TWM615084U - 氣浮式吸附裝置 - Google Patents
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Abstract
本新型創作提供一種氣浮式吸附裝置,包括一底座、一吸嘴、一供氣單元以及一抽氣單元。底座形成有一供氣道,且供氣道透過一開口連通於外部;吸嘴穿設於供氣道內且一部份透過開口露出,開口的壁面與吸嘴間具有一間隙,且吸嘴內形成有一抽氣道;供氣單元連通於供氣道;抽氣單元連通於抽氣道。
Description
本新型創作提供一種氣浮式吸附裝置,且特別是關於一種結合氣浮吸引以及抽氣吸附的氣浮式吸附裝置。
在半導體及精密電子產業的製程當中,經常需要使用吸取裝置將晶片或電路板等物體移動至指定的位置,依據吸取方式的不同,可大略分為氣吸及磁吸兩種類別。在氣吸種類的吸取裝置中,部份裝置會直接利用吸嘴吸氣產生負壓,使得物體附著在吸嘴上後進行移動,也有部份裝置透過特殊設計的氣流通道,以改變流體流速的方式產生相對負壓並吸附物體。然而,上述方法在個別使用時,前者無法確認物體是否位於吸嘴產生的負壓範圍內,容易造成空吸進而使抽氣幫浦無謂地耗費動力;後者則容易產生吸力不足的現象。為此,市面上的部份裝置將這兩個方法進行結合,亦即先進行氣浮吸引確保物體進入吸嘴負壓範圍後,再以吸嘴進行吸附,但當物體可供吸附的面積較小時,便無法藉由分佈於不同位置的氣浮口以及吸嘴進行吸附。
創作人遂竭其心智悉心研究,進而研發出一種結合氣浮吸引以及抽氣吸附的氣浮式吸附裝置,以期達到提高吸附穩定度以及適應不同尺寸物體的功效。
本新型創作提供一種氣浮式吸附裝置,包括一底座、一吸嘴、一供氣單元以及一抽氣單元。底座形成有一供氣道,且供氣道透過一開口連通於外
部;吸嘴穿設於供氣道內且一部份透過開口露出,開口的壁面與吸嘴間具有一間隙,且吸嘴內形成有一抽氣道;供氣單元連通於供氣道;抽氣單元連通於抽氣道。
在一實施例中,上述的底座包括一外緣部,外緣部配置於開口的外側,且底座自開口至外緣部的內徑逐漸增大。
在一實施例中,上述的外緣部具有一端面,端面的法向平行於供氣道的延伸方向,底座還包括一傾斜部,傾斜部連接於開口以及外緣部之間且具有一傾斜面,且傾斜面的法向相對於供氣道的延伸方向傾斜。
在一實施例中,上述的吸嘴具有一吸附面,且吸附面與端面對齊。
在一實施例中,上述的外緣部上形成有一導引槽,且導引槽相對於端面凹陷。
在一實施例中,上述的吸嘴包括一身部以及一吸附部,吸附部固設於身部且相對於底座突出,且吸附部的剛性小於身部的剛性。
在一實施例中,上述的吸附部包括一連接部以及一接觸部,連接部連接於身部以及接觸部之間,且接觸部的外徑小於連接部的外徑。
在一實施例中,氣浮式吸附裝置還包括一控制單元,控制單元電性連接於供氣單元以及抽氣單元。當氣浮式吸附裝置透過抽氣單元以及吸嘴吸附一物體時,控制單元控制供氣單元停止供氣至供氣道。
在一實施例中,上述的底座還包括一固持部,固持部形成有一固持孔,固持孔連通於供氣道,吸嘴包括一身部,且固持孔的內徑與身部的外徑相等。
在一實施例中,上述的供氣單元包括一幫浦以及一氣閥,且幫浦透過氣閥連接於供氣道。
藉此,本新型創作的氣浮式吸附裝置的吸嘴穿設於供氣道內,因此當供氣單元供氣至供氣道提供氣浮吸力的同時,抽氣單元可透過吸嘴抽氣從而吸附物體,不僅提高了吸附的穩定度,且氣浮吸引處以及抽氣吸附處設置於相同的位置,因此可適用於不同尺寸的物體。
為讓本新型創作的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
1、1a、1b:氣浮式吸附裝置
100、100a、100b:底座
110:固持部
120:外緣部
122、122a、122b:端面
124:導引槽
130:傾斜部
132:傾斜面
140:內緣部
142:內端面
150:固定件
200、200a、200b:吸嘴
210:身部
220:吸附部
222:連接部
224:接觸部
230:接觸面
300:供氣單元
310:幫浦
320:氣閥
400:抽氣單元
500:控制單元
A:區域
C:間隙
H:固持孔
O:開口
