TWI770296B - 罐狀輥與長形基板處理裝置及長形基板處理裝置之管理方法 - Google Patents

罐狀輥與長形基板處理裝置及長形基板處理裝置之管理方法 Download PDF

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Abstract

提供一種冷卻用氣體不會從未捲繞長形基板之罐狀輥的非重疊部區域漏出之罐狀輥、及使用其之長形基板處理裝置。

在透過由旋轉環單元21和固定環單元22所構成的旋轉接頭，選擇性地將氣體供給到設置於罐狀輥的複數個氣體導入路之附帶氣體放出機構的罐狀輥中，嵌入固定環單元的環狀凹槽27a內之圓弧狀墊圈構件42係藉由墊圈安裝治具43的活塞構件朝旋轉環單元的旋轉開口部23a側推壓而安裝，堵住旋轉開口部以防止氣體從非重疊部區域漏出。又，活塞構件的活塞軸91係限制其行程範圍，即便圓弧狀墊圈構件磨損，也不會有活塞軸91的前端朝旋轉開口部側突出的情況，故可防止旋轉開口部的破損。

Description

罐狀輥與長形基板處理裝置及長形基板處理裝置之管理方法
本發明係關於將真空腔室內以輥對輥方式搬送之長形耐熱性樹脂薄膜等的長形基板捲繞於罐狀輥外周面的狀態下進行離子束處理或濺鍍成膜等施加熱負荷的表面處理之長形基板處理裝置，尤其係關於具有高冷卻效果的氣體放出機構且可抑制氣體從未被捲繞長形基板的罐狀輥外周面漏出之罐狀輥、與使用此罐狀輥之長形基板處理裝置的改良。
液晶面板、筆記型電腦、數位相機、行動電話等，係使用撓性配線基板。撓性配線基板係由在耐熱性樹脂薄膜的單面或雙面成膜有金屬膜之附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜製作。近年來，形成於撓性配線基板的配線圖案愈益微細化、高密度化，附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜本身為無皺褶等的平滑者變得更加重要。
作為此種附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜的製造方法，以往已知有：藉由接著劑將金屬箔貼附於耐熱性樹脂薄膜來製造之方法(稱為3層基板的製造方法)；在金屬箔塗布耐熱性樹脂溶液後，使之乾燥來製造的方法(稱為鑄造法)；藉由乾式鍍敷法(真空成膜法)或乾式鍍 敷法(真空成膜法)與濕式鍍敷法的組合在耐熱性樹脂薄膜成膜金屬膜來製造之方法(稱為金屬化法)等。又，採用金屬化法的上述乾式鍍敷法(真空成膜法)，係有真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法、離子束濺鍍法等。
作為上述金屬化法，專利文獻1中揭示有在聚醯亞胺絕緣層上濺鍍有鉻後，再濺鍍銅而在聚醯亞胺絕緣層上形成導體層之方法。又，專利文獻2中，揭示有可撓性電路基板用材料，其係在聚醯亞胺薄膜上依序積層以銅鎳合金作為靶材藉由濺鍍所形成之第一金屬薄膜、和以銅作為靶材藉由濺鍍所形成之第二金屬薄膜而形成。此外，要在如聚醯亞胺薄膜般的耐熱性樹脂薄膜(基板)進行真空成膜時，一般係使用濺鍍薄片塗布機。
在上述的真空成膜法中，一般認為濺鍍法雖然密接力優異，但相反地，與真空蒸鍍法相比較之下賦予耐熱性樹脂薄膜的熱負荷較大。且，已知若在成膜時於耐熱性樹脂薄膜施加大的熱負荷，則容易在薄膜產生皺摺。為了防止此皺褶的產生，係採用以下的方式：在屬於附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜的製造裝置之濺鍍薄片塗布機中搭載具有冷卻功能的罐狀輥，在將其旋轉驅動而劃分於其外周面的搬送路徑捲繞以輥對輥方式搬送的耐熱性樹脂薄膜，以此方式將濺鍍處理中的耐熱性樹脂薄膜從其背面側冷卻。
例如，在專利文獻3揭示有屬於濺鍍薄片塗布機的一例之捲出捲取式(輥對輥方式)真空濺鍍裝置。在此捲出捲取式真空濺鍍裝置具備有擔負上述罐狀輥的 角色之冷卻輥，進一步進行藉由設置於冷卻輥的至少薄膜搬入側或搬出側之副輥(sub-roll)將薄膜密接於冷卻輥之控制。
然而，如非專利文獻1所記載，罐狀輥的外周面由微觀來看並非平坦，故在罐狀輥與密接於其外周面而搬送的薄膜之間，存在有隔介真空空間而分離的空隙部(間隙)。因此，在濺鍍或蒸鍍時產生之薄膜的熱，難謂實際上會有效率地從薄膜傳熱到罐狀輥，此乃導致薄膜皺褶產生的原因。
於是，提出將氣體從罐狀輥側導入上述罐狀輥外周面與薄膜之間的空隙部，使空隙部的熱傳導率比真空還高之技術。
作為從罐狀輥側將氣體導入空隙部之具體方法，例如專利文獻4中揭示有在罐狀輥外周面設置作為氣體放出口之多數微細孔之技術，專利文獻5揭示有在罐狀輥外周面設置作為氣體放出口的溝之技術。又，亦知有將罐狀輥本身以多孔質體構成，將其多孔質體本身的微細孔作成氣體放出口之方法。
在罐狀輥外周面設置作為氣體放出口的微細孔或溝等之方法中，在罐狀輥的外周面未捲繞薄膜的區域(非重疊部區域)比起有捲繞薄膜的區域(重疊部區域)，氣體放出口的阻力會變低。因此，被供給到罐狀輥的氣體，大部分會從非重疊部區域的氣體放出口朝真空腔室的空間被放出，其結果，會有無法供給原本應導入罐狀輥的外周面與捲繞於該處的薄膜之間的空隙部之量的氣體，而難以獲得提高上述的熱傳導率的效果之情形。
針對此問題，提出有藉由將從罐狀輥的外周面出沒的閥設置於氣體放出口，以薄膜面按壓此閥來開啟氣體放出口之方法(專利文獻5)；或在上述罐狀輥外周面內，於將以搬出薄膜的搬出部為起點且以搬入薄膜的搬入部為終點之未捲繞薄膜的區域(罐狀輥外周面的上述非重疊部區域)安裝罩(cover)，防止氣體從非重疊部區域朝真空腔室的空間被放出，以使氣體有效率地導入罐狀輥外周面與薄膜表面的空隙部之方法(參照專利文獻6)等。
然而，以薄膜面按壓從罐狀輥外周面出沒的閥以使氣體放出口開啟之專利文獻5的方法，恐有因閥的接觸而在薄膜面產生些微的傷痕或凹陷之虞，難以採用於以要求高品質的電子機器為用途之撓性配線基板的製造。又，在罐狀輥外周面內，於未捲繞薄膜的區域(非重疊部區域)安裝罩之專利文獻6的方法，在高真空度下進行成膜的處理裝置中，氣體容易從罩與罐狀輥外周面的間隙漏出，故與專利文獻5的方法同樣，難以採用。
在此種技術背景下，本案發明人已提出設成不將氣體供給到未捲繞薄膜的罐狀輥外周面之構造，以防止氣體從上述非重疊部區域放出之罐狀輥(參照專利文獻7)。亦即，此罐狀輥係如圖2所示，控制成在罐狀輥56的厚壁部設有複數個氣體導入路14，且在各氣體導入路14設置有多數個氣體放出孔15，並且透過下述旋轉接頭20將真空腔室外部的氣體選擇性地供給至氣體導入路14的每一者。又，上述旋轉接頭20係如圖2 所示，由固定環單元22和旋轉環單元21所構成，製作有：以各單元的氣體控制用滑接面相對於上述罐狀輥56的中心軸56a成為垂直之方式形成的罐狀輥、和以各單元的氣體控制用滑接面相對於上述中心軸56a成為平行的方式形成的罐狀輥。
以固定環單元22和旋轉環單元21的氣體控制用滑接面相對於上述罐狀輥56的中心軸56a成為垂直的方式形成的罐狀輥之上述旋轉環單元21，係如圖3~圖5所示，具有透過連結配管25分別與複數個氣體導入路14連通的複數個氣體供給路23，且此等複數個氣體供給路23的每一者，係在上述氣體控制用滑接面具有旋轉開口部23a，該等旋轉開口部23a係在與經由上述連結配管25而連通之氣體導入路14的罐狀輥56外周面上的角度位置對應之角度位置(亦即，與罐狀輥56外周面上的角度位置大致相同的角度位置)開口。另一方面，上述固定環單元22係由在涵蓋圓周方向設置於氣體控制用滑接面之環狀凹槽27a所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽27a內的既定區域之圓弧狀墊圈構件42封閉固定環單元22的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的供給配管26連通之氣體分配路27，上述固定開口部係在旋轉環單元21的旋轉開口部23a面對的固定環單元22的氣體控制用滑接面上的區域中，於捲繞薄膜(長形基板)52的角度範圍內開口。此外，圖3~圖5中，符號43係表示墊圈安裝治具。
