TWI768618B - 薄膜形成裝置及用於形成薄膜的自由基單元 - Google Patents

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Abstract

本發明一實施例的薄膜形成裝置包括：腔室；複數個氣體流入部，其在腔室的上部形成，接收用於自由基反應的至少兩種反應氣體和前驅物；以及自由基單元，透過使從氣體流入部供給的反應氣體產生反應以生成自由基，透過向下部噴射自由基和前驅物以在基板沉積薄膜，自由基單元由複數個板形成，前驅物噴射路徑被配置為在複數個板中的頂部板中，透過比氣體流入部的前驅物噴射路徑多的複數個路徑分配前驅物後，使前驅物從自由基單元噴射，且反應氣體噴射路徑與前驅物噴射路徑互不重疊。

Description

薄膜形成裝置及用於形成薄膜的自由基單元
本發明涉及沉積技術(化學氣相沉積、原子層沉積)，更詳細地，涉及一種透過從裝置的腔室內的上部一同噴射前驅物和反應氣體以有效進行沉積的薄膜形成裝置及用於形成薄膜的自由基單元(radical unit)。
原子層沉積(Atomic Layer Deposition，ALD)是指奈米薄膜沉積技術，利用了在半導體製造程序中化學分子黏附在單原子層的現象。在晶片表面上透過反覆進行分子的吸附和替換以進行原子層厚度的超微細層間沉積，從而能夠以盡可能薄的方式堆疊氧化物和金屬薄膜。
並且，作為在半導體製造程序中使用的其他製程有化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，CVD)。化學氣相沉積是指透過向腔室內注入氣體成分以激發或促進用於供給熱量、電漿、光等能量的化學反應，從而合成薄膜或粒子並吸附及沉積在基板的表面上的沉積方法。
尤其，為了進行高品質的原子層沉積或化學氣相沉積，則需要混合及均勻噴射前驅物和反應氣體。但是，現有的原子層沉積裝置具有如下問題，即，由於在實現基板沉積的腔室內部中前驅物和反應氣體的噴射方向互不相同，因此氣體無法到達基板圖案深處，從而導致無法實現均勻的沉積並難以形成高品質薄膜。
本發明的目的在於，在向腔室內噴射反應氣體之前，透過一同噴射前驅物和反應氣體的自由基單元以進行適當的混合和反應過程，從而能夠向位於腔室內的基板均勻地噴射氣體。
為了解決上述先前技術所述的問題，本發明一實施例的薄膜形成裝置包括：腔室；複數個氣體流入部，在腔室的上部形成，接收用於自由基反應的至少兩種反應氣體和前驅物；以及自由基單元，透過使從氣體流入部供給的反應氣體產生反應以生成自由基，並透過向下部噴射自由基和前驅物以在基板沉積薄膜。其中，自由基單元由複數個板形成，前驅物噴射路徑可以被配置為在複數個板中的頂部板中，透過比氣體流入部的前驅物噴射路徑多的複數個路徑分配前驅物後使前驅物從自由基單元噴射，反應氣體噴射路徑與前驅物噴射路徑互不重疊。
較佳地，前驅物噴射路徑可以被配置為在頂部板分配前驅物後，透過垂直貫通剩餘的板來噴射。
較佳地，在頂部板中，前驅物噴射路徑可以以前驅物所流入的頂部板的中心為起點呈放射狀結構。
較佳地，在頂部板中呈放射狀的前驅物噴射路徑被配置為具有預定長度的複數個一字型管，且具有各一字型管分別共享中心並交叉的形式，在各一字型管上以預定間隔隔開形成有排出孔，各排出孔可以透過垂直貫通剩餘的板以進行前驅物的噴射。
較佳地，在位於分配前驅物的層下方的板，可以向反應氣體噴射路徑分配反應氣體。
較佳地，透過反應氣體噴射路徑分配反應氣體的板可以具有複數個噴淋頭結構。
較佳地，複數個噴淋頭結構由兩個以上的板形成，形成於板的排出孔可以配置在相互錯開的位置。
