TWI778284B - 二氧化氯氣體的產生消滅方法和二氧化氯氣體產生消滅用的套組 - Google Patents
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Abstract
二氧化氯氣體的產生消滅方法包括:氣體產生步驟(S10),藉由使含有亞氯酸鹽的A劑與含有氣體產生劑的B劑接觸而產生二氧化氯氣體;以及氣體消滅步驟(S20),藉由使含有二氧化氯還原劑的C劑接觸二氧化氯氣體來消滅二氧化氯氣體。另外,二氧化氯氣體產生消滅用的套組包括:含有亞氯酸鹽的A劑、含有氣體產生劑的B劑、及含有二氧化氯還原劑的C劑,且藉由使A劑與B劑接觸而產生二氧化氯氣體,藉由使C劑接觸二氧化氯氣體來消滅二氧化氯氣體。本發明提供一種藉由以所述方式於使用後消滅所產生的二氧化氯氣體而能夠減少由使用後的二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味的二氧化氯氣體的產生消滅方法和二氧化氯氣體產生消滅用的套組。
Description
本揭示是有關於一種於花粉、灰塵、皮屑、真菌等過敏誘發物質的處理;病原菌、病毒、有害化學物質(例如菸草(tabacco)煙霧、甲醛)等有害物質的處理;環境淨化、室內外及食品的除臭、防黴及防腐等中廣泛使用的二氧化氯氣體的產生消滅方法和二氧化氯氣體產生消滅用的套組。
二氧化氯(ClO2)具有強大的氧化力,因此廣泛用於花粉、灰塵、皮屑、真菌等過敏誘發物質的處理;病原菌、病毒、有害化學物質(例如菸草煙霧、甲醛)等有害物質的處理、環境淨化、室內外及食品的除臭、防黴及防腐等。提出有持續產生於如此廣泛的用途中使用的有用的二氧化氯的方法及用於其的組成物。
例如,日本專利特開平11-278808號公報(專利文獻1)提出一種於構成成分中具有溶解二氧化氯氣體、亞氯酸鹽及pH調整劑的純二氧化氯液劑;含有所述純二氧化氯液劑及高吸水性樹脂的凝膠狀組成物;含有所述純二氧化氯液劑及發泡劑的發泡性組成物;以及用於裝入所述純二氧化氯液劑、所述凝膠狀組成物、
及所述發泡性組成物的容器。
另外,日本專利特開2005-29430號公報(專利文獻2)提出一種二氧化氯氣體的產生方法:於亞氯酸鹽水溶液中添加有機酸或無機酸、及粉狀的氣體產生調節劑或粉狀的氣體產生調節劑與吸水性樹脂,使其凝膠化而持續產生二氧化氯氣體。
專利文獻1:日本專利特開平11-278808號公報
專利文獻2:日本專利特開2005-29430號公報
根據日本專利特開平11-278808號公報(專利文獻1)及日本專利特開2005-29430號公報(專利文獻2),提出有一種連續產生二氧化氯氣體的方法,但由於所產生的二氧化氯氣體具有強烈的刺激性臭味,因此由使用後的二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味成為問題。因此,於聚集大量人的場所(例如室內、汽車內等),於花粉、灰塵、皮屑、真菌等過敏誘發物質的處理;病原菌、病毒、有害化學物質(例如菸草煙霧、甲醛)等有害物質的處理;環境淨化、室內外及食品的除臭、防黴及防腐等中使用二氧化氯氣體時,有不僅於使用過程中,而且於使用後亦需要人退避等問題,存在許多制約。
本揭示的目的在於提供一種藉由於使用後消滅所產生
的二氧化氯氣體而能夠解決所述問題的二氧化氯氣體的產生消滅方法和二氧化氯氣體產生消滅用的套組。
根據某一方面,本揭示為一種二氧化氯氣體的產生消滅方法,包括:氣體產生步驟,藉由使含有亞氯酸鹽的A劑與含有氣體產生劑的B劑接觸而產生二氧化氯氣體;以及氣體消滅步驟,藉由使含有二氧化氯還原劑的C劑接觸二氧化氯氣體來消滅二氧化氯氣體。
於本揭示的所述方面的二氧化氯氣體的產生消滅方法中,二氧化氯還原劑可含有選自由過氧化氫、異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽所組成的群組中的至少一個。
根據另一方面,本揭示為一種二氧化氯氣體產生消滅用的套組,包括:含有亞氯酸鹽的A劑、含有氣體產生劑的B劑、及含有二氧化氯還原劑的C劑,且藉由使A劑與B劑接觸而產生二氧化氯氣體,藉由使C劑接觸二氧化氯氣體來消滅二氧化氯氣體。
於本揭示的所述方面的二氧化氯氣體產生消滅用的套組中,二氧化氯還原劑可含有選自由過氧化氫、異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽所組成的群組中的至少一個。
根據本揭示,可提供一種藉由於使用後消滅所產生的二氧化氯氣體而能夠減少由使用後的二氧化氯氣體帶來的刺激性臭
味的二氧化氯氣體的產生消滅方法和二氧化氯氣體產生消滅用的套組。
S10:氣體產生步驟
S20:氣體消滅步驟
圖1是表示二氧化氯氣體的產生消滅方法的流程圖。
<實施形態1:二氧化氯氣體的產生消滅方法>
參照圖1,作為本揭示的某一實施形態的二氧化氯氣體的產生消滅方法包括:氣體產生步驟S10,藉由使含有亞氯酸鹽的A劑與含有氣體產生劑的B劑接觸而產生二氧化氯氣體;以及氣體消滅步驟S20,藉由使含有二氧化氯還原劑的C劑接觸二氧化氯氣體來消滅二氧化氯氣體。本實施形態的二氧化氯氣體的產生消滅方法藉由包括所述氣體產生步驟S10與所述氣體消滅步驟S20,能夠於使用後消滅所產生的二氧化氯氣體,因此能夠減少由使用後的二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味。藉此,可提前解除二氧化氯氣體使用後的人的退避。此處,所謂二氧化氯氣體的使用,只要是對被處理體的處理有效的使用,則無特別限制,包括於花粉、灰塵、皮屑、真菌等過敏誘發物質的處理;病原菌、病毒、有害化學物質(例如菸草煙霧、甲醛)等有害物質的處理;環境淨化、室內外及食品的除臭、防黴及防腐等廣泛範圍內使用二氧化氯氣體。
