UA80610C2 - Method for the coating of metal oxides formation on the electroconductive support, activated cathode, which is obtained by this method and its use for electrolysis of water solutions of alkali chlorides - Google Patents
Method for the coating of metal oxides formation on the electroconductive support, activated cathode, which is obtained by this method and its use for electrolysis of water solutions of alkali chlorides Download PDFInfo
- Publication number
- UA80610C2 UA80610C2 UAA200510604A UAA200510604A UA80610C2 UA 80610 C2 UA80610 C2 UA 80610C2 UA A200510604 A UAA200510604 A UA A200510604A UA A200510604 A UAA200510604 A UA A200510604A UA 80610 C2 UA80610 C2 UA 80610C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- metal
- coating
- cathode
- substrate
- differs
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 15
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims abstract description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 title description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 title description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 67
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 24
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 39
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical group CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- MVDYEFQVZNBPPH-UHFFFAOYSA-N pentane-2,3,4-trione Chemical compound CC(=O)C(=O)C(C)=O MVDYEFQVZNBPPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical group ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical class ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 5
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 abstract 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 10
- BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfonylbenzoic acid Chemical compound CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- -1 chloromethylene Chemical group 0.000 description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N [Ru]=O Chemical class [Ru]=O ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- IYWJIYWFPADQAN-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;ruthenium Chemical compound [Ru].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O IYWJIYWFPADQAN-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYLBTCQBKAKUTJ-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-6,8-bis(methylsulfanyl)pyrrolo[1,2-a]pyrazine Chemical group C1=CN=CC2=C(SC)C(C)=C(SC)N21 MYLBTCQBKAKUTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBMYXLJUKBODW-UHFFFAOYSA-N [Ru].ClOCl Chemical compound [Ru].ClOCl PCBMYXLJUKBODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229940075397 calomel Drugs 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001902 chlorine oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XFVGXQSSXWIWIO-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;titanium Chemical compound [Ti].ClOCl XFVGXQSSXWIWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical compound Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 1
- 239000006101 laboratory sample Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/04—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/08—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1225—Deposition of multilayers of inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1229—Composition of the substrate
- C23C18/1241—Metallic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1275—Process of deposition of the inorganic material performed under inert atmosphere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1279—Process of deposition of the inorganic material performed under reactive atmosphere, e.g. oxidising or reducing atmospheres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/14—Alkali metal compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Description
Опис винаходу
Винахід стосується способу формування на електропровідній підкладці покриття з оксидів металів, принаймні 2 одинзяких є дорогоцінним металом з МІ! групи періодичної системи, можливо асоційований з титаном та/або цирконієм. ,
Винахід також стосується активованого катода, що включає електропровідну підкладку з покриттям, отриманим відповідно до способу, що заявляється.
Винахід, до того ж, стосується використання зазначеного активованого катода для електролізу, зокрема, 710 водних розчинів хлоридів лужних металів з метою одержання хлору та гідроокису натрію, а також для одержання хлорату натрію.
У промислових умовах хлор, гідроокис натрію та хлорид натрію отримують з використанням електролізних блоків, кожен з яких містить декілька сталевих катодів та декілька титанових анодів з покриттям із суміші оксидів титану та рутенію. Якщо йдеться про отримання хлору або лугу до блоків додають електролітичний 12 розчин, що містить хлорид натрію у кількості від 200 до З0Ог/л. Для отримання хлорату натрію вміст хлориду натрію складає від 50 до 250г/л.
Між тим, зазначені сталеві катоди мають відносно високі значення перенапруги як катоди для відновлення води, а їх стійкість до корозії розчиненим хлором є низькою.
Під перенапругою слід розуміти різницю між термодинамічним потенціалом окислювально-відновлювальної пари (НьО/Но) по відношенню до порівняльного катода та реальним виміряним потенціалом в середовищі у співставленні з тим же порівняльним катодом. Отже, в подальшому ми будемо використовувати термін "перенапруга" для п значення абсолютної величини перенапруги на катоді.
Для усунення цих недоліків були запропоновані численні конструкції катодів.
Так, у заявці Франції ЕК 2311108) описаний катод, основою якого є пластина з титану, цирконію, ніобію с 22 або сплаву цих металів, на яку нанесене покриття з оксиду металу, переважно з групи, що включає рутеній, Го) родій, паладій, осмій та платину, а також, можливо, оксид одного чи декількох металів із групи, що включає кальцій, магній, стронцій, барій, цинк, хром, молібден, вольфрам, селен та телур.
В Іпатенті О5 4,100,049) описаний катод, який містить підкладку з нікелю, кобальту, заліза або їх сплаву, вкриту оксидом паладію та цирконію. о
В ІІзаявці ЕР 209427| пропонується катод, електропровідна підкладка якого виготовлена з нікелю, «- нержавіючої сталі або м'якої сталі і вкрита декількома шарами оксидів металів; при цьому верхній шар виконаний з оксиду перехідного металу, тобто металу, вибраного з груп 40, 56 та бЬ періодичної системи, а ее, проміжний шар - з оксиду дорогоцінного металу з МІІЇ групи, а саме - рутенію, родію, паладію, осмію, іридію сз3 або платини. 3о Верхній та проміжні шари можуть бути виконані з чистого оксиду зазначених металів або зі змішаного со оксиду, де другий метал міститься в незначній кількості.
