TWI761474B - 附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其即使暴露在加濕環境下其抗靜電機能及偏光度亦不易降低且具有優異透明性。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜具有偏光薄膜與設於該偏光薄膜之黏著劑層，該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於：前述偏光薄膜僅於偏光件的單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層係設在偏光件之不具有前述透明保護薄膜之側；且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物及鹼金屬鹽的黏著劑組成物所形成者；前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有具氮原子與碳-碳雙鍵之單體作為單體單元。

Description

附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置
本發明是有關於一種具有偏光薄膜與設於該偏光薄膜之黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。並且，本發明是有關於使用有前述附黏著劑層之偏光薄膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等之影像顯示裝置。
發明背景
液晶顯示裝置等從其影像形成方式來看，在液晶單元的兩側配置偏光元件是必要不可或缺的，且一般是貼附有偏光薄膜。在將前述偏光薄膜貼附於液晶單元時，通常會使用黏著劑。又，為了減低光的損失，偏光薄膜與液晶單元的接著通常是使用黏著劑將各個材料密著。在所述情形時，一般會使用已將黏著劑以黏著劑層之形式預先設置於偏光薄膜之單側的附黏著劑層之偏光薄膜，因其具有在固著偏光薄膜時不需要乾燥步驟等優點。且在附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層上通常貼附有脫模薄膜。
製造液晶顯示裝置時，在將前述附黏著劑層之偏光薄膜貼附到液晶單元時，會將脫模薄膜從附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離，但會因該脫模薄膜的剝離而產生靜電。因而產生的靜電會影響液晶顯示裝置內部的液晶層配向，招致不良。且，液晶顯示裝置使用時會有靜 電所引起之顯示不均之情形。靜電的產生雖然能夠藉由例如在偏光薄膜的外面形成抗靜電層來抑制，但其效果少，而存在著無法從根本上防止靜電產生的問題。因此，為了從產生靜電的根本位置來抑制其產生，而尋求對黏著劑層賦予抗靜電機能。對黏著劑層賦予抗靜電機能的手段已提出例如在用以形成黏著劑層的黏著劑中摻混離子性化合物(專利文獻1至3)。詳而言之，專利文獻1提出了一種摻混有鹼金屬鹽及/或有機陽-陰離子鹽的光學薄膜用黏著劑組成物。專利文獻2提出了一種黏著劑組成物，其含有鎓-陰離子及鹼金屬鹽作為附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層原料。專利文獻3提出了一種含有鹼金屬鹽作為黏著型偏光板之黏著劑層原料的黏著劑組成物。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開2015-199942號公報
專利文獻2：日本特開第2014-48497號公報
專利文獻3：日本特開2012-247574號公報
發明概要
以附黏著劑層之偏光薄膜而言，有時會使用僅於偏光件的單側設置透明保護薄膜，且於另一側不設置透明保護薄膜而設置了黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。該附黏著劑層之偏光薄膜由於僅於單側有透明保護薄膜，因此與 於兩側具有透明保護薄膜的情況相比，可以削減透明保護薄膜該層的成本。但是，於前述附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層中摻混了專利文獻1~3中所記載的鹼金屬鹽、特別是鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(LiTFSI)等之鋰-有機陰離子鹽作為離子性化合物時，若將前述附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下，則會產生黏著劑層之抗靜電機能下降的新問題。另一方面，於前述附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層中摻混了有機陽(鎓)-陰離子鹽時，若將前述附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下，則偏光件會劣化，產生所謂褪色、偏光度降低等問題。
又，若為了提升前述附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層的抗靜電機能，而增加黏著劑層中離子性化合物的含量，則會有使黏著劑層白濁而致使透明性下降、造成附黏著劑層之偏光薄膜之光學特性降低的問題。
本發明之目的在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其即使暴露在加濕環境下其抗靜電機能及偏光度亦不易降低且具有優異透明性。
又，本發明之目的在於提供一種使用有前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。
本發明人等為解決前述課題而精心反覆探究，結果發現了下述附黏著劑層之偏光薄膜，終至完成本發明。
即本發明是關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，其具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層，該附 黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於：前述偏光薄膜僅於偏光件的單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層係設在偏光件之不具有前述透明保護薄膜之側；且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物及鹼金屬鹽之黏著劑組成物所形成者；前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有具氮原子與碳-碳雙鍵之單體(1)作為單體單元。
於附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層摻混有鋰-有機陰離子鹽等鹼金屬鹽時，若將前述附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下，黏著劑層之抗靜電機能會下降，本發明人等認為其原因為鹼金屬鹽會展現與偏光件中的碘強烈的交互作用，故若將黏著劑層暴露在加濕環境下，黏著劑層中的鹼金屬鹽會往偏光件側移動而局部存在，因此使黏著劑層的表面電阻值變大。並且發現，使用利用共聚合導入具有氮原子與碳-碳雙鍵之單體(1)的(甲基)丙烯酸系聚合物來作為黏著劑層的基底聚合物，藉此即使將黏著劑層暴露在加濕環境下，抗靜電機能亦不易下降。其理由推測如下。藉由利用共聚合導入具有氮原子與碳-碳雙鍵之單體(1)的(甲基)丙烯酸系聚合物與鹼金屬鹽的交互作用，使得黏著劑層中的鹼金屬鹽不易向偏光件側移動，從而抑制了在偏光件側局部存在的情形，故黏著劑層之表面電阻值的上升即受到了抑制。
且，因利用共聚合導入具有氮原子與碳-碳雙 鍵之單體(1)的(甲基)丙烯酸系聚合物具有極性基，故能提升與鹼金屬鹽的相溶性，而即使增加鹼金屬鹽的含量，黏著劑層亦不易白濁，黏著劑層的透明性亦不易下降。因此，能夠抑制附黏著劑層之偏光薄膜之光學特性的降低。
又，黏著劑層中摻混有有機陽(鎓)-陰離子鹽時，由於有機陽(鎓)離子與偏光件中的碘陰離子之鍵結能低，故該等的交互作用也小。因此，將附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下時，偏光件中的碘會易流出外部(黏著劑中)。可認為結果便是偏光件劣化，而偏光度降低。本發明人等發現藉由在附黏著劑層之偏光薄膜中摻混鹼金屬鹽，則即使將附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下，偏光件亦不易劣化、偏光度亦不易降低。其理由推測如下。由於鹼金屬陽離子與偏光件中的碘陰離子之鍵結能高，故其等交互作用亦大，而在黏著劑層與偏光件的界面，鹼金屬陽離子可穩定偏光件中的碘錯合物。因此，即使將附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下，偏光件中的碘亦不易流出外部(黏著劑中)。認為，結果便是偏光件會不易劣化、且偏光度會不易降低。
