WO2003069276A1 - Procede de mesure de position, procede d'exposition, et procede de production de dispositif - Google Patents

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WO2003069276A1
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Yuji Kokumai
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Nikon Corporation
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Abstract

L'invention concerne un procédé de mesure de position permettant de mesurer correctement l'information de position d'une marque, y compris si seulement une partie de la marque peut être observée à travers un champ visuel d'observation ou si la marque se trouve en dehors d'un champ visuel d'observation. Le système d'observation utilisé comprend des champs visuels d'observation (PFx, PFy) permettant d'observer une partie d'une marque (M) mais ne permettant pas d'observer la marque (M) entière. Une pluralité de zones (S1, S2, S3, ) d'un objet sont mises en images de manière à comprendre au moins une zone dans laquelle la marque (M) est partiellement observée à travers les champs visuels d'observation (PFx, PFy) du système d'observation. La partie de la marque (M) à laquelle appartient la partie de la marque à mettre en images est spécifiée à partir des résultats mis en image, et les informations de position de la marque (M) sont déterminées en fonction des résultats partiellement mis en image de la marque (M) et du résultat spécifié.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007073970A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Infineon Technologies Ag 偏向リソグラフィーのためのアライメントマークおよびその検出方法
JP2007180171A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Nikon Corp エッジ位置計測方法及び装置、並びに露光装置
JP2008203214A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Taiko Denki Co Ltd ワークの変形・歪み検出方法
JP2011060919A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP2013120108A (ja) * 2011-12-07 2013-06-17 Sumitomo Heavy Ind Ltd 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
JP2014529896A (ja) * 2011-08-23 2014-11-13 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. メトロロジ方法及び装置並びにデバイス製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5721605A (en) * 1994-03-29 1998-02-24 Nikon Corporation Alignment device and method with focus detection system
US5849441A (en) * 1996-02-05 1998-12-15 Nikon Corporation Alignment method utilizing plurality of marks, discriminable from each other, capable of effecting alignment individually
WO1999004417A1 (fr) * 1997-07-14 1999-01-28 Nikon Corporation Technique de detection de position et capteur de position
JP2001343215A (ja) * 2000-06-02 2001-12-14 Ricoh Co Ltd 位置調整装置およびその方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5721605A (en) * 1994-03-29 1998-02-24 Nikon Corporation Alignment device and method with focus detection system
US5849441A (en) * 1996-02-05 1998-12-15 Nikon Corporation Alignment method utilizing plurality of marks, discriminable from each other, capable of effecting alignment individually
WO1999004417A1 (fr) * 1997-07-14 1999-01-28 Nikon Corporation Technique de detection de position et capteur de position
JP2001343215A (ja) * 2000-06-02 2001-12-14 Ricoh Co Ltd 位置調整装置およびその方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007073970A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Infineon Technologies Ag 偏向リソグラフィーのためのアライメントマークおよびその検出方法
US7687925B2 (en) 2005-09-07 2010-03-30 Infineon Technologies Ag Alignment marks for polarized light lithography and method for use thereof
JP4594280B2 (ja) * 2005-09-07 2010-12-08 インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト 偏向リソグラフィーのためのアライメントマークおよびその検出方法
US8183129B2 (en) 2005-09-07 2012-05-22 Infineon Technologies Ag Alignment marks for polarized light lithography and method for use thereof
US8377800B2 (en) 2005-09-07 2013-02-19 Infineon Technologies Ag Alignment marks for polarized light lithography and method for use thereof
JP2007180171A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Nikon Corp エッジ位置計測方法及び装置、並びに露光装置
JP2008203214A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Taiko Denki Co Ltd ワークの変形・歪み検出方法
JP2011060919A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP2014529896A (ja) * 2011-08-23 2014-11-13 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. メトロロジ方法及び装置並びにデバイス製造方法
JP2013120108A (ja) * 2011-12-07 2013-06-17 Sumitomo Heavy Ind Ltd 薄膜形成装置及び薄膜形成方法

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