PE:抽氣道
PS:供氣道
X-X、Y-Y:剖面
圖1為本新型創作的氣浮式吸附裝置的一實施例的立體示意圖。
圖2為圖1的氣浮式吸附裝置的元件方塊圖。
圖3為圖1的俯視示意圖。
圖4為圖3沿著X-X剖面的剖視示意圖。
圖5為圖4中區域A的放大示意圖。
圖6為本新型創作的氣浮式吸附裝置的另一實施例的前視示意圖。
圖7為圖6沿著Y-Y剖面的剖視示意圖。
圖8為本新型創作的氣浮式吸附裝置的再一實施例的前視示意圖。
圖9為圖8的局部前視示意圖。
有關本新型創作之前述及其它技術內容、特點與功效,在以下配合參考圖式之較佳實施例的詳細說明中,將可清楚地呈現。值得一提的是,以下實施例所提到的方向用語,例如:上、下、左、右、前或後等,僅是參考附加圖
式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明,而非對本新型創作加以限制。此外,在下列的實施例中,相同或相似的元件將採用相同或相似的標號。
請參考圖1至圖3,其中圖1為本新型創作的氣浮式吸附裝置的一實施例的立體示意圖,圖2為圖1的氣浮式吸附裝置的元件方塊圖,而圖3為圖1的俯視示意圖。本實施例的氣浮式吸附裝置1包括一底座100、一吸嘴200、一供氣單元300以及一抽氣單元400,其中吸嘴200的一部份配置於底座100內部,供氣單元300例如包括一幫浦310以及一氣閥320且連接於底座100,抽氣單元400例如包括一抽氣幫浦(未繪示)且連接於吸嘴200。較佳地,氣浮式吸附裝置1還包括一控制單元500,其中控制單元500例如是一可編程邏輯控制器(programmable logic controller,PLC)或一電腦,電性連接於供氣單元300以及抽氣單元400。
請參考圖4及圖5,其中圖4為圖3沿著X-X剖面的剖視示意圖,而圖5為圖4中區域A的放大示意圖。詳細而言,底座100形成有一供氣道PS,供氣道PS透過一開口O連通於外部,且供氣單元300連通於供氣道PS。更進一步而言,幫浦310透過氣閥320連接於供氣道PS,藉此可透過氣閥320開啟或關閉對於供氣道PS的供氣,而吸嘴200穿設於供氣道PS內且一部份透過開口O露出,且開口O的壁面與吸嘴200間具有一間隙C。較佳地,底座100包括一固持部110,固持部110形成有一固持孔H,固持孔H連通於供氣道PS,而吸嘴200包括一身部210,且固持孔H的內徑與身部210的外徑大致相等,當吸嘴200與底座100組裝完成時,固持孔H以及身部210為彼此緊配的狀態,藉此底座100得以固持吸嘴200。
另一方面,吸嘴200內形成有一抽氣道PE,且抽氣單元400連通於抽氣道PE。透過這樣的配置,當氣浮式吸附裝置1接近物體時,控制單元500可控制供氣單元300供氣至供氣道PS,當高速氣體通過間隙C並由吸嘴200露出開口O
部份的側邊噴出時,根據白努利定理,吸嘴200的周圍將會形成相對低壓,因此能透過氣浮將物體吸引至吸嘴200周圍,此時控制單元500進而控制抽氣單元400透過抽氣道PE進行抽氣,由於物體在氣浮吸引的作用下已經位於吸嘴200的周圍,因此吸嘴200可輕易地吸附物體,達到提高吸附穩定度的效果。
值得一提的是,在上述過程中,雖然氣浮式吸附裝置1採取先進行氣浮供氣吸引物體,再由抽氣單元400透過抽氣道PE抽氣的模式運作,但本新型創作並不限定於此。在其它可能的實施例中,也可以同時啟動供氣單元300以及抽氣單元400,讓物體在受到氣浮作用的同時立即被吸嘴200吸附,也能有同樣的效果。
更進一步而言,如圖5所示,底座100包括一外緣部120、一傾斜部130以及一內緣部140,其中外緣部120配置於開口O的外側,傾斜部130連接於開口O以及外緣部120之間,而內緣部140連接於開口O以及傾斜部130之間。藉此,底座100自開口O至外緣部120的內徑逐漸變大,因此可順應吸嘴200的形狀保持適當的間隙C從而維持穩定的負壓環境。