前述鹼金屬鹽中的鹼金屬宜與碘陰離子(I-)之鍵結能在50kcal/mol以上，且較佳為鋰。
前述單體(1)宜具有醯胺基。又，前述單體(1)宜具有含氮原子之雜環。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物以含有0.1~10重量%之前述單體(1)作為單體單元為佳。
前述黏著劑組成物宜含有相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.01~5重量份的鹼金屬鹽。
前述黏著劑層之表面電阻值(B)與表面電阻值(A)之變化率(B×100/A)以在700%以下為佳，該表面電阻值(B)係保管於60℃/90%RH的加濕環境下500小時後的電阻值，該表面電阻值(A)係保管於前述加濕環境下之前的電阻值。
又，前述黏著劑層之保管於前述加濕環境下之前的表面電阻值(A)以在1.0×1011Ω/□以下為佳。
前述附黏著劑層之偏光薄膜可使用厚度在12μm以下者作為偏光件。
又，前述附黏著劑層之偏光薄膜之偏光度(B)與偏光度(A)之變化量(A-B)以在0.05以內為佳，該偏光度(B)係保管於60℃/90%RH的加濕環境下管500小時後的偏光度，該偏光度(A)係保管於前述加濕環境下之前的偏光度。
並且，本發明是有關於一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有至少1層前述附黏著劑層之偏光薄膜。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層，含有利用共聚合導入具有氮原子與碳-碳雙鍵之單體(1)的(甲基)丙烯酸系聚合物及鹼金屬鹽，藉由組合該等作使用，能夠得到即使暴露在加濕環境下抗靜電機能及偏光度亦不易降低且透明性優異的附黏著劑層之偏光薄膜。前述單體(1) 為具有醯胺基且具有含氮原子之雜環的單體，並且前述鹼金屬鹽中的鹼金屬為鋰時，本發明的效果會達最高。
用以實施發明之形態
用以形成本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層的黏著劑組成物，含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物通常含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。另，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)亦為同樣意義。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示如直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數為1~18者。例如，前述烷基可以例示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異肉豆蔻基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。該等可單獨使用或可組合使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。
作為單體單元，(甲基)丙烯酸烷基酯之重量比率宜在構成(甲基)丙烯酸系聚合物之總構成單體(100重量%)重量比率中為70重量%以上。(甲基)丙烯酸烷基酯的重量比率可視作含氮單體及其他共聚單體之剩餘部分。在確保接著性上，宜將(甲基)丙烯酸烷基酯的重量比率設成前述範圍。
為了展現本發明的效果，利用共聚合將具有氮原子與碳-碳雙鍵之單體(1)導入前述(甲基)丙烯酸系聚合物。
前述單體(1)係結構中含有氮原子且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵的化合物。前述單體(1)可舉例如馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基(甲基)丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸胺丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯、3-(3-吡啶基)丙基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸胺基烷基系單體；(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺、巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基) 丙烯醯基吡
Figure 107110269-A0305-02-0011-2
等含有N-(甲基)丙烯醯基的雜環單體；N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶酮、N-(甲基)丙烯醯基哌啶酮、N-(甲基)丙烯醯基-ε-己內醯胺等含有N-(甲基)丙烯醯基的內醯胺系單體；N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等含有N-乙烯基的內醯胺系單體；乙烯基吡
Figure 107110269-A0305-02-0011-3
、乙烯基哌啶、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基哌
Figure 107110269-A0305-02-0011-4
、乙烯基吡
Figure 107110269-A0305-02-0011-5
、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基
Figure 107110269-A0305-02-0011-6
唑、乙烯基嗎福林等含雜環的乙烯基單體等。該等可單獨使用或可組合使用。其中，以使用(甲基)丙烯醯胺系單體、含N-(甲基)丙烯醯基的雜環單體、含N-(甲基)丙烯醯基的內醯胺系單體及含N-乙烯基的內醯胺系單體等含醯胺基的單體為佳，以含N-(甲基)丙烯醯基的內醯胺系單體及含N-乙烯基的內醯胺系單體等內醯胺系單體更佳，且含N-乙烯基的內醯胺系單體尤佳。
由在黏著劑層暴露在加濕環境下時抑制黏著劑層之表面電阻值上升的觀點、在附黏著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下時抑制偏光度下降的觀點、以及即便提高黏著劑層中鹼金屬鹽的含量亦能維持黏著劑層之透明性的觀點而言，前述單體(1)之前述重量比率以0.1~10重量%為佳，1~5重量%更佳，1~3重量%尤佳。若含氮單體的重量比率小於0.1重量%，則有於黏著劑層暴露在加濕環境下時黏著劑層的表面電阻值易上升、或於提高黏著劑層中鹼金屬鹽的含量時有黏著劑層的透明性易下降的傾向。另一方面，若含氮單體的重量比率大於10重量%，則於附黏 著劑層之偏光薄膜暴露在加濕環境下時有偏光度易下降、重工性降低的傾向。
為改善接著性及耐熱性，前述(甲基)丙烯酸系聚合物中可藉由共聚合來導入1種以上具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚單體。所述共聚單體之具體例如可舉(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基系單體；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
並且亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等乙烯基系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等作為改質單體。更 可列舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
並且，上述以外之可共聚合之單體可舉如含有矽原子的矽烷系單體等。矽烷系單體可舉例如3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷及10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
