜0. 5%
K O 2〜： 10%
MgO + CaO + SrO + BaO 0〜2%
を含み、前記ガラス原料が塩化物を含有する。
発明を実施するための最良の形態
[0018] 本発明のガラス組成物は、質量％で示して、
SiO 70〜88%
B〇 6〜： 18%
A1〇 0. 5〜4. 5%
Li O 0〜0. 5%
Na O 0〜0. 5%
K O 2〜10%
MgO + CaO + SrO + BaO 0〜2%
の成分を含み、さらに塩素（C1)を含んでいる。
[0019] 上記ガラス糸且成物は、質量％で示して、
SiO 75〜82%
B O 10〜： 15% Al〇 0. 5〜3%
Li O 0〜0· 5%
Na O 0〜0. 5%
K O 4〜8%
Li O + Na O + K O 5〜8%
を含むことが好ましぐさらに、質量％で示して、
SiO 75〜82%
B〇 10〜： 15%
A1〇 0. 5〜3%
K O 5〜8%
を含み、かつ実質的に Li〇および Na Oを含まないことがより好ましい。
[0020] 本発明のガラス組成物において、塩素の含有率は、質量％で示して、 0. 005〜1
%であることが好ましい。
[0021] 本発明のガラス組成物は、 Pb、 Sb、 As、 V、 Tiおよび Ceの何れの酸化物も実質的 に含まないことが好ましい。なお、本明細書において、実質的に含まないとは、その 含有量が不純物として混入する程度であり、具体的には 1質量％以下、より好ましく は 0. 1質量％以下であることをいう。
[0022] 本発明のガラス組成物は、 Asの酸化物および Sbの酸化物を実質的に含まないこと が好ましい。
[0023] 本発明のガラス組成物は、 50〜350°Cの範囲における平均線熱膨張係数が 30〜
50 X 10— C—1であることが好ましい。
[0024] 本発明のガラス組成物では、組成の組み合わせによる効果に加え、さらに塩素を含 むことによる清澄効果により、従来の無アルカリホウケィ酸ガラスなどと比較して熔融 中の泡抜けが良好である。従って、このガラス組成物を用いることにより、環境負荷の 高い成分を含まず、かつ泡などの欠点が少ないガラス板を安価に提供することがで きる。
[0025] また、本発明のガラス組成物は、シリコンの平均線熱膨張係数と類似した平均線熱 膨張係数を示す。この特徴により、情報表示装置用ガラス基板に好適に用いることが できる。本発明のガラス組成物を用いた情報表示装置用ガラス基板は、シリコンとの 熱膨張の差による反りや応力を生じにくいからである。
[0026] また、本発明のガラス組成物は、フッ酸などの化学薬品に対する耐久性に優れてレ、 る。この特徴により、情報表示装置用ガラス基板に好適に用いることができる。本発明 のガラス組成物を用いて作製されたガラス基板は、情報表示装置の製造プロセスに おいて薬品に曝らされても、不必要に侵されないからである。
[0027] また、本発明のガラス組成物は、その組成に Na Oや Li〇を成分として少量し力、含 まない、あるいは実質的に含まなレ、。このため、 Na〇や Li Oの溶出量が非常に小さ レ、、あるいは実質的にゼロである。この特徴により、本発明のガラス組成物を用いた 情報表示装置用ガラス基板は、ガラス基板から溶出したアルカリ成分によって情報表 示装置の性能を損なう虞がなレ、。
[0028] 本発明のガラス組成物の製造方法は、所定の組成になるように調合したガラス原料 を熔融することによってガラス組成物を得るガラス組成物の製造方法であって、前記 ガラス組成物力 質量％で示して、
SiO 70〜88%
B〇 6〜： 18%
A1〇 0. 5〜4· 5%
Li Ο 0〜0· 5%
Na Ο 0〜0. 5%
Κ Ο 2〜： 10%
MgO + CaO + SrO + BaO 0〜2%
を含み、前記ガラス原料が塩化物を含有する方法である。
[0029] 上記製造方法では、ガラス組成物力 質量％で示して、
SiO 75〜82%
B〇 10〜： 15%
A1〇 0. 5〜3%
Li O 0〜0. 5%
Na O 0〜0. 5% K O 4〜8%
Li O + Na O + K O 5〜8%
を含むことが好ましぐさらに、ガラス組成物力 質量％で示して、
SiO 75〜82%,
B〇 10〜： 15%,
A1〇 0. 5〜3%，
K O 5〜8%，
を含み、かつ実質的に Li〇および Na Oを含まないことがより好ましい。
[0030] また、本発明の製造方法において、ガラス原料は、ガラス組成物に含まれる塩素が 質量％で示して 0. 05〜： 1 %となるように、塩化物を含有することが好ましい。
[0031] また、本発明の製造方法において、塩化物は、アルカリ金属塩化物およびアルカリ 土類塩化物から選ばれる少なくとも 1種であることが好ましぐ塩化カリウムであること 力はり好ましい。
[0032] また、本発明の製造方法において、ガラス組成物力 Pb、 Sb、 As、 V、 Tiおよび Ce の何れの酸化物も実質的に含まなレ、ことが好ましレ、。
