TWI833889B - 遮罩配接器、遮罩配接器安裝工具、曝光裝置以及元件製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明的遮罩配接器的一形態是於對支持於平台的遮罩進行照明而將形成於所述遮罩的圖案曝光於基板上的曝光裝置中使用且安裝有所述遮罩的遮罩配接器，其包括：本體部，包括在形成有所述圖案的區域外支持所述遮罩的支持部、及支持於所述平台的被支持部；以及第一被檢測部，於所述本體部上，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，並且所述第一被檢測部包含與所述遮罩配接器相關的資訊。

Description

遮罩配接器、遮罩配接器安裝工具、曝光裝置以及元件製造方法

本發明是有關於一種遮罩配接器、遮罩配接器安裝工具、曝光裝置以及元件製造方法。

本申請案基於2019年2月6日提出申請的日本專利特願2019-020167號主張優先權，將其內容引用至本文中。

例如，專利文獻1中記載有對曝光裝置中所使用的曝光遮罩安裝的遮罩保持構件。於安裝有此種遮罩保持構件的狀態下使用曝光遮罩時，提高曝光裝置的曝光精度成為問題。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開平11-288099號公報

本發明的遮罩配接器的一形態為一種遮罩配接器，於對支持於平台的遮罩進行照明而將形成於所述遮罩的圖案曝光於基板上的曝光裝置中使用，且安裝於所述遮罩，其包括：本體部，包括於形成有所述圖案的區域外支持所述遮罩的支持部、及支持於所述平台的被支持部；以及第一被檢測部，於所述本體部上， 能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，並且所述第一被檢測部包含與所述遮罩配接器相關的資訊。

亦可設為與所述遮罩配接器相關的資訊包含控制資訊的構成，所述控制資訊用以於所述曝光中，對將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器加以支持的所述平台的移動進行控制。

亦可設為與所述遮罩配接器相關的資訊包含所述遮罩配接器的剛性的構成。

亦可設為所述第一被檢測部為條碼的構成。

本發明的遮罩配接器的一形態是於對支持於平台的遮罩進行照明而將形成於所述遮罩的圖案曝光於基板上的曝光裝置中使用，且安裝於所述遮罩的遮罩配接器，其包括：本體部，包括在所述遮罩中形成有所述圖案的區域外安裝的安裝部、及支持於所述平台的被支持部；以及第二被檢測部，於所述本體部上，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，並且所述第二被檢測部包含與安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩相關的資訊。

亦可設為如下構成：包括第二被檢測部，所述第二被檢測部於所述本體部上，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，並且所述第二被檢測部包含與安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩相關的資訊。

亦可設為如下構成：所述第一被檢測部與所述第二被檢測部相鄰而配置。

亦可設為如下構成：與所述遮罩相關的資訊包含所述遮 罩的平面度、形成於所述遮罩的圖案的種類、所述遮罩的尺寸誤差、所述遮罩的重量誤差、形成於所述遮罩的圖案的描畫誤差中的至少一者。

亦可設為如下構成：包括以能變更的方式顯示所述第二被檢測部的顯示部。

亦可設為如下構成：所述顯示部顯示所述遮罩所包含的與所述遮罩相關的資訊。

亦可設為如下構成：所述第二被檢測部為電子條碼。

亦可設為如下構成：若對所述遮罩配接器安裝與所述遮罩不同的其他遮罩，則所述顯示部顯示與所述其他遮罩相關的資訊。

本發明的遮罩配接器的一形態是於對支持於平台的遮罩進行照明而將形成於所述遮罩的圖案曝光於基板上的曝光裝置中使用，且安裝於所述遮罩的遮罩配接器，其包括：本體部，包括在所述遮罩中形成有所述圖案的區域外安裝的安裝部、及支持於所述平台的被支持部；以及第一被辨別部，用以使所述曝光裝置使用第一感測器來辨別如下情況：藉由能將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器及與所述遮罩不同的其他遮罩分別搬送的搬送裝置，將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器搬送至所述平台。

亦可設為如下構成：更包括第一被辨別部，所述第一被辨別部用以使所述曝光裝置使用第一感測器來辨別如下情況：藉由能將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器及所述其他遮罩分別搬 送的搬送裝置，將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器搬送至所述平台。

亦可設為如下構成：所述第一被辨別部包括設置於所述本體部上且將從所述第一感測器射出的光反射的反射部，並且所述反射部將從所述第一感測器射出的光向與所述第一感測器所處的方向不同的方向反射。

亦可設為如下構成：所述第一被辨別部包括從所述第一感測器射出的光所穿過的第一穿過部。

亦可設為如下構成：所述第一被辨別部是利用設置於所述曝光裝置的所述搬送裝置的所述第一感測器來檢測。

本發明的遮罩配接器的一形態為於對支持於平台的遮罩進行照明而將形成於所述遮罩的圖案曝光於基板上的曝光裝置中使用，且安裝於所述遮罩的遮罩配接器，其包括：本體部，包括在所述遮罩中形成有所述圖案的區域外安裝的安裝部、及支持於所述平台的被支持部；以及第二被辨別部，用以使所述曝光裝置使用第二感測器來辨別如下情況：於能將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器及與所述遮罩不同的其他遮罩分別支持的所述平台，支持有所述遮罩配接器。

亦可設為如下構成：包括第二被辨別部，所述第二被辨別部用以使所述曝光裝置使用第二感測器來辨別如下情況：於能將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器及所述其他遮罩分別支持的所述平台，支持有所述遮罩配接器。

亦可設為如下構成：所述第二被辨別部包括從所述第二感測器射出的光所穿過的第二穿過部。

亦可設為如下構成：所述第二穿過部為設置於所述本體部的貫穿孔。

亦可設為如下構成：所述第二被辨別部是利用設置於所述平台的所述第二感測器來檢測。

亦可設為如下構成：所述本體部具有將所述遮罩的周圍包圍的框狀的形狀。

本發明的曝光裝置的一形態包括：照明光學系統，對安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩進行照明；以及投影光學系統，將由所述照明光學系統所照明的所述遮罩的圖案投影至所述基板上。

本發明的元件製造方法的一形態包括：利用所述曝光裝置對基板進行曝光處理；以及對經曝光的所述基板進行顯影處理。

本發明的元件製造方法的一形態包括：對安裝於所述遮罩配接器的遮罩進行照明；藉由將經照明的所述遮罩的圖案的像投影至基板上，而對所述基板進行曝光；以及對經曝光的所述基板進行顯影處理。

本發明的遮罩配接器安裝工具的一形態於所述遮罩配接器安裝所述遮罩。

本發明的遮罩配接器安裝工具的一形態是對遮罩配接器安裝所述遮罩，所述遮罩配接器使用在將形成於遮罩上的圖案 曝光於基板上的曝光裝置中，所述遮罩配接器安裝工具包括：寫入部，使包含與安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩相關的資訊的第二被檢測部，顯示於設置在所述遮罩配接器的顯示部。

亦可設為如下構成：包括第二檢測部，所述第二檢測部對設置於所述遮罩的包含與所述遮罩相關的資訊的第三被檢測部進行檢測，並且所述寫入部基於利用所述第二檢測部而從所述第三被檢測部中檢測到的資訊，於所述顯示部顯示所述第二被檢測部。

亦可設為如下構成：可為將所述遮罩從所述遮罩配接器上拆卸的工具，包括對所述遮罩從所述遮罩配接器上拆卸的情況進行檢測的拆卸檢測部，並且若藉由所述拆卸檢測部，檢測到所述遮罩已從所述遮罩配接器上拆卸，則所述寫入部刪除所述顯示部的顯示。

亦可設為如下構成：包括第二檢測部，對設置於所述遮罩的包含與所述遮罩相關的資訊的第三被檢測部進行檢測。

本發明的遮罩配接器安裝工具的一形態是一種對將形成於遮罩上的圖案曝光於基板上的曝光裝置中所使用的遮罩配接器，安裝所述遮罩的遮罩配接器安裝工具，其包括第二檢測部，所述第二檢測部對設置於所述遮罩的包含與所述遮罩相關的資訊的第三被檢測部進行檢測。

亦可設為如下構成：包括升降裝置，所述升降裝置使所述遮罩相對於所述遮罩配接器而於上下方向移動，並且所述升降 裝置使位於所述遮罩配接器的上方的所述遮罩下降，配置於所述遮罩配接器。

亦可設為如下構成：所述升降裝置使所述遮罩配置於俯視時具有將所述遮罩的周圍包圍的框狀的所述遮罩配接器。

本發明的曝光裝置的一形態包括：照明光學系統，利用所述遮罩配接器安裝工具，對安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩進行照明；以及投影光學系統，將由所述照明光學系統進行照明的所述遮罩的圖案投影至所述基板上。

本發明的元件製造方法的一形態包括：使用所述遮罩配接器安裝工具來對遮罩配接器安裝遮罩；對安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩進行照明；藉由將經照明的所述遮罩的圖案的像投影至基板上，對所述基板進行曝光；以及對經曝光的所述基板進行顯影處理。

10:遮罩配接器

11:框部(被支持部)

11a:第一邊部

11b:第二邊部

11c:第三邊部

11d:第四邊部

11e:凹部

11f:切口部

11g:角部

12:顯示裝置

12a:顯示部

13:第一被檢測部

14、15:第一定位部

14a:突出部

15a:本體部

15b:彈性部

16:支持部

17:第二定位部

18:被辨別部

18a:第一被辨別部

18b:第二被辨別部

18c:反射部

20:遮罩配接器安裝工具

21:基部

21a、21b、21c、24a、24b、24c:柱部

21d:足部

22a、22b、22c:引導部

23:升降裝置

23a:手柄部

24:可動部

24d、25a:軌道部

25:遮罩保持部

25b:第二滑動部

25c:臂部

25d:手部

25e:第一滑動部

26:第二檢測部

26a:檢測本體部

27:寫入部

28:第三檢測部

28a:延伸部

28b:第一測定部

28c:第二測定部

C:遮罩箱

CA:收納部

CA1:收納部本體

CA2:蓋部

CB:把手部

CC1:第一窗部

CC2:第二窗部

CH:腔室

CONT:控制裝置

EL:曝光光

EP:曝光部

EX:曝光裝置

H1、H2:搬送裝置

H2a:載體導件

H2b:載體

H2c:載體本體部

H2d:爪部

IL:照明光學系統

LB:遮罩庫

LBa:容納部

MA:遮罩組件

M、M1、M2:遮罩

M2a:被檢測部

MB:第三被檢測部

MBa:第二被檢測部

MST:遮罩平台(平台)

P:基板

PH:貫穿部

PL:投影單元

PST:基板平台

S1:感測器(第一感測器)

S2、S3、S5:感測器

S4:感測器(第二感測器)

S4a、S5a:射出部

SL:光

V:搬運車

X:第一方向

Y:第二方向

Z:上下方向

圖1是表示本實施方式的曝光裝置的概略構成圖。

圖2是表示本實施方式的遮罩箱的立體圖。

圖3A是從上側來看安裝有本實施方式的遮罩配接器的遮罩的遮罩組件的俯視圖。

圖3B是從上側來看本實施方式的曝光裝置中以單體狀態處理的遮罩的俯視圖。

圖4是表示本實施方式的遮罩配接器的一部分的立體圖。

圖5是從上側來看本實施方式的遮罩配接器的一部分的俯視圖。

圖6是表示本實施方式的遮罩配接器安裝工具的立體圖。

圖7是從上側來看本實施方式的遮罩配接器安裝工具的俯視圖。

圖8是表示本實施方式的遮罩配接器安裝工具的剖面圖，且是圖7中的VIII-VIII剖面圖。

圖9是表示使用安裝有本實施方式的遮罩配接器的遮罩，於曝光裝置中對基板進行曝光的順序的一部分的俯視圖。

圖10是從上側來看配置有本實施方式的遮罩組件的狀態的遮罩平台的俯視圖。

圖11是從上側來看配置有本實施方式的遮罩組件的狀態的遮罩平台的一部分的俯視圖。

以下，參照圖式，對本發明的實施方式的遮罩配接器及遮罩配接器安裝工具進行說明。

此外，本發明的範圍並不限定為以下的實施方式，能於本發明的技術性思想的範圍內任意變更。另外，以下的圖式中，為了容易理解各構成，存在使各結構的比例尺及數量等與實際結構的比例尺及數量等不同的情況。

另外，各圖中適宜表示的Z軸方向是以正側作為上側，且以負側作為下側的上下方向。X軸方向及Y軸方向是與上下方 向(Z軸方向)正交的方向，且是相互正交的水平方向。以下的說明中，將與Z軸方向平行的方向稱為「上下方向Z」，將與X軸方向平行的方向稱為「第一方向X」，將與Y軸方向平行的方向稱為「第二方向Y」。另外，將第一方向X中的正側(+X側)稱為「第一方向X的其中一側」，將負側(-X側)稱為「第一方向X的另一側」。另外，將第二方向Y中的正側(+Y側)稱為「第二方向Y的其中一側」，將負側(-Y側)稱為「第二方向Y的另一側」。本實施方式的說明中，第一方向X及第二方向Y是以遮罩配接器及遮罩為基準的水平方向。將圍繞上下方向Z(Z軸方向)的旋轉(傾斜)方向設為θz方向來進行說明。

