TWI708109B - 光學設備用遮光部件 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種簡單製程即可製造的、具有優異的反射防止性能、能夠應用於小型化、薄型化的光學設備之光學設備用遮光部件；使JIS B0601：2001的算術平均粗糙度Ra為0.5微米以上、且使最大波峰Rp與最大波谷Rv之差(Rp-Rv)為3以下來調製光學設備用遮光部件表面；光學設備用遮光部件較佳為具有基材膜以及形成於所述基材膜的至少一方的面上之遮光層。另外進行調製使遮光層的平均膜厚為2微米至35微米。

Description

光學設備用遮光部件
本發明涉及一種光學設備用遮光部件，特別涉及應用於照相機、投影儀以及攝像機、影印機、光澤度計等光學物性檢測機等的光學設備的內壁面、柔性印刷基板、快門、虹膜(光圈)、隔片等的遮光部件。
以往於各種光學設備內壁以及柔性印刷基板等上面設置具有反射防止性能的遮光部件(專利文獻1)。另外，於照相機、投影儀、攝像機等光學器械之羽材或者墊圈等中也使用遮光性膜(專利文獻2)。
[現有先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開平10-268105
[專利文獻2]特開平4-9802
[專利文獻3]特開2008-225099
通常於上述遮光性膜等表面上添加消光劑，設置使表面粗糙化之遮光層。為提高遮光性膜的遮光性能，遮光層以及在基材膜與遮光層之間所設置的固定層的厚膜化係有效的。
然而，近年來光學設備之小型化、薄型化發展，需要既薄又具有優異遮光性能，且具有良好的硬度以及遮光層與基材膜之間的緊貼性良好的遮光膜。針對這類問題，專利文獻3公開了一種遮光膜，其具備基材膜(基材)和配設於上述基材一方的面上之遮光層，上述基材係含有白色顏料或者於表面以及內部具有微細獨立氣泡的，光反射率達到80%以上的合成樹脂膜，上述遮光層含有黏結劑樹脂、黑色顏料以及填料，且其厚度為15微米以下，上述遮光層於其厚度方向上，與上述基材相接的面的附近範圍的黑色顏料之濃度比與上述基材不相接的面(表面)附近範圍的黑色顏料的濃度高，整體厚度為60微米以下。且記載了上述遮光膜，即使係薄膜，也具有優異的遮光特性。具體地，顯示了相對於60°的入射角的入射光的光澤度為6%以下的遮光膜。
但於專利文獻3中，由於厚度方向的黑色顏料的濃度變化，所以需要經過設置2層以上的遮光層等複雜製程。另外，近年來，由於光源小型化，光量上升等高性能化，因而需要更優異的反射防止性能(遮光特性)。
因此本發明之目的在於提供一種簡單製程即可製造，具有優異的反射防止性能，可以應用於小型化、薄型化的光學設備 的光學設備用遮光部件。
本發明之發明人經過銳意研究，結果發現藉由控制具有特定以上的表面粗糙度的遮光部件表面的最大波峰Rp與最大波谷Rv的差，就可以解決上述課題，並完成了本發明。即，本發明之遮光部件之特徵在於，表面的JIS B0601：2001的算術平均粗糙度Ra為0.5微米以上，且最大波峰Rp與最大波谷Rv之差(Rp-Rv)為3以下。
本發明之遮光部件的表面硬度較佳為在H以上。
另外，本發明之遮光部件，較佳為具有基材膜以及形成於所述基材膜的至少一方的面上的遮光層。
進而，上述遮光層的平均膜厚較佳為2微米至35微米。
本發明之遮光部件簡單製程即可製造，即使係薄型化也具有優異的反射防止性能。另外，具有遮光層之本發明的遮光部件由於具有優異的硬度以及遮光層與膜基材之間的緊貼性，所以即使在應用於小型化、薄型化光學設備時，也能夠長期維持優異的反射防止性能。
1:遮光部件
2:基材膜
3:遮光層
31:消光劑
32:基質部
4:遮光層(薄膜)
第1圖係顯示了本發明的一個實施態樣之遮光部件構成的截面模式圖。
第2圖係顯示了本發明的另一個實施態樣之遮光部件構成的截面模式圖。
第3圖係顯示遮光部件表面的Rp-Rv值與相對於入射角度為60°的入射光的光澤度的關係的一個實例的圖表。
以下詳細說明本發明之實施態樣。
本發明之遮光部件的特徵在於，表面的JIS B0601：2001的算術平均粗糙度Ra為0.5微米以上，最大波峰Rp與最大波谷Rv之差(Rp-Rv)不足3。
藉由使遮光部件表面的算術平均粗糙度Ra為0.5以上，最大波峰Rp與最大波谷Rv之差(Rp-Rv)不足3，則即使係很薄，也能發揮優異的反射防止性能。具體地，藉由將遮光部件表面控制在上述範圍內，能夠得到在入射角為60°時，光澤度不足3%的優異的反射防止性能。