在與罐狀輥56外周面未被捲繞薄膜52之罐狀輥56的非重疊部區域對應之情況，如圖3所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a，係與固定環單元22的環狀凹槽27a內嵌入有圓弧狀墊圈構件42的固定封閉部對向，而成為氣體供給路23和氣體分配路27彼此分離的狀態，形成來自真空腔室50外部的氣體不會被供給到氣體供給路23之構造，所以不會有氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出之情況。又，在與罐狀輥56外周面未被捲繞薄膜52之罐狀輥56的重疊部區域對應之情況，如圖3所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a，係與上述固定環單元22的環狀凹槽27a內未被嵌入圓弧狀墊圈構件42的固定開口部對向，而成為氣體供給路23與氣體分配路27連接的狀態，構成為氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出，氣體被導入罐狀輥56外周面與薄膜52間的空隙部。
另一方面，以固定環單元22與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥56的中心軸56a成為平行之方式形成的旋轉接頭20，係如圖6~圖8所示由包含設成與罐狀輥56同心軸狀之圓筒基部21a和圓筒凸部21b的剖面凸形狀旋轉環單元21、以及供該旋轉環單元21的圓筒凸部21b嵌入的圓筒狀固定環單元22所構成。旋轉環單元21係具有經由連結配管25而與複數個氣體導入路14分別連通的複數個氣體供給路23，並且氣體供給路23的每一者係在圓筒凸部21b的氣體控制用滑接面具有旋轉開口部23a，該旋轉開口部23a係在 與連通之氣體導入路14的罐狀輥56外周面上的角度位置對應之角度位置開口。又，固定環單元22係由在涵蓋圓周方向設置於其圓筒內周面的環狀凹槽27a所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽27a內的既定區域之圓弧狀墊圈構件42封閉固定環單元22的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室50外部的供給配管26連通之氣體分配路27，上述固定開口部係在旋轉環單元21的圓筒凸部21b的旋轉開口部23a面對的固定環單元22之氣體控制用滑接面上的區域中，於捲繞薄膜(長形基板)52的角度範圍內開口。此外，圖6~圖8中，符號43係表示墊圈安裝治具。
在與罐狀輥56外周面未被捲繞薄膜52之罐狀輥56的非重疊部區域對應之情況，如圖6所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a係與固定環單元22的環狀凹槽27a內嵌入有圓弧狀墊圈構件42的固定封閉部對向，而成為氣體供給路23與氣體分配路27彼此分離的狀態，形成來自真空腔室50外部的氣體不會被供給到氣體供給路23之構造，所以不會有氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出之情況。又，在與罐狀輥56外周面被捲繞薄膜52之罐狀輥56的重疊部區域對應之情況，如圖6所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a，係與上述固定環單元22的環狀凹槽27a內未被嵌入圓弧狀墊圈構件42的固定開口部對向，而成為氣體供給路23與氣體分配路27連接的狀態，氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出，構成氣體被導入罐狀輥56外周面與薄膜52間的空隙部。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本特開平2-98994號公報
專利文獻2 日本特許第3447070號公報
專利文獻3 日本特開昭62-247073號公報
專利文獻4 國際公開第2005/001157號公報
專利文獻5 美國專利第3414048號說明書
專利文獻6 國際公開第2002/070778號公報
專利文獻7 日本特開2012-132081號公報
非專利文獻
非專利文獻1 ”Vacuum Heat Transfer Models for Web Substrates: Review of Theory and Experimental Heat Transfer Data”, 2000 Society of Vacuum Coaters, 43rd Annual Technical Conference Proceeding, Denver, April 15-20, 2000, p.335
非專利文獻2 ”Improvement of Web Condition by the Deposition Drum Design”, 2000 Society of Vacuum Coaters, 50th Annual Technical Conference Proceeding (2007), p.749
在具備上述旋轉接頭之專利文獻7的罐狀輥中，嵌入固定環單元22的環狀凹槽27a內之圓弧狀墊圈 構件42係由聚四氟乙烯等的氟系樹脂所構成，如圖9(A)~(B)所示具有嵌入環狀凹槽27a內的圓弧形狀，並且使墊圈安裝治具43的固定構件(固定螺絲或活塞軸等)前端部嵌入的複數個嵌入孔42a係設置於圓弧狀墊圈構件42的一面。
此外，圖9(A)係表示以旋轉環單元和固定環單元的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成垂直之方式形成之適用於「垂直型旋轉接頭」的圓弧狀墊圈構件，圖9(B)係表示以旋轉環單元和固定環單元的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成平行之方式形成之適用於「平行型旋轉接頭」的圓弧狀墊圈構件。
由於係設成可將設置於旋轉環單元的氣體控制用滑接面之複數個旋轉開口部23a確實地封閉，故使用墊圈安裝治具43的固定構件(固定螺絲或活塞軸等)如圖9(C)所示在朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓的狀態下安裝有圓弧狀墊圈構件42。
然而，在適用固定螺絲43a作為固定構件的情況，當圓弧狀墊圈構件42為新品時，如圖10(A)所示可在圓弧狀墊圈構件42的前端部將旋轉環單元21的旋轉開口部23a確實地封閉，但當圓弧狀墊圈構件42因與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面之接觸而磨損時，如圖10(B)所示在該圓弧狀墊圈構件42的前端部與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面間形成有間隙空間α，所以會有氣體從上述旋轉開口部23a漏洩的情況發生。當氣體從氣體控制用滑接面之旋轉開口部23a漏洩的情況發 生時，便難以控制罐狀輥表面與薄膜的空隙間壓力，會有因冷卻效率降低或偏差不均而在表面處理中的薄膜產生皺摺之情形。
另一方面，在適用具有彈簧材等推壓手段的活塞軸43b作為固定構件時，由於會成為圓弧狀墊圈構件42始終朝旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側被推壓的狀態，所以如圖10(C)~(D)所示即使圓弧狀墊圈構件42因與氣體控制用滑接面接觸而磨損，也可封閉旋轉環單元21的旋轉開口部23a。
然而，圓弧狀墊圈構件42的磨損更加遽進行，在如圖10(D)所示活塞軸43b的前端從環狀凹槽27a的開口面朝外方(亦即，旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側)突出的情況，會損傷旋轉環單元21的旋轉開口部23a，而產生之後難以使用的嚴重問題。
本發明係有鑑於此種問題點而研創者，其課題在提供一種即便圓弧狀墊圈構件因與旋轉環單元的氣體控制用滑接面接觸而磨損，也可確實地封閉上述旋轉環單元的旋轉開口部，且因墊圈安裝治具的固定構件(具有推壓手段的活塞軸)所致之旋轉開口部的損傷也可防範於未然之罐狀輥與長形基板處理裝置、同時可管理圓弧狀墊圈構件的交換時期之長形基板處理裝置的管理方法。
於是，為了解決上述課題，本案發明人針對墊圈安裝治具之活塞軸的構成試著努力改良的結果，完成可防止因上述活塞軸所致之旋轉開口部的損傷之本發明。