較佳地，在形成反應氣體噴射路徑的複數個板中，位於中間的預定的板可以形成能夠混合從複數個氣體流入部流入的互不相同的反應氣體的空間。
較佳地，自由基單元呈第一板、第二板、第三板、第四板、第五板、第六板及第七板依次層疊的形態，自由基單元以與頂部層相對應的第一板至與底部層相對應的第七板相互層疊的形態結合而成。
較佳地，注入前驅物的第一氣體流入部形成於第一板的上面部中心，且可以以垂直貫通第一板的方式形成。
較佳地，在第一板內部水平設置有具有預定的放射狀結構的第一前驅物噴射路徑，第一前驅物噴射路徑與第一氣體流入部相連接，用於分配注入的前驅物，可以在第一前驅物噴射路徑以預定間隔形成有用於排出前驅物的複數個排出孔。
較佳地，進一步包括與設置在第一前驅物噴射路徑的複數個排出孔垂直連接的第二前驅物噴射路徑，第二前驅物噴射路徑具有垂直貫通第二板至第六板以與用於排出提供於第七板的前驅物的排出孔相連接的結構。
較佳地，注入反應氣體的第二氣體流入部在第一板的上面部的預定位置形成有複數個，其可以具有透過垂直貫通第一板至第二板以與用於分配反應氣體的第三板相連接的結構。
較佳地，在第三板的內部水平設置有與第二氣體流入部相連接並具有預定路徑以使注入的反應氣體流動的第一反應氣體噴射路徑，第一反應氣體噴射路徑的上面部的一側與第二氣體流入部相連接，在背面部的另一側的預定位置可以形成有用於排出反應氣體的排出孔。
較佳地，在第四板的內部水平設置有與第一反應氣體噴射路徑相連接以用於使注入的反應氣體進一步流動的第二反應氣體噴射路徑，第二反應氣體噴射路徑具有與第一反應氣體噴射路徑不同形態的路徑，第二反應氣體噴射路徑的上面部的一端與第一反應氣體噴射路徑的排出孔相連接，且可以在第二反應氣體噴射路徑的背面部以預定間隔形成有用於排出反應氣體的複數個排出孔。
較佳地，當注入不同種類反應氣體的第二氣體流入部形成多於有預定數量時，可以透過在特定的第一反應氣體噴射路徑連接複數個第二氣體流入部以注入不同種類的反應氣體。
較佳地，當第四板、第五板及第七板結合時，自由基單元被設置成具有預定空間的結構，空間內部具有用於配置第六板的結構，第六板可以被用於噴射前驅物的流路所支撐。
較佳地，在與第五板的背面部相結合的第七板形成有用於排出前驅物及反應氣體的複數個排出孔，複數個排出孔在預定位置以形成同心圓的方式形成，用於排出前驅物的孔和用於排出反應氣體的孔可以以相互交錯的方式形成。
較佳地，在第六板中，用於排出前驅物及反應氣體的複數個孔在預定的位置以形成同心圓的方式形成，用於排出反應氣體的孔與形成於第七板的用於排出反應氣體的孔的位置可以互不相同。
較佳地，本發明的用於形成薄膜的自由基單元包括：複數個氣體流入部，在腔室的上部形成，接收用於自由基反應的至少兩種反應氣體和前驅物；以及自由基單元，透過使從氣體流入部供給的反應氣體產生反應以生成自由基，透過向下部噴射自由基和前驅物以在基板沉積薄膜，自由基單元由複數個板形成，前驅物噴射路徑可以被配置為在複數個板中的頂部板中，透過比氣體流入部的前驅物噴射路徑多的複數個路徑分配前驅物後使前驅物從自由基單元噴射，反應氣體噴射路徑與前驅物噴射路徑互不重疊。
根據本發明的一實施例，在向腔室內噴射兩種以上的反應氣體之前，可以透過多層結構的自由基單元進行適當的混合和反應過程，從而可以向位於腔室內的基板均勻地噴射氣體。
當基板上存在有預定的不均勻圖案時，必須從不均勻圖案的上部到下部深度擴散/噴射前驅物，才能夠形成高精度的薄膜。在先前技術中，前驅物從基板的兩側面噴射，因此需放入具有極高密度或高壓的前驅物。然而，根據本發明的一實施例，本發明透過從基板的上部一同噴射前驅物和自由基，因此其可以深度擴散到圖案上下部的各角落，進而可以改善負載效應(loading effect)。
