TWI731228B - 光學膜及影像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

根據本發明之一態樣，提供一種光學膜10，其係用於影像顯示裝置且可摺疊者，且具備：樹脂基材11，其係由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂及聚酯系樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂所構成；功能層12，其設置於樹脂基材11之第1面11A側；以及第1光學調整層13，其設置於樹脂基材11與功能層12之間，且鄰接於功能層12。

Description

光學膜及影像顯示裝置

[相關申請案之參照]

本案享有作為先前之日本申請案之日本特願2017-64583(申請日：2017年3月29日)及日本特願2018-35426(申請日：2018年2月28日)之優先權之利益，其揭示內容整體藉由引用而成為本說明書之一部分。

本發明係關於一種光學膜及影像顯示裝置。

自先前以來，已知有智慧型手機或平板終端等影像顯示裝置，目前正進行可摺疊之影像顯示裝置之開發。通常智慧型手機或平板終端等係利用覆蓋玻璃覆蓋，玻璃一般硬度優異，但無法彎曲，因此於將覆蓋玻璃用於影像顯示裝置之情形時，若欲摺疊則破裂之虞較高。因此，對於可摺疊之影像顯示裝置，研究出使用具備可彎曲之樹脂基材與硬塗層之可摺疊之光學膜代替覆蓋玻璃(例如參照日本特開2016-125063號公報)。

於此種可摺疊之光學膜中，一般而言，構成可彎曲之樹脂基材之樹脂之折射率較高，因此樹脂基材與硬塗層之折射率差變大。因此，因樹脂 基材與硬塗層之折射率差而有產生虹彩狀之不均即干涉條紋之虞。

為了抑制干涉條紋之產生，亦有使硬塗層之膜厚變厚之方法，但若使硬塗層之膜厚變厚，則有摺疊時硬塗層破裂之問題。因此，現狀為無法獲得可摺疊且不易產生干涉條紋之光學膜。

另一方面，關於此種光學膜，有於組入至影像顯示裝置之組裝步驟中附著灰塵或產生損傷之情況，有良率降低之情況。用於可摺疊之光學膜之基材由於價格非常高，故而較理想為提高良率。就此種情況而言，有將保護膜貼附於光學膜之兩面之情況，但現狀為，於將保護膜自光學膜剝離時，光學膜之兩面會帶電，因此無法提高良率。

本發明係為了解決上述問題而完成者。即，本發明之目的在於提供一種不易產生干涉條紋之可摺疊之光學膜、具備其之影像顯示裝置。又，本發明之目的在於提供一種能夠提高影像顯示裝置之組裝步驟之良率之可摺疊之光學膜、具備其之影像顯示裝置。

根據本發明之一態樣，提供一種光學膜，其係用於影像顯示裝置且可摺疊者，且具備：樹脂基材，其係由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂及聚酯系樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂所構成；功能層，其設置於上述樹脂基材之第1面側；及第1光學調整層，其設置於上述樹脂基材與上述功能層之間，且鄰接於上述功能層。

於上述光學膜中，亦可為上述第1光學調整層之折射率低於上述樹脂基材之折射率且高於上述功能層之折射率。

於上述光學膜中，亦可為上述第1光學調整層之膜厚為30nm以上且200nm以下。

於上述光學膜中，亦可進而具備第2光學調整層，該第2光學調 整層設置於上述樹脂基材與上述第1光學調整層之間，且鄰接於上述樹脂基材。

於上述光學膜中，亦可為上述第2光學調整層之膜厚為30nm以上且200nm以下。

於上述光學膜中，亦可進而具備樹脂層，該樹脂層設置於上述樹脂基材之與上述第1面側為相反側之第2面側且膜厚為50μm以上且300μm以下，上述光學膜之在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'超過200MPa且為1200MPa以下，且上述光學膜之在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切損耗模數G"為3MPa以上且150MPa以下。

於上述光學膜中，亦可進而具備第3光學調整層，該第3光學調整層設置於上述樹脂基材之與上述第1面為相反側之第2面。

於上述光學膜中，亦可進而具備第3光學調整層，該第3光學調整層設置於上述樹脂基材與上述樹脂層之間，且鄰接於上述樹脂基材。

於上述光學膜中，亦可為上述光學膜之黃色指數為15以下。

於上述光學膜中，較佳為於反覆進行1萬次之以上述功能層成為內側且上述光學膜所對向之邊部之間隔成為10mm之方式摺疊180°之試驗之情形時不產生破裂或斷裂。

於上述光學膜中，較佳為於反覆進行1萬次之以上述功能層成為外側且上述光學膜所對向之邊部之間隔成為30mm之方式摺疊180°之試驗之情形時不產生破裂或斷裂。

根據本發明之另一態樣，提供一種光學膜，其係用於影像顯示裝置且可摺疊者，且具備：透光性基材；第1抗靜電層，其設置於上述透光性基材之第1面側；及第2抗靜電層，其設置於上述透光性基材之與上述第1面為相反側之第2面側。

於上述光學膜中，亦可為上述光學膜之黃色指數為15以下。

於上述光學膜中，亦可為上述第1抗靜電層為抗靜電性硬塗層。

於上述光學膜中，亦可進而具備光學調整層，該光學調整層設置於上述第1抗靜電層之與上述透光性基材側相反之側。

於上述光學膜中，亦可進而具備硬塗層，該硬塗層設置於上述透光性基材與上述第1抗靜電層之間。

於上述光學膜中，亦可為，於23℃、相對濕度50%之環境下，自距上述光學膜之正面為50mm之距離施加10kV之電壓時之上述光學膜之上述正面之飽和帶電壓之絕對值超過0kV。

於上述光學膜中，較佳為於反覆進行10萬次之以上述光學膜所對向之邊部之間隔成為3mm之方式摺疊180°之試驗之情形時不產生破裂或斷裂。

於上述光學膜中，亦可為上述透光性基材為由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、或該等之混合物所構成之基材。

根據本發明之另一態樣，提供一種可摺疊之影像顯示裝置，其特徵在於具備：顯示元件；上述光學膜，其配置於較上述顯示元件更靠觀察者側。

於上述影像顯示裝置中，亦可為上述顯示元件為有機發光二極體元件。

根據本發明之一態樣，可提供一種不易產生干涉條紋之可摺疊之光學膜。又，根據本發明之另一態樣，可提供一種能夠提高影像顯示裝置之組裝步驟之良率之可摺疊之光學膜。進而，根據本發明之另一態樣，可提供一種具備此種光學膜之影像顯示裝置。

10、30、40、50、60、90、100‧‧‧光學膜

10A、12A、30A、40A、50A、60A、90A、92A、100A、104A‧‧‧正面

11‧‧‧樹脂基材

11A‧‧‧第1面

11B‧‧‧第2面

12‧‧‧功能層

13‧‧‧第1光學調整層

14‧‧‧第2光學調整層

15‧‧‧第3光學調整層

80、110‧‧‧影像顯示裝置

83‧‧‧顯示元件

92、103‧‧‧第1抗靜電層

93、105‧‧‧第2抗靜電層

102‧‧‧硬塗層

104‧‧‧光學調整層

圖1係第1實施形態之光學膜之概略構成圖。

圖2(A)~圖2(C)係示意性地表示連續摺疊試驗之情況之圖。

圖3(A)及圖3(B)係示意性地表示摺疊靜置試驗之情況之圖。

圖4係第1實施形態之其他光學膜之概略構成圖。

圖5係第1實施形態之其他光學膜之概略構成圖。

圖6係第1實施形態之其他光學膜之概略構成圖。

圖7係第1實施形態之其他光學膜之概略構成圖。

圖8係測定剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"時使用之固體剪切用夾具之概略構成圖。

圖9係第1實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。

圖10係第2實施形態之光學膜之概略構成圖。

圖11係第2實施形態之其他光學膜之概略構成圖。

圖12係第2實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。

[第1實施形態]

以下，參照圖式對本發明之第1實施形態之光學膜及影像顯示裝置進行說明。本說明書中，「膜」、「片」等用語並非僅基於稱呼之不同而相互區分者。因此，例如「膜」係以亦包含如亦稱為片之構件之含義使用。圖1係本實施形態之光學膜之概略構成圖，圖2(A)~圖2(C)係示意性地表示連續摺疊試驗之情況之圖，圖3(A)及圖3(B)係示意性地表示摺疊靜置試驗之情況之圖。圖4~圖7係實施形態之其他光學膜之概略構成圖，圖8係測定剪切儲存模 數G'及剪切損耗模數G"時使用之固體剪切用夾具之概略構成圖。

<<<光學膜>>>

圖1所示之光學膜10係用於影像顯示裝置者，且可摺疊。

光學膜10具備：樹脂基材11；功能層12，其設置於作為樹脂基材11之一面之第1面11A側；及第1光學調整層13(以下，有時亦簡稱為「光學調整層13」)，其設置於樹脂基材11與功能層12之間，且鄰接於功能層12。於圖1所示之光學膜10中，進而具備：第2光學調整層14(以下，有時亦簡稱為「光學調整層14」)，其設置於樹脂基材11與第1光學調整層13之間，且鄰接於樹脂基材11；及第3光學調整層15(以下，有時亦簡稱為「光學調整層15」)，其設置於作為樹脂基材11之與第1面11A為相反側之面的第2面11B。亦可不具備第2光學調整層14及/或第3光學調整層15。又，光學膜10亦可如下述光學膜40所示般於樹脂基材11之第2面11B側進而具備樹脂層。本說明書中所謂「功能層」係指於光學膜中意圖發揮某些功能之層。具體而言，作為功能層，例如可列舉硬塗層、抗靜電層、防污層等。功能層12係作為硬塗層發揮功能者。又，功能層12成為單層構造，但功能層不僅可為單層構造，亦可為2層以上之多層構造。又，本說明書中之各「光學調整層」為單層構造，並非2層以上之多層構造。再者，圖1中，於樹脂基材11與功能層12之間設置有第1光學調整層13及第2光學調整層14之2層光學調整層，亦可於第1光學調整層13與第2光學調整層14之間進而設置其他光學調整層等而成為3層以上之構造。

圖1中，光學膜10之正面10A成為功能層12之正面12A。再者，於本說明書中，光學膜之正面係以光學膜之單側之表面之含義使用，因此光學膜之與正面為相反側之面被稱為背面以與光學膜之正面加以區分。光學膜10之背面10B成為光學調整層15之與樹脂基材11側之面為相反側之面15A。

光學膜10可摺疊。具體而言，較佳為即便於反覆進行1萬次之以 功能層12成為內側且光學膜10之對向之邊部之間隔成為10mm之方式連續地摺疊光學膜10之試驗(連續摺疊試驗)之情形時，亦不會於光學膜10產生破裂或斷裂，更佳為即便於反覆進行2萬次之連續摺疊試驗之情形時亦不會於光學膜10產生破裂或斷裂，進而較佳為即便於反覆進行10萬次之情形時亦不會於光學膜10產生破裂或斷裂。於對光學膜10反覆進行1萬次之連續摺疊試驗之情形時，若於光學膜10產生破裂等，則光學膜10之摺疊性變得不足。又，較佳為即便於反覆進行1萬次之以功能層12成為外側且光學膜10之對向之邊部之間隔成為30mm之方式連續地摺疊光學膜10之試驗(連續摺疊試驗)之情形時，亦不會於光學膜10產生破裂或斷裂，更佳為即便於反覆進行2萬次之連續摺疊試驗之情形時亦不會於光學膜10產生破裂或斷裂，進而較佳為即便於反覆進行10萬次之情形時亦不會於光學膜10產生破裂或斷裂。

以功能層12成為內側之方式連續地摺疊光學膜10之連續摺疊試驗係藉由如下方式進行。如圖2(A)所示，於連續摺疊試驗中，首先，將光學膜10之邊部10C及與邊部10C對向之邊部10D利用平行地配置之固定部20分別固定。再者，光學膜10可為任意之形狀，但連續摺疊試驗中之光學膜10較佳為矩形(例如30mm×100mm之矩形)。又，如圖2(A)所示，固定部20能夠於水平方向上滑動移動。

其次，如圖2(B)所示，藉由使固定部20以相互接近之方式移動，而以功能層12成為內側、即光學膜10之正面10A成為內側且摺疊光學膜10之方式變形，進而如圖2(C)所示，使固定部20移動至經光學膜10之固定部20固定之對向之2個邊部之間隔成為10mm之位置後，使固定部20朝反方向移動而解除光學膜10之變形。

藉由如圖2(A)~(C)所示般使固定部20移動，可將光學膜10摺疊180°。又，以不使光學膜10之彎曲部10E自固定部20之下端伸出之方式 進行連續摺疊試驗，且將固定部20最接近時之間隔控制為10mm，藉此可使光學膜10之對向之2個邊部之間隔為10mm。於該情形時，將彎曲部10E之外徑視為10mm。再者，光學膜10之厚度與固定部20之間隔(10mm)相比為充分小之值，因此可認為光學膜10之連續摺疊試驗之結果不受因光學膜10之厚度不同所產生之影響。於光學膜10中，進而較佳為於反覆進行1萬次之以功能層12成為內側且光學膜10之對向之邊部之間隔成為10mm之方式摺疊180°之連續摺疊試驗之情形時不產生破裂或斷裂，最佳為於反覆進行1萬次之以功能層12成為內側且光學膜10之對向之邊部之間隔成為2mm之方式摺疊180°之連續摺疊試驗之情形時不產生破裂或斷裂。

於光學膜10中，如圖3(A)所示，於將光學膜10之邊部10C及與邊部10C對向之邊部10D以邊部10C與邊部10D之間隔成為10mm之方式利用平行地配置之固定部25分別固定而摺疊光學膜10之狀態下，進行於70℃靜置12小時之摺疊靜置試驗，如圖3(B)所示，藉由於摺疊靜置試驗後自邊部10D卸除固定部25，而解除摺疊狀態，於在室溫下於30分鐘後對光學膜10測定光學膜10自然地打開之角度即開度角θ之情形時，較佳為光學膜10之開度角θ為100°以上。再者，開度角θ越大，意味著恢復性越良好，最大為180°。摺疊靜置試驗可如以功能層12成為內側之方式摺疊光學膜10般進行，又，亦可如以功能層12成為外側之方式摺疊光學膜10般進行，較佳為於任一情形時，開度角θ均為100°以上。

關於光學膜10之正面10A(功能層12之正面12A)，藉由JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗進行測定時之硬度(鉛筆硬度)較佳為3H以上，更佳為4H以上。鉛筆硬度試驗設為藉由如下方式進行，即，將以30mm×100mm之大小切出之光學膜10以於玻璃板上無彎折或褶皺之方式利用Nichiban股份有限公司製造之Cellotape(註冊商標)固定，針對光學膜之正 面，使用鉛筆硬度試驗機(製品名「鉛筆刮痕塗膜硬度試驗機(電動式)」，東洋精機製作所股份有限公司製造)，一面對鉛筆(製品名「Uni」，三菱鉛筆股份有限公司製造)施加750g之荷重一面使鉛筆以1mm/秒之移動速度移動。鉛筆硬度設為於鉛筆硬度試驗中未對光學膜之正面造成損傷之最高硬度。再者，於鉛筆硬度之測定時，使用多根硬度不同之鉛筆而進行，每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度試驗，於5次中4次以上於光學膜之正面產生損傷之情形時，判斷為該硬度之鉛筆對光學膜之正面造成損傷。上述損傷係指於螢光燈下對進行鉛筆硬度試驗之光學膜之正面進行穿透觀察而被視認到者。

光學膜10之正面10A之表面電阻值較佳為10¹²Ω/□以下。表面電阻值可依據JIS K6911：2006，使用電阻率計(製品名「Hiresta-UP MCP-HT450」，Mitsubishi Chemical Analytech公司製造，探針：URS)進行測定。光學膜10之正面10A之表面電阻值係隨機測定10個部位之以50mm×50mm之大小切出之光學膜10之正面10A之表面電阻值，採用所測得之10個部位之表面電阻值之算術平均值。

於光學膜10中，於23℃、相對濕度50%之環境下，自距光學膜10之正面10A為50mm之距離施加10kV之電壓時之光學膜10之正面10A之飽和帶電壓(saturated charge voltage)較佳為超過0kV。又，同樣地，於23℃、相對濕度50%之環境下，自距光學膜10之背面10B為20mm之距離施加10kV之電壓時之光學膜10之背面10B之飽和帶電壓較佳為超過0kV。所謂飽和帶電壓係指光學膜可儲存之最大電壓。於在較觸控感測器更靠觀察者側配置有具備抗靜電硬塗層之光學膜之情形時，有因抗靜電硬塗層而無法進行利用觸控感測器之手指等之位置檢測之虞，但若光學膜10之正面10A之飽和帶電壓超過0kV，則即便於將光學膜10配置於較觸控感測器更靠觀察者側之情形時，亦可進行利用觸控感測器之手指等之位置檢測。飽和帶電壓可使用帶電電荷衰減度測定器 (製品名「H-0110」，Shishido Electrostatic公司製造)進行測定。飽和帶電壓設為對以100mm×100mm之大小切出之光學膜測定3次而獲得之值之算術平均值。上述飽和帶電壓之下限更佳為0.1kV以上，上述飽和帶電壓之上限更佳為3kV以下。

光學膜10之黃色指數(YI)較佳為15以下。若光學膜10之YI為15以下，則可抑制光學膜之黃色調，可應用於要求透明性之用途。光學膜10之黃色指數(YI)之上限更佳為10以下。黃色指數(YI)係藉由如下方式算出之值，即，以50mm×100mm之大小切出之光學膜之背面側成為光源側之方式配置於分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造，光源：鎢絲燈及氘燈)內，根據於該狀態下測得之光學膜之波長300nm~780nm之穿透率，依照JIS Z8722：2009所記載之運算式，計算色度三刺激值X、Y、Z，由三刺激值X、Y、Z，依照ASTM D1925：1962所記載之運算式而算出。光學膜10之黃色指數(YI)之上限更佳為10以下。上述黃色指數(YI)係對1片光學膜測定3次，採用測定3次而獲得之值之算術平均值。再者，於UV-2450中，黃色指數係藉由於連接於UV-2450之監視器上，讀入上述穿透率之測定資料，於計算項目中勾選「YI」之項目而算出。波長300nm~780nm之穿透率之測定設為藉由如下方式求出，即，於以下之條件下，於波長300nm~780nm分別於前後1nm之間測定最低5點之穿透率，算出其平均值。又，若於分光穿透率之光譜出現起伏，則亦可以δ5.0nm進行平滑化處理。

(測定條件)

‧波長區域：300nm~780nm

‧掃描速度：高速

‧狹縫寬度：2.0

‧取樣間隔：自動(0.5nm間隔)

‧照明：C

‧光源：D2及WI

‧視野：2°

‧光源切換波長：360nm

‧S/R切換：標準

‧檢測器：PM

‧自動歸零：於基準線之掃描後，於550nm實施

為了調整光學膜10之黃色指數(YI)，例如亦可使樹脂基材11、功能層12、光學調整層13、14之至少任一者含有成為黃色之補色之藍色色素。即便於如因使用聚醯亞胺系基材作為樹脂基材而導致黃色調成為問題之情形時，亦可藉由使樹脂基材11等含有藍色色素而降低光學膜之黃色指數(YI)。

作為上述藍色色素，可為顏料或染料之任一者，例如於將光學膜10用於有機發光二極體顯示裝置之情形時，較佳為兼具耐光性或耐熱性者。作為上述藍色色素，多環系有機顏料或金屬錯合物有機顏料等與染料之分子分散相比，由紫外線所致之分子斷裂之程度較小，耐光性尤其優異，因此於要求耐光性等之用途上較佳，更具體而言，可較佳地列舉酞菁系有機顏料等。但是，由於顏料對於溶劑產生粒子分散，故而存在由粒子散射所產生之透明性阻礙，因此較佳為使顏料分散體之粒度位於瑞利散射區域。另一方面，於重視光學膜之透明性之情形時，較佳為使用對於溶劑產生分子分散之染料作為上述藍色色素。又，作為上述藍色色素，亦可使用鈷藍等無機顏料。