亦即，本發明的第1發明，具備：供冷媒循環的冷媒循環部；於圓周方向隔著大致均等的間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路；及將真空腔室外部的氣體供給到此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭；在真空腔室內，將以輥對輥方式被搬送的長形基板部分地捲繞於外周面並加以冷卻，其特徵為：上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著大致均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係控制成：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路，上述旋轉接頭係由設置成與罐狀輥呈同心軸狀且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈垂直的旋轉環單元和固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通之複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的氣體控制用滑接面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域的圓弧狀墊圈構件封閉上述 固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側，第2發明係一種罐狀輥，具備：供冷媒循環的冷媒循環部；於圓周方向隔著大致均等間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路；及將真空腔室外部的氣體供給至此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭；在真空腔室內，將以輥對輥方式被搬送的長形基板部分地捲繞於外周面並加以冷卻，其特徵為：上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著大致均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係控制成：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路，上述旋轉接頭係由包含設置成與罐狀輥呈同心軸狀之圓筒基部和圓筒凸部之剖面凸形狀的旋轉環單元、和供上述旋轉環單元的圓筒凸部嵌入且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈平行之圓筒狀的固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通的複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元中的圓筒凸部的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的圓筒內周面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元中的圓筒凸部的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側，又，第3發明係如第1發明或第2發明之罐狀輥，其中上述墊圈安裝治具的構成包含：筒狀本體，係被收容於供圓弧狀墊圈構件嵌入之環狀凹槽的背面側所設置 的治具收容部內，一端側被封閉且另一端側具有活塞軸貫通用的孔部；活塞構件，由收容於該筒狀本體內且貫通上述孔部的活塞軸、和設置於該活塞軸的基端側之凸緣部所構成；以及推壓手段，收容於筒狀本體內且透過上述活塞構件的凸緣部將活塞軸朝環狀凹槽側推壓；上述活塞構件的活塞軸前端係貫通設置於環狀凹槽底面的孔部，而從上述圓弧狀墊圈構件的背面側***該圓弧狀墊圈構件內，並且圓弧狀墊圈構件因與旋轉環單元的氣體控制用滑接面接觸而磨損，上述活塞構件的凸緣部被卡定於筒狀本體的孔部，藉此限制上述活塞軸的行程範圍。
再者，第4發明係如第1發明~第3發明中任一發明之罐狀輥，其中將上述活塞構件的活塞軸朝環狀凹槽側推壓的推壓手段係藉由組入活塞構件之凸緣部的背面側之彈簧材所構成，第5發明係如第4發明之罐狀輥，其中上述彈簧材係線圈彈簧，第6發明係如第1發明~第5發明中任一發明之罐狀輥，其中上述圓弧狀墊圈構件係由氟系樹脂所構成。
其次，本發明的第7發明係一種長形基板處理裝置，其係具備：真空腔室；搬送機構，係在該真空腔室內以輥對輥方式搬送長形基板；處理手段，係對長形基板實施施加熱負荷的處理；以及罐狀輥，具有在圓周方向隔著大致均等間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路、及將真空 腔室外部的氣體供給至此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭，並且將長形基板部分地捲繞在經循環的冷媒冷卻後的外周面並加以冷卻；上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著大致均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係具有：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路之構造，其特徵為：上述旋轉接頭係由設置成與罐狀輥呈同心軸狀且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈垂直的旋轉環單元和固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通之複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元中的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的氣體控制用滑接面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域的圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元的旋轉開口部所對向之固定 環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側。
第8發明係一種長形基板處理裝置，其係具備：真空腔室；搬送機構，係在該真空腔室內以輥對輥方式搬送長形基板；處理手段，係對長形基板實施施加熱負荷的處理；以及罐狀輥，具有在圓周方向隔著大致均等間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路、及將真空腔室外部的氣體供給至此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭，並且將長形基板部分地捲繞在經循環的冷媒冷卻後的外周面並加以冷卻；上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著大致均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係具有：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路之構造，其特徵為：上述旋轉接頭係由包含設置成與罐狀輥呈同心軸狀之圓筒基部和圓筒凸部之剖面凸形狀的旋轉環單元、和供上述旋轉環單元的圓筒凸部嵌入且各氣體控制用滑接 面形成相對於罐狀輥的中心軸呈平行之圓筒狀的固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通的複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元中的圓筒凸部的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的圓筒內周面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元中的圓筒凸部的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側。
又，第9發明係如第7發明或第8發明之長形基板處理裝置，其中上述墊圈安裝治具的構成包含：筒狀本體，係被收容於供圓弧狀墊圈構件嵌入之環狀凹槽的背面側所設置的治具收容部內，一端側被封閉且另一端側 具有活塞軸貫通用的孔部；活塞構件，由收容於該筒狀本體內且貫通上述孔部的活塞軸、和設置於該活塞軸的基端側之凸緣部所構成；以及推壓手段，收容於筒狀本體內且透過上述活塞構件的凸緣部將活塞軸朝環狀凹槽側推壓；上述活塞構件的活塞軸前端係貫通設置於環狀凹槽底面的孔部，而從上述圓弧狀墊圈構件的背面側***該圓弧狀墊圈構件內，並且圓弧狀墊圈構件因與旋轉環單元的氣體控制用滑接面接觸而磨損，上述活塞構件的凸緣部被卡定於筒狀本體的孔部，藉此限制上述活塞軸的行程範圍。