圖1是表示本實施方式的曝光裝置EX的概略構成圖。

曝光裝置EX是藉由將經曝光光EL所照明的遮罩M的圖案的像投影至基板P上而對基板P進行曝光的裝置。利用本實施方式的曝光裝置EX來進行曝光的基板P例如為平板顯示器用的基板。如圖1所示，曝光裝置EX包括：曝光部EP、遮罩庫LB、搬送裝置H1、搬送裝置H2、腔室CH、及控制裝置CONT。

曝光部EP是將遮罩M的圖案曝光於基板P的部分。曝光部EP包括：遮罩平台(平台)MST、基板平台PST、照明光學系統IL、及投影單元PL。曝光裝置EX在曝光部EP中，對由遮罩平台MST所支持的遮罩M進行照明，將形成於遮罩M的圖案曝光於基板P上。

遮罩平台MST支持遮罩M。基板平台PST支持基板P。 照明光學系統IL以與例如美國專利第5,729,331號說明書等所揭示的照明光學系統相同的方式來構成，利用曝光光EL對由遮罩平台MST所支持的遮罩M進行照明。曝光光EL例如可使用包含i射線(波長365nm)、g射線(波長436nm)、h射線(波長405nm)中的至少一種波長的光。另外，照明光學系統IL中所使用的光源、以及由此光源照射的曝光光EL的波長並無特別限定，例如亦可為ArF準分子雷射光(波長193nm)、KrF準分子雷射光(波長248nm)等紫外光、或F₂雷射光(波長157nm)等真空紫外光。

投影單元PL將經曝光光EL所照明的遮罩M的圖案的像，投影曝光至由基板平台PST所支持的基板P。投影單元PL為所謂多透鏡型的投影光學系統，是與例如美國專利第6,552,775號說明書等所揭示的投影光學系統相同的構成，且例如包括形成正立正像的兩側遠心的多個投影光學系統。例如，投影單元PL所包括的多個投影光學系統在各自的投影光學系統中包括能夠對聚焦位置、偏移量、非線形修正量等進行修正的修正機構。各修正機構或其修正方法能採用例如日本專利公報4,211,272號公報、美國專利公報6,811,953號公報等中記載的構成及方法。

圖示雖省略，但於曝光部EP設置有：能將遮罩平台MST於第一方向X及第二方向Y移動的驅動裝置、以及能將基板平台PST於第一方向X及第二方向Y移動的驅動裝置。

遮罩庫LB是將收納有遮罩M的遮罩箱C加以保管的保管部。遮罩庫LB包括多個容納部LBa。多個容納部LBa沿著上 下方向Z而配置。於各容納部LBa，分別收納遮罩箱C。於容納於容納部LBa的遮罩箱C，逐個各別地收納遮罩M。收納有遮罩M的遮罩箱C若由搬運車V來搬運至曝光裝置EX為止，則容納於遮罩庫LB的各容納部LBa。

圖2是表示本實施方式的遮罩箱C的立體圖。

如圖2所示，遮罩箱C包括遮罩收納部CA、及把手部CB。遮罩收納部CA包括收納部本體CA1、及蓋部CA2。收納部本體CA1是於上側開口的俯視矩形狀的箱狀。於收納部本體CA1的內部收納遮罩M。遮罩箱C可設為例如與美國專利申請公開2010/0220304號說明書或國際公開第2016/121635號等所揭示的遮罩箱相同的構成。

蓋部CA2以能拆裝的方式安裝於收納部本體CA1。蓋部CA2將收納部本體CA1的上側的開口堵塞，使收納部本體CA1的內部密閉。在蓋部CA2的外邊緣部，設置有把手部CB。把手部CB是將蓋部CA2開閉時所使用的部分。把手部CB例如設置有三個。

在蓋部CA2的上表面，設置有第一窗部CC1、及第二窗部CC2。第一窗部CC1及第二窗部CC2是於蓋部CA2安裝於收納部本體CA1的狀態下，能辨認遮罩箱C的內部的透明部分。第一窗部CC1及第二窗部CC2例如由透明樹脂等所形成。

第一窗部CC1設置於蓋部CA2的上表面中的外邊緣部。藉由隔著第一窗部CC1，能夠利用讀取器，從遮罩箱C的外 部來讀取收納於遮罩箱C內的遮罩M或者設置於後述遮罩配接器10的被檢測部。本實施方式中，讀取器為條碼讀取器。

第二窗部CC2設置於蓋部CA2的上表面中的中央部。第二窗部CC2例如設置有四個。藉由隔著第二窗部CC2來觀察遮罩箱C的內部，能夠確認遮罩箱C內是否收納有遮罩M。

搬送裝置H1是搬送遮罩箱C的裝置。圖示雖省略，但搬送裝置H1包括能使遮罩箱C於上下方向Z及第二方向Y移動的遮罩箱搬送部。搬送裝置H1利用遮罩箱搬送部，將搬運車V上的遮罩箱C容納於遮罩庫LB的容納部LBa。另外，搬送裝置H1使容納於遮罩庫LB的容納部LBa的遮罩箱C，以已將蓋部CA2拆卸的狀態上升至搬送裝置H1的最上部為止，將遮罩箱C內的遮罩M交接於搬送裝置H2。

搬送裝置H2是將移動至搬送裝置H1的最上部的遮罩箱C內的遮罩M搬送至曝光部EP的裝置。如圖1所示，搬送裝置H2包括載體導件H2a、及載體H2b。載體導件H2a於第一方向X延伸。載體H2b將遮罩M從上側把持而保持。載體H2b沿著載體導件H2a而於第一方向X移動，移動至遮罩平台MST的上側為止。載體H2b將所把持的遮罩M載置於遮罩平台MST上。

腔室CH將曝光部EP、遮罩庫LB、以及搬送裝置H1、搬送裝置H2容納於內部。腔室CH的內部設定為規定環境。

控制裝置CONT對包括搬送裝置H1、搬送裝置H2的運作等的曝光裝置EX整體的運作進行控制。若遮罩M載置於遮罩平台 MST，且基板P載置於基板平台PST，則控制裝置CONT以將遮罩M上的圖案曝光(形成)於基板P上的方式，使遮罩平台MST及基板平台PST，相對於投影單元PL及照明光學系統IL而向第一方向X相對地移動。當將基板P進行曝光時，控制裝置CONT亦可將基板P上的多個目標(shot)區域依序曝光。另外，於多個目標區域於第二方向Y排列而配置的情況下，控制裝置CONT亦可使遮罩平台MST與基板平台PST，相對於投影單元PL及照明光學系統IL而向第二方向Y相對地移動。

其次，對本實施方式的曝光裝置EX所使用的遮罩M進行說明。圖3A是從上側來看本實施方式的遮罩配接器10安裝於遮罩M1的遮罩組件MA的俯視圖。圖3B是從上側來看曝光裝置EX中以單體狀態處理的遮罩M2的俯視圖。圖4是表示本實施方式的遮罩配接器10的一部分的立體圖。圖5是從上側來看本實施方式的遮罩配接器10的一部分的俯視圖。

遮罩M是形成有圖案的玻璃製的板狀構件。本實施方式的曝光裝置EX中所處理的遮罩M包括：如圖3A所示般以安裝有遮罩配接器10的遮罩組件MA的狀態來進行處理的遮罩M1、以及如圖3B所示般以單體狀態進行處理的遮罩M2。遮罩M1以安裝有遮罩配接器10的遮罩組件MA的狀態收納於遮罩箱C內，其以遮罩組件MA的狀態，由搬送裝置H2搬送而配置於遮罩平台MST。另一方面，遮罩M2以單體狀態收納於遮罩箱C內，其以單體狀態由搬送裝置H2搬送而配置於遮罩平台MST。

如圖3A所示，遮罩M1小於以單體狀態進行處理的遮罩M2。遮罩M1的第一方向X的尺寸及第二方向Y的尺寸較遮罩M2的第一方向X的尺寸及第二方向Y的尺寸更短。對遮罩M1安裝有遮罩配接器10的遮罩組件MA是與以單體狀態進行處理的遮罩M2同等的大小。即，遮罩組件MA的第二方向Y的尺寸與遮罩M2的第二方向Y的尺寸大致相等。即，遮罩配接器10可以說是為了使遮罩M1的第二方向Y的尺寸成為與遮罩M2的第二方向Y的尺寸大致相等，而變更大小的變更裝置。另外，遮罩組件MA的第一方向X的尺寸與遮罩M2的第一方向X的尺寸大致相等。即，遮罩配接器10可以說是為了使遮罩M1的第一方向X的尺寸成為與遮罩M2的第一方向X的尺寸大致相等，而變更大小的變更裝置。藉由對遮罩M1安裝遮罩配接器10而設為與遮罩M2同等的大小，則於以單體的狀態使用遮罩M2的曝光裝置EX中，能使用較遮罩M2小的遮罩M1。

遮罩M1在第二方向Y的其中一側(+Y側)的外邊緣部的第一方向X的中央部包括第三被檢測部MB。本實施方式中，第三被檢測部MB為條碼。第三被檢測部MB例如為貼附於遮罩M1的上表面的封條。第三被檢測部MB包含與遮罩M1相關的資訊。與遮罩M1相關的資訊例如包含：遮罩M1的平面度、形成於遮罩M1的圖案的種類、遮罩M1的尺寸誤差、遮罩M1的重量誤差、形成於遮罩M1的圖案的描畫誤差等。遮罩M1即便利用相同的製造方法來製作，亦產生個體差異，儘管差異微小。第三被檢 測部MB中所包含的與遮罩M1相關的資訊包含此遮罩M1的個體差異的資訊。

此外，本說明書中所謂「被檢測部包含資訊」，包括藉由利用讀取器等檢測部來對被檢測部進行檢測，從而讀取器等檢測部能夠獲取此資訊。另外，能讀取被檢測部的讀取器並無特別限定，可為設置於曝光裝置EX的讀取器，亦可為設置於後述遮罩配接器安裝工具20的第二檢測部26，亦可為其他讀取器。此外，如上所述，讀取器可為條碼讀取器，例如亦可為相機(攝像裝置)。

如圖3B所示，以單體形態進行處理的遮罩M2亦包括包含與遮罩M2相關的資訊的被檢測部M2a。設置於遮罩M2的被檢測部M2a設置於遮罩M2中第二方向Y的其中一側(+Y側)的外邊緣部的偏向第一方向X的其中一側(+X側)的部分。設置於遮罩M2的被檢測部M2a例如為條碼，且是貼附於遮罩M2的封條。與遮罩M2相關的資訊包含：遮罩M2的平面度、形成於遮罩M2的圖案的種類、形成於遮罩M2的圖案的描畫誤差等。設置於遮罩M2的被檢測部M2a中所包含的與遮罩M2相關的資訊根據遮罩M2的個體差異而不同。

繼而，對曝光裝置EX所使用且安裝於遮罩M1的本實施方式的遮罩配接器10進行說明。如圖3A所示，沿著上下方向Z來看的俯視圖中，遮罩配接器10是將安裝有遮罩配接器10的遮罩M1的周圍包圍的框狀的構件。本實施方式中，遮罩配接器10是於第一方向X長的矩形框狀。遮罩配接器10的外形與以單 體形態進行處理的遮罩M2的外形、形狀及大小基本上相同。遮罩配接器10是以於遮罩配接器10安裝有遮罩M1時的重量與遮罩M2的重量大致相等的方式來構成。遮罩配接器10包括：框部(被支持部)11、第一被檢測部13、顯示裝置12、支持部16、第一定位部14、第一定位部15、及第二定位部17。框部11及支持部16構成遮罩配接器10的本體部。

框部11是安裝於遮罩M1中形成有圖案的區域外的部分，且支持於遮罩平台MST的部分。框部11具有將遮罩M1的周圍包圍的框狀的形狀。框部11為矩形框狀。框部11包括：第一邊部11a、第二邊部11b、第三邊部11c、及第四邊部11d。第一邊部11a及第二邊部11b於第一方向X延伸，且於第二方向Y空開間隔而配置。第一邊部11a較第二邊部11b而言位於第二方向Y的其中一側(+Y側)。第三邊部11c及第四邊部11d於第二方向Y延伸，且於第一方向X空開間隔而配置。第三邊部11c較第四邊部11d而言位於第一方向X的其中一側(+X側)。第三邊部11c將第一邊部11a的第一方向X的其中一側的端部與第二邊部11b的第一方向X的其中一側的端部連接。第四邊部11d將第一邊部11a的第一方向X的另一側(-X側)的端部與第二邊部11b的第一方向X的另一側的端部連接。

此外，框部11可使多個構件(例如，第一邊部11a~第四邊部11d此四個構件、連結有第一邊部11a及第三邊部11c的構件以及連結有第二邊部11b及第四邊部11d的構件此兩個構件等) 機械性地連結而構成，亦可設為從一塊板，於中央部設置開口而設為一體的構成。

於框部11，形成有將框部11於上下方向Z貫穿的多個切口部11f。切口部11f於第一邊部11a的內邊緣部及第二邊部11b的內邊緣部，分別於第一方向X空開間隔而各設置兩個。切口部11f於框部11的內側開口。換言之，切口部11f是框部11的內側形成切口的部分。