遮光部件表面的算術平均粗糙度Ra較佳為1.0微米以上，更佳為2.0微米以上。
遮光部件表面之Rp-Rv值較佳為2.0以下，更佳為1.5以下。另一方面，只要算術平均粗糙度Ra在0.5微米以上，則Rp-Rv的下限值，就沒有特殊限定。
控制本發明之遮光部件的表面的Ra以及Rp-Rv值之方法，沒有特殊限定，可以例舉(A)藉由添加到表面遮光層的充填劑(消光劑)的粒徑、粒度分佈、含量以及遮光層的膜厚、遮光層的製造條件等，控制遮光層表面的凹凸的之法，(B)在遮光部件之基材表面形成凹凸之方法，以及(C)在遮光層的基材表面形成凹凸，且控制添加到表面遮光層的充填劑(消光劑)的粒徑等之方法。
基於附圖，分別進行詳細說明。
首先，對以(A)方法所得到的遮光部件1的構成加以說明。如第1圖所示，於平坦的基材膜2之表面上覆蓋含有消光劑31和基質部32之遮光層3。遮光層3之表面上，藉由消光劑31而形成凹凸。這裡，遮光部件1表面的Ra以及Rp-Rv值，可以藉由調整消光劑31的粒徑、粒度分佈、含量以及遮光層3的膜厚等進行控制。另外，還可藉由調整製作塗敷液時的溶劑的種類和固形成分的濃度、向基材膜塗敷的量，進行控制。進一步，也可以藉由塗敷液的塗敷方法或者乾燥溫度、時間以及乾燥時的風量等的塗膜製造條件，進行控制。藉由這種控制塗敷液組成以及塗膜製造條件等，能夠調製即使係具有同程度的膜厚或者Ra的遮光層，Rp-Rv值也不同的遮光層。
接著，對以(B)方法所得到之遮光部件1的構成加以說明。
如第2圖所示，於基材膜2表面形成凹凸。凹凸的形成， 例如可以使用噴砂方法，藉由控制所使用之研磨劑的粒徑以及噴射壓力等，能夠控制Ra以及Rp-Rv值。在第2圖中，藉由於形成了凹凸的基材膜2上覆蓋薄膜4，能夠於遮光部件1的表面，形成模仿基材膜2表面的凹凸形狀的凹凸形狀。這裡，在遮光部件表面的薄膜4中，不添加消光劑，遮光部件1表面的Ra以及Rp-Rv值藉由基材膜2的凹凸形狀以及薄膜4的膜厚等進行調製。
在應用於不需要高硬度的領域的情形或者基材膜具有足夠的硬度的情形時，可以使用不形成薄膜4的基材膜2作為遮光部件。另一方面，在作為與其他部件滑動的部件或者與人的手相接觸的部件使用時，藉由在遮光部件表面形成高硬度且具有優異的滑動特性的薄膜4，能夠長期維持優異的遮光性。
(C)方法，如(B)那樣，在基材膜表面形成凹凸，且如(A)那樣，在遮光部件表面覆蓋含有消光劑的遮光層。在該構成中，遮光部件表面的Ra以及Rp-Rv值可以藉由基材膜2表面的凹凸形狀、遮光層的膜厚、遮光層中消光劑之粒徑、粒度分佈、含有量、遮光層的製造條件等進行控制。
本發明之遮光部件的表面硬度，沒有特殊限定，較佳為H以上。藉由使遮光部件的表面硬度在H以上，則即使係作為滑動部件或者與人的手相接觸的部件使用的情形，也能夠降低遮光部件表面的磨耗，能夠長期維持優異的遮光特性。本發明之遮光部件的表面硬度更佳為2H以上。上述表面硬度按照JIS K5600，藉由鉛筆劃痕測試儀進行測定，以JIS K5400標準進行評價。
另外本發明之遮光部件，較佳為以含浸甲基乙基酮的脫脂棉為相對材料的往復滑動試驗前後的光學濃度差在1.5以下。這樣的耐溶劑性優異的遮光部件，能夠作為交聯密度高的遮光膜，由於其係一種強韌的被膜，所以即使在滑動條件下，也能夠長期維持凹凸形狀，能夠更加發揮優異的遮光特性。上述滑動試驗以及光學濃度的測定，可以藉由以下方法進行。
對於塗膜面，將含浸甲基乙基酮的脫脂棉以每3平方公分(cm2)250公克(g)的負荷，按照200毫米(mm)/秒使其往復滑動20次，用光學濃度計，測定試驗前後的光學濃度，算出差。
進一步，本發明之遮光部件在作為與其他部件滑動的部件使用時，遮光部件表面的動摩擦係數較佳為0.42以下。這樣的遮光部件，滑動性能優異，即使係長期使用，也能夠維持遮光部件表面的凹凸形狀，即，維持上述Ra以及Rp-Rv值。由此能夠長期地保持優異的反射防止性能(遮光特性)。
本發明之遮光部件的動摩擦係數較佳為0.35以下，更佳為0.3以下。另外，動摩擦係數可以藉由摩擦磨損試驗機HEIDON等進行測定。
本發明之遮光部件，較佳為於基材膜的至少一方的面上形成有遮光層的構成。另外，以下的說明中，設定以(B)方法形成的、於基材膜表面覆蓋之不含消光劑的薄膜也包含在遮光層中。