У патентній заявці того ж заявника (ЕК 2797646| запропонований активований катод, що містить електропровідну підкладку з титану або нікелю, вкриту проміжним шаром з оксидів титану або дорогоцінного « метала з МІ групи періодичної системи, та верхнім шаром з оксидів титану, цирконію та одного дорогоцінного З 50 металу з МІ групи періодичної системи; це покриття одержують шляхом термічного розкладу розчину хлориду с або оксихлориду цих металів в етанолі або ізопропанолі.
Із» Виходячи з економічних міркувань, все доцільнішим стає використання підкладок з більш дешевих матеріалів, а саме - сталі або заліза.
Втім, заявник мав змогу пересвідчитись, що останній з описаних способів не дає змоги отримати тривке покриття на підкладці зі сталі або заліза. со Заявник встановив також, що шляхом досконалого підбору металоорганічних компонентів та відповідних ав! розчинників можливо отримати покриття з перелічених вище оксидів, що матиме чудову адгезію до підкладок зі сталі та заліза. б Винахід, таким чином, спрямований на створення способу формування покриття з оксидів металів, що - 20 містять принаймні один дорогоцінний метал з МІ групи періодичної системи, можливо у сполученні з титаном іабо цирконієм, на електропровідній підкладці, який передбачає нанесення на зазначену підкладку розчину с принаймні однієї металоорганічної сполуки з наступним перетворенням цієї (цих) сполуки (-ук) на оксид (-ди) металу (-ів) шляхом термічної обробки; при цьому, відповідно до винаходу, електропровідна підкладка виготовлена зі сталі або заліза, а розчин, що на неї наносять, є безводним розчином ацетилкетонату металу або 29 розчином суміші ацетикетонатів металів у розчиннику або суміші розчинників, здатних розчиняти кожен з
ГФ) ацетилкетонатів та вибраних з групи спиртів, кетонів, хлорметанів. Відповідно до винаходу, під дорогоцінним юю металом з МІ групи періодичної системи слід розуміти рутеній, родій, паладій, осмій, іридій або платину.
Оптимальним є використання рутенію або іридію, а понад усе - рутенію.
Як приклад спирту, що може використовуватись, слід назвати етанол та ізопропанол. 60 Як приклад кетонів, що можуть використовуватись, слід назвати ацетон та метилетилкетон.
Як приклад хлорметанів, що можуть використовуватись, слід назвати хлорметилен та хлороформ.
Відповідно до винаходу, розчин, що підлягає нанесенню на електропровідну підкладку, є розчином ацетилкетонату металу, обраного з групи: Ки, КА, Ра, Ов, Іг, Рі, Т85 та 7, або сумішшю двох або більше зазначених ацетилкетонатів. бо Технології приготування розчину ацетилкетонату (-ів) метала (-ів) для одержання покриття на електропровідній підкладці відповідно до винаходу можуть бути різними.
Якщо розчин містить лише один ацетилкетонат металу, він може готуватись шляхом розчинення цього ацетилкетонату і відповідному розчиннику або суміші розчинників, до якої входить і згаданий розчинник.
Якщо розчин містить декілька ацетилкетонатів, він може готуватись: - або розчиненням зазначених ацетилкетонатів у суміші відповідних розчинників; - або змішуванням розчинів окремих ацетилкетонатів, попередньо розчинених у відповідних розчинниках або суміші розчинників, яка містить відповідний розчинник.
Розчинення бажано здійснювати в умовах перемішування, при кімнатній або дещо підвищеній температурі, 7/0 що сприятиме розчиненню.
Відповідно до винаходу, бажано використовувати концентровані розчини ацетилкетонатів, і фахівець, який їх готуватиме, має брати до уваги розчинність різних ацетилкетонатів у відповідних розчинниках або їх сумішах.
Так, наприклад, при кімнатній температурі розчин ацетилакетонату рутенію (С5Н.7О2)з3Ки в етанолі матиме концентрацію 0,25моль/літр, а розчин ацетилкетонату титану (С5Н7О2)2Т1О в ацетоні - О,вмоль/літр.
В оптимальному варіанті реалізації, формування покриття з оксидів металів передбачає, на першому етапі, попередню обробку сталевої або залізної підкладки з метою надання їй певної шорсткості, з наступним, на другому етапі, нанесенням на підготовану поверхню розчину ацетилкетонату(-ів) металу(-ів), приготованого(-их), як зазначено вище, і, нарешті, фінальним сушінням та випалом.
Цей другий етап - змочування/сушіння/випал - в оптимальному варіанті може повторюватись декілька разів, го завдяки чому і формується покриття. Як правило, його повторюють стільки разів, скільки необхідно для відкладання необхідної маси металу. Найчастіше, від 2 до 6 разів.
