TWI747218B - 晶片級感測器封裝結構 - Google Patents

晶片級感測器封裝結構 Download PDF

Info

Publication number
TWI747218B
TWI747218B TW109110623A TW109110623A TWI747218B TW I747218 B TWI747218 B TW I747218B TW 109110623 A TW109110623 A TW 109110623A TW 109110623 A TW109110623 A TW 109110623A TW I747218 B TWI747218 B TW I747218B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
chip
level sensor
edge
package
package structure
Prior art date
Application number
TW109110623A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202137426A (zh
Inventor
劉福洲
李建成
洪立群
張雅涵
Original Assignee
勝麗國際股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 勝麗國際股份有限公司 filed Critical 勝麗國際股份有限公司
Priority to TW109110623A priority Critical patent/TWI747218B/zh
Priority to US16/928,193 priority patent/US11552120B2/en
Publication of TW202137426A publication Critical patent/TW202137426A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI747218B publication Critical patent/TWI747218B/zh

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14636Interconnect structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/22Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14618Containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/02002Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations
    • H01L31/02005Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations for device characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0203Containers; Encapsulations, e.g. encapsulation of photodiodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

本發明公開一種晶片級感測器封裝結構,包含感測晶片、包圍並連接該感測晶片外側緣的第一封裝體、設置於該第一封裝體頂緣且未接觸該感測晶片頂面的環形支撐體、設置於該環形支撐體上的透光件、及設置於該感測晶片底面與該第一封裝體底緣的重置線路層。該感測晶片包含位於該頂面的感測區、位於該底面的多個內接點、及自該頂面貫穿到該底面的多條導線,該些導線分別連接該些內接點並電性耦接於該感測區。該感測區與該環形支撐體之間相距小於300微米的距離。該重置線路層的底面形成有電性耦接於該些內接點的多個外接點。

