WO2005100448A1 - 活性エネルギー線硬化性樹脂、それを含有する光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents

活性エネルギー線硬化性樹脂、それを含有する光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物 Download PDF

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acid
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Shoji Minegishi
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Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
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    • H05K3/4673Application methods or materials of intermediate insulating layers not specially adapted to any one of the previous methods of adding a circuit layer
    • H05K3/4676Single layer compositions

Definitions

  • the present invention relates to a linear active energy linearly curable resin having both a photopolymerizable unsaturated group and a carboxyl group, particularly a linear and alkaline active energy ray containing regularly and repeatedly a cyclohexane ring. It relates to a curable resin.
  • the present invention also relates to a photocurable / thermocurable resin composition and a cured product thereof, which can be completely developed using the active energy ray-curable resin, and more particularly to various uses, particularly printed wiring. It is suitable for use as a permanent mask of a board or as an interlayer insulating layer of a multilayer wiring board.
  • an image is formed by developing with a dilute alkaline aqueous solution, and heat treatment after irradiation with active energy rays or heat treatment
  • Low energy, low adhesion, adhesion, electroless plating resistance, electrical properties, flexibility, moisture absorption, and PCT (pressure cooker) resistance by finish hardening in the active energy beam irradiation step after treatment or heat treatment.
  • Photocurable / thermocurable resin composition capable of forming an excellent cured film in liquid form, and cured film forming technology using it About. Background art
  • solder resists for some consumer printed wiring boards and most industrial printed wiring boards have been developed from the viewpoint of high precision and high density by forming an image by irradiating ultraviolet rays, developing, and applying heat and light.
  • a liquid image-type solder resist that is finally cured (finally cured) by irradiation is used.
  • liquid soldering resists of the alkaline developing type using a dilute aqueous solution as a developing solution are mainly used.
  • An example of the solder resist of the image forming type using a dilute aqueous solution is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-243,696.
  • H10-157 discloses a solder resist composition
  • a solder resist composition comprising a photosensitive resin obtained by adding an acid anhydride to a reaction product of a novolak epoxy compound and an unsaturated monobasic acid, a photopolymerization initiator, a diluent, and an epoxy compound.
  • No. 3-2553093 discloses a photosensitive resin obtained by adding an acid anhydride to a reaction product of a novolak-type epoxy compound and an unsaturated monobasic acid, a photopolymerization initiator, a diluent, and vinyltriazine.
  • a solder-resist composition comprising a mixture of vinyltriazine and dicyandiamide and a melamine resin is disclosed.
  • solder resists As described above, several material systems have conventionally been used as solder resists.
  • the above-mentioned novolak type epoxy compound is mainly used as a photosensitive component.
  • a large amount of solder resist compositions using a photosensitive resin obtained by adding an acid anhydride to a reaction product of a basic acid are used.
  • photosensitive resins are excellent in photocurability and developability, it is hard to say that they have reached a satisfactory level in terms of the balance between photocurability and flexibility.
  • it tends to shrink during curing and has low elongation and lacks toughness, so cracks may be easily generated by thermal shock depending on the purpose of use.
  • solder-resist IC packages that use printed wiring boards and sealing resin have appeared.
  • a metal such as a ball-shaped solder is arranged in an area on one side of a printed wiring board on which solder resist has been applied, and an IC chip is directly provided on the other side by wire bonding or bumping.
  • BGA ball 'grid' array
  • CSP chip 'scale' package
  • one object of the present invention is to provide an Al-soluble active energy linear curable resin having high sensitivity, high flexibility, and well-balanced flexibility and toughness. is there.
  • an object of the present invention is to maintain characteristics such as a conventional solder resist of a printed wiring board and low dielectric properties, adhesion, electroless plating resistance, and electrical properties required for an interlayer insulating layer of a multilayer wiring board.
  • a cured film with excellent properties such as moisture absorption and PCT (pressure cooker) resistance required especially for IC packages can be obtained, and it is suitable for high density and surface mounting of printed wiring boards.
  • An active energy ray-curable resin obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid (c) with a terminal epoxy group and further reacting a polybasic acid anhydride (d) with a hydroxyl group is provided.
  • the compound (II) having at least two carboxyl groups in one molecule is 1,2-cyclohexenedicarbonic acid, tetrahydrofuronic acid, or hexahydrofuranic acid containing no aromatic ring. At least one member selected from the group consisting of phosphoric acid, hexahydroidsophthalic acid, and hexahydroterephthalic acid, and particularly preferably cyclohexanedicarboxylic acid.
  • the bifunctional epoxy compound (III) is a hydrogenated bifunctional epoxy compound.
  • a photocurable and thermosetting resin composition that can be developed with an aqueous solution of an alkali, characterized by containing a compound having an epoxy group and / or an oxenyl group (hereinafter, referred to as a cyclic ether compound). Things are provided.
  • a photocurable or thermosetting resin composition further comprising (E) a curing catalyst, in addition to the above components, and in addition to these components, (F) A composition containing an active energy ray-curable resin other than the above active energy ray-curable resin is provided.
  • the active energy ray-curable resin of the present invention is preferably a polybasic acid anhydride adduct of an alternating copolymer type linear epoxy acrylate compound having an ester bond, particularly cyclohexane as a compound having two carboxyl groups.
  • dicarboxylic acid it contains cyclohexane ring repeatedly and has ester bond.
  • the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention containing such an active energy ray-curable resin as a photocurable component is excellent in photocurability, alkali developability, and adhesion to a substrate.
  • a cured product with excellent low dielectric properties, water resistance, electroless plating resistance, chemical resistance, electrical insulation, flexibility, and PCT resistance can be obtained.
  • the photopolymerization initiator (B) is added in an amount of 0.1 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy linear curable resin (A). Parts, preferably 0.5 to 20 parts by mass, 10 to 60 parts by mass of the diluent (C), preferably 15 to 50 parts by mass, and 10 to 100 parts by mass of the cyclic ether compound (D). It is desirable to use the curing catalyst (E) in a proportion of 0.1 to 20 parts by mass as necessary.
  • the active energy ray-curable resin (F) may be replaced by a part of the active energy ray-curable resin (A), and another active energy ray-curable resin (F) may be contained as necessary.
  • (G) a spherical porous filler having an average particle diameter of 1 to 10 / m can be contained.
  • (H) epoxidized polybutadiene, (I) spherical urethane beads, and the like can be contained as needed, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the photocurable 'thermosetting resin composition of the present invention may be used in a liquid state or in the form of a dry film, and can be advantageously used in various fields. It can be advantageously used for forming an interlayer insulating layer and a solder resist layer.
  • a cured product obtained by curing the photocurable / thermosetting resin composition by irradiating with active energy rays and / or heating.
  • a printed circuit formed by forming an interlayer insulating layer and / or a solder resist layer from the photocurable and thermosetting resin composition A wire plate is provided.
  • the present inventors have conducted intensive studies in order to solve the above-mentioned problems.
  • the polybasic acid anhydride (a) and at least one unsaturated double bond and one alcohol Formation of polyaddition reaction between reactant (I) with compound (b.) Having hydroxyl group, compound (II) having at least two carboxyl groups in one molecule, and bifunctional epoxy compound (III) (However, at least one of the compound (II) having a carboxyl group and the bifunctional epoxy compound (III) is a compound having no aromatic ring) and having an unsaturated group in a side chain.
  • the terminal epoxy group of the epoxy resin having a hydroxyl group is reacted with an unsaturated monocarboxylic acid (C) to introduce a photopolymerizable unsaturated group, and further, a polybasic anhydride is added to the hydroxyl group.
  • C unsaturated monocarboxylic acid
  • Photo-curable and thermo-curable resin compositions containing as a water-soluble component have low dielectric properties, adhesion, electroless plating resistance, electrical properties, flexibility, moisture absorption resistance, PCT (pressure cooker) resistance, etc. It has been found that a cured product having excellent characteristics is provided, and the present invention has been completed.
  • the active energy ray-curable resin of the present invention is obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid with the epoxy resin to introduce a photopolymerizable unsaturated group, and further reacting a polybasic acid anhydride to form a carboxyl group.
  • the epoxy resin of the backbone polymer is obtained by the polyaddition reaction of the components (I), ( ⁇ ) and (III).
  • the cured product has low dielectric properties, adhesion to substrates, electroless plating resistance, electrical properties, flexibility, and Excellent in hygroscopicity and PCT resistance.
  • active energy ray-curable resin of the present invention and a photocurable resin using the same.
  • thermosetting composition Each component of the thermosetting composition will be described in detail. First, the active energy linear curable resin of the present invention will be described.
  • the active energy ray-curable resin of the present invention is manufactured through the following steps.
  • a polybasic acid anhydride (a) and a compound (b) having at least one unsaturated double bond and one alcoholic hydroxyl group in one molecule are used under reaction conditions as described below.
  • the reactant (I) is obtained.
  • the resulting reactant (I) can be represented, for example, by the following general formula (1).
  • R CH 3 , H
  • R 1 represents a polybasic anhydride residue
  • e is an integer of 1 or 2.
  • J is a structure derived from a compound (b) having at least one unsaturated double bond and one alcoholic hydroxyl group in one molecule described later.
  • polybasic acid anhydride (a) examples include fluoric anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrofluoric anhydride, hexahydrofluoric anhydride, methyl terephthalic anhydride, Dibasic anhydrides such as 3,6-endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendmethylenetetrahydrofluoric anhydride, and tetrabromo anhydrous fluoric acid; tribasic acids such as trimellitic anhydride Anhydrides; and biphenyltetracarboxylic dianhydride, naphthylenetetracarboxylic dianhydride, diphenylethertetracarboxylic dianhydride, butanetracarbonic dianhydride, cyclopentenetetracarboxylic dianhydride And aliphatic or aromatic tetrabasic dianhydrides such as pyromellitic anhydride, benzophen
  • K represents a glycol residue and is represented by the following general formula (3)
  • R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • g is an integer of 0 or 1.
  • the modified trimeric anhydride (a-1) include condensates of glycol-based diols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol with trimellitic anhydride. Are mentioned.
  • examples of commercially available products include TMEG-100, TMEG-200, TMEG-300, TMEG-500, TMTA-C, etc., manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.
  • a reaction product of a tetrabasic acid anhydride or a tribasic acid anhydride with the compound (b) is a molecular chain extender and a side chain unsaturated double bond introducing agent in a polyaddition reaction described later.
  • a reaction product of the dibasic acid anhydride and the compound (b) serves as a molecular chain terminator.
  • Examples of the compound (b) having at least one unsaturated double bond and one alcoholic hydroxyl group in one molecule include 2-hydroxyhexyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth).
  • Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; diethylene glycol mono (meth) acrylate, dipropyleneglycol-mono (meth) acrylate, trimethylolpropanedi (meth) acrylate, glycerin di (Meta) acrylate, pen erythritol tol (me) acrylate, dipen erythritol pent pent (meta) acrylate, and the like.
  • a compound in which a cyclic ester such as ⁇ -force prolactone is added to a hydroxyl group of the above compound can also be used.
  • the preferred addition rate of e-caprolactone is 1 to 2 moles per 1 mole of the hydroxyalkyl (meth) acrylate or the like.
  • e-caprolactone is 1 to 2 moles per 1 mole of the hydroxyalkyl (meth) acrylate or the like.
  • the compound (b) is used in an amount of 1.0 to 1.5 equivalents, preferably 1.0 to 1.2 equivalents, per equivalent of the polybasic acid anhydride (a).
  • the diluent (C) described below can be used.
  • a thermal polymerization inhibitor is preferable to use.
  • the reaction temperature at that time is about 60 to 15 0 ° C is appropriate, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours.
  • tertiary amine, tertiary amine salt, quaternary onium salt, tertiary phosphine, phosphorus ylide, crown ether complex are used as reaction accelerators.
  • Adducts of tertiary amines or tertiary phosphines with carboxylic acids or strongly acidic phenols can be used.
  • the amount used is suitably in the range of 0.1 to 25 mol%, more preferably 0.5 to 20 mol%, and more preferably, based on the polybasic acid anhydride (a). Or 1 to 15 mol%.
  • the reaction proceeds either in an organic solvent or in the absence of a solvent. However, when the reaction is performed in the presence of an organic solvent (C-2) described later, it is possible to improve the stirring efficiency during the reaction.
  • an organic solvent C-2
  • air may be blown or a polymerization inhibitor may be added for the purpose of preventing gelation due to polymerization of the unsaturated double bond.
  • polymerization inhibitors include hydroquinone, tolquinone, methoxyphenol, phenothiazine, triphenylantimony, copper chloride, etc.
  • the reactant (I), a compound having at least two carboxyl groups in one molecule ( ⁇ ), and a bifunctional epoxy compound (III) are used as raw materials (provided that the compound having a carboxyl group ( ⁇ Or at least one of the bifunctional epoxy compound (III) is a compound having no aromatic ring), and is polymerized alternately using a known catalyst as described later to form an unsaturated group on the side chain. And an epoxy resin having a hydroxyl group is obtained.
  • the obtained epoxy resin can be represented, for example, by the following general formula (4).
  • R 3 represents a structure derived from a bifunctional epoxy compound described below, Is a structure derived from the bond of the raw materials (I) and / or (II) and Z or (III), and is represented by the following general formulas (5), (6) and (7).
  • the following general formulas (5), (6) and (7) which are repetitive structural units, are randomly bonded and have at least one or more.
  • one structural unit represented by the following general formula (8) must be bonded.
  • R 1 and R 3 represent the same meaning as described above, R 4 represents a dicarboxylic acid residue, and e is an integer of 1 or 2.
  • the compound ( ⁇ ) having at least two carboxyl groups in one molecule include 1,2-cyclohexenedicarboxylic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrofuric acid, hexahydroisofuric acid, and Examples include xahydroterephthalic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, muconic acid, suberic acid, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
  • bifunctional epoxy compound ( ⁇ ) examples include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bixylenol type or biphenol type epoxy resin or a mixture thereof, bisphenol S type epoxy resin. Among them, hydrogenated bifunctional epoxy compounds are preferable.
  • Examples of the hydrogenated bifunctional epoxy compound (III) include, for example, Epikoto 828, Epikoto 834, Epikoto 1001, Epikoto 1004, and Dainippon Ink & Chemicals, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epiclon 840, Epiclone 850, Epiclone 1050, Epiclone 2055, Epitron YD_011, YD-011, YD-013, YD-127, YD-128, manufactured by Dow Chemical Co., Ltd. R. 317, D. ER 331, D. E. R. 661, D. E. R.
  • Biphenol type epoxy resin or a mixture thereof EBP S-200 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., EPX-30 manufactured by Asahi Kagaku Corporation, EXA-1514 (trade name) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, etc.
  • Bisphenol S-type epoxy resin Of these, hydrogenated bisphenol A-type epoxy compounds are preferable.
  • the hydrogenation rate of the epoxy compound is 0.1% to 100%.
  • sensitivity tends to decrease due to absorption of light by the aromatic ring during exposure of the resulting photocurable and thermosetting resin composition.
  • By adding hydrogen the effect of improving the sensitivity and the effect of improving the electroless plating resistance can be obtained, as is apparent from the examples described later.
  • bifunctional epoxy compounds (III) can be used alone or in combination of two or more.
  • the compound ( ⁇ ) having at least two carboxyl groups in one molecule is not particularly limited, but a particularly preferred embodiment is that R 4 in the general formulas (5) and (6) is a cyclo group.
  • R 4 in the general formulas (5) and (6) is a cyclo group.
  • the cyclohexane ring is regularly and repeatedly contained. A cured epoxy resin with excellent photocurability and a higher level of balance between toughness and flexipurity can be obtained.
  • the catalyst used in the reaction between the reactant (I), the compound (II) having at least two carboxyl groups in one molecule, and the bifunctional epoxy compound ( ⁇ ) includes an epoxy group and a carboxyl group. It is preferable to use a phosphine, an alkali metal compound and an amine which react quantitatively alone or in combination. Other catalysts are not preferred because the monomer component reacts with an alcoholic hydroxyl group generated by the reaction between the epoxy group and the carboxyl group, resulting in gelation.
  • the phosphines include trialkyl or triaryl phosphines such as tributyl phosphine and triphenyl phosphine, and salts thereof with oxides. These may be used alone or in combination of two or more. be able to.
  • alkali metal compound examples include hydroxides, halides, alcoholates, and amides of alkali metals such as sodium, lithium, and potassium.These may be used alone or in combination of two or more. it can.
  • amines include aliphatic or aromatic primary, secondary, tertiary, and quaternary amines, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • Specific examples of amines include 'triethanolamine, N, N-dimethylbiperazine, triethylamine, tri-n-proviramine, hexamethylenetetramine, pyridine, tetramethylammonium bromide and the like.
  • the amount of these catalysts used is desirably 0.1 to 25 mol%, preferably 0.5 to 2 mol%, per mol of epoxy group of the bifunctional epoxy compound (II).
  • the proportion is 0 mol%, and more preferably the proportion is 1 to 15 mol%.
  • the reason for this is that if the amount of catalyst used is less than 0.1 mol%, the reaction takes a long time and is not economical, while if it exceeds 25 mol%, the reaction is conversely fast because the reaction is fast. It is not preferable because it becomes difficult.
  • the amount of each used is varied.
  • the polyaddition reaction between the reactant (I), the compound (II) having at least two carboxyl groups in one molecule, and the bifunctional epoxy compound (III) is carried out in an inert gas stream or air.
  • the reaction is preferably carried out at a temperature in the range of about 50 to 200 ° C. in the presence of the catalyst, and more preferably in the range of about 80 to 150 ° C.
  • the reaction temperature is lower than 50 ° C., the reaction hardly proceeds, which is not preferable.
  • the temperature exceeds 200 ° C a side reaction between the hydroxyl group and the epoxy group of the product proceeds. However, gelation is likely to occur, which is not preferable.
  • the reaction time may be appropriately selected depending on the reactivity of the raw materials and the reaction temperature, but about 5 to 72 hours is appropriate. Next, the synthesis of a polyfunctional acrylate resin will be described.
  • the polyfunctional acrylate resin of the present invention is obtained by adding an unsaturated monocarboxylic acid (c) to an epoxy resin having a linear structure obtained as described above, in the presence or absence of an organic solvent described below, to form a hydroquinone.
  • an unsaturated monocarboxylic acid (c) such as oxygen, tertiary amines such as triethylamine, quaternary ammonium salts such as triethylbenzylammonium chloride, and imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole It can be usually produced by reacting at about 80 to 130 ° C. in the presence of a reaction catalyst such as a phosphorus compound such as triflatin phosphine.
  • L and R 3 represent the same meaning as described above.
  • a polyfunctional acrylate resin is produced by reacting the epoxy resin with an unsaturated monocarboxylic acid (c), the epoxy resin is mixed with an unsaturated monocarboxylic acid with respect to 1 mole of epoxy group contained in the resin.
  • the acid (c) is mixed in a ratio of 0.2 to 1.3 mol, and heated to about 60 to 150 ° C, preferably 70 to 130 ° C in a solvent or without a solvent. The reaction is preferably carried out in the presence of air.
  • a known and commonly used polymerization inhibitor such as hydroquinones such as methylhydroquinone and hydroquinone; and benzoquinones such as p-benzoquinone and p-toluquinone may be used.
  • hydroquinones such as methylhydroquinone and hydroquinone
  • benzoquinones such as p-benzoquinone and p-toluquinone
  • esterification catalyst it is preferable to use an esterification catalyst in order to shorten the reaction time.
  • esterification catalyst examples include tertiary amines such as N, N-dimethylaniline, pyridine and triethylamine, and hydrochlorides or bromates thereof; Quaternary ammonium salts such as luammonium chloride and triethylbenzylammonium chloride; sulfonic acids such as para-toluenesulfonic acid; sulfonium salts such as dimethyl sulfoxide and methyl sulfoxide; triphenylphosphine and tri-n -Known and commonly used catalysts such as phosphines such as butylphosphine; metal halides such as lithium chloride, lithium bromide, stannous chloride and zinc chloride can be used.
  • tertiary amines such as N, N-dimethylaniline, pyridine and triethylamine, and hydrochlorides or bromates thereof
  • Quaternary ammonium salts such as luammonium chloride and
  • an inert solvent for example, toluene, xylene and the like can be used.
  • unsaturated monocarboxylic acid (c) examples include acrylic acid, methacrylic acid, cymcinic acid, crotonic acid, sorbic acid, hyrocyanocynic acid,? -Styrylacrylic acid and the like.
  • Unsaturated dibasic acid anhydride adducts of hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as acrylate, phenylglycidyl (meth) acrylate, and adduct of (meth) acrylate caprolactone.
  • unsaturated monocarboxylic acids (c) particularly preferred are acrylic acid and methacrylic acid. These unsaturated monocarboxylic acids (c) can be used alone or in combination of two or more.
  • the active energy ray-curable resin (A) of the present invention is obtained by reacting the polybasic acid anhydride (d) with the alcoholic hydroxyl group of the polyfunctional acrylate resin produced by the above reaction.
  • the amount of the anhydride (d) used is suitably from 0.1 to 1 mol of the anhydride group to 1 mol of the alcoholic hydroxyl group in the polyfunctional acrylate resin. It is desirable that the addition amount is such that the acid value of the conductive resin is in the range of 50 to 200 mgKOH / g, preferably 50 to 120 mgKOH / g.
  • the acid value of the liner curable resin is lower than 50 mg K 0 HZ g, the solubility in an aqueous solution of alcohol is deteriorated, and development of the formed coating film becomes difficult. On the other hand, if it is higher than 200 mgKOH / g, the surface of the exposed portion is developed irrespective of the exposure conditions, which is not preferable.
  • R 1 and R 3 have the same meaning as described above, and M has a structural unit represented by the following general formulas (12), (13) and (14).
  • the following general formulas (12), (13), and (14), which are repeating structural units, are randomly combined, and each structural unit (12), (13), (14) has the following structure:
  • One structural unit represented by the general formula (15) is always bonded.
  • the group “m” can be adjusted by the reaction rate of the polybasic acid anhydride.
  • the above reaction is carried out in the presence or absence of an organic solvent described below, in the presence of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and oxygen, usually at about 50 to 130 ° C.
  • a polymerization inhibitor such as hydroquinone and oxygen
  • a tertiary amine such as triethylamine
  • a quaternary ammonium salt such as triethylbenzylammonium chloride
  • an imidazole compound such as 2-ethyl-4-methylimidazole
  • a phosphorus compound such as triphenylphosphine
  • polybasic acid anhydride (d) examples include methyltetrahydrofluoric anhydride, tetrahydrofluoric anhydride, hexahydrofluoric anhydride, methylhexahydride, anhydrous fluoric anhydride, nadic anhydride, Alicyclic dibasic anhydrides such as, 6-endomethylenetetrahydro anhydrous fluoric acid, methylendmethylenetetrahydrophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride; succinic anhydride, maleic anhydride, and anhydride Aliphatic or aromatic dibasic anhydride or tribasic anhydride such as conic acid, octenyl succinic anhydride, pentadodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, or biphenyl tetracarboxylic acid Dianhydride, diphenyl ether tetracarboxylic
  • the number average molecular weight of the active energy ray-curable resin (A) of the present invention is suitably in the range of 400 to 100,000, preferably 900 to 200,000, and so on. More preferably, it is 900 to 100,000. If the number average molecular weight of the active energy ray-curable resin is less than 400, the toughness of the obtained cured product is not sufficient, while if it exceeds 100,000, the developability is lowered, which is not preferable. .
  • Examples of the photopolymerization initiator (B) include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenone; 2-Phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-1-acetonephenones such as 2-phenylacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4-1- (methylthio) phenyl] —2-morpholinoaminopropanone-1 1,2-benzyl-2-dimethylamino-11- (4-morpholinophenyl) -butane-1-1-one, aminoacetophenones such as N, N-dimethylaminoacetophenone; 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone , 2-t-butylanthraquinone, 1- Anthraquinones such as 2,4-dimethylthio
  • the polymerization initiator may be used alone or as a mixture of two or more kinds. Further, N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl 4-dimethylaminobenzoate An initiator such as tertiary amines such as triethylamine and triethanolamine can be added. In addition, thiocyanocene compounds, such as CGI-784 (manufactured by Ciba-Specialty Chemicals), which absorb in the visible light region, can also be added to promote the photoreaction.
  • CGI-784 manufactured by Ciba-Specialty Chemicals
  • photopolymerization initiators are 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinoaminopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-11- (4-morpholinophenyl) -1 But are not limited to these, and are those that absorb light in the ultraviolet or visible light region and radically polymerize unsaturated groups such as (meth) acryloyl groups. If so, it is not limited to the photopolymerization initiator and photoinitiator, but can be used alone or in combination.
  • the amount of the photopolymerization initiator (B) used (the total amount thereof when a photoinitiator is used) is 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A) (the same hereinafter as solid content). ) Is preferably 0.1 to 25 parts by mass, more preferably 0.5 to 20 parts by mass.