自光學調整層15側朝向光學膜10，以入射角度0°照射於波長300nm以上且780nm以下之區域具有連續光譜之光，求出穿透光學膜10之光(穿透光)之L^*a^*b^*表色系之色座標a^*、b^*，此時，較佳為a^*為-3.0以上且2.0以下，b ^*為-2.0以上且8.0以下。若a^*及b^*分別為上述範圍內，則可使黃色指數為15以下。a^*及b^*之測定可使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造)進行。作為光源，可列舉鎢絲鹵素(WI)燈單獨體、或氘(D2)燈與鎢絲鹵素(WI)燈之併用。本說明書中，所謂「入射角度0°之光」係指將光學膜之第1面之法線方向設為0°時之上述法線方向之光。「L^*a^*b^*表色系」、「a^*」及「b^*」係依據JIS Z8729：2004者。

光學膜10之波長380nm之分光穿透率較佳為8%以下。若光學膜之上述分光穿透率超過8%，則於將光學膜用於行動終端之情形時，有偏光元件暴露於紫外線而容易劣化之虞。上述穿透率可使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造)進行測定。上述分光穿透率之測定條件與上述波長300nm~780nm之分光穿透率之測定條件相同。上述穿透率係對以50mm×100mm之大小切出之光學膜測定3次，採用測定3次而獲得之值之算術平均值。光學膜10之上述穿透率之上限更佳為5%。再者，光學膜10之上述穿透率可藉由調整下述紫外線吸收劑之添加量等而達成。

光學膜10之全光線穿透率較佳為85%以上。若光學膜10之全光線穿透率為85%以上，則於將光學膜10用於行動終端之情形時可獲得充分之影像視認性。光學膜10之全光線穿透率更佳為87%以上，最佳為90%以上。

上述全光線穿透率可使用霧度計(製品名「HM-150」，村上色彩技術研究所股份有限公司製造)藉由依據JIS K7361-1：1997之方法進行測定。上述全光線穿透率係將光學膜以50mm×100mm之大小切出後，於無捲曲或皺褶且無指紋或灰塵等之狀態下設置，對1片光學膜測定3次，採用測定3次而獲得之值之算術平均值。本說明書中所謂「測定3次」，並非對相同之部位測定3次，而指測定不同之3個部位。於光學膜10中，目視之正面10A平坦，且功能層12等積層之層亦平坦，又，膜厚之不均亦收斂於±10%之範圍內。因此， 認為藉由於切出之光學膜之不同之3個部位測定全光線穿透率，可獲得大致之光學膜之面內整體之全光線穿透率之平均值。無論測定對象為1m×3000m之長條，亦或為5英吋之智慧型手機程度之大小，全光線穿透率之不均均為±10%以內。再者，於未以上述大小切出光學膜之情形時，例如由於HM-150測定時之入口開口為20mm

，故而需要如直徑成為21mm以上之樣品大小。因此，亦可以22mm×22mm以上之大小適當切出光學膜。於光學膜之大小較小之情形時，於不偏離光源點之範圍內略微地偏移、或改變角度等而將測定點設為3個部位。

光學膜10之霧度值(總霧度值)較佳為2.5%以下。若光學膜之上述霧度值為2.5%以下，則於將光學膜用於行動終端之情形時，可抑制影像顯示面之白化。上述霧度值更佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下。

上述霧度值可使用霧度計(製品名「HM-150」，村上色彩技術研究所股份有限公司製造)藉由依據JIS K7136：2000之方法進行測定。上述霧度值係將光學膜以50mm×100mm之大小切出後，於無捲曲或皺褶且無指紋或灰塵等之狀態下設置，對1片光學膜測定3次，採用測定3次而獲得之值之算術平均值。於光學膜10中，目視之正面10A平坦，且功能層12等積層之層亦平坦，又，膜厚之不均亦收斂於±10%之範圍內。因此，認為藉由於切出之光學膜之不同之3個部位測定霧度值，可獲得大致之光學膜之面內整體之霧度值之平均值。無論測定對象為1m×3000m之長條，亦或為5英吋之智慧型手機程度之大小，霧度值之不均均為±10%以內。再者，於未以上述大小切出光學膜之情形時，例如由於HM-150測定時之入口開口為20mm

，故而需要如直徑成為21mm以上之樣品大小。因此，亦可以22mm×22mm以上之大小適當切出光學膜。於光學膜之大小較小之情形時，於不偏離光源點之範圍內略微地偏移、或改變角度等而將測定點設為3個部位。

於經由黏著層或接著層而於光學膜10之第1面側設置有偏光板等其他膜之情形時，於與黏著層或接著層一起剝離其他膜後，進行摺疊試驗、摺疊靜置試驗、黃色指數測定、全光線穿透率測定、霧度值測定。其他膜之剝離例如可以如下方式進行。首先，利用乾燥器對經由黏著層或接著層而於光學膜附有其他膜之積層體進行加熱，於視為光學膜與其他膜之界面之部位切入切割器之刀尖，慢慢地剝離。藉由反覆進行此種加熱與剝離，可剝離黏著層或接著層及其他膜。再者，即便具有此種剝離步驟，亦不會對該等試驗或該等測定產生較大影響。霧度值之測定設為於黏著層或接著層之剝離後，進而以酒精充分地擦拭黏著層或接著層之污漬後進行。

近年來，積極地採用發光二極體(Light Emitting Diode)作為個人電腦或平板終端等影像顯示裝置之背光源之光源，但該發光二極體會較強地發出稱為藍光之光。已知該藍光為波長380nm~495nm之光且具有接近於紫外線之性質，具有較強之能量，因此不會被角膜或晶狀體吸收而到達視網膜，由此成為視網膜損傷、眼睛疲勞、對睡眠之不良影響等之原因。因此，較佳為於將光學膜應用於影像顯示裝置之情形時，不會對顯示畫面之色調造成影響，藍光遮蔽性優異。因此，就遮蔽藍光之觀點而言，光學膜10較佳為波長380nm之分光穿透率未達1%，波長410nm之分光穿透率未達10%，波長440nm之分光穿透率為70%以上。其原因在於，若上述波長380nm之分光穿透率為1%以上、或波長410nm之分光穿透率為10%以上，則有無法解決由藍光所產生之問題之情況，若波長440nm之分光穿透率未達70%，則有對使用光學膜之影像顯示裝置之顯示畫面之色調造成影響之情況。光學膜10可成為如下者，即，使藍光之波長中波長410nm以下之波長區域之光充分地吸收，另一方面，使波長440nm以上之光充分地穿透，不對顯示畫面之色調造成影響，藍光之遮蔽性優異。又，於將此種藍光遮蔽性優異之光學膜10應用於作為影像顯示裝置之有機發光 二極體(OLED)顯示裝置之情形時，對於抑制有機發光二極體元件之劣化亦有效。

光學膜10之光之穿透率較佳為至波長380nm為止幾乎為0%，光之穿透自波長410nm逐漸變大，於波長440nm附近，光之穿透急遽變大。具體而言，例如較佳為於波長410nm至440nm之間，分光穿透率以描繪S型曲線之方式變化。上述波長380nm之分光穿透率更佳為未達0.5%，進而較佳為未達0.2%，波長410nm之分光穿透率更佳為未達7%，更佳為未達5%，波長440nm之分光穿透率更佳為75%以上，進而較佳為80%以上。再者，光學膜10較佳為波長420nm之分光穿透率未達50%。藉由滿足此種分光穿透率之關係，光學膜10成為於波長440nm附近穿透率急遽提高者，可不對顯示畫面之色調產生影響而獲得極其優異之藍光遮蔽性。

光學膜10之波長380nm之分光穿透率更佳為未達0.1%，波長410nm之分光穿透率更佳為未達7%，波長440nm之分光穿透率更佳為80%以上。

光學膜10較佳為使用最小平方法獲得之波長415~435nm之範圍之透射光譜之斜率大於2.0。若上述斜率為2.0以下，則有於藍光之光波長區域、例如於波長415~435nm之波長區域，無法充分地將光截止，藍光截止效果變弱之情況。又，亦考慮到過度截止藍光之光波長區域(波長415~435nm)之可能性，於此情形時，有產生與影像顯示裝置之背光源或發光波長區域(例如自OLED之波長430nm之發光)相干涉、色調變差等不良情況之可能性變大之情況。上述斜率例如可藉由使用能夠以每0.5nm測定之分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造)，於415~435nm間於前後1nm之間測定最低5點之穿透率之資料而算出。

光學膜10之藍光遮蔽率較佳為40%以上。若藍光遮蔽率未達 40%，則有無法充分地解決上述由藍光所產生之問題之情況。上述藍光遮蔽率例如為藉由JIS T7333：2005而算出之值。再者，此種藍光遮蔽率例如可藉由使功能層12含有下述芝麻酚型苯并***系單體而達成。

光學膜10之用途並無特別限定，作為光學膜10之用途，例如可列舉：智慧型手機、平板終端、個人電腦(PC)、穿戴式終端、數位標牌、電視、汽車導航等影像顯示裝置。又，光學膜10亦適於車載用途。作為上述各影像顯示裝置之形態，於可摺疊、可捲曲等需要可撓性之用途方面亦較佳。

光學膜10可切割為所期望之大小，亦可為卷狀。於將光學膜10切割為所期望之大小之情形時，光學膜之大小並無特別限制，可根據影像顯示裝置之顯示面之大小而適當決定。具體而言，光學膜10之大小例如亦可成為2.8英吋以上且500英吋以下。本說明書中所謂「英吋」，於光學膜為四邊形狀之情形時係指對角線之長度，於為圓形狀之情形時係指直徑，於為橢圓形狀之情形時係指短徑與長徑之和之平均值。此處，於光學膜為四邊形狀之情形時，關於求出上述英吋時之光學膜之縱橫比，只要作為影像顯示裝置之顯示畫面無問題，則無特別限定。例如可列舉縱：橫=1：1、4：3、16：10、16：9、2：1等。其中，尤其於設計性豐富之車載用途或數位標牌中，並不限定於此種縱橫比。又，於光學膜10之大小較大之情形時，自任意之位置以A5尺寸(148mm×210mm)切出後，以各測定項目之大小切出。

影像顯示裝置中之光學膜10之配置部位亦可為影像顯示裝置之內部，較佳為影像顯示裝置之表面附近。於用於影像顯示裝置之表面附近之情形時，光學膜10係作為代替覆蓋玻璃而使用之覆蓋膜發揮功能。

<<樹脂基材>>

樹脂基材11具有透光性。本說明書中所謂「透光性」係指使光穿透之性質，例如包括全光線穿透率為50%以上，較佳為70%以上，更佳為80%以上， 尤佳為90%以上。所謂透光性，並非必須透明，亦可為半透明。

樹脂基材11係由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、及聚酯系樹脂(例如聚對苯二甲酸乙二酯樹脂或聚萘二甲酸乙二酯樹脂)所組成之群中之1種以上之樹脂所構成之基材。

於該等樹脂中，就不僅於連續摺疊試驗中不易產生破裂或斷裂，而且亦具有優異之硬度及透明性，又，耐熱性亦優異，亦可藉由進行煅燒而賦予更優異之硬度及透明性之觀點而言，較佳為聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、或該等之混合物。

聚醯亞胺系樹脂係使四羧酸成分與二胺成分進行反應而獲得者。作為聚醯亞胺系樹脂，並無特別限定，例如就具有優異之透光性及優異之剛性之方面而言，較佳為具有選自由下述通式(1)及下述通式(3)所表示之結構所組成之群中之至少一種結構。

於上述通式(1)中，R¹表示作為四羧酸殘基之四價基，R²表示選自由反式-環己烷二胺殘基、反式-1,4-雙亞甲基環己烷二胺殘基、4,4'-二胺基二苯基碸殘基、3,4'-二胺基二苯基碸殘基、及下述通式(2)所表示之二價基所組成之群中之至少1種二價基。n表示重複單位數，且為1以上。本說明書中，所謂「四羧酸殘基」係指自四羧酸去除4個羧基後之殘基，表示與自四羧酸二酐去除酸二酐結構後之殘基相同之結構。又，所謂「二胺殘基」係指自二胺去除2個胺基後之殘基。

於上述通式(2)中，R³及R⁴分別獨立地表示氫原子、烷基、或全氟烷基。

於上述通式(3)中，R⁵表示選自由環己烷四羧酸殘基、環戊烷四羧酸殘基、二環己烷-3,4,3',4'-四羧酸殘基、及4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸殘基所組成之群中之至少1種四價基，R⁶表示作為二胺殘基之二價基。n'表示重複單位數，且為1以上。

上述通式(1)中之R¹為四羧酸殘基，可設為如上述所例示之自四羧酸二酐去除酸二酐結構後之殘基。作為上述通式(1)中之R¹，其中就提高透光性且提高剛性之方面而言，較佳為含有選自由4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸殘基、3,3',4,4'-聯苯四羧酸殘基、均苯四甲酸殘基、2,3',3,4'-聯苯四羧酸殘基、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸殘基、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸殘基、4,4'-氧雙鄰苯二甲酸殘基、環己烷四羧酸殘基、及環戊烷四羧酸殘基所組成之群中之至少1種，進而較佳為含有選自由4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸殘基、4,4'-氧雙鄰苯二甲酸殘基、及3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸殘基所組成之群中之至少1種。

於R¹中，該等較佳之殘基合計較佳為含有50莫耳%以上，進而較佳為含有70莫耳%以上，進而更佳為含有90莫耳%以上。

又，作為R¹，亦較佳為將如選自由3,3',4,4'-聯苯四羧酸殘基、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸殘基、及均苯四甲酸殘基所組成之群中之至少1種之適於提高剛直性之四羧酸殘基群(群A)、與如選自由4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸殘基、2,3',3,4'-聯苯四羧酸殘基、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸殘基、4,4'-氧雙鄰苯二甲酸殘基、環己烷四羧酸殘基、及環戊烷四羧酸殘基所組成之群中之至少1種之適於提高透明性之四羧酸殘基群(群B)混合而使用。

於此情形時，關於上述適於提高剛直性之四羧酸殘基群(群A)與適於提高透明性之四羧酸殘基群(群B)之含有比率，相對於適於提高透明性之四羧酸殘基群(群B)1莫耳，上述適於提高剛直性之四羧酸殘基群(群A)較佳為0.05莫耳以上且9莫耳以下，進而較佳為0.1莫耳以上且5莫耳以下，進而更佳為0.3莫耳以上且4莫耳以下。

作為上述通式(1)中之R²，其中，就提高透光性且提高剛性之方面而言，較佳為選自由4,4'-二胺基二苯基碸殘基、3,4'-二胺基二苯基碸殘基、及上述通式(2)所表示之二價基所組成之群中之至少1種二價基，進而較佳為選自由4,4'-二胺基二苯基碸殘基、3,4'-二胺基二苯基碸殘基、以及R³及R⁴為全氟烷基之上述通式(2)所表示之二價基所組成之群中之至少1種二價基。

作為上述通式(3)中之R⁵，其中就提高透光性且提高剛性之方面而言，較佳為含有4,4'-(六氟亞異丙基)雙鄰苯二甲酸殘基、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸殘基、及氧雙鄰苯二甲酸殘基。

於R⁵中，該等較佳之殘基較佳為含有50莫耳%以上，進而較佳為含有70莫耳%以上，進而更佳為含有90莫耳%以上。

上述通式(3)中之R⁶為二胺殘基，可設為如上述所例示之自二 胺去除2個胺基後之殘基。作為上述通式(3)中之R⁶，其中，就提高透光性且提高剛性之方面而言，較佳為含有選自由2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺殘基、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸殘基、4,4'-二胺基二苯基碸殘基、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷殘基、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸殘基、4,4'-二胺基-2,2'-雙(三氟甲基)二苯醚殘基、1,4-雙[4-胺基-2-(三氟甲基)苯氧基]苯殘基、2,2-雙[4-(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)苯基]六氟丙烷殘基、4,4'-二胺基-2-(三氟甲基)二苯醚殘基、4,4'-二胺基苯甲醯苯胺殘基、N,N'-雙(4-胺基苯基)對苯二甲醯胺殘基、及9,9-雙(4-胺基苯基)茀殘基所組成之群中之至少1種二價基，進而較佳為含有選自由2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺殘基、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸殘基、及4,4'-二胺基二苯基碸殘基所組成之群中之至少1種二價基。

於R⁶中，該等較佳之殘基合計較佳為含有50莫耳%以上，進而較佳為含有70莫耳%以上，進而更佳為含有90莫耳%以上。

又，作為R⁶，亦較佳為將如選自由雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸殘基、4,4'-二胺基苯甲醯苯胺殘基、N,N'-雙(4-胺基苯基)對苯二甲醯胺殘基、對苯二胺殘基、間苯二胺殘基、及4,4'-二胺基二苯基甲烷殘基所組成之群中之至少1種之適於提高剛直性之二胺殘基群(群C)、與如選自由2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺殘基、4,4'-二胺基二苯基碸殘基、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷殘基、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸殘基、4,4'-二胺基-2,2'-雙(三氟甲基)二苯醚殘基、1,4-雙[4-胺基-2-(三氟甲基)苯氧基]苯殘基、2,2-雙[4-(4-胺基-2-三氟甲基苯氧基)苯基]六氟丙烷殘基、4,4'-二胺基-2-(三氟甲基)二苯醚殘基、及9,9-雙(4-胺基苯基)茀殘基所組成之群中之至少1種之適於提高透明性之二胺殘基群(群D)混合而使用。

於此情形時，關於上述適於提高剛直性之二胺殘基群(群C)與適於提高透明性之二胺殘基群(群D)之含有比率，相對於適於提高透明性 之二胺殘基群(群D)1莫耳，上述適於提高剛直性之二胺殘基群(群C)較佳為0.05莫耳以上且9莫耳以下，進而較佳為0.1莫耳以上且5莫耳以下，更佳為0.3莫耳以上且4莫耳以下。

於上述通式(1)及上述通式(3)所表示之結構中，n及n'分別獨立地表示重複單位數，且為1以上。聚醯亞胺之重複單位數n只要以表示下述較佳之玻璃轉移溫度之方式根據結構適當選擇即可，並無特別限定。平均重複單位數通常為10~2000，進而較佳為15~1000。

又，聚醯亞胺系樹脂亦可於其一部分含有聚醯胺結構。作為可含有之聚醯胺結構，例如可列舉：含有如偏苯三甲酸酐之三羧酸殘基之聚醯胺醯亞胺結構、或含有如對苯二甲酸之二羧酸殘基之聚醯胺結構。

就耐熱性之方面而言，聚醯亞胺系樹脂之玻璃轉移溫度較佳為250℃以上，進而較佳為270℃以上。另一方面，就延伸之容易性或降低烘烤溫度之方面而言，玻璃轉移溫度較佳為400℃以下，進而較佳為380℃以下。

作為聚醯亞胺系樹脂，例如可列舉具有下述式所表示之結構之化合物。於下述式中，n為重複單位，表示2以上之整數。

於上述聚醯亞胺系樹脂中，就具有優異之透明性之方面而言，較佳為具有不易引起分子內或分子間之電荷移動之結構之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂，具體而言，可列舉上述式(4)~(11)等氟化聚醯亞胺系樹脂、上述式(13)~(16)等具有脂環結構之聚醯亞胺系樹脂。

又，於上述式(4)~(11)等氟化聚醯亞胺系樹脂中，由於具有經氟化之結構，故而具有較高之耐熱性，亦不會因由聚醯亞胺系樹脂所構成之聚醯亞胺膜之製造時之熱而被著色，因此具有優異之透明性。

聚醯胺系樹脂之概念不僅包括脂肪族聚醯胺，亦包括芳香族聚醯胺(aramid)。作為聚醯胺系樹脂，例如可列舉具有下述式(21)~(23)所表示之骨架之化合物。再者，於下述式中，n為重複單位，表示2以上之整數。

由上述式(4)~(20)及(23)所表示之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂所構成之基材亦可使用市售者。作為由上述聚醯亞胺系樹脂所構成之基材之市售品，例如可列舉Mitsubishi Gas Chemical公司製造之Neopulim等，作為由上述聚醯胺系樹脂所構成之基材之市售品，例如可列舉Toray公司製造之Mictron等。

又，上述式(4)~(20)及(23)所表示之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂亦可使用藉由公知方法而合成者。例如上述式(4)所表示之聚醯亞胺系樹脂之合成方法記載於日本特開2009-132091，具體而言，可藉由使下述式(24)所表示之4,4'-六氟亞丙基雙鄰苯二甲酸二酐(FPA)與2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFDB)進行反應而獲得。