Description

晶片級感測器封裝結構
本發明涉及一種封裝結構,尤其涉及一種晶片級感測器封裝結構。
現有晶片級感測器封裝結構中的透光件(如:光學玻璃)是僅以其底緣通過一膠層黏著固定於感測晶片的頂面,所以上述膠層容易汙染到位於該感測晶片頂面的感測區,進而降低現有晶片級感測器封裝結構的生產良率,或是造成產品失效。
於是,本發明人認為上述缺陷可改善,乃特潛心研究並配合科學原理的運用,終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。
本發明實施例在於提供一種晶片級感測器封裝結構,其能有效地改善現有晶片級感測器封裝結構所可能產生的缺陷。
本發明實施例公開一種晶片級感測器封裝結構,包括:一感測晶片,包含有位於其頂面的一感測區、位於其底面的多個內接點、及自其頂面貫穿到其底面的多條導線,該些導線分別連接該些內接點並電性耦接於該感測區;一第一封裝體,包圍並連接該感測晶片的外側緣;一環形支撐體,設置於該第一封裝體的頂緣、且未接觸該感測晶片的該頂面;其中,該感測區與該環形支撐體之間相距小於300微米(μm)的一距離;一透光件,包含有位於相反兩側的一第一表面與一第二表面,該透光件的該第二表面設置於該環形支撐體上,以使該透光件、該環形支撐體、及該感測晶片共同包圍形成有一封閉空間;以及一重置線路層,設置於該感測晶片的該底面與該第一封裝體的底緣,並且該重置線路層的底面形成有電性耦接於該些內接點的多個外接點。
綜上所述,本發明實施例所公開的晶片級感測器封裝結構,其通過結構上的改良(如:該環形支撐體設置於該第一封裝體的頂緣、該感測區與該環形支撐體之間相距小於300微米的距離),以使該環形支撐體能有效地與該感測晶片的感測區產生間隔,進而避免該環形支撐體汙染該感測區。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
[實施例一]
如圖1至圖6所示,其為本發明的實施例一。本實施例公開一種晶片級感測器封裝結構100。如圖1所示,該晶片級感測器封裝結構100包含一感測晶片1、包圍並連接該感測晶片1外側緣13的一第一封裝體2、設置於該第一封裝體2頂緣21的一環形支撐體3、設置於該環形支撐體3上的一透光件4、設置於該第一封裝體2與該感測晶片1下緣的一重置線路層5、設置於該第一封裝體2頂緣21的一第二封裝體6、及設置於該重置線路層5外表面的多個焊接球7。
需先闡明的是,為便於說明本實施例晶片級感測器封裝結構100,圖式是以剖視圖呈現,但可以理解的是,在圖式所未呈現的晶片級感測器封裝結構100部位也會形成有相對應的構造。例如:圖1僅呈現一排焊接球7,但在圖1所未呈現的晶片級感測器封裝結構100部位還包含其他焊接球7。以下將分別就本實施例晶片級感測器封裝結構100的各個元件構造與連接關係作一說明。
如圖1所示,該感測晶片1於本實施例中是以一影像感測晶片來說明,但不以此為限。其中,該感測晶片1(的外表面)包含有位於相反兩側的一頂面11及一底面12,並且該感測晶片1的該外側緣13相連於該頂面11的邊緣與底面12的邊緣。其中,該感測晶片1於其頂面11的大致中央處設有一感測區111、並於底面12設置有多個內接點121。該感測晶片1還包含有自其頂面11貫穿到其底面12的多條導線14,該些導線14分別連接該些內接點121並電性耦接於該感測區111。
該第一封裝體2呈環狀、且包圍並連接該感測晶片1的該外側緣13,並且該第一封裝體2未接觸於該感測晶片1的該頂面11與該底面12。也就是說,該感測晶片1的該頂面11與該底面12裸露於該第一封裝體2之外;而於本實施例中,該第一封裝體2的頂緣21共平面於該感測晶片1的該頂面11,並且該第一封裝體2的底緣22共平面於該感測晶片1的該底面12,但本發明不以此為限。舉例來說,在本發明未繪示的其他實施例中,該第一封裝體2的頂緣21與底緣22也可以是非共平面於該感測晶片1的頂面11與底面12。
更詳細地說,該第一封裝體2的該頂緣21包含(或定義有)呈環形的一內區域211以及呈環形並圍繞該內區域211的一外區域212,並且該內區域211與該外區域212之間的一面積差值,其較佳是不大於該第一封裝體2的該頂緣21的面積的15%,但本發明不以此為限。
該環形支撐體3設置於該第一封裝體2的頂緣21、且未接觸該感測晶片1的該頂面11。於本實施例中,該環形支撐體3例如是一膠材,並且該環形支撐體3連接於的第一封裝體2的該頂緣21的內區域211,該環形支撐體3的內側緣31共平面於該第一封裝體2的內側緣23,而該感測區111(的外邊緣)與該環形支撐體3(的內側緣31)之間相距小於300微米(μm)的一距離D31。
該透光件4包含有位於相反兩側的一第一表面41與一第二表面42、及相連於該第一表面41與第二表面42邊緣的一外側緣43。其中,該透光件4的第二表面42設置於該環形支撐體3上(也就是說,該環形支撐體3夾持於該第一封裝體2的頂緣21以及該透光件4的第二表面42之間),以使該透光件4、該環形支撐體3、及該感測晶片1共同包圍形成有一封閉空間E。
於本實施例中,該透光件4是以呈透明狀的一平板玻璃來說明,並且沿著圖1中的水平方向來看,該透光件4的外徑是大於該感測晶片1的外徑,但本發明不受限於此。再者,沿著圖1中的水平方向來看,該透光件4的外徑等於該環形支撐體3的外徑;也就是說,該透光件4的外側緣43切齊(或共平面於)該環形支撐體3的外側緣32。
然而,在本發明未繪示的其他實施例中,該透光件4的外徑可以是略小於該環形支撐體3的外徑。或者,該透光件4的外徑也可以是略大於該環形支撐體3的外徑,據以使該第一封裝體2的頂緣21的外區域212、該環形支撐體3的外側緣32、及該透光件4共同形成有呈環狀的一凹槽。
該重置線路層5設置於該感測晶片1的該底面12與該第一封裝體2的該底緣22,並且該重置線路層5的外側緣53共平面於該第一封裝體2的外側緣24。而於本實施例中,該重置線路層5是直接成形於該感測晶片1的該底面12與該第一封裝體2的該底緣22,但本發明不受限於此。