[0033] また、本発明の製造方法において、ガラス組成物力 Asの酸化物および Sbの酸化 物を実質的に含まなレ、ことが好ましレ、。
[0034] また、本発明の製造方法において、ガラス組成物は、 50〜350°Cの範囲における 平均線熱膨張係数が 30〜50 X 10— 7°C— 1であることが好ましい。
[0035] 以下に、本発明のガラス組成物について、組成の限定理由を説明する。なお、以 下、質量％を単に％と略記する。
[0036] (SiO )
SiOは、ガラスの骨格を形成する必須成分である。 SiOの含有率が 70%未満では
、ガラス組成物の耐熱性が低くなる。一方、 Si〇の含有率が 88%を超えると、ガラス 融液の粘性が上昇し、熔解清澄が困難になる。したがって、 SiOの含有率は、 70%
〜88%である必要があり、 75〜82%力 Sより好ましレヽ。
[0037] (B O )
B〇は、ガラス組成物からのアルカリ溶出を増やさずに、ガラスの熔解性を改善す る必須成分である。 B Oの含有率が 6%未満では、ガラス原料の熔融やガラス融液 の清澄が困難になる。一方、 B〇はガラスの分相を促進する成分であるので、その 含有率が 18%を超えると、分相による化学的耐久性の悪化や乳白化を起こしやすく なり、耐熱性も低下する。したがって、 B〇の含有率は、 6〜： 18%である必要があり、
10〜15%がより好ましい。
[0038] (A1〇 )
Al Oはガラス組成物の耐熱性を高め、分相を抑制する必須成分である。分相を抑 制する効果は、 A1〇の含有率が 0. 5%以上であるときに顕著である。しかし、 Al O は熔解が困難であり、 4. 5%を超えるとガラス中に未熔解の異物として残存し、さらに ガラス融液中の気泡を抜けに《する。そのため、 Al Oの含有率は、 0. 5〜4. 5% である必要があり、 0. 5%〜3%がより好ましい。
[0039] (K O)
K Oはガラスの熔解性を高める必須成分であり、その含有率が 2%未満ではガラス の熔解が困難になる。また、ガラス融液中に塩ィ匕物イオンが存在するときは、 1400 °C以上で塩化カリウムとして気化し、ガラス融液中の泡を拡大浮上させるとともに、そ の流動でガラス融液を均質化させる。さらに、 Kイオンは、 Liや Naイオンと比較してィ オン半径が大きいために、ガラス物品中での移動速度が小さぐガラス物品からの K イオンの溶出量は、ごく少量である。そのため、本発明のガラス組成物からなるガラス 物品を用いた製品の性能が、溶出した Kイオンによって損なわれる虞がない。
[0040] 一方、 K Oはガラスの熱膨張係数を大きくする成分であり、 10%を超えるとシリコン 材料との熱膨張係数の差が大きくなる。さらに、 K〇はガラス融液表面からホウ酸カリ ゥムとして揮発する。ホウ酸カリウムが揮発すると、 K〇および B Oの含有率が、ガラ ス融液の表面と、表面以外の内部とで一致しなくなるので、ガラス融液の不均質が大 きくなり、脈理の大きな原因となる。したがって、 K〇の含有率は、 2〜： 10%である必 要があり、 4〜8%が好ましぐ 5〜8%がより好ましい。
[0041] (Na 0、 Li O)
Na Oおよび Li〇は共にガラスの熔解性を高める成分であり、さらに K〇と共存す ることで、ガラス組成物の化学的耐久性を高める効果を持つ。しかし、 Liイオンおよび Naイオンは、 Kイオンと比較してイオン半径が小さいために、ガラス中での移動速度 が大きい。そのためにガラス融液の分相を起こしやすレ、。さらに、本発明のガラス組 成物からなるガラス物品を用いた製品において、徐々にガラス物品から Liイオンや Ν aイオンが溶出し、製品の性能を損なう虞がある。また、 Na Oおよび Li Oは、 K〇と 同じく熔解中にガラス融液表面からホウ酸塩として揮発しやすレ、。ホウ酸塩が揮発す ると、ホウ酸カリウムの揮発と同様に、 Na〇、 Li〇および B Oの含有率が、ガラス融 液の表面と、表面以外の内部とで一致しなくなる。すると、ガラス融液の不均質が大き くなり、脈理の大きな原因となる。さらに、 Liイオンおよび Naイオンはガラス融液中に おける移動速度が大きいので、それらのイオンは上述の含有率の差を駆動力として 拡散する。この拡散によって、ガラス融液の表面以外の内部において、 Na 0、 Li O および B〇の含有率が不均一になる。したがって、 Na〇および Li〇の含有率は、 それぞれ 0. 5%以下である必要があり、さらには、実質的に Na〇および Li Oを含有 しないのが好ましい。
[0042] (アルカリ金属酸化物の合計量）
さらに、ガラスの熔解を容易にするためには、 Li〇、 Na Oおよび K〇のいわゆるァ ルカリ酸化物の含有率を、合計で 5〜8%とするのが好ましい。
[0043] (アルカリ土類金属酸化物）