在下文中，將參照附圖詳細說明本發明的實施例，以便本發明所屬技術領域具有通常知識者能夠容易地實施。然而，本發明可以透過多種形態實現，並不限定於在此說明的實施例。而且，為了在附圖中明確地說明本發明，省略了與說明無關的部分，在說明書全文中，相似的元件以相似的元件符號標示。
在說明書全文中，當說明某一部分與其他部分為「連接」時，其包括「直接連接」的情況。並且，當說明某一部分為「包括」某構成要素時，除非存在與其相反的說明，否則其表示進一步包括其他構成要素，而並非排除其他構成要素，應當理解成並不預先排除一個或一個以上的其他特徵、數字、步驟、操作、構成要素、部件或其組合的存在或附加可能性。
以下實施例僅為用於幫助理解本發明的詳細說明，並不限制本發明的要求保護範圍。因此，與本發明執行相同功能的等同範圍的發明也屬本發明的要求保護範圍內。
圖1為本發明一實施例的沉積裝置的形態的剖視圖。
參照圖1，沉積裝置可包括自由基單元100、氣體流入部200及腔室300。
本發明一實施例的沉積裝置透過使氣體流入部200供給的反應氣體產生反應以生成自由基，可以透過自由基單元100噴射自由基和前驅物以在位於腔室300內的基板沉積薄膜。
在此情況下，自由基單元100可由複數個板形成。例如，具有預定厚度的各個板相互層疊，並在內部形成能夠使反應氣體及前驅物向垂直或水平方向流動的管或者能夠使反應氣體進行混合及反應的空間。
在此情況下，形成於自由基單元100的前驅物噴射路徑可具有如下結構，即，在複數個板中的頂部板分配前驅物後，將前驅物垂直噴射至底部板。當熱穩定性較低的前驅物分配在接近於加熱器等熱源的底部層時，由於前驅物透過分解而引起氣相反應及吸附特性變化將導致薄膜的組成成分發生變化，並且向基板內的上、下圖案不均勻地擴散並且產生粒子進導致的薄膜質量降低，因此其應分配在頂部層。
透過頂部板的一個以上的氣體流入部200以注入前驅物，並且可以使前驅物透過設置在頂部板內部的管均勻地分佈在自由基單元100來噴射。
並且，形成於自由基單元100的反應氣體噴射路徑並不與上述的前驅物噴射路徑相重疊，可以使互不相同的反應氣體在內部混合來噴射。
並且，前驅物噴射路徑可以被配置為在頂部板分配前驅物後，透過垂直貫通剩餘的板來噴射。
在此情況下，形成於頂部板內部的前驅物噴射路徑能夠以前驅物所流入的頂部板的中心為起點呈放射狀結構。前驅物噴射路徑可根據自由基單元100的形態產生變化。
詳細來說，在頂部板呈放射狀的前驅物噴射路徑以具有預定長度的複數個一字型管分別共享中心並交叉的方式呈放射狀。
並且，在呈放射狀的前驅物噴射路徑的各一字型管上以預定間隔形成有排出孔，各排出孔能夠以垂直貫通剩餘的板的方式形成。藉由此配置，前驅物可均勻地噴射在基板上。
在此情況下，可在位於分配前驅物的層下方的板，向反應氣體噴射路徑分配反應氣體。例如，透過在位於比頂部板更下方的板形成反應氣體噴射路徑以向自由基單元100內部分配反應氣體。
並且，透過反應氣體噴射路徑分配反應氣體的板層可呈複數個噴淋頭結構。
在此情況下，複數個噴淋頭結構是指自由基單元100由兩個以上的板形成，並且形成於各個板的反應氣體的排出孔配置在相互錯開的位置的結構。
並且，在形成反應氣體的噴射路徑的複數個板中，可在位於中間的預定的板形成預定空間，上述預定空間用於對從複數個氣體流入部200流入的不同反應氣體進行混合及反應。
根據本發明的一實施例，在腔室300的上部形成有複數個氣體流入部200，以接收用於自由基反應的至少兩種反應氣體和前驅物。
舉例來說，雖然可以透過一個氣體流入部200供給前驅物，但是在沉積過程中需要多種反應氣體時，除了前驅物的氣體流入部200之外，還需要至少兩個氣體流入部200。