Попередня обробка полягає, наприклад, у абразивній обробці підкладки з наступним промиванням кислотою або у травленні оксалатною кислотою, фтористоводневою кислотою, сумішшю фтористоводневої та азотної кислоти, сумішшю фтористоводневої кислоти та гліцерину, сумішшю фтористоводневої та азотної кислоти з сч ов гліцерином або сумішшю фтористоводневої кислоти, азотної кислоти та перекису водню, з наступним одним або о декількома промиваннями демінералізованою та дегазованою водою.
Підкладка може мати форму монолітної пластини, перфорованої пластини, металевої смуги або катодного кошика з металевої перфорованої смуги.
Розчин на підготовлену підкладку можна наносити різними способами: розпиленням, змочуванням або у о зо гелеподібній формі. Оптимальним є нанесення розчину на підкладку за допомогою пензля. Вкрита розчином підкладка повинна висохнути на повітрі або в печі, де температура не перевищуватиме 15020. Після сушіння -- підкладку випалюють в повітрі або в інертному газі з добавкою кисню при температурі не нижче 3002С, бажано «о від 4002 до 6002, протягом часу від 10 хвилин до 2 годин.
Ця процедура дозволяє перетворити ацетилкетонат(-и) метала(ів) в покриття з металевого(-их) оксиду(-ів), о 35 щільне та з доброю адгезією до сталі або заліза. (оо)
Покриття може бути нанесене на один бік катоду або на обидва боки.
Питома маса відкладеного таким чином дорогоцінного металу, виражена у г/м2, складає щонайменше 2г/м?, найчастіше від 2 до 20г/м7, а переважно - від 5 до 10г/м2. «
Об'єктом винаходу є також так званий "активований" катод, виготовлений на підкладці з покриттям 40 відповідно до винаходу. З с Катод, що заявляється, придатний перш за все для електролізу водних розчинів хлоридів лужних металів, "» зокрема водних розчинів Масі. " Використання катода, що заявляється, в сукупності з анодом дозволяє синтезувати електролітичним шляхом хлор та гідроксид лужного металу. 45 Для цієї мети придатним є анод ОА (ОітезіопаПйу Зіаріе Аподе), виконаний на підкладці з титану, вкритої со шаром оксидів титану та рутенію. Молярне співвідношення рутеній/титан в цьому покритті переважно складає від о 0,4 до 2, 4.
Перевагою катода, що заявляється, є низьке значення перенапруги, а також використання дешевих
Ме, матеріалів для виготовлення підкладки. -оУу 70 Подані нижче приклади ілюструють винахід.
Приклад 1 «2 Покриття на основі оксидів Ки, Ті та 2г
Розчин для нанесення на підкладку готували шляхом розчинення 0,653г ацетилкетонату рутенію, 0,329г ацетилкетонату титану та 0,178г ацетикетонату цирконію в їОмл етанолу - їОмл ацетону - 1О0мл хлороформу, що забезпечує молярне співвідношення 45 Ки/45 Ті/10 7т.
Ф! Підкладка була виконана у вигляді монолітної пластинки з заліза (3,5х2,5см), до якої був приварений сталевий стрижень: повна поверхня становила ЗЗсм 7. Підкладка була попередньо оброблена абразивом о Согіпдоп та промита ацетоном.
Підкладку по всіх поверхні обробили розчином, поклали до печі з температурою 1202С на 15 хвилин, після бо ! 2 чого витримали ще 15 хвилин при температурі 4502С. Таким чином отримали покриття масою 2,4г/м -. Цю обробку повторили З рази (всього 4 шари покриття), що дало змогу довести масу покриттядо 7,9г/м 2, що еквівалентно масі 3,3Г(вцу/м2. Останній цикл термообробки здійснювали 30 хвилин при 4502С.
Перед електролітичним випробуванням сталевий стрижень ізолювали тефлоновою стрічкою з метою 65 обмежити поверхню до точно визначених розмірів. Підладку з отриманим покриттям вміщували до електролітичного блока, який містив 200мл електроліту з одномолярним вмістом катіонів Ма та випробували як катод при кімнатній температурі. Використовували другий електрод - титановий анод, вкритий КиОО-ТіО», а також порівняльний каломельний електрод ЕС5, подовжений капілярною трубкою, заповненою насиченим розчином КОСІ. Електроди підключали до клем потенціостату (Зоїагігоп). Активність катоду визначали за поляризаційними кривими в умовах збільшення потенціалу 1,3 або 1,4 М/ЕСЗ зі швидкістю 1мВ/с. Після цього здійснювали етап активації шляхом подачі на катод струму 2 ампери протягом 1 години і знову визначали нову поляризаційну криву для оцінки змін у електрохімічних властивостях катоду. Процедуру активації повторювали до отримання сталої поляризаційної кривої, тобто такої, яка не відрізнялась від попередньої (як правило, З або 4 рази). 70 У таблиці 1, поданій нижче, показані зміни катодного потенціалу для щільності струму 1,6кА/м? в залежності від кількості етапів активації. Чим менший негативний потенціал і нижче значення перенапруги відновлення води, тим більш активованим є катод. Паралельно такі ж дослідження здійснювали щодо підкладки такої ж форми та складу, але без покриття. Приріст напруги - це різниця між потенціалом на активованому катоді і потенціалом на катоді з незахищеного заліза за тієї самої щільності струму (1,6кА/м2). 15 0 Теяилвеме нову прист напру вд атода я зола ТУ,
Першетоляеця 00734006 20
Приклад 2
Покриття на основі оксидів Ки та Ті
Розчин готували шляхом розчинення 0,500г ацетилкетонату рутенію та 0,329г ацетилкетонату титанув О0мл.щДЩЦ СМ 25 етанолу ї- 10мл ацетону для отримання рівного молярного співвідношення Ки/ті. о
Підкладка мала форму монолітної залізної пластинки (3,5х2,5см) з привареним сталевим стрижнем: повна поверхня становила З3Зсм. Підкладка була попередньо оброблена абразивом Согіпдоп та промита ацетоном.