MgO、 Ca〇、 SrOおよび Ba〇などのアルカリ土類金属酸化物は、ガラスの耐熱性 を高め、ガラス中のアルカリの移動を妨げることにより分相を防ぎ、化学的耐久性を 高める成分である。しかし、その含有率が合計で 2%を超えると、熔解時の塩化物の 揮発による清澄を妨げ、泡品質を悪化させる。したがって、アルカリ土類の含有率は 、 2%以下である必要があり、 0. 5%以下が好ましい。
[0044] (塩素および塩化物）
本発明のガラス組成物は、塩素（以下、 C1と表記することがある。）を含有するので、 泡の残留の少ないガラス物品を得ることが容易である。塩素は、塩化物、特にアル力 リ金属塩ィ匕物またはアルカリ土類金属塩化物を添加したガラス原料を熔融することで 、ガラス組成物に含有させることが好ましい。このようにすることで、ガラス融液に対す る、塩素の効果的な清澄効果を実現することができる。 [0045] 本発明のガラス組成物において、塩ィ匕物による清澄のメカニズムは、完全には解明 されていないが、発明者らは以下のように考えている。
[0046] 塩化物、特にアルカリ金属塩ィ匕物の沸点は、本発明のガラス組成物の熔融に適し た温度範囲、例えば 1400°C〜： 1650°Cに近似している。 LiClの沸点は 1325〜136 0°C、 NaClの沸点は 1413°Cであり、また、 KC1は 1500°Cで昇華する。すなわち、本 発明のガラス組成物の熔融に適した温度範囲において、アルカリ金属塩化物の蒸気 圧が、大気圧に匹敵するほど高くなるものと考えられる。
[0047] したがって、本発明のガラス組成物を熔融しているとき、塩素はガラス融液中でアル カリ金属と結合し、アルカリ金属塩ィ匕物の気体となり得る。このアルカリ金属塩ィ匕物の 気体は、ガラス融液中で気泡を形成し、あるいはガラス融液中の気泡を拡大させるこ とで、それらの気泡を浮上させ、ガラス融液表面で気泡が破れ、ガラス融液から除去 される効果を持つ。このようなメカニズムにより、ガラス組成物が清澄されると考えられ る。
[0048] 一方、 C1は、熔解後の残存量が多すぎると、成形中のガラス内部で凝縮し、塩化物 の結晶を含んだ泡を形成したり、ガラスの分相や失透を起こしやすくしたりする。した がって、熔解および成形後のガラス組成物における C1の含有率は、 0. 005〜1%で あることが好ましぐ 0. 005-0. 3%であることがより好ましい。
[0049] (含有しないことが好ましい成分）
本発明のガラス組成物においては、実質的に Pb、 Sb、 As、 V、 Tiおよび Ceの何れ の酸化物も含まないことが好ましい。本発明のガラス組成物がこれらの化合物を含む 場合、上述した塩素による清澄の効果力 阻害されてしまうことがあるからである。
[0050] 本発明のガラス組成物において、上記酸化物が清澄を阻害するメカニズムは明ら かではないが、発明者は以下の可能性を考えてレ、る。
[0051] まず、上記酸化物のうち、 Pb、 Sb、 As、 Vおよび Tiを陽イオンとする酸化物につい て説明する。これらの金属を陽イオンとする塩化物の沸点は、本発明のガラス組成物 の熔融に適した温度範囲と比較すると、非常に低レ、。したがって、ガラス原料を熔融 するとき、その初期、つまり、ガラス原料が充分に熔解されていないときに、塩素の一 部はこれらの金属塩化物の形で揮発してしまう。そして、清澄に適した温度に達した とき、ガラス融液中には、塩素は充分には残留していない。それゆえ、塩素による清 澄効果が不足する可能性が考えられる。
[0052] 次に、上記酸化物のうち Ceを陽イオンとする酸化物について説明する。 Ceの塩ィ匕 物の沸点は 1727°Cで上述のような問題は起こらないにも拘わらず、塩素による清澄 を妨げる。この原因は明らかではないが、 Ceイオンはガラス中で + 3価と + 4価の状 態を取りうる。この価数の変化が、特定の温度および状況で起こり、塩素の清澄性を 妨げる可能性が考えられる。
[0053] (その他の成分）
本発明のガラス組成物は、屈折率の制御、温度粘性特性の制御、失透性の向上な どを目的として、その他の成分として、上述の成分以外の成分を含有することができ る。その他の成分として、 Zn〇、 ZrO、 Y〇、 La〇、 Ta O、 Nb〇、 GeOまたは G a Oなどの成分が、合計で 3%を上限として含有されていてもよい。
[0054] なお、産業上利用し得るガラス原料に微量不純物として含まれ、上述に記載されて いない成分が混入する場合もある。この微量不純物としては、 Fe Oを例示できる。こ れら不純物の合計含有率が 0. 5%未満の場合は、ガラス組成物の物性に及ぶ影響 は小さぐ実質上問題とならない。
[0055] 次に、本発明のガラス組成物について、実施例を挙げて詳細に説明する。なお、本 発明は下記に限定されるものではない。
[0056] [実施例]
表 1および表 2に示すガラス糸且成になるように、実施例 1〜9および比較例 1〜3のガ ラス体を以下の手順に従って作製し、得られたガラス体それぞれについて、 C1残存 量、失透温度、ガラス転移点、 1cm3当たりの泡数、密度、平均線熱膨張係数、ピツカ ース硬度およびフッ酸に対するエッチングレートをそれぞれ測定し、さらに耐熱性、 清澄性および耐酸性の評価を行った。