關於二氧化氯氣體,美國職業安全衛生署(Occupational
Safety and Health Administration,OSHA)以1天8小時的暴露(允許暴露極限-時間加權平均值(Permissible Exposure Limit-Time Weighted Average,PEL-TWA):時間加權平均值)計將0.1ppm設定為暴露極限。於日本,雖然不存在有關於暴露極限的基準值,但假定為利用二氧化氯氣體進行空間消毒的臨時的安全基準。自該些考慮到,為了於使用二氧化氯氣體後解除人的退避,需要將二氧化氯氣體的濃度設為0.1ppm以下。
[氣體產生步驟]
氣體產生步驟S10是藉由使含有亞氯酸鹽的A劑與含有氣體產生劑的B劑接觸而產生二氧化氯氣體的步驟。藉由所述氣體產生步驟S10,可高效地產生供所述使用的二氧化氯氣體。
(A劑)
A劑含有亞氯酸鹽。A劑只要含有亞氯酸鹽,則無特別限制,但自與後述的B劑高效地接觸並高效地產生二氧化氯氣體的觀點而言,較佳為含有亞氯酸鹽的液體,更佳為含有亞氯酸鹽的水性液。此處,所謂水性液,是指除了亞氯酸鹽等溶質及/或分散質以外的溶媒及/或分散介質以水為主成分(溶媒及/或分散介質中的水的含量為50質量%以上)的水性溶液及/或水性分散液。自所述觀點而言,A液進而佳為含有亞氯酸鹽的水性液,特佳為亞氯酸鹽水性液。A劑中含有的亞氯酸鹽只要為藉由與後述的B劑中含有的氣體產生劑的接觸而產生二氧化氯氣體的亞氯酸鹽,則無特別限制,例如可列舉:亞氯酸鈉(NaClO2)、亞氯酸鉀(KClO2)、亞
氯酸鋰(LiClO2)等除氫以外的第一族元素(鹼金屬元素)的亞氯酸鹽;亞氯酸鈣(Ca(ClO2)2)、亞氯酸鍶(Sr(ClO2)2)、亞氯酸鋇(Ba(ClO2)2)、亞氯酸鎂(Mg(ClO2)2)等第二族元素的亞氯酸鹽等。該些中,市售的亞氯酸鈉容易得到,且於使用方面亦無問題。再者,只要不阻礙與後述的B劑接觸而產生二氧化氯氣體,以及只要不產生有害的副產物,則A劑亦可含有亞氯酸鹽以外的物質。作為A劑中含有的亞氯酸鹽以外的物質,可列舉氫氧化鈉(NaOH)等鹼等。例如,含有80質量%以上的NaClO2的思路博萊特(Silubrite)(日本卡力特(Carlit)公司製造的思路博萊特(Silubrite)80)適宜作為A劑而使用。
亞氯酸鹽水性液是藉由使所述至少一個亞氯酸鹽以規定濃度溶解及/或分散於水性的溶媒及/或分散介質中而得。作為使亞氯酸鈉溶解於水中的情況,若為液體,則適宜地使用作為漂白劑而使用的市售的25質量%的亞氯酸鈉水溶液,若為固體,則適宜地使用市售的86質量%產品、80質量%產品、79質量%產品或76質量%產品。另外,自不與劇毒物及危險物相符且容易處理的觀點而言,亞氯酸鹽水性液的濃度較佳為25質量%以下,更佳為15質量%以下,進而佳為10質量%以下。
(B劑)
B劑含有氣體產生劑。B劑只要含有氣體產生劑,則無特別限制,但自與所述A劑高效地接觸並高效地產生二氧化氯氣體的觀點而言,較佳為含有氣體產生劑的液體,更佳為含有氣體產生
劑的水性液。此處,所謂水性液,是指除了氣體產生劑等溶質及/或分散質以外的溶媒及/或分散介質以水為主成分(溶媒及/或分散介質中的水的含量為50質量%以上)的水性溶液及/或水性分散液。自所述觀點而言,B液進而佳為含有氣體產生劑的水溶液或含有氣體產生劑的水分散液,特佳為氣體產生劑水溶液或氣體產生劑水分散液。
B劑中含有的氣體產生劑只要為藉由與所述A劑中含有的亞氯酸鹽的接觸而產生二氧化氯氣體的氣體產生劑,則無特別限制,例如可列舉:鹽酸等無機酸;檸檬酸、乳酸、蘋果酸等有機酸等。該些中,鹽酸、檸檬酸等容易得到,且於使用方面亦無問題。再者,只要不阻礙與所述A劑接觸而產生二氧化氯氣體,以及只要不產生有害的副產物,則B劑亦可含有氣體產生劑以外的物質。
氣體產生劑水性液是藉由使所述至少一個氣體產生劑以規定濃度溶解及/或分散於水性的溶媒及/或分散介質中而得。作為使鹽酸溶解於水中的情況,利用水將市售的鹽酸(35質量%產品)稀釋,適宜地使用5質量%以上且15質量%以下的鹽酸水溶液。作為使檸檬酸溶解於水中的情況,適宜地使用20質量%以上且40質量%以下的檸檬酸水溶液。此處,稀釋水只要不阻礙二氧化氯氣體的產生,則無特別限制,但自雜質少的觀點而言,較佳為蒸餾水、離子交換水、逆滲透(reverse osmosis,RO)水等精製水。
(A劑與B劑的接觸)
藉由A劑與B劑的接觸,A劑中含有的亞氯酸鹽與B劑中含有的氣體產生劑發生反應而產生二氧化氯氣體。使A劑與B劑接觸的比並無特別限制,但自使其有效率地反應而有效率地產生二氧化氯氣體的觀點而言,(A劑中含有的亞氯酸鹽):(B劑中含有的氣體產生劑)以莫耳比計,於氣體產生劑為鹽酸時較佳為1:3至3:1的範圍,於氣體產生劑為檸檬酸時較佳為1:2至4:1的範圍。
關於使A劑與B劑接觸的方法,只要為以A劑中含有的亞氯酸鹽與B劑中含有的氣體產生劑發生反應的方式接觸的方法,則無特別限制,例如,於A劑及B劑均為固體的情況下,可列舉如下方法:加入水性溶媒(是指水的含量為50質量%以上的溶媒,以下相同)及/或水性分散介質(是指水的含量為50質量%以上的分散介質,以下相同),將A劑與B劑混合。另外,於A劑及B劑中的任一者為水性液(水性溶液及/或水性分散液)且另一者為固體的情況下,可列舉將該水性液與該固體混合的方法。另外,於A劑及B劑均為水性液的情況下,可列舉將兩種水性液混合的方法。自藉由使A劑中含有的亞氯酸鹽與B劑中含有的氣體產生劑高效地反應而有效率地產生二氧化氯氣體的觀點而言,A劑及B劑較佳為任一者為水性溶液,更佳為均為水性溶液。