  • the amount of the photopolymerization initiator is less than the above range, the composition does not cure even if the irradiation of the active energy ray is turned off, or the irradiation time needs to be increased, so that it is difficult to obtain appropriate coating film properties.
  • the photopolymerization initiator is added in a larger amount than the above range, there is no change in the photocurability, which is not economically preferable.
  • a photopolymerizable vinyl monomer (C-1) and / or an organic solvent (C-12) can be used as the diluent (C).
  • photopolymerizable vinyl monomers (C-11) include hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate; Mono- or diacrylates of glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol, and propylene glycol; N, N-dimethylacrylamide; Acrylamides such as N-methylol acrylamide and N, N-dimethylaminopropyl acrylamide; N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylate and the like Aminoalkyl acrylates; polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylolpropane, phenol erythritol, dipentyl erythritol, and tris-hydroxyxyl isocyanurate, and adducts thereof.
  • hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxy
  • Polyacrylates such as propylene oxide adducts; phenoxyacrylates, bisphenol A diacrylates, and acrylates such as ethylene oxide adducts or propylene oxide adducts of these phenols; glycerin diglycidyl ether; Acrylates of glycidyl ether such as glycerin ligidyl ether; trimethylolpropanth ligidyl ether; triglycidyl isocyanurate; and melamine acrylate; and methacrylates corresponding to the above acrylate.
  • Examples of the organic solvent (C-2) include ketones such as methylethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; cellosolve, methylcellosolve, and butylcelle.
  • Glycols such as Solve, Carbitol, Methyl carbitol, Butyl carbitol, Propylene glycol monomethyl ether, Dipropylene glycol monomethyl ether, Dipropylene glycol monoethyl ether, Triethylene glycol monoethyl ether, etc.
  • Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and acetic acid ester of the above-mentioned glycol ethers; alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; and ethers such as octane and decane Aliphatic hydrocarbons; stone And a petroleum-based solvent such as ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha, and a cyclic ether compound (a thermosetting component having good compatibility with the active energy ray-curable resin (A)). Those which do not dissolve D) are preferred.
  • the diluent (C) as described above may be used alone or as a mixture of two or more.
  • the preferred range of the amount is 10 to 60 parts by mass, preferably 15 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A).
  • the ratio by mass is desirable, and when used in a larger amount, the dryness to the touch is deteriorated, which is not preferable.
  • the amount of the organic solvent used is not limited to a specific ratio, but a range of about 30 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A) is appropriate. It can be set appropriately according to the coating method to be performed.
  • the purpose of use of the diluent (C) is to, in the case of the photopolymerizable vinyl monomer (C-1), dilute the photosensitive component to make it easy to apply and to enhance photopolymerizability. .
  • an organic solvent (C-12) the photosensitive component is dissolved and diluted, and thereby applied as a liquid, and then dried to form a film, thereby enabling contact exposure. Therefore, depending on the diluent used, either a contact type or a non-contact type in which a photomask is brought into close contact with the coating film is used.
  • cyclic ether compound (D) a polyfunctional epoxy compound (D-1) and / or a polyfunctional oxetane compound (D-2) can be used.
  • polyfunctional epoxy compound (D-1) examples include Epikoto 828, Epikoto 834, Epikoto 1001, Epikoto 1004, and Epikoto 1004 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epiclon 840, Ebicron 850, Epiclone 1050, Evicron 2055, Toto Kasei Co., Ltd. Epototo YD-011, YD-013, YD-127, YD-128, D.E.
  • Epicron 830 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals
  • Epiko 807 manufactured by Japan Epoxy Resin
  • Toto YAP-170, YD F-175 YD F-204, Ciba Specialty manufactured by Kasei Co., Ltd.
  • Bisphenol F epoxy resin hydrogenated bisphenol A epoxy resin such as ST-200, ST-2007, ST-300 (trade name) manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .; Epikote 604 manufactured by Xylene Resin, YH-434 manufactured by Toto Kasei, Araldide MY720 manufactured by Ciba's Specialty Chemicals, Sumitomo Epoxy ELM-120 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • Glycidylamine-type epoxy resin both are trade names
  • Hydantoin-type epoxy resin such as Araldide CY-350 (trade name) manufactured by CIVAS CHARTY CHEMICALS CO., LTD .
  • Celloxide 2 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
  • Lipid epoxy resins such as Araldide CY 175 and CY 179 (all trade names) manufactured by Ciba Specialty Chemicals; YL-933 manufactured by Japan Epoxy Resin; T. EN, EPPN manufactured by Dow Chemical — 50 1, £ ura? -502 etc. (all trade names), such as trihydroxyphenylmethyl epoxy resin; YL-6056, YX-40000, YL-6121 (trade names) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Bixylenol type or biphenol type epoxy resin or a mixture thereof; Nippon Kayaku EBPS-20
  • Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.'s araldide 163 etc. (all trade names), tetraphenic two-necked luethane type epoxy resin; Ciba 'Specialty Chemicals Co., Ltd.'s araldide PT 810, Nissan Chemical Industries, Ltd. Heterocyclic epoxy resin such as TE PIC (trade name) manufactured by Nihon Yushi Co., Ltd .; Diglycidyl phthalate resin such as Plemma D GT (trade name) manufactured by NOF Corporation; ZX- manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
  • Tetraglycidyl xylenylethane resin such as 1063 (trade name); NS-190, ESN_360 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., HP— 4032, EXA—4750, EXA— manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
  • Epoxy resin containing naphthylene group such as 4700 (all trade names); epoxy resin with dicyclopenyl skeleton such as HP-7200 and HP-7200H (all trade names) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; CP-503, manufactured by NOF Corporation Glycidyl methacrylate copolymer epoxy resin such as syrup-50 (all trade names); and epoxy resin of cyclohexylmaleide and glycidylmethacrylate copolymer, etc., but are not limited thereto. It is not something that can be done.
  • These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more. Among these, a biphenol-type or bixylenol-type epoxy resin or a mixture thereof is particularly preferable.
  • bisoxetane a typical example of a compound having two oxetanol groups in one molecule (hereinafter referred to as bisoxetane) is represented by the following general formula (16). And bisoxetanes.
  • R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • P represents a linear or branched saturated hydrocarbon having 1 to 12 carbon atoms, and 1 to 12 carbon atoms.
  • Linear or branched unsaturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons represented by the following formulas (17), (18), (19), (20) and (21); ) And (23) are selected from linear or cyclic alkylenes containing a carbonyl group, and aromatic hydrocarbons containing a carbonyl group shown by the following formulas (24) and (25). Represents a divalent group.
  • R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group, or an aralkyl group
  • R 7 represents — 0—, 1 S—, —CH 2 —, — NH—, — S 0 2 —, —CH (CH 3 ) 1, —C (CH 3 ) 2 —, or 1 C (CF 3 ) 2 —
  • R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • k is an integer from 1 to 12
  • Representative examples of the polyfunctional oxetane compound (D-2) used in the present invention include bisoxetanes represented by the aforementioned general formula (16) and two oxetane compounds in one molecule exemplified above. In addition to the compound having a hydroxyl group, a compound having three or more oxenyl groups in the molecule can be used.
  • Representative examples of the compound having three or more oxenyl groups in one molecule include a compound represented by the following general formula (26).
  • R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • Q represents a branched group having 1 to 12 carbon atoms represented by the following general formulas (27), (28) and (29).
  • An alkylene group or an aromatic hydrocarbon represented by the following general formulas (30), (31) and (32). 1 represents the number of functional groups bonded to the residue Q, and is an integer of 3 or more, preferably an integer of 3 to 5000.
  • R 1 Q represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group.
  • Other examples include a copolymer of an unsaturated monomer having an oxetane ring and an alkyl (meth) acrylate.
  • the oxetane compounds (D-2) as described above can be used alone or in combination of two or more.
  • the cyclic ether compound (D) as described above improves properties such as adhesiveness and heat resistance of the solder resist by thermosetting.
  • the compounding amount is 10 parts by mass or more and 100 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A), and is preferably 25 to 60 parts by mass. If the amount of the cyclic ether compound (D) is less than 10 parts by mass, the cured film has a high hygroscopicity, so that the PCT resistance tends to decrease, and also the solder heat resistance and the electroless plating resistance tend to decrease. . On the other hand, if it exceeds 100 parts by mass, the developability of the coating film and the electroless plating resistance of the cured film become poor, and the PCT resistance also becomes poor.
  • Examples of the curing catalyst (E) include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-41-methylimidazole, 2-phenylimidazole, and 4-1.
  • Imidazole derivatives such as phenylimidazole, 1-cyanoethyl-12-phenylimidazole, 11- (2-cyanoethyl) -12-ethyl-4-methylimidazole; dicyandiamide, benzyldimethylamine, 41-dimethylamino Amine compounds such as N, N-methylbenzylamine, 4-methoxyN, N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine; hydrazine compounds such as adipic hydrazide and sebacic hydrazide; Examples include phosphorus compounds such as triflatin phosphine, and commercially available compounds include, for example, Kunika formed Industries, Ltd.
  • the catalyst is not limited to these, and any catalyst may be used as long as it is a catalyst for hardening a cyclic ether compound or a catalyst which promotes a reaction between a vinyl ether group (epoxy group, oxenyl group) and a carboxyl group. Or a mixture of two or more.
  • a triazine derivative may be used, and a compound that also functions as an adhesion promoter is preferably used in combination with the curing catalyst.
  • the amount of the curing catalyst (E) to be blended in a usual quantitative ratio is sufficient.
  • the ratio is 5 to 15.0 parts by mass.
  • the photo-curable and thermo-curable resin composition of the present invention may further comprise an active energy ray-curable resin other than the active energy ray-curable resin (A) as long as the effects of the present invention are not impaired. (F).
  • active energy ray-curable resins (F) can be used as long as they have an unsaturated group and a carboxyl group, and are not limited to specific ones. Is preferred.
  • a lipoxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an ethylenically unsaturated group as a pendant to a copolymer of an unsaturated carboxylic acid and a compound having an unsaturated double bond.
  • Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting an epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid, and reacting the resulting secondary hydroxyl group with a polybasic anhydride.
  • Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further reacting a compound having an epoxy group and an unsaturated double bond with a carboxyl group-containing resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a hydroxyl group-containing polymer
  • Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting polybasic anhydride with primary hydroxyl groups of modified oxetane resin obtained by reacting unsaturated monocarboxylic acid with polyfunctional oxetane compound
  • Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by further reacting a polybasic acid anhydride with a hydroxyl group of a reaction product of a polynuclear epoxy compound and an unsaturated monocarboxylic acid
  • the photocurable and thermosetting resin compositions of the present invention are used to reduce the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the cured product without deteriorating various properties such as coatability and heat resistance.
  • a spherical porous filler (G) can be blended.
  • Examples of the material of the spherical porous filler (G) include silica and crosslinked resin.
  • Photocurable ⁇ When a normal filler is blended with the thermosetting resin composition, the dielectric constant and dielectric tangent of the cured product are governed by the dielectric constant and dielectric tangent of the filler, but when a spherical porous filler is blended However, since air is included in the holes, the dielectric properties can be reduced.
  • the average particle diameter of the spherical porous filler is preferably in the range of 1 to 15 m, more preferably 1 to 10 m.
  • the oil absorption of the spherical porous filler is preferably It is desirably about 50 to 800 m 2 / g, preferably 100 to 200 m 2 / g.
  • the mixing ratio of the spherical porous filler (G) is preferably 5 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A). .
  • An epoxidized polybutadiene (H) can be added to the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention for the purpose of imparting flexibility and toughness.
  • the epoxidized polybutadiene (H) includes, for example, Evolide PB 3600 and PB 4700 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
  • the amount of the epoxidized polybutadiene is 5 to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A). Desirably 50 parts by mass.
  • spherical urethane beads (I) having an average particle diameter of 1 to 15 ⁇ m can be blended for the purpose of imparting flexibility and low warpage.
  • the amount of the spherical urethane beads (I) is desirably 5 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin (A).
  • the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention may further include, if necessary, barium sulfate, barium titanate, silicon oxide powder, finely powdered silicon oxide, amorphous silica, crystalline silica, and fused silica.
  • Known or commonly used inorganic fillers such as silica, spherical silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, and My power can be used alone or in combination of two or more. These are used for the purpose of suppressing curing shrinkage of a coating film and improving properties such as adhesion and hardness.
  • An appropriate amount of the inorganic filler is 10 to 300 parts by mass, preferably 30 to 200 parts by mass, per 100 parts by mass of the active energy linear curable resin (A).
  • composition of the present invention may further comprise, if necessary, phthalocyanine 'blue one, lid mouth cyanine' green, aozin 'green, disazoeello, Chris Commonly used colorants such as viriolet, titanium oxide, Ripbon Black, Naphthylene Black, etc., and known and common thermal polymerization such as hide mouth quinone, hydroquinone monomethyl ether, t_butyl catechol, pyrogallol, and phenothiazine are prohibited.
  • Finely-divided silica organic bentonite, montmorillonite, etc., known and conventional thickeners, silicone-based, fluorine-based, polymer-based defoamers and / or leveling agents, imidazole-based, thiazole-based And well-known additives such as triazole-based silane coupling agents and the like.
  • the photocurable and thermosetting resin compositions of the present invention include the aforementioned, k, (B), (C), (D), (E), (F), (G), (H), and It can be obtained by blending the component (I) and, if necessary, an inorganic filler and other components described above, preferably in the proportions described above, and uniformly mixing, dissolving, dispersing, etc., with a mill.
  • the composition of the present invention is usually liquid, but may be a dry film.
  • a dry film for example, a roll film, a doctor bar, a wire bar method, a diving method, a spin coating method, a gravure method, and a doctor plate method are used on a base film (release film).
  • the composition After applying the above-mentioned composition of the present invention using, for example, the above-mentioned composition, the composition is dried in a drying oven set at 60 to 100 ° C. to remove a predetermined amount of diluent (C). It can be obtained by attaching a release film or the like according to the conditions. At this time, the thickness of the film on the base film is adjusted to 5 to 160 m, preferably 10 to 60 m.
  • the base film a film such as polyethylene terephthalate or polypropylene is preferably used.
  • the photo-curable and thermo-curable resin composition of the present invention having the above composition is diluted as necessary to adjust the viscosity to be suitable for the coating method.
  • the composition is applied to a wiring board by screen printing, curtain coating, spray coating, roll coating, etc., and for example, the organic solvent contained in the composition is volatilized and dried at a temperature of about 60 to 100 ° C. Thereby, a coating film can be formed. In the case of a dry film, it may be simply laminated. After that, it is selectively turned into active energy rays through a patterned photomask.
  • More exposed and unexposed areas can be developed with a dilute aqueous solution to form a resist pattern.Furthermore, heat curing after irradiation with active energy rays or irradiation with active energy rays after heat curing or only heat curing
  • final curing final curing
  • a film soldder-resist film
  • an alkaline aqueous solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, and amines can be used.
  • Suitable irradiation light sources for photocuring include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, and metal halide lamps.
  • laser beams can be used as active energy rays.
  • the viscosity is adjusted to be suitable for the coating method. Is applied on a conductor layer of a wiring board on which a circuit has been formed in advance, for example, by a conventionally known method as described above, and if necessary, dried at a temperature of, for example, about 60 to 100 ° C., and is free of ink. To form a coating film. In the case of a dry film, it may be simply laminated.
  • the negative film is selectively exposed to actinic light through a negative film having a light-impermeable portion having a predetermined shape such as a black circle, and the unexposed portion is developed with, for example, the above-described aqueous solution.
  • a via hole corresponding to is formed.
  • a predetermined interlayer conductive hole or the like is opened, and then a roughening agent such as an oxidizing agent, an alkaline aqueous solution, or an organic solvent is used to perform a surface roughening treatment, and the surface of the roughened insulating resin layer is formed.
  • heat treatment is performed to increase the crosslink density of the insulating resin layer and relieve stress. For example, by heating and curing at a temperature of about 140 to 180 ° C, it is possible to obtain impact resistance, heat resistance, solvent resistance, acid resistance, moisture absorption resistance, PCT resistance, adhesion, electrical properties, etc. Interlayer with excellent properties An insulating resin layer can be formed. Thereafter, the conductor layer on the surface of the insulating resin layer is etched to form a predetermined circuit pattern according to a conventional method, thereby forming the conductor layer on which the circuit is formed. In addition, such an operation can be sequentially repeated as desired, and the insulating resin layer and the conductor layer having a predetermined circuit pattern can be alternately built up.
  • the photo-curable and thermo-curable resin composition of the present invention can be used not only as an insulating resin layer in a method for producing a multilayer printed wiring board by the build-up method as described above, but also as a resin-coated copper foil laminate. It can be used as an insulating resin layer in the production of a multilayer printed wiring board by the printing method, or as an insulating resin composition for a prepreg used in a lamination press method.
  • the present invention will be described specifically with reference to Examples and Comparative Examples. However, the following Examples are merely for illustrative purposes, and the present invention is not limited to the following Examples. It is. In the following, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.
  • the carboxyl group-containing active energy ray-curable resin thus obtained had an acid value of solid of 65.9 mgKOH / g.
  • this reaction solution is referred to as Varnish A-1.
  • the carboxyl group-containing active energy linearly curable resin obtained in this manner had a solid acid value of 77. OmgKOHZg.
  • this reaction solution is referred to as Varnish A-2.
  • the carboxyl group-containing active energy linear curable resin thus obtained had a solid acid value of 81.3 mg KOH / g.
  • this reaction solution is referred to as Varnish B-1.
  • Cresol novolak type epoxy resin (Epiclone N-695, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., epoxy equivalent: 220) 330 parts was replaced with a gas introduction pipe, a stirrer, a cooling pipe and a thermometer. In a flask equipped with the mixture, 400 parts of carbitol acetate was added, and the mixture was heated and dissolved, and 0.446 parts of hydroquinone and 1.38 parts of triphenylphosphine were added. This mixture was heated to 95-105 ° C, and acrylic acid (108 parts) was gradually added dropwise to react for 16 hours.
  • This reaction product is The mixture was cooled to 809 ° C, and 16 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added, followed by a reaction for 8 hours. The reaction is measured by oxidation and total oxidation measurement of the reaction solution by potentiometric titration, followed by the obtained addition rate. The reaction rate is determined to be 95% or more.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin thus obtained had a solid acid value of 100 mgKOH / g.
  • this reaction solution is referred to as Varnish B-2.
  • compositions of the above Examples and Comparative Examples were applied to the entire surface of a glass epoxy substrate by screen printing, dried at 80 ° C for 20 minutes, and allowed to cool to room temperature. (2 steps) as a photomask and exposure under reduced pressure with an exposure device (2 metal halide lamps 7 KW) manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. 0 O mJ / cm 2), and subjected to 6 0 seconds development in conditions of a spray pressure 2 kgZcm 2 with 1% N a 2 C 0 3 aqueous 3 0 ° C, visually gloss number of cured film Confirmed in. The larger the value of the gloss stage, the higher the sensitivity.
  • Tensile elastic modulus, tensile strength (tensile breaking strength), and elongation (tensile breaking elongation) of the evaluation sample prepared by the following method were measured by a tensile compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation).
  • composition of each of the above Examples and Comparative Examples was added to a Teflon plate that had been washed and dried in advance.
  • the material was applied by screen printing and dried in a hot-air circulation drying oven at 80 C for 30 minutes. After cooling to room temperature, exposure was performed under the conditions of an exposure amount of 100 mJZcm 2 , and curing was performed at 150 ° C for 60 minutes in a hot air circulation type drying oven. After cooling this to room temperature, the cured coating film was peeled off from the Teflon plate to obtain an evaluation sample.
  • compositions of the above Examples and Comparative Examples were applied to a glass plate whose mass had been measured in advance by a screen printing method, and dried at 80 ° C. for 30 minutes in a hot-air circulation drying oven. After cooling this to room temperature, it was exposed under the condition of an exposure amount of 10 OmJ / cm 2 , and was cured in a hot-air circulating drying oven at 150 ° C. for 60 minutes to obtain an evaluation sample. After cooling to room temperature, the mass of the evaluation sample was measured. Next, this evaluation sample was used with a PCT device (TAB AIE SPE C HAST T SYSTEM TPC C—412MD). C, treated at 100% RH for 24 hours, the mass of the cured product after the treatment was measured, and the water absorption of the cured product was determined by the following formula.
  • W1 is the mass of the evaluation sample
  • W2 is the mass of the evaluation sample after the PCT treatment
  • Wg is the mass of the glass plate.
  • composition of each of the above Examples and Comparative Examples was applied to the entire surface of a comb-type electrode B coupon of IPC B-25 using a roll coater (manufactured by Piguchi Seisetsu Co., Ltd.), and heated air circulation type was used. It was dried in a drying oven at 80 ° C for 30 minutes. After cooling to room temperature, exposure was performed under the conditions of an exposure amount of 10 OmJ / cm 2 , and curing was performed at 150 ° C. for 60 minutes in a hot-air circulation drying oven to obtain an evaluation sample. A bias voltage of 500 V DC was applied to this comb-shaped electrode, and the insulation resistance was measured.
  • composition of each of the above Examples and Comparative Examples was printed on a printed wiring board by screen printing. It was applied and dried in a hot-air circulation drying oven at 80 ° C for 30 minutes. After cooling this to room temperature, it was exposed under the conditions of an exposure amount of 100 mJ / cm 2 , and was cured in a hot-air circulation drying oven at 150 ° C. for 60 minutes to obtain an evaluation sample. After cooling to room temperature, it was treated using a PCT apparatus (TAB AIESPEC HAST SYSTEM TPC-412MD) at 121 ° C and 2 atm for 168 hours, and the state of the cured film was evaluated. The criteria are as follows.
  • compositions of the above Examples and Comparative Examples were applied to a printed wiring board by screen printing, and dried at 80 ° C. for 30 minutes in a hot air circulation type drying oven. After cooling this to room temperature, it was exposed under the condition of an exposure amount of 10 OmJ / cm 2 , and was cured in a hot-air circulation drying oven at 150 ° C. for 60 minutes to obtain an evaluation sample.
  • the obtained evaluation sample was immersed in an acidic degreasing solution at 30 ° C (20 V o 1% aqueous solution of METEX L-5B, manufactured by Nippon Macda MitsuMitsu Co., Ltd.) for 3 minutes, and then washed with water.
  • Nickel plating by immersion in a solution (Meltex Co., Ltd., Melplate Ni-865M, 20 vo 1% aqueous solution, ph.4.6) for 30 minutes, and then immersed in 10 vo 1% sulfuric acid aqueous solution for 1 minute at room temperature Washing was performed.
  • the evaluation sample substrate was placed in a plating solution of 95 ° C (Meltex, 15 V 01% of an orifice portless UP, and a 3 V 01% aqueous solution of gold cyanide, 3 V 01%, pH 6). After electroless gold plating by immersion in water for 30 minutes, it was washed with water, then immersed in warm water of 60 ° C for 3 minutes, and washed with running water.
  • a cellophane adhesive tape was adhered to the obtained gold-coated evaluation sample, and the state when peeled off was measured. confirmed.
  • the criteria are as follows.
  • the cured product obtained from the photo-curable and thermo-curable resin composition of the present invention has excellent dielectric properties, water absorption, adhesion, electrical insulation resistance, hardness, and chemical resistance. It has excellent properties such as resistance and PCT resistance.
  • Comparative Example 1 using an active energy ray-curable resin prepared using a bifunctional carboxyl group-containing compound (II) and a bifunctional epoxy compound (III) each having an aromatic ring the sensitivity was high. And the electroless plating resistance was poor.
  • Comparative Example 2 using an active energy linear curable resin prepared from a cresol novolak epoxy resin as a starting material, in addition to poor sensitivity and electroless plating resistance, the water absorption , PCT resistance etc. were inferior.
  • the photocurable and thermosetting resin compositions of Examples 1 to 3 are the same as those of Comparative Example 1.
  • the photocurable and thermosetting resin composition of the present invention has excellent photocurability, alkali developability and excellent adhesion to a substrate, and has low dielectric properties, water resistance, and electroless resistance.
  • a cured product with excellent properties, chemical resistance, electrical insulation, flexibility, PCT resistance, etc. can be obtained, so it is useful as a paint, printing ink, adhesive, various resist materials, material for manufacturing color filters, etc.
  • it can be suitably used for applications such as solder resist for printed wiring boards and interlayer insulating layers for multilayer printed wiring boards.