上述聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量較佳為3000以上且50萬以下之範圍，更佳為5000~30萬之範圍，進而較佳為1萬以上 且20萬以下之範圍。若重量平均分子量未達3000，則有無法獲得充分之強度之情況，若超過50萬，則黏度上升，溶解性降低，因此有無法獲得表面平滑且膜厚均勻之基材之情況。再者，於本說明書中，所謂「重量平均分子量」係指藉由凝膠滲透層析法(GPC)而測得之聚苯乙烯換算值。

就能夠提高硬度之觀點而言，樹脂基材11較佳為使用由上述式(4)~(11)等所表示之氟化聚醯亞胺系樹脂或上述式(23)等具有鹵基之聚醯胺系樹脂所構成之基材。其中，就可進一步提高硬度之觀點而言，更佳為使用由上述式(4)所表示之聚醯亞胺系樹脂所構成之基材。

作為聚酯系樹脂，例如可列舉以聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯之至少1種作為構成成分之樹脂等。

樹脂基材11之折射率高於功能層12之折射率。樹脂基材11之折射率例如可藉由貝克法進行測定。於使用貝克法測定樹脂基材11之折射率之情形時，切出10個樹脂基材11之碎片，對於所切出之10個碎片，使用折射率標準液，藉由貝克法分別測定折射率，將所測得之10個碎片之折射率之平均值作為樹脂基材11之折射率。樹脂基材11之折射率亦可成為1.500以上且1.800以下。又，樹脂基材11之折射率亦可使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造)測定波長380~780nm之平均反射率，並使用所獲得之平均反射率藉由以下之式(1)而求出。為了防止背面反射，樹脂基材11之平均反射率(R)設為於將較測定點面積更大之寬度之黑色聚氯乙烯絕緣帶(例如製品名「Yamato vinyl tape NO200-38-21」，Yamato公司製造，38mm寬度)貼附於樹脂基材11之背面後測定。

R₁=(1-n₁)²/(1+n₁)²…(1)

上述式(1)中，R₁表示於波長380~780nm之樹脂基材之平均反射率 (%)，n₁表示樹脂基材之折射率。

樹脂基材11之厚度較佳為10μm以上且100μm以下。若樹脂基材之厚度為10μm以上，則可抑制光學膜之捲曲，又，可獲得充分之硬度，進而，即便於利用輥對輥(Roll to Roll)製造光學膜之情形時，亦不易產生褶皺，無導致外觀之劣化之虞。另一方面，若樹脂基材之厚度為100μm以下，則光學膜之摺疊性能良好，可滿足連續摺疊試驗之要件，又，於光學膜之輕量化之方面較佳。樹脂基材11之厚度係使用掃描式電子顯微鏡(SEM)，拍攝樹脂基材11之剖面，於該剖面之影像中測定10個部位之樹脂基材11之膜厚，採用該10個部位之膜厚之算術平均值。樹脂基材11之下限更佳為25μm以上，樹脂基材11之上限更佳為80μm以下。

<<功能層>>

功能層12係作為硬塗層發揮功能之層。功能層12除硬塗性以外，亦可具有硬塗性以外之功能。功能層12除硬塗性以外，亦具有抗靜電性。即，功能層12成為抗靜電硬塗層。本說明書中所謂「硬塗層」係指硬塗層之剖面中央之馬氏硬度為375MPa以上之層。本說明書中，所謂「馬氏硬度」係指藉由利用奈米壓痕法之硬度測定，將壓頭壓入500nm時之硬度。利用上述奈米壓痕法之馬氏硬度之測定設為使用HYSITRON(海思創)公司製造之「TI950 TriboIndenter」對測定樣品進行者。具體而言，首先，製作將以1mm×10mm切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之塊體，藉由一般之切片製作方法，自該塊體切出無孔等之均勻之厚度70nm以上且100nm以下之切片。切片之製作可使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而，將切去該無孔等之均勻之切片後之剩餘之塊體作為測定樣品。繼而，於此種測定樣品之藉由切去上述切片而獲得之剖面中，於以下之測定條件下，將作為上述壓頭之Berkovich壓頭(三角錐)於功能層之剖面中央壓入500nm，保持為固定而進行 殘留應力之緩和後，卸載，計測緩和後之最大荷重，使用該最大荷重P_max(μN)與深度500nm之凹陷面積A(nm²)，藉由P_max/A而算出馬氏硬度。馬氏硬度設為測定10個部位而獲得之值之算術平均值。

(測定條件)

‧荷重速度：10nm/秒

‧保持時間：5秒

‧荷重卸載速度：10nm/秒

‧測定溫度：25℃

關於功能層12，功能層12之剖面中央之馬氏硬度較佳為500MPa以上且2000MPa以下。若功能層12之馬氏硬度為500MPa以上，則可獲得作為硬塗層充分之硬度，又，若為2000MPa以下，則可獲得良好之光學膜之摺疊性能。功能層12之剖面中央之馬氏硬度之下限較佳為600MPa以上，上限較佳為1500MPa以下。

功能層12之折射率亦可成為1.400以上且1.800以下。功能層12之折射率可使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造)，測定波長380~780nm之平均反射率，並使用所獲得之平均反射率，藉由以下之式(2)而求出。功能層12之平均反射率設為藉由如下方式獲得，即，於未實施易接著處理之厚度50μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)基材上塗佈功能層用組成物並使其硬化而形成厚度1~10μm之功能層，於PET基材之與功能層側之面為相反側之面(背面)，貼附較測定點面積更大寬度之黑色聚氯乙烯絕緣帶(例如製品名「Yamato vinyl tape NO200-38-21」，Yamato公司製造，寬度38mm)以防止背面反射，其後進行測定。

R₂=(1-n₂)²/(1+n₂)²…(2)

上述式(2)中，R₂表示於波長380~780nm之功能層之平均反射率 (%)，n₂表示功能層之折射率。

功能層12之膜厚較佳為2μm以上且40μm以下。若功能層12之膜厚為2μm以上，則可獲得作為硬塗層充分之硬度，又，若為40μm以下，則可抑制加工性之劣化。本說明書中所謂「功能層之膜厚」係指於功能層成為多層構造之情形時合計各功能層之膜厚所獲得之膜厚(總厚)。功能層12之上限更佳為30μm以下，進而較佳為20μm以下。

功能層12之膜厚係使用掃描穿透型電子顯微鏡(STEM)、或穿透型電子顯微鏡(TEM)而拍攝功能層12之剖面，於該剖面之影像中測定20個部位之功能層12之膜厚，設為該20個部位之膜厚之算術平均值。以下記載具體之剖面照片之拍攝方法。首先，製作將以1mm×10mm之大小切出之光學膜利用包埋樹脂包埋之塊體，藉由一般之切片製作方法，自該塊體切出無孔等之均勻之厚度70nm以上且100nm以下之切片。切片之製作可使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而，將該無孔等之均勻之切片作為測定樣品。其後，使用掃描穿透型電子顯微鏡(STEM)(製品名「S-4800」，日立高新技術股份有限公司製造)拍攝測定樣品之剖面照片。於使用上述S-4800拍攝剖面照片時，將檢測器設為「TE」，將加速電壓設為「30kV」，將發射電流設為「10μA」而進行剖面觀察。關於倍率，一面調節焦距並以對比度及亮度辨別或觀察各層，一面於5000倍~20萬倍下適當調節。較佳之倍率為1萬倍~10萬倍，進而較佳之倍率為1萬倍~5萬倍，最佳之倍率為2.5萬倍~5萬倍。再者，於使用上述S-4800拍攝剖面照片時，亦可進而將光圈設為「束偵測光圈3」，將物鏡光圈設為「3」，又，將W.D.設為「8mm」。於測定硬塗層之膜厚時，於進行剖面觀察時，重要的是能夠儘量明確地觀察到功能層與其他層(例如樹脂基材)之界面對比度。假設因對比度不足而難以觀察到該界面之情形時，若實施四氧化鋨、四氧化釕、磷鎢酸等染色處理，則變得容易 觀察到有機層間之界面，因此亦可進行染色處理。又，有界面之對比度於高倍率時更難以分辨之情形。於此情形時，亦於低倍率下同時進行觀察。例如於2.5萬倍與5萬倍、或5萬倍與10萬倍等高低2種倍率下進行觀察，於兩倍率下求出上述算術平均值。進而將該平均值作為功能層之膜厚之值。

功能層12由於成為抗靜電硬塗層，故而含有黏合劑樹脂及存在於黏合劑樹脂中之抗靜電劑。再者，於功能層12為不具有抗靜電性之硬塗層之情形時，亦可不含抗靜電劑。又，功能層12除含有黏合劑樹脂等以外，亦可視需要於無損本發明之效果之範圍內含有例如無機粒子或有機粒子等粒子、紫外線吸收劑、接著性提高劑、調平劑、觸變性賦予劑、偶合劑、塑化劑、消泡劑、填充劑、著色劑、填料等添加劑。

<黏合劑樹脂>

黏合劑樹脂含有聚合性化合物(硬化性化合物)之聚合物(硬化物)。聚合性化合物係於分子內具有至少1個聚合性官能基者。作為聚合性官能基，例如可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和基。再者，所謂「(甲基)丙烯醯基」係包含「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」之兩者之含義。

作為聚合性化合物，較佳為多官能(甲基)丙烯酸酯。作為上述多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲 基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸金剛烷基酯、二(甲基)丙烯酸異莰酯、二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、或將該等利用PO、EO、己內酯等改質者。

於該等中，就可較佳地滿足上述馬氏硬度之方面而言，較佳為3~6官能者，例如較佳為新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、新戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二新戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇十(甲基)丙烯酸酯等。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸酯」係指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」。

再者，為了進行硬度或組成物之黏度調整、密接性之改善等，亦可進而含有單官能(甲基)丙烯酸酯單體。作為上述單官能(甲基)丙烯酸酯單體，例如可列舉：丙烯酸羥基乙酯(HEA)、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、丁二酸2-丙烯醯氧基乙酯、丙烯醯嗎福啉、N-丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲醯亞胺、丙烯酸環己酯、丙烯酸四氫呋喃酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸苯氧基乙酯、及丙烯酸金剛烷基酯等。

關於上述單體之重量平均分子量，就提高功能層之硬度之觀點而言，較佳為未達1000，更佳為200以上且800以下。又，上述聚合性低聚物之重量平均分子量較佳為1000以上且2萬以下，更佳為1000以上且1萬以下，進而較佳為2000以上且7000以下。

<抗靜電劑>

用於功能層12之抗靜電劑只要為與黏合劑樹脂之相容性良好者，則並無特別限定。作為抗靜電劑，有離子傳導型抗靜電劑與電子傳導型抗靜電劑，就與黏合劑樹脂之相容性之觀點而言，較佳為離子傳導型抗靜電劑。

作為上述離子傳導型抗靜電劑，例如可列舉：四級銨鹽、吡啶 鹽等陽離子性抗靜電劑、磺酸、磷酸、羧酸等鹼金屬鹽(例如鋰鹽、鈉鹽、鉀鹽等)等陰離子性抗靜電劑、胺基酸系、胺基酸硫酸酯系等兩性抗靜電劑、胺基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非離子性抗靜電劑等。於該等中，就對於黏合劑樹脂顯示優異之相容性而言，較佳為四級銨鹽或鋰鹽。

作為上述電子傳導型抗靜電劑，例如可列舉：聚乙炔系、聚噻吩系等導電性聚合物、金屬粒子、金屬氧化物粒子等導電性粒子。於該等中，較佳為於聚乙炔、聚噻吩等導電性聚合物中組合摻雜劑而成之抗靜電劑、金屬粒子、金屬氧化物粒子。又，亦可使上述導電性聚合物中含有導電性粒子。

作為由上述導電性聚合物所構成之抗靜電劑，具體而言，可列舉：聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1,6-庚二炔)、聚聯伸苯(聚對苯)、聚對苯硫醚、聚苯基乙炔、聚(2,5-伸噻吩基)、或該等之衍生物等導電性高分子，較佳為聚噻吩系導電性有機聚合物(例如3,4-乙二氧基噻吩(PEDOT)等)。

藉由使用由上述導電性有機聚合物所構成之抗靜電劑，濕度依存性較小，可長時間地維持抗靜電性，又，具有較高之透明性、較低之霧度，進而硬塗性較高，尤其可顯著提高鉛筆硬度、對鋼絲絨等之耐擦傷性。

作為構成上述金屬粒子之金屬，並無特別限定，例如可列舉：Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、Pd、Pt等單質、或該等金屬之合金。又，作為構成上述金屬氧化物粒子之金屬氧化物，並無特別限定，例如可列舉：氧化錫(SnO₂)、氧化銻(Sb₂O₅)、摻銻氧化錫(ATO)、摻錫氧化銦(ITO)、摻鋁氧化鋅(AZO)、摻氟氧化錫(FTO)、氧化鋅(ZnO)等。

作為抗靜電劑之含量，並無特別限定，相對於功能層用組成物之聚合性化合物100質量份，較佳為1質量份以上且50質量份以下。若為1質量份以上，則可充分地獲得上述抗靜電性，若為50質量份以下，則可獲得霧度值 較小、全光線穿透率良好之高透明膜。上述抗靜電劑之含量之下限更佳為10質量份以上，上限更佳為40質量份以下。

功能層12亦可進而含有紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑、及/或防污劑。

<紫外線吸收劑>

光學膜可尤其較佳地用於如可摺疊之智慧型手機或平板終端之行動終端，但由於此種行動終端多數情況下於室外使用，故而有配置於較光學膜靠顯示元件側之偏光元件暴露於紫外線而容易劣化之問題。然而，由於功能層12配置於偏光元件之觀察者側，故而若功能層12含有紫外線吸收劑，則可較佳地防止因偏光元件暴露於紫外線所導致之劣化。再者，上述紫外線吸收劑(UVA)亦可不含有於功能層12中而含有於樹脂基材11中。

作為紫外線吸收劑，例如可列舉：三

系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、及苯并***系紫外線吸收劑等。

作為上述三

系紫外線吸收劑，例如可列舉：2-(2-羥基-4-[1-辛氧基羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三

、2-[4-[(2-羥基-3-十二烷氧基丙基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三

、2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三

、2-[4-[(2-羥基-3-十三烷氧基丙基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三

、及2-[4-[(2-羥基-3-(2'-乙基)己基)氧基]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三

等。作為市售之三

系紫外線吸收劑，例如可列舉：TINUVIN460、TINUVIN477(均為BASF公司製造)、LA-46(ADEKA公司製造)等。

作為上述二苯甲酮系紫外線吸收劑，例如可列舉：2-羥基二苯甲酮、2,4-二羥基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、羥基甲氧基二苯甲酮磺酸及其三水合 物、羥基甲氧基二苯甲酮磺酸鈉等。作為市售之二苯甲酮系紫外線吸收劑，例如可列舉CHMASSORB81/FL(BASF公司製造)等。

作為上述苯并***系紫外線吸收劑，例如可列舉：2-乙基己基-3-[3-第三丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并***-2-基)苯基]丙酸酯、2-(2H-苯并***-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二烷基)-4-甲基苯酚、2-[5-氯(2H)-苯并***-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚、2-(2H-苯并***-2-基)-4,6-二第三戊基苯酚、2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3,5'-二第三丁基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3,5'-二第三丁基苯基)-5-氯苯并***、2-(2'-羥基-3'-(3",4",5",6"-四氫鄰苯二甲醯亞胺甲基)-5'-甲基苯基)苯并***、2,2-亞甲基雙(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并***-2-基)苯酚)、及2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并***等。作為市售之苯并***系紫外線吸收劑，例如可列舉：KEMISORB71D、KEMISORB79(均為Chemipro Kasei公司製造)、JF-80、JAST-500(均為城北化學公司製造)、ULS-1933D(一方公司製造)、RUVA-93(大塚化學公司製造)等。

紫外線吸收劑尤其可較佳地使用三

系紫外線吸收劑、苯并***系紫外線吸收劑。紫外線吸收劑較佳為與構成功能層之樹脂成分之溶解性較高，又，較佳為上述連續摺疊試驗後之滲出較少者。紫外線吸收劑較佳為經聚合物化或低聚物化。作為紫外線吸收劑，較佳為具有苯并***、三

、二苯甲酮骨架之聚合物或低聚物，具體而言，較佳為使具有苯并***或二苯甲酮骨架之(甲基)丙烯酸酯與甲基丙烯酸甲酯(MMA)以任意之比率進行熱共聚而成者。再者，於將光學膜應用於有機發光二極體(OLED)顯示裝置之情形時，紫外線吸收劑亦可發揮保護OLED免受紫外線之影響之作用。

作為紫外線吸收劑之含量，並無特別限定，相對於功能層用組成物之固體成分100質量份，較佳為1質量份以上且6質量份以下。若為1質量份 以上，則可充分地獲得使上述紫外線吸收劑含有於功能層之效果，若為6質量份以下，則亦不會於功能層產生明顯之著色或強度降低。上述紫外線吸收劑之含量之下限更佳為2質量份以上，上限更佳為5質量份以下。

<分光穿透率調整劑>

分光穿透率調整劑係調整光學膜之分光穿透率者。於使功能層12含有例如下述通式(25)所表示之芝麻酚型苯并***系單體之情形時，可較佳地滿足上述分光穿透率。

式中，R⁷表示氫原子或甲基。R⁸表示碳數1~6之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基或碳數1~6之直鏈狀或支鏈狀之氧伸烷基。

作為上述芝麻酚型苯并***系單體，並無特別限制，作為具體之物質名，可列舉：甲基丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基]乙酯、丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基]乙酯、甲基丙烯酸3-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基]丙酯、丙烯酸3-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基]丙酯、甲基丙烯酸4-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基]丁酯、丙烯酸4-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基]丁酯、甲基丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基氧基]乙酯、丙烯酸2-[2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基氧基]乙酯、甲基丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基}丙醯氧基]乙酯、丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)- 2H-苯并***-5-基}丙醯氧基]乙酯、甲基丙烯酸4-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基}丙醯氧基]丁酯、丙烯酸4-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基}丙醯氧基]丁酯、甲基丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基}丙醯氧基]乙酯、丙烯酸2-[3-{2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-基}丙醯氧基]乙酯、2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5羧酸2-(甲基丙烯醯氧基)乙酯、2-(丙烯醯氧基)乙基2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-羧酸酯、4-(甲基丙烯醯氧基)丁基2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-羧酸酯、4-(丙烯醯氧基)丁基2-(6-羥基苯并[1,3]二氧雜環戊烯-5-基)-2H-苯并***-5-羧酸酯等。又，該等芝麻酚型苯并***系單體可使用1種，又，亦可使用2種以上。

<防污劑>

作為防污劑，並無特別限定，例如可列舉聚矽氧系防污劑、氟系防污劑、聚矽氧系且氟系防污劑，可分別單獨使用，亦可混合而使用。又，作為防污劑，亦可為丙烯酸系防污劑。

作為防污劑之含量，相對於上述聚合性化合物100質量份，較佳為0.01~3.0質量份。若為0.01質量份以上，則可對功能層賦予充分之防污性能，又，若為3.0質量份以下，則亦無功能層之硬度降低之虞。

防污劑較佳為重量平均分子量為5000以下，為了改善防污性能之耐久性，其係具有較佳為1個以上、更佳為2個以上之反應性官能基的化合物。其中，藉由使用具有2個以上之反應性官能基之防污劑，可賦予優異耐擦傷性。

於防污劑不具有反應性官能基之情形時，無論於光學膜為卷狀之情形時，亦或為片狀之情形時，防污劑均會於重疊時轉移至光學膜之背面， 若欲於光學膜之背面貼附或塗佈其他層，則有產生其他層之剝離之情況，進而，有因進行多次連續摺疊試驗而容易剝離之情形。

進而，具有上述反應性官能基之防污劑之防污性能之性能持續性(耐久性)變得良好，其中，含有上述氟系防污劑之功能層不易附著(不易顯眼)指紋，擦拭性亦良好。進而，由於可降低功能層用組成物之塗敷時之表面張力，故而調平性良好，所形成之功能層之外觀變得良好。

含有聚矽氧系防污劑之功能層之滑動性良好，耐鋼絲絨性良好。搭載有功能層含有此種聚矽氧系防污劑之光學膜的觸控感測器由於以手指或筆等接觸時之滑動變得良好，故而觸感變得良好。又，於功能層亦不易附著(不易顯眼)指紋，擦拭性亦變得良好。進而，由於可降低功能層用組成物之塗敷時之表面張力，故而調平性良好，所形成之功能層之外觀變得良好。