其中,該重置線路層5的底面51形成有電性耦接於該些內接點121的多個外接點52。進一步地說,該感測晶片1的多個內接點121可以通過該重置線路層5而形成具有較大間距的多個外接點52。也就是說,該重置線路層5相當於一種線路扇出結構(circuit fan-out structure)。換個角度來說,部分外接點52是位於該些內接點121朝向該重置線路層5的底面51正投影所形成的一投影區域的外側,而位於該第一封裝體2下方的該重置線路層5部位較佳是設置有至少部分的該些外接點52,但本發明不受限於此。
再者,該些焊接球7分別設置於該重置線路層5底面51的該些外接點52上,據以利於該晶片級感測器封裝結構100焊接固定於一電子構件(如:電路板)上。
該第二封裝體6呈環狀且設置於該第一封裝體2的該頂緣21的外區域212,並且該第二封裝體6包圍並連接該透光件4的外側緣43及該環形支撐體3的外側緣32,而該透光件4的該第一表面41裸露於該第二封裝體6之外。再者,該第二封裝體6的外側緣61較佳是共平面於該第一封裝體2的外側緣24。
以上為本實施例晶片級感測器封裝結構100的結構說明,為便於更清楚地理解本實施例,以下接著大致說明該晶片級感測器封裝結構100的製造方法,但本實施例的晶片級感測器封裝結構100並不受限於以該製造方法所製成。其中,如圖2至圖6所示,該晶片級感測器封裝結構100的製造方法於本實施例中包含有一第一封裝步驟S110、一佈線步驟S120、一蓋板步驟S130、一第二封裝步驟S140、一植球步驟S150、及一切割步驟S160,以下將分別簡要說明上述各個步驟S110~S160。
該前置步驟S110:如圖2所示,在多個感測晶片1的外側緣13形成有一第一封裝單元20,據以使該些感測晶片1被該第一封裝單元20所連接。其中,該第一封裝單元20的底緣共平面於該些感測晶片1的底面12,並且該第一封裝單元20未接觸於該些感測晶片1的頂面11。
該佈線步驟S120:如圖3所示,於共平面的該第一封裝單元20底緣與該些感測晶片1底面12上形成有一重置線路單元50。其中,該重置線路單元50的電性耦接於該些感測晶片1。
該蓋板步驟S130:如圖4所示,在該第一封裝單元20的頂緣設置有分別對應於該些感測晶片1的多個環形支撐體3,並且在每個該環形支撐體3上設置有一透光件4。
該第二封裝步驟S140:如圖5所示,在該第一封裝單元20的頂緣形成有一第二封裝單元60,並且該第二封裝單元60包圍並連接該些透光件4的外側緣43及該些環形支撐體3的外側緣32。
該植球步驟S150:如圖5所示,於該重置線路單元50的多個外接點52上分別固定有多個焊接球7。
該切割步驟S160:如圖5和圖6所示,切割該第二封裝單元60、該第一封裝單元20、及該重置線路單元50,以使該第二封裝單元60形成有多個第二封裝體6、使該第一封裝單元20形成多個第一封裝體2、且使該重置線路單元50形成多個重置線路層5,進而得到多個晶片級感測器封裝結構100。
[實施例二]
請參閱圖7所示,其為本發明的實施例二。本實施例類似於上述實施例一,所以兩個實施例的相同處則不再加以贅述,而本實施例相較於上述實施例一的差異大致說明如下:
於本實施例中,該晶片級感測器封裝結構100未包含有該第二封裝體6;也就是說,該透光件4的該外側緣43、該環形支撐體3的外側緣32、該第一封裝體2的外側緣24、及該重置線路層5的外側緣53呈共平面設置。
[本發明實施例的技術效果]
綜上所述,本發明實施例所公開的晶片級感測器封裝結構,其通過結構上的改良(如:該環形支撐體設置於該第一封裝體的頂緣、該感測區與該環形支撐體之間相距小於300微米的距離),以使該環形支撐體能有效地與該感測晶片的感測區產生間隔,進而避免該環形支撐體汙染該感測區。
再者,本發明實施例所公開的晶片級感測器封裝結構,其在該感測晶片的底面與該第一封裝體的底緣上直接形成有該重置線路層,以使該透光件的外側緣能夠被該第二封裝體所包覆,進而提升該透光件於晶片級感測器封裝結構內的結合強度,藉以避免該晶片級感測器封裝結構在溫度循環可靠度測試(temperature cycle test,TCT)中引起透光件的脫層(delamination)現象。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例,並非因此侷限本發明的專利範圍,所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的專利範圍內。
100:晶片級感測器封裝結構 1:感測晶片 11:頂面 111:感測區 12:底面 121:內接點 13:外側緣 14:導線 20:第一封裝單元 2:第一封裝體 21:頂緣 211:內區域 212:外區域 22:底緣 23:內側緣 24:外側緣 3:環形支撐體 31:內側緣 32:外側緣 4:透光件 41:第一表面 42:第二表面 43:外側緣 50:重置線路單元 5:重置線路層 51:底面 52:外接點 53:外側緣 60:第二封裝單元 6:第二封裝體 61:外側緣 7:焊接球 E:封閉空間 D31:距離
圖1為本發明實施例一的晶片級感測器封裝結構的剖視示意圖。
圖2為本發明實施例一的晶片級感測器封裝結構的製造方法的第一封裝步驟示意圖。
圖3為本發明實施例一的晶片級感測器封裝結構的製造方法的佈線步驟示意圖。
圖4為本發明實施例一的晶片級感測器封裝結構的製造方法的蓋板步驟示意圖。
圖5為本發明實施例一的晶片級感測器封裝結構的製造方法的第二封裝步驟示意圖。
圖6為本發明實施例一的晶片級感測器封裝結構的製造方法的植球步驟與切割步驟之示意圖。
圖7為本發明實施例二的晶片級感測器封裝結構的剖視示意圖。
100:晶片級感測器封裝結構 1:感測晶片 11:頂面 111:感測區 12:底面 121:內接點 13:外側緣 14:導線 2:第一封裝體 21:頂緣 211:內區域 212:外區域 22:底緣 23:內側緣 24:外側緣 3:環形支撐體 31:內側緣 32:外側緣 4:透光件 41:第一表面 42:第二表面 43:外側緣 5:重置線路層 51:底面 52:外接點 53:外側緣 6:第二封裝體 61:外側緣 7:焊接球 E:封閉空間 D31:距離