[氣體消滅步驟]
氣體消滅步驟S20是藉由使含有二氧化氯還原劑的C劑接觸
二氧化氯氣體來消滅二氧化氯氣體的步驟。藉由所述氣體消滅步驟S20,有效率地消滅所產生並使用後的二氧化氯氣體,藉此,可減少由使用後的二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味。
(C劑)
用於消滅使用後的二氧化氯氣體的C劑含有二氧化氯還原劑。C劑只要含有二氧化氯還原劑,則無特別限制,但自高效地接觸二氧化氯氣體並高效地消滅二氧化氯氣體的觀點而言,較佳為含有二氧化氯還原劑的液體,更佳為含有二氧化氯還原劑的水性液。此處,所謂水性液,是指除了二氧化氯還原劑等溶質及/或分散質以外的溶媒及/或分散介質以水為主成分(溶媒及/或分散介質中的水的含量為50質量%以上)的水性溶液及/或水性分散液。自所述觀點而言,C液較佳為含有二氧化氯還原劑的水性溶液,更佳為二氧化氯還原劑水性溶液。
C劑中含有的二氧化氯還原劑只要為藉由還原二氧化氯來消滅二氧化氯氣體的二氧化氯還原劑,則無特別限制,可列舉:過氧化氫、異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽等。自由於還原二氧化氯的能力高,因此抑制二氧化氯氣體的刺激性臭味的能力高,該二氧化氯還原劑自身的毒性低且還原二氧化氯時亦無有毒物質產生而安全性高的觀點而言,二氧化氯還原劑較佳為含有選自由過氧化氫、異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽所組成的群組中的至少一個。進而,自還原二氧化氯時亦無有毒物質產生,從而安全性更高的觀點而言,二氧化氯還原劑更佳為過
氧化氫;自還原二氧化氯的能力更高,並且該二氧化氯還原劑自身為食品添加物,從而安全性更高的觀點而言,二氧化氯還原劑較佳為選自由異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽所組成的群組中的至少一個。此處,異抗壞血酸鹽只要不阻礙二氧化氯的還原,則無特別限制,但自容易獲得的觀點而言,較佳為異抗壞血酸鈉、異抗壞血酸鉀等異抗壞血酸鹼金屬鹽。另外,抗壞血酸鹽只要不阻礙二氧化氯的還原,則無特別限制,但自容易獲得的觀點而言,較佳為抗壞血酸鈉、抗壞血酸鉀等抗壞血酸鹼金屬鹽。進而,抗壞血酸有互為鏡像異構物的D體的D-抗壞血酸與L體的L-抗壞血酸(維生素C),自容易獲得的觀點而言,更佳為L-抗壞血酸。再者,只要不阻礙藉由還原二氧化氯來消滅二氧化氯氣體,以及只要不產生有害的副產物,則C劑亦可含有二氧化氯還原劑以外的物質。
此處,一般作為還原劑而使用的亞硫酸鈉、硫代硫酸鈉有時於弱酸性環境中產生有毒的二氧化硫氣體、亞硫酸氣體、硫化氫氣體等,故欠佳。另外,作為強還原劑的鹽酸羥胺由於蒸氣的毒性高,另外被加熱為高溫時有***的危險性,故欠佳。
二氧化氯還原劑水性液是藉由使所述至少一個二氧化氯還原劑以規定濃度溶解及/或分散於水性的溶媒及/或分散介質中而得。作為使過氧化氫溶解於水中的情況,適宜地使用1質量%以上且5質量%以下的過氧化氫水溶液(過氧化氫水)。作為使異抗壞血酸或其鹽溶解於水中的情況,適宜地使用1質量%以上且5
質量%以下的異抗壞血酸或其鹽的水溶液。作為使抗壞血酸或其鹽溶解於水中的情況,適宜地使用1質量%以上且5質量%以下的抗壞血酸或其鹽的水溶液。
(二氧化氯氣體與C劑的接觸)
藉由A劑與B劑的接觸而產生二氧化氯氣體。所產生的二氧化氯氣體散發至空氣中並被用於被處理體(過敏誘發物質、有當物質等)的處理。藉由使使用後的二氧化氯氣體與C劑接觸,可藉由還原來消滅二氧化氯氣體,從而減少由二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味。特別是於所產生的使用後的二氧化氯氣體多的情況下,藉由所產生的二氧化氯氣體與C劑的接觸,可大幅減少由二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味。藉此,可提前解除二氧化氯氣體使用後的人的退避。
使所產生的二氧化氯氣體與C劑接觸的比並無特別限制,但自有效率地消滅二氧化氯氣體的觀點而言,(藉由A劑與B劑的接觸而產生的二氧化氯):(C劑中含有的二氧化氯還原劑)以莫耳比計,較佳為100:1至1:3的範圍,更佳為50:1至2:3的範圍。如此,C劑中含有的二氧化氯還原劑相對於藉由A劑與B劑的接觸而產生的二氧化氯的適宜莫耳比的範圍廣是因為:二氧化氯氣體與二氧化氯還原劑的接觸效率根據產生及消滅二氧化氯氣體的空間的大小而大不相同。產生及消滅二氧化氯氣體的空間越大,二氧化氯氣體及二氧化氯還原劑向空間的擴散及朝向壁的吸附越大,藉此,二氧化氯氣體與二氧化氯還原劑的接觸效率
降低,因此C劑中含有的二氧化氯還原劑相對於藉由A劑與B劑的接觸而產生的二氧化氯的適宜莫耳比變大。另外,過氧化氫與異抗壞血酸及其鹽以及抗壞血酸及其鹽相比,二氧化氯的還原力小,因此C劑中含有的二氧化氯還原劑相對於藉由A劑與B劑的接觸而產生的二氧化氯的適宜莫耳比變大。