作為聚矽氧系防污劑之市售品，例如可列舉：SUA1900L10(新中村化學公司製造)、SUA1900L6(新中村化學公司製造)、Ebecryl1360(Daicel-Cytec公司製造)、UT3971(日本合成公司製造)、BYKUV3500(BYK-Chemie公司製造)、BYKUV3510(BYK-Chemie公司製造)、BYKUV3570(BYK-Chemie公司製造)、X22-164E、X22-174BX、X22-2426、KBM503、KBM5103(信越化學公司製造)、TEGO-RAD2250、TEGO-RAD2300、TEGO-RAD2200N、TEGO-RAD2010、TEGO-RAD2500、TEGO-RAD2600、TEGO-RAD2700(Evonik Japan公司製造)、Megafac RS854(DIC公司製造)等。

作為氟系防污劑之市售品，例如可列舉：Optool DAC、Optool DSX(大金工業公司製造)、Megafac RS71、Megafac RS74(DIC公司製造)、LINC152EPA、LINC151EPA、LINC182UA(共榮社化學公司製造)、Ftergent 650A、Ftergent 601AD、Ftergent 602等。

作為氟系且聚矽氧系並且具有反應性官能基之防污劑之市售品，例如可列舉：Megafac RS851、Megafac RS852、Megafac RS853、Megafac RS854(DIC公司製造)、Opstar TU2225、Opstar TU2224(JSR公司製造)、X71-1203M(信越化學公司製造)等。

<<第1光學調整層>>

光學調整層13係用以抑制干涉條紋之產生之層。關於光學調整層13之折射率，就抑制干涉條紋之產生之觀點而言，較佳為低於樹脂基材11之折射率且高於功能層12之折射率。光學調整層13之折射率可藉由與上述功能層之折射率相同之方法進行測定，因此此處省略說明。

光學調整層13與功能層12之折射率差(光學調整層之折射率-功能層之折射率)較佳為0.005以上且0.100以下。若該折射率差為0.005以上，則可成為雖產生光學調整層13與功能層12之界面反射但無法視認到干涉條紋之等級，又，若為0.100以下，則可成為雖確認到少許之干涉條紋但於實際使用中無問題之等級。該折射率差之下限更佳為0.007以上，上限更佳為0.090以下。光學調整層13之折射率亦可為0.010以上且0.080以下。

光學調整層13之膜厚較佳為成為30nm以上且200nm以下。若光學調整層13之膜厚為30nm以上，則可確保功能層12與光學調整層13之充分之密接性，又，若為200nm以下，則可進一步抑制干涉條紋並且可提高摺疊性。光學調整層13之膜厚可藉由與功能層12相同之方法而求出。光學調整層13之下限更佳為50nm以上，上限更佳為150nm以下。

光學調整層13亦可僅由樹脂所構成，較佳為含有黏合劑樹脂及用以調整折射率之粒子。光學調整層13之黏合劑樹脂較佳為選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯(urethane)系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、及ABS樹脂所組成之群中 之至少1種樹脂。光學調整層13之粒子較佳為選自由二氧化矽(silica)或氟化鎂等低折射率粒子、氧化鈦或氧化鋯等金屬氧化物粒子、鈷藍等無機顏料等所組成之群中之至少1種。於該等中，就調整密接性與折射率差之觀點而言，更佳為聚酯系樹脂與氧化鈦或氧化鋯等金屬氧化物粒子之組合。

又，為了獲得抗靜電性，光學調整層13亦可含有抗靜電劑。於光學調整層13含有抗靜電劑之情形時，光學調整層13亦作為抗靜電層發揮功能。藉由使光學調整層13含有抗靜電劑，可使光學膜10之正面10A之表面電阻值更穩定化。於使光學調整層13含有抗靜電劑之情形時，若使功能層12亦含有抗靜電劑，則可使光學膜10之正面10A之表面電阻值進一步穩定化。作為含有於光學調整層13之抗靜電劑，可使用與功能層12之欄中所說明之抗靜電劑相同者，因此此處省略說明。

<<第2光學調整層>>

光學調整層14係主要用以不使干涉條紋產生且提高樹脂基材11與光學調整層13之間之密接性的層。藉由於樹脂基材11與光學調整層13之間設置光學調整層14，可較樹脂基材11與光學調整層13直接接觸之情形時提高密接性。

關於光學調整層14之折射率，就干涉條紋之觀點而言，較佳為低於樹脂基材11之折射率且高於光學調整層13之折射率。光學調整層14之折射率可藉由與功能層12相同之方法進行測定，因此此處省略說明。

光學調整層14與光學調整層13之折射率差(第2光學調整層之折射率-第1光學調整層之折射率)較佳為0.005以上且0.100以下。若該折射率差為0.005以上，則可成為雖產生光學調整層14與光學調整層13之界面反射但無法視認到干涉條紋之等級，又，若為0.100以下，則可成為雖確認到少許之干涉條紋但於實際使用中無問題之等級。該折射率差之下限更佳為0.007以上，上限更佳為0.090以下。光學調整層13之折射率亦可為0.010以上且0.080以下。

光學調整層14之膜厚較佳為成為30nm以上且200nm以下。若光學調整層14之膜厚為30nm以上，則可確保光學調整層13與光學調整層14及樹脂基材11與光學調整層14之充分之密接性，又，若為200nm以下，則亦不會因光學調整層14與光學調整層13之折射率差而產生干涉條紋，又，可提高摺疊性。光學調整層14之膜厚設為藉由與功能層12相同之方法而求出。光學調整層14之下限更佳為50nm以上，上限更佳為150nm以下。

光學調整層14亦可僅由樹脂構成，較佳為含有黏合劑樹脂及用以調整折射率之粒子。光學調整層14之樹脂較佳為選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、及ABS樹脂所組成之群中之至少1種樹脂。光學調整層13之粒子較佳為選自由二氧化矽或氟化鎂等低折射率粒子、氧化鈦或氧化鋯等金屬氧化物粒子、鈷藍等無機顏料等所組成之群中之至少1種。於該等中，就調整密接性與折射率差之觀點而言，更佳為聚酯系樹脂與氧化鈦或氧化鋯等金屬氧化物粒子之組合。

又，為了獲得抗靜電性，光學調整層14亦可含有抗靜電劑。於光學調整層14含有抗靜電劑之情形時，光學調整層14亦作為抗靜電層發揮功能。藉由使光學調整層14含有抗靜電劑，可使光學膜10之正面10A之表面電阻值更穩定化。於使光學調整層14含有抗靜電劑之情形時，若使功能層12含有抗靜電劑，則可使光學膜10之正面10A之表面電阻值進一步穩定化。作為光學調整層14中所含之抗靜電劑，可使用與功能層12之欄中所說明之抗靜電劑相同者，因此此處省略說明。

<<第3光學調整層>>

光學調整層15係提高光學膜10之透光率之層。光學調整層15之折射率高於作為空氣之折射率之1.000，且低於樹脂基材11之折射率。光學調整層15之折射 率可藉由與上述功能層12之折射率相同之方法進行測定，因此此處省略說明。

樹脂基材11與光學調整層15之折射率差(樹脂基材之折射率-第3光學調整層之折射率)較佳為0.005以上且0.700以下。若該折射率差為0.005以上，則可提高光學膜10之透光率，又，若為0.700以下，則無損光學膜10之透明性。該折射率差之下限更佳為0.010以上，上限更佳為0.600以下。光學調整層15之折射率亦可為0.050以上且0.500以下。

光學調整層15之膜厚較佳為成為30nm以上且1μm以下。若光學調整層15之膜厚為30nm以上，則可進一步提高光學膜10之透光率，又，若為1μm以下，則可抑制加工性之劣化。光學調整層15之膜厚可藉由與功能層12相同之方法而求出。光學調整層15之下限更佳為50nm以上，上限更佳為700nm以下，進而較佳為500nm以下。

關於光學調整層15之構成，只要為折射率高於1.000且低於樹脂基材11之折射率之層，則並無特別限定。光學調整層15可由樹脂構成。光學調整層15除含有樹脂以外，亦可為了進一步降低折射率而含有具有低於該樹脂之折射率之低折射率粒子。又，為了獲得抗靜電性，光學調整層15亦可含有抗靜電劑。於光學調整層15含有抗靜電劑之情形時，光學調整層15亦作為抗靜電層發揮功能。進而，為了調整光學膜10之色調，光學調整層15亦可含有上述分光穿透率調整劑等色調調整劑。

<樹脂>

樹脂較佳為選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、及ABS樹脂所組成之群中之至少1種樹脂。於該等中，就與樹脂基材11之密接性之觀點而言，較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂、胺酯系樹脂、聚酯系樹脂等。

作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，例如可列舉聚甲基丙烯酸甲酯 等。又，作為上述纖維素系樹脂，例如可列舉：二乙醯纖維素、乙酸丙酸纖維素(CAP)、乙酸丁酸纖維素(CAB)等。作為上述胺酯系樹脂，例如可列舉胺酯樹脂等。

作為上述氯乙烯系樹脂，例如可列舉聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。又，作為上述聚酯系樹脂，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯等。又，作為上述聚烯烴系樹脂，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯等。

<低折射率粒子>

作為低折射率粒子，例如可列舉由二氧化矽或氟化鎂所構成之實心或中空粒子等。於該等中，較佳為中空二氧化矽粒子，此種中空二氧化矽粒子例如可藉由日本特開2005-099778號公報之實施例所記載之製造方法進行製作。

低折射率粒子之平均粒徑(平均一次粒徑)較佳為5nm以上且100nm以下。若低折射率粒子之平均粒徑為上述範圍內，則無損光學調整層15之透明性，可獲得良好之粒子之分散狀態。低折射率粒子之平均粒徑係由使用穿透型電子顯微鏡(TEM)或掃描穿透型電子顯微鏡(STEM)所拍攝之光學調整層15之剖面之影像測定20個低折射率粒子之粒徑，採用20個低折射率粒子之粒徑之算術平均值。低折射率粒子之平均粒徑之下限更佳為10nm以上，上限更佳為80nm以下，進而較佳為70nm以下。

作為低折射率粒子，較佳為使用於表面具有反應基之二氧化矽粒子(反應性二氧化矽粒子)，尤佳為反應性中空二氧化矽粒子。此種於表面具有反應基之二氧化矽粒子可藉由利用矽烷偶合劑等對二氧化矽粒子進行表面處理而製作。作為利用矽烷偶合劑對二氧化矽粒子之表面進行處理之方法，可列舉：對二氧化矽粒子噴霧矽烷偶合劑之乾式法、或於使二氧化矽粒子分散至溶劑中後添加矽烷偶合劑進行反應之濕式法等。

<抗靜電劑>

作為光學調整層15中所含之抗靜電劑，可使用與功能層12之欄中所說明之抗靜電劑相同者，因此此處省略說明。

<<光學膜之製造方法>>

光學膜10例如可藉由以下方式製作。首先，藉由棒式塗佈機等塗佈裝置，於樹脂基材11之第1面11A上塗佈用以形成光學調整層14之第2光學調整層用組成物，而形成第2光學調整層用組成物之塗膜。

<第2光學調整層用組成物>

第2光學調整層用組成物含有黏合劑樹脂前驅物、金屬氧化物等粒子及溶劑。本說明書中所謂「黏合劑樹脂前驅物」係指藉由去除溶劑、或利用熱或電離放射線使之硬化而成為黏合劑樹脂之成分。

作為黏合劑樹脂前驅物，可列舉溶劑乾燥型樹脂及利用熱或電離放射線而硬化之聚合性化合物。作為本說明書中之電離放射線，可列舉：可見光線、以及紫外線、X射線、電子束、α射線、β射線、及γ射線。第2光學調整層用組成物此外亦可視需要含有二氧化矽或氟化鎂等低折射率粒子、鈷藍等無機顏料、調平劑、及聚合起始劑之至少任一者。又，於使用聚酯系樹脂作為黏合劑樹脂前驅物之情形時，第2光學調整層用組成物此外亦可視需要含有選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、ABS樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂。

於形成第2光學調整層用組成物之塗膜後，藉由利用各種公知方法將塗膜於例如40℃以上且200℃以下之溫度下加熱10秒~120秒而使其乾燥，使溶劑蒸發、或使該塗膜硬化，又，視需要對塗膜照射紫外線等電離放射線，形成鄰接於樹脂基材11之光學調整層14。

繼而，藉由棒式塗佈機等塗佈裝置，於光學調整層14上塗佈用以形成光學調整層13之第1光學調整層用組成物，而形成第1光學調整層用組成 物之塗膜。

<第1光學調整層用組成物>

第1光學調整層用組成物含有黏合劑樹脂前驅物、金屬氧化物等粒子及溶劑。第1光學調整層用組成物此外亦可視需要含有二氧化矽或氟化鎂等低折射率粒子、鈷藍等無機顏料、調平劑、及聚合起始劑之至少任一者。又，於使用聚酯系樹脂作為黏合劑樹脂前驅物之情形時，第1光學調整層用組成物此外亦可視需要含有選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、ABS樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂。

於形成第1光學調整層用組成物之塗膜後，藉由利用各種公知方法將塗膜於例如40℃以上且200℃以下之溫度下加熱10秒~120秒而使其乾燥，使溶劑蒸發、或使該塗膜硬化，又，視需要對塗膜照射紫外線等電離放射線而形成光學調整層13。

於形成光學調整層13後，藉由棒式塗佈機等塗佈裝置，於光學調整層13上塗佈用以形成功能層12之功能層用組成物，形成功能層用組成物之塗膜。

<功能層用組成物>

功能層用組成物含有硬化後成為黏合劑樹脂之聚合性化合物。功能層用組成物此外亦可視需要含有抗靜電劑、紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑、防污劑、無機粒子、調平劑、溶劑、聚合起始劑。

(溶劑)

作為上述溶劑，可列舉：醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME、乙二醇、二丙酮醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基 酮、二丙酮醇)、酯(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、甲酸甲酯、PGMEA)、脂肪族烴(例如己烷、環己烷)、鹵代烴(例二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(例如苯、甲苯、二甲苯)、醯胺(例如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯啶酮)、醚(例如二***、二

烷、四氫呋喃)、醚醇(例如1-甲氧基-2-丙醇)、碳酸酯(碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸甲酯乙酯)等。該等溶劑可單獨使用，亦可併用2種以上。其中，作為上述溶劑，就使(甲基)丙烯酸胺酯等成分、以及其他添加劑溶解或分散，可較佳地塗敷功能層用組成物之方面，較佳為甲基異丁基酮、甲基乙基酮。

(聚合起始劑)

聚合起始劑係於電離放射線照射下分解，產生自由基而使聚合性化合物之聚合(交聯)開始或進行之成分。

聚合起始劑只要可藉由電離放射線照射而釋出使自由基聚合開始之物質，則並無特別限定。作為聚合起始劑，並無特別限定，可使用公知者，具體例例如可列舉：苯乙酮類、二苯甲酮類、米其勒苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、9-氧硫

類、苯丙酮類、苯偶醯類、安息香類、醯基氧化膦類。又，較佳為混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。

於形成功能層用組成物之塗膜後，藉由利用各種公知方法將塗膜於例如30℃以上且120℃以下之溫度下加熱10秒~120秒而使其乾燥，使溶劑蒸發。

於使塗膜乾燥後，對塗膜照射紫外線等電離放射線而使塗膜硬化。藉此，形成鄰接於光學調整層13之功能層12。

於形成功能層12後，藉由棒式塗佈機等塗佈裝置，於樹脂基材 11之第2面11B上塗佈用以形成光學調整層15之第3光學調整層用組成物，而形成第3光學調整層用組成物之塗膜。

<第3光學調整層用組成物>

第3光學調整層用組成物含有樹脂前驅物及溶劑。第3光學調整層用組成物此外亦可視需要含有低折射率粒子、抗靜電劑、鈷藍等無機顏料、調平劑、及聚合起始劑之至少任一者。又，於使用聚酯系樹脂作為樹脂前驅物之情形時，第3光學調整層用組成物此外亦可視需要含有選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、ABS樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂。溶劑與功能層用組成物之欄中所說明之溶劑相同，因此此處省略說明。

於形成第3光學調整層用組成物之塗膜後，藉由利用各種公知方法將塗膜於例如40℃以上且200℃以下之溫度下加熱10秒~120秒而使其乾燥，使溶劑蒸發、或使該塗膜硬化，又，視需要對塗膜照射紫外線等電離放射線而形成光學調整層15。藉此，獲得圖1所示之光學膜10。

<<<其他光學膜>>>

光學膜亦可為圖4~圖7所示之光學膜30、40、50、60。圖4~圖7所示之光學膜30、40、50、60亦為用於影像顯示裝置者，並可摺疊。

圖4所示之光學膜30具備：樹脂基材11；功能層12，其設置於樹脂基材11之第1面11A側；及光學調整層13，其設置於樹脂基材11與功能層12之間，且鄰接於功能層12。再者，圖4所示之光學膜30未設置光學調整層14，光學調整層13鄰接於功能層12及樹脂基材11。光學膜30之物性等與光學膜10之物性等相同，因此此處省略說明。光學膜30之正面30A成為功能層12之正面12A，光學膜30之背面30B成為光學調整層15之與樹脂基材11側之面為相反側之面15A。

圖5所示之光學膜40具備：樹脂基材11；功能層12，其設置於樹脂基材11之第1面11A側；光學調整層13，其設置於樹脂基材11與功能層12之間，且鄰接於功能層12；及樹脂層41，其設置於樹脂基材11之第2面11B。再者，圖5所示之光學膜40未設置光學調整層14，光學調整層13鄰接於功能層12及樹脂基材11。光學膜40之正面40A成為功能層12之正面12A，光學膜40之背面30B成為樹脂層41之與樹脂基材11側之面為相反側之面41A。

圖6所示之光學膜50具備：樹脂基材11；功能層12，其設置於樹脂基材11之第1面11A側；光學調整層13，其設置於樹脂基材11與功能層12之間，且鄰接於功能層12；樹脂層41，其設置於樹脂基材11之第2面11B側；及光學調整層15，其設置於樹脂基材11與樹脂層41之間，且鄰接於樹脂基材11。再者，圖6所示之光學膜50未設置光學調整層14，光學調整層13鄰接於功能層12及樹脂基材11。光學膜50之正面50A成為功能層12之正面12A，光學膜50之背面50B成為樹脂層41之與樹脂基材11側之面為相反側之面41A。

圖7所示之光學膜60具備：樹脂基材11；功能層12，其設置於樹脂基材11之第1面11A側；光學調整層13，其設置於樹脂基材11與功能層12之間，且鄰接於功能層12；光學調整層14，其設置於樹脂基材11與光學調整層13之間，且鄰接於樹脂基材11；樹脂層41，其設置於樹脂基材11之第2面11B側；及光學調整層15，其設置於樹脂基材11與樹脂層41之間，且鄰接於樹脂基材11。再者，光學膜60之正面60A成為功能層12之正面12A，光學膜60之背面60B成為樹脂層41之與樹脂基材11側之面為相反側之面41A。

於光學膜40、50、60中，在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'超過200MPa且為1200MPa以下。若膜之剪切儲存模數G'超過200MPa，則於對光學膜之正面施加有衝擊時，不僅可抑制光學膜自身之變形，而且即便於在較光學膜更靠影像顯示裝置之內部配置有黏著層 之情形時，亦可抑制黏著層之塑性變形。又，若光學膜40、50、60之剪切儲存模數G'為1200MPa以下，則可抑制摺疊時之光學膜40之破裂。光學膜40、50、60之剪切儲存模數G'之下限較佳為成為400MPa以上，更佳為成為500MPa以上。藉由設為此種下限，可獲得更優異之耐衝擊性。光學膜40、50、60之剪切儲存模數G'之上限較佳為未達800MPa。藉由設為此種上限，於摺疊靜置並再次打開時可獲得良好之恢復性。

於光學膜40、50、60中，在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切損耗模數G"成為3MPa以上且150MPa以下。若光學膜之剪切損耗模數G"為3MPa以上，則可抑制衝擊吸收性能之降低。又，若光學膜40、50、60之剪切損耗模數G"為150MPa以下，則可抑制樹脂層41之硬度降低。光學膜40之剪切損耗模數G"之下限較佳為成為20MPa以上，又，光學膜40之剪切損耗模數G"之上限就光學膜40、50、60之薄型化之觀點而言，較佳為成為130MPa以下，更佳為成為100MPa以下。

剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"可藉由動態黏彈性測定裝置(DMA)進行測定。於藉由動態黏彈性測定裝置(DMA)測定光學膜40之剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"時，首先，將光學膜40沖裁為10mm×5mm之長方形狀而獲得樣品。繼而，準備2片該樣品，安裝於作為動態黏彈性測定裝置(製品名「Rheogel-E4000」，UBM股份有限公司製造)之選項之固體剪切用夾具。具體而言，如圖8所示，固體剪切用夾具70具備厚度1mm之1片金屬製固體剪切板(中板)及配置於該固體剪切板71之兩側之2個L型金屬件72(外板)，於該固體剪切板71與一L型金屬件72之間夾著一樣品，且於固體剪切板71與另一L型金屬件72之間夾著另一樣品。於此情形時，以樹脂層成為固體剪切板51側、功能層成為L型金屬件72側之方式夾著樣品S。繼而，利用螺釘53將L型金屬件72間緊固，固定樣品S。繼而，於在動態黏彈性測定裝置(製品名 「Rheogel-E4000」，UBM股份有限公司製造)安裝由上部夾頭及下部夾頭所構成之拉伸試驗用夾頭後，於上部夾頭與下部夾頭之間以夾頭間距離20mm安裝固體剪切用夾具。夾頭間距離為上部夾頭與下部夾頭之間之距離。繼而，將設定溫度設為25℃並以2℃/min升溫。於該狀態下，一面固定固體剪切板71一面對2個L型金屬件72施加應變量1%且頻率500Hz以上且1000Hz以下之範圍之縱向振動，一面進行在25℃之固體之動態黏彈性測定，測定光學膜40、50、60之剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"。此處，光學膜之於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"係設為藉由如下方式獲得之值，即，對L型金屬件分別施加頻率500Hz、750Hz、950Hz之縱向振動，於各頻率下測定光學膜之剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"，求出該等剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"之算術平均值，進而將該測定重複3次，將分別獲得之3個算術平均值進一步進行算術平均。再者，於上述中，設為500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之原因在於，該頻率區域之頻率係使物體自數cm之高度自由落下時光學膜之正面變形數微米至數十微米之頻率，且係對存在於較光學膜更靠影像顯示裝置之內部之顯示面板等造成損傷之頻率。

光學膜40、50、60之物性等除上述以外，與光學膜10之物性等相同，因此此處省略說明。

<<樹脂層>>

樹脂層41係由具有透光性之樹脂所構成之層。樹脂層41係具有衝擊吸收性之層。樹脂層亦可成為由2個以上之樹脂層所構成之多層構造。

樹脂層41之膜厚成為50μm以上且300μm以下。若樹脂層41之膜厚為50μm以上，則可抑制樹脂層41之硬度降低，又，若為300μm以下，則可實現薄型化，且加工性亦不會劣化。樹脂層41之膜厚係使用掃描式電子顯微鏡(SEM)拍攝樹脂層41之剖面，於該剖面之影像中測定20個部位之樹脂層41 之膜厚，採用該20個部位之膜厚之算術平均值。樹脂層41之下限更佳為60μm以上，樹脂層41之上限更佳為150μm以下，進而較佳為100μm以下。

構成樹脂層41之樹脂只要為如光學膜40之在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"成為上述範圍內之樹脂，則並無特別限定。作為此種樹脂，可列舉：丙烯酸系凝膠、胺酯系凝膠、聚矽氧系凝膠、胺酯系樹脂、環氧系樹脂等。於該等中，較佳為丙烯酸系凝膠。所謂「凝膠」，一般係指於高黏度下失去流動性之分散系統。再者，樹脂層41除含有丙烯酸系凝膠或胺酯系樹脂等以外，亦可含有橡膠或熱塑性彈性體。

(丙烯酸系凝膠)

作為丙烯酸系凝膠，只要為用於黏著劑等之使含有丙烯酸酯之單體聚合而成之聚合物，則可使用各種。具體而言，作為丙烯酸系凝膠，例如可使用使(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸三癸酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯等丙烯酸系單體聚合或共聚而成者。於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸酯」係包括「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」之兩者之含義。再者，上述(共)聚合時使用之丙烯酸酯除單獨使用以外，亦可併用2種以上。

(胺酯系樹脂)

胺酯系樹脂係具有胺酯鍵之樹脂。作為胺酯系樹脂，可列舉電離放射線硬化性胺酯系樹脂組成物之硬化物或熱硬化性胺酯系樹脂組成物之硬化物等。於 該等中，就可獲得高硬度、硬化速度亦較快而量產性優異之觀點而言，較佳為電離放射線硬化性胺酯系樹脂組成物之硬化物。

電離放射線硬化性胺酯系樹脂組成物含有(甲基)丙烯酸胺酯，熱硬化性胺酯系樹脂含有多元醇化合物與異氰酸酯化合物。(甲基)丙烯酸胺酯、多元醇化合物、及異氰酸酯化合物可為單體、低聚物、及預聚物之任一者。

(甲基)丙烯酸胺酯中之(甲基)丙烯醯基之數量(官能基數)較佳為2以上且4以下。若(甲基)丙烯酸胺酯中之(甲基)丙烯醯基之數量未達2，則有鉛筆硬度變低之虞，又，若超過4，則有硬化收縮變大，光學膜發生捲曲，又，彎曲時於樹脂層產生龜裂之虞。(甲基)丙烯酸胺酯中之(甲基)丙烯醯基之數量之上限更佳為3以下。再者，所謂「(甲基)丙烯醯基」係包括「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」之兩者之含義。

(甲基)丙烯酸胺酯之重量平均分子量較佳為1500以上且20000以下。若(甲基)丙烯酸胺酯之重量平均分子量未達1500，則有耐衝擊性降低之虞，又，若超過20000，則有電離放射線硬化性胺酯系樹脂組成物之黏度上升，塗敷性劣化之虞。(甲基)丙烯酸胺酯之重量平均分子量之下限更佳為2000以上，上限更佳為15000以下。

又，作為具有源自(甲基)丙烯酸胺酯之結構之重複單位，例如可列舉下述通式(26)、(27)、(28)或(29)所表示之結構等。

上述通式(26)中，R⁹表示支鏈狀烷基，R¹⁰表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基，R¹¹表示氫原子或甲基，R¹²表示氫原子、甲基或乙基，m表示0以上之 整數，x表示0~3之整數。

上述通式(27)中，R⁹表示支鏈狀烷基，R¹⁰表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基，R¹¹表示氫原子或甲基，R¹²表示氫原子、甲基或乙基，n表示1以上之整數，x表示0~3之整數。

上述通式(28)中，R⁹表示支鏈狀烷基，R¹⁰表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基，R¹¹表示氫原子或甲基，R¹²表示氫原子、甲基或乙基，m表示0以上之整數，x表示0~3之整數。

上述通式(29)中，R⁹表示支鏈狀烷基，R¹⁰表示支鏈狀烷基或飽和環狀脂肪族基，R¹¹表示氫原子或甲基，R¹²表示氫原子、甲基或乙基，n表示1以上之整數，x表示0~3之整數。

再者，構成樹脂層41之樹脂由何種結構之高分子鏈(重複單位)形成例如可藉由利用熱分解GC-MS及FT-IR對樹脂層41進行分析而判斷。尤其，熱分解GC-MS由於可偵測到樹脂層41中所含之單體單位作為單體成分，故而有用。

關於樹脂層41，只要光學膜40、50、60之在25℃並於500Hz以 上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"成為上述範圍內，則亦可含有紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑、防污劑、無機粒子及/或有機粒子等。紫外線吸收劑等可使用與功能層12之欄中所說明之紫外線吸收劑等相同者，因此此處省略說明。

<<<影像顯示裝置>>>

光學膜10、30、40、50、60可組入至可摺疊之影像顯示裝置而使用。圖9係本實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。如圖9所示，影像顯示裝置80朝向觀察者側主要依序積層有收納電池等之殼體81、保護膜82、顯示元件83、圓偏光板84、觸控感測器85、及光學膜10。於顯示元件83與圓偏光板84之間、圓偏光板84與觸控感測器85之間、觸控感測器85與光學膜10之間配置有具有透光性之黏著層86，該等構件藉由黏著層86而相互固定。再者，黏著層86係配置於顯示元件83與圓偏光板84之間、圓偏光板84與觸控感測器85之間、觸控感測器85與光學膜10之間，但黏著層之配置部位只要為光學膜與顯示元件之間，則並無特別限定。

光學膜10以功能層12成為較樹脂基材11更靠觀察者側之方式配置。於影像顯示裝置80中，光學膜10之正面10A(功能層12之正面12A)構成影像顯示裝置80之正面80A。

於影像顯示裝置80中，顯示元件83成為含有有機發光二極體等之有機發光二極體元件。觸控感測器85配置於較圓偏光板84更靠觀察者側，但亦可配置於顯示元件83與圓偏光板84之間。又，觸控感測器85亦可為表嵌方式或內嵌方式。作為黏著層86，例如可使用OCA(Optical Clear Adhesive)。

根據本實施形態，使用由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、及聚酯系樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂所構成之樹脂基材11，且於樹脂基材11與功能層12之間設置有鄰接於功能層12之光 學調整層13，因此可摺疊並且可抑制干涉條紋之產生。

於光學膜之背面成為樹脂基材之情形時，由於樹脂基材與空氣層接觸，故而於樹脂基材與空氣層之界面之反射變大，由此有透光率降低之虞。尤其，於使用由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、及聚酯系樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂所構成之樹脂基材作為樹脂基材之情形時，由於該等樹脂基材之折射率相對較高，故而容易產生界面反射。相對於此，於本實施形態中，由於在樹脂基材11之第2面11B設置有折射率高於1.000且低於樹脂基材11之折射率之光學調整層15，故而與樹脂基材與空氣層接觸時相比，可減少界面反射，可降低光反射率。藉此，可提高光學膜10、30之透光率。

又，於光學調整層15含有抗靜電劑之情形時，由於光學膜10、30、50、60於樹脂基材11之第1面11A側具備作為抗靜電硬塗層之功能層12，於樹脂基材11之第2面11B側具備含有抗靜電劑之光學調整層15，故而可抑制灰塵等附著於光學膜10、30、50、60。又，於此情形時，於在光學膜10、30、50、60之兩面貼附有保護膜(未圖示)之狀態下，即便將保護膜自光學膜10、30、50、60剝離，亦可抑制光學膜10、30、50、60之帶電。藉此，可提高影像顯示裝置之組裝步驟之良率。

對於用於可摺疊之影像顯示裝置之光學膜，由於有對光學膜之正面施加衝擊之情況，故而有要求耐衝擊性之情況。此處，於對光學膜之正面施加衝擊時，有光學膜之正面凹陷之情況，又，有於影像顯示裝置中存在於較光學膜更靠內部之顯示面板(例如有機發光二極體面板)等構件受損之情況。關於光學膜之正面之凹陷，有由光學膜自身所產生之凹陷與由如配置於較光學膜更靠影像顯示裝置之內部之黏著層之柔軟層所產生之凹陷。所謂「由光學膜自身所產生之凹陷」係指於對光學膜之正面施加衝擊時，因該衝擊而導致光學 膜自身發生變形，由此產生之凹陷，所謂「由柔軟層所產生之凹陷」係指由於該層柔軟，故而於對光學膜之正面施加衝擊時配置於較光學膜更靠影像顯示裝置內部之柔軟層發生塑性變形，光學膜追隨於柔軟層之塑性變形，由此產生之凹陷。因此，當前，於光學膜中，較佳為於對光學膜之正面施加衝擊時，抑制由光學膜自身所產生之凹陷及由柔軟層所產生之凹陷，且可獲得如存在於較光學膜更靠影像顯示裝置之內部之構件不受到損傷之優異之耐衝擊性。此處，作為表示衝擊吸收性能之指標，先前已知有剪切損耗正切tanδ。因此，亦考慮以剪切損耗正切tanδ表示於樹脂基材之第1面側具備功能層且於第2面側具備樹脂層的構造之光學膜之耐衝擊性，但關於剪切損耗正切tanδ，於對光學膜之正面(功能層之表面)施加有衝擊時無法抑制由光學膜自身所產生之光學膜表面之凹陷及由柔軟層所產生之光學膜之正面之凹陷、與位於較光學膜更靠影像顯示裝置之內部之構件之損傷。認為其原因在於，剪切損耗正切tanδ為剪切損耗模數G"與剪切儲存模數G'之比(G"/G')。本發明者等人進而反覆銳意研究，結果發現，為了抑制對光學膜之正面施加衝擊時之由光學膜自身所產生之表面凹陷及由柔軟層所產生之表面凹陷、與位於較光學膜更靠影像顯示裝置內部之構件之損傷，重要的是樹脂層之膜厚、剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"之平衡。根據本實施形態，於在樹脂基材11之第1面11A側具備功能層12且於第2面11B側具備樹脂層41的構造之光學膜40、50、60中，樹脂層41之膜厚變薄為50μm以上且300μm以下，光學膜40之上述剪切儲存模數G'超過200MPa且為1200MPa以下，且光學膜40之上述剪切損耗模數G"成為3MPa以上且150MPa以下，因此可摺疊，並且於對光學膜40之正面40A施加衝擊之情形時可抑制由光學膜40、50、60自身所產生之正面40A、50A、60A之凹陷及由存在於較光學膜40、50、60更靠影像顯示裝置內部之柔軟層所產生之光學膜40、50、60之正面40A、50A、60A之凹陷，並且可抑制位於影像顯示裝置內部之顯示元件83等構件之 損傷。藉此，可獲得優異之耐衝擊性。

[第2實施形態]

以下，參照圖式對本發明之第2實施形態之光學膜及影像顯示裝置進行說明。圖10係本實施形態之光學膜之概略構成圖，圖11係本實施形態之其他光學膜之概略構成圖，圖12係本實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。

<<<光學膜>>>

圖10所示之光學膜90係用於影像顯示裝置者，並可摺疊。

光學膜90具備：透光性基材91；第1抗靜電層92(以下有時亦簡稱為抗靜電層92)，其設置於透光性基材91之一面即第1面91A側；及第2抗靜電層93(以下有時亦簡稱為抗靜電層93)，其設置於透光性基材91之與第1面91A為相反側之面即第2面91B側。再者，亦可於透光性基材91與抗靜電層92之間及透光性基材91與抗靜電層93之間之至少任一者具備功能層。

亦可於抗靜電層92、93之與透光性基材91側之面為相反側之面貼附有保護膜。但是，由於保護膜係於使用時被剝離者，故而保護膜不視為構成光學膜之一部分。再者，本說明書中之光學膜90之物性值等係未設置保護膜之狀態下之值。

於圖10中，光學膜90之正面90A成為抗靜電層92之正面92A。光學膜90之背面90B成為抗靜電層93之與透光性基材91側之面為相反側之面93A。

光學膜90可摺疊，具體而言，較佳為即便於對光學膜90反覆進行10萬次接下來說明之摺疊試驗(連續摺疊試驗)之情形時，亦不會於光學膜90產生破裂或斷裂，更佳為即便於反覆進行20萬次連續摺疊試驗之情形時亦不會於光學膜90產生破裂或斷裂，進而較佳為即便於反覆進行100萬次之情形時亦不會於光學膜90產生破裂或斷裂。於對光學膜90反覆進行10萬次連續摺疊試驗之情形時，若於光學膜90產生破裂等，則光學膜90之摺疊性變得不充分。連 續摺疊試驗可如以抗靜電層92成為內側之方式摺疊光學膜90般進行，又，亦可如以抗靜電層92成為外側之方式摺疊光學膜90般進行，較佳為於任一情形時光學膜均不產生破裂或斷裂。連續摺疊試驗係藉由與第1實施形態相同之方法進行，但於本實施形態之連續摺疊試驗中，於將邊部之間隔設為3mm之狀態下進行。

藉由與第1實施形態相同之方法，對光學膜90進行於70℃靜置240小時之摺疊靜置試驗後，解除摺疊狀態，於在室溫下於30分鐘後對光學膜90測定開度角θ之情形時，光學膜90之開度角θ較佳為100°以上。摺疊靜置試驗可如以抗靜電層92成為內側之方式摺疊光學膜90般進行，又，亦可如以抗靜電層92成為外側之方式摺疊光學膜90般進行，較佳為於任一情形時，開度角θ均為100°以上。

光學膜90之正面90A及背面90B之表面電阻值較佳為10¹²Ω/□以下。表面電阻值設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測定者。

關於光學膜90之正面90A(抗靜電層92之正面92A)，藉由JIS K5600-5-4：1999所規定之鉛筆硬度試驗測定時之硬度(鉛筆硬度)較佳為F以上，更佳為2H以上。鉛筆硬度試驗設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測得者。

於光學膜90中，就與第1實施形態所記載之原因相同之原因而言，較佳為於23℃、相對濕度50%之環境下，自距光學膜90之正面90A為50mm之距離施加10kV之電壓時之光學膜90之正面90A之飽和帶電壓超過0kV。飽和帶電壓設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測得者。上述飽和帶電壓之絕對值之下限更佳為0.1kV以上，上述飽和帶電壓之絕對值之上限更佳為1.0kV以下。

關於光學膜90，就與第1實施形態所記載之原因相同之原因而 言，較佳為黃色指數(YI)為15以下。黃色指數設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測得者。光學膜90之黃色指數(YI)之上限更佳為未達10，最佳為未達1.5。

自抗靜電層93側朝向光學膜90，以入射角度0°照射於波長300nm以上且780nm以下之區域具有連續光譜之光，求出穿透光學膜90之光(穿透光)之L^*a^*b^*表色系之色座標a^*、b^*，此時較佳為a^*為-5以上且+5以下，b^*為-5以上且+5以下。若a^*及b^*分別位於上述範圍內，則於將光學膜用於行動終端之情形時，影像之黃色調變得不顯眼。a^*及b^*設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測得者。

關於光學膜90之霧度值(總霧度值)，就與第1實施形態所記載之原因相同之原因而言，較佳為2.5%以下。上述霧度值設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測得者。上述霧度值更佳為1.5%以下，更佳為1.0%以下。

光學膜90之波長380nm~780nm之光之視感反射率(反射Y值)較佳為15%以下。若光學膜之上述視感反射率為8%以下，則於將光學膜用於行動終端之情形時，反射光較少而變得容易視認。上述視感反射率係使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造，光源：鎢絲燈及氘燈)，自光學膜之正面側照射波長380nm~780nm之光，由自光學膜反射之波長380nm~780nm之光進行測定。具體而言，自切成5cm×10cm之大小之光學膜之正面側照射入射角度5度之光，接受由光學膜反射之正反射方向之反射光，測定380nm~780nm之波長範圍之反射率，其後，藉由以人眼所感受到之亮度進行換算之軟體(例如內置於UV-2450之軟體)算出視感反射率。上述視感反射率更佳為10%以下，進而較佳為3%以下。

光學膜90之其他物性、用途、及大小亦與光學膜10相同，因此 此處省略說明。

<<透光性基材>>

透光性基材91係由具有透光性之樹脂所構成之基材。關於透光性基材91之厚度，就與第1實施形態所記載之原因相同之原因而言，較佳為10μm以上且100μm以下。透光性基材91之厚度設為藉由與樹脂基材11之厚度相同之方法而測得者。透光性基材91之下限更佳為25μm以上，透光性基材91之上限更佳為80μm以下。

透光性基材91較佳為樹脂基材。作為構成樹脂基材之樹脂，可使用與樹脂基材11相同之樹脂，因此此處省略說明。

<<第1抗靜電層>>

抗靜電層92係對光學膜90之正面90A賦予抗靜電性之層。抗靜電層92除抗靜電性以外，亦可具有抗靜電性以外之功能。抗靜電層92除抗靜電性以外，具有硬塗性。即，抗靜電層92成為抗靜電硬塗層。抗靜電硬塗層係具有抗靜電性之硬塗層。

關於抗靜電層92，較佳為抗靜電層92之剖面中央之馬氏硬度為500MPa以上且2000MPa以下。若抗靜電層92之馬氏硬度為500MPa以上，則可獲得作為抗靜電硬塗層充分之硬度，又，若為2000MPa以下，則可獲得良好之光學膜之摺疊性能。抗靜電層92之剖面中央之馬氏硬度之下限較佳為600MPa以上，上限較佳為1500MPa以下。抗靜電層92之馬氏硬度設為藉由與第1實施形態所記載之方法相同之方法而測得者。