Підкладку по всіх поверхні обробили розчином, поклали до печі з температурою 1202С на 15 хвилин, після чого витримали ще 15 хвилин при температурі 4502С. Таким чином отримали покриття масою 2,2г/м?,. Цю (2 30 обробку повторили З рази (всього 4 шари покриття), що дало змогу довести масу покриття до 9,8г/м 2, що «- еквівалентно масі 4,6г(Ешу/м2. Останній цикл термообробки здійснювали 30 хвилин при 4502С.
Електрохімічні характеристики отриманого катоду досліджували таким же чином, як у прикладі 1. У таблиці 2 ї-о показані зміни катодного потенціалу та приріст напруги у співставленні з катодом із заліза. (ав) з со
Теяилвеме дво прис напру вдоско тоди я зола ТУ,
Перша пеляризаця Я 1бов « ю 2 с У таких самих умовах було виготовлено більше 25 катодів з рівним молярним співвідношенням рутенію та :з» титану, на основі залізних та сталевих монолітних або з металевої смуги пластинок, властивості яких були досліджені способом, описаним в прикладі 1. Приріст напруги у порівнянні з подібним катодом, але без покриття, складав в середньому 160-2ОмВ. со 15 Приклад З
Покриття з оксиду Ки 100905 («в) Розчин готували шляхом розчинення 0,500г ацетилкетонату рутенію в 1їОмл етанолу - 1Омл ацетону. бу Підкладка мала форму монолітної залізної пластинки (3,5х2,5см) з привареним сталевим стрижнем: повна поверхня становила З3Зсм . Підкладка була попередньо оброблена абразивом Согіпдоп та промита ацетоном. - 70 Підкладку по всіх поверхні обробили розчином, поклали до печі з температурою 1202С на 15 хвилин, після о чого витримали ще 15 хвилин при температурі 4502. Таким чином отримали покриття масою 1,9г/м 2. Цю обробку повторили 2 рази (всього З шари покриття), що дало змогу довести масу покриття до 3,8г/м 7, що еквівалентно масі 2,9((Ещ/м2. Останній цикл термообробки здійснювали 30 хвилин при 4502С.
Електрохімічні характеристики отриманого катода досліджували таким же чином, як у прикладі 1. У таблиці З о показані зміни катодного потенціалу та приріст напруги у співставленні з катодом із заліза. т 1 Тееямлечймепуєову прис напрути вдоско тоди а зола ТУ, во
Приклад 4 65 Покриття з оксиду Ки 100 90
Розчин готували шляхом розчинення 0,500г ацетилкетонату рутенію в 1Омл етанолу.
Підкладка мала форму монолітної сталевої пластинки (3,5х2,5см) з привареним сталевим стрижнем: повна поверхня становила ЗЗсм7. Підкладка була попередньо оброблена абразивом Согіпаоп та промита ацетоном.
Підкладку по всіх поверхні обробили розчином, поклали до печі з температурою 1202С на 15 хвилин, після чого витримали ще 15 хвилин при температурі 4502С. Таким чином отримали покриття масою 2,1г/м 2. Цю обробку повторили З рази (всього 4 шари покриття), що дало змогу довести масу покриття до 7,6бг/м 2, що еквівалентно масі 5,8г(Кшщ/м?. Останній цикл термообробки здійснювали 30 хвилин при 4502С.
Електрохімічні характеристики отриманого катоду досліджували таким же чином, як у прикладі 1. У таблиці 4 ю показані зміни катодного потенціалу та приріст напруги у співставленні з катодом зі сталі. 00010101 дети лекимо(Месв) Приріст напруги відносно катода зі сталі (У "
У таких самих умовах, що описані у прикладах З та 4, було виготовлено більше 25 катодів з покриттям з чистого оксиду КиО» на основі залізних та сталевих монолітних або з металевої смуги пластинок, властивості яких були досліджені способом, описаним в прикладі 1. Приріст напруги у порівнянні з подібним катодом, але без покриття, складав в середньому 200 ї- 50мВ.