切口部11f於在遮罩配接器10安裝有遮罩M1的狀態下，沿著上下方向Z來看，位於遮罩M1的外側。

第一被檢測部13是能夠由讀取器來讀取資訊的部分。第一被檢測部13配置於框部11的上表面(+Z側的面)。更詳細而言，第一被檢測部13配置於第一邊部11a的外邊緣部的第一方向X的中央稍稍偏向其中一側(+X側)的部分。第一被檢測部13的位置是於遮罩組件MA載置於遮罩箱C內時，於遮罩箱C的蓋部CA2設置的第一窗部CC1的位置與第一方向X及第二方向Y的位置大致重疊的位置，即，於遮罩組件MA載置於遮罩箱C內且蓋部CA2關閉的狀態下，經由第一窗部CC1，讀取器能讀取第二被檢測部MBa的位置。即，第一被檢測部13設置於能夠藉由曝光裝置EX的讀取器(第一檢測部)來檢測的位置。

本實施方式中，第一被檢測部13為條碼。即，第一被檢測部13能由條碼讀取器來讀取資訊。第一被檢測部13例如是貼附於框部11的上表面的封條。

第一被檢測部13包含與遮罩配接器10相關的資訊。與遮罩配接器10相關的資訊包含：於遮罩組件MA即安裝有遮罩配接器10的遮罩M1配置於曝光裝置EX內時，為了對曝光裝置EX內的各單元進行控制而需要的控制資訊(參數)、及遮罩配接器10的各種參數。

控制資訊包含於曝光中用以對遮罩平台MST的移動進行控制的資訊。

具體而言，控制資訊例如包含濾波器(filter)等，所述濾波器根據使遮罩平台MST移動時的控制增益、遮罩配接器10的個體差異來補償各控制參數。遮罩配接器10的各種參數包含：遮罩配接器10的剛性、遮罩配接器10的質量、遮罩配接器10的尺寸、遮罩配接器10的材質等。第一被檢測部13中所包含的與遮罩配接器10相關的資訊根據遮罩配接器10的個體差異而不同。

顯示裝置12配置於框部11的上表面(+Z側的面)。更詳細而言，顯示裝置12配置於第一邊部11a的外邊緣部中偏向第一方向X的其中一側(+X側)的部分。顯示裝置12與第一被檢測部13的第一方向X的其中一側相鄰而配置。

顯示裝置12包括顯示部12a。顯示部12a例如包括電子紙。於顯示部12a，顯示基於輸入至顯示裝置12的資訊的文字及標記等。資訊於顯示裝置12中的輸入、刪除、重寫等由後述的寫入部27來進行。例如，資訊於顯示裝置12中的輸入、刪除、重寫等僅能藉由與此顯示裝置12對應的寫入部27來進行。

第一被檢測部13與顯示部12a於第一方向X相鄰而配置。於遮罩配接器10安裝於遮罩M1的狀態下，顯示部12a顯示第二被檢測部MBa。藉此，第二被檢測部MBa設置於作為被支持部的框部11上，第一被檢測部13與第二被檢測部MBa相鄰而配置。第二被檢測部MBa能由讀取器來讀取資訊而顯示。本實施方式中，第二被檢測部MBa為電子條碼。即，第二被檢測部MBa能藉由條碼讀取器來讀取資訊。

第二被檢測部MBa包含與安裝於遮罩配接器10的遮罩M1相關的資訊。與遮罩M1相關的資訊包含：遮罩M1的平面度、形成於遮罩M1的圖案的種類、遮罩M1的尺寸誤差、遮罩M1的重量誤差、形成於遮罩M1的圖案的描畫誤差中的至少一者。第二被檢測部MBa中所包含的與遮罩M1相關的資訊根據安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的個體差異而不同。

基於設置於遮罩M1的第三被檢測部MB中所包含的資訊經由後述寫入部27等寫入器而輸入至顯示裝置12，第二被檢測部MBa顯示於顯示部12a。即，顯示部12a將設置於遮罩M1的資訊作為與遮罩M1相關的資訊來顯示。本實施方式中，第二被檢測部MBa是與第三被檢測部MB同樣的標記。即，本實施方式中，顯示部12a將與設置於遮罩M1的第三被檢測部MB同樣的標記作為第二被檢測部MBa來顯示。

遮罩組件MA中顯示於顯示部12a的第二被檢測部MBa的位置是於將遮罩組件MA與以單體形態進行處理的遮罩M2於 上下方向Z重疊的情況下，沿著上下方向Z來看，與所述設置於遮罩M2的被檢測部M2a重疊的位置。即，於曝光裝置EX內對遮罩組件MA進行處理時的第二被檢測部MBa相對於曝光裝置EX的各部的相對位置和於曝光裝置EX內對遮罩M2進行處理時的遮罩M2的被檢測部M2a相對於曝光裝置EX的各部的相對位置基本相同。

另外，第二被檢測部MBa的位置是於遮罩組件MA載置於遮罩箱C內時，於遮罩箱C的蓋部CA2設置的第一窗部CC1的位置與第一方向X及第二方向Y的位置大致重疊的位置，即，於遮罩組件MA載置於遮罩箱C內且蓋部CA2關閉的狀態下，讀取器能夠經由第一窗部CC1而讀取第二被檢測部MBa的位置。即，第二被檢測部MBa設置於可由曝光裝置EX的讀取器(第一檢測部)來檢測的位置。

此外，於不對遮罩配接器10更換載置不同的遮罩M1來使用的情況下，不需要資訊對顯示裝置12的輸入、刪除、重寫等，因此於遮罩配接器10，亦可代替顯示裝置12，而設置如第一被檢測部13般列印有與遮罩M1相關的資訊的封條。

支持部16於第一邊部11a的內邊緣部及第二邊部11b的內邊緣部分別各設置有多個。於各邊部，多個支持部16沿著第一方向X，空開間隔而排列配置。各支持部16從各邊部，沿著第二方向Y而向框部11的內側突出。支持部16從下側支持安裝於遮罩配接器10的遮罩M1。藉此，安裝於遮罩配接器10的遮罩 M1相對於遮罩配接器10而於上下方向Z定位。

第一定位部14於第四邊部11d的內邊緣部，於第二方向Y空開間隔而設置有一對。一對第一定位部14分別設置於第四邊部11d的內邊緣部的第二方向Y的兩端部。第一定位部15於第三邊部11c的內邊緣部，於第二方向Y空開間隔而設置有一對。一對第一定位部15分別設置於第三邊部11c的內邊緣部的第二方向Y的兩端部。第一定位部14與第一定位部15於第一方向X夾持安裝於遮罩配接器10的遮罩M1，從而將遮罩M1定位於第一方向X。

第一定位部14包括向框部11的內側(+X側)突出的突出部14a。

突出部14a與遮罩M1的第一方向X的另一側(-X側)的邊緣部接觸。

第一定位部15包括：本體部15a、及彈性部15b。圖示雖省略，但本體部15a利用經由於第一方向X延伸的長孔的螺釘而固定於框部11。即，本體部15a於由螺釘固定之前，於長孔的範圍內能於第一方向X移動。彈性部15b經由彈性鉸鏈而連接於本體部15a。彈性部15b與遮罩M1的第一方向X的其中一側(+X側)的邊緣部接觸。彈性部15b對於遮罩M1，朝向將遮罩M1擠壓於第一定位部14方向施加彈性力。藉此，能於對遮罩M1施加有第一方向X的彈性力的狀態下，將遮罩M1安裝於遮罩配接器10，能夠決定遮罩M1相對於遮罩配接器10的第一方向X的位置。

此外，遮罩M1對於遮罩配接器10的固定可使用夾具零件來進行。於此情況下，亦可利用彈性部15b來對遮罩M1施加朝向第一方向X的彈性力。藉此，能夠使作用於遮罩M1的力於第一方向X集中。

如上所述，第一定位部14與第一定位部15從第一方向X，將遮罩M1固定於遮罩配接器10。遮罩組件MA由於XY平面內的尺寸大，故而當於遮罩平台MST載置遮罩組件MA時，遮罩組件MA的第二方向Y的兩端支持於遮罩平台MST，遮罩組件MA以於YZ平面內向下側凸起的方式變形(撓曲)。於如本實施方式般，由多個投影光學系統來構成投影單元PL的情況下，藉由控制裝置CONT，根據遮罩組件MA的撓曲來分別控制投影單元PL的各投影光學系統，藉此，遮罩組件MA的撓曲的影響不存在，能夠將基板P進行曝光。

此外，於在遮罩平台MST載置有遮罩M2的情況下，亦與遮罩配接器10同樣，遮罩M2以向下側凸起的方式變形(撓曲)。因此，於遮罩M2載置於遮罩平台MST的情況下，以及於遮罩組件MA載置於遮罩平台MST的情況下，均由於遮罩M以於YZ平面內向下側凸起的方式撓曲，故而能藉由控制裝置CONT，以同樣的方式來控制投影單元PL的各投影光學系統。

此外，第一定位部14及第一定位部15分別設置於第一邊部11a及第二邊部11b，亦可將遮罩M1從第二方向Y固定於遮罩配接器10。於此情況下，當遮罩組件MA載置於遮罩平台MST 時，遮罩M1以於XZ平面內向下側凸起的方式變形(撓曲)。於此情況下，控制裝置CONT可於曝光中，以沿著遮罩M1的變形的方式，使基板平台PST一面調整上下方向(Z方向)的位置一面向第一方向X移動。藉此，控制裝置CONT能於曝光中，將基板P的上下方向Z的位置保持於投影單元PL的投影光學系統的聚焦位置。

第二定位部17於第二方向Y夾持遮罩M1而設置有一對。一對第二定位部17分別設置於第一邊部11a的內邊緣部的第一方向X的中央部、以及第二邊部11b的內邊緣部的第一方向X的中央部。一對第二定位部17於第二方向Y夾持安裝於遮罩配接器10的遮罩M1，而將遮罩M1於第二方向Y定位。圖示雖省略，但第二定位部17利用經由於第二方向Y延伸的長孔的螺釘而固定於框部11。即，第二定位部17於由螺釘固定之前，能於長孔的範圍內於第二方向Y移動。

遮罩配接器10包括被辨別部18。被辨別部18是用以利用設置於曝光裝置EX的後述各感測器，來識別遮罩M(遮罩M1)安裝於遮罩配接器10的情況的部分。換言之，被辨別部18是用以利用各感測器，來識別是遮罩組件MA，還是未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2的部分。本實施方式中，被辨別部18包含第一被辨別部18a、及第二被辨別部18b。第一被辨別部18a及第二被辨別部18b設置於框部11的第一邊部11a的外邊緣部。

如圖4所示，第一被辨別部18a設置於框部11。更詳細 而言，第一被辨別部18a埋入至設置於第一邊部11a的凹部11e。

凹部11e從第一邊部11a的上表面向下側凹陷，且向框部11的外側開口。

第一被辨別部18a例如由螺釘固定於凹部11e的底面。第一被辨別部18a包括將光反射的反射部18c。本實施方式中，反射部18c為第一被辨別部18a的上表面的一部分。反射部18c是隨著朝向第一方向X的另一側(-X側)而向位於下側的方向傾斜的傾斜面。反射部18c將從後述感測器(第一感測器)S1射出的光SL向與感測器S1所處的方向不同的方向反射。本實施方式中，反射部18c將從上側射出的光SL，向於第一方向X的另一側傾斜的斜上方反射。

如圖5所示，第二被辨別部18b是貫穿遮罩配接器10的貫穿部。本實施方式中，第二被辨別部18b設置於框部11，是於上下方向Z貫穿第一邊部11a的貫穿孔。第二被辨別部18b例如為於第一方向X上長的長圓狀的孔。第二被辨別部18b使從後述感測器(第二感測器)S4射出的光SL穿過。即，第二被辨別部18b包括從感測器S4射出的光SL所穿過的穿過部(第二穿過部)。

繼而，對將遮罩M1安裝於遮罩配接器10的順序進行說明。本實施方式中，於遮罩配接器10，經由遮罩配接器安裝工具20來安裝遮罩M1。圖6是表示將遮罩M1安裝於遮罩配接器10的本實施方式的遮罩配接器安裝工具20的立體圖。圖7是從上側 (+Z側)來看遮罩配接器安裝工具20的俯視圖。圖8是表示遮罩配接器安裝工具20的剖面圖，且是圖7中的VIII-VIII剖面圖。

本實施方式中，遮罩配接器安裝工具20是於遮罩配接器10安裝遮罩M1的工具，且亦可為從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的工具。本實施方式中，遮罩配接器安裝工具20藉由相對於遮罩配接器10，使遮罩M1於上下方向Z移動，來進行遮罩M1對遮罩配接器10的安裝、以及遮罩M1從遮罩配接器10上的拆卸。

如圖6至圖8所示，遮罩配接器安裝工具20包括：基部21、引導部22a、引導部22b、引導部22c、可動部24、升降裝置23、一對遮罩保持部25、第二檢測部26、寫入部27、及第三檢測部28。