使所產生的二氧化氯氣體與C劑接觸的方法並無特別限制,但自與產生後散發至空氣中的二氧化氯氣體高效地接觸並高效地消滅二氧化氯氣體的觀點而言,較佳為使C劑以霧(mist)狀與產生後飛散至空氣中的二氧化氯氣體接觸的方法,例如將C劑朝二氧化氯氣體噴霧的方法。另外,自所述觀點而言,C劑較佳為含有二氧化氯還原劑的水性溶液,更佳為二氧化氯還原劑水性溶液。
使所產生的二氧化氯氣體與C劑接觸的次數並無特別限制,但自與產生後散發至空氣中的二氧化氯氣體高效地接觸並高效地消滅二氧化氯氣體的觀點而言,較佳為多次。特佳為二氧化氯氣體存在的空間越大,另外,二氧化氯氣體的濃度越高,則與C劑接觸的次數越多。
<實施形態2:二氧化氯氣體產生消滅用的套組>
參照圖1,作為本揭示的另一實施形態的二氧化氯氣體產生消滅用的套組包括:含有亞氯酸鹽的A劑、含有氣體產生劑的B劑、及含有二氧化氯還原劑的C劑,且藉由使A劑與B劑接觸而產生二氧化氯氣體,藉由使C劑接觸二氧化氯氣體來消滅二氧化
氯氣體。本實施形態的二氧化氯氣體產生消滅用的套組包括所述A劑、B劑、及C劑,藉由使該些以一定的順序接觸,可於使用後消滅所產生的二氧化氯氣體,因此可減少由使用後的二氧化氯氣體帶來的刺激性臭味。此處,所謂二氧化氯氣體的使用,只要是對被處理體的處理有效的使用,則無特別限制,包括於花粉、灰塵、皮屑、真菌等過敏誘發物質的處理;病原菌、病毒、有害化學物質(例如菸草煙霧、甲醛)等有害物質的處理;環境淨化、室內外及食品的除臭、防黴及防腐等廣泛範圍內使用二氧化氯氣體。
關於構成本實施形態的二氧化氯氣體產生消滅用的套組的A劑、B劑、及C劑;藉由A劑與B劑的接觸而產生二氧化氯氣體、以及藉由二氧化氯氣體與C劑的接觸來消滅二氧化氯氣體,與於實施形態1的二氧化氯氣體的產生消滅方法中說明的A劑、B劑、及C劑;氣體產生步驟、以及氣體消滅步驟相同,故不對該些進行重覆說明。
(實施例1)
關於本實施例,於存在3名官能檢查員(panelist)全部強烈承認的由菸草等帶來的惡臭的轎車(特斯拉(Tesla)公司製造的型號S)內,於使空調以「中」運作的空氣循環環境下,進行藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體(二氧化氯氣體,以下相同),以及藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體。
1. ClO2氣體產生消滅用的套組的製作
準備25質量%的亞氯酸鈉水溶液10g作為A劑、10質量%的鹽酸水溶液17g作為B劑、2.5質量%的異抗壞血酸鈉水溶液300g作為C劑。將C劑設為300g是為了裝入至觸發(trigger)式噴霧器中並進行噴霧,消滅ClO2氣體並使其濃度為0.1ppm以下所需要的C劑的量如後述般為極少量。
2.藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體
於底面為58mm×58mm、開口面為83mm×83mm、高度為30mm的倒正四稜台形狀的聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)製容器內,藉由使A劑的總量與B劑的總量混合而使A劑與B劑接觸並產生ClO2氣體。表1中彙總了自A劑與B劑藉由混合而接觸時起的經過時間與所述轎車內的ClO2氣體的濃度。關於ClO2氣體的濃度,對於1.0ppm以上的濃度,使用北川式檢測管進行測定,對於未滿1.0ppm的濃度,使用氣體技術(Gastec)低濃度檢測管No.23M或No.23L進行測定。ClO2氣體的濃度測定是藉由於確保所述轎車內的氣密性的狀態下,將所述檢測管的測定部***至所述轎車內而進行。
3.藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體
於自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過90分鐘時測定了ClO2氣體濃度後,自殘存有所產生的ClO2氣體的所述轎車內將接觸後的A劑及B劑取出,並且於所述轎車內將裝入至觸發式
噴霧器內的C劑噴霧5次(整體為4.75g)。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過95分鐘後(即自C劑噴霧時起經過5分鐘後)的轎車內的ClO2氣體濃度示於表1。如表1所示,此時的ClO2氣體的濃度為0.05ppm,為美國職業安全衛生署(OSHA)所設定的8小時暴露(PEL-TWA)的允許暴露濃度即0.1ppm以下。此時,對於所述轎車內的由ClO2氣體帶來的刺激性臭味,3名官能檢查員全部極稍微地承認,但減少至未感到不舒適的程度。另外,此時,對於轎車內的由菸草等帶來的惡臭,3名官能檢查員全部未承認,所述由菸草等帶來的惡臭已消失。再者,對於空調的排出臭味,3名官能檢查員亦全部未承認,所述空調的排出臭味已消失。
(實施例2)
關於本實施例,於存在3名官能檢查員全部強烈承認的由菸
草等帶來的惡臭的轎車(豐田(Toyota)公司製造的阿卡(AQUA))內,於使空調以「中(顯示值24)」運作的空氣循環環境下,進行藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體,以及藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體。
1. ClO2氣體產生消滅用的套組的製作