又，也可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等的具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體，或於聚酯、環氧、胺甲酸酯等骨架上附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等作為共聚單體。
該等共聚單體之中，從接著性、耐久性的觀點來看，又適宜使用含羥基單體、含羧基單體。且可併用 含羥基單體及含羧基單體。這些共聚單體在黏著劑組成物含有交聯劑時會成為其與交聯劑的反應點。含羥基單體、含羧基單體等在分子間與交聯劑之反應性佳，因此適合用來提高所得黏著劑層的凝聚性及耐熱性。在重工性的觀點下以含羥基單體為宜，而在兼顧耐久性與重工性的觀點下則以含羧基單體為宜。
含有含羥基單體作為共聚單體時，其比率以0.01~15重量%為佳，0.03~10重量%較佳，0.05~7重量%尤佳。又，含有含羧基單體作為共聚單體時，其比率以0.05~10重量%為佳，0.1~8重量%較佳，0.2~6重量%尤佳。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物通常是使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性尤其是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬之物。更以80萬~250萬為宜。重量平均分子量若小於50萬，在耐熱性觀點來看不宜。又，重量平均分子量若變得大於300萬，就需要大量的稀釋溶劑以調整成塗敷所需黏度而會拉高成本故並不適宜。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且利用聚苯乙烯換算所算出之值。
所述(甲基)丙烯酸系聚合物的製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
另，在溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙 酸乙酯、甲苯等。就具體的溶液聚合例而言，反應可在氮等惰性氣體氣流下添加聚合引發劑，並通常在50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選擇作使用。另，(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量、反應條件來控制，因應該等種類來調整其適當的使用量。
作為聚合引發劑可舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等之偶氮系引發劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯、二-二級丁基過氧二碳酸酯、過氧化新癸酸三級丁酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、過異丁酸三級丁酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等之過氧化物系引發劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化 還原系引發劑等，但不受限於此。
前述聚合引發劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於單體100重量份宜為0.005~1重量份左右，更宜為0.02~0.5重量份左右。
另，使用例如2’2-偶氮雙異丁腈作為聚合引發劑來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，聚合引發劑之使用量相對於單體成分的總量100重量份宜設為0.06~0.2重量份左右，更宜設為0.08~0.175重量份左右。
前述鏈轉移劑可列舉例如月桂基硫醇、環氧丙基硫醇、巰乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於單體成分的總量100重量份為0.1重量份左右以下。
又，用於進行乳化聚合時的乳化劑可列舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑，聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
並且，以反應性乳化劑來說，導入丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體可舉Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、 BC-20(以上皆為第一工業製藥公司製)、ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑在聚合後會組入聚合物鏈，因此耐水性良好而為佳。乳化劑的使用量相對於單體成分的總量100重量份為0.3~5重量份，而由聚合穩定性及機械穩定性來看宜為0.5~1重量份。
本發明之黏著劑組成物除了前述(甲基)丙烯酸系聚合物之外還含有鹼金屬鹽。
鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。
構成鹼金屬鹽之陽離子部分的鹼金屬離子可列舉如鋰、鈉、鉀等之各離子。鹼金屬離子以可增加其與偏光件中的碘陰離子之交互作用來穩定偏光件中的碘錯合物之觀點來看，鹼金屬離子與碘陰離子(I-)的鍵結能以50kcal/mol以上為佳，70kcal/mol以上更佳，85kcal/mol以上尤佳，105kcal/mol以上特佳。以上述觀點來看，鹼金屬離子之中，以與碘陰離子(I-)的鍵結能為140.8kcal/mol的鋰離子為宜。又，當前述(甲基)丙烯酸系聚合物中利用共聚合導入之前述單體(1)為鹼性時，該(甲基)丙烯酸系聚合物一旦與偏光件接觸，偏光件即會劣化，而易發生褪色。但若構成鹼金屬鹽之陽離子部分的鹼金屬離子為鋰離子，則由於能夠穩定偏光件中的碘錯合物，故可有效抑制偏光件的褪色。
鹼金屬鹽之陰離子部分可以有機物構成，亦可以無機物構成。為了使黏著劑層中的鹼金屬鹽不易向偏 光件側移動，陰離子部分以體密度高者為宜。構成有機鹽的陰離子部分可使用例如CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-、或下述通式(1)至(4)所示者等：(1)：(CnF2n+1SO2)2N- (惟，n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N- (惟，m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)lSO3 - (惟，l為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)、(惟，p、q為1~10之整數)。特別是含氟原子之陰離子部分由於可獲得離子解離性良好的離子化合物故適於使用。構成無機鹽之陰離子部分可用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。陰離子部分如上述以體密度高者為佳的觀點來看，宜為(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等前述通式(1)所示(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，且特別以(CF3SO2)2N-所示(三氟甲磺醯基)醯亞胺為佳。
鹼金屬的有機鹽具體來說可舉乙酸鈉、海藻酸鈉、木質磺酸鈉、對甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，且該等中以LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等為佳，Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、 Li(C4F9SO2)2N等含氟鋰醯亞胺鹽更佳，(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽尤佳。
且，鹼金屬的無機鹽可列舉如過氯酸鋰、碘化鋰。
為了獲得本發明之效果，本發明之黏著劑組成物中之鹼金屬鹽的含量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，以0.01~5重量份為佳，0.1~4.5重量份更佳，0.5~4重量份尤佳。鹼金屬鹽的含量若小於0.01重量份，會難以對黏著劑層賦予抗靜電機能。另一方面，鹼金屬鹽的含量若大於5重量份，則即使使用前述(甲基)丙烯酸系聚合物，也會有黏著劑層白濁而易使黏著劑層的透明性下降的傾向。