此外，於圖6及圖8中，省略了第二檢測部26、寫入部27及第三檢測部28的圖示。另外，於圖7中省略了基部21及升降裝置23的圖示。

如圖6所示，基部21沿著上下方向Z來看，是於第一方向X的另一側(-X側)開口的有稜角的U字狀。基部21包括：柱部21a、柱部21b、柱部21c及多個足部21d。柱部21a於第二方向Y延伸。柱部21b從柱部21a中第二方向Y的另一側(-Y側)的端部向第一方向X的另一側(-X側)延伸。柱部21c從柱部21a中第二方向Y的其中一側(+Y側)的端部向第一方向X的另一側延伸。多個足部21d從柱部21a、柱部21b、柱部21c向下側延伸。遮罩配接器安裝工具20經由多個足部21d而設置於地面。

如圖8所示，於有稜角的U字狀的基部21的內側，搭載有遮罩箱C的搬運車V能夠從第一方向X的另一側(-X側)的開口中進入。進入基部21的內側的搬運車V所搭載的遮罩箱C是已將蓋部CA2拆卸的狀態，於內部收納有遮罩配接器10。

如圖6所示，引導部22a從柱部21a的第二方向Y的中央部向上側延伸。引導部22b從柱部21b的第一方向X的另一側(-X側)的端部向上側延伸。引導部22c從柱部21c的第一方向X的另一側的端部向上側延伸。

可動部24沿著上下方向Z來看，是於第一方向X的另一側(-X側)開口的有稜角的U字狀。可動部24支持於引導部22a、引導部22b、引導部22c，配置於較基部21更上側。可動部24能夠沿著引導部22a、引導部22b、引導部22c而於上下方向Z移動。

可動部24包括柱部24a、柱部24b、柱部24c。柱部24a於第二方向Y延伸。柱部24a的第二方向Y的中央部與引導部22a連結。柱部24b從柱部24a中第二方向Y的另一側(-Y側)的端部向第一方向X的另一側(-X側)延伸。柱部24b的第一方向X的另一側的端部與引導部22b連結。柱部24c從柱部24a中第二方向Y的其中一側(+Y側)的端部向第一方向X的另一側(-X側)延伸。柱部24c的第一方向X的另一側的端部與引導部22c連結。於柱部24b及柱部24c的各自的上表面，設置有在第一方向X延伸的軌道部24d。

升降裝置23設置於柱部21a的第二方向Y的中央部。升降裝置23是能夠沿著引導部22a、引導部22b、引導部22c，使可動部24於上下方向Z移動的裝置。升降裝置23包括手柄部23a。作業者能夠藉由轉動手柄部23a，而使可動部24於上下方向Z移動。升降裝置23藉由使可動部24於上下方向Z移動，而使保持於遮罩保持部25的遮罩M1於上下方向Z移動。

一對遮罩保持部25安裝於可動部24，能與可動部24一併於上下方向Z移動。一對遮罩保持部25於第一方向X空開間隔而配置。一對遮罩保持部25例如於第一方向X相互對稱地配置。

一對遮罩保持部25分別包括：軌道部25a、一對第一滑動部25e、一對第二滑動部25b、一對臂部25c、以及一對手部25d。軌道部25a於第二方向Y延伸。軌道部25a的第二方向Y的兩端部經由一對第一滑動部25e的每一個，而連結於柱部24b、柱部24c各自的軌道部24d上。藉由一對第一滑動部25e沿著軌道部24d而於第一方向X移動，軌道部25a能於第一方向X移動。

一對第二滑動部25b沿著第二方向Y而配置於軌道部25a上。一對第二滑動部25b能沿著軌道部25a而於第二方向Y移動。一對臂部25c從一對第二滑動部25b的各自的第一方向X的側面向下側延伸。一對手部25d分別固定於一對臂部25c的下側的端部。臂部25c及手部25d能經由第二滑動部25b而於第二方向Y移動。

一對手部25d從遮罩M1的第二方向Y的兩側分別接 近，能夠把持遮罩M1的第二方向Y的邊緣部。本實施方式中，遮罩保持部25設置有一對，因此能夠利用合計四個的手部25d來把持遮罩M1，加以保持。於由一對遮罩保持部25來保持遮罩M1的狀態下，能夠藉由利用升降裝置23，使可動部24於上下方向Z移動，而使遮罩M1於上下方向Z移動。

如圖7所示，第二檢測部26安裝於柱部24c。第二檢測部26從柱部24c向第二方向Y的另一側(-Y側)突出。第二檢測部26於第二方向Y的另一側的端部，包括檢測本體部26a。檢測本體部26a位於由遮罩配接器安裝工具20所保持的遮罩M1的第三被檢測部MB的上側。檢測本體部26a藉由從上側對作為條碼的第三被檢測部MB照射光，且讀取來自第三被檢測部MB的反射光，能夠讀取第三被檢測部MB中所包含的資訊。藉此，第二檢測部26能對設置於遮罩M1的包含與遮罩M1相關的資訊的第三被檢測部MB進行讀取來檢測。第二檢測部26若讀取第三被檢測部MB，則將所讀取的資訊發送至寫入部27。

寫入部27安裝於柱部24c。寫入部27配置於第二檢測部26的第一方向X的其中一側(+X側)。寫入部27從柱部24c向第二方向Y的另一側(-Y側)突出。寫入部27中第二方向Y的另一側的端部位於進入基部21的內側的搬運車V所搭載的遮罩箱C內的遮罩配接器10的上側。

寫入部27能夠對遮罩配接器10所包括的顯示裝置12，發送從第二檢測部26輸送的資訊。藉此，寫入部27使包含第三 被檢測部MB中所含的資訊的第二被檢測部MBa，顯示於設置在遮罩配接器10的顯示部12a。即，寫入部27基於由第二檢測部26從第三被檢測部MB所檢測到的(讀取到的)資訊，於遮罩配接器10的顯示部12a顯示第二被檢測部MBa。寫入部27對顯示裝置12輸送訊號，亦能刪除顯示部12a的顯示。

第三檢測部28安裝於柱部24b。第三檢測部28包括延伸部28a、第一測定部28b、及第二測定部28c。延伸部28a從柱部24b向第二方向Y的其中一側(+Y側)延伸。延伸部28a中第二方向Y的其中一側的端部位於由遮罩配接器安裝工具20所保持的遮罩M1的上側。

第一測定部28b及第二測定部28c設置於延伸部28a。第一測定部28b位於進入基部21的內側的搬運車V所搭載的遮罩箱C內的遮罩配接器10的上側。第一測定部28b能夠測定遮罩配接器10的上下方向Z的位置。第二測定部28c位於由遮罩配接器安裝工具20所保持的遮罩M1的上側。第二測定部28c能夠測定遮罩M1的上下方向Z的位置。第一測定部28b及第二測定部28c例如為雷射位移計。

第三檢測部28能基於由第一測定部28b所測定的遮罩配接器10的上下方向Z的位置、及由第二測定部28c所測定的遮罩配接器10的上下方向Z的位置，來檢測是否於遮罩M1安裝有遮罩配接器10。

具體而言，第三檢測部28根據第一測定部28b的測定 結果及第二測定部28c的測定結果，來算出遮罩M1與遮罩配接器10的上下方向Z的相對位置。

此處，於第三檢測部28，儲存有遮罩M1安裝於遮罩配接器10的狀態下的遮罩M1與遮罩配接器10的上下方向Z的相對位置資訊。於所算出的遮罩M1的相對位置與安裝於遮罩配接器10的狀態下的遮罩M1的相對位置相同的情況下，第三檢測部28判斷為遮罩M1安裝於遮罩配接器10。

另一方面，於所算出的遮罩M1的相對位置為較安裝於遮罩配接器10的狀態下的遮罩M1的相對位置更上側的情況下，第三檢測部28判斷為遮罩M1從遮罩配接器10拆卸。藉此，第三檢測部28能夠檢測：於遮罩配接器10安裝有遮罩M1的情況、以及已從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的情況。

於遮罩M1相對於遮罩配接器10的相對位置變化為上側的情況下，第三檢測部28判斷為已從遮罩配接器10拆卸遮罩M1。藉此，第三檢測部28能夠檢測已從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的情況。第三檢測部28能將檢測結果發送至第二檢測部26及寫入部27。

作業者使用所述遮罩配接器安裝工具20，將遮罩M1安裝於遮罩配接器10。首先，作業者使遮罩M1保持於遮罩配接器安裝工具20。作業者使配置於未圖示的升降機上的遮罩M1連同升降機一起進入基部21的內側，利用升降機而使遮罩M1上升至遮罩保持部25的上下方向Z的位置為止。繼而，作業者使各手部 25d於第二方向Y移動，使藉由升降機而上升的遮罩M1的外邊緣部由各手部25d來把持。藉此，作業者能使遮罩M1保持於遮罩配接器安裝工具20。

接著，作業者將升降機取出至基部21的外側後，如圖8所示，使搭載有遮罩箱C的搬運車V進入基部21的內側。如上所述，此時成為遮罩箱C的蓋部CA2被摘除的狀態，於遮罩箱C的內部配置有遮罩配接器10。因此，收納部本體CA1於上側開口，遮罩配接器10經由收納部本體CA1的開口而於上側露出。

繼而，作業者轉動升降裝置23的手柄部23a而使遮罩M1連同可動部24及遮罩保持部25一起向下側移動，使遮罩M1從上側接近遮罩配接器10。藉此，作業者使遮罩M1移動至藉由遮罩配接器10的支持部16而從下側支持的位置為止，從而將遮罩M1配置於遮罩配接器10的內側。即，升降裝置23使位於遮罩配接器10的上方的遮罩M1下降，於俯視時具有將遮罩M1的周圍包圍的框狀的遮罩配接器10的內側配置遮罩M1。此時，各手部25d***至設置於遮罩配接器10的切口部11f。因此，手部25d不會對遮罩配接器10產生干擾，能夠使遮罩M1移動至遮罩配接器10藉由支持部16而從下側支持的位置為止。

然後，作業者對遮罩M1的第一方向X的位置進行微調整，與遮罩配接器10的第一定位部14的突出部14a碰觸。藉此，遮罩M1相對於遮罩配接器10而於第一方向X定位。而且，作業者使第一定位部15的本體部15a沿著未圖示的長孔而於第一方向 X移動，使彈性部15b與遮罩M1接觸。然後，作業者將本體部15a以螺釘固定於框部11。藉此，能夠將遮罩M1相對於遮罩配接器10而於第一方向X固定。

繼而，作業者使第二定位部17沿著未圖示的長孔而於第二方向Y移動，與遮罩M1接觸，將第二定位部17以螺釘固定於框部11。藉此，能夠將遮罩M1相對於遮罩配接器10而於第二方向Y固定。藉由以上，作業者能夠將遮罩M1安裝於遮罩配接器10。

若遮罩M1安裝於遮罩配接器10，則藉由第三檢測部28來檢測遮罩M1安裝於遮罩配接器10的情況，第三檢測部28的檢測結果發送至第二檢測部26。從第三檢測部28接收檢測結果的第二檢測部26對遮罩M1的第三被檢測部MB進行讀取，將讀取的資訊發送至寫入部27。從第二檢測部26接收對第三被檢測部MB進行讀取而得的資訊的寫入部27對遮罩配接器10的顯示裝置12發送此資訊，於顯示部12a顯示第二被檢測部MBa。

此外，嚴格而言，於遮罩M1藉由支持部16而從下側支持，且配置於遮罩配接器10的內側的時間點，本實施方式的第三檢測部28檢測遮罩M1安裝於遮罩配接器10的情況，將檢測結果發送至第二檢測部26。即，本實施方式中，例如，當利用所述第一定位部14、第一定位部15以及第二定位部17來將遮罩M1固定於遮罩配接器10時，第二檢測部26及寫入部27以所述方式運作，於顯示部12a顯示第二被檢測部MBa。

遮罩M1對遮罩配接器10的安裝、以及利用寫入部27的對顯示部12a的寫入結束後，作業者使手部25d於切口部11f內在第二方向Y移動，將手部25d從遮罩M1拆卸。然後，作業者將升降裝置23的手柄部23a向與安裝時相反的方向轉動，使可動部24及遮罩保持部25上升，返回至原來的位置。然後，作業者將搬運車V取出至基部21的外側，於遮罩箱C的收納部本體CA1安裝蓋部CA2。

將遮罩M1安裝於遮罩配接器10的遮罩組件MA加以收納的遮罩箱C藉由搬運車V而搬送至曝光裝置EX的遮罩庫LB為止，藉由搬送裝置H1而容納於容納部LBa。此時，曝光裝置EX的控制裝置CONT對收納於搬送至容納部LBa的遮罩箱C內的遮罩M的資訊進行讀取、儲存。

具體而言，例如，控制裝置CONT藉由利用設置於搬送裝置H1的未圖示的讀取器，經由第一窗部CC1來讀取標記等被檢測部，從而檢測遮罩M的狀態。於遮罩M為安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的情況下，設置於搬送裝置H1的未圖示的讀取器(第一檢測部)讀取遮罩配接器10的第一被檢測部13以及顯示於顯示部12a的第二被檢測部MBa。藉此，控制裝置CONT識別出所收納的遮罩M為安裝於遮罩配接器10的遮罩M1，且將第一被檢測部13中所包含的與遮罩配接器10相關的資訊、及第二被檢測部MBa中所包含的與遮罩M1相關的資訊加以儲存。