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Abstract

 多塩基酸無水物(a)と1分子中に少なくとも1個の不飽和二重結合と1個のアルコール性水酸基を有する化合物(b)との反応物(Ⅰ)と、1分子中に少なくとも2つのカルボキシル基を有する化合物(Ⅱ)と、2官能エポキシ化合物(Ⅲ)との重付加反応生成物(但し、上記カルボキシル基を有する化合物(Ⅱ)及び2官能エポキシ化合物(Ⅲ)の少なくともいずれか一方は芳香族環を有さない化合物である)であって、側鎖に不飽和基を有し、かつ水酸基を有すると共に末端にエポキシ基を有するエポキシ樹脂の、末端エポキシ基に不飽和モノカルボン酸(c)を反応させ、さらに分子中の水酸基に多塩基酸無水物(d)を反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂、及びそれを含有するアルカリ水溶液により現像可能な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物が提供される。

Description

明 細 書 活性エネルギー線硬化性樹脂、 それを含有する 光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物 技術分野
本発明は、 光重合性不飽和基とカルボキシル基を併せ有する線状の活性ェ ネルギ一線硬化性樹脂、 特にシクロへキサン環を規則的に繰り返し含有する 線状かつアル力リ可溶性の活性エネルギー線硬化性樹脂に関する。 本発明は また、 上記活性エネルギー線硬化性樹脂を用いたアル力リ現像可能な光硬化 性 ·熱硬化†生樹脂組成物及びその硬化物に関し、 さらに詳しくは、 種々の用 途、 特にプリント配線板の永久マスクや多層配線板の層間絶縁層等としての 使用に適し、 活性エネルギー線の照射後、 希アルカリ水溶液で現像すること によって画像形成し、 活性エネルギー線照射後の加熱処理、 もしくは加熱処 理後の活性エネルギー線照射工程、 又は加熱処理により仕上げ硬化すること により、 低誘電特性、 密着性、 耐無電解めつき性、 電気特性、 フレキシブル 性、 耐吸湿性並びに P C T (プレッシャークッカー) 耐性に優れる硬化皮膜 を形成できる液状のアル力リ現像可能な光硬化性■熱硬化性樹脂組成物並び にそれを用いた硬化皮膜形成技術に関する。 背景技術
現在、 一部の民生用プリント配線板並びに殆どの産業用プリント配線板の ソルダーレジス トには、 高精度、 高密度の観点から、 紫外線照射後、 現像す ることにより画像形成し、 熱及び光照射で仕上げ硬化 (本硬化) する液状現 像型ソルダーレジストが使用されている。 また環境問題への配慮から、 現像 液として希アル力リ水溶液を用いるアル力リ現像タイプの液状ソルダ一レジ ストが主流になっている。 このような希アル力リ水溶液を用いるアル力リ現 像タイプのソルダーレジストとしては、 例えば、 特開昭 6 1— 2 4 3 8 6 9 号公報には、 ノボラック型エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の反応生成物に 酸無水物を付加した感光性樹脂、 光重合開始剤、 希釈剤及びエポキシ化合物 からなるソルダーレジスト組成物が、 また特閧平 3 - 2 5 3 0 9 3号公報に は、 ノボラック型ェポキシ化合物と不飽和一塩基酸の反応生成物に酸無水物 を付加した感光性樹脂、 光重合開始剤、 希釈剤、 ビニルトリアジン又はビニ ルトリアジンとジシアンジアミ ドの混合物及びメラミン樹脂からなるソルダ —レジスト組成物が開示されている。
このように従来からソルダ一レジストとしては幾つかの材料系が提寒され ているが、 実際のプリント配線板の製造においては、 現在、 感光性成分とし て主として前記ノボラツク型エポキシ化合物と不飽和一塩基酸の反応生成物 に酸無水物を付加した感光性樹脂を用いたソルダーレジスト組成物が大量に 使用されている。 しかしながら、 このような感光.性樹脂は、 光硬化性やアル 力リ現像性には優れているものの、 光硬化性とフレキシブル性のバランスの 点で必ずしも満足なレベルに達しているとは言い難く、 また、 硬化時に収縮 を生じる傾向があり、 伸びが少なく強靭性に欠けるため、 使用目的によって は熱衝撃によるクラックが発生し易い場合があった。
また、 近年のエレクトロニクス機器の軽薄短小化に伴うプリント配線板の 高密度化に対応して、 ソルダ一レジストにも高性能化が要求されている。 さ らに最近では、 リードフレームと封止樹脂を用いた Q F P (クヮヅ ド ' フラ ヅトパック 'パッケージ) 、 S O P (スモール 'アウトライン 'パッケージ) 等と呼ばれる I Cパヅケージに代わって、 ソルダ一レジストを施したプリン ト配線板と封止樹脂を用いた I Cパッケージが登場した。 これら新しいパヅ ケージは、 ソルダーレジストを施したプリント配線板の片側にボール状のは んだ等の金属をエリア状に配し、 もう一方の片側に I cチップをワイヤーボ ンデイングもしくはバンプ等で直接接続し、 封止樹脂で封止した構造をして おり、 B G A (ボール ' グリッ ド ' アレイ) 、 C S P (チップ 'スケール ' パッケージ) 等の呼び名で呼ばれている。 これらのパッケージは、 同一サイ ズの Q F P等のパッケージよりも多ピンでさらに小型化が容易である。 また 実装においても、 ボール状はんだのセルファライメント効果により低い不良 率を実現し、 急速にその導入が進められている。
しかしながら、 従来市販されているアル力リ現像型ソルダ一レジストを施 したプリント配線板では、 パッケージの長期信頼性試験である P C T耐性が 劣り、 ソルダ一レジスト皮膜の剥離が生じていた。 また、 ソルダーレジス ト の吸湿により、 パッケージ実装時のリフロー中にパッケージ内部で吸湿した 水分が沸騰し、 パッケージ内部のソルダ一レジスト皮膜及びその周辺にクラ ヅクが生じる、 いわゆるポヅプコーン現象が問題視されていた。 このような 耐吸湿性や長期信頼性における不具合は、 上記実装技術の場合のみに限られ るものではなく、 一般のプリント配線板のソルダーレジストゃ、 ビルドアッ プ基板等の多層配線板の層間絶縁層など、 他の用途の製品においても望まし くない。
したがって、 本発明の一つの目的は、 高感度であり、 かつ、 フレキシブル 性に富むと共に、 バランスのとれたフレキシブル性と強靭性を有するアル力 リ可溶性の活性ェネルギ一線硬化性樹脂を提供することにある。
さらに本発明の目的は、 従来からのプリント配線板のソルダーレジストゃ 多層配線板の層間絶縁層などに要求される低誘電特性、 密着性、 耐無電解め つき性、 電気特性等の特性を維持もしくは向上させ、 かつ、 特に I Cパッケ —ジに要求される耐吸湿性並びに P C T (プレッシャークッカー) 耐性等の 特性に優れる硬化皮膜が得られ、 プリント配線板の高密度化、 面実装化に対 応可能でアル力リ現像可能な液状の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物及びその 硬化物を提供することにある。 発明の開示
本発明の第一の側面によれば、
多塩基酸無水物 (a ) と、 1分子中に少なくとも 1個の不飽和二重結合と 1 個のアルコール性水酸基を有する化合物 (b ) との反応物 ( I ) と、
1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (II ) と、 2官能エポキシ化合物 (III )
との重付加反応生成物 (但し、 上記カルボキシル基を有する化合物 (II ) 及 び 2官能エポキシ化合物 (III ) の少なくともいずれか一方は芳香族環を有さ ない化合物である) であって、 側鎖に不飽和基を有し、 かつ水酸基を有する と共に末端にエポキシ基を有するエポキシ樹脂の、
末端エポキシ基に不飽和モノカルボン酸 ( c ) を反応させ、 さらに水酸基に 多塩基酸無水物 (d ) を反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂が 提供される。
好適な態様においては、 前記 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基 を有する化合物 (II ) は、 芳香族環を含まない 1 , 2—シクロへキセンジカ ルボン酸、 テトラヒ ドロフ夕ル酸、 へキサヒ ドロフ夕ル酸、 へキサヒ ドロイ ソフタル酸、 及びへキサヒドロテレフタル酸よりなる群から選ばれた少なく とも 1種であり、 特に好ましくはシクロへキサンジカルボン酸である。 さら に好適な態様においては、 前記 2官能エポキシ化合物 (III ) は、 水素添加さ れた 2官能エポキシ化合物である。
また、 本発明の第二の側面によれば、 (A ) 前記活性エネルギー線硬化性 樹脂、 (B ) 光重合開始剤、 (C ) 希釈剤、 及び (D ) 1分子中に 2個以上 のエポキシ基及び/又はォキセ夕二ル基を有する化合物 (以下、 環状ェ一テ ル化合物という) を含有することを特徴とするアル力リ水溶液により現像可 能な光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物が提供される。
好適な態様によれば、 上記各成分に加えて、 さらに (E ) 硬化触媒を含有 する光硬化性,熱硬化性樹脂組成物が提供され、 さらにまた、 これら各成分 に加えて、 (F )上記活性エネルギー線硬化性樹脂以外の活性エネルギー線硬 化性樹脂を含有する組成物が提供される。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂は、 エステル結合を有する交互共重 合型の線状エポキシァクリレート化合物の多塩基酸無水物付加物、 特に 2つ のカルボキシル基を有する化合物としてシクロへキサンジカルボン酸を用い ることによりシクロへキサン環を繰り返し含有し、 さらにエステル結合を有 する線状エポキシァクリレート化合物の多塩基酸無水物付加物であるため、 光硬化性、 アルカリ可溶性であると共に、低露光量における光硬化性に優れ、 高いレベルでバランスのとれたフレキシブル性と強靭性を有する。
従って、 このような活性エネルギー線硬化性樹脂を光硬化性成分として含 有する本発明の光硬化性,熱硬化性樹脂組成物は、 光硬化性、 アルカリ現像 性ゃ基材に対する密着性に優れると共に、 低誘電特性、 耐水性、 耐無電解め つき性、 耐薬品性、 電気絶縁性、 フレキシブル性、 P CT耐性等に優れた硬 化物が得られる。
各成分の配合割合は特定の割合に限定されるものではないが、 前記活性ェ ネルギ一線硬化性樹脂 (A) 100質量部に対して、 光重合開始剤 (B) を 0. 1〜25質量部、 好ましくは 0. 5~20質量部、 希釈剤 (C) を 1 0 〜60質量部、 好ましくは 1 5〜50質量部、 環状ェ一テル化合物 (D) を 10〜100質量部、 さらに必要に応じて硬化触媒 (E) を 0. 1〜20質 量部の割合で用いることが望ましい。 ·さらに前記活性エネルギー線硬化性樹 脂(A)の一部に置き換えて、 それ以外の活性エネルギー線硬化性樹脂 (F) を必要に応じて含有することができる。 また、 より低い誘電特性が得られる 好適な態様においては、 (G)平均粒径 1 ~ 1 0 /mの球状多孔質フィラーを 含有することができる。 さらに本発明の効果を損なわない範囲で、 (H) ェ ポキシ化ポリブタジエン、 (I) 球状ウレタンビーズ等を必要に応じて含有 することができる。
本発明の光硬化性 '熱硬化性樹脂組成物は、 液状のまま用いてもよいし、 ドライフィルムの形態として用いてもよく、 種々の分野に有利に用いること ができるが、 特にプリント配線板の層間絶縁層やソルダーレジスト層の形成 に有利に用いることができる。
すなわち、 本発明の第三の側面によれば、 前記光硬化性 ·熱硬化性樹脂組 成物を活性エネルギー線照射及び/又は加熱により硬化させて得られる硬化 物が提供され、 その好適な態様として、 前記光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物 から層間絶縁層及び 又はソルダーレジスト層が形成されてなるプリント配 線板が提供される。 発明を実施するための最良の形態
本発明者らは、 前記の課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、 多塩基 酸無水物 (a ) と 1分子中に少なく とも 1個の不飽和二重結合と 1個のアル コール性水酸基を有する化合物 (b. ) との反応物 ( I ) と、 1分子中に少な くとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (II ) と、 2官能エポキシ化合 物 (III ) との重付加反応生成物 (但し、 上記カルボキシル基を有する化合物 ( II ) 及び 2官能エポキシ化合物 (III ) の少なくともいずれか一方は芳香族 環を有さない化合物である) であって、 側鎖に不飽和基を有し、 かつ水酸基 を有するエポキシ樹脂の、 末端エポキシ基に不飽和モノカルボン酸 ( C ) を 反応させて光重合性不飽和基が導入され、 さらに水酸基に多塩基酸無水物
( d ) を反応させてカルボキシル基が導入されてなる活性エネルギー線硬化 性樹脂 (A ) が、 高感度であり、 なおかつ強靭性を有すること、 及びこのよ うな活性エネルギー線硬化性樹脂を光硬化性成分として含有する光硬化性 · 熱硬化性樹脂組成物が、 低誘電特性、 密着性、 耐無電解めつき性、 電気特性、 フレキシブル性、 耐吸湿性並びに P C T (プレッシャークッ力一) 耐性等の 特性に優れる硬化物を与えることを見出し、 本発明を完成させるに至ったも のである。
すなわち、 本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂は、 前記エポキシ樹脂に 不飽和モノカルボン酸を反応させて光重合性不飽和基を導入し、 さらに多塩 基酸無水物を反応させてカルボキシル基を導入したことによって、 光硬化性 とアル力リ現像性を付与したものであるが、 バックボ一ンポリマーのェポキ シ樹脂を、 前記成分 ( I ) 、 (Π ) 及び (III ) の重付加反応により得られる 線状構造、 特にシクロへキサン環を含有する線状構造としたことによって、 その硬化物は、 低誘電特性、 基材に対する密着性、 耐無電解めつき性、 電気 特性、 フレキシブル性、 耐吸湿性並びに P C T耐性等に優れたものとなる。 以下、 本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂及びこれを用いた光硬化性 · 熱硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。 まず、 本発明の活性エネ ルギ一線硬化性樹脂について説明する。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂は、 以下の各工程を絰て製造される ものである。
①多塩基酸無水物 (a) と、 1分子中に少なくとも 1個の不飽和二重結合 と 1個のアルコール性水酸基を有する化合物 (b) との反応物 ( I )の合成。
②前記反応物 (I) と、 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有 する化合物(Π) と、 2官能エポキシ化合物 (III) との重付加反応生成物(但 し、上記カルボキシル基を有する化合物(II)及び 2官能エポキシ化合物(III) の少なくともいずれか一方は芳香族環を有さない化合物である) であって、 側鎖に不飽和基を有し、 かつ水酸基を有するエポキシ樹脂の合成。
③上記側鎖に不飽和基を有し、 かつ水酸基を有するエポキシ樹脂の末端ェ ポキシ基に不飽和モノカルボン酸 ( c) を反応させることによる多官能ァク リレート樹脂の合成。
④上記多官能ァクリレート樹脂の水酸基に多塩基酸無水物 (d ) を反応さ せることによる活性エネルギー線硬化性樹脂の合成。
最初に前記反応物 (I ) の合成について説明する。
原料として、 多塩基酸無水物 (a) と、 1分子中に少なくとも 1個の不飽 和二重結合と 1個のアルコール性水酸基を有する化合物 (b) を用い、 後述 するような反応条件で付加反応を行なうことにより、 反応物 ( I) が得られ る。 得られる反応物 (I) は、 例えば下記一般式 ( 1) のように表わすこと ができる。
Figure imgf000008_0001
R: CH3, H 式中、 R1は多塩基酸無水物残基を表わし、 eは 1又は 2の整数である。 また、 Jは、 後述する 1分子中に少なくとも 1個の不飽和二重結合と 1個の アルコール性水酸基を有する化合物 (b) に由来する構造である。 前記多塩基酸無水物 (a) としては、 無水フ夕ル酸、 無水コハク酸、 無水 マレイン酸、 テトラヒドロ無水フ夕ル酸、 へキサヒ ドロ無水フ夕ル酸、 メチ ルテ トラヒ ドロ無水フタル酸、 3, 6—エンドメチレンテトラヒドロ無水フ タル酸、 メチルエンドメチレンテトラヒ ドロ無水フ夕ル酸、 テトラブロモ無 水フ夕ル酸等の二塩基酸無水物 ;無水トリメ リ ッ ト酸等の三塩基酸無水物 ; 及びビフェニルテトラカルボン酸二無水物、 ナフ夕レンテトラカルボン酸二 無水物、 ジフヱ二ルェ一テルテトラカルボン酸二無水物、 ブタンテ トラカル ボン酸二無水物、 シクロペン夕ンテトラカルボン酸二無水物、 無水ピロメ リ ッ ト酸、 ベンゾフヱノンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族あるいは芳香 族四塩基酸二無水物等が挙げられ、 さらに、 例えば下記一般式 (2) で示さ れる無水ト リメ リッ ト酸変性物 ( a— 1 ) が挙げられる。
Figure imgf000009_0001
式中、 Kはグリコ一ル残基を表わし、 下記一般式 (3) で示される
Figure imgf000009_0002