再者，本發明的第10發明係如第7發明~第9發明中任一發明之長形基板處理裝置，其中將上述活塞構件的活塞軸朝環狀凹槽側推壓的推壓手段，係由組入活塞構件之凸緣部的背面側之彈簧材所構成。
第11發明係如第10發明之長形基板處理裝置，其中上述彈簧材係線圈彈簧。
第12發明係如第7發明~第11發明中任一發明之長形基板處理裝置，其中上述圓弧狀墊圈構件係由氟系樹脂所構成。
第13發明係如第7發明~第12發明中任一發明之長形基板處理裝置，其中施加熱負荷的上述處理係電漿處理或離子束處理。
第14發明係如第13發明之長形基板處理裝置，其中進行上述電漿處理或離子束處理的機構係與在罐狀輥的外周面所劃分的搬送路徑對向。
第15發明係如第7發明~第12發明中任一發明之長形基板處理裝置，其中施加熱負荷的上述處理為真空成膜處理。
第16發明係如第15發明之長形基板處理裝置，其中上述真空成膜處理係藉由與在罐狀輥的外周面所劃分之搬送路徑對向的真空成膜手段所進行之處理。
第17發明係如第16發明之長形基板處理裝置，其中上述真空成膜手段係磁控濺鍍。
又，第18發明係如第7發明~第17發明中任一發明之長形基板處理裝置的管理方法，其特徵為：依據上述氣體導入路內之氣體壓力的降低、或用以保持氣體導入路內的指定壓力之氣體導入量的增加，管理上述圓弧狀墊圈構件的交換時期。
根據本發明之罐狀輥與長形基板處理裝置，由於嵌入環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，故即使圓弧狀墊圈構件因與上述氣體控制用滑接面接觸而磨損，也可確實地封閉旋轉環單元的旋轉開口部。
又，固定圓弧狀墊圈構件的上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側，即便是在因與氣體控制用滑接面接觸而使圓弧狀墊圈構件已呈磨損狀態的情況下，也不會有活塞軸前端朝旋轉環單元的氣體控 制用滑接面側突出之情況，所以也可事先防止旋轉環單元中的旋轉開口部損傷。
再者，根據本發明之長形基板處理裝置的管理方法，依據氣體導入路內之氣體壓力的降低、或用以保持氣體導入路內的指定壓力之氣體導入量的增加，確認氣體從旋轉開口部漏出，藉此可檢測圓弧狀墊圈構件的磨損狀態，所以可管理圓弧狀墊圈構件的交換時期。
α‧‧‧間隙空間
10‧‧‧圓筒構件
11‧‧‧冷媒循環部
12‧‧‧旋轉軸
12a‧‧‧內側配管
12b‧‧‧外側配管
14‧‧‧氣體導入路
15‧‧‧氣體放出孔
20‧‧‧旋轉接頭
21‧‧‧旋轉環單元
21a‧‧‧圓筒基部
21b‧‧‧圓筒凸部
22‧‧‧固定環單元
23‧‧‧氣體供給路
23a‧‧‧旋轉開口部
23a1‧‧‧旋轉開口部(對應於非重疊部區域)
23a2‧‧‧旋轉開口部(對應於重疊部區域)
25‧‧‧連結配管
26‧‧‧供給配管
27‧‧‧氣體分配路
27a‧‧‧環狀凹槽
32‧‧‧軸承
40‧‧‧冷卻水口
41‧‧‧固定治具
42‧‧‧圓弧狀墊圈構件
42a‧‧‧嵌入孔
43‧‧‧墊圈安裝治具
43a‧‧‧固定螺絲
43b‧‧‧活塞軸
44‧‧‧氣體導入路
50‧‧‧真空腔室
51‧‧‧捲出輥
52‧‧‧長形耐熱性樹脂薄膜(長形基板)
53、63‧‧‧自由輥
54、62‧‧‧張力感測輥
55、61‧‧‧進料輥
56‧‧‧罐狀輥
56a‧‧‧中心軸
57、58、59、60‧‧‧磁控濺鍍陰極
64‧‧‧捲取輥
77‧‧‧旋轉環單元的固定螺絲孔
82‧‧‧壓力計埠
83‧‧‧壓力計埠
90‧‧‧筒狀本體
91‧‧‧活塞軸
92‧‧‧凸緣部
93‧‧‧推壓手段(線圈彈簧)
100‧‧‧治具收容部
圖1係表示適用本發明的罐狀輥之輥對輥方式的長形基板處理裝置的一例之說明圖。
圖2係具備旋轉接頭之專利文獻7的罐狀輥的概略立體圖。
圖3係以各氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成垂直的方式形成的固定環單元與旋轉環單元之概略立體圖。
圖4係表示以固定環單元與旋轉環單元的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成垂直的方式形成之罐狀輥的概略構成之說明圖。
圖5係以各氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成垂直的方式形成之由固定環單元和旋轉環單元所構成之旋轉接頭的側面圖、及A-A’剖面與B-B’剖面圖。
圖6係以各氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成平行的方式形成之固定環單元和旋轉環單元的概略立體圖。
圖7係表示以固定環單元和旋轉環單元的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成平行的方式形成之罐狀輥的概略構成之說明圖。
圖8係以各氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成平行的方式形成之由固定環單元和旋轉環單元所構成之旋轉接頭的側面圖、及A-A’剖面與B-B’剖面圖。
圖9(A)係表示適用於「垂直型旋轉接頭」之圓弧狀墊圈構件的概略部分立體圖，圖9(B)係表示適用於「平行型旋轉接頭」之圓弧狀墊圈構件的概略部分立體圖，圖9(C)係表示在朝氣體控制用滑接面側推壓的狀態下安裝有圓弧狀墊圈構件的狀態之說明圖。
圖10(A)係表示適用了固定螺絲作為墊圈安裝治具的固定構件之狀態之說明圖，圖10(B)係表示適用了固定螺絲時的問題(來自旋轉開口部的氣體漏洩)之說明圖，圖10(C)係表示適用了具有推壓手段的活塞軸作為墊圈安裝治具的固定構件之狀態之說明圖，圖10(D)係表示適用了活塞軸的情況的問題(旋轉開口部的破損)之說明圖。
圖11(A)~(B)係表示作為墊圈安裝治具的固定構件，適用了行程範圍受限制之本發明的活塞構件的狀態之概略立體圖。
圖12(A)~(C)係本發明之活塞構件的作用說明圖。
用以實施發明的形態
以下，針對本發明與習知例的罐狀輥及搭載有該罐狀輥之長形基板處理裝置的一具體例，一邊參照圖式，一邊詳細說明。首先，參照圖1，說明關於長形基板處理裝置的一例之長形基板真空成膜裝置。此外，說明長形基板，係使用長形耐熱性樹脂薄膜作為一例的情況。又，作為對長形基板所實施之施加熱負荷的處理，係以濺鍍處理為例來說明。
(1)長形基板處理裝置
圖1所示之長形耐熱性樹脂薄膜的成膜裝置係稱為濺鍍薄片塗布機(sputtering web coater)的裝置，可較佳地使用於對以輥對輥方式被搬送之長形耐熱樹脂薄膜的表面連續地以良好效率實施成膜處理之情況。
具體說明之，以輥對輥方式搬送的長形耐熱性樹脂薄膜的成膜裝置(濺鍍薄片塗布機)係設置於真空腔室50內，對從捲出輥51捲出的長形耐熱性樹脂薄膜52進行既定的成膜處理後，以捲取輥64捲取。在從捲出輥51至捲取輥64之搬送路徑的中途，配置有藉馬達旋轉驅動的罐狀輥56。在此罐狀輥56的內部，循環有於真空腔室50的外部經溫度調整後的冷媒。在此，將在罐狀輥56的外周面捲繞有薄膜52的部分稱為「重疊部」，未捲繞有薄膜52的部分稱為「非重疊部」。
在真空腔室50內，為了濺鍍成膜，進行到達壓力10-4Pa左右為止的減壓、與之後的濺鍍氣體的導入所致之0.1~10Pa左右的壓力調整。濺鍍氣體係使用 氬等週知的氣體，依目的可進一步添加氧等的氣體。真空腔室50的形狀、材質只要可承受此種減壓狀態者即可，並無特別限制，可使用各種構成。由於係如上述將真空腔室50內減壓並維持其狀態，故在真空腔室50具備有未圖示之乾式泵、渦輪分子泵、低溫盤管(cryocoil)等各種裝置。
在捲出輥51至罐狀輥56的搬送路徑，依序配置有：引導長形耐熱性樹脂薄膜52的自由輥(free roller)53；及進行長形耐熱性樹脂薄膜52的張力測定之張力感測輥54。又，從張力感測輥54送出而朝向罐狀輥56的長形耐熱性樹脂薄膜52，係藉由設置於罐狀輥56附近之馬達驅動的進料輥55，進行對罐狀輥56的圓周速度之調整。藉此，可使長形耐熱性樹脂薄膜52密接於罐狀輥56的外周面。
從罐狀輥56至捲取輥64的搬送路徑亦與上述同樣，依序配置有進行對罐狀輥56的圓周速度之調整之馬達驅動的進料輥61；進行長形耐熱性樹脂薄膜52的張力測定之張力感測輥62；及引導長形耐熱性樹脂薄膜52的自由輥63。
在上述捲出輥51及捲取輥64中，藉由粉粒離合器(powder clutch)等所進行的轉矩控制(torque control)來保持長形耐熱性樹脂薄膜52的張力平衡。又，藉由罐狀輥56的旋轉及與此連動而旋轉之馬達驅動的進料輥55、61，長形耐熱性樹脂薄膜52從捲出輥51捲出而被捲取輥64捲取。