另一方面，於遮罩M為以單體形態進行處理的遮罩M2 的情況下，設置於搬送裝置H1的未圖示的讀取器僅對設置於遮罩M2的被檢測部M2a進行讀取。藉此，控制裝置CONT識別出所收納的遮罩M為未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2，且將遮罩M2的被檢測部M2a中所包含的與遮罩M2相關的資訊加以儲存。控制裝置CONT將如上所述於遮罩庫LB的各容納部LBa所容納的遮罩箱C內的遮罩M的資訊進行列表化而儲存。

繼而，使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1，對在曝光裝置EX中將基板P進行曝光的順序進行說明。圖9是表示使用遮罩組件MA，即安裝於遮罩配接器10的遮罩M1，於曝光裝置EX中將基板P進行曝光的順序的一部分的俯視圖。

首先，控制裝置CONT使作為下一基板P的曝光所使用的遮罩M而安裝於遮罩配接器10的遮罩M1，藉由搬送裝置H1、搬送裝置H2而搬送至遮罩平台MST為止。搬送裝置H1藉由未圖示的遮罩箱搬送部，而使收納有所使用的遮罩M1的遮罩箱C從容納部LBa內移動至搬送裝置H1的最上部為止。此時，遮罩箱搬送部於將蓋部CA2拆卸而殘留於容納部LBa內的狀態下，使遮罩箱C移動。

控制裝置CONT於利用搬送裝置H1的遮罩箱搬送部而拆卸蓋部CA2後，於使遮罩箱C移動之前，利用設置於搬送裝置H1的未圖示的讀取器，來讀取設置於遮罩箱C內的遮罩M的被檢測部，藉此對遮罩M進行檢測。藉此，控制裝置CONT確認所搬送的遮罩M是否為下一基板P的曝光所使用的遮罩M。控制裝 置CONT基於由讀取器所讀取的資訊，確認所搬送的遮罩M無誤之後，利用搬送裝置H1的遮罩箱搬送部，使收納有遮罩M的遮罩箱C移動至搬送裝置H1的最上部為止。

控制裝置CONT中，當於遮罩庫LB收納有遮罩箱C時，遮罩M的資訊被列表化而儲存，但當如上所述將所使用的遮罩M搬送時，讀取遮罩M的被檢測部而再次確認遮罩M，藉此能抑制將錯誤的遮罩M搬送至曝光部EP。於判斷為所搬送的遮罩M錯誤的情況下，控制裝置CONT以使遮罩M返回至遮罩庫LB的方式，來控制搬送裝置H1。

搬送裝置H2將移動至搬送裝置H1的最上部的遮罩箱C內所收納的遮罩M1，如圖9所示般，連同遮罩配接器10一起由載體H2b來把持，從遮罩箱C內取出。如圖9所示，載體H2b包括：載體本體部H2c、及從載體本體部H2c向第二方向Y突出的多個爪部H2d。爪部H2d例如於載體本體部H2c的第二方向Y的兩邊緣部各設置兩個，合計四個。載體H2b利用四個爪部H2d，將遮罩M1安裝於遮罩配接器10的遮罩組件MA於第二方向Y夾持而把持。更詳細而言，載體H2b利用爪部H2d，將遮罩配接器10夾持而把持。此外，於將單體的遮罩M2搬送時，載體H2b利用爪部H2d將遮罩M2夾持而把持。

此處，於利用載體H2b來把持遮罩M時，控制裝置CONT使用設置於載體H2b的感測器S1、感測器S2、感測器S3，來識別載體H2b所把持的遮罩M是安裝於遮罩配接器10的遮罩M1， 還是以單體形態進行處理的遮罩M2。感測器S1、感測器S2、感測器S3例如是於所射出的光反射至遮罩配接器10或遮罩M2，且接收其反射光的情況下成為開啟(ON)狀態，且於不接收反射光的情況下成為關閉(OFF)狀態的感測器。

感測器S1設置於成為能識別第一被辨別部18a的位置的載體本體部H2c，所述第一被辨別部18a設置於遮罩M的第二方向Y的其中一側(+Y側)的端部。雖未圖示，但感測器S1包括：光SL的射出部、及能將光SL被反射而成的反射光接收的受光部。如圖4所示，感測器S1於載體H2b把持遮罩組件MA的情況下，位於遮罩配接器10的第一被辨別部18a的上側。感測器S1的射出部對第一被辨別部18a射出光SL。更詳細而言，感測器S1朝向第一被辨別部18a的反射部18c而從上側射出光SL。如上所述，反射部18c具有隨著朝向第一方向X的另一側(-X側)而向位於下側的方向傾斜的傾斜面，故而於載體H2b把持遮罩組件MA的情況下，從感測器S1射出的光SL藉由反射部18c而向與感測器S1所處的方向不同的方向反射。因此，感測器S1的受光部不接收從第一被辨別部18a反射的光SL，成為關閉(OFF)狀態。

如圖9所示，感測器S2、感測器S3分別設置於載體本體部H2c的第一方向X的兩端部。感測器S2、感測器S3雖未圖示，但與感測器S1同樣，包括：光SL的射出部、及將光SL被反射而成的反射光接收的受光部。於載體H2b把持遮罩組件MA的情況下，感測器S2、感測器S3位於遮罩M1的上側。感測器S2、 感測器S3各自的射出部朝向遮罩M1而從上側射出光SL。從感測器S2、感測器S3射出的光SL由遮罩M1反射，被感測器S2、感測器S3各自的受光部接收。因此，感測器S2、感測器S3成為開啟(ON)狀態。

如上所述，於載體H2b把持遮罩組件MA的情況下，感測器S1成為關閉(OFF)狀態，感測器S2、感測器S3成為開啟(ON)狀態。於此情況下，控制裝置CONT檢測載體H2b把持有遮罩組件MA的情況，識別出所搬送的遮罩M為遮罩M1。

另一方面，於載體H2b把持有以單體形態進行處理的遮罩M2的情況下，感測器S1、感測器S2、感測器S3中的任一者均成為開啟(ON)狀態。遮罩M2由於不包括如第一被辨別部18a般的反射部18c，故而感測器S1的受光部接收向遮罩M2射出的光SL由遮罩M2反射而成的此反射光。藉此，感測器S1成為開啟(ON)狀態。感測器S2、感測器S3與載體H2b把持有遮罩組件MA的情況同樣，射出的光SL由遮罩M2反射而由各感測器S2、感測器S3分別接收。藉此，感測器S2、感測器S3均成為開啟(ON)狀態。如此，於感測器S1、感測器S2、感測器S3成為開啟(ON)狀態的情況下，控制裝置CONT檢測載體H2b把持有以單體形態進行處理的遮罩M2的情況，識別出所搬送的遮罩M為遮罩M2。

如以上所述，第一被辨別部18a用於使曝光裝置EX識別以下情況：藉由設置於曝光裝置EX內的搬送裝置H2的感測器 S1，搬送裝置H2將未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2搬送至遮罩平台MST，或搬送裝置H2將安裝有遮罩M1的遮罩配接器10向遮罩平台MST搬送。

此外，於載體H2b未把持任何物體的情況下，從感測器S1、感測器S2、感測器S3射出的光SL不反射至任何部位，各感測器S1、感測器S2、感測器S3的受光部不接收其反射光。因此，感測器S1、感測器S2、感測器S3均成為關閉(OFF)狀態。於此情況下，控制裝置CONT檢測出載體H2b未把持任何物體的情況。

控制裝置CONT判斷以所述方式來識別的遮罩M是否與所使用的遮罩M一致。於遮罩M與所使用的遮罩M一致的情況下，控制裝置CONT使載體H2b沿著載體導件H2a而移動，將遮罩M配置於遮罩平台MST。另一方面，於經識別的遮罩M與所使用的遮罩M不一致的情況下，將由載體H2b所把持的遮罩M返回至遮罩箱C，再次搬送與所使用的遮罩M一致的其他遮罩M。本說明中，控制裝置CONT判斷為載體H2b所把持的遮罩M1與所使用的遮罩M一致，將遮罩M1以安裝於遮罩配接器10的遮罩組件MA的狀態配置於遮罩平台MST。此外，載體H2b所包括的感測器的數量並不限定於三個，亦可為四個以上。

圖10是從上側來看配置有遮罩組件MA的狀態的遮罩平台MST的俯視圖。圖11是從上側來看配置有遮罩組件MA的狀態的遮罩平台MST的一部分的俯視圖。

如圖10所示，遮罩平台MST為矩形框狀，藉由內邊緣部而從下側支持遮罩配接器10的外邊緣部。即，遮罩平台MST經由作為被支持部的框部11，而支持安裝有遮罩M1的遮罩配接器10。遮罩平台MST吸附保持遮罩配接器10。遮罩平台MST的遮罩配接器10的支持方法例如是國際公開第2017/038,788號說明書所揭示的方法。於遮罩平台MST的內邊緣部，設置有於上下方向Z貫穿遮罩平台MST的貫穿部PH。當藉由載體H2b而將遮罩組件MA配置於遮罩平台MST時，載體H2b的爪部H2d***貫穿部PH。藉此，爪部H2d不會與遮罩平台MST干擾，能藉由載體H2b而將遮罩組件MA配置於遮罩平台MST上。

如圖5及圖11所示，於遮罩平台MST設置有感測器S4、感測器S5。如圖5及圖11所示，感測器S4、感測器S5與感測器S1、感測器S2、感測器S3同樣，包括光SL的射出部、以及將光SL被反射而成的光接收的受光部。感測器S4、感測器S5是於從射出部射出的光由遮罩組件MA或遮罩M2反射，且受光部接收其反射光的情況下成為開啟(ON)狀態，於不接收反射光的情況下成為關閉(OFF)狀態的感測器。

如圖5所示，感測器S4於上側包括射出光SL的射出部S4a。於在遮罩平台MST配置有遮罩組件MA的狀態下，射出部S4a位於作為貫穿部的第二被辨別部18b的下側。感測器S4從射出部S4a對第二被辨別部18b射出光。

如圖11所示，感測器S5於上側包括射出光SL的射出 部S5a。

於在遮罩平台MST配置有遮罩組件MA的狀態下，射出部S5a位於遮罩配接器10的框部11的角部11g的下側。

此外，於配置於遮罩平台MST的遮罩M為以單體形態進行處理的遮罩M2的情況下，感測器S4、感測器S5的各射出部S4a、射出部S5a位於遮罩M2的下側。

此處，當於遮罩平台MST配置有遮罩M時，控制裝置CONT使用感測器S4、感測器S5，來識別所配置的遮罩M是安裝有遮罩配接器10的遮罩M1，還是以單體形態進行處理的遮罩M2。

於配置於遮罩平台MST的遮罩M為遮罩M1安裝於遮罩配接器10的遮罩組件MA的情況下，從感測器S4射出的光SL穿過作為貫穿部的第二被辨別部18b。因此，感測器S4的受光部不接收反射光，成為關閉(OFF)狀態。另外，於配置於遮罩平台MST的遮罩M為遮罩M1的情況下，從感測器S5射出的光SL由遮罩配接器10的角部11g所反射，且被感測器S5接收。因此，感測器S5成為開啟(ON)狀態。於感測器S4成為關閉(OFF)狀態，且感測器S5成為開啟(ON)狀態的情況下，控制裝置CONT識別出在遮罩平台MST配置有遮罩組件MA。

另一方面，於在遮罩平台MST配置有以單體形態進行處理的遮罩M2的情況下，從感測器S4、感測器S5各自的射出部S4a、射出部S5a射出的光SL均被遮罩M2反射，且被各受光部接收。因此，感測器S4及感測器S5均成為開啟(ON)狀態。於 此情況下，控制裝置CONT識別出配置於遮罩平台MST的遮罩M為以單體形態進行處理的遮罩M2。

如以上所述，第二被辨別部18b用於利用設置於遮罩平台MST的感測器S4，來識別是安裝有遮罩M1的遮罩配接器10的框部11支持於遮罩平台MST，還是未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2支持於遮罩平台MST。

此外，於在遮罩平台MST未載置任何物體的情況下，從感測器S4、感測器S5射出的光SL未反射至任何部位，各感測器S4、感測器S5的受光部不接收其反射光。因此，感測器S4、感測器S5均成為關閉(OFF)狀態。於此情況下，控制裝置CONT檢測於遮罩平台MST未載置任何物體的情況。

控制裝置CONT判斷以所述方式來識別的遮罩M是否與所使用的遮罩M一致。控制裝置CONT於遮罩M與所使用的遮罩M一致的情況下，控制曝光部EP，開始進行基板P的曝光。另一方面，於所識別的遮罩M與所使用的遮罩M不一致的情況下，將配置於遮罩平台MST的遮罩M返回至遮罩箱C，再次搬送與所使用的遮罩M一致的其他遮罩M。控制裝置CONT使用感測器S4、感測器S5來再次識別再次搬送的其他遮罩M是否與所使用的遮罩M一致，反覆進行所述作業直至一致為止。本說明中，控制裝置CONT判斷為配置於遮罩平台MST的遮罩M1與所使用的遮罩M一致，使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1來開始進行基板P的曝光。