Приклад 5
Дослідний лабораторний зразок катоду для електролізу хлоридно-натрієвих розчинів із застосуванням діафрагми
Виготовляли активований катод площею 72см 7? для лабораторного дослідного зразка електролізеру сч діафрагмового типу для обробки хлориду натрію. Підкладка мала форму сталевої сітки, яку застосовують у о промислових електролізерах. Використовували покриття з рівним молярним співвідношенням Ки та Ті, нанесене на обидва боки підкладки способом, описаним у прикладі 2. Маса покриття, накладеного в 4 шари, складала 13,7г/м2, тобто 6,5 ш/м. Ніяких електрохімічних характеристик цього катода попередньо, до встановлення на о дослідну установку, не досліджували через його розміри.
Активований катод встановили на дослідну установку діафрагмового типу для електролізу - хлоридно-натрієвого розчину, де була застосована діафрагма Роїїгатіх?. Установка працювала в «со безперервному режимі 24 години 7 днів на тиждень. Спеціальне обладнання для відведення електроліту та подачі свіжого забезпечувало сталість складу електроліту в установці. Умови проведення електролізу були (ав)
Зв такими: 2,БкА/м2, 852С, вміст натрію між 120 та 140г/л, анод з титанової смуги з покриттям Ки 2-ТіО2, Для со порівняння використовували таку саму установку із залізним катодом без покриття, яка працювала в тих самих умовах. Графік 1 показує зміни потенціалу на цих двох катодах після експлуатації протягом 120 днів.
На графіку позначкою А показано активований катод, а позначкою 0 - катод без покриття.
Приріст напруги, тобто різниця між двома потенціалами, складав 180 мВ за період 20-120 днів роботи. «
Приклад 6 шщ с Використання активованого катода для електролізу хлорату натрію ц Готували активований катод площею 200см? (5х4Осм) для дослідної установки, що здійснюватиме електроліз ,» хлорату натрію. Підкладку із заліза вкривали з обох боків покриттям з рівним молярнім вмістом Ки та Ті, яке наносили за технологією, описаною у прикладі 2, але заключну термообробку здійснювали протягом 1 години при температурі 4502С. Маса відкладеного метала склала 10,3г/м2, тобто 4,р9(Ещ/м2. Виготовлений таким чином (ее) катод використовували в дослідній установці для електролізу хлорату натрію. Анод був виготовлений зі смуги о титану, вкритого БиО2-ТіІО2, Умови роботи установки для електролізу хлорату натрію були такими: (Масі) - 200г/л,, (МаСІОз) - З0Ог/л, (Ма»Ст2О7,2Н.О) - 4г/л, Т-802С, щільність струму 4кА/м?, безперервний режим роботи іа 24 години на добу, 7 днів на тиждень. Спеціальне обладнання для відведення електроліту та подачі свіжого -ьщш 70 забезпечувало сталість складу електроліту в установці.
Такі ж дослідження паралельно проводились із залізним катодом без покриття. с Обидві установки безперервно працювали протягом 500 годин, вимірювання напруги здійснювали кожні 50 годин. Протягом всього часу досліджень напруга на установці з активованим катодом була на 20045мВ нижче від напруги на установці з катодом із заліза без покриття.
Приклад 7 (ФІ Вплив матеріалу підкладки юю На монолітну підкладку з нікелю та монолітну підкладку із заліза наносили покриття з КиО ПО» в рівному молярному співвідношенні. Покриття наносили способом, описаним в прикладі 2. Операцію змочування/сушіння/випал здійснювали до формування покриття 9-10г/м2, що еквівалентно 4,3-4,7(щ/м2. 60 Останню термообробку здійснювали протягом 30 хвилин при температурі 450 20. На підкладці з нікелю довелося сформувати 6 шарів покриття, а на підкладці із заліза - лише З, оскільки на нікель покриття лягає гірше. Електрохімічні властивості обох катодів визначали способом, описаним у прикладі 1. На графіку 2 показані поляризаційні криві після стабілізації обох катодів. Можна бачити, що катод на підкладці з нікелю (крива 1) має гірші характеристики, ніж катод на підкладці із заліза (крива 2); для однакової щільності 65 струму потенціал на катоді з нікелю більш негативний, ніж на катоді із заліза.
Приклад 8
Покриття з КиО 5-ГО» на підкладці з нікелю та підкладці із заліза, сформоване з розчинів на основі оксихлориду рутенію та окисхлориду титану
Розчин для змочування з рівним молярним співвідношенням Ки/Ті готували шляхом розчинення 5,18г
Кисів,1,5Н250 та З,мл ТІОСІ»2НСЇ (124,5г (Тіул) у 1Омл чистого етанолу. Розчин збовтували для активізації розчинення.
Перша підкладка була виконана у вигляді монолітної пластинки із заліза (3,5х2,5см), до якої був приварений сталевий стрижень: повна поверхня становила ЗЗсм 7. Підкладка була попередньо оброблена 70 абразивом Согіпаоп та промита ацетоном.