式中、 R2は水素原子又はメチル基を表わし、 gは 0又は 1の整数である。 この無水ト リメ リ ッ ト酸変性物 (a— 1) としては、 例えばエチレングリ コール、 ジエチレングリコール、 プロピレングリコール、 ジプロピレングリ コール等のグリコール系ジオール類と無水ト リメ リ ッ ト酸との縮合物が挙げ られる。 市販品としては、 例えば, 新日本理化 (株) 製の TME G— 1 00、 TMEG - 200、 TMEG— 300、 TMEG - 500、 TMTA - C等 が挙げられる。 これらの中で、 四塩基酸無水物又は三塩基酸無水物と前記化合物 (b ) と の反応物は、 後述する重付加反応における分子鎖の延長剤及び側鎖の不飽和 二重結合導入剤として働き、 一方、 二塩基酸無水物と前記化合物 (b ) との 反応物は、 分子鎖の停止剤となる。 これらを混合して用いることにより、 得 られるエポキシ樹脂の分子量をコントロールすることができる。 また、 それ それの酸無水物は、 2種類以上を併用しても構わない。
前記 1分子中に少なく とも 1個の不飽和二重結合と 1個のアルコール性水 酸基を有する化合物 (b ) としては、 2—ヒ ドロキシェチル (メタ) ァクリ レート、 2—ヒドロキシプロピル (メタ) ァクリレート、 4—ヒドロキシブ チル (メタ) ァクリレートなどのヒドロキシアルキル (メタ) ァクリレート 類; ジエチレングリコールモノ (メタ) ァクリレート、 ジプロピレングリコ —ルモノ (メタ) ァクリレート、 トリメチロールプロパンジ (メタ) ァクリ レート、 グリセリンジ(メタ) ァクリレート、 ペン夕エリスリ トールトリ (メ 夕) ァクリレート、 ジペン夕エリスリ ト一ルペン夕 (メタ) ァクリレートな どが挙げられる。 さらに、 上記化合物の水酸基に、 ε—力プロラク トンなど の環状エステル類を付加した化合物も使用できる。 e—力プロラクトンの好 ましい付加率は、 前記ヒ ドロキシアルキル (メタ) ァクリレート等の 1モル に対して、 1〜 2モルの割合である。 これらの化合物は、 単独で又は 2種類 以上を組み合わせて用いることもできる。 なお、 本明細書において、「(メタ) ァクリレート」とはァクリレートとメタァクリレ一トを総称する用語であり、 他の類似の表現についても同様である。
前記多塩基酸無水物 ( a ) と、 1分子中に少なく とも 1個の不飽和二重結 合と 1個のアルコール性水酸基を有する化合物 (b ) から反応物 ( I ) を合 成する反応において、 多塩基酸無水物 (a ) 1当量当り、 化合物 (b ) を 1 . 0〜 1 . 5当量、 好ましくは 1 . 0〜 1 . 2当量使用する。 反応時には、 後 述の希釈剤 (C ) を使用することができる。 また、 反応を促進させるために 触媒を使用することが好ましい。さらに、反応中の熱重合を防止するために、 熱重合禁止剤を使用することが好ましい。 その際の反応温度は約 6 0〜 1 5 0 °Cが適当であり、 また反応時間は、 好ましくは 5〜 6 0時間である。
前記多塩基酸無水物 (a ) と化合物 (b ) との反応においては、 反応促進 剤として、 三級ァミン、 三級アミン塩、 四級ォニゥム塩、 三級ホスフィ ン、 リンイリ ド、 クラウンエーテル錯体、 及び三級アミン又は三級ホスフィンと カルボン酸又は酸性の強いフエノールとの付加体を使用することができる。 その使用量は、 前記多塩基酸無水物 (a ) に対して 0 . 1〜 2 5モル%の範 囲が適当であり、 さらに好ましくは 0 . 5〜 2 0モル%であり、 より好まし く は 1〜 1 5モル%である。
前記反応は、 有機溶媒中又は無溶媒下のいずれでも進行するが、 後述する 有機溶媒 (C— 2 ) の存在下で行なう場合には、 反応時に撹拌効率を改善す ることが可能である。 また、 前記反応においては、 不飽和二重結合の重合に よるゲル化を防止する目的で、 空気を吹き込んだり、 重合禁止剤を加えても よい。 重合禁止剤の例としては、 ハイ ドロキノン、 トルキノン、 メ トキシフ エノ一ル、 フエノチアジン、 ト リフエニルアンチモン、 塩化銅などが挙げら れる
次に、 前記エポキシ樹脂の合成について説明する。
前記反応物 ( I ) と、 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有す る化合物 (Π ) と、 2官能エポキシ化合物 (III ) とを原料として (但し、 上 記カルボキシル基を有する化合物 (Π ) 及び 2官能エポキシ化合物 (III ) の 少なくともいずれか一方は芳香族環を有さない化合物である) 、 後述するよ うな公知の触媒を用い、 交互に重合させることによって、 側鎖に不飽和基を 有し、 かつ水酸基を有するエポキシ樹脂が得られる。 得られるエポキシ樹脂 は、 例えば、 下記一般式 (4 ) のように表わすことができる。
CH2-CH-CH2-0-R^O-CH2-CH-CH2— L-CH2-CH-CH2-0-R3-0-CH2-CH-CH2 一 ^j_、
V OH iH O V
式中、 R 3は後述する 2官能エポキシ化合物に由来する構造を表わし、 L は前記原料 ( I ) 及び/又は (Π) 及び Z又は (III) の結合に由来する構造 であり、 下記一般式 (5)、 ( 6 ) 及び (7) で表わされる。 また、 繰り返し 構成単位である下記一般式 ( 5)、 (6) 及び (7) はランダムに結合し、 少 なくとも 1つ以上有する。 また、 それそれの構成単位 (5)、 (6)及び (7) の間には、 それぞれ下記一般式 (8) で示される構成単位が必ず 1つ結合す
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
CH- CH2— O— R3—0 - CH2- CH—— - (8)
OH OH 式中、 R1及び R3は前記と同じ意味を表わし、 R4はジカルボン酸残基を 表わし、 eは 1又は 2の整数である。
前記 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (Π) の 具体例としては、 1 , 2—シクロへキセンジカルボン酸、 テトラヒドロフタ ル酸、 へキサヒドロフ夕ル酸、 へキサヒドロイソフ夕ル酸、 へキサヒドロテ レフタル酸、 フ夕ル酸、 イソフ夕ル酸、 テレフタル酸、 コハク酸、 アジピン 酸、 ムコン酸、 スベリン酸などが挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を 組み合わせて使用することができる。
2官能エポキシ化合物 (ΙΠ) としては、 例えば、 ビスフエノール A型ェポ キシ樹脂、 ビスフエノール F型エポキシ樹脂、 ビキシレノール型もしくはビ フエノール型エポキシ樹脂又はそれらの混合物、 ビスフエノール S型ェポキ シ樹脂等が挙げられるが、 これらの中でも水素添加された 2官能エポキシ化 合物が好ましい。
水素添加された 2官能エポキシ化合物 (III) としては、 例えば、 ジャパン エポキシレジン社製のェピコ一ト 828、 ェピコ一ト 834、 ェピコ一ト 1 00 1、 ェピコ一ト 1004、 大日本ィンキ化学工業社製のェピクロン 84 0、 ェピクロン 850、 ェピクロン 1050、 ェピクロン 2055、 東都化 成社製のェポトート YD_0 1 1、 YD— 0 1 3、 YD— 127、 YD - 1 28、 ダウケミカル社製の D. E . R. 3 17、 D . E. R. 33 1、 D . E. R . 66 1、 D . E . R . 664、 チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ 社のァラルダイ ド 607 1、 ァラルダイ ド 6084、 ァラルダイ ド G Y 25 0、 ァラルダイ ド GY 260、 住友化学工業社製のスミ一エポキシ E S A- 0 1 1、 E SA_0 14、 ELA— 1 15、 E LA— 1 28、 旭化成工業社 製の A. E . R . 330、 A. E . R. 33 1、 A. E. R. 66 1、 A. E . R. 664等 (何れも商品名) のビスフエノール A型エポキシ樹脂;大 日本インキ化学工業社製のェピクロン 830、 ジャパンエポキシレジン社製 のェピコート 807、 東都化成社製のェポトート YDF— 170、 YD F - 175、 YDF-2004, チバ 'スペシャルティ 'ケミカルズ社製のァラ ルダイ ド XP Y 306等 (何れも商品名) のビスフエノール F型エポキシ樹 脂; ジャパンエポキシレジン社製の YL— 6056、 YX— 4000、 YL 一 6 12 1 (何れも商品名) 等のビキシレノール型もしくはビフエノール型 エポキシ樹脂又はそれらの混合物; 日本化薬社製の E BP S— 200、 旭鼋 化工業社製の E PX— 30、 大日本ィンキ化学工業社製の EXA— 15 14 (商品名) 等のビスフヱノール S型エポキシ樹脂; のそれそれの水素添加物 が挙げられる。 なかでも、 水素添加されたビスフヱノール A型エポキシ化合 物が好ましく、 具体的には、 ジャパンエポキシレジン社製の商品名 「ェピコ ート YL— 66 63」、 東都化成社製の商品名「ェポトート S T— 2004」 「ェポトート S T— 2007」 「ェポトート S T— 3000」 等を挙げるこ とができる。 また、 エポキシ化合物の水素添加率は 0. 1%〜100%であ ることが好ましく、 部分的に水素添加されたエポキシ化合物、 あるいは下記 一般式 ( 9 ) に示されるような完全に水素添加された化合物を使用すること ができる。 一般に、 芳香環を有するエポキシ化合物を用いた場合には、 得ら れる光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物の露光の際に芳香環が光を吸収すること により、 感度が下がる傾向があるが、 水素添加することによって感度が向上 し、 また後述する実施例から明らかなように無電解金めつき耐性が向上する という効果が得られる。
Figure imgf000014_0001
前記したような 2官能エポキシ化合物 (III ) は、 単独で又は 2種以上を組 み合わせて使用することができる。
前記 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (Π ) と しては特定のものに限定されないが、 特に好適な態様は、 前記一般式 ( 5 ) 及び ( 6 ) の R 4がシクロへキサン環の場合であり、 これを他方のモノマ一 成分 (III ) としての好適な態様である水素添加されたビスフヱノール A型ェ ポキシ化合物と共重合すると、 シクロへキサン環を規則的に繰り返し含有す る交互共重合型の線状エポキシ樹脂となり、 光硬化性に優れ、 かつ、 より高 いレベルで強靱性とフレキシプル性をバランスよく有する硬化物が得られ る
前記反応物 ( I ) と、 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有す る化合物 (II ) と、 2官能エポキシ化合物 (Πί) との反応に使用される触媒 としては、 エポキシ基とカルボキシル基が定量的に反応するホスフィン類、 アル力リ金属化合物及びアミン類を単独で又は併用して用いるのが好まし い。 これ以外の触媒は、 エポキシ基とカルボキシル基との反応で生成するァ ルコール性の水酸基にモノマー成分が反応し、ゲル化するので好ましくない。 ホスフィン類としては、 トリブチルホスフィン、 トリフエニルホスフィン 等のトリアルキルもしくはトリァリールホスフィン、 又はこれらと酸化物と の塩類などが挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて用いる ことができる。
アルカリ金属化合物としては、 ナトリウム、 リチウム、 カリウム等のアル 力リ金属の水酸化物、 ハロゲン化物、 アルコラ一ト、 アミ ドなどが挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることができる。
アミン類としては、 脂肪族又は芳香族の第一級、 第二級、 第三級、 第四級 アミン類などが挙げられ、 これらを単独で又は 2種以上を組み合わせて用い ることができる。 ァミン類の具体例として'は、 トリエタノールァミン、 N , N—ジメチルビペラジン、 ト リェチルァミン、 トリ一 n—プロビルァミン、 へキサメチレンテトラミン、 ピリジン、 テトラメチルアンモニゥムブロマイ ドなどが挙げられる。
これらの触媒の使用量は、 2官能エポキシ化合物 (ΙΠ ) のエポキシ基 1モ ルに対して 0 . 1〜 2 5モル%の割合であることが望ましく、 さらに好まし くは 0 . 5〜 2 0モル%の割合であり、 より好ましくは 1〜 1 5モル%の割 合である。 この理由は、 触媒の使用量が 0 . 1モル%よりも少ない割合の場 合、 反応に時間がかかり経済的でなく、 一方、 2 5モル%を超える場合、 逆 に反応が早いため制御し難くなるので好ましくない。
前記反応物 ( I ) と、 1分子中に少なく とも 2つのカルボキシル基を有す る化合物 (Π ) と、 2官能エポキシ化合物 (III ) との重付加反応におけるそ れそれの使用量をそれそれひモル、 ^モル、 ァモルとした場合、 ァ / (ひ + 5 ) > 1 , ひ /5≠0となるようにする。すなわち、 2官能エポキシ化合物(III ) を過剰に用いることにより、 得られる線状構造のエポキシ樹脂の両末端にェ ポキシ基が存在することになる。
前記反応物 ( I ) と、 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有す る化合物 (II ) と、 2官能エポキシ化合物 (III ) との重付加反応は、 不活性 ガス気流中あるいは空気中で、 前記触媒の共存下、 約 5 0〜 2 0 0 °Cの温度 範囲で行なうことが好ましく、さらに好ましくは約 8 0 °C〜 1 5 0 °Cである。 反応温度が 5 0 °Cよりも低い場合、反応が進行し難くなるので好ましくない。 一方、 2 0 0 °Cを超えた場合、 生成物の水酸基とエポキシ基の副反応が進行 し、 ゲル化を生じ易くなるので好ましくない。 反応時間は、 原料の反応性、 反応温度に応じて適時選択すればよいが、 約 5 〜 7 2時間が適当である。 次に、 多官能ァクリレート樹脂の合成について説明する。
本発明の多官能ァクリレート樹脂は、 前記のようにして得られた線状構造 のエポキシ樹脂に、 不飽和モノカルボン酸 ( c ) を、 後述する有機溶剤の存 在下あるいは非存在下で、 ハイ ドロキノンゃ酸素などの重合禁止剤、 及びト リェチルアミン等の三級アミン、 トリェチルベンジルアンモニゥムクロライ ド等の 4級アンモニゥム塩、 2 —ェチル— 4 —メチルイミダゾ一ル等のィミ ダゾ一ル化合物、 トリフヱニルホスフィン等のリン化合物などの反応触媒の 共存下、 通常、 約 8 0 〜 1 3 0 °Cで反応させることにより製造できる。
' 前記一般式 (4 ) で示されるようなエポキシ樹脂に、 例えば不飽和モノ力 ルボン酸 ( c ) としてアクリル酸を反応させれば、 下記一般式 ( 1 0 ) で示 される多官能ァクリレ一ト樹脂を得ることができる。
Figure imgf000016_0001
式中、 L及び R 3は前記と同じ意味を表わす。
前記エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸 ( c ) を反応させて多官能ァク リレート樹脂を製造するに際しては、 前記エポキシ樹脂に、 該樹脂中に含ま れるエポキシ基 1モルに対して不飽和モノカルボン酸 ( c ) を 0 . 2 〜 1 . 3モルの割合で配合し、 溶媒中又は無溶剤で、 約 6 0 〜 1 5 0 °C、 好ましく は 7 0 〜 1 3 0 °Cに加熱して、 好ましくは空気の存在下に反応を行なう。 反 応中の重合によるゲル化を防止するため、 メチルハイ ドロキノン、 ハイ ドロ キノン等のハイ ドロキノン類; p—べンゾキノン、 p —トルキノン等のペン ゾキノン類などの公知慣用の重合禁止剤を用いることが好ましい。 また、 反 応時間を短縮するために、 エステル化触媒を用いることが好ましい。
エステル化触媒としては、 例えば、 N , N—ジメチルァニリン、 ピリジン、 トリエチルアミン等の三級アミン及びその塩酸塩又は臭素酸塩;テトラメチ ルアンモニゥムクロライ ド、 ト リエチルベンジルアンモニゥムクロライ ド等 の四級アンモニゥム塩; パラ トルエンスルホン酸等のスルホン酸; ジメチル スルホキシド、 メチルスルホキシド等のスルホニゥム塩; ト リフエニルホス フィ ン、 トリ一 n—ブチルホスフィ ン等のホスフィ ン類;塩化リチウム、 臭 化リチウム、 塩化第一錫、 塩化亜鉛等の金属ハロゲン化物など、 公知慣用の 触媒を用いることができる。
また、 溶媒としては不活性溶媒を用いることが好ましい。 不活性溶媒とし ては、 例えばトルエン、 キシレンなどを用いることができる。
前記不飽和モノカルボン酸 (c) の代表的なものとしては、 アクリル酸、 メタァクリル酸、 ケィ皮酸、 クロ トン酸、 ソルビン酸、 ひ一シァノケィ皮酸、 ?—スチリルァクリル酸などの他、 ヒ ドロキシェチル (メタ) ァクリレート、 ヒ ドロキシプロピル (メタ) ァクリレート、 ヒ ドロキシプチル (メタ) ァク リレート、 ト リメチロールプロパンジ (メタ) ァクリレート、 ペン夕エリス リ トールトリ (メタ) ァクリレート、 ジペン夕エリスリ トールペン夕 (メタ) ァクリレート、 フエニルグリシジル (メタ) ァクリレート、 (メタ) ァクリ ル酸カプロラク トン付加物など水酸基含有 (メタ) ァクリレートの不飽和二 塩基酸無水物付加物などが挙げられる。 これら不飽和モノカルボン酸 (c) の中でも特に好ましいのは、 アクリル酸及びメタアクリル酸である。 これら 不飽和モノカルボン酸 (c) は、 単独で又は 2種以上を組み合わせて用いる ことができる。