[0057] [表 1] 実施例 1 実施例 2 実施例 3 実施例 4 実施例 5 実施例 6
Si02 79.2 76.5 78.1 79.5 80.3 80.4
Al203 2.3 2.2 2.2 2.3 2.3 1.1
B203 12.4 12.3 13.5 12.5 1 1.4 12.4
Li20 0 0 0 0 0 0
Na20 0 0 0 0 0 0 組成 (質量％) K20 6.1 9.0 6.1 5.4 6.1 6.1 gO 0 0 0 0 0 0
CaO 0 0 0 0.4 0 0
SrO 0 0 0 0 0 0
BaO 0 0 0 0 0 0
Zr02 0 0 0 0 0 0
CI残存量 (質量％) 0.1 1 0.12 0.13 0.13 0.12 0.13 失透温度 (°c) く 980 < 980 < 980 < 980 < 980 < 980 ガラス転移点 (°c) 559 594 555 576 568 571 耐熱性評価 O O O O O O
1cm3当たりの泡数 136 0 24 48 0 16 清澄性評価 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 密度（ d / g.cm-3) 2.2 2.3 2.2 2.2 2.2 2.2 平均線熱膨張係数（ 10—7 —1) 35 49 40 34 37 37 ビッカース硬度（ kg'mm— 2) 526 542 521 520 528 545 フッ酸水溶液に対するエッチング
1 1 13 16 15 13 13 レ一卜 ( nm - min )
耐酸性評価 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 総合評価 ◎ ◎ ◎ © ◎ ◎
実施例 7 実施例 8 実施例 9 比較例 1 比較例 2 比較例 3
Si02 77.5 77.4 78.4 49 81 72.5
Al203 2.2 2.3 2.3 10 2 5
B203 12.3 12.5 14.7 15 13 13.5
Li20 0 0 0 0 0 0
Na20 0 0 0 0.3 4 6.4 組成 (質量％) K20 6.0 6.1 4.6 0 0 0
MgO 0 0 0 0 0 0
CaO 0 1.8 0 0 0 0.8
SrO 0 0 0 0.4 0.0 0
BaO 0 0 0 25 0 1.3
Zr02 1.9 0 0 0 0 0.5
CI残存置 (質置％) 0.12 0.14 0.10 0 0 0 失透温度 (°c) < 980 < 980 < 980 - < 980 - ガラス転移点 (°c) 574 606 528 630 551 575 耐熱性評価 O O O O ο Ο i Cm3当た yの泡数 32 0 112 5000 800 40 清澄性評価 ◎ ◎ ◎ Δ X Ο 密度（ d / g' crrf3) 2.2 2.3 2.2 2.8 2.23 2.36 平均練熱膨張係数（ 10— 7¾— 1) 37 39 34 46 33 51 ビッカース硬度（ kg' mm_2) 531 559 504 630 546 548
0.2¾フッ酸水溶液に対するエッチング
一 19 14 25 590 68 46 レ 卜 ( nrrr min ' )
耐酸性評価 © ◎ ◎ X 厶 Δ 総合評価 © ® ◎ X X X
[0059] (試料ガラスの作製）
まず、表 1および表 2に示すガラス組成となるように、通常のガラス原料である、シリ 力、アルミナ、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、塩基性炭酸マグネシウム、 炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウムおよび酸化ジルコニウムを用レ、、さらに塩化カリ ゥムを適宜混合して、ガラス原料 (バッチ）を調合した。なお、比較例 1〜3のガラス組 成物の作製に用いたガラス原料には、塩化カリウムを添加しなかった。
[0060] このうち塩化カリウムは、揮発による含有率の低下が起こらないと仮定した場合に、 ガラス組成物 lOOg当たり 0. 4gとなる量を、バッチに添カ卩した。なお、表に記載した C 1量は、作製したガラス体を蛍光 X線法によって定量分析した値である。
[0061] 調合したバッチは、白金ルツボの中で熔融および清澄した。まず、このルツボを 13 50°Cに設定した電気炉で 2時間保持してバッチを熔融した。次に、その電気炉を 2時 間かけて 1550°Cまで昇温することで、ガラス融液の清澄を行なった。その後、ガラス 融液を炉外で鉄板上に流し出し、冷却固化してガラス体を得た。このガラス体には引 き続いて徐冷操作を施した。徐冷操作は、このガラス体を 650°Cに設定した別の電 気炉の中で 30分保持した後、その電気炉の電源を切り、室温まで冷却することによ つて行なった。この徐冷操作を経たガラス体を試料ガラスとした。