在罐狀輥56的附近，在與由罐狀輥56的外周面所劃分之搬送路徑(亦即，捲繞罐狀輥56的外周面中之長形耐熱性樹脂薄膜52的區域)對向的位置，設置有作為成膜手段之磁控濺鍍陰極(magnetron sputtering cathode)57、58、59及60。此外，將上述角度範圍稱為長形耐熱性樹脂薄膜52的圍抱角度，將此範圍稱為上述重疊部。
為金屬膜的濺鍍成膜的情況，係如圖1所示可使用板狀靶材，惟使用板狀靶材時，會有在靶材上產生結節(nodule)(異物生長)之情況。當此成為問題時，較佳係使用不會產生結節，且靶材的使用效率也高的圓筒形旋轉靶材(rotary target)。
又，由於此圖1之長形耐熱性樹脂薄膜52的成膜裝置，係假定濺鍍處理作為施加熱負荷的處理，故圖示磁控濺鍍陰極，惟在施加熱負荷的處理為CVD(化學蒸鍍)或蒸鍍處理等其他處理的情況，可設置其他的真空成膜手段來取代板狀靶材。
(2)附帶氣體放出機構的罐狀輥
其次，一邊參照圖2、圖4及圖7，一邊說明附帶氣體放出機構的罐狀輥。此附帶氣體放出機構的罐狀輥56，係由透過未圖示的驅動裝置以旋轉中心軸56a為中心被旋轉驅動的圓筒構件10(參照圖2)所構成。在此圓筒構件10的外表面，劃分一邊捲繞長形耐熱性樹脂薄膜52一邊搬送的搬送路徑。在圓筒構件10的內表面側， 供冷卻水等冷媒流通的冷媒循環部11(參照圖4及圖7)係由護套(jacket)構造形成。
又，位於圓筒構件10的旋轉中心軸56a部分之旋轉軸12(參照圖2)係形成雙重配管構造，冷媒係在透過此旋轉軸12設於真空腔室50外部之未圖示的冷媒冷卻裝置與冷媒循環部11之間循環，藉此可進行罐狀輥56外周面的溫度調節。
亦即，在冷媒冷卻裝置冷卻之冷卻水等的冷媒，係從冷卻水口40導入且經由內側配管12a的內側被送到冷媒循環部11，在此接收長形耐熱性樹脂薄膜52的熱而升溫後，經由內側配管12a與外側配管12b之間的空間，再次返回冷媒冷卻裝置。此外，在外側配管12b的外側，設置有支持旋轉的罐狀輥56之軸承(bearing)32。
在此罐狀輥56的圓筒構件10，於圓周方向隔著大致均等間隔涵蓋全周配設有複數個氣體導入路14。此等複數個氣體導入路14的每一者，係以沿著罐狀輥56的旋轉中心線56a方向延伸的方式，穿設於圓筒構件10的厚壁部內。此外，圖2係表示12條氣體導入路14隔著均等間隔涵蓋全周配設的例子。
各氣體導入路14係具有在圓筒構件10的外表面側(亦即，罐狀輥56的外周面側)開口的複數個氣體放出孔15。此等複數個氣體放出孔15係沿著罐狀輥56的旋轉中心軸56a方向隔著大致均等的間隔穿設。然後，如圖2所示，氣體透過由旋轉環單元21和固定環單元22所構成的旋轉接頭20，從真空腔室50的外部被供 給到各氣體導入路14，藉此可將氣體導入罐狀輥56的外周面與捲繞於此的長形耐熱性樹脂薄膜52之間所形成的空隙部(間隙)。
由於上述長形耐熱性樹脂薄膜52與罐狀輥56表面係如上所述並非完全的平面，所以其空隙部(間隙)藉由真空絕熱而使熱傳導效率降低，成為因濺鍍成膜時的熱導致耐熱性樹脂薄膜52的皺褶產生的原因。
此外，根據非專利文獻2，在導入氣體為氬氣的情況，當導入氣體壓力為500Pa且空隙間距離為約40μm以下時，空隙間的熱傳導率成為250(W/m2‧K)。在本發明的附帶氣體放出機構的罐狀輥中也是，重疊部的罐狀輥表面與薄膜間空隙的氣體壓力愈高，熱傳導率變愈高，薄膜冷卻效率變佳。然而，當上述氣體壓力超過罐狀輥以薄膜張力T被推壓的力之阻力P=T/R(R：罐狀輥半徑)時，薄膜會從罐狀輥浮起而使氣體壓力控制變困難。因此，罐狀輥表面與薄膜間空隙之氣體壓力的控制是重要的。若藉由旋轉接頭內的墊圈構件沒有完全地停止對非重疊部的氣體導入時，會有無法進行正確的壓力控制之情況。
以下，說明關於以旋轉環單元和固定環單元的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成垂直的方式形成之上述「垂直型旋轉接頭」、以及旋轉環單元和固定環單元的氣體控制用滑接面相對於罐狀輥的中心軸成平行的方式形成之上述「平行型旋轉接頭」。
(3)旋轉接頭 (3-1)垂直型旋轉接頭
垂直型旋轉接頭係如圖3~圖5所示由旋轉環單元21、和以不會藉固定治具41旋轉的方式固定的固定環單元22所構成。
上述旋轉環單元21係具有隔介連結配管25而與複數個氣體導入路14分別連通的複數個氣體供給路23，且氣體供給路23的每一者係在氣體控制用滑接面具有旋轉開口部23a，該等旋轉開口部23a係在與隔介上述連結配管25而連通之氣體導入路14的罐狀輥56外周面上的角度位置對應之角度位置(與罐狀輥56外周面上的角度位置大致相同的角度位置)開口。
另一方面，上述固定環單元22係由在涵蓋圓周方向設置於氣體控制用滑接面之環狀凹槽27a所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽27a內的既定區域之圓弧狀墊圈構件42封閉固定環單元22的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的供給配管26連通之氣體分配路27。又，上述固定開口部係在旋轉環單元21的旋轉開口部23a面對的固定環單元22的氣體控制用滑接面上的區域中，於捲繞長形耐熱性樹脂薄膜52的角度範圍內開口。
在與罐狀輥56外周面未被捲繞薄膜52之罐狀輥56的非重疊部區域對應之情況，如圖3所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a係與固定環單元22的環狀 凹槽27a內嵌入有圓弧狀墊圈構件42的固定封閉部對向，而使氣體供給路23和氣體分配路27成為彼此分離的狀態，形成來自真空腔室50外部的氣體不會被供給到氣體供給路23之構造，所以不會有氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出之情況。
另一方面，在與罐狀輥56外周面被捲繞薄膜52之罐狀輥56的重疊部區域對應之情況，如圖3所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a係與上述固定環單元22的環狀凹槽27a內未被嵌入圓弧狀墊圈構件42的固定開口部對向，而成為氣體供給路23與氣體分配路27連接的狀態，構成為氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出，氣體被導入罐狀輥56外周面與薄膜52間的空隙部。
此外，圖3~圖5中的符號43係表示墊圈安裝治具，圖5中的符號77係表示旋轉環單元21的固定螺絲孔，又，圖5中的符號82和83係表示用以測定氣體分配路27內的壓力之壓力計埠，該氣體分配路27內的壓力相當於罐狀輥56外周面捲繞薄膜52之重疊部區域的罐狀輥56表面與薄膜52的空隙間氣體壓力。
(3-2)平行型旋轉接頭
平行型旋轉接頭係如圖6~圖8所示，由包含圓筒基部21a和圓筒凸部21b的剖面凸形狀旋轉環單元21、與供旋轉環單元21的上述圓筒凸部21b嵌入且固定成不會藉固定治具41旋轉之固定環單元22所構成。
上述旋轉環單元21係具有隔介連結配管25而與複數個氣體導入路14分別連通的複數個氣體供給路23，且氣體供給路23的每一者係在圓筒凸部21b的氣體控制用滑接面具有旋轉開口部23a，其係在與連通之氣體導入路14的罐狀輥56外周面上的角度位置對應的角度位置開口。
另一方面，固定環單元22係藉由在涵蓋圓周方向設置於其圓筒內周面的環狀凹槽27a所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽27a內的既定區域之圓弧狀墊圈構件42封閉固定環單元22的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與氣體控制用滑接面未被封閉的固定開口部，並且具有與真空腔室50外部的供給配管26連通之氣體分配路27。又，上述固定開口部係在旋轉環單元21的圓筒凸部21b的旋轉開口部23a面對的固定環單元22之氣體控制用滑接面上的區域中，於捲繞長形耐熱性樹脂薄膜52的角度範圍內開口。
在與罐狀輥56外周面未被捲繞薄膜52之罐狀輥56的非重疊部區域對應之情況，如圖6所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a係與固定環單元22的環狀凹槽27a內嵌入有圓弧狀墊圈構件42的固定封閉部對向，而成為氣體供給路23和氣體分配路27彼此分離的狀態，形成來自真空腔室50外部的氣體不會被供給到氣體供給路23之構造，所以不會有氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出之情況。