次に、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂( A )の合成について説明する。 前記反応により生成した多官能ァクリレート樹脂のアルコール性水酸基に 多塩基酸無水物(d)を反応させて本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂(A) が得られるが、 この反応において、 多塩基酸無水物 (d) の使用量は、 前記 多官能ァクリレート樹脂中のアルコール性水酸基 1モルに対して無水物基が 0. 1〜1モルの割合が適しており、 好ましくは生成する活性エネルギー線 硬化性樹脂の酸価が 50〜200 mgKOH/g、 好ましくは 50〜120 mgKOH/gの範囲内となるような付加量とすることが望ましい。 活性ェ ネルギ一線硬化性樹脂の酸価が 50 m g K 0 HZ gよりも低いときは、 アル 力リ水溶液に対する溶解性が悪くなり、 形成した塗膜の現像が困難になる。 一方、 200 mgKOH/gよりも高くなると、 露光の条件によらず露光部 の表面まで現像されてしまい、 好ましくない。
例えば、 前記一般式 ( 10) で示されるような多官能ァクリレート樹脂に 多塩基酸無水物 (d) を反応させれば、 下記一般式 ( 1 1) で示されるよう な活性エネルギ一線硬化性樹脂を得ることができる。
Figure imgf000018_0001
m:H,— c— R1 - C一 OH
II II
o o
式中、 R1及び R3は前記と同じ意味であり、 Mは下記一般式 ( 12)、 ( 1 3) 及び ( 14) で表わされる構成単位を有する。 また、 繰り返し構成単位 である下記一般式 ( 12) 、 ( 13) 及び ( 14) はランダムに結合し、 そ れそれの構成単位 ( 12) 、 ( 13 )及び ( 14) の間には、 下記一般式 ( 1 5) で示される構成単位が必ず 1つ結合する。 基 「m」 は多塩基酸無水物の 反応割合によって調整できる。
Figure imgf000018_0002
o o o o
-O- R4 - -0_CH2- CH-CH2- O - R3- 0-CH2-CH-CH2— O- έ-R4 - - O— * ― (13)
Figure imgf000018_0003
(14)
Figure imgf000019_0001
Figure imgf000019_0002
m: H,一 C— R^C-OH
11 式中、 J及び R R 3、 R 4、 eは前記と同じ意味を表わす。
上記反応は、 後述する有機溶剤の存在下又は非存在下でハイ ドロキノンゃ 酸素等の重合禁止剤の存在下、 通常、 約 5 0 〜 1 3 0 °Cで行なう。 このとき 必要に応じて、 トリェチルァミン等の三級ァミン、 トリェチルベンジルアン モニゥムクロライ ド等の四級アンモニゥム塩、 2 —ェチル— 4ーメチルイミ ダゾール等のイミダゾ一ル化合物、 トリフエニルホスフィン等のリン化合物 等を触媒として添加してもよい。
上記多塩基酸無水物 (d ) としては、 メチルテトラヒドロ無水フ夕ル酸、 テトラヒドロ無水フ夕ル酸、 へキサヒドロ無水フ夕ル酸、 メチルへキサヒド 口無水フ夕ル酸、 無水ナジック酸、 3 , 6—エンドメチレンテトラヒドロ無 水フ夕ル酸、 メチルエンドメチレンテトラヒ ドロ無水フタル酸、 テトラブロ モ無水フタル酸等の脂環式二塩基酸無水物;無水コハク酸、無水マレイン酸、 無水ィ夕コン酸、ォクテニル無水コハク酸、ペン夕 ドデセニル無水コハク酸、 無水フタル酸、 無水トリメリッ ト酸等の脂肪族又は芳香族の二塩基酸無水物 又は三塩基酸無水物、 あるいはビフヱニルテトラカルボン酸二無水物、 ジフ 工ニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、 ブタンテトラカルボン酸二無水 物、 シクロペン夕ンテトラカルボン酸二無水物、 無水ピロメリッ ト酸、 ベン ゾフエノンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族又は芳香族四塩基酸二無水 物が挙げられ、 これらの 1種又は 2種以上を使用することができる。 これら の中でも、 脂環式二塩基酸無水物が特に好ましい。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂 (A ) の数平均分子量は、 4 0 0〜 1 0 0 , 0 0 0の範囲が適当であり、 好ましくは 9 0 0〜2 0 , 0 0 0、 よ り好ましくは 9 0 0〜 1 0 , 0 0 0である。 活性エネルギー線硬化性樹脂の 数平均分子量が 4 0 0未満では、 得られる硬化物の強靱性が充分でなく、 一 方、 1 0 0 , 0 0 0を超えると現像性が低下するので好ましくない。
前記光重合開始剤 (B ) としては、 例えば、 ベンゾイン、 ベンゾインメチ ルエーテル、 ベンゾインェチルェ一テル、 ベンゾインイソプロピルエーテル 等のベンゾインとベンゾインアルキルェ一テル類 ; ァセ トフヱノン、 2 , 2 ージメ トキシ一 2—フエニルァセ トフエノン、 2 , 2—ジエトキシ一 2—フ ェニルァセ トフエノン、 1, 1ージクロロアセ トフエノン等のァセ トフエノ ン類 ; 2—メチルー 1— [ 4 一 (メチルチオ) フエニル] — 2—モルホリノ ァミノプロパノン一 1、 2 —ベンジルー 2—ジメチルアミノー 1一 ( 4—モ ルホリノフエニル) 一ブタン一 1 一オン、 N , N—ジメチルアミノアセ トフ ェノン等のアミノアセ トフエノン類 ; 2 —メチルアントラキノン、 2—ェチ ルアントラキノン、 2— t —ブチルアントラキノン、 1—クロ口アントラキ ノン等のアントラキノン類; 2, 4 一ジメチルチオキサントン、 2 , 4—ジ ェチルチオキサントン、 2 —クロ口チォキサントン、 2 , 4—ジイソプロピ ルチオキサントン等のチォキサントン類;ァセ トフエノンジメチルケタール、 ベンジルジメチルケタール等のケタール類 ; ベンゾィルパ一ォキシド、 クメ ンパ一ォキシド等の有機過酸化物 ; 2, 4, 5 — トリァリ一ルイ ミダゾール 二量体; リボフラビンテ トラブチレ一ト ; 2—メルカプトベンゾィ ミダゾー ル、 2—メルカプトベンゾォキサゾ一ル、 2—メルカプトべンゾチアゾール 等のチオール化合物; 2, 4, 6 — トリス— s — ト リアジン ; 2 , 2 , 2— トリブロモエタノール、 トリブロモメチルフエニルスルホン等の有機ハロゲ ン化合物;ベンゾフエノン、 4 , 4 ' 一ビスジェチルァミノべンゾフエノン 等のベンゾフエノン類又はキサントン類; 2, 4 , 6 — トリメチルベンゾィ ルジフエニルホスフィンォキサイ ドなどが挙げられる。 これら公知慣用の光 重合開始剤は、単独で又は 2種類以上の混合物として使用でき、 さらには N , N—ジメチルァミノ安息香酸ェチルエステル、 N , N—ジメチルァミノ安息 香酸イソアミルエステル、 ペンチル一 4—ジメチルァミノベンゾェ一ト、 ト リエチルアミン、 トリエ夕ノールアミン等の三級アミン類などの光閧始助剤 を加えることができる。また可視光領域に吸収のある C G I— 7 8 4 (チバ - スぺシャルティ ·ケミカルズ社製) 等のチ夕ノセン化合物等も、 光反応を促 進するために添加することもできる。 特に好ましい光重合開始剤は、 2—メ チルー 1 一 [ 4— (メチルチオ) フエニル] — 2—モルホリノアミノプロパ ノン一 1、 2—ベンジルー 2—ジメチルアミノー 1一 (4一モルホリノフエ ニル)一ブ夕ン一 1—オン等であるが、特にこれらに限られるものではなく、 紫外光もしくは可視光領域で光を吸収し、 (メタ) ァクリロイル基等の不飽 和基をラジカル重合させるものであれば、 光重合開始剤、 光開始助剤に限ら ず、 単独であるいは複数併用して使用できる。
前記光重合開始剤 (B ) の使用量 (光開始助剤を用いる場合にはそれらの 合計量) は、 前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A ) 1 0 0質量部 (固形分 として、 以下同様) に対して 0 . 1 ~ 2 5質量部、 好ましくは 0 . 5〜 2 0 質量部の割合が望ましい。 光重合開始剤の配合量が上記範囲よりも少ない場 合、 活性エネルギー線の照射を ffなっても硬化しないか、 もしくは照射時間 を増やす必要があり、 適切な塗膜物性が得られ難くなる。 一方、 上記範囲よ りも多量に光重合開始剤を添加しても、 光硬化性に変化は無く、 経済的に好 ましくない。
次に、 前記希釈剤 (C ) としては、 光重合性ビニル系モノマ一 ( C— 1 ) 及び/又は有機溶剤 (C一 2 ) が使用できる。
光重合性ビニル系モノマ一 ( C一 1 ) の代表的な例としては、 2—ヒ ドロ キシェチルァクリレ一ト、 2 —ヒドロキシプロピルァクリレートなどのヒド ロキシアルキルァクリレート類;エチレングリコール、 メ トキシテトラェチ レングリコール、 ポリエチレングリコール、 プロピレングリコールなどのグ リコールのモノ又はジァクリレート類; N , N—ジメチルアクリルアミ ド、 N—メチロールアクリルアミ ド、 N , N—ジメチルァミノプロピルアクリル アミ ドなどのアクリルアミ ド類; N , N—ジメチルアミノエチルァクリレー ト、 N , N—ジメチルァミノプロピルァクリレートなどのアミノアルキルァ クリレ一ト類; へキサンジオール、 ト リメチロールプロパン、 ペン夕エリス リ トール、 ジペン夕エリスリ トール、 トリス一ヒ ドロキシェチルイソシァヌ レートなどの多価アルコール又はこれらのェチレオキサイ ド付加物もしくは プロピレンォキサイ ド付加物などの多価ァクリレート類 ; フエノキシァクリ レート、 ビスフヱノール Aジァクリレート、 及びこれらのフヱノール類のェ チレンォキサイ ド付加物もしくはプロピレンォキサイ ド付加物などのァクリ レート類 ; グリセリンジグリシジルエーテル、 グリセリント リグリシジルェ —テル、 トリメチロールプロパント リグリシジルェ一テル、 トリグリシジル イソシァヌレートなどのグリシジルェ一テルのァクリレート類;及びメラミ ンァクリレート ;及び上記ァクリレートに対応する各メタァクリレート類な どが挙げられる。
前記有機溶剤 ( C— 2 ) としては、 メチルェチルケトン、 シクロへキサノ ン等のケ トン類 ; トルエン、 キシレン、 テトラメチルベンゼン等の芳香族炭 化水素類 ;セロソルブ、 メチルセ口ソルブ、 プチルセ口ソルブ、 カルビトー ル、 メチルカルビトール、 ブチルカルビトール、 プロピレングリコ一ルモノ メチルエーテル、 ジプロピレングリコ一ルモノメチルエーテル、 ジプロピレ ングリコールジェチルェ一テル、 ト リエチレングリコールモノェチルェ一テ ル等のグリコールェ一テル類 ;酢酸ェチル、 酢酸プチル及び上記グリコ一ル エーテル類の酢酸エステル化物などのエステル類; エタノール、 プロパノ一 ル、 エチレングリコール、 プロピレングリコール等のアルコール類 ; ォク夕 ン、 デカン等の脂肪族炭化水素 ;石油エーテル、 石油ナフサ、 水添石油ナフ サ、 ソルベントナフサ等の石油系溶剤などが挙げられ、 前記活性エネルギー 線硬化性樹脂 (A ) と相溶性が良く、 かつ熱硬化性成分である環状エーテル 化合物 (D ) を溶解しないものが好ましい。
前記のような希釈剤 ( C ) は、 単独で又は 2種以上の混合物として用いら れ、 その使用量の好適な範囲は、光重合性ビニル系モノマ一を用いる場合は、 活性エネルギー線硬化性樹脂(A) 100質量部に対して 10〜60質量部、 好ましくは 1 5〜50質量部の割合が望ましく、 これより多量に使用した場 合は、 指触乾燥性が悪くなるので好ましくない。 一方、 有機溶剤の使用量は 特定の割合に限定されるものではないが、 前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) 100質量部に対して 30〜300質量部程度の範囲が適当であり、 選択する塗布方法に応じて適宜設定できる。
前記希釈剤 (C) の使用目的は、 光重合性ビニル系モノマー (C— 1) の 場合は、 感光性成分を希釈せしめ、 塗布しやすい状態にすると共に、 光重合 性を増強するためである。 一方、 有機溶剤 (C一 2) の場合は、 感光性成分 を溶解し希釈せしめ、 それによつて液状として塗布し、 次いで乾燥させるこ とにより造膜せしめ、 接触露光を可能とするためである。 従って、 用いる希 釈剤に応じて、 フォトマスクを塗膜に密着させる接触方式あるいは非接触方 式のいずれかの露光方式が用いられる。
前記環状エーテル化合物 (D) としては、 多官能エポキシ化合物 (D— 1 ) 及び/又は多官能ォキセタン化合物 (D— 2) が使用できる。
多官能エポキシ化合物 (D— 1) としては、 具体的には、 ジャパンェポキ シレジン社製のェピコ一ト 828、 ェピコ一ト 834、 ェピコ一ト 1001、 ェピコ一ト 1004、 大日本ィンキ化学工業社製のェピクロン 840、 ェビ クロン 850、 ェピクロン 1 050、 ェビクロン 205 5、 東都化成社製の ェポトート YD— 0 1 1、 YD— 0 13、 YD— 127、 YD— 128、 ダ ゥケミカル社製の D. E . R . 3 17、 D . E . R. 33 1、 D . E . R. 66 1、 D. E. R . 6 64、 チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ社製のァ ラルダイ ド 607 1、 ァラルダイ.ド 6084、 ァラルダイ ド G Y 250、 ァ ラルダイ ド GY 260、住友化学工業社製のスミ一エポキシ E S A— 0 1 1、 E SA - 0 14、 ELA— 1 15、 ELA— 128、 旭化成工業社製の A . E. R. 330、 A. E. R. 33 1、 A. E . R. 6 6 1、 A. E. R. 664等 (何れも商品名) のビスフヱノール A型エポキシ樹脂; ジャパンェ ポキシレジン社製のェピコ一ト YL 9 03、 大日本ィンキ化学工業社製のェ ピクロン 1 5 2、 ェピクロン 1 6 5、 東都化成社製のェポトート YDB— 4 00、 YDB— 5 0 0、 ダウケミカル社製の D. E . R. 5 42、 チバ 'ス ぺシャルティ ·ケミカルズ社製のァラルダイ ド 8 0 1 1、 住友化学工業社製 のスミーエポキシ E SB— 40 0、 E S B— 7 0 0、 旭化成工業社製の A. E . R. 7 1 1、 A. E . R. 7 1 4等 (何れも商品名) のブロム化工ポキ シ樹脂; ジャパンエポキシレジン社製のェピコ一ト 1 5 2、 ェピコ一ト 1 5 4、 ダウケミカル社製の D. E . N. 43 1、 D. E . N. 43 8、 大日本 インキ化学工業社製のェピクロン N— 7 3 0、 ェビクロン N— 7 7 0、 ェピ クロン N— 8 6 5、 東都化成社製のェポトート YD CN— 7 0 1、 YD CN - 7 04s チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ社製のァラルダイ ド E C N 1 2 3 5、 ァラルダイ ド E CN 1 2 7 3、 ァラルダイ ド E C N 1 2 9 9、 ァラ ルダイ ド XPY 30 7、 日本化薬社製の Ε Ρ Ρ Ν— 2 0 1、 E O CN— 1 0 2 5、 E O CN— 1 02 0、 E O CN— 1 04 S、 RE— 3 0 6、 住友化学 工業社製のスミーエポキシ E S CN_ 1 9 5 X、 E S CN— 2 2 0、 旭化成 工業社製の A . E. R. E CN— 2 3 5、 E CN— 2 9 9等 (何れも商品名) のノボラック型エポキシ樹脂;大日本ィンキ化学工業社製のェピクロン 8 3 0、 ジャパンエポキシレジン社製のェピコ一ト 80 7、 東都化成社製のェポ トート YD F— 1 7 0、 YD F - 1 7 5 YD F— 2 0 04、 チバ ·スぺシ ャルティ .ケミカルズ社製のァラルダイ ド XPY 3 0 6等 (何れも商品名) のビスフエノール F型エポキシ樹脂;東都化成社製のェポトート S T— 2 0 04、 S T— 2 00 7、 S T— 3 0 00 (商品名) 等の水添ビスフエノール A型エポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジン社製のェピコート 6 04、 東都 化成社製のェポトート YH— 434、 チバ 'スペシャルティ ·ケミカルズ社 製のァラルダイ ド MY 7 2 0、 住友化学工業社製のスミ一エポキシ E LM— 1 2 0等 (何れも商品名) のグリシジルアミン型エポキシ樹脂; チバ■スぺ シャルティ ·ケミカルズ社製のァラルダイ ド CY— 3 5 0 (商品名) 等のヒ ダントイン型エポキシ樹脂;ダイセル化学工業社製のセロキサイ ド 2 0 2 1、 チバ■スペシャルティ ·ケミカルズ社製のァラルダイ ド CY 175、 CY 1 79等 (何れも商品名) の脂璟式エポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジン社 製の YL— 933、 ダウケミカル社製の T . E. N. 、 EPPN— 50 1、 £卩? ー 502等 (何れも商品名) のトリヒドロキシフエニルメ夕ン型ェ ポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジン社製の Y L— 6056、 YX- 400 0、 YL - 6 12 1 (何れも商品名) 等のビキシレノ一ル型もしくはビフエ ノール型エポキシ樹脂又はそれらの混合物; 日本化薬社製の E B P S - 20
0、 旭電化工業社製の E PX— 30、 大日本インキ化学工業社製の EXA— 15 14 (商品名) 等のビスフエノール S型エポキシ樹脂; ジャパンェポキ シレジン社製のェピコ一ト 1 57 S (商品名) 等のビスフエノール Aノボラ ヅク型エポキシ樹脂; ジャパンエポキシレジン社製のェピコ一ト YL— 93