[0062] (密度の測定）
純水を浸液として用いたアルキメデス法により、試料ガラスの密度を測定した。
[0063] (平均線熱膨張係数およびガラス転移点の測定）
試料ガラスに通常のガラス加工技術を用レ、、 c) 5mm、長さ 15mmの円柱形状とし、 ガラス試片とした。このガラス試片に対して示差熱膨張計 (理学株式会社製サーモフ レックス TMA8140型）を用レ、、平均線熱膨張係数およびガラス転移点を測定した
[0064] (失透温度の測定）
まず、上述した試料ガラスを粉砕して、失透温度測定用試料を作製した。具体的に は、メノウ乳鉢を用いて試料ガラスを粉砕し、 2380 /i mの篩を通過し、 1000 μ ΐηの 篩上に留まったガラス粒を篩い分けた。そのガラス粒をエタノールに浸漬し、超音波 洗浄した後、恒温槽で乾燥させて、失透温度測定用試料とした。
[0065] 次に、失透温度測定用試料を温度勾配炉の中に所定時間保持することで失透を 発生させた。具体的には、この試料の 25g分を、幅 12mm、長さ 200mm、深さ 10m mの白金ボート上にほぼ一定の厚さになるように入れ、続いてこの白金ボートを 980 〜1180°Cの温度勾配を持った電気炉内に 2時間保持して失透を発生させた後、白 金ボートを炉から取り出し室温まで放冷した。
[0066] 最後に、倍率 40倍の光学顕微鏡を用いて、白金ボートのガラス内部に発生した失 透を観察し、失透が観察された最高温度を失透温度とした。
[0067] (耐酸性の評価）
耐酸性は、フッ酸に曝したときのエッチングレート (侵食速度）で評価した。まず、上 述の試料ガラスを切断、研削して基板状に加工した後に表面を光学研磨し、その光 学研磨面の一部に耐酸性樹脂でマスキングを施して、耐酸性評価試片とした。次に 、この試片を、 60°Cに加温した 0. 2%のフッ酸水溶液に浸漬し、エッチングした。試 片のマスキングされた部分はエッチングされなレ、が、マスキングされてレ、なレ、部分は フッ酸によりエッチングされるので、マスキングされた部分とされなかった部分との間 に段差ができる。その段差を表面凹凸計で測定し、単位時間当りの侵食速度を計算 することにより、耐フッ酸性を評価した。
[0068] (清澄性の評価）
上述の試料ガラスを、倍率 40倍の光学顕微鏡で観察し、厚み、視野面積と観察さ れた泡の数からガラス lcm3当りの泡数を算出した。この方法はルツボを用いた簡易 な熔解なので、算出した泡数は、実際に商業規模で生産されるガラス体に含まれる 泡数と比較して、非常に多い。しかし、この方法で算出した泡数が少ない程、商業規 模で生産したガラス体に含まれる泡数も少ないことが分かっている。したがって、この 方法は、清澄性の指標として利用できる。
[0069] (耐熱性の評価）
耐熱性は、ガラス転移点が 550°C以上であれば良好であると評価した。
[0070] (ビッカース硬度の測定）
上述の試料ガラスを切断および研削し、 1面を光学研磨して、ビッカース硬度測定 用試料を作製した。ビッカース硬度の測定には、ビッカース硬度計 (株式会社ァカシ 社製 MVK— G2型）を用いた。まず、測定用試料の光学研磨面に、ダイヤモンド製 のビッカース圧子を、荷重 200g、荷重印加時間 30秒で押しつけた。荷重を除いた 後、圧痕の大きさを硬度計内蔵の顕微鏡で観察して測定し、その測定値を硬度計に 入力してビッカース硬度を求めた。圧痕にクラックが生じていないことを確認し、 5回 の測定の平均値をビッカース硬度の測定値とした。
[0071] (実施例:!〜 9)
表 1および表 2に示すように、実施例 1〜9の試料ガラスに残存する泡の数は、比較 例と比較して非常に少なレ、。し力、も、実施例の試料ガラスには、酸化ヒ素など環境負 荷が大きい清澄剤を添カ卩していなレ、。したがって、この結果から、本発明のガラス組 成物によると、酸化ヒ素などの清澄剤を用いることなぐ泡などの欠点の極めて少ない ガラス基板を製造することができることがわかる。 [0072] また、実施例:!〜 9のガラス組成物は、フッ酸に対するエッチングレートが 10〜25n m/minと非常に小さぐまた、エッチング処理後に上述の耐酸性評価片は白濁した りしない。つまり、フッ酸によって不適切に侵されることがなぐ耐酸性に優れている。 したがって、本発明のガラス組成物を用いて作製された情報表示装置用ガラス基板 は、情報表示装置の製造プロセスで用レ、られる薬品によって悪影響を受けることがな レ、。
[0073] さらに、実施例:!〜 9のガラス組成物は、平均線熱膨張係数が 30〜50 X 10— C—1の 範囲である。この値はシリコン材料の平均線熱膨張係数 (約 32 X 10— と充分に 近い。したがって、本発明のガラス組成物を用いて作製された情報表示装置用ガラ ス基板は、シリコン材料と共に用いられた際に、反りや応力を生じにくい。