在腔室300的內部可以包括與氣體流入部200相連接的自由基單元100和安裝在基板的基座等。
因此，透過氣體流入部200向腔室300內部注入的前驅物及反應氣體在自由基單元100內部混合，向位於自由基單元100下端的基板噴射前驅物及反應氣體。
圖2為本發明一實施例的自由基單元的形態的剖視圖。
本說明書的圖2所示的自由基單元100結構對應於為了順利說明本發明而使用的其中一個實施例。因此，形成自由基單元100的板的數量、氣體流入部200的位置及路徑可以根據沉積裝置的形態改變，因此並不限制本發明的範圍。
參照圖2，自由基單元100可由第一板110、第二板120、第三板130、第四板140、第五板150、第六板160及第七板170形成。在此情況下，第一板110(頂部層)至第七板170(底部層)以相互層疊的形態結合。並且，在第一板110的上面部可形成至少兩個第一氣體流入部210及第二氣體流入部220。
根據本發明的一實施例，第一氣體流入部210向自由基單元100注入前驅物，形成於第一板110的上面部中心，並以垂直貫通第一板110的方式形成。
在此情況下，與第一氣體流入部210相連接並在自由基單元100內部噴射前驅物的管道將透過圖3至圖6進行說明。
根據本發明的一實施例，可以在第一板110的上面部的預定位置形成有向自由基單元100注入反應氣體的複數個第二氣體流入部220。
在此情況下，第二氣體流入部220及板的數量與使用於沉積的反應氣體的種類相關，可以透過自由基單元100的大小或形態、注入的反應氣體的數量等確定設置位置。
並且，第二氣體流入部220具有垂直貫通第一板110至第二板120並與分配反應氣體的第三板130相連接的結構。
在此情況下，透過圖3進一步說明與第一氣體流入部210相連接並在自由基單元100內部噴射前驅物的管道。
圖3為本發明一實施例的形成自由基單元的第一板的上面和背面的圖。
參照圖3，可確認到第一氣體流入部210形成於第一板110的上面部中心(參照附圖中的正面)，第一前驅物噴射路徑211形成於背面部內部(參照附圖中的背面)。
在此情況下，第一前驅物噴射路徑211與第一氣體流入部210相連接，用於分配注入的前驅物的預定的放射狀結構沿著水平方向形成。
並且，第一前驅物噴射路徑211與用於排出前驅物的複數個排出孔相連接，隨著複數個排出孔與下述第二前驅物噴射路徑212相連接，前驅物可以透過第一前驅物噴射路徑211及第二前驅物噴射路徑212噴射在基板上面。
根據再一實施例，第一前驅物噴射路徑211與自由基單元100的形態相對應，可以呈能夠分配前驅物的其他形態。例如，可以設置為圓形或旋渦形的管道，而不是放射狀。
根據另一實施例，當第一前驅物噴射路徑211具有在第一板110的背面部突出預定高度的結構時，可以進一步在第一前驅物噴射路徑211的側面形成排出孔。排出孔以預定間隔隔開形成，並形成於與第一前驅物噴射路徑211的放射狀結構相對應的位置。
與第一前驅物噴射路徑211不同，第二氣體流入部220在第一板110內難以進行水平分配，而是透過貫通第一板110延伸至第二板120。
圖4為本發明一實施例的形成自由基單元的第二板及第三板的俯視圖。
參照圖4，可以確認形成於第二板120及第三板130的氣體的噴射路徑。
首先，在第二板120形成有與第一前驅物噴射路徑211的排出孔垂直連接的第二前驅物噴射路徑212。參照圖2，可以得知第二前驅物噴射路徑212具有沿著垂直方向延伸至底部板的結構。
在此情況下，第二前驅物噴射路徑212垂直貫通第二板120至第六板160，其具有與用於排出提供於第七板170的前驅物的排出孔相結合的結構。
並且，第二板120及第三板130具有使得形成於第一板110的上面部的第二氣體流入部220垂直貫通第二板120，並與用於分配反應氣體的第三板130相連接的結構。