抗靜電層92之膜厚較佳為1μm以上且50μm以下。若抗靜電層92之膜厚為1μm以上，則可獲得作為抗靜電硬塗層充分之硬度，又，若為50μm以下，則可抑制加工性之劣化。本說明書中所謂「抗靜電層之膜厚」係指於抗靜電層成為多層構造之情形時合計各抗靜電層之膜厚所獲得之膜厚(總 厚)。抗靜電層92之膜厚設為藉由與功能層12之膜厚相同之方法而測得者。抗靜電層92之上限更佳為40μm以下，進而較佳為30μm以下。

抗靜電層92含有黏合劑樹脂及存在於黏合劑樹脂中之抗靜電劑。抗靜電層92除含有黏合劑樹脂等以外，亦可視需要於無損本發明之效果之範圍內含有例如無機粒子或有機粒子等粒子、紫外線吸收劑、接著性提高劑、調平劑、觸變性賦予劑、偶合劑、塑化劑、消泡劑、填充劑、著色劑、填料等添加劑。

<黏合劑樹脂>

黏合劑樹脂與功能層12之欄中所說明之黏合劑樹脂相同，因此此處省略說明。

<抗靜電劑>

抗靜電劑與功能層12之欄中所說明之抗靜電劑相同，因此此處省略說明。

抗靜電層92亦可進而含有紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑、及/或防污劑。紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑及防污劑與功能層12之欄中所說明之紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑及防污劑相同，因此此處省略說明。

<<第2抗靜電層>>

抗靜電層93係對光學膜90之背面90B賦予抗靜電性之層。抗靜電層93之膜厚較佳為1nm以上且0.5μm以下。若抗靜電層93之膜厚為1nm以上，則可獲得充分之抗靜電性能，又，若為0.5μm以下，則可抑制加工性之劣化。抗靜電層93之膜厚設為藉由與功能層12之膜厚相同之方法而測得者。

若將抗靜電層93之膜厚設為40nm以上且90nm以下，則可使光學膜70之黃色指數降低，因此就色調調整之觀點而言，抗靜電層93之膜厚較佳為40nm以上且90nm以下。

抗靜電層93含有抗靜電劑。抗靜電層93除抗靜電劑以外，亦可 含有黏合劑樹脂。

<抗靜電劑>

作為抗靜電層93中所含有之抗靜電劑，與功能層12之欄中所說明之抗靜電劑相同，因此此處省略說明。

<黏合劑樹脂>

黏合劑樹脂較佳為選自由(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯、及ABS樹脂所組成之群中之至少1種。於該等中，就黏合劑樹脂之硬度或透明性之觀點而言，較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂、胺酯系樹脂等。

作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，例如可列舉聚甲基丙烯酸甲酯等。又，作為上述纖維素系樹脂，例如可列舉二乙醯纖維素、乙酸丙酸纖維素(CAP)、乙酸丁酸纖維素(CAB)等。作為上述胺酯系樹脂，例如可列舉胺酯樹脂等。

作為上述氯乙烯系樹脂，例如可列舉聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。又，作為上述聚酯系樹脂，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯等。又，作為上述聚烯烴系樹脂，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯等。

<<光學膜之製造方法>>

光學膜90例如可藉由如下方式而製作。首先，藉由棒式塗佈機等塗佈裝置，於透光性基材91之第1面91A上塗佈用以獲得抗靜電層92之第1抗靜電層用組成物，而形成第1抗靜電層用組成物之塗膜。

<第1抗靜電層用組成物>

第1抗靜電層用組成物含有硬化後成為黏合劑樹脂之聚合性化合物及抗靜電劑。第1抗靜電層用組成物此外亦可視需要含有紫外線吸收劑、分光穿透率調整劑、防污劑、無機粒子、調平劑、溶劑、聚合起始劑。溶劑及聚合起始劑 與功能層用組成物之欄中所說明之溶劑及聚合起始劑相同，因此此處省略說明。

於形成第1抗靜電層用組成物之塗膜後，藉由利用各種公知方法將塗膜於例如30℃以上且120℃以下之溫度下加熱10秒~120秒而使其乾燥，使溶劑蒸發。

於使塗膜乾燥後，對塗膜照射紫外線等電離放射線而使塗膜硬化。藉此形成抗靜電層92。

於形成抗靜電層92後，藉由棒式塗佈機等塗佈裝置，於透光性基材91之第2面91B上塗佈用以形成抗靜電層93之第2抗靜電層用組成物而形成第2抗靜電層用組成物之塗膜。

<第2抗靜電層用組成物>

第2抗靜電層用組成物含有抗靜電劑、及溶劑。第2抗靜電層此外亦可含有黏合劑樹脂。溶劑與功能層用組成物之欄中所說明之溶劑相同，因此此處省略說明。

於形成第2抗靜電層用組成物之塗膜後，藉由利用各種公知方法將塗膜於例如30℃以上且120℃以下之溫度加熱10秒~120秒而使其乾燥，使溶劑蒸發。藉此，可形成抗靜電層93，獲得圖10所示之光學膜90。

<<<其他光學膜>>>

光學膜亦可為圖11所示之光學膜100。圖11所示之光學膜100亦為用於影像顯示裝置者，並可摺疊。

光學膜100具備：透光性基材101；硬塗層102，其設置於透光性基材101之第1面101A側，作為功能層；第1抗靜電層103(以下，有時亦簡稱為抗靜電層103)，其設置於硬塗層102之與透光性基材101側相反之側；光學調整層104，其設置於抗靜電層103之與硬塗層102側相反之側；及第2抗靜電層 105(以下，有時亦簡稱為抗靜電層105)，其設置於透光性基材101之與第1面101A為相反側之面即第2面101B側。光學膜100之物性等與光學膜100之物性等相同，因此此處省略說明。

光學膜100之正面100A成為光學調整層104之正面104A。光學膜100之背面100B成為抗靜電層105之與透光性基材101側之面為相反側之面105A。

<<透光性基材及硬塗層>>

透光性基材101為與透光性基材91相同者，因此此處省略說明。硬塗層102除不含抗靜電劑以外，與抗靜電層92相同，因此此處省略說明。

<<第1抗靜電層及第2抗靜電層>>

抗靜電層103、105為與抗靜電層93相同者，因此此處省略說明。即，抗靜電層103不具有硬塗性。

<<光學調整層>>

光學調整層104係用以調整光學膜100之色調或反射率等光學物性之層。若使用含有聚醯亞胺系樹脂之基材作為透光性基材，則透光性基材呈現黃色調，因此光學調整層104於使用含有聚醯亞胺系樹脂之基材作為透光性基材91時尤其有效。

光學調整層104之膜厚較佳為30nm以上且500nm以下。若光學調整層104之膜厚為30nm以上，則可進行光學特性(穿透率、反射率、色相)之調整，又，若為500nm以下，則可抑制加工之劣化。光學調整層104之膜厚設為藉由與功能層12之膜厚相同之方法而測得者。光學調整層104之上限更佳為400nm以下，進而較佳為200nm以下。

於光學調整層104之膜厚為30nm以上且300nm以下之情形時，光學調整層104之折射率較佳為低於抗靜電層103之折射率。藉由設為此種構 成，光學調整層104作為低折射率層發揮功能，因此可使外界光之反射率降低。於此情形時，光學調整層104之折射率較佳為1.38以上且1.60以下。光學調整層104或抗靜電層103之折射率可藉由將380nm以上且780nm以下之波長區域之折射率設為一定，使利用分光光度計測得之反射光譜與由使用菲涅耳式之薄膜之光學模型算出之光譜進行擬合(fitting)而求出。又，光學調整層104或抗靜電層103之折射率亦可於形成單獨之層後，藉由阿貝折射計(製品名「NAR-4T」，Atago公司製造)或橢偏儀進行測定而求出。又，作為成為光學膜100後測定折射率之方法，可使用如下方法，即，利用切割器等對光學調整層104或抗靜電層103進行削取，製作粉狀態之樣品，依照JIS K7142：2008之B法(粉體或粒狀之透明材料用)之貝克線法(折射率使用已知之Cargille試劑，將上述粉狀態之樣品置於載玻片等，於該樣品上滴加試劑，將樣品浸漬於試劑中；藉由顯微鏡觀察對該情況進行觀察，將目視無法觀察到因樣品與試劑之折射率不同而於樣品輪廓產生之明線(貝克線)的試劑之折射率作為樣品之折射率的方法)。抗靜電層103與光學調整層104之折射率差之絕對值較佳為0.005以上。抗靜電層103與光學調整層104之折射率差之絕對值之上限較佳為0.3以下。

光學調整層104例如由氧化矽或氧化鋁等無機氧化物構成。光學調整層104例如可藉由濺鍍法、離子鍍覆法等物理氣相沈積(PVD)法或化學氣相沈積(CVD)法等蒸鍍法而形成。

光學調整層104亦可含有防污劑。防污劑與功能層12之欄中所說明之防污劑相同，因此此處省略說明。

<<<影像顯示裝置>>>

光學膜90、100可組入至可摺疊之影像顯示裝置而使用。圖12係本實施形態之影像顯示裝置之概略構成圖。如圖12所示，影像顯示裝置110朝向觀察者側，主要依序積層有收納電池等之殼體81、保護膜82、顯示元件83、圓偏光板 84、觸控感測器85、及光學膜90。於顯示元件83與圓偏光板84之間、圓偏光板84與觸控感測器85之間、觸控感測器85與光學膜90之間配置有具有透光性之黏著層86，該等構件藉由黏著層86而相互固定。再者，於圖12中，標附有與圖9相同之符號之構件與圖9所示之構件相同，因此省略說明。

光學膜90係以抗靜電層92成為較透光性基材91更靠觀察者側之方式配置。於影像顯示裝置110中，光學膜90之正面90A(抗靜電層92之正面92A)構成影像顯示裝置110之正面110A。

根據本實施形態，光學膜90於透光性基材91之兩面側具備抗靜電層92、93，光學膜100於透光性基材101之兩面側具備抗靜電層103、105，因此可抑制灰塵等附著於光學膜90、100。又，於在光學膜90、100之兩面貼附有保護膜(未圖示)之狀態下，即便將保護膜自光學膜90、100剝離，亦可抑制光學膜90、100之帶電。藉此可提高影像顯示裝置之組裝步驟之良率。

由於光學調整層為薄膜，故而不設置光學調整層者可提高光學膜之耐擦傷性。光學膜90由於在抗靜電層92上不具備光學調整層，故而耐擦傷性較於抗靜電層103上具備光學調整層104之光學膜100優異。

於可摺疊之光學膜中，必須以成為可摺疊之方式選定硬塗層之黏合劑樹脂。而且，若如光學膜90般於硬塗層中混練抗靜電劑，則必須使用顯示出與所選定之黏合劑樹脂有良好之相容性之抗靜電劑，導致抗靜電劑之選項變少。相對於此，於光學膜100中，由於將抗靜電層103設為與硬塗層102不同之層，故而可擴大抗靜電劑之選項。

[實施例]

為了詳細地說明本發明，以下列舉實施例進行說明，但本發明並不限定於該等記載。再者，下述所謂「固體成分100%換算值」係指將溶劑稀釋品中之固體成分設為100%時之值。

<光學調整層用組成物之製備>

首先，以成為下述所示之組成之方式摻合各成分，獲得光學調整層用組成物。

(光學調整層用組成物1)

‧胺酯改質聚酯系樹脂(製品名「UR-3200」，東洋紡公司製造)：85質量份(固體成分100%換算值)

‧氧化鋯(平均粒徑20nm，CIK NanoTek公司製造)：15質量份(固體成分100%換算值)

‧甲基異丁基酮(MIBK)：170質量份

(光學調整層用組成物2)

‧胺酯改質聚酯系樹脂(製品名「UR-1700」，東洋紡公司製造)：70質量份(固體成分100%換算值)

‧氧化鋯(平均粒徑20nm，CIK NanoTek公司製造)：30質量份(固體成分100%換算值)

‧甲基異丁基酮(MIBK)：170質量份

(光學調整層用組成物3)

‧含四級銨鹽之抗靜電劑(製品名「1SX-3000」，Taisei Fine Chemical公司製造)：100質量份(固體成分100%換算值)

‧光聚合起始劑(製品名「Irg184」，BASF Japan公司製造)：4質量份

‧甲基異丁基酮(MIBK)：150質量份

(光學調整層用組成物4)

‧胺酯改質聚酯系樹脂(製品名「UR-3200」，東洋紡公司製造)：70質量份(固體成分100%換算值)

‧氧化鋯(平均粒徑20nm，CIK NanoTek公司製造)：15質量份(固體成 分100%換算值)

‧鈷藍(平均粒徑40nm，CIK NanoTek公司製造)：15質量份(固體成分100%換算值)

‧甲基異丁基酮(MIBK)：170質量份

(光學調整層用組成物5)

‧聚烯烴系樹脂(製品名「P-901」，三井化學公司製造)：70質量份(固體成分100%換算值)

‧氧化鋯(平均粒徑20nm，CIK NanoTek公司製造)：30質量份(固體成分100%換算值)

‧甲基異丁基酮(MIBK)：170質量份

<抗靜電層用組成物之製備>

首先，以成為下述所示之組成之方式摻合各成分，獲得抗靜電層用組成物。

(抗靜電層用組成物1)

‧新戊四醇三丙烯酸酯及新戊四醇四丙烯酸酯之混合物(製品名「KAYARAD PET-30」，日本化藥公司製造)：90質量份

‧含四級銨鹽之抗靜電聚合物(製品名「UV-ASHC-01」，日本化成公司製造)：10質量份

‧聚合起始劑(製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF公司製造)：2質量份

(抗靜電層用組成物2)

‧含四級銨鹽之抗靜電聚合物(製品名「UV-ASHC-01」，日本化成公司製造)：100質量份

‧聚合起始劑(製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF公司製造)： 0.5質量份

<硬塗層用組成物>

以成為下述所示之組成之方式摻合各成分而獲得硬塗層用組成物。

(硬塗層用組成物1)

‧胺酯系樹脂(製品名「U-6LPA」，新中村化學公司製造)：70質量份

‧胺酯系樹脂(製品名「UV2750B」，日本合成化學公司製造)：20質量份

‧含四級銨鹽之抗靜電劑(製品名「1SX-3000」，Taisei Fine Chemical公司製造)：10質量份(固體成分100%換算值)

‧光聚合起始劑(製品名「Irg184」，BASF公司製造)：4質量份

‧紫外線吸收劑(製品名「TINUVIN477」，BASF公司製造)：5質量份(固體成分100%換算值)

‧防污劑(製品名「BYKUV3500」，BYK-Chemie公司製造)：1.5質量份(固體成分100%換算值)

‧甲基異丁基酮(MIBK)：150質量份

(硬塗層用組成物2)

‧新戊四醇三丙烯酸酯及新戊四醇四丙烯酸酯之混合物(製品名「KAYARAD PET-30」，日本化藥公司製造)：100質量份

‧聚合起始劑(製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF公司製造)：2質量份

<樹脂層用組成物之製備>

以成為下述所示之組成之方式摻合各成分而獲得樹脂層用組成物。

(樹脂層用組成物1)

‧丙烯酸胺酯(製品名「UV3310B」，日本合成化學公司製造，二官 能)：85質量份

‧丙烯酸苯氧基乙酯(製品名「Viscoat#192」，大阪有機化學工業公司製造)：5質量份

‧三新戊四醇丙烯酸酯、單及二新戊四醇丙烯酸酯、以及聚新戊四醇丙烯酸酯之混合物(製品名「Viscoat#802」，大阪有機化學工業公司製造)：10質量份

‧聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF Japan公司製造)：5質量份

‧甲基異丁基酮：10質量份

(樹脂層用組成物2)

‧丙烯酸胺酯(製品名「UV3310B」，日本合成化學公司製造，二官能)：85質量份

‧丙烯酸苯氧基乙酯(製品名「Viscoat#192」，大阪有機化學工業公司製造)：15質量份

‧聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF Japan公司製造)：5質量份

‧甲基異丁基酮：10質量份

(樹脂層用組成物3)

‧丙烯酸胺酯(製品名「UV3310B」，日本合成化學公司製造，二官能)：80質量份

‧丙烯酸苯氧基乙酯(製品名「Viscoat#192」，大阪有機化學工業公司製造)：5質量份

‧三新戊四醇丙烯酸酯、單及二新戊四醇丙烯酸酯、以及聚新戊四醇丙烯酸酯之混合物(製品名「Viscoat#802」，大阪有機化學工業公司製造)：10質 量份

‧二新戊四醇五丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯之混合物(製品名「KAYARAD DPHA」，日本化藥股份有限公司製造)：5質量份

‧聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF Japan公司製造)：5質量份

‧甲基異丁基酮：10質量份

(樹脂層用組成物4)

‧丙烯酸胺酯(製品名「UV3310B」，日本合成化學公司製造，二官能)：95質量份

‧丙烯酸苯氧基乙酯(製品名「Viscoat#192」，大阪有機化學工業公司製造)：5質量份

‧聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF Japan公司製造)：5質量份

‧甲基異丁基酮：10質量份

(樹脂層用組成物5)

‧丙烯酸胺酯(製品名「UV3310B」，日本合成化學公司製造，二官能)：85質量份

‧二新戊四醇五丙烯酸酯與二新戊四醇六丙烯酸酯之混合物(製品名「KAYARAD DPHA」，日本化藥股份有限公司製造)：15質量份

‧聚合起始劑(1-羥基環己基苯基酮，製品名「Irgacure(註冊商標)184」，BASF Japan公司製造)：5質量份

‧甲基異丁基酮：10質量份

<<實施例A及比較例A>>

<實施例A1>

準備折射率1.630及厚度30μm之聚醯亞胺系基材(製品名「Neopulim」，Mitsubishi Gas Chemical公司製造)作為樹脂基材，利用棒式塗佈機於作為聚醯亞胺系基材之一面之第1面塗佈光學調整層用組成物2，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於90℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發而形成折射率1.562及膜厚100nm之第2光學調整層。於形成第2光學調整層後，利用棒式塗佈機於第2光學調整層之表面塗佈光學調整層用組成物1，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於90℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發而形成折射率1.544及膜厚100nm之第1光學調整層。於形成第1光學調整層後，利用棒式塗佈機於第1光學調整層之表面塗佈硬塗層用組成物1，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成折射率1.531及膜厚10μm之硬塗層。藉此，獲得第1光學調整層鄰接於硬塗層，且第2光學調整層鄰接於聚醯亞胺系基材之光學膜。再者，實施例A1之光學膜之正面為硬塗層之表面，背面為聚醯亞胺系基材之與第1面為相反側之第2面。

硬塗層及光學調整層之折射率係於未進行易接著處理之厚度50μm之PET上分別塗佈硬塗層用組成物及光學調整層用組成物，製成1~10μm之厚度之硬化膜，於PET之未塗佈硬塗層用組成物或光學調整層用組成物之面(背面)，貼附較測定點面積大之寬度之黑聚氯乙烯絕緣帶(例如Yamato vinyl tape NO200-38-21 38mm寬度)以防止背面反射，使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造)，測定波長380~780nm之平均反射率，使用所獲得之平均反射率基於上述式(2)而求出。於實施例A2~A12及比較例A1及A2中，亦藉由與實施例A1相同之方法而測定各層之折射率。

又，各層之膜厚係使用掃描穿透型電子顯微鏡(STEM)(製 品名「S-4800」，日立高新技術股份有限公司製造)拍攝光學膜之剖面，於該剖面之影像中測定20個部位之各層之膜厚，採用該20個部位之膜厚之算術平均值。光學膜之剖面照片係藉由如下方式拍攝。首先，製作將以1mm×10mm切出之光學膜利用包埋樹脂包埋而成之塊體，藉由一般之切片製作方法自該塊體切出無孔等之均勻之厚度70nm以上且100nm以下之切片。切片之製作係使用「超薄切片機EM UC7」(Leica Microsystems股份有限公司)等。繼而，將該無孔等之均勻之切片作為測定樣品。其後，使用掃描穿透型電子顯微鏡(STEM)拍攝測定樣品之剖面照片。於該剖面照片之拍攝時，將檢測器設為「TE」，將加速電壓設為「30kV」，將發射電流設為「10μA」而進行STEM觀察。關於倍率，一面調節焦距並以對比度及亮度辨別或觀察各層，一面於5000倍~20萬倍適當調節。再者，於剖面照片之拍攝時，進而將光圈設為「束偵測光圈3」，將物鏡光圈設為「3」，又，將W.D.設為「8mm」。於實施例A2~A12及比較例A1及A2中，亦藉由與實施例A1相同之方法測定各層之折射率及膜厚。