[0074] また、実施例 1〜9のガラス組成物のガラス転移点 Tは、全て 500°C以上である。し
g
たがって、本発明のガラス組成物を用いて作製された情報表示装置用ガラス基板は 、情報表示装置の製造プロセス中で曝される熱処理履歴に対して、変形、軟化およ び失透などの不都合を起こさなレ、。
[0075] なお、実施例：!〜 9のガラス組成物の密度は、何れも 2. 2〜2. 3g' cm— 3の範囲であ る。この値は比較例 1のガラス体やその他の無アルカリホウ珪酸ガラスや建築用フロ ート板ガラスの 2. 5〜2. 8g' cm 3と比較して軽量である。したがって、本発明のガラ ス組成物を用いて作製された情報表示装置用ガラス基板によれば、情報表示装置 の軽量化を実現できる。
[0076] さらに、実施例：!〜 9のガラス組成物の失透温度は、何れも 980°C未満である。この 失透温度は、ガラス融液を冷却し固化させるときに、 980°C未満まで失透が生じない ことを意味している。したがって、本発明のガラス組成物から平面ガラス板を製造する 際に、フロート法、ダウンドロー法、フュージョン法などの製法を採用することができる 。なお、ここに列挙した製法の中で、特にフロート法は、大型で平坦性と表面粗さに 優れたガラス板を多量に製造することができる。
[0077] (比較例 1)
比較例 1は、一般的に液晶表示装置用基板として用いられるガラス組成物と同じ組 成のガラス体である。比較例 1は、泡数が 5000個/ cm3と非常に多いので、比較例 1 の組成物は清澄性が悪レ、。さらに、比較例 1のエッチングレートは 590nm/minと非 常に大きい。したがって、比較例 1の組成のガラス基板を、製造，使用時に酸性の薬 品，ガスによる処理が必要な用途に用いることは、好ましくない。
[0078] (比較例 2)
比較例 2のガラス体も、実施例 1〜9と比較して泡が多ぐ清澄性に劣る。さらに、ガ ラス中での移動速度が高いナトリウムを含むため、ガラス体には揮発による脈理が生 じていた。また、比較例 2のガラス組成を液晶表示装置用ガラス基板に用いると、ガラ ス基板からナトリウムが溶出し、電極や液晶の機能を阻害する虞がある。さらに、比較 例 2のエッチングレートは 68nmZminと大きいので、比較例 2の組成のガラス基板を 、製造および使用時に酸性の薬品またはガスによる処理が必要な用途に用いること は、好ましくない。
[0079] (比較例 3)
比較例 3のガラス体は、泡数が実施例に近ぐ清澄性が高いといえる。しかし、ガラ ス中での移動速度が高いナトリウムを含むため、ガラス体には揮発と相分離による強 い脈理が生じ、また平均線熱膨張係数が 51 X 10— 7°C_1と大きい。したがって、比較例 3の組成のガラス基板を液晶表示装置用基板に用いると、ガラス基板からナトリウムが 溶出し、電極や液晶の機能を阻害するとともに、シリコンとの熱膨張差によって表示 装置に反りを生じる虞がある。さらに、比較例 3のエッチングレートは 46nm/minと 大きいので、比較例 3の組成のガラス基板を、酸性の薬品やガスに曝すことが必要な 用途に用いることは好ましくない。
[0080] 以上の実施例および比較例から分かるように、本発明のガラス組成物は、清澄が容 易で、 30〜50 X 10— 7°C— 1の範囲の平均線熱膨張係数を持ち、耐酸性に優れている 。また、本発明のガラス組成物は、情報表示装置用ガラス基板、特にアクティブマトリ タス型液晶表示装置に適した大型のガラス基板の、高歩留まり、高効率、かつ低コス トな生産に好適である。
産業上の利用可能性
[0081] 本発明のガラス組成物およびその製造方法は、耐薬品性および耐熱性に優れ、か つ小さな熱膨張係数が要求されるガラス物品の提供、特に情報表示装置用ガラス基 板などの提供に、有効に用いられる。さらに、酸化ヒ素ゃ酸化アンチモンなどの環境 負荷の高い成分を含まないガラス物品が求められる用途にも用いることができる。

Claims

請求の範囲
質量％で示して、
SiO 70〜88%
B〇 6〜： 18%
Al O 0. 5〜4. 5%
Li O 0〜0. 5%
Na O 0〜0. 5%
K O 2〜： 10%
MgO + CaO + SrO + BaO 0〜2%
を含み、さらに塩素（C1)を含むガラス組成物。
質量％で示して、
SiO 75〜82%
B O 10〜： 15%
A1〇 0. 5〜3%
Li O 0〜0· 5%
Na O 0〜0. 5%
K O 4〜8%
Li O + Na O + K O 5〜8%
を含む請求項 1に記載のガラス組成物。
質量。 /0で示して、
SiO 75〜82%
B O 10〜： 15%
A1〇 0. 5〜3%
K O 5〜8%
を含み、かつ実質的に Li Oおよび Na Oを含まない請求項 2に記載のガラス組成物
2 2 前記塩素の含有率が、質量。 /0で示して、 0. 005〜1 %でぁる請求項1に記載のガ ラス組成物。 Pb、 Sb、 As、 V、 Tiおよび Ceの何れの酸化物も実質的に含まない請求項 1に記載 のガラス組成物。