於使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1來對基板P進行曝光的情況下，控制裝置CONT基於從第一被檢測部13及第二被檢測部MBa讀取的資訊，來控制遮罩平台MST的移動，進行基板P的曝光。

本實施方式中，控制裝置CONT於進行基板P的曝光之前，使用從各被檢測部及各被辨別部獲得的資訊，來變更投影單元PL的設定。以下的說明中，將從各被檢測部及各被辨別部獲得的資訊稱為「識別資訊」。控制裝置CONT若基於識別資訊，來識別為搭載於遮罩平台MST的遮罩M為安裝於遮罩配接器10的狀態的遮罩M1，則對設置於投影單元PL所包括的各投影光學系統內的各修正機構進行控制。

具體而言，控制裝置CONT基於識別資訊中，當於遮罩平台MST支持有遮罩M時的所述遮罩M的大小或個體差異的資訊，來控制各修正機構。由於根據遮罩M的大小或個體差異，遮罩M的撓曲狀況改變，故而控制裝置CONT根據由遮罩M的大小或個體差異所引起的撓曲的不同，來控制各修正機構。

此外，控制裝置CONT可為於藉由搬送裝置H1、搬送裝置H2，將遮罩M載置於遮罩平台MST為止的期間進行所述修正機構的控制。於此情況下，能夠於遮罩M載置於遮罩平台MST之後即刻進行基板P的曝光處理。

於使用遮罩組件MA來檢測曝光裝置EX將基板P進行曝光的情況下，控制裝置CONT控制照明光學系統IL，對基板P 進行曝光時，對投影單元PL中所包含的多個投影光學系統中位於第二方向Y的兩端的投影光學系統不供給曝光光EL。此處，於遮罩配接器10，未形成圖案，若向位於第二方向Y的兩端的投影光學系統射出來自照明光學系統IL的光，則於曝光光EL射入投影光學系統之前反射至遮罩配接器10，於曝光部EP內成為雜訊光，存在成為曝光不良的原因的顧慮。因此，藉由將從照明光學系統IL對遮罩組件MA射出的曝光光EL的一部分進行遮光等，從照明光學系統IL向位於第二方向Y的兩端的投影光學系統不供給曝光光EL，藉此能夠抑制曝光不良產生。於此情況下，控制裝置CONT亦不變更修正機構，所述修正機構設置於位於第二方向Y的兩端的投影光學系統，將聚焦位置、偏移量、像面傾斜等進行變更。此外，不供給來自照明光學系統IL的曝光光EL的投影光學系統並非僅限於位於第二方向Y的兩端的投影光學系統，是根據安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的大小來適宜決定。

若使用遮罩M1的曝光結束，則控制裝置CONT藉由搬送裝置H2將配置於遮罩平台MST的遮罩組件MA返回至原來的遮罩箱C內，藉由搬送裝置H1將收納有遮罩組件MA的遮罩箱C容納於遮罩庫LB的容納部LBa。

繼而，對將安裝於遮罩配接器10的遮罩M1從曝光裝置EX內取出，將遮罩M1從遮罩配接器10拆卸的順序進行說明。

控制裝置CONT若接收與從曝光裝置EX取出的遮罩箱C有關的資訊，則藉由搬送裝置H1而將符合的遮罩箱C積載於搬運車 V上。藉此，能夠利用搬運車V，將遮罩箱C取出至曝光裝置EX的外部。

本說明中，經取出的遮罩箱C中所收納的遮罩M為安裝於遮罩配接器10的遮罩M1。

作業者將利用搬運車V而取出至曝光裝置EX的外部的遮罩箱C的蓋部CA2拆卸，將遮罩M1對於遮罩配接器10的固定解除。具體而言，作業者將遮罩配接器10的第一定位部15及第二定位部17的螺釘取下，將第一定位部15及第二定位部17設為從遮罩M1分離的狀態。

繼而，作業者使積載有蓋部CA2已被拆卸的遮罩箱C的搬運車V，進入遮罩配接器安裝工具20的基部21的內側。然後，作業者將升降裝置23的手柄部23a轉動而使可動部24及遮罩保持部25向下側移動，經由手部25d而使遮罩M1保持於遮罩保持部25。使遮罩M1保持於遮罩保持部25後，作業者將手柄部23a向反方向轉動，使遮罩M1與可動部24及遮罩保持部25一併向上側移動，從遮罩配接器10拆卸。

此處，當遮罩M1相對於遮罩配接器10而向上側移動來拆卸時，設置於遮罩配接器安裝工具20的第三檢測部28對如上所述從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的情況進行檢測，將檢測結果發送至寫入部27。接收到檢測結果的寫入部27對遮罩配接器10的顯示裝置12傳送訊號，將顯示於顯示部12a的第二被檢測部MBa刪除。如此一來，於利用第三檢測部28來對已從遮罩配接器 10拆卸遮罩M1的情況進行檢測的情況下，寫入部27將顯示部12a的顯示刪除。

作業者使遮罩M1向上側移動而從遮罩配接器10拆卸後，將搬運車V取出至基部21的外側，取而代之的是使未圖示的升降機進入基部21的內側。而且，作業者使升降機上升至遮罩M1的高度為止，於升降機上積載遮罩M1。作業者於遮罩M1配置於升降機上的狀態下，使手部25d於第二方向Y移動，從遮罩保持部25拆卸遮罩M1。而且，作業者使配置有遮罩M1的升降機下降，從基部21的內側取出。然後，作業者使用升降機，將遮罩M1搬送至規定的保管場所。

此外，當於曝光裝置EX中再次使用遮罩M1時，與所述順序同樣，於遮罩配接器10安裝遮罩M1。此時，於安裝於遮罩配接器10的遮罩M1為與上次安裝的遮罩M1不同的其他遮罩M1的情況下，於顯示部12a，顯示出與上次不同的第二被檢測部MBa。即，若於遮罩配接器10安裝其他遮罩M1，則顯示部12a顯示與其他的遮罩M1相關的資訊。

例如，遮罩配接器10由於製造誤差等而產生個體差異。因此，每個遮罩配接器10的剛性等參數不同，遮罩平台MST上的撓曲、以及使遮罩平台MST移動時的行為等不同。藉此，即便將使用安裝有遮罩配接器10的遮罩M1的情況下的控制資訊預先輸入至控制裝置CONT，亦由於個體差異而使遮罩配接器10的參數不均，藉此存在曝光精度下降的情況。尤其於基板P為平板顯 示器用的基板的情況下，基板P比較大，遮罩配接器10及遮罩M1亦比較大。因此，即便由於微小的製造誤差等，曝光中的遮罩M1及遮罩配接器10的行為亦大幅度變化，存在曝光精度大幅度下降的情況。

與此相對，根據本實施方式，遮罩配接器10包括包含與遮罩配接器10相關的資訊的第一被檢測部13。因此，藉由在曝光裝置EX中讀取第一被檢測部13，能夠進行與遮罩配接器10的個體差異相應的曝光。藉此，當使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1時，能夠提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，第一被檢測部13中所包含的與遮罩配接器10相關的資訊包含用以於曝光中對遮罩平台MST的移動進行控制的控制資訊。

因此，例如能對將安裝於遮罩配接器10的遮罩M1加以保持的遮罩平台MST，於曝光中適當地進行控制而移動。藉此，能夠進一步提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，第一被檢測部13中所包含的與遮罩配接器10相關的資訊包含遮罩配接器10的剛性。作為遮罩配接器10的參數，遮罩配接器10的剛性尤其容易對遮罩平台MST的移動控制造成影響。具體而言，遮罩平台MST於曝光中，應該於第一方向X大致直線前進而移動，但若無遮罩配接器10的相關資訊，則存在一面於第二方向Y蜿蜒，或於θz方向旋轉，一面向第一方向X移動的可能性。因此，藉由在第一被檢測部13所 包含的資訊中包含遮罩配接器10的剛性，能於曝光中，使遮罩平台MST更高精度地向第一方向X移動。藉此，能夠進一步提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，第一被檢測部13為條碼。因此，能夠容易利用曝光裝置EX來讀取第一被檢測部13。另外，例如，藉由將第一被檢測部13印刷於封條而貼附於遮罩配接器10，能夠將第一被檢測部13容易地設置於遮罩配接器10。

另外，例如與遮罩配接器10同樣，遮罩M的參數亦由於個體差異而產生不均。因此，於遮罩M，設置有包含與遮罩M相關的資訊的被檢測部。於使用以單體形態進行處理的遮罩M2來作為遮罩M的情況下，控制裝置CONT利用曝光裝置EX內的讀取器，來讀取設置於遮罩M2的被檢測部M2a，藉此根據遮罩M2的個體差異來調整曝光中的控制。但是，安裝於遮罩配接器10的遮罩M1小於以單體狀態使用的遮罩M2。

因此，對安裝於遮罩配接器10的遮罩M1所設置的第三被檢測部MB與設置於以單體狀態使用的遮罩M2的被檢測部M2a相比，相對於曝光裝置EX的各部的相對位置不同，存在無法利用曝光裝置EX內的讀取器來讀取、或者難以讀取的情況。

與此相對，根據本實施方式，遮罩配接器10包括第二被檢測部MBa，所述第二被檢測部MBa包含與安裝於遮罩配接器10的遮罩M1相關的資訊。因此，藉由在與對以單體狀態使用的遮罩M2設置的被檢測部M2a相同的相對位置，設置第二被檢測 部MBa，即便是使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的情況，亦容易利用與對以單體狀態使用的遮罩M2的被檢測部M2a進行讀取的讀取器相同的讀取器，來讀取第二被檢測部MBa。因此，能夠容易讀取與遮罩M1相關的資訊。

另外，根據本實施方式，第一被檢測部13與第二被檢測部MBa相鄰而配置。因此，利用設置於曝光裝置EX的一個讀取器，容易讀取第一被檢測部13及第二被檢測部MBa此兩者。

另外，根據本實施方式，與遮罩M1相關的資訊包含遮罩M1的平面度、形成於遮罩M1的圖案的種類、遮罩M1的尺寸誤差、遮罩M1的重量誤差、形成於遮罩M1的圖案的描畫誤差中的至少一者。因此，於使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的情況下，能夠更適當地控制曝光裝置EX內的各單元。藉此，能夠進一步提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，遮罩配接器10包括顯示第二被檢測部MBa的顯示部12a，若對遮罩配接器10安裝不同的其他遮罩M1，則顯示部12a顯示與其他遮罩M1相關的資訊。因此，對安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的每一個，能將與各遮罩M1對應的第二被檢測部MBa顯示於顯示部12a。藉此，能夠對多個不同的遮罩M1來使用遮罩配接器10。

另外，根據本實施方式，顯示部12a將設置於遮罩M1的資訊(第三被檢測部MB)作為與遮罩M1相關的資訊來顯示。因此，能使與安裝於遮罩配接器10的遮罩M1相關的資訊適當地 顯示於顯示部12a。

另外，根據本實施方式，第二被檢測部MBa為電子條碼。因此，能夠容易利用曝光裝置EX來讀取第二被檢測部MBa。另外，能夠容易對顯示部12a寫入及顯示資訊。

另外，例如，於曝光裝置EX的控制裝置CONT將安裝於遮罩配接器10的遮罩M1及以單體形態進行處理的遮罩M2進行誤辨別的情況下，曝光中的控制成為不適當的控制。因此，存在無法正常地對基板P進行曝光、或者曝光精度大幅度下降的情況。

與此相對，根據本實施方式，遮罩配接器10包括被辨別部18，所述被辨別部18用以利用設置於曝光裝置EX的感測器，來識別遮罩M安裝於遮罩配接器10。因此，曝光裝置EX的控制裝置CONT利用感測器來識別被辨別部18，藉此容易識別出遮罩M安裝於遮罩配接器10。藉此，於使用安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的情況下，能夠抑制控制裝置CONT誤辨別為未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2。因此，能適當進行曝光中的控制，能提高利用曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，遮罩配接器10包括第一被辨別部18a，所述第一被辨別部18a是用以利用對曝光裝置EX內的搬送裝置H2設置的感測器S1，由曝光裝置EX來識別如下情況：搬送裝置H2是否將未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2向遮罩平台MST搬送，或搬送裝置H2是否將安裝有遮罩M1的遮罩配接 器10向遮罩平台MST搬送。因此，當於遮罩平台MST載置遮罩M之前，能夠識別出遮罩M安裝於遮罩配接器10。

另外，根據本實施方式，第一被辨別部18a包括反射部18c，反射部18c將從作為第一感測器的感測器S1射出的光SL向與感測器S1所處的方向不同的方向反射。因此，控制裝置CONT能夠藉由感測器S1不接收經反射的光SL，而識別遮罩M安裝於遮罩配接器10。

另外，根據本實施方式，遮罩配接器10包括第二被辨別部18b，所述第二被辨別部18b用以利用設置於遮罩平台MST的感測器S4，來識別如下情況：安裝有遮罩M1的遮罩配接器10的框部11是否支持於遮罩平台MST，或未安裝於遮罩配接器10的遮罩M2是否支持於遮罩平台MST。因此，當遮罩M載置於遮罩平台MST時，能夠識別遮罩M安裝於遮罩配接器10。