<實施例A2>

於實施例A2中，於聚醯亞胺系基材之與第2光學調整層側之面為相反側之面形成折射率1.536及膜厚100nm之第3光學調整層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學膜。第3光學調整層係藉由如下方式形成，即，利用棒式塗佈機於聚醯亞胺系基材之第2面塗佈光學調整層用組成物3，形成塗膜，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為100mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化。再者，實施例A2之光學膜之正面係硬塗層之表面，背面係第3光學調整層之表面。

<實施例A3>

於實施例A3中，將第1光學調整層之膜厚設為200nm，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A4>

於實施例A4中，將第2光學調整層之膜厚設為200nm，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A5>

於實施例A5中，使用光學調整層用組成物4代替光學調整層用組成物1，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。再者，使用光學調整層用組成物4所形成之第1光學調整層之折射率為1.547。

<實施例A6>

於實施例A6中，使用光學調整層用組成物5代替光學調整層用組成物2，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。再者，使用光學調整層用組成物5所形成之第2光學調整層之折射率為1.563。

<實施例A7>

於實施例A7中，將硬塗層之膜厚設為20μm，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A8>

於實施例A8中，將硬塗層之膜厚設為40μm，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A9>

於實施例A9中，使用折射率1.662及厚度30μm之聚醯胺醯亞胺系基材(製品名「THD-30」，Kolon公司製造)代替聚醯亞胺系基材，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A10>

於實施例A10中，使用折射率1.701及厚度30μm之聚醯胺系基材(製品名「芳香族聚醯胺」，Toray公司製造)代替聚醯亞胺系基材，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A11>

於實施例A11中，使用折射率1.654及厚度23μm之聚酯系基材(製品名「U403」，Toray公司製造)代替聚醯亞胺系基材，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<實施例A12>

準備折射率1.630及厚度30μm之聚醯亞胺系基材(製品名「Neopulim」，Mitsubishi Gas Chemical公司製造)作為樹脂基材，利用棒式塗佈機，於作為聚醯亞胺系基材之一面之第1面塗佈光學調整層用組成物1而形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於90℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，而形成鄰接於聚醯亞胺系基材之折射率1.544及膜厚100nm之第1光學調整層。於形成第1光學調整層後，利用棒式塗佈機於第1光學調整層之表面塗佈硬塗層用組成物1，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於90℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成折射率1.531及膜厚10μm之硬塗層。藉此，獲得第1光學調整層鄰接於硬塗層及聚醯亞胺系基材之光學膜。再者，實施例A1之光學膜之正面為硬塗層之表面，背面為聚醯亞胺系基材之與第1面為相反側之第2面。

<實施例A13>

於實施例A13中，使用折射率1.662及厚度30μm之聚醯胺醯亞胺系基材(製品名「THD-30」，Kolon公司製造)代替聚醯亞胺系基材，除此以外，以與實施例A12相同之方式獲得光學膜。

<實施例A14>

於實施例14中，使用折射率1.701及厚度30μm之聚醯胺系基材(製品名「芳香族聚醯胺」，Toray公司製造)代替聚醯亞胺系基材，除此以外，以與實施例A12相同之方式獲得光學膜。

<實施例A15>

於實施例A15中，使用折射率1.654及厚度23μm之聚酯系基材(製品名「U403」，Toray公司製造)代替聚醯亞胺系基材，除此以外，以與實施例A12相同之方式獲得光學膜。

<實施例A16>

於實施例A16中，以如下方式於聚醯亞胺系基材之與第1光學調整層側之面為相反側之面形成樹脂層，除此以外，以與實施例A12相同之方式獲得光學膜。於形成樹脂層時，首先，利用棒式塗佈機於聚醯亞胺系基材之與第1光學調整層側之面為相反側之面塗佈樹脂層用組成物1而形成塗膜。繼而，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為1200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成折射率1.504及膜厚200μm之由胺酯系樹脂所構成之樹脂層。

<實施例A17>

於實施例A17中，將樹脂層之膜厚設為50μm，除此以外，以與實施例A16相同之方式獲得光學膜。

<實施例18>

於實施例A18中，將樹脂層之膜厚設為300μm，除此以外，以與實施例A16相同之方式獲得光學膜。

<實施例A19>

於實施例A19中，使用樹脂層用組成物2代替樹脂層用組成物1，除此以外，以與實施例A16相同之方式獲得光學膜。再者，使用樹脂層用組成物2所形成之樹脂層之折射率為1.509。

<實施例A20>

於實施例A20中，使用樹脂層用組成物3代替樹脂層用組成物1，除此以外，以與實施例A16相同之方式獲得光學膜。再者，使用樹脂層用組成物3所形成之樹脂層之折射率為1.507。

<實施例A21>

於實施例21中，將樹脂層之膜厚設為50μm，除此以外，以與實施例A20相同之方式獲得光學膜。

<實施例A22>

於實施例A22中，將樹脂層之膜厚設為300μm，除此以外，以與實施例A20相同之方式獲得光學膜。

<實施例A23>

於實施例A23中，於聚醯亞胺系基材與樹脂層之間形成折射率1.536及膜厚100nm之第3光學調整層，除此以外，以與實施例A16相同之方式獲得光學膜。第3光學調整層係藉由如下方式形成，即，於形成樹脂層之前，利用棒式塗佈機於聚醯亞胺系基材之第2面塗佈光學調整層用組成物3而形成塗膜，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為100mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化。樹脂層係於形成第3光學調整層後，於第3光學調整層之表面以與實施例A16相同之方式形成。再者，實施例A23之光學膜之正面為硬塗層之表面，背面為樹脂層之表面。

<實施例A24>

於實施例A24中，於第3光學調整層之與聚醯亞胺系基材側之面為相反側之面，形成折射率1.504及膜厚200μm之由胺酯系樹脂所構成之樹脂層，除此以外，以與實施例A2相同之方式獲得光學膜。樹脂層係於第3光學調整層之表面以與實施例A16相同之方式形成。

<比較例A1>

準備折射率1.630及厚度30μm之聚醯亞胺系基材(製品名「Neopulim」，Mitsubishi Gas Chemical公司製造)作為樹脂基材，利用棒式塗佈機於作為聚醯亞胺系基材之一面之第1面塗佈硬塗層用組成物1而形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，而形成膜厚為10μm之硬塗層，獲得硬塗層鄰接於聚醯亞胺系基材之光學膜。再者，比較例A1之光學膜之正面為硬塗層之表面，背面為聚醯亞胺系基材之與第1面為相反側之面。

<比較例A2>

於比較例A2中，將硬塗層之膜厚設為50μm，除此以外，以與比較例A1相同之方式獲得光學膜。

<比較例A3>

於比較例A3中，以如下方式於聚醯亞胺系基材之與硬塗層側之面為相反側之面形成樹脂層，除此以外，以與比較例A1相同之方式獲得光學膜。於形成樹脂層時，首先，利用棒式塗佈機於聚醯亞胺系基材之與硬塗層側之面為相反側之面塗佈樹脂層用組成物1而形成塗膜。繼而，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為1200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成折射率1.504及膜厚30μm之由胺酯系樹 脂所構成之樹脂層。

<比較例A4>

於比較例A4中，將樹脂層之膜厚設為350μm，除此以外，以與比較例A3相同之方式獲得光學膜。

<比較例A5>

於比較例A5中，使用樹脂層用組成物4代替樹脂層用組成物1而形成膜厚200μm之樹脂層，除此以外，以與比較例A3相同之方式獲得光學膜。再者，使用樹脂層用組成物4所形成之樹脂層之折射率為1.506。

<比較例A6>

於比較例A6中，使用樹脂層用組成物5代替樹脂層用組成物1而形成膜厚200μm之樹脂層，除此以外，以與比較例A3相同之方式獲得光學膜。再者，使用樹脂層用組成物5所形成之樹脂層之折射率為1.509。

<比較例A7>

於比較例A7中，將第1光學調整層之膜厚設為3μm(3000nm)，除此以外，以與實施例A1相同之方式獲得光學膜。

<干涉條紋評價>

於實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜中，評價是否觀察到干涉條紋。具體而言，於光學膜之背面經由透明黏著劑貼附用以防止背面反射之黑色壓克力板，自光學膜之正面側對各光學膜照射光，目視觀察是否確認到干涉條紋。作為光源，使用三波長管螢光燈。根據以下之基準對干涉條紋之產生進行評價。

◎：未確認到干涉條紋。

○：雖確認到少許之干涉條紋，但於實際使用中無問題之等級。

×：明確地確認到干涉條紋。

<耐久性試驗前之連續摺疊性及密接性>

將實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜切割為30mm×100mm之長方形而製作樣品，將該樣品以如下方式安裝於耐久試驗機(製品名「DLDMLH-FS」，Yuasa System公司製造)，即，將樣品之短邊(30mm)側利用固定部分別固定，且如圖2(C)所示，對向之2個邊部之最小間隔成為10mm，進行1萬次將樣品之正面側摺疊180°之連續摺疊試驗(以硬塗層成為內側，且基材、第3光學調整層或樹脂層成為外側之方式摺疊之試驗)，研究於基材與硬塗層之間是否未產生***(間隙)，並且研究於彎曲部是否未產生破裂或斷裂。將連續摺疊試驗之結果分為連續摺疊性及密接性，根據以下之基準進行評價。再者，連續摺疊試驗中使用之樣品係自進行下述耐久性試驗之前之光學膜切割者。

(連續摺疊性)

◎：於連續摺疊試驗中，於彎曲部未產生破裂或斷裂。

○：於連續摺疊試驗中，於彎曲部產生少許破裂或斷裂，但於實際使用中無問題之等級。

×：於連續摺疊試驗中，於彎曲部明顯地產生破裂或斷裂。

(密接性)

◎：於連續摺疊試驗中，於基材與硬塗層之間未產生***。

○：於連續摺疊試驗中，於基材與硬塗層之間產生少許***，但於實際使用中無問題之等級。

×：於連續摺疊試驗中，於基材與硬塗層之間明顯地產生***。

<耐久性試驗後之連續摺疊性及密接性>

對於實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜，進行將光學膜於60℃、相對濕度90%之環境下放置12小時之耐久性試驗，將耐久性試驗後之光學膜切割 為30mm×100mm之長方形而製作樣品，將該樣品以如下方式安裝於耐久試驗機(製品名「DLDMLH-FS」，Yuasa System公司製造)，即，將樣品之短邊(30mm)側利用固定部分別固定，且如圖2(C)所示，對向之2個邊部之最小間隔成為10mm，進行1萬次將樣品之正面側摺疊180°之連續摺疊試驗(以硬塗層成為內側且基材、第3光學調整層或樹脂層成為外側之方式摺疊之試驗)，研究於基材與硬塗層之間是否未產生***(間隙)，並且研究於彎曲部是否未產生破裂或斷裂。將連續摺疊試驗之結果分為連續摺疊性及密接性，根據以下之基準進行評價。

(連續摺疊性)

◎：於連續摺疊試驗中，於彎曲部未產生破裂或斷裂。

○：於連續摺疊試驗中，於彎曲部產生少許破裂或斷裂，但於實際使用中無問題之等級。

×：於連續摺疊試驗中，於彎曲部明顯產生破裂或斷裂。

(密接性)

◎：於連續摺疊試驗中，於基材與硬塗層之間未產生***。

○：於連續摺疊試驗中，於基材與硬塗層之間產生少許***，但於實際使用中無問題之等級。

×：於連續摺疊試驗中，於基材與硬塗層之間明顯地產生***。

<鉛筆硬度>

基於JIS K5600-5-4：1999，分別測定實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜之正面之鉛筆硬度。鉛筆硬度試驗係藉由如下方式進行，即，將以30mm×100mm之大小切出之光學膜以無彎折或褶皺之方式利用Nichiban股份有限公司製造之Cellotape(註冊商標)固定於玻璃板上，針對光學膜之正面，使用鉛筆硬度試驗機(製品名「鉛筆刮痕塗膜硬度試驗機(電動式)」，東洋精機 製作所股份有限公司製造)，一面對鉛筆(製品名「Uni」，三菱鉛筆股份有限公司製造)施加750g之荷重一面使鉛筆以1mm/秒之移動速度移動。鉛筆硬度設為於鉛筆硬度試驗中未對光學膜之正面造成損傷之最高硬度。再者，於鉛筆硬度之測定時，使用多根硬度不同之鉛筆進行，每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度試驗，於5次中4次以上於螢光燈下對光學膜之正面進行穿透觀察時未於光學膜之正面視認到損傷之情形時，判斷為該硬度之鉛筆未對光學膜之正面造成損傷。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

<抗剝離帶電性>

於實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜之正面貼合保護膜，測定自光學膜之正面剝離保護膜時之剝離帶電量，評價剝離帶電量之大小。具體而言，於光學膜之正面貼合附黏著層之保護膜(製品名「SAT2038T-JSL」，SUN A.KAKEN公司製造)，於23℃、相對濕度50%之環境下，自光學膜之正面以剝離速度300mm/min將保護膜180°剝離，使用靜電測定器(製品名「KSD-0103」，春日電機公司製造)，自距正面為50mm之距離測定此時之光學膜之正面之電位，測定剝離帶電量。剝離帶電量係於光學膜之正面分別測定10次，設為測定10次所得之剝離帶電量之算術平均值。評價基準如以下所示。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

○：光學膜之正面之剝離帶電量為-10kV~10kV之範圍內。

×：光學膜之正面之剝離帶電量超過±10kV。

<飽和帶電壓>

分別測定實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜之正面之飽和帶電壓。具體而言，於23℃、相對濕度50%之環境下，自距以100mm×100mm之大小切出之光學膜之正面為50mm之距離施加10kV之電壓，使用帶電電荷衰減度測定器(製品名「H-0110」，Shishido Electrostatic公司製造)，測定光學膜之正面 之飽和帶電壓。飽和帶電壓設為測定3次而獲得之值之算術平均值。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

<表面電阻值>

於實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜中，使用電阻率計(製品名「Hiresta-UP MCP-HT450」，Mitsubishi Chemical Analytech公司製造，探針：URS)測定表面之電阻值。表面電阻值係隨機地分別測定10個部位之以50mm×50mm之大小切出之光學膜之正面之表面電阻值，採用測得之10個部位之表面電阻值之算術平均值。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

<黃色指數(YI)>

於實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜中，分別測定黃色指數。具體而言，首先，將以50mm×50mm之大小切出之光學膜以光學膜之基材側成為光源側之方式配置於分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所股份有限公司製造，光源：鎢絲燈及氘燈)內。光學膜係無缺陷(異物之混入)、無龜裂、無皺褶且無污漬者，又，於無捲曲之平坦之狀態下保持於分光光度計。於該狀態下，於以下之測定條件下，於波長300nm~780nm分別於前後1nm之間測定最低5點之穿透率，算出其平均值，藉此而求出。繼而，於連接於UV-2450之監視器上讀入上述穿透率之測定資料，於計算項目中勾選「YI」，藉此獲得YI。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

(測定條件)

‧波長區域：300nm~780nm

‧掃描速度：高速

‧狹縫寬度：2.0

‧取樣間隔：自動(0.5nm間隔)

‧照明：C

‧光源：D2及WI

‧視野：2°

‧光源切換波長：360nm

‧S/R切換：標準

‧檢測器：PM

‧自動歸零：於基準線之掃描後於550nm實施

<全光線穿透率測定>

針對實施例A1~A24及比較例A1~A7之光學膜，使用霧度計(製品名「HM-150」，村上色彩技術研究所股份有限公司製造)，依照JIS K7361-1：1997測定全光線穿透率。關於上述全光線穿透率，上述全光線穿透率係以50mm×100mm之大小切出後，於無捲曲或皺褶且無指紋或灰塵等之狀態下，以硬塗層側成為非光源側之方式設置，對1片光學膜測定3次，採用測定3次而獲得之值之算術平均值。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

<G'、G"、tanδ之測定>

測定實施例A16~A24及比較例A3~A6之光學膜之剪切儲存模數G'、剪切損耗模數G"、及剪切損耗正切tanδ。具體而言，首先，將光學膜沖裁為10mm×5mm之長方形狀，作為樣品。繼而，準備2片該樣品，安裝於動態黏彈性測定裝置(製品名「Rheogel-E4000」，UBM股份有限公司製造)之測定夾具。具體而言，固體剪切用夾具具備厚度為1mm之1片金屬製固體剪切板與配置於該固體剪切板之兩側之2個L型金屬件，於固體剪切板與L型金屬件之間夾著一樣品，且於固體剪切板與另一L型金屬件之間夾著另一樣品。於此情形時，以樹脂層成為固體剪切板側且硬塗層成為L型金屬件側之方式夾著樣品。繼而，利用螺釘將L型金屬件間緊固，固定樣品。繼而，於動態黏彈性測定裝 置(製品名「Rheogel-E4000」，UBM股份有限公司製造)安裝由上部夾頭及下部夾頭所構成之拉伸試驗用夾頭後，將固體剪切用夾具以夾頭間距離20mm設置於上部夾頭與下部夾頭之間。繼而，將設定溫度設為25℃並以2℃/min升溫。於該狀態下，一面固定固體剪切板一面對2個L型金屬件施加應變量1%且頻率500Hz以上且1000Hz以下之範圍之縱向振動，一面於25℃進行固體之動態黏彈性測定，測定光學膜之剪切儲存模數G'、剪切損耗模數G"及剪切損耗正切tanδ。此處，光學膜之於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'、剪切損耗模數G"及剪切損耗正切tanδ設為藉由如下方式而獲得之值，對L型金屬件分別施加頻率500Hz、750Hz、950Hz之縱向振動，於各頻率下測定光學膜之剪切儲存模數G'、剪切損耗模數G"及剪切損耗正切tanδ，求出該等剪切儲存模數G'、剪切損耗模數G"及剪切損耗正切tanδ之算術平均值，進而將該測定重複3次，將分別獲得之3個算術平均值進一步進行算術平均。再者，作為光學膜，使用上述耐久性試驗前之光學膜。

<耐衝擊性試驗>

於厚度0.7mm之鈉玻璃之表面，以鈉玻璃側成為樹脂層側之方式直接放置實施例A16~A24及比較例A3~A6之光學膜，進行如下耐衝擊性試驗A各3次，即，使重量100g、直徑30mm之鐵球自高度30cm之位置落下至光學膜之硬塗層之表面。又，於厚度0.7mm之鈉玻璃上，以鈉玻璃側成為樹脂層側之方式，經由厚度200μm之黏著片材(製品名「高透明性雙面帶8146-2」，3M公司製造)放置實施例A16~A24及比較例A3~A6之光學膜，進行如下耐衝擊性試驗B各3次，即，使重量100g、直徑30mm之鐵球自高度30cm之位置落下至光學膜之硬塗層之表面。再者，於耐衝擊性試驗A、B中，使鐵球落下之位置設為每次進行變更者。繼而，於耐衝擊性試驗A後之光學膜中，藉由目視評價於硬塗層之表面是否產生凹陷，並且評價於鈉玻璃是否產生破裂。又，於耐衝擊性試 驗B後之光學膜中，藉由目視評價於硬塗層之表面是否產生凹陷。評價結果如以下所述。

(硬塗層之表面之凹陷評價)

○：於自正面及傾斜觀察硬塗層之兩種情形時，均未於硬塗層之表面確認到凹陷。

△：於自正面觀察硬塗層之情形時，於硬塗層之表面未觀察到凹陷，但於傾斜觀察之情形時，於硬塗層之表面確認到凹陷。

×：於自正面及傾斜觀察硬塗層之兩種情形時，均於硬塗層之表面觀察到明顯之凹陷。

(鈉玻璃之破裂評價)