在此情況下，在第三板130的內部可以沿水平方向形成有與第二氣體流入部220相連接的第一反應氣體噴射路徑223a，第一反應氣體噴射路徑223a具有預定路徑，使得注入的反應氣體流動。
在此情況下，第一反應氣體噴射路徑223a的上面部的一側與第二氣體流入部220相連接，在背面部的另一側的預定位置形成用於排出反應氣體的排出孔224a。第一反應氣體噴射路徑223a可以具有複數個噴射路徑，此時噴射路徑的數量可以根據發明的實施例並無特別的限制。
作為較佳實施例，當注入不同種類的反應氣體的第二氣體流入部220設置有預定數量以上時，可以透過在特定的第一反應氣體噴射路徑223a連接複數個第二氣體流入部220以注入不同種類的反應氣體。在此情況下，與特定的第一反應氣體噴射路徑223a相連接的複數個第二氣體流入部220以隔開預定距離的方式連接在第一反應氣體噴射路徑223a上。例如，當形成有8個第二氣體流入部220時，第一反應氣體噴射路徑223a可以形成有4個，可以在各第一反應氣體噴射路徑223a的一側與2個第二氣體流入部220相對應的方式配置。在此情況下，可以向2個第二氣體流入部220注入不同種類的反應氣體。此時，從注入反應氣體的瞬間開始相互混合，反應氣體噴射路徑越長，則混合及反應時間便越長，因此可以增加生成自由基的機會。另一方面，如圖所示，當4個第二氣體流入部220與4個第一反應氣體噴射路徑223a一一對應時，不會從注入的瞬間開始進行混合，而是可以在如第五板150的開放空間中進行混合。
圖5為本發明一實施例的形成自由基單元的第四板及第五板的俯視圖。
參照圖5，可確認到第四板140及第五板150的結構。
在第四板140中，可在內部沿著水平方向形成與第一反應氣體噴射路徑223a相連接並具有用於使注入的反應氣體進一步流動的預定路徑的第二反應氣體噴射路徑223b。
在此情況下，第二反應氣體噴射路徑223b具有與第一反應氣體噴射路徑223a不同形態的路徑。也就是說，透過第一反應氣體噴射路徑223a流動的反應氣體透過第二反應氣體噴射路徑223b進一步流動。
在此情況下，排出孔224a與排出孔224b相結合，從而連接第一反應氣體噴射路徑223a與第二反應氣體噴射路徑223b。
並且，用於排出反應氣體的複數個排出孔225能夠以預定間隔形成於第二反應氣體噴射路徑223b的背面部。例如，複數個排出孔225以直線配置在第二反應氣體噴射路徑223b上，並能夠以放射狀配置在複數個第二反應氣體噴射路徑223b上。
並且，第五板150可以呈環狀，當第四板140、第五板150及第七板170結合時，可以形成具有預定空間的結構。
圖6為本發明一實施例的形成自由基單元的第六板及第七板的俯視圖。
參照圖6，可以確認到第六板160及第七板170的結構。
第六板160可以形成為配置在透過第四板140至第七板170結合形成的空間內部的結構。相較於第七板170，第六板160具有較小的直徑。
在此情況下，第六板160配置在第四板140與第七板170之間，且被用於噴射前驅物的第二前驅物噴射路徑212所形成的柱子支撐，圖雖未示，但第六板160也可以被形成於第六板160與第七板170之間的隔片(圖未示)所支撐。
在第六板160及第七板170可以分別形成用於排出前驅物及反應氣體的複數個排出孔226、227。
在此情況下，在第六板160中，複數個排出孔226以在預定位置形成同心圓的方式形成，用於排出前驅物的第二前驅物噴射路徑212與用於排出反應氣體的排出孔226能夠以相互交錯的方式形成。
並且，在第七板170中，複數個排出孔227以在預定位置形成同心圓的方式形成。