本發明之黏著劑組成物在不影響本發明之效果的範圍內，可含有公知的有機陽(鎓)-陰離子鹽(如記載於日本專利特開2014-048497號公報之物)。
並且，本發明之黏著劑組成物中可含有交聯劑。交聯劑可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉出如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，有機化合物則可舉如烷基酯類、醇化合物、 羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
交聯劑以異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物系交聯劑為佳。異氰酸酯系交聯劑之化合物可舉例如甲苯二異氰酸酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體，及該等異氰酸酯單體與三羥甲丙烷等進行加成而成的異氰酸酯化合物或三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，還有與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等行加成反應而成的胺甲酸酯預聚物型異氰酸酯等等。尤佳的是聚異氰酸酯化合物，且為選自於由六亞甲基異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或從其而來的聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或從其而來的聚異氰酸酯化合物包括：六亞甲基異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基異氰酸酯、多元醇改質氫化伸茬基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸茬基二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。所例示的聚異氰酸酯化合物與羥基的反應因由能使聚合物中所含的酸、鹼基如觸媒般而迅速進行，故特別有助於交聯速度而較為理想。
過氧化物系交聯劑只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行 交聯者即可適當使用，但考慮到作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。
可用的過氧化物可舉如二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過異丁酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，從交聯反應效率優異之觀點來看，尤以二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。
此外，過氧化物之半衰期係顯示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半時的時間。關於用以於任意時間達半衰期所需之分解溫度或於任 意溫度下之半衰期時間係記載於製造商型錄等之中，例如係記載於日本油脂股份有限公司之「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
交聯劑的使用量相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，以0.01~20重量份為佳，0.03~10重量份更佳。另，交聯劑若少於0.01重量份，會有黏著劑之凝聚力不足的傾向、恐有於加熱時有產生氣泡之虞；另一方面，若多於20重量份，則耐濕性不充分，而容易在可靠度試驗等時發生剝離。
上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種，亦可混合2種以上使用，而整體含量相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，宜含有0.01~2重量份之前述異氰酸酯系交聯劑而成，且較佳為含有0.02~2重量份而成，含有0.05~1.5重量份而成更佳。可考慮凝聚力及阻止於耐久性試驗時之剝離等來適當含有交聯劑。
前述過氧化物可單獨使用1種，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於100重量份之前述(甲基)丙烯酸系聚合物，前述過氧化物為0.01~2重量份，並宜為含有0.04~1.5重量份，更宜為含有0.05~1重量份。可在此範圍內適當選擇以調整加工性、重工性、交聯穩定性、剝離性等。
另，反應處理後殘存之過氧化物分解量的測定方法，可以例如利用HPLC(高效液相層析儀)進行測定。
更具體而言，例如每次取出約0.2g的反應處 理後黏著劑組成物，浸漬於乙酸乙酯10ml中，以振動機在25℃下、120rpm進行3小時振動萃取後，在室溫下靜置3天。接著，加入10ml乙腈，在25℃下以120rpm振動30分鐘，並將利用膜濾器(0.45μm)過濾所獲得之萃取液約10μL注入HPLC進行分析，即可作為反應處理後之過氧化物量。
並且，本發明之黏著劑組成物中可含有矽烷耦合劑。藉由使用矽烷耦合劑可提高耐久性。矽烷耦合劑具體而言可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。
前述矽烷耦合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，理想的是前述矽烷耦合劑為0.001~5重量份，較理想的是0.01~1重量份，更理想的是0.02~1重量份，再更理想的是0.05~0.6重量份。為可提升耐久性、且適度維持對液晶單元等光學構件之接著力的含量。
並且，本發明之黏著劑組成物可摻混聚醚改質聚矽氧化合物。聚醚改質聚矽氧化合物可使用例如揭示於日本專利特開2010-275522號公報者。
聚醚改質聚矽氧化合物具有聚醚骨架，且於至少一末端具有下述通式(1)所示反應性矽基：通式(1)：-SiRaM3-a
(式中，R係亦可具有取代基之碳數1~20的1價有機基，M為羥基或水解性基，a為0~2的整數；惟，存在有多個R時，多個R可互同亦可互異；存在有多個M時，多個M可互同亦可互異)。
前述聚醚改質聚矽氧化合物可舉下述通式(2)所示化合物：通式(2)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z
(式中，R係亦可具有取代基之碳數1~20的1價有機基，M係羥基或水解性基，a為0~2的整數；惟，存在有多個R時，多個R可互同亦可互異；存在有多個M時，多個M可互同亦可互異；AO表示直鏈或支鏈之碳數1~10的氧伸烷基，n為1~1700，表示氧伸烷基之平均加成莫耳數；X表示碳數1~20的直鏈或支鏈之伸烷基；Y表示醚鍵、酯鍵、胺甲酸酯鍵或碳酸酯鍵；Z為氫原子、1價之碳數1~10的烴基、下述通式(2A)或通式(2B)所示基團：通式(2A)：-Y1-X-SiRaM3-a
(式中，R、M、X與前述相同；Y1表示單鍵、-CO-鍵、 -CONH-鍵或-COO-鍵)、通式(2B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m
(式中，R、M、X、Y與前述相同；OA與前述之AO相同，n與前述相同；Q係2價以上之碳數1~10的烴基，m與該烴基之價數相同))。
聚醚改質聚矽氧化合物的具體例可舉例如KANEKA公司製的MS POLYMER S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；SAT10、SAT200、SAT220、SAT350、SAT400；旭硝子公司製的EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。
此外本發明之黏著劑組成物中亦可含有其他公知添加劑，例如可視使用用途適當添加聚丙二醇等聚伸烷基二醇的聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內，也可採用添加還原劑的氧化還原系。
雖是利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，但在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑整體的添加量並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。