Друга підкладка була виконана у вигляді монолітної пластинки з нікелю (3,5х2,5см), до якої був приварений нікелевий стрижень: повна поверхня становила ЗЗсм 7. Підкладка була попередньо оброблена абразивом
Согіпдоп та промита ацетоном.
Кожну підкладку по всій поверхні обробили розчином, поклали до печі з температурою 1202С на 15 хвилин, 75 після чого витримали ще 15 хвилин при температурі 4502С. Останню термообробку здійснювали протягом 30 хвилин при температурі 45020.
У таблиці 5 показані зміни маси покриття на кожній з цих підкладок, в залежності від кількості циклів змочування/сушіння/випал.
Підкладка з залів підкладка з нікелю олюпйшер /0010000лвяимо ся 7 Четвертий шар 01000? о
Дослідження електрохімічних властивостей електродів здійснювали способом, описаним у прикладі 1. У таблицях б та 7 показані зміни потенціалу на катоді із заліза та приріст напруги в порівнянні із залізним о катодом без покриття (таблиця б), а також зміни потенціалу на катоді з нікелю та приріст напруги в порівнянні - із залізним катодом без покриття (таблиця 7). со о зв со
Фаполяризаця яю 10611
В умовах інтенсивного газовиділення покриття на залізній підкладці відшаровується і властивості катода « стають такими, як у катода без покриття. Забарвлення покриття після термообробки свідчить про наявність с 40 значного вмісту оксидів заліза З . ? 5 со («в)
Навіть після численних етапів досліджень катод на підкладці з ніселю не зазнавав жодних ушкоджень, а
Ме. приріст напруги у порівнянні із залізним катодом без покриття ставав все значнішим. - 50 о
Claims (20)
1. Спосіб формування на електропровідній підкладці покриття з оксидів металів, принаймні один з яких є дорогоцінним металом МІ! групи Періодичної системи елементів, який включає нанесення на електропровідну ГФ! підкладку розчину принаймні однієї металоорганічної речовини з наступною термообробкою цієї речовини в оксид металу, який відрізняється тим, що використовують підкладку із заліза або сталі, на яку наносять о безводний розчин ацетилкетонату металу або суміші ацетилкетонатів металів у відповідному розчиннику, здатному розчиняти ацетилкетонат, який вибирають з групи спиртів, кетонів, хлорметанів або суміші двох або 60 більше вказаних розчинників.
2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що вказаний дорогоцінний метал використовують у поєднанні з титаном або цирконієм.
З. Спосіб за п. 1 або 2, який відрізняється тим, що дорогоцінний метал МІ групи Періодичної системи вибирають з групи: рутеній, родій, паладій, осмій, іридій та платина. 65
4. Спосіб за п. 3, який відрізняється тим, що дорогоцінним металом є рутеній або іридій.
5. Спосіб за п. 4, який відрізняється тим, що дорогоцінним металом є рутеній.
6. Спосіб за п. 1 або 2, який відрізняється тим, що спирт є етанолом або ізопропанолом.
7. Спосіб за п. 1 або 2, який відрізняється тим, що кетоном є ацетон.
8. Спосіб за п. 1 або 2, який відрізняється тим, що хлорметаном є хлороформ.
9. Спосіб за будь-яким з пп. 1-8, який відрізняється тим, що розчин ацетилкетонату металу одержують шляхом розчинення вказаного ацетилкетонату металу у відповідному розчиннику або суміші розчинників, що містить відповідний розчинник.
10. Спосіб за будь-яким з пп. 1-8, який відрізняється тим, що розчин, який містить суміш ацетилкетонатів металів одержують шляхом розчинення вказаних ацетилкетонатів металів у суміші відповідних розчинників, 7/0 Здатних розчиняти вказані ацетилкетонати, або шляхом окремого змішування розчинів кожного ацетилкетонату у відповідному розчиннику або суміші розчинників, що містить відповідний розчинник.
11. Спосіб за будь-яким з пп. 1-10, який відрізняється тим, що для одержання покриття з оксиду або оксидів металів на першому етапі підкладку зі сталі або заліза піддають попередній обробці, а на другому - наносять на оброблену підкладку розчин ацетилкетонату або суміші ацетилкетонатів металів з наступним висушуванням /5 та випалом одержаного покриття.
12. Спосіб за п. 11, який відрізняється тим, що висушування здійснюють при температурі не вище 150 С.
13. Спосіб за п. 11, який відрізняється тим, що підкладку з нанесеним ацетилкетонатом або сумішшю ацетилкетонатів металів піддають випалу у повітряному середовищі або середовищі інертного газу з додаванням кисню при температурі не нижче 300 «С, переважно при температурі від 400 до 600 «С, протягом періоду від 10 хвилин до 2 годин.
14. Спосіб за п. 11, який відрізняється тим, що другий етап повторюють принаймні 1 раз, переважно - від 2 до 6 разів.