在此情況下，形成於第六板160的排出孔226和形成於第七板170的排出孔227可以設置在俯視觀察時相互錯開的位置，使得反應氣體經混合後從自由基單元100排出。也就是說，當第六板的排出孔226與第七板的排出孔227配置在相互對應的位置時，從第四板140排出的反應氣體在與自由基產生反應之前將以原樣貫通第六板160的排出孔226和第七板170的排出孔227並噴射。
上述本發明的說明僅為示例，本發明所屬技術領域具有通常知識者可以理解的是，在不改變本發明的技術思想或必要特徵的情況下，可將本發明輕易變形成其他具體形態。因此應當理解的是，以上實施例在所有層面上僅為示例，並不具有限定性含義。例如，被說明為一體實施的各構成元件可以分開實施，同樣，被說明為分開的構成元件也能夠以結合形態實施。
相較於上述詳細說明，本發明的範圍透過所附的申請專利範圍來呈現，從申請專利範圍的含義、範圍及其等同概念中導出的所有變更或變形形態應當解釋為包含於本發明的範圍之內。
100:自由基單元 200:氣體流入部 300:腔室 110:第一板 120:第二板 130:第三板 140:第四板 150:第五板 160:第六板 170:第七板 210:第一氣體流入部 220:第二氣體流入部 211:第一前驅物噴射路徑 212:第二前驅物噴射路徑 223a:第一反應氣體噴射路徑 223b:第二反應氣體噴射路徑 224a,224b,225,226,227:排出孔
圖1為本發明一實施例的沉積裝置的形態的剖視圖。 圖2為本發明一實施例的自由基單元的形態的剖視圖。 圖3為本發明一實施例的形成自由基單元的第一板的上面和背面的圖。 圖4為本發明一實施例的形成自由基單元的第二板及第三板的俯視圖。 圖5為本發明一實施例的形成自由基單元的第四板及第五板的俯視圖。 圖6為本發明一實施例的形成自由基單元的第六板及第七板的俯視圖。
100:自由基單元
200:氣體流入部
300:腔室

Claims (19)

  1. 一種薄膜形成裝置，其中，包括：一腔室；複數個氣體流入部，在該腔室的上部形成，接收用於自由基反應的至少兩種反應氣體和一前驅物；以及一自由基單元，透過使從該氣體流入部供給的該反應氣體產生反應以生成一自由基，透過向下部噴射該自由基和該前驅物以在一基板沉積薄膜，該自由基單元由複數個板形成，一前驅物噴射路徑被配置為在該複數個板中的一頂部板中水平分配該前驅物至多個路徑，並透過貫通該複數個板中其中一個用於分配該反應氣體的板後而垂直地噴射，且一反應氣體噴射路徑與該前驅物噴射路徑互不重疊。
  2. 如請求項1所述之薄膜形成裝置，其中在該頂部板中，該前驅物噴射路徑以該前驅物所流入的該頂部板的中心為起點呈放射狀結構。
  3. 如請求項2所述之薄膜形成裝置，其中在該頂部板中呈放射狀的該前驅物噴射路徑被配置為具有預定長度的複數個一字型管，且具有各該一字型管分別共享中心並交叉的形式，在各該一字型管上以預定間隔隔開形成有複數個排出孔，各該排出孔透過垂直貫通剩餘的該板以進行該前驅物的噴射。
  4. 如請求項2所述之薄膜形成裝置，其中在位於分配該前驅物 的層下方的該板，向該反應氣體噴射路徑分配該反應氣體。
  5. 如請求項1所述之薄膜形成裝置，其中透過該反應氣體噴射路徑分配該反應氣體的該板具有複數個噴淋頭結構。
  6. 如請求項5所述之薄膜形成裝置，其中該複數個噴淋頭結構由兩個以上的該板形成，形成於該板的複數個排出孔配置在相互錯開的位置。
  7. 如請求項6所述之薄膜形成裝置，其中在形成該反應氣體噴射路徑的複數個板中，位於中間的預定的板形成能夠混合從該複數個氣體流入部流入的互不相同的該反應氣體的空間。