準備25質量%的亞氯酸鈉水溶液10g作為A劑、10質量%的鹽酸水溶液17g作為B劑、2.5質量%的L-抗壞血酸水溶液300g作為C劑。此處,將C劑設為300g是為了裝入至觸發式噴霧器中並進行噴霧,消滅ClO2氣體並使其濃度為0.1ppm以下所需要的C劑的量如後述般為極少量。
2.藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體
於與實施例1為相同形狀及大小的PET製容器內,藉由使A劑的總量與B劑的總量混合而使A劑與B劑接觸並產生ClO2氣體。表2中彙總了自A劑與B劑藉由混合而接觸時起的經過時間與所述轎車內的ClO2氣體的濃度。關於ClO2氣體的濃度,對於1.0ppm以上的濃度,使用北川式檢測管進行測定,對於未滿1.0ppm的濃度,使用氣體技術(Gastec)低濃度檢測管No.23M或No.23L進行測定。ClO2氣體的濃度測定是藉由於確保所述轎車內的氣密性的狀態下,將所述檢測管的測定部***至所述轎車內而進行。
3.藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體
於自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過90分鐘時測定了ClO2氣體濃度後,自殘存有所產生的ClO2氣體的所述轎車內將接觸後的A劑及B劑取出,並且於所述轎車內將裝入至觸發式噴霧器內的C劑噴霧5次(整體為4.75g)。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過95分鐘後(即自C劑噴霧時起經過5分鐘後)的所述轎車內的ClO2氣體濃度示於表2。如表2所示,此時的ClO2氣體的濃度為0.05ppm,為美國職業安全衛生署(OSHA)所設定的8小時暴露(PEL-TWA)的允許暴露濃度即0.1ppm以下。此時,對於所述轎車內的由ClO2氣體帶來的刺激性臭味,3名官能檢查員全部極稍微地承認,但減少至未感到不舒適的程度。另外,此時,對於所述轎車內的由菸草等帶來的惡臭,3名官能檢查員全部未承認,所述由菸草等帶來的惡臭已消失。再者,對於空調的排出臭味,3名官能檢查員亦全部未承認,所述空調的排出臭味已消失。
(實施例3)
關於本實施例,於存在3名官能檢查員全部強烈承認的由甲醛帶來的惡臭的6張榻榻米(tatami)大的房間(容量21.7m3:2.93m×3.37m×2.2m)內,進行藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體,以及藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體。
1. ClO2氣體產生消滅用的套組的製作
準備25質量%的亞氯酸鈉水溶液18g作為A劑、30質量%的檸檬酸水溶液30g作為B劑、2.5質量%的異抗壞血酸鈉水溶液300g作為C劑。將C劑設為300g是為了裝入至觸發式噴霧器中並進行噴霧,消滅ClO2氣體並使其濃度為0.1ppm以下所需要的C劑的量如後述般為少量。
2.藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體
於與實施例1為相同形狀及大小的PET製容器內,藉由使A劑的總量與B劑的總量混合而使A劑與B劑接觸並產生ClO2氣體。表3中彙總了自A劑與B劑藉由混合而接觸時起的經過時間與6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體的濃度。關於ClO2氣體的濃度,對於1.0ppm以上的濃度,使用北川式檢測管進行測定,對於未滿1.0ppm的濃度,使用氣體技術(Gastec)低濃度檢測管No.23M或No.23L進行測定。
3.藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體
於自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過6.25小時後,自殘存有所產生的ClO2氣體的所述6張榻榻米大的房間內將接觸後的A劑及B劑取出,並且於所述6張榻榻米大的房間內將裝入至觸發式噴霧器內的C劑噴霧35次(整體為33.25g)(稱為C劑的一次噴霧,以下相同)。此處,以如下的要領進行C劑的一次噴霧。將所述6張榻榻米大的房間內自出入口門向內分成分別為相同大小區域的外區域、中間區域、及內區域,自內區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧15次以便均勻擴展,自中間區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧10次以便均勻擴展,自外區域的內側朝向外側於各不相同的位置噴霧10次以便均勻擴展。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過7.25小時後(即自C劑的一次噴霧時起經過1小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表3所示,減少為0.75ppm。