15. Електропровідна підкладка зі сталі або заліза, що містить покриття з оксидів металів, яка одержана за способом за будь-яким з пп. 1-14. Ге!
16. Активований катод, який одержаний формуванням покриття на електропровідній підкладці способом за (5) будь-яким з пп.1-14.
17. Застосування активованого катода за п. 16 для електролізу водних розчинів хлоридів лужних металів.
18. Застосування активованого катода за п. 17, яке відрізняється тим, що водним розчином хлориду лужного металу є водний розчин хлориду натрію. | «в)
19. Спосіб одержання хлору та гідроксиду лужного металу шляхом електролізу відповідного хлориду з - використанням катода за п. 16.
20. Спосіб одержання хлоратів лужних металів шляхом електролізу відповідного хлориду з використанням (Се) катода за п. 16. «в) г)
-
. и? (ее) («в) (о) - 70 (42) іме) 60 б5
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0303867A FR2852973B1 (fr) | 2003-03-28 | 2003-03-28 | Procede de formation d'un revetement d'oxydes metalliques sur un substrat electroconducteur; cathode activee en resultant et son utilisation pour l'electrolyse de solutions acqueuses de chorures de meteaux alcalins. |
| PCT/FR2004/000746 WO2004087992A2 (fr) | 2003-03-28 | 2004-03-25 | Procede de formation d'un revetement d'oxydes metalliques sur un substrat electroconducteur, cathode activee en resultant et son utilisation pour l'electrolyse de solutions aqueuses de chlorures de metaux alcalins. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA80610C2 true UA80610C2 (en) | 2007-10-10 |
Family
ID=32947259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAA200510604A UA80610C2 (en) | 2003-03-28 | 2004-03-25 | Method for the coating of metal oxides formation on the electroconductive support, activated cathode, which is obtained by this method and its use for electrolysis of water solutions of alkali chlorides |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7790233B2 (uk) |
| EP (1) | EP1608795B1 (uk) |
| JP (1) | JP4532471B2 (uk) |
| KR (1) | KR101111369B1 (uk) |
| CN (1) | CN1795291B (uk) |
| AT (1) | ATE330043T1 (uk) |
| BR (1) | BRPI0408905A (uk) |
| CA (1) | CA2520584C (uk) |
| DE (1) | DE602004001230T2 (uk) |
| ES (1) | ES2270380T3 (uk) |
| FR (1) | FR2852973B1 (uk) |
| MX (1) | MXPA05010353A (uk) |
| PL (1) | PL1608795T3 (uk) |
| UA (1) | UA80610C2 (uk) |
| WO (1) | WO2004087992A2 (uk) |
| ZA (1) | ZA200507825B (uk) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006283143A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 金属酸化物膜の製造方法 |
| GB0714021D0 (en) * | 2007-07-18 | 2007-08-29 | Green Metals Ltd | Improvements in anode materials |
| US8022004B2 (en) * | 2008-05-24 | 2011-09-20 | Freeport-Mcmoran Corporation | Multi-coated electrode and method of making |
| WO2010136877A1 (en) | 2009-05-26 | 2010-12-02 | Agency For Science, Technology And Research | Muteins of the pyrroline-5-carboxylate reductase 1 |
| CN102505127A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-06-20 | 文广 | 贵金属改性钛阳极材料的制备方法 |
| WO2015137193A1 (ja) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | Jsr株式会社 | 半導体デバイス製造用組成物および該半導体デバイス製造用組成物を用いたパターン形成方法 |
| CN106521433A (zh) * | 2015-09-09 | 2017-03-22 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 环件结构及其加工方法 |
| IT201900020026A1 (it) * | 2019-10-30 | 2021-04-30 | Industrie De Nora Spa | Elettrodo per evoluzione elettrolitica di idrogeno |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3850668A (en) * | 1972-06-05 | 1974-11-26 | Johnson Matthey Co Ltd | Impregnation of graphite with ruthenium compounds |
| US4300992A (en) | 1975-05-12 | 1981-11-17 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Activated cathode |
| US4100049A (en) * | 1977-07-11 | 1978-07-11 | Diamond Shamrock Corporation | Coated cathode for electrolysis cells |
| FR2583781A1 (fr) * | 1985-06-24 | 1986-12-26 | Atochem | Cathode pour electrolyse et un procede de fabrication de ladite cathode |
| FR2596776B1 (fr) * | 1986-04-03 | 1988-06-03 | Atochem | Cathode pour electrolyse et un procede de fabrication de ladite cathode |
| JPH0766816B2 (ja) * | 1989-01-13 | 1995-07-19 | 東洋インキ製造株式会社 | ガス拡散型複合電極の製造方法 |
| BR9610069A (pt) * | 1995-08-04 | 2000-05-09 | Microcoating Technologies | Disposição de vapor quìmico e formação de pó usando-se pulverização térmica com soluções de fluido quase super-crìticas e super-crìticas |