Claims (9)

  1. 一種晶片級感測器封裝結構,包括:一感測晶片,包含有位於其頂面的一感測區、位於其底面的多個內接點、及自其頂面貫穿到其底面的多條導線,該些導線分別連接該些內接點並電性耦接於該感測區;一第一封裝體,包圍並連接該感測晶片的外側緣;一環形支撐體,設置於該第一封裝體的頂緣、且未接觸該感測晶片的該頂面;其中,該感測區與該環形支撐體之間相距小於300微米(μm)的一距離;一透光件,包含有位於相反兩側的一第一表面與一第二表面,該透光件的該第二表面設置於該環形支撐體上,以使該透光件、該環形支撐體、及該感測晶片共同包圍形成有一封閉空間;以及一重置線路層,直接成形於該感測晶片的該底面與該第一封裝體的底緣,並且該重置線路層的底面形成有電性耦接於該些內接點的多個外接點。
  2. 如請求項1所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該環形支撐體的內側緣共平面於該第一封裝體的內側緣。
  3. 如請求項1所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該第一封裝體的該頂緣共平面於該感測晶片的該頂面。
  4. 如請求項1所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該晶片級感測器封裝結構進一步包括有設置於該第一封裝體的該頂緣的一第二封裝體,而該第二封裝體包圍並連接該透光件的外側緣。
  5. 如請求項4所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該第二封裝體包圍並連接該環形支撐體的外側緣。
  6. 如請求項4所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該透光件的該第一表面裸露於該第二封裝體之外。
  7. 如請求項4所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該第一封裝體的該頂緣包含有連接於該環形支撐體的一內區域以及連接於該第二封裝體的一外區域,並且該內區域與該外區域之間的一面積差值不大於該第一封裝體的該頂緣的面積的15%。
  8. 如請求項4所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該第一封裝體的外側緣共平面於該第二封裝體的外側緣、且共平面於該重置線路層的外側緣。
  9. 如請求項1所述的晶片級感測器封裝結構,其中,該些外接點中的部分位於該些內接點朝向該重置線路層的該底面正投影所形成的一投影區域的外側。
TW109110623A 2020-03-27 2020-03-27 晶片級感測器封裝結構 TWI747218B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109110623A TWI747218B (zh) 2020-03-27 2020-03-27 晶片級感測器封裝結構
US16/928,193 US11552120B2 (en) 2020-03-27 2020-07-14 Chip-scale sensor package structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW109110623A TWI747218B (zh) 2020-03-27 2020-03-27 晶片級感測器封裝結構