繼而,於自A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過7.5小時後,於所述6張榻榻米大的房間內將所述C劑噴霧10次(整體為9.5g)(稱為C劑的二次噴霧,以下相同)。此處,關於C劑的二次噴霧,自所述內區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧4次以便均勻擴展,自中間區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展,自外區域的內側朝向外側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過8.5小時後(即自C劑的二次噴霧時起經過1小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表3所示,減少為0.10ppm,減少至美國職業安全衛生署(OSHA)所設定的8小時暴露(PEL-TWA)的允許暴露濃度的上限即0.1ppm。
進而,於自A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過8.75小時後,於所述6張榻榻米大的房間內將所述C劑噴霧2次(整體為1.9g)(稱為C劑的三次噴霧,以下相同)。此處,以如下的要領進行C劑的三次噴霧。將所述6張榻榻米大的房間內自出入口門向內分成分別為相同大小區域的外側區域及內側區域,自內側區域的外側朝向內側噴霧1次,自外側區域的內側朝向外側噴霧1次。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過9.0小時後(即自C劑的三次噴霧時起經過0.25小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表3所示,減少為0.05ppm,為美國職業安全衛生署(OSHA)所設定的8小時暴露(PEL-TWA)的允許暴露濃度即0.1ppm以下。此時,對於所述6張榻榻米大的房
間內的由ClO2氣體帶來的刺激性臭味,3名官能檢查員全部極稍微地承認,但減少至未感到不舒適的程度。另外,此時,對於所述6張榻榻米大的房間內的由甲醛帶來的惡臭,3名官能檢查員全部未承認,所述由甲醛等帶來的惡臭已消失。再者,對於空調的排出臭味,3名官能檢查員亦全部未承認,所述空調的排出臭味已消失。
(實施例4)
關於本實施例,於存在3名官能檢查員全部強烈承認的由甲醛帶來的惡臭的6張榻榻米大的房間(容量21.7m3:2.93m×3.37m×2.2m)內,進行藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體,以
及藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體。
1. ClO2氣體產生消滅用的套組的製作
準備25質量%的亞氯酸鈉水溶液18g作為A劑、30質量%的檸檬酸水溶液30g作為B劑、3.0質量/體積%(亦表記為w/v%。是指於100mL水溶液中存在3g過氧化氫的濃度)的過氧化氫水溶液(健榮製藥公司製造的雙氧水(Oxydol))300g作為C劑。將C劑設為300g是為了裝入至觸發式噴霧器中並進行噴霧,消滅ClO2氣體並使其濃度為0.1ppm以下所需要的C劑的量如後述般為極少量。
2.藉由A劑與B劑的接觸而產生ClO2氣體
於與實施例1為相同形狀及大小的PET製容器內,藉由使A劑的總量與B劑的總量混合而使A劑與B劑接觸並產生ClO2氣體。表4中彙總了自A劑與B劑藉由混合而接觸時起的經過時間與6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體的濃度。關於ClO2氣體的濃度,對於1.0ppm以上的濃度,使用北川式檢測管進行測定,對於未滿1.0ppm的濃度,使用氣體技術(Gastec)低濃度檢測管No.23M或No.23L進行測定。
3.藉由所產生的ClO2氣體與C劑的接觸來消滅ClO2氣體
於自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過6.33小時後,自殘存有所產生的ClO2氣體的所述6張榻榻米大的房間內將接觸後的A劑及B劑取出,並且於所述6張榻榻米大的房間內將裝入
至觸發式噴霧器內的C劑噴霧35次(整體為25.9g)(稱為C劑的一次噴霧,以下相同)。此處,以如下的要領進行C劑的一次噴霧。將所述6張榻榻米大的房間內自出入口門向內分成分別為相同大小區域的外區域、中間區域、及內區域,自內區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧15次以便均勻擴展,自中間區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧10次以便均勻擴展,自外區域的內側朝向外側於各不相同的位置噴霧10次以便均勻擴展。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過7.35小時後(即自C劑的一次噴霧時起經過1.02小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表4所示,減少為1.40ppm。