◎：鈉玻璃未破裂。

○：於鈉玻璃產生損傷但未破裂。

△：1~2次於鈉玻璃產生破裂。

×：3次均於鈉玻璃產生破裂。

以下，將結果示於表1~3。

以下，對結果進行敘述。於比較例A1、A3~A6之光學膜中，於聚醯亞胺系基材與硬塗層之間未設置鄰接於硬塗層之光學調整層，因此明確地觀察到干涉條紋。又，於比較例A2之光學膜中，由於硬塗層之膜厚較厚，故而抑制干涉條紋之產生，但連續摺疊性較差。又，於比較例A7之光學膜中，於聚醯亞胺系基材與硬塗層之間設置有鄰接於硬塗層之第1光學調整層，但由於第1光學調整層之膜厚較厚，故而連續摺疊性較差。相對於此，於實施例A1~A24之光學膜中，於各種基材與硬塗層之間設置有鄰接於硬塗層之第1光學調整層，因此抑制干涉條紋之產生，且連續摺疊性亦優異。再者，於實施例A1~A24之光學膜中，第1光學調整層之膜厚較比較例A7之光學膜薄，因此較比較例A7之光學膜更抑制干涉條紋。又，由耐熱性試驗後之密接性評價可知，於實施例A1~A11之光學膜中，由於具備第2光學調整層，故而基材與第1光學調整層之密接性較不具備第2光學調整層之實施例A12~A24之光學膜提高。

又，於實施例A1及A8之光學膜中，將以30mm×100mm之長方形切割而製作之樣品之短邊(30mm)側以樣品之對向之邊部之間隔成為10mm之方式分別固定於平行地配置之固定部，於摺疊光學膜之狀態下，進行於70℃靜置12小時之摺疊靜置試驗。繼而，於摺疊靜置試驗後自單側之邊部卸除固定部，藉此解除摺疊狀態，於室溫下經過30分鐘後，測定光學膜自然地打開之角度即開度角(參照圖3(B))，結果實施例A1之光學膜之開度角為100°以上，大於實施例A8之光學膜之開度角。再者，作為開度角，於以硬塗層成為內側之方式摺疊之情形與以硬塗層成為外側之方式摺疊之兩種情形時進行摺疊靜置試驗，採用角度較小者。

進而，於比較例A3之光學膜中，由於樹脂層之膜厚過薄，故而無法吸收衝擊，於耐衝擊性試驗A中於鈉玻璃產生破裂，又，於耐衝擊性試驗B中，因追隨於黏著片材之塑性變形而導致硬塗層之表面之凹陷量較大。於比較 例A4之光學膜中，由於樹脂層之膜厚過厚，故而摺疊性較差。於比較例A5之光學膜中，由於剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"過小，故而無法吸收衝擊，於耐衝擊性試驗A中於鈉玻璃產生少許破裂。於比較例A6之光學膜中，由於剪切儲存模數G'過大並且剪切損耗模數G"過小，故而無法吸收衝擊，於耐衝擊性試驗A中亦有於鈉玻璃產生破裂之情況，又，摺疊性亦較差。相對於此，於實施例A16~A24之光學膜中，由於樹脂層之膜厚、剪切儲存模數G'及剪切損耗模數G"之平衡性良好，故而無法確認到耐衝擊性試驗A、B後之硬塗層之表面之凹陷，又，於鈉玻璃亦未產生破裂。

又，分別使用上述耐久性試驗前後之實施例A1~A24之光學膜，製作與上述相同之大小之樣品，以該樣品之對向之2個邊部之最小間隔成為3mm之方式，與上述同樣地將樣品安裝於耐久試驗機(製品名「DLDMLH-FS」，Yuasa System公司製造)，進行1萬次將樣品之正面側摺疊180°之連續摺疊試驗(以硬塗層成為內側且基材、第3光學調整層或樹脂層成為內側之方式摺疊之試驗)，分別根據與上述相同之評價基準對上述耐久性試驗前之連續摺疊性及密接性以及上述耐久性試驗後之連續摺疊性及密接性進行評價，結果於實施例A1~A15之光學膜中，上述耐久性試驗前之連續摺疊性及密接性以及上述耐久性試驗後之連續摺疊性及密接性良好。

又，分別使用上述耐久性試驗前後之實施例A1~A24及比較例A1~A6之光學膜，製作與上述相同之大小之樣品，以該樣品之對向之2個邊部之最小間隔成為30mm之方式，與上述同樣地將樣品安裝於耐久試驗機(製品名「DLDMLH-FS」，Yuasa System公司製造)，進行1萬次將樣品之背面側摺疊180°之連續摺疊試驗(以硬塗層成為外側且基材、第3光學調整層或樹脂層成為內側之方式摺疊之試驗)，分別根據與上述相同之評價基準對上述耐久性試驗前之連續摺疊性及密接性以及上述耐久性試驗後之連續摺疊性及密接性進行 評價，結果獲得與表1相同之結果。

又，使用實施例A1~A24之光學膜的光學膜硬塗層之馬氏硬度進行測定，結果硬塗層之馬氏硬度為650MPa。馬氏硬度係使用HYSITRON(海思創)公司製造之「TI950 TriboIndenter」，於以下之測定條件下，於硬塗層之剖面中央分別將Berkovich壓頭(三角錐)壓入500nm，保持為固定而進行殘留應力之緩和後，卸載，計測緩和後之最大荷重，使用該最大荷重P_max(μN)與深度500nm之凹陷面積A(nm²)，由P_max/A算出。馬氏硬度設為測定10個部位而獲得之值之算術平均值。

(測定條件)

‧荷重速度：10nm/秒

‧保持時間：5秒

‧荷重卸載速度：10nm/秒

‧測定溫度：25℃

於實施例A1之聚醯亞胺系基材之與第1光學調整層側之面為相反側之面，塗佈含有含四級銨鹽之抗靜電劑(製品名「1SX-3000」，Taisei Fine Chemical公司製造)100質量份(固體成分100%換算值)、光聚合起始劑(製品名「Irg184」，BASF Japan公司製造)4質量份、溶劑(MIBK)150質量份之抗靜電層用組成物，利用棒式塗佈機塗佈抗靜電用層用組成物，形成塗膜。繼而，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發而形成膜厚100nm之抗靜電層，從而獲得光學膜。再者，該光學膜之正面為硬塗層之表面，背面為抗靜電層之表面。繼而，於該光學膜之正面及背面貼合保護膜，測定使保護膜自光學膜之正面及背面剝離時之剝離帶電量，結果光學膜之正面及背面之剝離帶電量分別為-10kV~10kV之範圍內。

<<實施例B及比較例B>>

<實施例B1>

準備厚度50μm之聚醯亞胺基材(製品名「Neopulim」，Mitsubishi Gas Chemical公司製造)作為透光性基材，利用棒式塗佈機於作為聚醯亞胺基材之一面之第1面塗佈抗靜電層用組成物1，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，形成作為抗靜電硬塗層之膜厚為20μm之第1抗靜電層。繼而，利用棒式塗佈機於聚醯亞胺基材之與上述第1面為相反側之第2面塗佈抗靜電層用組成物2，形成塗膜。對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，而形成膜厚為100nm之第2抗靜電層，形成於聚醯亞胺基材之兩面具有抗靜電層之光學膜。再者，實施例B1之光學膜之正面為第1抗靜電層之表面，背面為第2抗靜電層之表面。又，抗靜電層之膜厚係使用掃描式電子顯微鏡(SEM)拍攝抗靜電層之剖面，於該剖面之影像中分別測定20個部位之抗靜電層之膜厚，採用該20個部位之膜厚之算術平均值。於實施例B2、B3及比較例B1~B3中，亦藉由與實施例B1相同之方法而測定抗靜電層之膜厚。

<實施例B2>

於實施例B2中，將第2抗靜電層之膜厚設為10μm，除此以外，以與實施例B1相同之方式獲得光學膜。再者，實施例B2之光學膜之正面為第1抗靜電層之表面，背面為第2抗靜電層之表面。

<實施例B3>

準備厚度50μm之聚醯亞胺基材(製品名「Neopulim」，Mitsubishi Gas Chemical公司製造)作為透光性基材，利用棒式塗佈機於作為聚醯亞胺基材之一面之第1面塗佈硬塗層用組成物2，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使 其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，而形成膜厚為20μm之硬塗層。繼而，利用棒式塗佈機於硬塗層之表面塗佈抗靜電層用組成物2，形成塗膜。對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，而形成膜厚為80nm之第1抗靜電層。其後，於高頻濺鍍裝置中，藉由對電極施加頻率13.56MHz、電力5kW之高頻電力，而使腔室內產生放電，於第1抗靜電層之表面形成膜厚為100nm且折射率為1.46之作為光學調整層之二氧化矽蒸鍍層。其後，利用棒式塗佈機於聚醯亞胺基材之與上述第1面為相反側之第2面塗佈抗靜電層用組成物2，形成塗膜。對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，而形成膜厚為80nm之第2抗靜電層，形成於聚醯亞胺基材之兩面側具備抗靜電層之光學膜。再者，實施例B3之光學膜之正面為二氧化矽蒸鍍層之表面，背面為第2抗靜電層之表面。

<比較例B1>

準備厚度50μm之聚醯亞胺基材(製品名「Neopulim」，Mitsubishi Gas Chemical公司製造)作為透光性基材，利用棒式塗佈機於作為聚醯亞胺基材之一面之第1面塗佈硬塗層用組成物2，形成塗膜。其後，對於所形成之塗膜，使其於70℃加熱1分鐘，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H BULB)，於空氣中以累計光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線而使塗膜硬化，而形成膜厚為20μm之硬塗層，獲得光學膜。再者，比較例B1之光學膜之正面為硬塗層之表面，背面為聚醯亞胺基材之與作為一面之第1面為相反側之面。

<比較例B2>

於比較例B2中，未形成第2抗靜電層，除此以外，以與實施例B1相同之方 式獲得光學膜。再者，比較例B2之光學膜之正面為第1抗靜電層之表面，背面為聚醯亞胺基材之與第1面為相反側之面。

<比較例B3>

於比較例B3中，未形成第2抗靜電層及二氧化矽蒸鍍層，除此以外，以與實施例B3相同之方式獲得光學膜。再者，比較例B3之光學膜之正面為第1抗靜電層之表面，背面為聚醯亞胺基材之與第1面為相反側之面。

<抗剝離帶電性>

於實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜之正面及背面貼合保護膜，測定使保護膜自光學膜之正面及背面剝離時之剝離帶電量，評價剝離帶電量之大小。具體而言，於光學膜之正面及背面貼合附黏著層之保護膜(製品名「Sunytect series」，SUN A.KAKEN公司製造)，於23℃、相對濕度50%之環境下，自光學膜之正面及背面以剝離速度10mm/秒將保護膜180°剝離，使用靜電電位測定器(製品名「KSD-0103」，春日電機公司製造)，自距表面及背面為50mm之距離測定此時之光學膜之正面及背面之電位，測定剝離帶電量。剝離帶電量係於光學膜之兩面分別測定10次，設為測定10次所獲得之剝離帶電量之算術平均值。評價基準如以下所述。

○：光學膜之正面及背面之剝離帶電量均為0kV~5kV之範圍內。

×：光學膜之正面及背面之剝離帶電量之任一者超過5kV。

<表面電阻值>

於實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜中，於與實施例A相同之測定條件下，分別測定正面及背面之表面電阻值。

<連續摺疊性>

將實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜切割為30mm×100mm之長方形而製作樣品，將該樣品以如下方式安裝於耐久試驗機(製品名「DLDMLH- FS」，Yuasa System公司製造)，即，將樣品之短邊(30mm)側利用固定部分別固定，且對向之2個邊部之最小間隔成為3mm，進行10萬次將樣品之正面側摺疊180°之連續摺疊試驗(以第1抗靜電層、光學調整層或硬塗層成為內側且第2抗靜電層或聚醯亞胺基材成為外側之方式摺疊之試驗)，研究於彎曲部是否未產生破裂或斷裂。又，將關於實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜與上述同樣地製作之新樣品以與上述相同之方式安裝於上述耐久試驗機，進行10萬次將樣品之背面側摺疊180°之連續摺疊試驗(以第1抗靜電層、光學調整層或硬塗層成為外側且第2抗靜電層或聚醯亞胺基材成為內側之方式摺疊之試驗)，研究於彎曲部是否未產生破裂或斷裂。根據以下之基準對連續摺疊試驗之結果進行評價。

○：於任一連續摺疊試驗中，均未於彎曲部產生破裂或斷裂。

×：於任一連續摺疊試驗中，於彎曲部產生破裂或斷裂。

<鉛筆硬度>

對實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜之正面，基於JIS K5600-5-4：1999進行鉛筆硬度試驗並進行評價。鉛筆硬度試驗係藉由如下方式進行，即，使用2H鉛筆，將以50mm×100mm之大小切出之光學膜以於玻璃板上無彎折或褶皺之方式利用Nichiban公司製造之Cellotape(註冊商標)進行固定，於該狀態下，一面對鉛筆施加1kg之荷重一面使鉛筆以速度1mm/秒移動。鉛筆硬度試驗係進行5次，於螢光燈下對鉛筆硬度試驗後之光學膜之正面進行穿透觀察，研究5次中有幾次未於表面視認到損傷。評價基準如以下所述。

○：於2H鉛筆時，未於表面視認到損傷。

×：於2H鉛筆時，於表面視認到損傷。

<飽和帶電壓>

於與實施例A相同之測定條件下，分別測定實施例B1~B3及比較例B1~B3 之光學膜之正面及背面之飽和帶電壓。

<黃色指數(YI)>

於實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜中，於與實施例A相同之條件下測定黃色指數並進行評價。評價基準如以下所述。

◎：YI未達1.5。

○：YI為1.5以上且未達10.0。

△：YI為10.0以上且15.0以下。

×：YI超過15.0。

<視感反射率>

於實施例B1~B3及比較例B1~B3之光學膜中，測定波長380nm~780nm之光之視感反射率並進行評價。視感反射率係使用分光光度計(製品名「UV-2450」，島津製作所公司製造，光源：鎢絲燈及氘燈)，自切成5cm×10cm之大小之光學膜之正面側照射波長380nm~780nm之光，由自光學膜反射之波長380nm~780nm之光進行測定。具體而言，自各光學膜之正面側照射入射角度5度之光，接受經各光學膜反射之正反射方向之反射光，測定380nm~780nm之波長範圍之反射率，其後，藉由以人眼所感受到之亮度進行換算之軟體(例如內置於UV-2450之軟體)算出視感反射率。評價基準如以下所述。

◎：視感反射率為3%以下。

○：視感反射率超過3%且為10%以下。

△：視感反射率超過10%且為15%以下。

×：視感反射率超過15%。

以下將結果示於表4。

以下，對結果進行敘述。於比較例B1~B3之光學膜中，由於未設置第1抗靜電層及/或第2抗靜電層，故而剝離保護膜時之抗剝離帶電性較差。相對於此，於實施例B1~B3之光學膜中，由於設置有第1抗靜電層及第2抗靜電層，故而剝離保護膜時之抗剝離帶電性優異。

又，於實施例B1~B3之光學膜中，將切割為30mm×100mm之長方形而製作之樣品之短邊(30mm)側以樣品所對向之邊部之間隔成為3mm之方式分別固定於平行地配置之固定部，於摺疊光學膜之狀態下，進行於70℃靜置240小時之摺疊靜置試驗。繼而，於摺疊靜置試驗後自單側之邊部卸除固定部，藉此解除摺疊狀態，於室溫下經過30分鐘後測定光學膜自然地打開之角度即開度角，結果實施例B2之光學膜之開度角為100°以上，大於實施例B1、B3之光學膜之開度角。再者，作為開度角，於以第1抗靜電層成為內側之方式摺疊之情形與以第1抗靜電層成為外側之方式摺疊之兩種情形時，進行摺疊靜置試驗，採用角度較小者。

又，於與實施例A相同之條件下，測定實施例B1、B2之光學膜之第1抗靜電層及第3光學膜之硬塗層之馬氏硬度，結果第1抗靜電層及硬塗層之馬氏硬度為612MPa。

10‧‧‧光學膜

10A、12A‧‧‧正面

10B‧‧‧背面

11‧‧‧樹脂基材

11A‧‧‧第1面

11B‧‧‧第2面

12‧‧‧功能層

13‧‧‧第1光學調整層

14‧‧‧第2光學調整層

15‧‧‧第3光學調整層

15A‧‧‧光學調整層之與樹脂基材側之面為相反側之面

Claims (20)

1. 一種光學膜，其係用於影像顯示裝置且可摺疊者，且具備：樹脂基材，其係由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂及聚酯系樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂所構成；功能層，其設置於上述樹脂基材之第1面側；第1光學調整層，其設置於上述樹脂基材與上述功能層之間，且鄰接於上述功能層；及樹脂層，其設置於上述樹脂基材之與上述第1面側為相反側之第2面側且膜厚為50μm以上且300μm以下；上述光學膜之在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切儲存模數G'超過200MPa且為1200MPa以下，且上述光學膜之在25℃並於500Hz以上且1000Hz以下之頻率區域之剪切損耗模數G"為3MPa以上且150MPa以下。
2. 如請求項1所述之光學膜，其進而具備第3光學調整層，該第3光學調整層設置於上述樹脂基材與上述樹脂層之間，且鄰接於上述樹脂基材。
3. 一種光學膜，其係用於影像顯示裝置且可摺疊者，且具備：樹脂基材，其係由選自由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂及聚酯系樹脂所組成之群中之1種以上之樹脂所構成；功能層，其設置於上述樹脂基材之第1面側；第1光學調整層，其設置於上述樹脂基材與上述功能層之間，且鄰接於上述功能層；及第3光學調整層，其設置於上述樹脂基材之與上述第1面為相反側之第2面。
4. 如請求項1或3所述之光學膜，其中，上述第1光學調整層之折射率低於上述樹脂基材之折射率，且高於上述功能層之折射率。
5. 如請求項1或3所述之光學膜，其中，上述第1光學調整層之膜厚為30nm以上且200nm以下。
6. 如請求項1或3所述之光學膜，其進而具備第2光學調整層，該第2光學調整層設置於上述樹脂基材與上述第1光學調整層之間，且鄰接於上述樹脂基材。
7. 如請求項6所述之光學膜，其中，上述第2光學調整層之膜厚為30nm以上且200nm以下。
8. 如請求項1或3所述之光學膜，其中，上述光學膜之黃色指數為15以下。
9. 如請求項1或3所述之光學膜，其中，於上述光學膜中，於反覆進行1萬次之以上述功能層成為內側且上述光學膜所對向之邊部之間隔成為10mm之方式摺疊180°之試驗之情形時不產生破裂或斷裂。
10. 如請求項1或3所述之光學膜，其中，於上述光學膜中，於反覆進行1萬次之以上述功能層成為外側且上述光學膜所對向之邊部之間隔成為30mm之方式摺疊180°之試驗之情形時不產生破裂或斷裂。
11. 一種光學膜，其係用於影像顯示裝置且可摺疊者，且具備：透光性基材；第1抗靜電層，其設置於上述透光性基材之第1面側；及第2抗靜電層，其設置於上述透光性基材之與上述第1面為相反側之第2面側。
12. 如請求項11所述之光學膜，其中，上述光學膜之黃色指數為15以下。
13. 如請求項11所述之光學膜，其中，上述第1抗靜電層為抗靜電性硬塗層。
14. 如請求項11所述之光學膜，其進而具備光學調整層，該光學調整層設置於上述第1抗靜電層之與上述透光性基材側相反之側。
15. 如請求項11所述之光學膜，其進而具備硬塗層，該硬塗層設置於上述透光性基材與上述第1抗靜電層之間。
16. 如請求項11所述之光學膜，其中，於23℃、相對濕度50%之環境下，自距上述光學膜之正面為50mm之距離施加10kV之電壓時之上述光學膜之上述正面之飽和帶電壓之絕對值超過0kV。
17. 如請求項11所述之光學膜，其中，於上述光學膜中，於反覆進行10萬次之以上述光學膜所對向之邊部之間隔成為3mm之方式摺疊180°之試驗之情形時不產生破裂或斷裂。
18. 如請求項11所述之光學膜，其中，上述透光性基材係由聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂、或該等之混合物所構成之基材。
19. 一種可摺疊之影像顯示裝置，其具備：顯示元件；及如請求項1、3或11所述之光學膜，其配置於較上述顯示元件更靠觀察者側。
20. 如請求項19所述之影像顯示裝置，其中，上述顯示元件為有機發光二極體元件。

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