另一方面，在與罐狀輥56外周面被捲繞薄膜52之罐狀輥56的重疊部區域對應之情況，如圖6所示，旋轉環單元21的旋轉開口部23a係與上述固定環單元22的環狀凹槽27a內未被嵌入圓弧狀墊圈構件42的固定開口部對向，而成為氣體供給路23與氣體分配路27連接的狀態，構成為氣體從罐狀輥56外周面的氣體放出孔15被放出，氣體被導入罐狀輥56外周面與薄膜52間的空隙部。
此外，圖6~圖8中的符號43係表示墊圈安裝治具，圖8中的符號77係表示旋轉環單元21的固定螺絲孔，又，圖8中的符號82和83係表示用以測定氣體分配路27內的壓力之壓力計埠，該氣體分配路27內的壓力相當於罐狀輥56外周面捲繞薄膜52之重疊部區域的罐狀輥56表面與薄膜52的空隙間氣體壓力。
(4)墊圈安裝治具的固定構件 (4-1)固定螺絲
在適用固定螺絲作為圓弧狀墊圈構件的固定構件之情況，當圓弧狀墊圈構件42為新品時，如圖10(A)所示可在圓弧狀墊圈構件42的前端部將旋轉環單元21的旋轉開口部23a確實地封閉，但當圓弧狀墊圈構件42因與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面之接觸而磨損時，如圖10(B)所示在該圓弧狀墊圈構件42的前端部與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面間形成有間隙空間α，所以如上述會有氣體從旋轉開口部23a漏洩的問題產生。
(4-2)具有推壓手段之活塞軸
在適用具有推壓手段的活塞軸43b作為上述固定構件時，成為圓弧狀墊圈構件42始終朝旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側被推壓的狀態，所以即便圓弧狀墊圈構件42因與氣體控制用滑接面接觸而磨損，亦可如圖10(C)~(D)所示封閉旋轉環單元21的旋轉開口部23a。然而，當圓弧狀墊圈構件42的磨損狀態進一步進行，如圖10(D)所示活塞軸43b的前端從環狀凹槽27a的開口面朝外側(旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側)突出的情況，活塞軸43b前端會與旋轉環單元21的旋轉開口部23a接觸而使其損傷，所以會有如上述之後難以使用的嚴重問題存在。
(4-3)本發明的墊圈安裝治具
本發明之墊圈安裝治具的活塞構件(固定構件)，其特徵為：限制活塞構件之活塞軸的行程範圍而使活塞軸前端收納在比環狀凹槽的開口面靠內側。
以下，將本發明之墊圈安裝治具的具體例顯示於圖11(A)~(B)。亦即，本發明之墊圈安裝治具43的構成包含：筒狀本體90，係被收容於供圓弧狀墊圈構件42嵌入之環狀凹槽27a的背面側所設置的治具收容部100內，一端側被封閉且另一端側具有活塞軸貫通用孔部；活塞構件，由收容於該筒狀本體90內且貫通上述孔部的活塞軸91、和設置於該活塞軸91的基端側之凸緣 部92所構成；以及推壓手段(線圈彈簧)93，收容於筒狀本體90內且透過上述活塞構件的凸緣部92將活塞軸91朝環狀凹槽27a側推壓。
上述活塞構件的活塞軸91的前端係貫通設置於環狀凹槽27a底面的孔部，而從上述圓弧狀墊圈構件42的背面側***圓弧狀墊圈構件42內，並且圓弧狀墊圈構件42因與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面接觸而磨損，上述活塞構件的凸緣部92被卡定於筒狀本體90的孔部，藉此限制上述活塞軸91的行程範圍，如圖11(B)所示活塞軸91的前端收納在比上述環狀凹槽27a的開口面靠內側(不會朝旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側突出)。
且，藉由推壓手段(線圈彈簧)93的作用，成為圓弧狀墊圈構件42始終朝旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側被推壓的狀態，故即使圓弧狀墊圈構件42因與氣體控制用滑接面接觸而磨損，亦可如圖12(A)~(B)所示封閉旋轉環單元21的旋轉開口部23a。又，即便因與旋轉環單元21的氣體控制用滑接面接觸，圓弧狀墊圈構件42已成為磨損狀態的情況，亦可如圖12(C)所示限制活塞軸91的行程範圍，也不會有活塞軸91前端朝旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側突出的情況，故可事先防止旋轉環單元21之旋轉開口部23a的損傷。
又，在圓弧狀墊圈構件42已磨損而從旋轉開口部23a發生漏氣的情況下，安裝於上述固定環單元22的壓力計進行流量控制時，壓力會降低，又，由於上 述壓力計進行壓力控制時用以維持設定壓力的氣體流量變多，故可知道圓弧狀墊圈構件42的壽命(亦即，墊圈構件的交換時期)。
再者，即使在將導入氣體設成與濺鍍環境的氣體相同時，也不會有因導入氣體而污染濺鍍環境的情況。此外，旋轉接頭不僅可安裝在罐狀輥的單側，亦可安裝在罐狀輥的兩側，要使氣體壓力安定，較佳係安裝在罐狀輥的兩側。
(5)長形基板與施加熱負荷之表面處理
舉耐熱性樹脂薄膜為例作為長形基板來說明本發明的長形基板處理裝置，惟本發明的長形基板處理裝置中所使用的長形基板，當然可使用其他的樹脂薄膜，也可使用金屬箔、金屬帶(metal strip)等的金屬薄膜。作為樹脂薄膜，係可例示聚對酞酸乙二酯(PET)薄膜之類的耐熱性較差的樹脂薄膜或聚醯亞胺薄膜之類的耐熱性樹脂薄膜。
在製作上述附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜時，可適當地使用選自聚醯亞胺系薄膜、聚醯胺系薄膜、聚酯系薄膜、聚四氟乙烯系薄膜、聚苯硫醚系薄膜、聚萘二甲酸乙二酯系薄膜或液晶聚合物系薄膜之耐熱性樹脂薄膜。原因在於：使用此等所獲得之附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜，在附有金屬膜的撓性基板所要求的柔軟性、實用上必要的強度、作為配線材料較適宜的電氣絕緣性方面是優異的。
又，關於附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜之製造，係在上述的長形基板真空成膜裝置使用上述耐熱性樹脂薄膜作為長形基板，並於其表面濺鍍成膜金屬膜即可獲得。例如，使用上述的成膜裝置(濺鍍薄片塗布機)，利用金屬化法處理耐熱性樹脂薄膜，藉此可獲得在耐熱性樹脂薄膜的表面積層有由Ni系合金等所構成的膜與Cu膜之附有金屬膜的長形耐熱性樹脂薄膜。
上述附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜係在成膜處理後，被傳送到其他步驟，於該處利用減成法(subtractive process)加工成具有既定的配線圖案之撓性配線基板。在此，所謂減成法意指，將未被阻劑覆蓋的金屬膜(例如，上述Cu膜)藉由蝕刻除去來製造撓性配線基板之方法。
由上述Ni系合金等所構成的膜係稱為種層(seed layer)，依據附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜所需的電氣絕緣性或耐遷移性等的特性，可適當地選擇其組成，惟一般而言，係由Ni-Cr合金、英高鎳(inconel)、康銅(constantan)、莫乃耳(monel)等週知的合金所構成。此外，欲使附有金屬膜的長形耐熱性樹脂薄膜之金屬膜(Cu膜)更厚時，有時會使用濕式鍍敷法。在此情況下，係僅利用電鍍處理形成金屬膜之方法，或者將作為一次鍍敷的無電解鍍敷處理和作為二次鍍敷的電解鍍敷處理等濕式鍍敷處理組合進行之方法。上述濕式鍍敷處理係可採用一般的濕式鍍敷條件。
此外，雖舉在長形耐熱性樹脂薄膜積層有Ni-Cr合金或Cu等金屬膜之附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜為例來說明，但除了上述金屬膜之外，也可依目的，將本發明使用在氧化物膜、氮化物膜、碳化物膜等的成膜。
又，作為本發明的長形基板處理裝置，係舉長形基板真空成膜裝置為例來說明，惟上述長形基板處理裝置中，除了在減壓環境下的真空腔室內對長形基板實施濺鍍等的真空成膜外，亦包含電漿處理或離子束處理等施加熱負荷之處理。藉由此等電漿處理或離子束處理將長形基板的表面改性，而此時，在長形基板施加熱負荷。即便在此種情況，也可適用本發明的罐狀輥及使用其之長形基板處理裝置，可抑制熱負荷所致之長形基板的皺褶產生，而不會使多量的導入氣體漏洩。上述電漿處理係例示：在減壓環境下，藉由進行利用氬與氧的混合氣體、或氬與氮的混合氣體所致之放電，而產生氧電漿或氮電漿來處理長形基板之方法。又，離子束處理意指，以施加有強磁場的磁場空隙產生電漿放電，將電漿中的陽離子作為離子束朝長形基板照射之處理。此外，離子束處理係可使用週知的離子束源。又，此等的電漿處理或離子束處理皆在減壓環境下進行。