繼而,於自A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過7.75小時後,於所述6張榻榻米大的房間內將所述C劑噴霧10次(整體為7.4g)(稱為C劑的二次噴霧,以下相同)。此處,關於C劑的二次噴霧,自所述內區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧4次以便均勻擴展,自中間區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展,自外區域的內側朝向外側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過8.85小時後(即自C劑的二次噴霧時起經過1.1小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表4所示,減少為0.55ppm。
進而,於自A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過9.0小時後,於所述6張榻榻米大的房間內將所述C劑噴霧10次(整體
為7.4g)(稱為C劑的三次噴霧,以下相同)。此處,關於C劑的三次噴霧,自所述內區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧4次以便均勻擴展,自中間區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展,自外區域的內側朝向外側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過10.0小時後(即自C劑的三次噴霧時起經過1.0小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表4所示,減少為0.23ppm。
進而,於自A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過10.05小時後,於所述6張榻榻米大的房間內將所述C劑噴霧10次(整體為7.4g)(稱為C劑的四次噴霧,以下相同)。此處,關於C劑的四次噴霧,自所述內區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧4次以便均勻擴展,自中間區域的外側朝向內側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展,自外區域的內側朝向外側於各不相同的位置噴霧3次以便均勻擴展。自所述A劑與B劑藉由混合而接觸時起經過11.0小時後(即自C劑的四次噴霧時起經過0.95小時後)的所述6張榻榻米大的房間內的ClO2氣體濃度如表4所示,減少為0.05ppm,為美國職業安全衛生署(OSHA)所設定的8小時暴露(PEL-TWA)的允許暴露濃度即0.1ppm以下。此時,對於所述6張榻榻米大的房間內的由ClO2氣體帶來的刺激性臭味,3名官能檢查員全部極稍微地承認,但減少至未感到不舒適的程度。另外,此時,對於所述6張榻榻米大的房間內的由甲醛帶來
的惡臭,3名官能檢查員全部未承認,所述由甲醛帶來的惡臭已消失。再者,對於空調的排出臭味,3名官能檢查員亦全部未承認,所述空調的排出臭味已消失。
關於實施例1-實施例4,分別如表1-表4所示,根據如下的ClO2氣體產生消滅用的套組、以及如下的ClO2氣體的產生消滅方法,藉由於使用後消滅所產生的ClO2氣體,可減少由使用後的ClO2氣體帶來的刺激性臭味,其中,所述ClO2氣體產生消滅用的套組包括:含有亞氯酸鹽的A劑、含有氣體產生劑的B劑、及含有二氧化氯還原劑的C劑,且藉由使A劑與B劑接觸而產生
ClO2氣體,藉由使C劑接觸ClO2氣體來消滅ClO2氣體,所述ClO2氣體的產生消滅方法包括:氣體產生步驟,藉由使含有亞氯酸鹽的A劑與含有氣體產生劑的B劑接觸而產生ClO2氣體;以及氣體消滅步驟,藉由使含有二氧化氯還原劑的C劑接觸ClO2氣體來消滅ClO2氣體。因此,於使用ClO2氣體後不存在人的退避等問題,即便於聚集大量人的房間內及汽車內等,亦能夠於花粉、灰塵、皮屑、真菌等過敏誘發物質的處理;病原菌、病毒、有害化學物質(例如菸草煙霧、甲醛)等有害物質的處理;環境淨化、除臭、防黴及防腐等處理中廣泛使用ClO2氣體。
如所述實施例1-實施例4所示,藉由使C劑接觸所產生的ClO2氣體,可消滅ClO2氣體,從而減少由ClO2氣體帶來的刺激性臭味。
應考慮到此次揭示的實施形態及實施例於所有方面為例示,並無限制性。本發明的範圍是藉由申請專利範圍而非所述說明來表示,意在包含與申請專利範圍均等的含義及範圍內的全部變更。
S10‧‧‧氣體產生步驟
S20‧‧‧氣體消滅步驟
Claims (4)
- 一種二氧化氯氣體的產生消滅方法,包括:氣體產生步驟,藉由使為含有25質量%以下的亞氯酸鹽的水性液的A劑與為含有氣體產生劑的水性液的B劑接觸而產生二氧化氯氣體;以及氣體消滅步驟,藉由使為含有1質量%以上且5質量%以下的二氧化氯還原劑的水性液的C劑接觸所述二氧化氯氣體來消滅所述二氧化氯氣體,其中殘存的所述二氧化氯氣體的濃度為0.1ppm以下,其中藉由所述A劑與所述B劑的接觸而產生的二氧化氯:所述C劑中含有的二氧化氯還原劑以莫耳比計,為100:1至1:3的範圍。
- 如申請專利範圍第1項所述的二氧化氯氣體的產生消滅方法,其中所述二氧化氯還原劑含有選自由過氧化氫、異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽所組成的群組中的至少一個。
- 一種二氧化氯氣體產生消滅用的套組,包括:為含有25質量%以下的亞氯酸鹽的水性液的A劑、為含有氣體產生劑的水性液的B劑、及為含有1質量%以上且5質量%以下的二氧化氯還原劑的水性液的C劑,且藉由使所述A劑與所述B劑接觸而產生二氧化氯氣體,藉由使所述C劑接觸所述二氧化氯氣體來消滅所述二氧化氯氣體,其中殘存的所述二氧化氯氣體的濃度為0.1ppm以下,其中 藉由所述A劑與所述B劑的接觸而產生的二氧化氯:所述C劑中含有的二氧化氯還原劑以莫耳比計,為100:1至1:3的範圍。