此外,外緣部120具有一端面122,傾斜部130具有一傾斜面132,而內緣部140具有一內端面142,其中端面122以及內端面142的法向平行於供氣道PS的延伸方向(即圖5中的上下方向),而傾斜面132的法向相對於供氣道PS的延伸方向傾斜,換言之,底座100與吸嘴200之間的間隙C的大小由供氣道PS、內緣部140、傾斜部130至外緣部120大致維持固定。透過這樣的配置,氣體能夠自內端面142沿著傾斜面132朝端面122流動,且在經過內端面142以及端面122時能沿水平方向(平行於吸附物體表面的方向)流動,如此一來不容易對吸嘴200吸附物體造成妨礙,更進一步地提昇吸附的穩定度。
另一方面,為了增進吸嘴200與吸附物體的密合度,吸嘴200還包括一吸附部220,其中吸附部220固設於身部210且相對於底座100突出,且吸附部220的剛性小於身部210的剛性。具體而言,本實施例的身部210例如選用金屬材質,而吸附部220則例如選用橡膠或塑膠等材質製成。透過這樣的配置,當吸嘴200吸附物體時,吸附部220相較於身部210能順應物體的形狀進而更緊密地貼附於物體的表面,且當吸力增強時,吸附部220能夠適當地變形進而防止在物體表面留下印痕。
更進一步而言,吸附部220包括一連接部222以及一接觸部224,其中連接部222連接於身部210以及接觸部224之間,且接觸部224的外徑小於連接部222的外徑。藉此,當物體的表面尺寸較小時,吸嘴200的內徑依然可以維持配合抽氣單元400吸力的大小,僅需調整或更換具有對應尺寸接觸部224的吸附部220即可,進而讓氣浮式吸附裝置1在使用上具有更大的彈性。
請參考圖6及圖7,其中圖6為本新型創作的氣浮式吸附裝置的另一實施例的前視示意圖,而圖7為圖6沿著Y-Y剖面的剖視示意圖。本實施例的氣浮式吸附裝置1a與圖1的氣浮式吸附裝置1相似,兩者主要的差異在於:氣浮式吸附裝置1a的外緣部120a上形成有導引槽124,且吸嘴200a不具有吸附部220。
詳細而言,由於一些物體面積較大,需要透過多個氣浮式吸附裝置1a進行吸附,為了維持氣浮式吸附裝置1a與物體之間的貼合度,本實施例的吸嘴200a具有一吸附面230,且吸附面230與外緣部120a的端面122a對齊。藉此,當物體受到多個氣浮式吸附裝置1a氣浮吸引作用時,物體的一部份可同時貼附在各個吸附面230上,而其餘部份抵接於端面122a,藉此維持吸取物體時的平整度。
在此同時,為了避免物體貼附於端面122a後,經由供氣道PS噴出的氣體受到物體阻擋而無法順利排出,本實施例的外緣部120a上形成有二導引槽124,這些導引槽124對稱地分佈於開口O的兩側且相對於端面122a凹陷。藉此,即使當吸嘴200a吸附物體導致物體貼附於端面122上時,經由供氣單元300所排出的氣體依然可經由供氣道PS以及導引槽124從底座100的側向排出,從而確保吸附過程順利進行。
請參考圖8及圖9,其中圖8為本新型創作的氣浮式吸附裝置的再一實施例的前視示意圖,而圖9為圖8的局部前視示意圖。本實施例的氣浮式吸附裝置1b與圖6的氣浮式吸附裝置1a相似,兩者主要的差異在於,氣浮式吸附裝置1b的底座100b為板狀,且端面122b上不具備導引槽。
詳細而言,氣浮式吸附裝置1b的底座100b為板狀,藉此可吸附大面積的物體,且底座100b形成有複數個供氣道PS,這些供氣道PS內穿設有複數個吸嘴200b,由於底座100b的面積較大,為了不影響端面122b的平整性,端面122b上不設置導引槽。取而代之地,氣浮式吸附裝置1b透過控制單元500控制氣浮吸引以及吸嘴200b吸附之間的切換,當氣浮式吸附裝置1b透過抽氣單元400以及吸嘴200b吸附物體時,控制單元500將控制供氣單元300停止供氣至供氣道PS。透過這樣的配置,氣浮式吸附裝置1b可防止在不具備導引槽的情況下,由供氣單元300排出的氣體無法順利排出的情況。
值得一提的是,即使是例如圖6中具有導引槽124的氣浮式吸附裝置1a的實施例,也可藉由控制單元500對供氣單元300以及抽氣單元400進行控制進而避免幫浦310空轉,本新型創作對此不加以限制。
本新型創作在上文中已以較佳實施例揭露,然熟習本項技術者應理解的是,上述實施例僅用於描繪本新型創作,而不應解讀為限制本新型創作之範圍。應注意的是,舉凡與上述實施例等效之變化與置換,均應設為涵蓋於本新型創作之範疇內。因此,本新型創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。