1、 チバ ·スペシャルティ ·ケミカルズ社製のァラルダイ ド 1 63等 (何れ も商品名) のテトラフエ二口一ルェタン型エポキシ樹脂;チバ 'スペシャル ティ ·ケミカルズ社製のァラルダイ ド PT 8 10、 日産化学工業社製の TE P I C等 (何れも商品名) の複素環式エポキシ樹脂; 日本油脂社製のプレン マ一 D GT (商品名) 等のジグリシジルフタレ一ト樹脂;東都化成社製の Z X- 1063 (商品名) 等のテトラグリシジルキシレノィルェタン樹脂;新 日鉄化学社製の E SN— 190、 E SN_ 360、 大日本ィンキ化学工業社 製の HP— 4032、 EXA— 4750、 EXA—4700等 (何れも商品 名) のナフ夕レン基含有エポキシ樹脂;大日本インキ化学工業社製の HP— 7200、 HP— 7200H等 (何れも商品名) のジシクロペン夕ジェン骨 格を有するエポキシ樹脂;日本油脂社製の CP— 503、 〇卩ー 50 等(何 れも商品名) のグリシジルメタァクリレ一ト共重合系エポキシ樹脂; さらに シクロへキシルマレイミ ドとグリシジルメ夕ァクリレ一トの共重合エポキシ 樹脂等が挙げられるが、 これらに限られるものではない。 これらエポキシ樹 脂は単独で又は 2種以上を組み合わせて用いることができる。 これらの中で も、 特にビフェノール型もしくはビキシレノ一ル型エポキシ樹脂又はそれら の混合物が好ましい。 前記多官能ォキセタン化合物 (D— 2) のうち、 1分子中に 2個のォキセ 夕二ル基を有する化合物 (以下ビスォキセタンと記す) の代表例としては、 下記一般式 ( 1 6) で示されるビスォキセタン類が挙げられる。
Figure imgf000026_0001
上記一般式 ( 1 6) において、 R5は水素原子又は炭素数 1〜 6のアルキ ル基を表わし、 Pは炭素数 1〜12の線状又は分岐状飽和炭化水素類、 炭素 数 1〜 12の線状又は分岐状不飽和炭化水素類、 下記式 ( 17)、 ( 1 8)、 ( 1 9)、 (20) 及び (2 1) で示される芳香族炭化水素類、 下記式 (2 2) 及び (23) で示されるカルボ二ル基を含む直鎖状又は環状のアルキレ ン類、 下記式 (24) 及び (25) で示されるカルボ二ル基を含む芳香族炭 化水素類から選択される 2価の原子価を持った基を表わす。
Figure imgf000026_0002
(20) (21)
式中、 R6は水素原子、 炭素数 1〜 12のアルキル基、 ァリール基、 又は ァラルキル基を表わし、 R7は— 0—、 一 S—、 —CH2—、 — NH―、 — S 02—、 - CH (CH3) 一、 - C (CH3) 2—、 又は一C (CF3) 2—を 表わし、 R 8は水素原子又は炭素数 1〜 6のアルキル基を表わす。
Figure imgf000026_0003
式中、 kは 1〜 1 2の整数である
Figure imgf000027_0001
(25) 本発明に用いられる多官能ォキセタン化合物(D— 2 )の代表例としては、 前記一般式 ( 1 6) で示されるビスォキセタン類など、 先に例示した 1分子 中に 2個のォキセ夕二ル基を有する化合物に加えて、 分子中に 3個以上のォ キセ夕二ル基を有する化合物を用いることができる。
1分子中に 3個以上のォキセ夕二ル基を有する化合物の代表例としては、 下記一般式 (26) で示される化合物が挙げられる。
Figure imgf000027_0002
式中、 R9は水素原子又は炭素数 1〜6のアルキル基を表わし、 Q は、 下 記一般式 (27)、 (28) 及び (29) で示されるような炭素数 1〜12の 分岐状アルキレン基、 又は下記一般式 ( 30 )、 ( 3 1 )、 及び ( 32 ) で示さ れる芳香族炭化水素類を表わす。 また、 1は、 残基 Qに結合している官能基 の数を表わし、 3以上の整数、 好ましくは 3~5000の整数である。
— CH2-CH2-CH— CH2-CH-CH2-CHa-
Figure imgf000027_0003
(27) (28) (29)
Figure imgf000027_0004
(32) 式中、 : R1 Qは、 水素原子、 炭素数 1〜 6のアルキル基、 又はァリ一ル基を 表わす。
1分子中に 3個以上のォキセ夕二ル基を有する化合物としては、 前記化合 物の他に、 ォキセタンとノボラック樹脂、 ポリ (p—ヒドロキシスチレン)、 カルド型ビスフヱノール類、 カリックスァレーン類、 力リックスレゾルシン ァレ一ン類、 又はシルセスキォキサンなどの水酸基を有する樹脂とのェ一テ ル化物などが挙げられる。 その他、 ォキセタン環を含有する不飽和モノマー とアルキル (メタ) ァクリレートとの共重合体なども挙げられる。
前記したようなォキセタン化合物 (D— 2) は、 単独で又は 2種類以上を 組み合わせて用いることができる。
前記のような環状ェ一テル化合物 (D) は、 熱硬化することにより、 ソル ダ一レジス トの密着性、 耐熱性等の特性を向上させる。 その配合量は、 前記 活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) 100質量部に対して 10質量部以上、 100質量部以下で充分であり、好ましくは 25〜60質量部の割合である。 環状エーテル化合物 (D) の配合量が 10質量部未満の場合、 硬化皮膜の吸 湿性が高くなつて P C T耐性が低下し易くなり、 また、 はんだ耐熱性ゃ耐無 電解めつき性も低くなり易い。 一方、 100質量部を超えると、 塗膜の現像 性や硬化皮膜の耐無電解めつき性が悪くなり、 また P C T耐性も劣ったもの となる。
前記硬化触媒 (E) としては、 例えば、 イミダゾ一ル、 2—メチルイ ミダ ゾ一ル、 2—ェチルイミダゾ'ール、 2—ェチルー 4一メチルイミダゾ一ル、 2—フエ二ルイミダゾ一ル、 4一フエ二ルイミダゾール、 1—シァノエチル 一 2—フエニルイミダゾ一ル、 1一 (2—シァノエチル) 一 2—ェチル—4 ーメチルイミダゾール等のィミダゾ一ル誘導体; ジシアンジアミ ド、 ベンジ ルジメチルァミン、 4一 (ジメチルァミノ) 一 N, N— メチルベンジルァ ミン、 4—メ トキシー N, N—ジメチルベンジルァミン、 4—メチルー N, N—ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物; アジピン酸ヒドラジド、 セ バシン酸ヒドラジド等のヒドラジン化合物; トリフヱニルホスフィン等のリ ン化合物などが挙げられ、 また市販されているものとしては、 例えば四国化 成工業社製の 2MZ— A、 2MZ— OK、 2 ΡΗΖ、 2 Ρ4ΒΗΖ、 2 Ρ 4 MHZ (いずれもイミダゾ一ル系化合物の商品名) 、 サンァプロ社製の U— CAT 3 5 0 3 X、 U- CAT 3 5 02 X (いずれもジメチルァミンのプロ ヅクイソシァネート化合物の商品名) 、 DBU、 D BN、 U— CAT SA 1 02、 U- CAT 5 0 0 2 (いずれも二環式アミジン化合物及びその塩) な どがある。 特に、 これらに限られるものではなく、 環状エーテル化合物の硬 化触媒、 もしくは璟状ェ一テル基 (エポキシ基、 ォキセ夕ニル基) とカルボ キシル基の反応を促進するものであればよく、 単独で又は 2種以上を混合し て使用してもかまわない。また、密着性付与剤としても機能するグアナミン、 ァセトグアナミン、 ベンゾグアナミン、 メラミン、 2, 4ージァミノ一 6— メ夕クリロイルォキシェチルー S—トリアジン、 2—ビニルー 2 , 4—ジァ ミノ一 S— 卜 リアジン、 2—ビニル一 4 , 6—ジァミノー S— ト リアジン ' イソシァヌル酸付加物、 2, 4ージァミノ _ 6—メ夕クリロイルォキシェチ ルー S— トリアジン ·ィソシァヌル酸付加物等の S—トリアジン誘導体を用 いることもでき、 好ましくはこれら密着性付与剤としても機能する化合物を 前記硬化触媒と併用する。 上記硬化触媒 (E) の配合量は通常の量的割合で 充分であり、 例えば前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) 1 00質量部に 対して 0. 1〜2 0質量部、 好ましくは 0. 5〜1 5. 0質量部の割合であ る。
さらに、 本発明の光硬化性,熱硬化性樹脂組成物は、 本発明の効果を損な わない範囲で、 前記した活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) 以外の他の活性 エネルギー線硬化性樹脂 (F) を含有することができる。
他の活性エネルギー線硬化性樹脂 (F) としては、 不飽和基及びカルボキ シル基を有する限り全て使用可能であり、 特定のものに限定されるものでは ないが、 それらの中でも下記のような樹脂が好ましい。
( 1 )不飽和カルボン酸と不飽和二重結合を有する化合物との共重合体に、 エチレン性不飽和基をペンダントとして付加させることによって得られる力 ルポキシル基含有感光性樹脂
( 2 ) エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物と、 不飽和二重結合を 有する化合物との共重合体に、 不飽和カルボン酸を反応させ、 生成した 2級 の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性 樹脂
( 3 ) 不飽和二重結合を有する酸無水物と不飽和二重結合を有する化合物 との共重合体に、 水酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得ら れるカルボキシル基含有感光性樹脂
( 4 ) エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸を反応させ、 生成した 2級 の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性 樹脂
( 5 ) 水酸基含有ポリマーに多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボ キシル基含有樹脂に、 エポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさらに 反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
( 6 ) 多官能ォキセタン化合物に不飽和モノカルボン酸を反応させて得ら れる変性ォキセタン樹脂の一級水酸基に対して、 さらに多塩基酸無水物を反 応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂
( 7 ) 多核エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応生成物の水酸 基に対して、 さらに多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含 有感光性樹脂
これらの中でも、 得られる硬化物の耐熱性等を向上させるために、 クレゾ —ルノボラック系ェポキシ化合物を用いて得られる活性エネルギ一線硬化性 樹脂を配合させることが特に望ましい。
また、 本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物には、 それらの塗布性ゃ耐 熱性等の諸特性の低下を招くことなく、 その硬化物の誘電率及び誘電正接を 低下させるために、 球状多孔質フイラ一 (G ) を配合することができる。 球 状多孔質フィラー (G ) の材料としては、 シリカや架橋樹脂物が挙げられる。 光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物に通常のフイラーを配合した場合、 硬化物 の誘電率及び誘電正接はそのフィラーの誘電率、 誘電正接に支配されるが、 球状多孔質フィラーを配合した場合、 その孔中に空気を包摂することから、 その誘電特性を低下させることができるようになる。 このように空気を包摂 しうるためには、 球状多孔質フイラ一の平均粒径は 1 ~ 15 m、 さらに好 ましくは 1〜 10 mの範囲にあることが望ましく、. また、 球状多孔質フィ ラーの吸油量は、 約 50〜800m2/g、 好ましくは 100〜200m2/ gであることが望ましい。
球状多孔質フイラ一 (G) の配合割合は、 前記活性エネルギー線硬化性樹 脂 (A) 100質量部当り 5質量部以上、 100質量部以下、 好ましくは 5 0質量部以下であることが望ましい。
本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物には、 フレキシブル性と強靭性を 付与することを目的として、 エポキシ化ポリブタジエン (H) を配合するこ とができる。 このエポキシ化ポリブタジエン (H) としては、 例えばダイセ ル化学工業社製エボリ一ド P B 3600、 PB 4700等があり、 その配合 量は、 前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) 100質量部当たり 5〜50 質量部とすることが望ましい。
さらに、 フレキシブル性と低反り性を付与することを目的として、 平均粒 径 1〜1 5〃mの球状ウレタンビーズ (I) を配合することができる。 この 球状ウレタンビーズ( I )の配合量は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂(A) 100質量部当たり 5~ 100質量部とすることが望ましい。
本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物には、 さらに必要に応じて、 硫酸 バリウム、 チタン酸バリウム、 酸化ケィ素紛、 微粉状酸化ケィ素、 無定形シ リカ、 結晶性シリカ、 溶融シリカ、 球状シリカ、 タルク、 クレー、 炭酸マグ ネシゥム、 炭酸カルシウム、 酸化アルミニウム、 水酸化アルミニウム、 マイ 力等の公知慣用の無機フイラ一を単独で又は 2種以上組み合わせて配合する ことができる。 これらは塗膜の硬化収縮を抑制し、 密着性、 硬度などの特性 を向上させる目的で用いられる。 無機フイラ一の配合量は、 前記活性エネル ギ一線硬化性樹脂 (A) 100質量部当り 10〜300質量部、 好ましくは 30〜200質量部が適当である。
本発明の組成物は、 さらに必要に応じてフタロシアニン ' ブル一、 フタ口 シァニン ' グリーン、 アイォジン ' グリーン、 ジスァゾイエロ一、 クリス夕 ルバイオレッ ト、 酸化チタン、 力一ボンブラック、 ナフ夕レンブラックなど の公知慣用の着色剤、ハイ ド口キノン、ハイ ドロキノンモノメチルエーテル、 t _プチルカテコール、 ピロガロール、 フエノチアジンなどの公知慣用の熱 重合禁止剤、 微粉シリカ、 有機ベントナイ ト、 モンモリロナイ トなどの公知 慣用の増粘剤、 シリコーン系、 フッ素系、 高分子系などの消泡剤及び 又は レべリング剤、 イミダゾ一ル系、 チアゾ一ル系、 ト リァゾ一ル系等のシラン 力ップリング剤などのような公知慣用の添加剤類を配合することができる。 本発明の光硬化性,熱硬化性樹脂組成物は、 前記した 、k、、 ( B )、 (C )、 ( D )、 (E )、 (F )、 (G )、 (H )、 および( I )成分、 さらに必要に応じて無 機充填剤、 その他前記の配合成分を、 好ましくは前記した割合で配合し、 口 —ルミル等で均一に混合、 溶解、 分散等することにより得られる。 この本発 明の組成物は通常液状であるが、 ドライフィルムにしてもよい。
ドライフィルムを製造するには、 例えばべ一スフイルム (離型フィルム) 上にロールコ一夕.一やドクターバー、 ワイヤ一バ一方式、ディ ッビング方式、 スピンコート方式、 クラビア方式及びドク夕一プレート方式等を用いて上記 の本発明の組成物を塗布した後、 6 0〜 1 0 0 °Cに設定した乾燥炉で乾燥し、 所定量の希釈剤 (C ) を除去することにより、 また、 必要に応じて離型フィ ルム等を張り付けることにより得ることができる。 この際、 ベースフィルム 上の皮膜の厚さは、 5〜 1 6 0 m 、好ましくは 1 0 ~ 6 0 mに調製され る。 上記ベースフィルムとしては、 ポリエチレンテレフ夕レート、 ポリプロ ピレン等のフィルムが好適に使用される。
以上のような組成を有する本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 必 要に応じて希釈して塗布方法に適した粘度に調整し、 これを例えば、 回路形 成されたプリント配線板にスクリーン印刷法、 カーテンコート法、 スプレー コート法、 ロールコート法等の方法により塗布し、 例えば約 6 0〜 1 0 0 °C の温度で組成物中に含まれる有機溶剤を揮発乾燥させることにより、 塗膜を 形成できる。 ドライフィルムの場合には、 単にラミネートすればよい。 その 後、 パターンを形成したフォトマスクを通して選択的に活性エネルギー線に より露光し、 未露光部を希アル力リ水溶液により現像してレジス トパターン を形成でき、 さらに、 活性エネルギー線の照射後加熱硬化もしくは加熱硬化 後活性エネルギー線の照射、 又は、 加熱硬化のみで最終硬化 (本硬化) させ ることにより、 低誘電特性、 密着性、 耐無電解めつき性、 電気特性、 フレキ シブル性、 耐吸湿性並びに: P C T (プレッシャークッ力一) 耐性に優れた硬 化皮膜 (ソルダ一レジスト皮膜) が形成される。
上記アルカリ水溶液としては、 水酸化カリウム、 水酸化ナトリウム、 炭酸 ナトリウム、 炭酸カリウム、 リン酸ナトリウム、 ケィ酸ナトリウム、 アンモ ニァ、 アミン類などのアルカリ水溶液が使用できる。
また、 光硬化させるための照射光源としては、 低圧水銀灯、 中圧水銀灯、 高圧水銀灯、 超高圧水銀灯、 キセノンランプ又はメタルハライ ドランプなど が適当である。 その他、 レーザー光線なども活性エネルギー線として利用で ぎる。
また、 本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物を用いて多層プリント配線 板の層間絶縁樹脂層を形成する場合には、 必要に応じて塗布方法に適した粘 度に調整し、 これを例えば予め回路形成された配線板の導体層の上に前記し たような従来公知の方法により塗布し、 必要に応じて例えば約 6 0〜 1 0 0 °Cの温度で乾燥して夕ヅクフリーの塗膜を形成する。 ドライフィルムの場 合には、 単にラミネートすればよい。 その後、 黒円等の所定形状の光不透過 部を形成したネガフィルムを通して選択的に活性光線により露光し、 未露光 部を例えば前記したようなアル力リ水溶液により現像し、 ネガフィルムの黒 円に相当するバイァホールを形成する。 その後、 必要に応じて所定の層間導 通孔等の穴明けを行なった後、 酸化剤、 アルカリ水溶液、 有機溶剤等の粗化 剤により粗面化処理を行ない、 粗面化した絶縁樹脂層表面に無電解めつき、 電解めつき等により導体層を被覆した後、 加熱処理を行ない、 上記絶縁樹脂 層の架橋密度を上げると共に応力緩和を行なう。 例えば約 1 4 0〜 1 8 0 °C の温度に加熱して硬化させることにより、 耐衝撃性、 耐熱性、 耐溶剤性、 耐 酸性、 耐吸湿性、 P C T耐性、 密着性、 電気特性などの諸特性に優れた層間 絶縁樹脂層を形成できる。 その後、 常法に従って、 絶縁樹脂層表面の導体層 をエッチングして所定の回路パターンを形成し、 回路形成された導体層を形 成する。 また、 このような操作を所望に応じて順次繰り返し、 絶縁樹脂層及 び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアヅプして形成することもで ぎる。