- 如申請專利範圍第3項所述的二氧化氯氣體產生消滅用的套組,其中所述二氧化氯還原劑含有選自由過氧化氫、異抗壞血酸及其鹽、以及抗壞血酸及其鹽所組成的群組中的至少一個。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018147030A JP6961550B2 (ja) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キット |
JP2018-147030 | 2018-08-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202007640A TW202007640A (zh) | 2020-02-16 |
TWI778284B true TWI778284B (zh) | 2022-09-21 |
Family
ID=69232227
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW108127365A TWI778284B (zh) | 2018-08-03 | 2019-08-01 | 二氧化氯氣體的產生消滅方法和二氧化氯氣體產生消滅用的套組 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6961550B2 (zh) |
CN (1) | CN112512963A (zh) |
TW (1) | TWI778284B (zh) |
WO (1) | WO2020027060A1 (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102458487A (zh) * | 2009-06-04 | 2012-05-16 | 萨布尔知识产权控股有限责任公司 | 使用气态二氧化氯给被包围空间去污染 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI241274B (en) * | 2002-03-15 | 2005-10-11 | West King Technology Co Ltd | A process and equipment for the treatment of chlorine dioxide from sodium |
JP4575234B2 (ja) * | 2005-04-10 | 2010-11-04 | 株式会社タイコー | 二酸化塩素ガスの発生方法 |
JP2010077004A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Taikoo:Kk | 亜塩素酸塩溶液の安定化方法、安定化亜塩素酸塩溶液、二酸化塩素の発生方法および除去方法 |
WO2015136478A1 (en) * | 2014-03-12 | 2015-09-17 | Aqua Ecologic | Stable chlorine dioxide composition and method of preparation |
EP3153184A3 (en) * | 2015-09-16 | 2017-07-12 | Aqua Ecologic | Method and system for disinfecting with chlorine dioxide gas |
-
2018
- 2018-08-03 JP JP2018147030A patent/JP6961550B2/ja active Active
-
2019
- 2019-07-29 WO PCT/JP2019/029681 patent/WO2020027060A1/ja active Application Filing
- 2019-07-29 CN CN201980050345.9A patent/CN112512963A/zh active Pending
- 2019-08-01 TW TW108127365A patent/TWI778284B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102458487A (zh) * | 2009-06-04 | 2012-05-16 | 萨布尔知识产权控股有限责任公司 | 使用气态二氧化氯给被包围空间去污染 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020027060A1 (ja) | 2020-02-06 |
CN112512963A (zh) | 2021-03-16 |
TW202007640A (zh) | 2020-02-16 |
JP2020019696A (ja) | 2020-02-06 |
JP6961550B2 (ja) | 2021-11-05 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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