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202137426A TW202137426A (zh) 2021-10-01
TWI747218B true TWI747218B (zh) 2021-11-21

Family

ID=77856434

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW109110623A TWI747218B (zh) 2020-03-27 2020-03-27 晶片級感測器封裝結構

Country Status (2)

Country Link
US (1) US11552120B2 (zh)
TW (1) TWI747218B (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI640073B (zh) * 2017-08-16 2018-11-01 勝麗國際股份有限公司 感測器封裝結構
TW202005015A (zh) * 2018-05-18 2020-01-16 勝麗國際股份有限公司 感測器封裝結構

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014083750A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 パナソニック株式会社 光学装置及びその製造方法
JP6885331B2 (ja) * 2015-07-23 2021-06-16 ソニーグループ株式会社 半導体装置およびその製造方法、並びに電子機器
US10128289B2 (en) * 2016-09-12 2018-11-13 Semiconductor Components Industries, Llc Embedded image sensor semiconductor packages and related methods
CN109411486B (zh) * 2017-08-16 2020-12-08 胜丽国际股份有限公司 感测器封装结构
US11342375B2 (en) * 2017-12-05 2022-05-24 Semiconductor Components Industries, Llc Semiconductor package and related methods
US20200411580A1 (en) * 2019-06-25 2020-12-31 Semiconductor Components Industries, Llc Method of manufacturing ciscsp without dam

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI640073B (zh) * 2017-08-16 2018-11-01 勝麗國際股份有限公司 感測器封裝結構
TW202005015A (zh) * 2018-05-18 2020-01-16 勝麗國際股份有限公司 感測器封裝結構

Also Published As

Publication number Publication date
US20210305304A1 (en) 2021-09-30
US11552120B2 (en) 2023-01-10
TW202137426A (zh) 2021-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI630688B (zh) 感測器封裝結構
TWI437699B (zh) And a solid-state imaging device having a through-electrode
TWI508247B (zh) 半導體裝置及其製法
JP2008270650A (ja) 光学デバイスおよびその製造方法。
TWI721837B (zh) 感測器封裝結構
JP6478853B2 (ja) 電子部品装置及びその製造方法
WO2018216318A1 (ja) 半導体モジュールおよびその製造方法
JP2006303079A (ja) 積層型半導体装置及びその製造方法
JP2007049103A (ja) 半導体チップおよびその製造方法、ならびに半導体装置
JP2002134640A (ja) 薄型感光式半導体装置
TWI715970B (zh) 低翹曲扇出型封裝結構
KR20060010124A (ko) 공동부를 구비한 캡 웨이퍼, 이를 이용한 반도체 칩, 및그 제조방법
TWI692287B (zh) 感測器封裝結構
TWI747218B (zh) 晶片級感測器封裝結構
US10700111B2 (en) Optical sensor
TWI654780B (zh) 發光元件及發光元件之製造方法
TW201628152A (zh) 電子封裝結構
TWI612650B (zh) 電子封裝結構
TWI685922B (zh) 晶片級感測器封裝結構
US7205095B1 (en) Apparatus and method for packaging image sensing semiconductor chips
CN110993631A (zh) 一种基于背照式图像传感器芯片的封装方法
JP2005252074A (ja) 半導体装置及び電子装置
TWI606562B (zh) 電子封裝結構
TWI819452B (zh) 感測器封裝結構
TWI840150B (zh) 感測器封裝結構及其製造方法