100:底座
110:固持部
150:固定件
200:吸嘴
210:身部
220:吸附部
320:氣閥
A:區域
H:固持孔
O:開口
PE:抽氣道
PS:供氣道
X-X:剖面
Claims (10)
- 一種氣浮式吸附裝置,包括:一底座,形成有一供氣道,且該供氣道透過一開口連通於外部;一吸嘴,穿設於該供氣道內且一部份透過該開口露出,該開口的壁面與該吸嘴間具有一間隙,且該吸嘴內形成有一抽氣道;一供氣單元,連通於該供氣道;以及一抽氣單元,連通於該抽氣道。
- 如請求項1所述的氣浮式吸附裝置,其中該底座包括一外緣部,該外緣部配置於該開口的外側,且該底座自該開口至該外緣部的內徑逐漸增大。
- 如請求項2所述的氣浮式吸附裝置,其中該外緣部具有一端面,該端面的法向平行於該供氣道的延伸方向,該底座還包括一傾斜部,該傾斜部連接於該開口以及該外緣部之間且具有一傾斜面,且該傾斜面的法向相對於該供氣道的延伸方向傾斜。
- 如請求項3所述的氣浮式吸附裝置,其中該吸嘴具有一吸附面,且該吸附面與該端面對齊。
- 如請求項3所述的氣浮式吸附裝置,其中該外緣部上形成有一導引槽,且該導引槽相對於該端面凹陷。
- 如請求項1所述的氣浮式吸附裝置,其中該吸嘴包括一身部以及一吸附部,該吸附部固設於該身部且相對於該底座突出,且該吸附部的剛性小於該身部的剛性。
- 如請求項6所述的氣浮式吸附裝置,其中該吸附部包括一連接部以及一接觸部,該連接部連接於該身部以及該接觸部之間,且該接觸部的外徑小於該連接部的外徑。
- 如請求項1所述的氣浮式吸附裝置,還包括一控制單元,該控制單元電性連接於該供氣單元以及該抽氣單元,當該氣浮式吸附裝置透過該抽氣單元以及該吸嘴吸附一物體時,該控制單元控制該供氣單元停止供氣至該供氣道。
- 如請求項1所述的氣浮式吸附裝置,其中該底座還包括一固持部,該固持部形成有一固持孔,該固持孔連通於該供氣道,該吸嘴包括一身部,且該固持孔的內徑與該身部的外徑相等。
- 如請求項1所述的氣浮式吸附裝置,其中該供氣單元包括一幫浦以及一氣閥,且該幫浦透過該氣閥連接於該供氣道。
Priority Applications (1)
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TW110202433U TWM615084U (zh) | 2021-03-08 | 2021-03-08 | 氣浮式吸附裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
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TW110202433U TWM615084U (zh) | 2021-03-08 | 2021-03-08 | 氣浮式吸附裝置 |
Publications (1)
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TW (1) | TWM615084U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI758121B (zh) * | 2021-03-08 | 2022-03-11 | 上利新科技股份有限公司 | 氣浮式吸附裝置 |
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2021
- 2021-03-08 TW TW110202433U patent/TWM615084U/zh unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI758121B (zh) * | 2021-03-08 | 2022-03-11 | 上利新科技股份有限公司 | 氣浮式吸附裝置 |
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