交聯處理溫度與交聯處理時間可依據所使用的交聯劑而調整。交聯處理溫度宜為170℃以下。
又，所述交聯處理可以黏著劑層的乾燥步驟 時之溫度實行，也可在乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟而實行。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性與作業性來進行設定，通常為0.2~20分鐘左右，宜為0.5~10分鐘左右。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜為僅於偏光件的單側設置透明保護薄膜，且於另一側不設置透明保護薄膜而於偏光件利用前述黏著劑組成物形成有黏著劑層者。
形成黏著劑層的方法可舉例如下述方法來製成：將前述黏著劑組成物塗佈在經剝離處理過的分離件上再乾燥除去聚合溶劑等而形成黏著劑層後，再轉印到偏光薄膜上之方法；或是將前述黏著劑組成物塗佈在偏光薄膜上，再乾燥除去聚合溶劑等而在偏光薄膜上形成黏著劑層之方法等。另，黏著劑之塗佈可適當另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
經剝離處理過之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。於此種襯材上塗佈本發明之接著劑組成物並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，作為使黏著劑乾燥之方法可視目的而採用適宜且適切的方法。理想的是採用將上述塗佈膜加熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定在上述範圍內，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用適宜的時間。上述乾燥 時間宜為5秒~20分鐘，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。
又，可在偏光薄膜表面形成錨固層，或施予電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層表面施行易接著處理。
黏著劑層之形成方法可採用各種方法。具體可舉例如輥塗法、接觸上膠輥塗法、凹版塗佈法、反向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刮刀塗法、氣刀塗佈法、簾幕式塗佈法、唇塗法、利用模塗機等之擠壓塗佈法等方法。
前述黏著劑層的厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
前述黏著劑層之保管於60℃/90%RH的加濕環境下500小時後的表面電阻值(B)、與保管於前述加濕環境下之前的表面電阻值(A)之變化率(B×100/A)，以在700%以下為佳，500%以下較佳，400%以下更佳，300%以下尤佳。
又，前述黏著劑層之保管於前述加濕環境下之前的表面電阻值(A)，以在1.0×1011Ω/□以下為佳，8.0×1010Ω/□以下更佳，5.0×1010Ω/□以下尤佳。
當前述黏著劑層露出時，亦可利用經剝離處理過的片材(分離件)保護黏著劑層直到供實際應用前。
分離件的構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙 烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜，紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片材、金屬箔及其等之積層體等適當的薄片體等，但從表面平滑性優良此點來看，適於使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要為可保護前述黏著劑層之薄膜即無特別限制，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度通常為5~200μm，宜為5~100μm左右。對前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、二氧化矽粉等實行脫模及防污處理，及施行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自前述黏著劑層剝離之剝離性。
此外，在上述附黏著劑層之偏光薄膜的製作中所使用之經剝離處理過的片材，可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜的分離件使用，從而可在製程方面簡略化。
偏光薄膜可使用僅於偏光件的單側具有透明保護薄膜者。
偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。偏光件可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇 系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。該等偏光件之厚度無特別限制，一般在80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色且經單軸延伸的偏光件可藉由例如將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘的水溶液中來進行染色，並透過延伸成原長的3~7倍來製成。亦可因應需求將其浸漬於硼酸或可含硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此以外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
偏光件的厚度從薄型化以及抑制所謂貫通裂紋之發生的觀點來看，以12μm以下為宜，10μm以下較佳，8μm以下更佳，7μm以下更為佳，6μm以下特佳。另一方面，偏光件厚度為2μm以上，更宜為3μm以上。所述薄型偏光件之厚度參差少，視辨性佳且尺寸變化少，故對熱衝撃的耐久性優異。
薄型偏光件代表性上可列舉記載於日本專 利特開昭51-069644號公報或日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460的說明書、或日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書的薄型偏光層。該等薄型偏光層可藉由包含下述步驟之製法來獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟。只要為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，仍可藉由被延伸用樹脂基材支持而在無延伸造成斷裂等不良狀況下進行延伸。
前述薄型偏光層，在包含有在積層體之狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法中，從可高倍率地延伸來提高偏光性能之觀點來看，較理想的是利用如WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或是日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所製得者，特別理想的是利用如日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸之步驟的製法所製得者。
上述PCT/JP2010/001460之說明書中所記載之薄型高機能偏光層是一體地成膜於樹脂基材，並由二色性物質經配向之PVA系樹脂所構成且厚度為7μm以下，並且該薄型高機能偏光層具有單體透射率為42.0%以 上及偏光度為99.95%以上之光學特性。
上述薄型高機能偏光層可依下述來製造：藉由PVA系樹脂之塗佈及乾燥，於具有至少20μm之厚度之樹脂基材生成PVA系樹脂層，且將所生成的PVA系樹脂層浸漬於二色性物質之染色液中，使二色性物質吸附於PVA系樹脂層，於硼酸水溶液中將已吸附二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一體地進行延伸成總延伸倍率成為原長度之5倍以上。