實施例
以下，具體說明關於本發明的實施例。
[旋轉接頭的設計]
旋轉接頭(旋轉環單元與固定環單元)的直徑為約400mm，且與罐狀輥的氣體導入路14連接(連通)之旋轉環單元中之連結配管25的條數係設定為36條。因此，可進行角度10°(360°/36=10°)間隔的氣體控制。
又，設置在罐狀輥的搬入側之進料輥55係設定成在角度20°的位置罐狀輥與薄膜會接觸，設置於罐狀輥搬出側的進料輥61係設定成在角度340°的位置罐狀輥與薄膜會接觸(亦即，非重疊部的角度設定成40°)。
惟，將氣體控制變不安定之非重疊部之角度前後的角度分別設成20°，將非重疊部的氣體停止角度(由嵌入環狀凹槽27a的既定區域之圓弧狀墊圈構件42所形成的固定封閉部的角度，該環狀凹槽27a係構成固定環單元的氣體分配路27)設成90°(>非重疊部40°+不安定部前後的20°×2)。
此外，製作圖3~圖5所示的「垂直型旋轉接頭」、與圖6~圖8所示的「平行型旋轉接頭」兩種。
[圓弧狀墊圈構件與墊圈安裝治具之固定構件]
經考量滑動性與耐久性，墊圈構件的材質係採用氟系樹脂[鐵氟龍(註冊商標)]，且作成了適用於「垂直型旋轉接頭」之圖9(A)所示的圓弧狀墊圈構件(厚度為10mm)與適用於上述「平行型旋轉接頭」之圖9(B)所示的圓弧狀墊圈構件(厚度為10mm)兩種。
又，作為墊圈安裝治具的固定構件，係準備有圖10(A)所示的固定螺絲43a、圖10(C)所示的活塞軸43b及圖11(A)所示的本發明的活塞軸91。此外，加工成各固定構件(固定螺絲43a、活塞軸43b、活塞軸91)對圓弧狀墊圈構件的***量為5mm，且僅本發明的活塞軸91，行程(stroke)在4mm即停止，留墊圈1mm，活塞軸91不會進去。
[實施例]
使用圖1所示之成膜裝置(濺鍍薄片塗布機)，製作附有金屬膜的長形耐熱性樹脂薄膜。長形耐熱性樹脂薄膜(以下，稱為薄膜52)，係使用寬度500mm、長度800m、厚度25μm之宇部興產股份有限公司製的耐熱性聚醯亞胺薄膜「UPILEX(註冊商標)」。
罐狀輥56，係使用圖2所示之護套輥(jacket roll)構造之附有氣體導入機構的罐狀輥。此罐狀輥56的圓筒構件10，係使用直徑900mm、寬度750mm的不銹鋼製構成，於其外周面實施有鍍硬鉻。在此圓筒構件10的厚壁部內，將與罐狀輥56的旋轉軸方向平行延伸之內徑5mm的氣體導入路14在圓周方向隔著均等間隔涵蓋全周穿設有180條。此外，在氣體導入路14的兩端中，前端側係設成有底而不會貫通圓筒構件10。
於各氣體導入路14，設有47個於圓筒構件10的外表面側(亦即，罐狀輥56的外周面側)開口之內徑0.2mm的氣體放出孔15。此等47個氣體放出孔15，係 從被劃分於圓筒構件10外表面之薄膜52的搬送路徑的兩端部至分別20mm內側的線之間的區域，在與薄膜52的行進方向正交的方向，以10mm的間距配設。亦即，在罐狀輥56的外周面中從兩端部到分別145mm為止的區域未設置氣體放出孔15。
如上述，180條氣體導入路14係涵蓋全周於圓周方向均等地配設於圓筒構件10，惟難以將此等180條氣體導入路14直接連接於旋轉接頭20，所以將5條氣體導入管14連接於分歧管(未圖示)後，再連接於旋轉環單元21的連結配管25端部。亦即，於旋轉接頭20的旋轉環單元21，如上述形成有36條連結配管25，10°份彙整地導入氣體。
作為成膜於薄膜52的金屬膜，係構成在屬於種層的Ni-Cr膜上成膜Cu膜，因此，磁控濺鍍靶材57係使用Ni-Cr靶材，磁控濺鍍靶材58、59、60係使用Cu靶材。捲出輥51與捲取輥64的張力係設成200N。罐狀輥56係藉由水冷控制在20℃，但若薄膜52與罐狀輥56的熱傳導效率不佳，就無法期待冷卻效果。
安置(set)捲繞於此成膜裝置的捲出輥51側之薄膜52，使其一端經由罐狀輥56安裝於捲取輥64。於此狀態下，使用複數台乾式泵將真空腔室50內的空氣排氣至5Pa為止後，進一步使用複數台渦輪分子泵和低溫盤管排氣至3×10-3Pa為止。
接著，啟動旋轉驅動裝置一邊使薄膜52以搬送速度3m/分進行搬送，一邊將氬氣以300sccm導入， 並且對磁控濺鍍陰極57、58、59、60施加10kW的電力以進行電力控制。再者，藉由安裝於組入罐狀輥56之旋轉接頭的壓力計埠82、83之隔膜真空計，以罐狀輥表面與薄膜的空隙間壓力成為800Pa的方式控制來自固定環單元22的供給配管26之氬氣流量。此外，此時的氣體流量為20sccm。
依此方式，對以輥對輥搬送的薄膜52，於其單面開始進行連續成膜由Ni-Cr膜構成的種層及成膜於種層上的Cu膜之處理。
進行此處理時，從可觀察成膜中之罐狀輥56上的薄膜52表面的窗，觀察氣體導入進行中之罐狀輥56上的薄膜52表面時，在通過磁控濺鍍陰極57、58、59、60的成膜區之成膜後的薄膜52，沒有觀察到因熱負荷所致之薄膜皺褶。
[固定構件的比較]
進行此種成膜處理時，就各固定構件(固定螺絲43a、活塞軸43b及本發明的活塞軸91)的功能進行比較。
將其結果顯示於表1。
Figure 107136135-A0202-12-0039-1
[確認]
(1)在適用固定螺絲43a[參照圖10(A)]之情況，如表1所示確認了在200小時後因氣體漏洩而必須進行墊圈的交換。
(2)在適用習知的活塞軸43b[參照圖10(C)]之情況，如表1所示確認了在5000小時後，活塞軸43b前端朝旋轉環單元21的氣體控制用滑接面側突出，結果，損傷了旋轉環單元21的旋轉開口部23a。
(3)在適用本發明的活塞軸91[參照圖11(A)]之情況，如表1所示旋轉環單元21的旋轉開口部23a不會被損傷，且藉由檢測氣體漏洩，確認在4200小時後可管理墊圈交換時期。
產業上利用之可能性
根據本發明之附帶氣體放出機構的罐狀輥，由於可避免非重疊部之氣體漏洩、與旋轉環單元之旋轉開口部的損傷，故具有被適用作為液晶電視、行動電話等的撓性配線基板所使用之覆銅積層樹脂薄膜(附有金屬膜的耐熱性樹脂薄膜)的製造裝置與製造方法之產業上利用之可能性。
21‧‧‧旋轉環單元
22‧‧‧固定環單元
23‧‧‧氣體供給路
23a‧‧‧旋轉開口部
27a‧‧‧環狀凹槽
42‧‧‧圓弧狀墊圈構件
43‧‧‧墊圈安裝治具
90‧‧‧筒狀本體
91‧‧‧活塞軸
92‧‧‧凸緣部
93‧‧‧推壓手段(線圈彈簧)
100‧‧‧治具收容部

Claims (20)

  1. 一種罐狀輥，具備：供冷媒循環的冷媒循環部；於圓周方向隔著均等的間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路；及將真空腔室外部的氣體供給到此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭；在真空腔室內，將以輥對輥方式被搬送的長形基板部分地捲繞於外周面並加以冷卻，其特徵為：上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係控制成：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路，上述旋轉接頭係由設置成與罐狀輥呈同心軸狀且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈垂直的旋轉環單元和固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通之複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的氣體控制用滑接面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域的圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉 部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側。