なお、 本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 上記のようなビルドア ップ法による多層プリント配線板の製造方法の絶縁樹脂層としてだけでな く、 例えば樹脂付銅箔ラミネ一ト法による多層プリント配線板の製造におけ る絶縁樹脂層の形成や、 積層プレス法に用いるプリプレグ用の絶縁樹脂組成 物等としても用いることができる。 以下に実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、 下 記実施例は単に例示のためのみのものであり、 本発明が下記実施例に限定さ れるものでないことは勿論である。 なお、 以下において 「部」 及び 「%」 と あるのは、 特に断りのない限り全て質量基準である。
合成例 1
ガス導入管、 撹拌装置、 冷却管及び温度計を備えたフラスコに、 トリメリ ヅ ト酸無水物 1 9 2部とヒドロキシェチルァクリレート 1 1 6部、 及び熱重 合禁止剤としてのメチルハイ ドロキノン 0 . 4部を仕込み、 9 5 °Cの温度で 1 2時間反応させ付加物 ( I ) であるベンゼン— 1 , 2, 4—トリカルボン 酸 1 一 ( 2 —ァクリ ロイルォキシ―ェチル) エステル (Benzene-1, 2, 4- tricarboxylic acid l-(2-acryloyloxy-ethyl ) ester) を ί寻た 0
次に、 ガス導入管、 撹拌装置、 冷却管及び温度計を備えたフラスコに、 得 られたベンゼン一 1 , 2 , 4—トリカルボン酸 1 一 ( 2—ァクリロイルォキ シーェチル) エステル 1 5 4部と、 へキサヒ ドロフ夕ル酸 1 7 2部と、 ェポ キシ当量 2 5 0 g /当量の水素添加ビスフエノール Aジグリシジルエーテル (ジャパンエポキシレジン社製、 「Y L— 6 6 6 3」 ) 1 0 0 0部を仕込み、 窒素雰囲気下にて、 1 0 0 °Cで撹拌した。 その後、 トリフエニルホスフィン 5. 2部を添加し、フラスコ内の温度を 1 5 0 °Cまで昇温し、温度を 1 5 0 °C で保持しながら、 約 9 0分間反応させ、 エポキシ当量 1 3 2 6 g/当量のェ ポキシ樹脂を得た。
さらに、 得られたエポキシ樹脂 6 6 3部を、 撹袢装置、 冷却管及び温度計 を備えたフラスコに入れ、 カルビトールアセテート 37 0部を加え、 加熱溶 解し、 メチルハイ ドロキノン 0. 4 6部を加え、 9 5〜 1 0 5 °Cに加熱し、 ァクリル酸 3 6部を徐々に滴下し、 2 0時間反応させて多官能ァクリレート 樹脂を得た。 この多官能ァクリレート樹脂を、 8 0〜9 0°Cまで冷却し、 テ トラヒドロフ夕ル酸無水物 1 5 2部を加え、 8時間反応させた。 反応は、 電 位差滴定による反応液の酸化、 全酸化測定を行ない、 得られる付加率にて追 跡し、 反応率 9 5 %以上を終点とする。
このようにして得られたカルボキシル基含有活性.エネルギー線硬化性樹脂 は、 固形物の酸価 6 5.9 mgKOH/gであった。以下、 この反応溶液をヮ ニス A— 1と称す。
合成例 2
ガス導入管、 撹拌装置、 冷却管及び温度計を備えたフラスコに、 前記合成 例 1 と同様にして得られたベンゼン一 1, 2 , 4—トリカルボン酸 1— ( 2 —ァクリロイルォキシ―ェチル) エステル 1 54部と、 へキサヒドロフ夕ル 酸 1 72部と、 エポキシ当量 1 8 9 当量のビスフエノール Aジグリシジ ルェ一テル (ジャパンエポキシレジン社製、 「ェピコ一ト 8 2 8」) 7 5 6部 を仕込み、 窒素雰囲気下にて、 1 0 o。cで撹拌した。 その後、 トリフエニル ホスフィ ン 5. 2部を添加し、 フラスコ内の温度を 1 5 0°Cまで昇温し、 温 度を 1 5 0°Cで保持しながら、 約 9 0分間反応させ、 エポキシ当量 1 0 8 2 当量のエポキシ樹脂を得た。
さらに、 得られたエポキシ樹脂 54 1部を、 撹拌装置、 冷却管及び温度計 を備えたフラスコに入れ、 カルビトールアセテート 3 7 0部を加え、 加熱溶 解し、 メチルハイ ドロキノン 0. 4 6部を加え、 9 5〜 1 0 5°Cに加熱し、 ァクリル酸 3 6部を徐々に滴下し、 2 0時間反応させて多官能ァクリレート 樹脂を得た。 この多官能ァクリレート樹脂を、 80〜9 0°Cまで冷却し、 テ トラヒドロフ夕ル酸無水物 1 5 2部を加え、 8時間反応させた。 反応は、 電 位差滴定による反応液の酸化、 全酸化測定を行ない、 得られる付加率にて追 跡し、 反応率 9 5 %以上を終点とする。
このようにして得られたカルボキシル基含有活性エネルギ一線硬化性樹脂 は、 固形物の酸価 7 7. OmgKOHZgであった。 以下、 この反応溶液を ワニス A— 2と称す。
合成例 3
ガス導入管、 撹抨装置、 冷却管及び温度計を備えたフラスコに、 前記合成 例 1と同様にして得られたベンゼン一 1 , 2 , 4—トリカルボン酸 1— ( 2 —ァクリロイルォキシーェチル) エステル 1 5 4部と、 テレフタル酸 1 6 6 部と、 エポキシ当量 2 5 0 g/当量の水素添加ビスフエノ一ル Aジグリシジ ルェ一テル (ジャパンエポキシレジン社製、 「YL— 6 6 6 3」 ) 1 0 0 0 部を仕込み、 窒素雰囲気下にて、 1 00°Cで撹拌した。 その後、 トリフエ二 ルホスフィン 5. 2部を添加し、 フラスコ内の温度を 1 5 0 °Cまで昇温し、 温度を 1 5 0°Cで保持しながら、 約 9 0分間反応させ、 エポキシ当量 1 3 2 0 g/当量のエポキシ樹脂を得た。
さらに、 得られたエポキシ樹脂 6 6 0部を、 撹拌装置、 冷却管及び温度計 を備えたフラスコに入れ、 カルビトールアセテート 3 7 0部を加え、 加熱溶 解し、 メチルハイ ドロキノン 0. 4 6部を加え、 9 5〜: L 0 5 °Cに加熱し、 ァクリル酸 3 6部を徐々に滴下し、 2 0時間反応させて多官能ァクリレ一ト 樹脂を得た。 この多官能ァクリレート樹脂を、 80 ~9 0°Cまで冷却し、 テ トラヒドロフタル酸無水物 4 5.5部を加え、 8時間反応させた。反応は、 電 位差滴定による反応液の酸化、 全酸化測定を行ない、 得られる付加率にて追 跡し、 反応率 9 5 %以上を終点とする。
このようにして得られたカルボキシル基含有活性ェネルギ一線硬化性樹脂 は、 固形物の酸価 6 6.2 mgKO H/gであった。以下、 この反応溶液をヮ ニス A— 3と称す。 比較合成例 1
ガス導入管、 撹拌装置、 冷却管及び温度計を備えたフラスコに、 前記合成 例 1と同様にして得られたベンゼン一 1, 2 , 4 —トリカルボン酸 1— ( 2 ーァクリロイルォキシーェチル) エステル 1 5 4部と、 テレフタル酸 1 6 6 部と、 エポキシ当量 1 8 9 当量のビスフエノール Aジグリシジルェ一テ ル(ジャパンエポキシレジン社製、 「ェピコ一ト 8 2 8」) 7 5 6部を仕込み、 窒素雰囲気下にて、 1 0 0 °Cで撹拌した。 その後、 トリフエニルホスフィ ン 5 . 2部を添力 Πし、フラスコ内の温度を 1 5 0 °Cまで昇温し、温度を 1 5 0。C で保持しながら、 約 9 0分間反応させ、 エポキシ当量 1 0 7 6 g /当量のェ ポキシ樹脂を得た。
さらに、 得られたエポキシ樹脂 5 3 8部を、 撹拌装置、 冷却管及び温度計 を備えたフラスコに入れ、 カルビトールアセテート 3 7 0部を加え、 加熱溶 解し、 メチルハイ ドロキノン 0 . 4 6部を加え、 9 5〜 1 0 5 °Cに加熱し、 ァクリル酸 3 6部を徐々に滴下し、 2 0時間反応させて多官能ァクリレート 樹脂を得た。 この多官能ァクリレート樹脂を、 8 0 ~ 9 0 °Cまで冷却し、 テ トラヒドロフタル酸無水物 1 5 2部を加え、 8時間反応させた。 反応は、 電 位差滴定による反応液の酸化、 全酸化測定を行ない、 得られる付加率にて追 跡し、 反応率 9 5 %以上を終点とする。
このようにして得られたカルボキシル基含有活性ェネルギ一線硬化性樹脂 は、 固形物の酸価 8 1 . 3 m g K 0 H / gであった。以下、 この反応溶液をヮ ニス B— 1と称す。
比較合成例 2
クレゾールノボラヅク型エポキシ樹脂 (ェピクロン N— 6 9 5、 大日本ィ ンキ化学工業社製、 エポキシ当量 2 2 0 ) 3 3 0部を、 ガス導入管、 撹拌装 置、 冷却管及び温度計を備えたフラスコに入れ、 カルビトールアセテート 4 0 0部を加え、 加熱溶解し、 ハイ ドロキノン 0 . 4 6部と、 トリフヱニルホ スフイン 1 . 3 8部を加えた。 この混合物を 9 5 - 1 0 5 °Cに加熱し、 ァク リル酸 1 0 8部を徐々に滴下し、 1 6時間反応させた。 この反応生成物を、 80 9 0°Cまで冷却し、 テトラヒドロフタル酸無水物 1 6 3部を加え、 8 時間反応させた。 反応は、 電位差滴定による反応液の酸化、 全酸化測定を行 ない、 得られる付加率にて追跡し、 反応率 9 5 %以上を終点とする。 このよ うにして得られたカルボキシル基含有感光性樹脂は、 固形物の酸価 1 00 m gKOH/gであった。 以下、 この反応溶液をワニス B— 2と称す。
実施例 1 3及び比較例 1 2 .
前記合成例 1 3及び比較合成例 1 2で得られた各ワニスを用いた表 1 に示す配合成分を、 3本ロールミルで混練し、 光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成 物を得た。 各組成物の特性値を表 2に示す。
Figure imgf000038_0001
—ジメチルアミノー 1 4 モルフォリノフエ二ル) ブタン一 1 オン
2) ジペン夕エリスリトールへキサァクリレート
3) 大日本ィンキ化学工業社製クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 表 2
Figure imgf000039_0001
なお、 上記表 2中の性能試験の方法は以下の通りである。
( 1 ) 感度
上記各実施例及び比較例の組成物を、 ガラスエポキシ基板上にスクリーン 印刷で全面塗布し、 8 0 °Cで 2 0分乾燥し、 室温まで放冷した後、 コダック 製ステヅプ夕ブレッ ト N 0.2 ( 2 1段) をフォトマスクとして用い、 オーク 製作所製の露光装置 (メタルハライ ドランプ 7 KW 2灯) にて減圧下、 露光 ( 3 6 5 nmの波長の紫外線の積算光量計で 1 0 0〜 3 0 O mJ/cm2) し、 3 0°Cの 1 %N a2 C 03水溶液を用いてスプレー圧 2 kgZcm2の条 件で 6 0秒間現像を行ない、 硬化塗膜の光沢段数を目視で確認した。 なお、 光沢段数は、 数値が大きいほど高感度であることを示す。
( 2 ) 引張弾性率、 ( 3 ) 引張強度 (引張破壊強さ) 、 (4 ) 伸び率 (引 張破壊伸び)
下記の方法で作製した評価サンプルの引張弾性率、 引張強度 (引張破壊強 さ) 、 伸び率 (引張破壊伸び) を引張一圧縮試験機 (株式会社島津製作所製) によって測定した。
予め水洗 ·乾燥を行なったテフロン板に、 上記各実施例及び比較例の組成 物をスクリーン印刷法で塗布し、 熱風循環式乾燥炉で 80 Cで 30分乾燥さ せた。 これを室温まで冷却した後、 露光量 100 m JZcm2の条件で露光 し、 熱風循環式乾燥炉で硬化を 150°Cで 60分間行なった。 これを室温ま で冷却した後、 テフロン板から硬化塗膜をはがし、 評価サンプルを得た。
( 5 ) 吸水率
予め質量を測定したガラス板に、 上記各実施例及び比較例の組成物をスク リーン印刷法で塗布し、 熱風循環式乾燥炉で 80°Cで 30分乾燥させた。 こ れを室温まで冷却した後、 露光量 1 0 OmJ/ cm2の条件で露光し、 熱風 循環式乾燥炉で硬化を 1 50°Cで 60分間行ない、 評価サンプルを得た。 こ れを室温まで冷却した後、 評価サンプルの質量を測定した。 次に、 この評価 サンプルを P C T装置 ( T AB A I E SPE C HAS T SYS TEM TP C— 412MD) を用いて 12 1。C、 100%R. H. 、 24時間処理 し、 処理後の硬化物の質量を測定し、 下記算式により硬化物の吸水率を求め た。
吸水率 = (W 2— W 1 ) ノ (W 1 _Wg)
ここで、 W 1は評価サンプルの質量、 W 2は PC T処理後の評価サンプル の質量、 Wgはガラス板の質量である。
( 6 ) 誘電率、 誘電正接:
J I S C 648 1に準拠して求めた。
( 7 ) 電気絶縁性
I PC B— 25のクシ型電極 Bクーポンに、 上記各実施例及び比較例の 組成物をパイ口ッ ト精ェ (株) 製ロールコ一夕一を用いて全面に塗布し、 熱 風循環式乾燥炉で 80°Cで 30分乾燥させた。 これを室温まで冷却した後、 露光量 1 0 OmJ/ cm2の条件で露光し、 熱風循環式乾燥炉で硬化を 1 5 0 °Cで 60分間行ない、 評価サンプルを得た。 このクシ型電極に D C 500 Vのバイアス電圧を印加し、 絶縁抵抗値を測定した。
( 8 ) P C T耐性
プリント配線板に上記各実施例及び比較例の組成物をスクリーン印刷法で 塗布し、 熱風循環式乾燥炉で 80°Cで 30分乾燥させた。 これを室温まで冷 却した後、 露光量 100 mJ/cm2の条件で露光し、 熱風循環式乾燥炉で 硬化を 1 50°Cで 60分間行ない、 評価サンプルを得た。 これを室温まで冷 却した後、 P C T装置 ( T AB A I E S P E C HAST SYSTEM TP C— 412MD)を用いて 12 1°C、 2気圧の条件で 1 68時間処理し、 硬化皮膜の状態を評価した。 判定基準は以下のとおりである。
〇 :剥がれ、 変色そして溶出なし。
△ :剥がれ、 変色そして溶出のいずれかあり。
X :剥がれ、 変色そして溶出が多く見られる。
( 9 ) 無電解金めつき耐性
プリント配線板に上記各実施例及び比較例の組成物をスクリーン印刷法で 塗布し、 熱風循環式乾燥炉で 80°Cで 30分乾燥させた。 これを室温まで冷 却した後、 露光量 10 OmJ/cm2の条件で露光し、 熱風循環式乾燥炉で 硬化を 150°Cで 60分間行ない、 評価サンプルを得た。 得られた評価サン プルを 30°Cの酸性脱脂液 (日本マクダ一ミ ヅ ト製、 ME T EX L— 5 B の 20 V o 1 %水溶液) に 3分間浸潰した後に水洗し、 次に 14. 4 w t % 過硫酸アンモニゥム水溶液に室温で 3分間浸漬し、 水洗した後さらに、 10 vo 1%硫酸水溶液に室温で 1分間浸漬した。 次に、 この評価基板を 30 °C の触媒液 (メルテヅクス社製、 メタルプレートァクチべ一ター 350の 10 V o 1 %水溶液) に 5分間浸漬した後に水洗し、 85°Cのニッケルめつき液 (メルテックス社製、 メルプレート Ni— 865Mの 20 v o 1 %水溶液、 ph.4.6) に 30分間浸漬することでニッケルめっきを施した後、 10 v o 1 %硫酸水溶液に室温で 1分間浸潰し水洗を行なった。 次に、 評価サンプ ル基板を 95 °Cの金めつき液 (メルテックス社製、 ォゥロレク ト口レス UP の 1 5 V 01 %とシアン化金力リウム 3 V 01 %水溶液、 p h.6 )に 30分 間浸漬することで無電解金めつきを施した後、 水洗を行ない、 さらに 60°C の温水に 3分間浸漬し流水を用いて水洗を行なった。 得られた金めつきが施 された評価サンプルにセロハン粘着テープを付着し、 剥離したときの状態を 確認した。 判定基準は以下のとおりである。
〇 :全く異常がないもの。
△:若干剥がれが生じたもの。
X :剥がれたもの。
表 2に示す結果から明らかな如く、 本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成 物から得られた硬化物は、 誘電特性に優れ、 吸水率、 密着性、 電気絶縁抵抗、 硬度、 耐薬品性、 P C T耐性等にも優れた特性を有している。 これに対して、 いずれも芳香族環を有する 2官能カルボキシル基含有化合物 (II ) と 2官能 エポキシ化合物 (III ) を用いて調製された活性エネルギー線硬化性樹脂を用 いた比較例 1では、 感度及び無電解金めつき耐性が劣っていた。 一方、 クレ ゾ一ルノボラック型エポキシ樹脂を出発原料として調製された活性エネルギ 一線硬化性樹脂を用いた比較例 2では、 感度及び無電解金めつき耐性が劣つ ていることに加え、 さらに吸水率、 P C T耐性等が劣っていた。 表 2に示さ れる実施例 1〜 3と比較例 1、 2の感度についての結果を対比すれば明らか なように、 実施例 1〜3の光硬化性,熱硬化性樹脂組成物は比較例 1、 2の 光硬化性 '熱硬化性樹脂組成物に比べて感度が優れているため、 同一の光硬 化度を達成するためには少ない露光量でよく、 エネルギーコストゃ作業性の 点でも優れている。 産業上の利用可能性
以上のように、 本発明の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物は、 光硬化性、 ァ ルカリ現像性ゃ基材に対する密着性に優れると共に、 低誘電特性、 耐水性、 耐無電解めつき性、 耐薬品性、 電気絶縁性、 フレキシブル性、 P C T耐性等 に優れた硬化物が得られるため、 塗料、 印刷インキ、 接着剤、 各種レジスト 材料、 カラ一フィルター製造用材料等として有用であり、 特にプリント配線 板のソルダーレジストゃ、 多層プリント配線板の層間絶縁層などの用途に好 適に用いることができる。