50〜350°Cの範囲における平均線熱膨張係数が 30〜50 X 10— C—1である請求項 1に記載のガラス組成物。
請求項 1〜6の何れ力、 1項に記載のガラス組成物を用いた情報表示装置用ガラス 基板。
請求項 7に記載の情報表示装置用ガラス基板を用いた情報表示装置。
所定の組成になるように調合したガラス原料を熔融してガラス組成物を得るガラス 組成物の製造方法であって、
前記ガラス組成物が、質量％で示して、
SiO 70〜88%
B〇 6〜： 18%
A1〇 0. 5〜4· 5%
Li Ο 0〜0· 5%
Na Ο 0〜0. 5%
Κ Ο 2〜： 10%
MgO + CaO + SrO + BaO 0〜2%
を含み、
前記ガラス原料が塩化物を含有するガラス組成物の製造方法。
前記ガラス組成物が、質量％で示して、
SiO 75〜82%
B〇 10〜： 15%
A1〇 0. 5〜3%
Li O 0〜0. 5%
Na O 0〜0. 5%
K O 4〜8%
Li O + Na O + K Ο 5〜8%
を含む請求項 9に記載のガラス組成物の製造方法。 前記ガラス組成物が、質量％で示して、
SiO 75〜82%,
B O 10〜： 15%,
A1〇 0. 5〜3%，
K O 5〜8%，
を含み、かつ実質的に Li〇および Na Oを含まない請求項 10に記載のガラス組成 物の製造方法。
前記ガラス原料は、前記ガラス組成物に含まれる塩素が質量％で示して 0. 005〜 1 %となるように、前記塩化物を含有する請求項 9に記載のガラス組成物の製造方法 前記塩化物は、アルカリ金属塩ィヒ物およびアルカリ土類金属塩ィヒ物から選ばれる 少なくとも 1種である請求項 9に記載のガラス組成物の製造方法。
前記塩化物が塩化カリウムである請求項 13に記載のガラス組成物の製造方法。 前記ガラス組成物が、 Pb、 Sb、 As、 V、 Tiおよび Ceの何れの酸化物も実質的に含 まない請求項 9に記載のガラス組成物の製造方法。
前記ガラス組成物は、 50〜350°Cの範囲における平均線熱膨張係数が 30〜50 X 10— 7°C_1である請求項 9に記載のガラス組成物の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5233998B2 (ja) 2007-08-31 2013-07-10 旭硝子株式会社 ガラス板およびその製造方法ならびにｔｆｔパネルの製造方法
KR101207831B1 (ko) 2007-11-06 2012-12-04 아사히 가라스 가부시키가이샤 기판용 유리판
EP2426094B1 (en) 2008-04-21 2014-10-22 Asahi Glass Company, Limited Glass plate for display panels, process for producing it, and process for producing TFT panel
WO2009148028A1 (ja) * 2008-06-02 2009-12-10 旭硝子株式会社 減圧脱泡装置、ガラス製品の製造装置、及びガラス製品の製造方法
WO2010007902A1 (ja) * 2008-07-14 2010-01-21 コニカミノルタオプト株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体
WO2010007901A1 (ja) * 2008-07-14 2010-01-21 コニカミノルタオプト株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体
JP5708484B2 (ja) 2009-04-28 2015-04-30 旭硝子株式会社 基板用ガラス板
KR20120098601A (ko) 2009-10-19 2012-09-05 아사히 가라스 가부시키가이샤 기판용 유리판, 그의 제조 방법 및 ｔｆｔ 패널의 제조 방법
WO2011152414A1 (ja) 2010-06-03 2011-12-08 旭硝子株式会社 ガラス基板およびその製造方法
JP5757209B2 (ja) * 2010-09-28 2015-07-29 日本電気硝子株式会社 硼珪酸ガラスの製造方法
JP5469103B2 (ja) * 2011-01-20 2014-04-09 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス組成物およびその製造方法
WO2013065489A1 (ja) 2011-10-31 2013-05-10 旭硝子株式会社 ガラス基板およびその製造方法
TWI564262B (zh) 2012-02-29 2017-01-01 康寧公司 高ｃｔｅ之硼矽酸鉀核心玻璃與包含其之玻璃物件