  2. 一種罐狀輥，具備：供冷媒循環的冷媒循環部；於圓周方向隔著均等間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路；及將真空腔室外部的氣體供給至此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭；在真空腔室內，將以輥對輥方式被搬送的長形基板部分地捲繞於外周面並加以冷卻，其特徵為：上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著均等間隔在外周面側開口的複數個，氣體放出孔，上述旋轉接頭係控制成：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路，上述旋轉接頭係由包含設置成與罐狀輥呈同心軸狀之圓筒基部和圓筒凸部之剖面凸形狀的旋轉環單 元、和供上述旋轉環單元的圓筒凸部嵌入且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈平行之圓筒狀的固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通的複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元中的圓筒凸部的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的圓筒內周面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元中的圓筒凸部的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側。
  3. 如請求項1或2之罐狀輥，其中上述墊圈安裝治具的構成包含：筒狀本體，係被收容於供圓弧狀墊圈構件嵌入之環狀凹槽的背面側所設置的治具收容部內，一端側被封閉且另一端側具有活塞軸貫通用的孔部；活塞構件，由收容於該筒狀本體內且貫通上述孔部的活塞軸、和設置於該活塞軸的基端側之凸緣部所構成；以及推壓手段，收容於筒狀本體內且透過上述活塞構件的凸緣部將活塞軸朝環狀凹槽側推壓；上述活塞構件的活塞軸前端係貫通設置於環狀凹槽底面的孔部，而從上述圓弧狀墊圈構件的背面側***該圓弧狀墊圈構件內，並且圓弧狀墊圈構件因與旋轉環單元的氣體控制用滑接面接觸而磨損，上述活塞構件的凸緣部被卡定於筒狀本體的孔部，藉此限制上述活塞軸的行程範圍。
  4. 如請求項1或2之罐狀輥，其中將上述活塞構件的活塞軸朝環狀凹槽側推壓的推壓手段，係藉由組入活塞構件之凸緣部的背面側之彈簧材所構成。
  5. 如請求項3之罐狀輥，其中將上述活塞構件的活塞軸朝環狀凹槽側推壓的推壓手段，係藉由組入活塞構件之凸緣部的背面側之彈簧材所構成。
  6. 如請求項5之罐狀輥，其中上述彈簧材係線圈彈簧。
  7. 如請求項1或2之罐狀輥，其中上述圓弧狀墊圈構件係由氟系樹脂所構成。
  8. 一種長形基板處理裝置，其係具備：真空腔室；搬送機構，係在該真空腔室內以輥對輥方式搬送長形基 板；處理手段，係對長形基板實施施加熱負荷的處理；以及罐狀輥，具有在圓周方向隔著均等間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路、及將真空腔室外部的氣體供給至此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭，並且將長形基板部分地捲繞於經循環的冷媒冷卻後的外周面而加以冷卻，上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係具有：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路之構造，其特徵為：上述旋轉接頭係由設置成與罐狀輥呈同心軸狀且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈垂直的旋轉環單元和固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通之複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的氣體控制用滑接面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域的圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉 部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝，並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側。
  9. 一種長形基板處理裝置，其係具備：真空腔室；搬送機構，係在該真空腔室內以輥對輥方式搬送長形基板；處理手段，係對長形基板實施施加熱負荷的處理；以及罐狀輥，具有在圓周方向隔著均等間隔涵蓋全周配設的複數個氣體導入路、及將真空腔室外部的氣體供給至此等複數個氣體導入路的每一者之旋轉接頭，並且將長形基板部分地捲繞在經循環的冷媒冷卻後的外周面並加以冷卻；上述複數個氣體導入路的每一者係具有沿著罐狀輥的旋轉軸方向隔著均等間隔在外周面側開口的複數個氣體放出孔，上述旋轉接頭係具有：將氣體供給至位在捲繞長形基板的角度範圍內之氣體導入路，且不將氣體供給至沒有位在捲繞長形基板的角度範圍內的氣體導入路之構造， 其特徵為：上述旋轉接頭係由包含設置成與罐狀輥呈同心軸狀之圓筒基部和圓筒凸部之剖面凸形狀的旋轉環單元、和供上述旋轉環單元的圓筒凸部嵌入且各氣體控制用滑接面形成相對於罐狀輥的中心軸呈平行之圓筒狀的固定環單元所構成，上述旋轉環單元具有與複數個上述氣體導入路分別連通的複數個氣體供給路，此等複數個氣體供給路的每一者，係在旋轉環單元中的圓筒凸部的上述氣體控制用滑接面具有在與連通之氣體導入路的罐狀輥外周面上的角度位置對應的角度位置開口之旋轉開口部，上述固定環單元係由涵蓋圓周方向設置於固定環單元的圓筒內周面之環狀凹槽所構成，且具有藉由嵌入環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件封閉上述固定環單元的氣體控制用滑接面之固定封閉部、與未封閉上述氣體控制用滑接面的固定開口部，並且具有與真空腔室外部的氣體供給配管連通之氣體分配路，且上述固定開口部係在旋轉環單元中的圓筒凸部的旋轉開口部所對向之固定環單元的氣體控制用滑接面上的區域中於捲繞上述長形基板的角度範圍內開口，嵌入上述環狀凹槽內的既定區域之圓弧狀墊圈構件，係藉由配置於其背面側之墊圈安裝治具的活塞構件朝旋轉環單元的氣體控制用滑接面側推壓而安裝， 並且上述活塞構件係構成為其活塞軸的行程範圍受到限制而使活塞軸前端收納在比上述環狀凹槽的開口面靠內側。
  10. 如請求項8或9之長形基板處理裝置，其中上述墊圈安裝治具的構成包含：筒狀本體，係被收容於供圓弧狀墊圈構件嵌入之環狀凹槽的背面側所設置的治具收容部內，一端側被封閉且另一端側具有活塞軸貫通用的孔部；活塞構件，由收容於該筒狀本體內且貫通上述孔部的活塞軸、和設置於該活塞軸的基端側之凸緣部所構成；以及推壓手段，收容於筒狀本體內且透過上述活塞構件的凸緣部將活塞軸朝環狀凹槽側推壓；上述活塞構件的活塞軸前端係貫通設置於環狀凹槽底面的孔部，而從上述圓弧狀墊圈構件的背面側***該圓弧狀墊圈構件內，並且圓弧狀墊圈構件因與旋轉環單元的氣體控制用滑接面接觸而磨損，上述活塞構件的凸緣部被卡定於筒狀本體的孔部，藉此限制上述活塞軸的行程範圍。
  11. 如請求項8或9之長形基板處理裝置，其中將上述活塞構件的活塞軸朝環狀凹槽側推壓的推壓手段，係由組入活塞構件之凸緣部的背面側之彈簧材所構成。
  12. 如請求項10之長形基板處理裝置，其中將上述活塞構件的活塞軸朝環狀凹槽側推壓的推壓手段，係由組入活塞構件之凸緣部的背面側之彈簧材所構成。
  13. 如請求項12之長形基板處理裝置，其中上述彈簧材 為線圈彈簧。
  14. 如請求項8或9之長形基板處理裝置，其中上述圓弧狀墊圈構件係由氟系樹脂構成。
  15. 如請求項8或9項之長形基板處理裝置，其中施加熱負荷的上述處理係電漿處理或離子束處理。
  16. 如請求項15之長形基板處理裝置，其中進行上述電漿處理或離子束處理的機構係與在罐狀輥的外周面所劃分的搬送路徑對向。
  17. 如請求項8或9之長形基板處理裝置，其中施加熱負荷的上述處理為真空成膜處理。
  18. 如請求項17之長形基板處理裝置，其中上述真空成膜處理係藉由與在罐狀輥的外周面所劃分之搬送路徑對向的真空成膜手段所進行之處理。
  19. 如請求項18之長形基板處理裝置，其中上述真空成膜手段係磁控濺鍍。
  20. 一種長形基板處理裝置的管理方法，其係如請求項8至19中任一項之長形基板處理裝置的管理方法，其特徵為：依據上述氣體導入路內之氣體壓力的降低、或用以保持氣體導入路內的指定壓力之氣體導入量的增加，管理上述圓弧狀墊圈構件的交換時期。
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