Claims

請 求 の. 範 囲
1. 多塩基酸無水物 (a) と、 1分子中に少なくとも 1個の不飽和二重 結合と 1個のアルコール性水酸基を有する化合物 (b) との反応物 ( I ) と、 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (Π) と、 2官能エポキシ化合物 (III)
との重付加反応生成物 (但し、 上記カルボキシル基を有する化合物 (Π) 及 び 2官能エポキシ化合物 (III) の少なくともいずれか一方は芳香族環を有さ ない化合物である) であって、 側鎖に不飽和基を有し、 かつ水酸基を有する と共に末端にエポキシ基を有するエポキシ樹脂の、
末端エポキシ基に不飽和モノカルボン酸 (c) を反応させ、 さらに水酸基に 多塩基酸無水物 (d) を反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂。
2. 前記 1分子中に少なく とも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (II) が、 芳香族環を含まない 1 , 2—シクロへキセンジカルボン酸、 テト ラヒドロフタル酸、 へキサヒドロフタル酸、 へキサヒドロイソフ夕ル酸、 及 びへキサヒドロテレフタル酸よりなる群から選ばれた少なく とも 1種である 請求項 1に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂。
3. 前記 2官能エポキシ化合物 (ΙΠ) は、 水素添加された 2官能ェポキ シ化合物である請求項 1又は 2に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂。
4. (A) 多塩基酸無水物 (a) と 1分子中に少なくとも 1個の不飽和 二重結合と 1個のアルコール性水酸基を有する化合物(b) との反応物( I ) と、 1分子中に少なくとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (II) と、 2官能エポキシ化合物 (III) との重付加反応生成物 (但し、 上記カルボキシ ル基を有する化合物 (II) 及び 2官能エポキシ化合物 (III) の少なくともい ずれか一方は芳香族環を有さない化合物である) であって、 側鎖に不飽和基 を有し、 かつ水酸基を有すると共に末端にエポキシ基を有するエポキシ樹脂 の、 末端エポキシ基に不飽和モノカルボン酸 (c) を反応させ、 さらに分子 中の水酸基に多塩基酸無水物 (d) を反応させて得られる活性エネルギー線 硬化性樹脂、
(B) 光重合開始剤、
(C) 希釈剤、 及び
(D) 1分子中に 2個以上のエポキシ基及び/又はォキセ夕二ル基を有す る環状ェ一テル化合物
を含有することを特徴とするアル力リ水溶液により現像可能な光硬化性 ·熱 硬化性樹脂組成物。
5. 前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) において、 1分子中に少な くとも 2つのカルボキシル基を有する化合物 (II) が、 芳香族璟を含まない 1 , 2—シクロへキセンジカルボン酸、 テトラヒ ドロフ夕ル酸、 へキサヒ ド 口フ夕ル酸、 へキサヒ ドロイソフ夕ル酸、 及びへキサヒ ドロテレフタル酸よ りなる群から選ばれた少なくとも 1種である請求項 4に記載の活性エネルギ 一線硬化性樹脂組成物。
6. 前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) において、 2官能エポキシ 化合物 (ΠΓ) が、 水素添加された 2官能エポキシ化合物である請求項 4又は
5に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
7. さらに (E) 硬化触媒を含有する請求項 4乃至 6のいずれか一項に 記載の光硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
8. さらに前記活性エネルギー線硬化性樹脂 (A) 以外の活性エネルギ —線硬化性樹脂 (F) を含有する請求項 4乃至 7のいずれか一項に記載の光 硬化性 ·熱硬化性樹脂組成物。
9. 前記請求項 4乃至 8のいずれか一項に記載の光硬化性 ·熱硬化性樹 脂組成物を活性エネルギー線照射及び/又は加熱により硬化させて得られる 硬化物。
10. 前記請求項 4乃至 8のいずれか一項に記載の光硬化性 ·熱硬化性樹 脂組成物から層間絶縁層及び 又はソルダ一レジス ト層が形成されてなるプ リント配線板。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006321947A (ja) * 2005-05-20 2006-11-30 Japan U-Pica Co Ltd エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該化合物を含有する光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物並びにその硬化物
JP2008122545A (ja) * 2006-11-09 2008-05-29 Fujifilm Corp 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP2008214604A (ja) * 2007-02-08 2008-09-18 Nof Corp ポリヘミアセタールエステル、硬化樹脂用組成物及び硬化樹脂の分解方法
CN101077956B (zh) * 2006-05-26 2010-12-08 太阳油墨制造株式会社 挠性基板用阻焊剂组合物、挠性基板及挠性基板制造方法
JP2011064863A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Goo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板
JP2013538921A (ja) * 2010-09-30 2013-10-17 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 最新ポリエポキシエステル樹脂組成物
JP2014067063A (ja) * 2013-12-17 2014-04-17 Goo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4994922B2 (ja) * 2007-04-06 2012-08-08 太陽ホールディングス株式会社 ソルダーレジスト組成物およびその硬化物
EP2168994A1 (en) * 2008-09-25 2010-03-31 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) GmbH Photocurable composition
JP5439075B2 (ja) 2009-07-21 2014-03-12 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
CN103270072B (zh) * 2010-12-21 2016-01-20 艾伦塔斯有限公司 包含环氧和乙烯基酯基的环氧树脂组合物
JP6028360B2 (ja) * 2011-06-29 2016-11-16 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性樹脂組成物とその硬化物、及び感光性樹脂の製造方法
US20140205831A1 (en) * 2011-07-29 2014-07-24 Toho Tenax Europe Gmbh Flexible reinforcing fiber yarn pre-impregnated with resin
CN103730207B (zh) * 2013-11-26 2016-08-17 沃太能源南通有限公司 一种单晶硅太阳能电池用铝浆的制备方法
CN109111575B (zh) * 2018-05-23 2021-03-23 中山大学 一种金属-有机框架纳米颗粒的制备方法和应用

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001324804A (ja) * 2000-05-17 2001-11-22 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性材料
JP2002128865A (ja) * 2000-10-31 2002-05-09 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2002265564A (ja) * 2001-03-13 2002-09-18 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物
JP2003107696A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2003177534A (ja) * 2001-12-12 2003-06-27 Nippon Shokubai Co Ltd 画像形成用感光性樹脂組成物
JP2003192760A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂および感光性レジストインキ組成物
JP2003280192A (ja) * 2002-03-22 2003-10-02 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物
JP2004061566A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いて得られるプリント配線板

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61243869A (ja) 1985-04-19 1986-10-30 Taiyo Ink Seizo Kk レジストインキ組成物
JP2802801B2 (ja) 1990-03-02 1998-09-24 株式会社アサヒ化学研究所 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法
JP3288140B2 (ja) * 1993-07-16 2002-06-04 株式会社日本触媒 ソルダーレジスト用インキ組成物
JP5135659B2 (ja) * 2000-09-28 2013-02-06 Dic株式会社 エネルギー線硬化型樹脂の製造方法およびエネルギー線硬化型樹脂組成物
JP3638924B2 (ja) * 2002-08-05 2005-04-13 昭和高分子株式会社 ポリカルボン酸樹脂およびポリカルボン酸樹脂組成物、ならびにその硬化物

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001324804A (ja) * 2000-05-17 2001-11-22 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性材料
JP2002128865A (ja) * 2000-10-31 2002-05-09 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2002265564A (ja) * 2001-03-13 2002-09-18 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物
JP2003107696A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2003177534A (ja) * 2001-12-12 2003-06-27 Nippon Shokubai Co Ltd 画像形成用感光性樹脂組成物
JP2003192760A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Showa Highpolymer Co Ltd 感光性樹脂および感光性レジストインキ組成物
JP2003280192A (ja) * 2002-03-22 2003-10-02 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物
JP2004061566A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いて得られるプリント配線板

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006321947A (ja) * 2005-05-20 2006-11-30 Japan U-Pica Co Ltd エポキシ(メタ)アクリレート化合物及び該化合物を含有する光硬化性及び/又は熱硬化性樹脂組成物並びにその硬化物
CN101077956B (zh) * 2006-05-26 2010-12-08 太阳油墨制造株式会社 挠性基板用阻焊剂组合物、挠性基板及挠性基板制造方法
JP2008122545A (ja) * 2006-11-09 2008-05-29 Fujifilm Corp 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP2008214604A (ja) * 2007-02-08 2008-09-18 Nof Corp ポリヘミアセタールエステル、硬化樹脂用組成物及び硬化樹脂の分解方法
JP2011064863A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Goo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板
JP2013538921A (ja) * 2010-09-30 2013-10-17 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー 最新ポリエポキシエステル樹脂組成物
JP2014067063A (ja) * 2013-12-17 2014-04-17 Goo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板

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