| US5864051A (en) * | 1997-11-10 | 1999-01-26 | Uop | Selective oxidation catalyst process for preparing the catalyst and process using the catalyst |
| JP3383838B2 (ja) * | 1999-02-25 | 2003-03-10 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法 |
| FR2797646B1 (fr) * | 1999-08-20 | 2002-07-05 | Atofina | Cathode utilisable pour l'electrolyse de solutions aqueuses |
| US7258899B1 (en) * | 2001-12-13 | 2007-08-21 | Amt Holdings, Inc. | Process for preparing metal coatings from liquid solutions utilizing cold plasma |
| US20040077494A1 (en) * | 2002-10-22 | 2004-04-22 | Labarge William J. | Method for depositing particles onto a catalytic support |
-
2003
- 2003-03-28 FR FR0303867A patent/FR2852973B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-03-25 ES ES04742353T patent/ES2270380T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-25 AT AT04742353T patent/ATE330043T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-03-25 DE DE602004001230T patent/DE602004001230T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-25 CN CN2004800147636A patent/CN1795291B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-25 BR BRPI0408905-7A patent/BRPI0408905A/pt not_active Application Discontinuation
- 2004-03-25 WO PCT/FR2004/000746 patent/WO2004087992A2/fr active Application Filing
- 2004-03-25 JP JP2006505751A patent/JP4532471B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-25 PL PL04742353T patent/PL1608795T3/pl unknown
- 2004-03-25 UA UAA200510604A patent/UA80610C2/uk unknown
- 2004-03-25 CA CA2520584A patent/CA2520584C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-25 EP EP04742353A patent/EP1608795B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-25 US US10/550,646 patent/US7790233B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-25 MX MXPA05010353A patent/MXPA05010353A/es active IP Right Grant
- 2004-03-25 KR KR1020057018365A patent/KR101111369B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-09-27 ZA ZA200507825A patent/ZA200507825B/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE330043T1 (de) | 2006-07-15 |
| JP4532471B2 (ja) | 2010-08-25 |
| CN1795291B (zh) | 2011-08-31 |
| CA2520584C (fr) | 2011-08-23 |
| EP1608795A2 (fr) | 2005-12-28 |
| KR20050114265A (ko) | 2005-12-05 |
| PL1608795T3 (pl) | 2006-11-30 |
| ES2270380T3 (es) | 2007-04-01 |
| BRPI0408905A (pt) | 2006-03-28 |
| US20060263614A1 (en) | 2006-11-23 |
| FR2852973B1 (fr) | 2006-05-26 |
| JP2006521469A (ja) | 2006-09-21 |
| CN1795291A (zh) | 2006-06-28 |
| DE602004001230D1 (de) | 2006-07-27 |
| DE602004001230T2 (de) | 2007-04-19 |
| KR101111369B1 (ko) | 2012-04-09 |
| WO2004087992A2 (fr) | 2004-10-14 |
| MXPA05010353A (es) | 2005-12-14 |
| ZA200507825B (en) | 2007-01-31 |
| EP1608795B1 (fr) | 2006-06-14 |
| CA2520584A1 (fr) | 2004-10-14 |
| US7790233B2 (en) | 2010-09-07 |
| FR2852973A1 (fr) | 2004-10-01 |
| WO2004087992A3 (fr) | 2005-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3701724A (en) | Electrodes for electrochemical processes | |
| KR100735588B1 (ko) | 수용액의 전해용 캐쏘드 | |
| US4061549A (en) | Electrolytic cell anode structures containing cobalt spinels | |
| TWI757535B (zh) | 電解用陽極及其製法 | |
| EA023645B1 (ru) | Анод для электролитического выделения хлора | |
| EP0715002B1 (en) | Stable coating solutions for preparing electrocatalytic mixed oxide coatings on metal substrates or metal-coated conductive substrates, and a method for the preparation of dimensionally stable anodes using such solutions | |
| ZA200507825B (en) | Method for the formation of a coating of metal oxides on an electrically-conducting substrate, resultant activated cathode and use thereof for the electrolysis of aqueous solutions of alkaline metal chlorides | |
| CN112342566B (zh) | 电解用电极的制造方法 | |
| JP2836840B2 (ja) | 塩素発生用電極及びその製造方法 | |
| JPH0238669B2 (uk) | ||
| JP6247535B2 (ja) | 電解槽のための電極 | |
| KR102503040B1 (ko) | 복합 금속 인화물을 포함하는 산화 전극 및 이의 제조방법 | |
| KR20190034851A (ko) | 전기분해용 전극의 촉매 조성물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 전기분해용 전극의 제조방법 | |
| JP2023500091A (ja) | 水素の電気化学的発生のための電極 | |
| Xin et al. | The deactivation mechanism of RuO2-IrO2-SnO2/Ti anodes under alternative current electrolysis condition | |
| RU2791363C2 (ru) | Анод для электролитического выделения хлора | |
| US20220259062A1 (en) | Tin Oxide Forming Composition | |
| KR830000815B1 (ko) | 전해용 전극 | |
| CS222661B2 (cs) | Elektroda s jádrem z kovu odolného vůči chloru |