又，可藉由一種製造包含已使二色性物質配向之薄型高機能偏光層之積層體薄膜之方法來製造上述薄型高機能偏光層，該方法包含以下步驟：生成積層體薄膜之步驟，該積層體薄膜包含有具有至少20μm之厚度的樹脂基材與PVA系樹脂層，且前述PVA系樹脂層是將含PVA系樹脂之水溶液進行塗佈及乾燥而形成於樹脂基材之單面者；吸附步驟，係藉由將包含有樹脂基材及形成於樹脂基材之單面的PVA系樹脂層之前述積層體薄膜浸漬於含二色性物質之染色液中，使積層體薄膜所含之PVA系樹脂層吸附二色性物質；延伸步驟，係於硼酸水溶液中，使包含有已吸附二色性物質之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜延伸成總延伸倍率成為原長度5倍以上；及製造積層體薄膜之步驟，該積層體薄膜係藉由使已吸附二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一體延伸而於樹脂基材之單面形成有薄型高機能偏光層者，該薄型高機能偏光層是由已使二色性物質配向之PVA系樹脂層所構成，厚度為7μm 以下，並具有單體透射率為42.0%以上且偏光度為99.95%以上之光學特性。
本發明如上述，於上述附黏著劑層之偏光薄膜可使用下述者作為厚度在12μm以下的偏光件：一由已使二色性物質配向之PVA系樹脂所構成的連續基料之偏光層，且其係包含有成膜於熱可塑性樹脂基材之聚乙烯醇系樹脂層的積層體藉由由空中輔助延伸與硼酸水中延伸所構成之2段延伸步驟所延伸而得者。前述熱可塑性樹脂基材以非晶性酯系熱可塑性樹脂基材或晶性酯系熱可塑性樹脂基材為佳。
上述日本專利特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書之薄型偏光層是一由已使二色性物質配向之PVA系樹脂所構成的連續基料之偏光層，且其係包含有成膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體藉由由空中輔助延伸與硼酸水中延伸所構成之2段延伸步驟所延伸而製成12μm以下之厚度者。令單體透過率為T且偏光度為P時，所述薄型偏光層宜作成具有滿足P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)、及P≧99.9(惟T≧42.3)之條件的光學特性。
具體而言，前述薄型偏光層可藉由包含下列步驟之薄型偏光層之製造方法來製造：生成延伸中間產物之步驟，係對成膜於連續基料之非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層進行空中高溫延伸，藉此生成由經配向之PVA系樹脂層所構成的延伸中間產物；生成著色中間 產物之步驟，係使延伸中間產物吸附二色性物質，藉此生成由已使二色性物質(宜為碘或碘與有機染料之混合物)配向之PVA系樹脂層所構成的著色中間產物；及生成偏光層之步驟，係對著色中間產物進行硼酸水中延伸，藉此生成由已使二色性物質配向之PVA系樹脂層所構成之厚度為12μm以下之偏光層。
於該製造方法中，利用空中高溫延伸與硼酸水中延伸而成膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率宜作成5倍以上。硼酸水中延伸用之硼酸水溶液的液溫可設成60℃以上。於硼酸水溶液中延伸著色中間產物前，宜對著色中間產物施行不溶解處理，而此時，宜藉由將前述著色中間產物浸漬於液溫不超過40℃之硼酸水溶液中來進行。前述非晶性酯系熱可塑性樹脂基材可作成包含：使異酞酸共聚而成之聚對苯二甲酸乙二酯共聚物、使環己烷二甲醇共聚而成之聚對苯二甲酸乙二酯共聚物或其他共聚聚對苯二甲酸乙二酯之非晶性聚對苯二甲酸乙二酯共聚物，宜為由透明樹脂所構成者，且其厚度可設為成膜之PVA系樹脂層厚度的7倍以上。又，空中高溫延伸之延伸倍率宜為3.5倍以下，且空中高溫延伸之延伸溫度宜為PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言為95℃~150℃之範圍。在以自由端單軸延伸來進行空中高溫延伸時，已成膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率宜為5倍以上且7.5倍以下。又，在以固定端單軸延伸來進行空中高溫延伸時，已成膜於非晶性 酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率宜為5倍以上且8.5倍以下。
更具體而言，可藉由如下之方法來製造薄型偏光層。
製作與異酞酸6mol%共聚而成之異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)之連續基料的基材。非晶性PET之玻璃轉移溫度為75℃。如下述般製作由連續基料之非晶性PET基材與聚乙烯醇(PVA)層所構成的積層體。附帶一提，PVA之玻璃轉移溫度為80℃。
準備200μm厚之非晶性PET基材、與將聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶於水中而成之4~5%濃度的PVA水溶液。接著，將PVA水溶液塗佈於200μm厚之非晶性PET基材，並在50~60℃之溫度下進行乾燥，而製得非晶性PET基材上成膜有7μm厚PVA層的積層體。
使包含7μm厚PVA層的積層體歷經包括空中輔助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸步驟之以下步驟，來製造3μm厚之薄型高機能偏光層。藉由第1段之空中輔助延伸步驟，將包含7μm厚PVA層之積層體與非晶性PET基材一體地延伸，來生成包含5μm厚PVA層的延伸積層體。具體而言，該延伸積層體是將包含7μm厚PVA層之積層體置於烘箱中所配備的延伸裝置，並經自由端單軸延伸成延伸倍率為1.8倍者，且該烘箱係設定為130℃之延伸溫度環境。藉由該延伸處理，使延伸積層體所包含之PVA層轉變成PVA分子經配向之5μm厚PVA層。
接著利用染色步驟，使碘吸附於PVA分子經配向之5μm厚PVA層後，生成著色積層體。具體而言，該著色積層體是進行下述而成者：將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中任意時間，以使構成最後生成之高機能偏光層的PVA層之單體透射率成為40~44%，藉此使碘吸附在延伸積層體所含PVA層者。於本步驟中，染色液是以水為溶劑，並設碘濃度為0.12~0.30重量%之範圍內、碘化鉀濃度為0.7~2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度比為1比7。附帶一提，欲將碘溶解於水中時必須有碘化鉀。更詳而言之，是藉由將延伸積層體浸漬於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液中60秒來生成PVA分子經配向之5μm厚PVA層吸附碘而成的著色積層體。
再藉由第2段之硼酸水中延伸步驟，將著色積層體與非晶性PET基材一體地進一步延伸，而生成包含用以構成高機能偏光層之3μm厚之PVA層的光學薄膜積層體。具體而言，該光學薄膜積層體是將著色積層體置於處理裝置中所配備的延伸裝置，並經由自由端單軸延伸成延伸倍率為3.3倍者，且該處理裝置係設定為含硼酸與碘化鉀之液溫範圍60~85℃之硼酸水溶液。更詳而言之，硼酸水溶液之液溫為65℃。又，設硼酸含量相對於100重量份之水為4重量份，並設碘化鉀含量相對於100重量份之水為5重量份。於本步驟中，係將已調整碘吸附量之著色積層體先浸漬於硼酸水溶液中5~10秒鐘。然後，使該著色積層 體直接通過處理裝置中所配備的延伸裝置之多組轉速不同之輥筒間，歷時30~90秒進行自由端單軸延伸成延伸倍率為3.3倍。藉由該延伸處理，使著色積層體所含PVA層轉變成所吸附之碘以多碘離子錯合物之形式於單一方向高度配向的3μm厚之PVA層。而該PVA層可構成光學薄膜積層體之高機能偏光層。
雖非為製造光學薄膜積層體時的必要步驟，然宜藉由洗淨步驟，以碘化鉀水溶液洗淨自硼酸水溶液取出光學薄膜積層體而附著於成膜在非晶性PET基材上之3μm厚PVA層表面的硼酸。然後，藉由利用60℃之溫風之乾燥步驟，將已洗淨之光學薄膜積層體乾燥。另，洗淨步驟是一用以解決硼酸析出等外觀不良之步驟。
同樣地，雖非為製造光學薄膜積層體時的必要步驟，然亦可藉由貼合及/或轉印步驟，一邊將接著劑塗布在已成膜在非晶性PET基材上之3μm厚PVA層表面，一邊將厚度40μm的含內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂薄膜貼合後，剝離非晶性PET基材，來將3μm厚之PVA層轉印到厚度40μm的含內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂薄膜上。
[其他步驟]
除了上述步驟外，上述薄型偏光層之製造方法可包含其他步驟。其他步驟可舉例如不溶解步驟、交聯步驟、乾燥(水分率之調節)步驟等。其他步驟可於任意且適當之時間點進行。