另外，根據本實施方式，第二被辨別部18b包括從感測器S4射出的光SL所穿過的穿過部(第二穿過部)。因此，控制裝置CONT能夠藉由從感測器S4射出的光SL不被反射，且感測器S4未接收光，來識別於遮罩M安裝有遮罩配接器10。此外，本實施方式中，第二被辨別部18b包括穿過部(第二穿過部)。

另外，根據本實施方式，第二被辨別部18b的穿過部(第二穿過部)是設置於框部11的貫穿孔。因此，藉由例如衝壓加工等，對遮罩配接器10的一部分進行衝裁，藉此能容易製作第二被辨別部18b的穿過部。藉此，能夠容易製造遮罩配接器10。

另外，根據本實施方式，於分別使用第一被辨別部18a及第二被辨別部18b而藉由載體H2b來把持遮罩M時、以及將遮罩M配置於遮罩平台MST時此兩次，識別遮罩M的狀態。控制裝置CONT若於兩次中的識別至少任一遮罩M的狀態時搬送錯誤的遮罩M，則中止遮罩M的搬送。因此，能夠進一步抑制使用錯誤的遮罩M來對基板P進行曝光。

另外，根據本實施方式，框部11具有將安裝於遮罩配接器10的遮罩M1的周圍包圍的框狀的形狀。因此，作為遮罩M1安裝於遮罩配接器10的遮罩組件MA，能夠使外形大於遮罩M1的外形。藉此，藉由作為安裝有遮罩配接器10的遮罩組件MA來進行處理，能夠將較遮罩M2小的遮罩M1，於遮罩M2以單體狀態使用的曝光裝置EX中進行處理。因此，由於能夠減小曝光裝置EX中所使用的遮罩M的大小，故而可降低準備遮罩M的成本。另外，藉由使用遮罩配接器10，能夠使遮罩M1用的曝光裝置EX中所使用的遮罩M1亦可於遮罩M2用的曝光裝置EX中使用。藉此，當利用遮罩M2用的曝光裝置EX來進行試驗曝光時，能夠在不特意製作遮罩M2的情況下進行試驗曝光。

另外，例如，於遮罩配接器10的顯示部12a所顯示的第二被檢測部MBa中所包含的資訊為與安裝於遮罩配接器10的遮罩M1不同的遮罩M1的資訊的情況下，由曝光裝置EX內的讀取器所讀取的資訊成為不適當的資訊，曝光中的控制成為不適當的控制。因此，存在曝光裝置EX的曝光精度下降的顧慮。

與此相對，根據本實施方式，將遮罩M1安裝於遮罩配接器10的遮罩配接器安裝工具20包括寫入部27，所述寫入部27使包含與安裝於遮罩配接器10的遮罩M1相關的資訊的第二被檢測部MBa，顯示於設置在遮罩配接器10的顯示部12a。因此，當將遮罩M1安裝於遮罩配接器10時，能夠將遮罩M1的資訊作為第二被檢測部MBa而寫入遮罩配接器10的顯示部12a。藉此，能夠藉由使用遮罩配接器安裝工具20，將遮罩M1安裝於遮罩配接器10，來抑制不同的遮罩M1的資訊被寫入遮罩配接器10的顯示部12a。因此，能夠抑制由曝光裝置EX內的讀取器所讀取的資訊成為不適當的資訊，能夠提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，遮罩配接器安裝工具20包括對設置於遮罩M1的包含與遮罩M1相關的資訊的第三被檢測部MB進行檢測的第二檢測部26，寫入部27基於由第二檢測部26從第三被檢測部MB所檢測到的資訊，而於顯示部12a顯示第二被檢測部MBa。因此，抑制由寫入部27將錯誤的遮罩M1的資訊寫入顯示部12a，能夠於遮罩配接器10的顯示部12a顯示適當的第二被檢測部MBa。藉此，能進一步抑制由曝光裝置EX內的讀取器所讀取的資訊成為不適當的資訊，能夠進一步提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，例如於從遮罩配接器10拆卸遮罩M1後，忘記將遮罩配接器10的顯示部12a所顯示的第二被檢測部MBa刪除的情況下，當對顯示有第二被檢測部MBa的狀態的遮罩配接器10 安裝不同的遮罩M1時，存在顯示部12a的資訊無法覆蓋的顧慮。因此，存在成為如下狀態的顧慮，即，與和安裝於遮罩配接器10的遮罩M1相關的第二被檢測部MBa不同的第二被檢測部MBa顯示於顯示部12a。

與此相對，根據本實施方式，遮罩配接器安裝工具20亦可為從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的工具，且包括對已從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的情況進行檢測的第三檢測部28。而且，寫入部27於藉由第三檢測部28檢測到從遮罩配接器10拆卸遮罩M1的情況下，將顯示部12a的顯示刪除。因此，當從遮罩配接器10拆卸遮罩M1時，能夠抑制忘記將顯示部12a所顯示的第二被檢測部MBa刪除。因此，能夠抑制成為於顯示部12a顯示有與不同的遮罩M1相關的第二被檢測部MBa的狀態。藉此，能夠進一步抑制由曝光裝置EX內的讀取器所讀取的資訊成為不適當資訊，能夠進一步提高曝光裝置EX的曝光精度。

另外，根據本實施方式，遮罩配接器安裝工具20包括使遮罩M1於上下方向Z移動的升降裝置23，升降裝置23使位於遮罩配接器10的上方的遮罩M1下降，於俯視時具有將遮罩M1的周圍包圍的框狀的遮罩配接器10的內側配置遮罩M1。因此，能夠使較遮罩配接器10小的遮罩M1移動，於遮罩配接器10安裝遮罩M1。因此，與使遮罩配接器10移動而安裝於遮罩M1的情況相比，容易於遮罩配接器10安裝遮罩M1。

此外，本發明的實施方式並不限定於所述實施方式，亦 能夠採用以下的構成。

第一被檢測部只要能由讀取器來讀取資訊，且包含與遮罩配接器相關的資訊，則並無特別限定。第二被檢測部只要能由讀取器來讀取資訊，包含與安裝於遮罩配接器的遮罩相關的資訊，且能顯示於顯示部，則並無特別限定。第三被檢測部只要能由讀取器來讀取資訊，且包含與遮罩相關的資訊，則並無特別限定。

第一被檢測部、第二被檢測部以及第三被檢測部可為如所述條碼般的一維碼，亦可為二維碼，亦可為文字及數字等。另外，第一被檢測部及第三被檢測部亦可為積體電路(integrated circuit，IC)晶片等。第二被檢測部中所包含的資訊及第三被檢測部中所包含的資訊若分別包含與遮罩相關的資訊，則亦可相互不同。於此情況下，例如，遮罩配接器安裝工具的寫入部亦可僅將讀取部從第三被檢測部讀取的與遮罩相關的資訊的一部分，作為第二被檢測部而顯示於顯示部。

第一被檢測部中所包含的與遮罩配接器相關的資訊只要為至少一種以上即可。第二被檢測部中所包含的與遮罩相關的資訊只要為至少一種以上即可。第三被檢測部中所包含的與遮罩相關的資訊只要為至少一種以上即可。與遮罩相關的資訊亦可包含用以於曝光裝置內控制遮罩的控制資訊。第一被檢測部亦可不設置。

被辨別部只要為用於識別於遮罩安裝有遮罩配接器的部分，則並無特別限定。被辨別部亦可為吸收光的部分。具體而 言，所述實施方式的第一被辨別部18a亦可為如下構成，即，代替如反射部18c般的斜面而具有於第一方向X及第二方向Y水平的面，且於此水平的面設置有抗反射膜。另外，第一被辨別部18a亦可包括從感測器S1射出的光SL所穿過的穿過部(第一穿過部)。於此情況下，由於感測器S1的光SL穿過第一被辨別部18a的穿過部，故而感測器S1成為關閉(OFF)狀態。藉此，能夠識別搬送裝置H2將安裝有遮罩M1的遮罩配接器10向遮罩平台MST搬送。第一被辨別部18a的穿過部(第一穿過部)亦可為與第二被辨別部18b同樣，於上下方向Z貫穿遮罩配接器10的貫穿孔，亦可為切口。即，第一被辨別部18a若為從感測器S1射出的光SL未射入感測器S1的受光部的構成，並無特別限定。

另外，所述實施方式的第二被辨別部18b亦可不為貫穿孔，亦可為切口。另外，第二被辨別部18b亦可如第一被辨別部18a般具有斜面，亦可具有於第一方向X及第二方向Y水平且設置有抗反射膜的面。即，第二被辨別部18b只要為從感測器S2射出的光SL未射入感測器S2的受光部的構成，則並無特別限定。被辨別部亦可不設置。顯示部只要能夠顯示第二被檢測部，則並無特別限定。顯示部亦可為液晶顯示器，亦可為有機電致發光顯示器。此外，顯示部亦可不設置。亦可代替顯示部，而設置列印有第二被檢測部MBa的封條。

此外，所述實施方式中，遮罩配接器10是作為將遮罩M1的周圍的四邊包圍的框狀的構件來進行說明，但並不限定於 此。遮罩配接器亦可為將遮罩的周圍的三邊包圍的U字狀。所謂將遮罩的周圍的三邊包圍的U字狀的遮罩配接器，例如是指所述實施方式的遮罩配接器10中無第三邊部11c及第四邊部11d中的任一者的狀態的遮罩配接器。另外，遮罩配接器亦可為所述實施方式的遮罩配接器10中無第三邊部11c及第四邊部11d此兩者的狀態，即僅由第一邊部11a及第二邊部11b來形成的構成。於此情況下，曝光裝置亦可包括對遮罩相對於遮罩配接器的第一方向X的位置進行測量的感測器。藉由使用此感測器，能夠適當調整遮罩相對於遮罩配接器的第一方向X的位置。

另外，遮罩配接器亦可僅由所述實施方式的遮罩配接器10的第一邊部11a及第二邊部11b中的任一者來形成。於此情況下，遮罩平台於遮罩組件的第二方向Y的其中一側支持遮罩，且於第二方向Y的另一側支持遮罩配接器。

於遮罩組件中，於遮罩的第二方向Y的兩側設置遮罩配接器的部分的情況、以及僅於遮罩的第二方向Y的任一側設置遮罩配接器的部分的情況下，當遮罩組件載置於遮罩平台時的YZ平面中的遮罩組件的撓曲形狀不同。控制裝置亦可如上所述，基於此撓曲形狀來進行各投影光學系統的控制。

另外，於曝光裝置包括將遮罩組件的第一方向X的兩端加以支持的遮罩平台的情況下，遮罩配接器亦可僅由所述實施方式的遮罩配接器10的第三邊部11c及第四邊部11d來構成，亦可僅由第三邊部11c及第四邊部11d中的任一者來構成。

如以上所述，遮罩配接器只要為與以單體形態進行處理的遮罩M2支持於遮罩平台時同樣，能夠為了可將遮罩組件支持於遮罩平台而變更遮罩M1的尺寸的裝置，則並無特別限定。

識別資訊亦可包含識別遮罩的朝向的資訊。遮罩組件如圖3A等所示的遮罩組件MA般，例如第一方向X與第二方向Y各自的尺寸不同。於此種情況下，識別資訊亦可包含識別以下情況的資訊：是否以遮罩組件的長邊與第一方向X平行(短邊與第二方向Y平行)的方式配置於遮罩平台，是否以其長邊與第二方向Y平行(短邊與第一方向X平行)的方式配置於遮罩平台。

具體而言，於所述實施方式中，控制裝置CONT亦可使用感測器S4及感測器S5，來檢測遮罩組件MA配置於遮罩平台MST時的朝向。與如圖10所示的情況不同，於遮罩組件MA的長邊與第二方向Y平行地配置的情況下，來自感測器S5的射出部S5a的光未照射至遮罩組件MA，未被反射。因此，感測器S5的受光部未接收光，感測器S5成為關閉(OFF)狀態。另一方面，來自感測器S4的射出部S4a的光反射至遮罩配接器10，感測器S4的受光部接收其反射光。因此，感測器S4成為開啟(ON)狀態。於遮罩組件MA的長邊與第一方向X平行地配置的情況下，即，如圖10所述的情況下，感測器S5成為開啟(ON)狀態，感測器S4成為關閉(OFF)狀態。控制裝置CONT能夠根據感測器S4及感測器S5各自的狀態，來檢測載置於遮罩平台MST的遮罩組件MA的朝向。此外，於此情況下，控制裝置CONT可於在遮 罩平台MST配置有遮罩M為止的期間，檢測於遮罩平台MST配置有遮罩組件MA。

另外，根據配置於遮罩平台MST時的朝向，遮罩組件MA的支持於遮罩平台MST的部位不同。於此情況下，例如，可為藉由將遮罩平台MST設為日本專利公報第5,626,206號公報中揭示的構成，來變更遮罩平台MST的第二方向Y的位置。進而，根據遮罩組件MA的配置於遮罩平台MST時的朝向，遮罩組件MA的YZ平面內的撓曲量不同。控制裝置CONT可為基於與配置有遮罩組件MA的朝向相應的撓曲量的不同，來控制投影單元PL的各投影光學系統的各部，從而控制所遮光的投影光學系統的根數、或各投影光學系統的聚焦位置或偏移量等。