WO2016115685A1 (en) * 2015-01-20 2016-07-28 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Low cte glass with high uv-transmittance and solarization resistance
WO2017052338A1 (ko) * 2015-09-25 2017-03-30 주식회사 엘지화학 유리 도광판
CN114180828A (zh) 2016-12-29 2022-03-15 广东东阳光药业有限公司 高耐化学性的硼硅酸盐玻璃及其应用
WO2019080776A1 (zh) 2017-10-24 2019-05-02 广东东阳光药业有限公司 抗紫外线耐碱硼硅酸盐玻璃及其应用
WO2021149770A1 (ja) * 2020-01-24 2021-07-29 国立大学法人筑波大学 半導体素子とその製造方法および熱電変換装置とその製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001287929A (ja) * 2000-04-04 2001-10-16 Nippon Electric Glass Co Ltd Ｈｉｄランプのステム、及び排気管用ガラス
JP2002193635A (ja) * 2000-12-26 2002-07-10 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP2003192377A (ja) * 2001-12-21 2003-07-09 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス及びディスプレイ用ガラス基板

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61106437A (ja) * 1984-10-26 1986-05-24 Asahi Glass Co Ltd 多孔質ガラス用組成物及び多孔質ガラスの製造法
JP2966161B2 (ja) * 1991-09-06 1999-10-25 旭テクノグラス株式会社 Ｈｉｄランプ用前面ガラス
JPH0616453A (ja) * 1992-06-26 1994-01-25 Asahi Glass Co Ltd 紫外線シャープカットガラスの製造法
DE60033799T2 (de) * 1999-11-29 2007-06-28 Nippon Electric Glass Co., Ltd., Otsu Wolfram-dichtungsglas
EP1293487A1 (en) 2001-09-14 2003-03-19 Asahi Glass Co., Ltd. Vacuum degassing apparatus for molten glass
JP2003160340A (ja) 2001-09-14 2003-06-03 Asahi Glass Co Ltd 減圧脱泡装置
WO2003054597A2 (fr) * 2001-12-20 2003-07-03 Isuzu Glass Co Ltd Procede de formation de guide d'onde optique
US7538050B2 (en) * 2002-02-05 2009-05-26 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Glass composition
JP2003300750A (ja) 2002-02-05 2003-10-21 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス組成物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001287929A (ja) * 2000-04-04 2001-10-16 Nippon Electric Glass Co Ltd Ｈｉｄランプのステム、及び排気管用ガラス
JP2002193635A (ja) * 2000-12-26 2002-07-10 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP2003192377A (ja) * 2001-12-21 2003-07-09 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス及びディスプレイ用ガラス基板

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
AKIRA NARUSE: "Glass Kogaku, 1ST ED.", 15 October 1981, pages: 21 - 22, XP002998072 *
See also references of EP1829831A4 *

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