  8. 如請求項1所述之薄膜形成裝置，其中該自由基單元呈一第一板、一第二板、一第三板、一第四板、一第五板、一第六板及一第七板依次層疊的形態，該自由基單元以與頂部層相對應的該第一板至與底部層相對應的該第七板相互層疊的形態結合而成。
  9. 如請求項8所述之薄膜形成裝置，其中注入該前驅物的一第一氣體流入部形成於該第一板的上面部中心，以垂直貫通該第一板的方式形成。
  10. 如請求項9所述之薄膜形成裝置，其中在該第一板內部水平設置有具有預定的放射狀結構的一第一前驅物噴射路徑，該第一前驅物噴射路徑與該第一氣體流入部相連接，用於分配注入的該前驅物，在該第一前驅物噴射路徑以預定間隔形成有用於排出該前驅物的複數個排出孔。
  11. 如請求項8所述之薄膜形成裝置，其中包括與設置在一第一前驅物噴射路徑的複數個排出孔垂直連接的一第二前驅物噴射路徑，該第二前驅物噴射路徑具有垂直貫通該第二板至該第六板以與用於排出提供於該第七板的該前驅物的該排出孔相連接的結構。
  12. 如請求項8所述之薄膜形成裝置，其中注入該反應氣體的一第二氣體流入部在該第一板的上面部的預定位置形成有複數個，其具有透過垂直貫通該第一板至該第二板以與用於分配該反應氣體的該第三板相連接的結構。
  13. 如請求項12所述之薄膜形成裝置，其中在該第三板的內部水平設置有與該第二氣體流入部相連接並具有預定路徑以使注入的該反應氣體流動的一第一反應氣體噴射路徑，該第一反應氣體噴射路徑的一側的上面部與該第二氣體流入部相連接，在另一側的背面部的預定位置形成有用於排出該反應氣體的一排出孔。
  14. 如請求項12所述之薄膜形成裝置，其中在該第四板的內部水平設置有與一第一反應氣體噴射路徑相連接以使注入的該反應氣體進一步流動的一第二反應氣體噴射路徑，該第二反應氣體噴射路徑具有與該第一反應氣體噴射路徑不同形態的路徑，該第二反應氣體噴射路徑的上面部的一端與 該第一反應氣體噴射路徑的一排出孔相連接，在該第二反應氣體噴射路徑的背面部以預定間隔形成有用於排出該反應氣體的該複數個排出孔。
  15. 如請求項13所述之薄膜形成裝置，其中當注入不同種類的該反應氣體的該第二氣體流入部形成有多於預定數量時，透過在特定的該第一反應氣體噴射路徑連接複數個該第二氣體流入部以注入不同種類的該反應氣體。
  16. 如請求項8所述之薄膜形成裝置，其中當該第四板、該第五板及該第七板結合時，該自由基單元被設置成具有預定空間的結構，空間內部具有用於配置該第六板的結構，該第六板被用於噴射該前驅物的流路所支撐。
  17. 如請求項16所述之薄膜形成裝置，其中在與該第五板的背面部相結合的該第七板形成有用於排出該前驅物及該反應氣體的複數個排出孔，該複數個排出孔在預定位置以形成同心圓的方式形成，用於排出該前驅物的孔和用於排出該反應氣體的孔以相互交錯的方式形成。
  18. 如請求項17所述之薄膜形成裝置，其中在該第六板中，用於排出該前驅物及該反應氣體的該複數個排出孔在預定的位置以形成同心圓的方式形成，用於排出該反應氣體的孔與形成於該第七板的用於排出該反應氣體的孔的位置互不相同。
  19. 一種用於形成薄膜的自由基單元，其包括：複數個氣體流入部，在一腔室的上部形成，接收用於自由基反應的至少兩種一反應氣體和一前驅物；以及 一自由基單元，透過使從該氣體流入部供給的該反應氣體產生反應以生成一自由基，透過向下部噴射該自由基和該前驅物以在一基板沉積薄膜，該自由基單元由複數個板形成，一前驅物噴射路徑被配置為在複數個該板中的一頂部板中水平分配該前驅物至多個路徑，並透過貫通該複數個板中其中一個用於分配該反應氣體的板後垂直地噴射，且一反應氣體噴射路徑與該前驅物噴射路徑互不重疊。
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