另外，識別資訊亦可包含確定於遮罩配接器10安裝遮罩M1的方向的資訊。控制裝置CONT亦可基於此識別資訊，於曝光前，對投影單元PL的各投影光學系統進行調整，或於曝光中，對基板平台PST的位置進行調整。

遮罩配接器安裝工具只要為用於將遮罩安裝於遮罩配接器的工具，則並無特別限定。遮罩配接器安裝工具亦可不為用於從遮罩配接器拆卸遮罩的工具。遮罩配接器安裝工具可為如所述實施方式般，由作業者以手動來操作的部分，亦可全自動地進行安裝作業。遮罩配接器安裝工具亦可藉由使遮罩配接器移動，而將遮罩安裝於遮罩配接器。遮罩配接器安裝工具亦可藉由使遮罩配接器移動，而將遮罩從遮罩配接器拆卸。

讀取部亦可為從遮罩配接器安裝工具分離的手持掃描器等。讀取部亦可不設置。設置於遮罩配接器安裝工具的檢測部例如亦可檢測如下情況：藉由所述第一定位部及第二定位部，而於遮罩配接器固定有遮罩。檢測部亦可不設置。

另外，控制裝置CONT亦可將各識別資訊發送至曝光裝置EX外的裝置，例如對基板P塗佈抗蝕劑的塗佈機或對經曝光裝置EX所曝光的基板P進行顯影的顯影器等。塗佈機亦可基於從曝光裝置EX接收的各識別資訊，來變更對基板P塗佈的抗蝕劑的種類、或塗佈量及厚度等。

另外，顯影器亦可基於各識別資訊，來適宜變更顯影方法或基板P的清洗方法等。

投影單元PL所包括的投影光學系統可為等倍系，亦可為縮小系統、或者放大系統。

所述實施方式的曝光裝置EX可為作為曝光對象物的步進掃描(step and scan)方式的投影曝光裝置、所謂掃描器，亦可為投影區域設為與曝光對象區域大致相同尺寸的步進器方式的曝光裝置。曝光裝置EX亦可為對方型的玻璃板轉印液晶顯示元件圖案的液晶用的曝光裝置，例如亦能應用於有機電致發光(Electro-Luminescence，EL)面板製造用的曝光裝置。另外，所述實施方式的曝光裝置EX為了不僅製造半導體元件等微型元件，而且製造光曝光裝置、極紫外線(extreme ultraviolet，EUV)曝光裝置、X射線曝光裝置及電子束曝光裝置等中使用的遮罩或 者分劃板，亦可應用於對玻璃基板或者矽晶圓等轉印電路圖案的曝光裝置。

另外，所述曝光裝置EX中成為曝光對象的基板P並不限定於玻璃板，亦可為例如晶圓、陶瓷基板、膜構件、或者空白遮罩等其他物體。另外，於如所述實施方式般，曝光對象物為平板顯示器用的基板P的情況下，此基板P的厚度並無特別限定。基板P例如亦可為膜狀(具有可撓性的片狀的構件)的基板。此外，所述實施方式的曝光裝置EX於一邊的長度、或者對角長為500mm以上的基板P為曝光對象物的情況下特別有效。另外，於作為曝光對象物的基板P為具有可撓性的片狀的情況下，此片狀的基板P亦可形成為卷狀。

液晶顯示元件(或者半導體元件)等電子元件是經過以下步驟來製造：進行元件的功能及性能設計的步驟、製作基於此設計步驟的遮罩(或者分劃板)的步驟、製作玻璃基板(或者晶圓)的步驟、所述各實施方式的曝光裝置、以及利用所述曝光方法將遮罩(分劃板)的圖案轉印於玻璃基板的微影步驟、對經曝光的玻璃基板進行顯影的顯影步驟、將殘存有抗蝕劑的部分以外的部分的露出構件藉由蝕刻而去除的蝕刻步驟、將蝕刻完畢而不再需要的抗蝕劑去除的抗蝕劑去除步驟、元件組裝步驟、檢查步驟等。於此情況下，於微影步驟，使用所述實施方式的曝光裝置來實行所述曝光方法，於玻璃基板上形成元件圖案，因此能夠生產性良好地製造高積體度的元件。

此外，本說明書中所說明的以上的各構成、各方法能夠相互於不矛盾的範圍內適宜組合。

10:遮罩配接器

11:框部(被支持部)

11a:第一邊部

11b:第二邊部

11c:第三邊部

11d:第四邊部

11e:凹部

11f:切口部

12:顯示裝置

12a:顯示部

13:第一被檢測部

14、15:第一定位部

14a:突出部

15a:本體部

15b:彈性部

16:支持部

17:第二定位部

18:被辨別部

18a:第一被辨別部

18b:第二被辨別部

MA:遮罩組件

M1:遮罩

MB:第三被檢測部

MBa:第二被檢測部

X:第一方向

Y:第二方向

Z:上下方向

Claims (33)

1. 一種遮罩配接器，載置於將具有遮罩的圖案曝光於基板上的曝光裝置，且保持所述遮罩，所述遮罩配接器包括：框部，包圍所述遮罩；支持部，設置於所述框部，支持所述遮罩的下表面中的所述圖案的外側中的對向的兩邊的附近；以及第一構件與第二構件，設置於所述框部，分別接觸所述遮罩的側面中的在沿著所述兩邊的方向上對向的兩個側面，所述第一構件與所述第二構件以在沿著所述兩邊的方向上排列的方式配置。
2. 如請求項1所述的遮罩配接器，其中，具有多組所述第一構件與所述第二構件。
3. 如請求項2所述的遮罩配接器，其中，所述第一構件與所述第二構件中的至少一者具有對所述遮罩施加彈性力的彈性部。
4. 如請求項2所述的遮罩配接器，其中，所述第一構件與第二構件中的至少一者具有對所述遮罩施加夾持力的夾具部。
5. 如請求項1至請求項4中任一項所述的遮罩配接器，更包括：第三構件與第四構件，分別接觸所述遮罩的側面中的包括所述兩邊的對向的面。
6. 如請求項5所述的遮罩配接器，其中，所述第三構件與所述第四構件中的至少一者更包括：遮罩接觸部，與所述遮罩接觸；以及固定部，固定所述遮罩接觸部的位置。
7. 如請求項1所述的遮罩配接器，更包括：被辨別部，藉由使由具有所述曝光裝置的感測部射出的感測光反射至與所述感測部所處的方向不同的方向，或者使所述感測光穿過，以向所述感測部提供所述遮罩配接器的資訊。
8. 如請求項7所述的遮罩配接器，其中，所述被辨別部包括反射型被辨別部，所述反射型被辨別部具有反射部，所述反射部使由所述感測部所具有的反射感測部射出的所述感測光的一部份的反射用感測光反射至與所述反射感測部所處的方向不同的方向。
9. 如請求項7所述的遮罩配接器，其中，所述被辨別部包括：穿過型被辨別部，具有使由所述感測部所具有的穿過感測部射出的所述感測光的一部份的穿過用感測光穿過至與所述穿過感測部所處的方向不同的方向的穿過部。
10. 如請求項9所述的遮罩配接器，其中，所述穿過部為貫穿孔。
11. 如請求項1所述的遮罩配接器，更包括： 遮罩配接器資訊被檢測部，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，顯示與所述遮罩配接器相關的資訊。
12. 如請求項1所述的遮罩配接器，更包括：遮罩資訊被檢測部，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，顯示第一遮罩資訊，所述第一遮罩資訊為與安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩相關的資訊。
13. 如請求項1所述的遮罩配接器，更包括：遮罩配接器資訊被檢測部，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，顯示與所述遮罩配接器相關的資訊；以及遮罩資訊被檢測部，能夠利用所述曝光裝置的檢測部來檢測，顯示第一遮罩資訊，所述第一遮罩資訊為與安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩相關的資訊。
14. 如請求項13所述的遮罩配接器，其中，所述遮罩配接器資訊被檢測部與遮罩資訊被檢測部相鄰而配置。
15. 如請求項11、請求項13或請求項14所述的遮罩配接器，其中，與所述遮罩配接器相關的資訊包含控制資訊，所述控制資訊用以於所述曝光中，對將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器加以支持的所述曝光裝置的平台的移動進行控制。
16. 如請求項11、請求項13或請求項14所述的遮罩配接器，其中，與所述遮罩配接器相關的資訊包含所述遮罩配接器的剛性。
17. 如請求項12至請求項14中任一項所述的遮罩配接器，其中，所述第一遮罩資訊包含：所述遮罩的平面度、形成於所述遮罩的圖案的種類、所述遮罩的尺寸誤差、所述遮罩的重量誤差、形成於所述遮罩的圖案的描畫誤差中的至少一者。
18. 如請求項12至請求項14中任一項所述的遮罩配接器，其中，所述第一遮罩資訊包含第二遮罩資訊的至少一部分，所述第二遮罩資訊為附於所述遮罩的與所述遮罩相關的資訊。
19. 如請求項12至請求項14中任一項所述的遮罩配接器，其中，所述遮罩資訊被檢測部所顯示的所述第一遮罩資訊的顯示能夠變更。
20. 如請求項19所述的遮罩配接器，其中，若所述遮罩配接器安裝與所述遮罩不同的其他遮罩，則所述遮罩資訊被檢測部顯示所述其他遮罩的所述第一遮罩資訊。
21. 如請求項12至請求項14中任一項所述的遮罩配接器，其中， 所述第一遮罩資訊在所述遮罩資訊被檢測部顯示條碼。
22. 一種曝光裝置，包括：反射感測部，對如請求項8所述的遮罩配接器的所述反射型被辨別部照射所述反射用感測光，所述反射感測部檢測如下情況：在安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器及與所述遮罩不同的其他遮罩中，將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器搬送至所述曝光裝置的平台。
23. 一種曝光裝置，包括：穿過感測部，對如請求項9所述的遮罩配接器的所述穿過型被辨別部照射所述穿過用感測光，藉由所述穿過感測部檢測如下情況：在安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器及與所述遮罩不同的其他遮罩中，將安裝有所述遮罩的所述遮罩配接器搬送至所述曝光裝置的平台。
24. 一種曝光裝置，包括：照明光學系統，對安裝於如請求項1所述的遮罩配接器的所述遮罩進行照明；以及投影光學系統，將由所述照明光學系統所照明的所述遮罩的圖案投影至所述基板上。
25. 一種元件製造方法，包括：利用如請求項24所述的曝光裝置來對基板進行曝光處理；以及對經曝光的所述基板進行顯影處理。
26. 一種元件製造方法，包括：對安裝於如請求項1所述的遮罩配接器的遮罩進行照明；藉由將經照明的所述遮罩的圖案的像投影至基板上，而對所述基板進行曝光；以及對經曝光的所述基板進行顯影處理。
27. 一種遮罩配接器安裝工具，於如請求項1所述的遮罩配接器安裝所述遮罩。
28. 如請求項27所述的遮罩配接器安裝工具，包括：升降裝置，使所述遮罩相對於所述遮罩配接器而於上下方向移動，並且所述升降裝置使位於所述遮罩配接器的上方的所述遮罩下降，配置於所述遮罩配接器。
29. 一種遮罩配接器安裝工具，於如請求項19所述的遮罩配接器安裝所述遮罩，所述遮罩配接器安裝工具包括：寫入部，變更顯示於所述遮罩資訊被檢測部的第一遮罩資訊。
30. 如請求項29所述的遮罩配接器安裝工具，包括：遮罩資訊檢測部，對安裝遮罩資訊被檢測部進行檢測，所述安裝遮罩資訊被檢測部顯示第二遮罩資訊，所述第二遮罩資訊為附於所述遮罩的與所述遮罩相關的資訊，並且所述寫入部基於利用所述遮罩資訊檢測部而從所述安裝遮罩資訊被檢測部所檢測的資訊，變更顯示於所述遮罩資訊被檢測部的第一遮罩資訊。
31. 如請求項29所述的遮罩配接器安裝工具，其中，所述遮罩包括拆卸檢測部，所述拆卸檢測部對從所述遮罩配接器上拆卸的情況進行檢測，並且若藉由所述拆卸檢測部，檢測到所述遮罩已從所述遮罩配接器拆卸，則所述寫入部刪除所述遮罩資訊被檢測部的顯示。
32. 一種曝光裝置，包括：照明光學系統，利用如請求項27項所述的遮罩配接器安裝工具，對安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩進行照明；以及投影光學系統，將由所述照明光學系統進行照明的所述遮罩的圖案投影至所述基板上。
33. 一種元件製造方法，包括：使用如請求項27所述的遮罩配接器安裝工具，對所述遮罩配接器安裝所述遮罩；對安裝於所述遮罩配接器的所述遮罩進行照明；藉由經照明的所述遮罩的圖案的像投影至基板上，來對所述基板進行曝光；以及對經曝光的所述基板進行顯影處理。

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