上述不溶解步驟代表上是藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行不溶解處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度宜為1重量份~4重量份。不溶解浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃~50℃。不溶解步驟宜於積層體製作後、染色步驟或水中延伸步驟之前進行。
前述交聯步驟代表上是藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行交聯處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度宜為1重量份~4重量份。又，於上述染色步驟後進行交聯步驟時，更宜摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。而相對於水100重量份，碘化物之摻混量宜為1重量份~5重量份。碘化物之具體例係如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃~50℃。交聯步驟宜於上述第2硼酸水中延伸步驟前進行。於較佳實施形態中，係依序進行染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中延伸步驟。
構成透明保護薄膜的材料可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、抗濕性、等向同性等優異之熱可塑性樹脂。這種熱可塑性樹脂的具體例可列舉例如三乙醯纖維素等之纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等之 混合物。透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意且適當之添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂之含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中，上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，熱可塑性樹脂恐有無法充分展現其原本具有的高透明性等之虞。
另，透明保護薄膜係透過接著劑層貼合在偏光件的單側。偏光件與透明保護薄膜的接著處理可使用接著劑。就接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等。前述接著劑通常係以由水溶液構成之接著劑來使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分而成。上述之外，偏光件與透明保護薄膜的接著劑還可舉出如紫外硬化型接著劑、電子射線硬化型接著劑等。電子射線硬化型偏光薄膜用接著劑可對上述各種透明保護薄膜展現適宜的接著性。又本發明所用接著劑中可使其含有金屬化合物填料。
又前述偏光薄膜可與其他光學薄膜積層。其他光學薄膜可列舉例如反射板或反透射板、相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視角補償薄膜、增亮薄膜等亦可用於形成液晶顯示裝置等之光學層者。該等可在實際應用時使用1層或2層以上積層於前述偏光薄膜上。
在偏光薄膜積層有前述光學層的光學薄 膜，在液晶顯示裝置等的製造過程中雖可以依序個別積層之方式來形成，但預先積層而製成光學薄膜者具優異品質穩定性與組裝作業等，而具有可提高液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。積層時可使用黏著層等適當的接著手段。前述偏光薄膜在與其他光學層接著時，該等光學軸可按照所欲獲得相位差特性等設成適當的配置角度。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之保管於60℃/90%RH的加濕環境下500小時後的偏光度(B)、與保管於前述加濕環境下之前的偏光度(A)之變化量(A-B)，以在0.05以內為佳，0.04以內更佳，0.03以內尤佳。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可適於使用在形成液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置等。液晶顯示裝置之形成可照以往行事。亦即液晶顯示裝置一般是藉由適當地組裝液晶單元等顯示面板與附黏著劑層之偏光薄膜及按照需要的照明系統等之構成零件並裝入驅動電路等來形成，但在本發明中除了使用本發明的附黏著劑層光學薄膜這點外並無特別限定，可以遵照習知。關於液晶單元也可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型等的液晶單元。
可形成在液晶單元等顯示面板的單側或兩側配置有附黏著劑層之偏光薄膜的液晶顯示裝置、或是照明系統使用了背光件或者反射板者等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可設置在液晶單元等顯示面板之單側或兩側。而在兩側設置光學薄膜 時，該等可以相同亦可不同。並且，形成液晶顯示裝置時，可以在適當的位置配置1層或2層以上例如擴散層、抗眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散片材、背光件等的適當零件。
實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。以下，未特別規定之室溫放置條件皆為23℃且65%RH。
<(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量的測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。
‧分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC
‧管柱：Tosoh公司製，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
‧管柱尺寸：各7.8mm φ×30cm 計90cm
‧管柱溫度：40℃
‧流量：0.8ml/min
‧注入量：100μl
‧溶析液：四氫呋喃
‧檢測器：示差折射計(RI)
‧標準試料：聚苯乙烯
<偏光薄膜的製作>
(偏光件之製作)
於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)基材的單面上施加電暈處理，並在該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11μm的PVA系樹脂層，而製作出積層體。
將所得積層體在120℃的烘箱內於周速相異的輥筒間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸2.0倍(空中輔助延伸處理)。
接著，將積層體浸漬於液溫30℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。
接著，浸漬於液溫30℃的染色浴中並同時調整碘濃度及浸漬時間以使偏光板達預定透射率。在本實施例中係將之浸漬於相對於100重量份水摻混0.2重量份的碘、1.0重量份碘化鉀所得之碘水溶液中60秒(染色處理)。
接著，使其浸漬於液溫30℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混3重量份的硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。
然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(相對於100重量份水摻混4重量份的硼酸並摻混5重量份的碘化鉀而得之水溶液)中，一邊在周速相異的輥筒間沿縱 方向(長邊方向)進行單軸延伸成總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。
之後，將積層體浸漬於液溫30℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。
透過以上步驟而製得包含厚度5μm、硼酸含量為16%的偏光件之光學薄膜積層體。
<製作應用於透明保護薄膜之接著劑>
摻混N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光引發劑「IRGACURE 819」(BASF公司製)3重量份，而調製出紫外線硬化型接著劑。
(偏光薄膜的製作)
一邊將前述紫外線硬化型接著劑塗佈在光學薄膜積層體的偏光件表面，一邊在厚度40μm的含內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂薄膜的易接著處理面施加電暈處理並貼合後，剝離非晶性PET基材，而製作出使用有薄型偏光件的偏光薄膜。以下稱其為薄型偏光薄膜。
<丙烯酸系聚合物(A1)的調製>
在裝有攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的四口燒瓶中，饋入含有丙烯酸丁酯80.3份、丙烯酸4-羥丁酯0.5份、丙烯酸0.2份、N-乙烯基吡咯啶酮3份及丙烯酸苯氧乙酯16份的單體混合物。然後，相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑之2,2′-偶氮雙異丁腈0.15份與乙酸乙酯一起饋入，一邊慢慢攪拌一邊導入氮 氣進行氮置換後，將燒瓶內的液溫維持在60℃附近，進行7小時聚合反應。之後，於所得反應液中加入乙酸乙酯，而調製出固體成分濃度調整成30%且重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物(A1)之溶液。
<丙烯酸系聚合物(A2)~(A12)的調製>
除了於上述丙烯酸系聚合物(A1)的調製中將單體組成變更成如表1所示且調整聚合條件之外，以相同方法而調製出丙烯酸系聚合物(A2)~(A12)的溶液。
實施例1
(調製黏著劑組成物)
相對於所得丙烯酸系聚合物(A1)溶液的固體成分100份，摻混鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(三菱Material電子化成公司製)1份，並摻混三羥甲丙烷六亞甲基二異氰酸酯(三井化學公司製，商品名「Takenate D-160N」)0.17份、二苯甲醯基過氧化物0.25份、矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「X-41-1810」)0.2重量份及含乙醯乙醯基之矽烷耦合劑(綜研化學公司製，商品名「A-100」)0.2重量份，而調製出丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之偏光薄膜的製作)
接著，在經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離薄膜)的表面上，以噴注式塗佈機均勻塗敷上述丙烯酸系黏著劑溶液，並在155℃的空氣循環式恆溫烘箱乾燥1分鐘，而於分離薄膜的表面上形成厚度20μm的黏著劑層。接著，將形成於分離薄膜上的黏著劑層轉印 到上述所作成之薄型偏光薄膜之偏光件的偏光層之側，而製作出附黏著劑層之偏光薄膜。
實施例2~9、比較例1~4
除了將實施例1中在調製黏著劑組成物時將各成分的種類或使用量變更成如表1所示之外，依與實施例1相同方式而製作出附黏著劑層之偏光薄膜。
針對上述實施例及比較例所得附黏著劑層之偏光薄膜進行以下評估。評估結果列於表1。
<偏光度之變化量的測定>
剝離附黏著劑層之偏光薄膜的分離薄膜，並使用貼合機貼附於顯微鏡載玻片(Matsunami Glass Ind.,Ltd.製，商品名「S200」)上。接著，在50℃、0.5MPa下進行15分鐘的高壓釜處理，使上述附黏著劑層之偏光薄膜完全密著在無丙烯酸玻璃上。接著，在60℃/90%RH的加濕環境下保管500小時。使用日本分光(股)製之V7100來測定偏光薄膜在保管前和保管後之偏光度。以下述式計算出偏光度的變化量，並依下述基準來評估。
變化量△P=(保管前的偏光度)-(保管後的偏光度)
(評估基準)
◎：0≦△P<0.02
○：0.02≦△P<0.04
△：0.04≦△P<0.05
×：0.05≦△P
<表面電阻值變化率之測定>
剝離附黏著劑層之偏光薄膜的分離薄膜後，用三菱化學ANALYTECH公司製MCP-HT450來測定黏著劑表面的表面電阻值(Ω/□)。又，將附黏著劑層之偏光薄膜保管於60℃/90%RH之加濕環境下500小時後，亦依與上述相同方式測定黏著劑表面的表面電阻值。以下述式計算出表面電阻值的變化率(%)，並依下述基準來評估。
變化率△R(%)=(保管後的表面電阻值)×100/(保管前的表面電阻值)
(評估基準)
◎：0≦△R<300
○：300≦△R<500
△：500≦△R<700
×：700≦△R
<霧度之測定>
剝離附黏著劑層之偏光薄膜的分離薄膜後，依據JIS 7136中所制定的方法，使用霧度計(村上色彩科學研究所製、HN-150)來測定附黏著劑層之偏光薄膜的霧度(%)。附黏著劑層之偏光薄膜的霧度在3%以下為佳，1%以下更佳。
Figure 107110269-A0305-02-0046-1
表1中的化合物如下。
BA：丙烯酸丁酯
4HBA：丙烯酸4-羥丁酯
AA：丙烯酸
NVP：N-乙烯基吡咯啶酮
ACMO：N-丙烯醯基嗎福林
MMA：甲基丙烯酸甲酯
PEA：丙烯酸苯氧乙酯
LiTFSi：鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(三菱Material電子化成公司製)
EMPTFSi：乙基甲基吡咯啶鎓-雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(東京化成工業製)
產業上之可利用性
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可將其單獨或以積層其而成之光學薄膜用在液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等之影像顯示裝置。

Claims (9)

  1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，具有偏光薄膜與設於該偏光薄膜之黏著劑層，該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於：前述偏光薄膜僅於偏光件的單側具有透明保護薄膜，前述黏著劑層係設在偏光件之不具有前述透明保護薄膜之側；且前述黏著劑層係由含有(甲基)丙烯酸系聚合物及鹼金屬鹽的黏著劑組成物所形成者；前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有具氮原子與碳-碳雙鍵之單體(1)作為單體單元；前述單體(1)係內醯胺系單體；前述鹼金屬鹽中之鹼金屬之與碘陰離子(I-)的鍵結能在50kcal/mol以上。
  2. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述鹼金屬鹽中之鹼金屬為鋰。
  3. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有0.1~10重量%之前述單體(1)作為單體單元。
  4. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑組成物含有相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份為0.01~5重量份之鹼金屬鹽。
  5. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層之表面電阻值(B)與表面電阻值(A)之 變化率(B×100/A)在700%以下，該表面電阻值(B)係保管於60℃/90%RH的加濕環境下500小時後的電阻值，該表面電阻值(A)係保管於前述加濕環境下之前的電阻值。
  6. 如請求項5之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層之保管於前述加濕環境下之前的表面電阻值(A)在1.0×1011Ω/□以下。
  7. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述偏光件之厚度在12μm以下。
  8. 如請求項1或2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述附黏著劑層之偏光薄膜之偏光度(B)與偏光度(A)之變化量(A-B)在0.05以內，該偏光度(B)係保管於60℃/90%RH的加濕環境下500小時後的偏光度，該偏光度(A)係保管於前述加濕環境下之前的偏光度。
  9. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用有至少1層如請求項1至8中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜。
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