以下就本發明遮光部件之具體材料構成進行說明。
(1)基材膜
本發明所使用之基材膜，沒有特殊限定，可以係透明膜也可以係不透明膜。作為基材膜的素材，例如可以使用聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯與碳原子數為4以上的α烯烴的共聚物等的聚烯烴、聚對苯二甲酸乙酯等的聚酯、尼龍等的聚醯胺、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯等的其他通用塑膠、聚碳酸酯、聚醯亞胺等的工程塑膠。這些素材中從強度比較高，經濟性和通用性較高的觀點，較佳為使用雙向拉伸的聚對苯二甲酸乙酯。藉由使用在這些素材中事先揉進炭黑或者苯胺黑之類的黑色著色料的光學濃度為2以上、較佳為4以上的高遮光性物質，能夠得到更優異的遮光效果。
基材膜厚度，沒有特殊限定，較佳為12至188微米，更佳為12至75微米。藉由將基材膜的厚度設在上述範圍內，還能適用於小型或者薄型的光學部件。
在使用上述(B)以及(C)方法時，事先在遮光部件表面施以消光加工，形成凹凸。消光加工方法，沒有特別限定，可以使用已知的方法。例如，化學蝕刻法、噴射法、壓光法、壓延法、電暈放電法、電漿放電法、由樹脂與粗面化形成劑形成的化學消光法等。這其中，從控制形狀的容易性和經濟性、操作性等觀點，較佳為使用噴射法，特別係噴砂法。
在噴砂法中，藉由使用的研磨劑的粒徑或者噴砂壓力等，能夠控制表面的Ra以及Rp-Rv值。另外，在壓光法中，藉由 調整壓光輪形狀或者壓力，能夠控制表面的Ra以及Rp-Rv值。
另外，根據遮光部件之用途，還可以係在藉由(B)方法的在表面形成有凹凸的基材膜上，不形成後述的遮光層，而係作為使凹凸部露出表面的遮光部件使用。
(2)固定層
為提高基材膜與遮光層的黏接性，在上述基材膜的至少一方的面上設置遮光層之前，還可以設置固定層。作為固定層，可使用尿素類樹脂層、三聚氰胺類樹脂層、聚氨酯類樹脂層、聚酯類樹脂等。例如聚氨酯類樹脂層可以藉由在基材膜表面塗敷含有聚異氰酸酯和二胺、二醇等的含活性氫的化合物溶液，使其固化而製得。另外，尿素類樹脂、三聚氰胺類樹脂的情形時，可以藉由於基材表面塗敷含有水溶性尿素類樹脂或者水溶性三聚氰胺類樹脂的溶液，使其固化而製得。聚酯類樹脂，可以在基材表面塗敷由有機溶劑(甲基乙基酮、甲苯等)溶解或者稀釋的溶液，使其乾燥後而製得。
(3)遮光層
如上所述，除了作為將藉由(B)方法而在基材膜表面形成的凹凸部露出的構成的遮光部件的情形以外，在基材膜的至少一方的面上形成遮光層。作為遮光層，有以上述(A)以及(C)方法中使用的含有消光劑的遮光層和(B)方法中使用的不具有消光劑的遮光層(高硬度層、薄膜)。
以下說明各自的遮光層的構成。
1)含有消光劑的遮光層
作為遮光層之構成成分，包括樹脂成分、消光劑以及著色．導電劑。
樹脂成分係消光劑以及著色．導電劑的黏合劑。樹脂成分的材料沒有特別限定，可以使用熱可塑性樹脂以及熱固化性樹脂之任意一種。作為具體的熱固化性樹脂，可以例舉丙烯類樹脂、聚氨酯類樹脂、苯酚類樹脂、三聚氰胺類樹脂、尿素類樹脂、鄰苯二甲酸二丙烯酯樹脂、不飽和聚酯類樹脂、環氧類樹脂、醇酸類樹脂等。另外，作為熱可塑性樹脂，可以例舉聚丙烯酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、丁縮醛樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物樹脂等。從耐熱性、耐濕性、耐溶劑性以及表面硬度的觀點，較佳為使用熱固化性樹脂。作為熱固化性樹脂，從柔軟性和被膜的強韌考慮，特別佳為丙烯酸樹脂。
藉由添加固化劑作為遮光層的構成成分，能夠促進樹脂成分的交聯。作為固化劑，可以使用帶有官能團之尿素化合物、三聚氰胺化合物、異氰酸鹽化合物、環氧化合物、氮丙啶化合物、噁唑啉化合物等。這其中特別佳為異氰酸鹽化合物。固化劑之配合比例，較佳為相對於樹脂成分100重量%為10至50重量%。藉由於上述範圍內添加固化劑，能夠得到更合適硬度之遮光層，即使與其他部件滑動的情形下，也能長期維持遮光層的Ra以及Rp-Rv值，保持優異的遮光特性。
在使用固化劑的情況下，為了促進反應，還可以併用反 應催化劑。作為反應催化劑，可以例舉氨或者氯化銨等。反應催化劑之配合比例，較佳為相對於固化劑100重量%為0.1至於10重量%的範圍。
作為消光劑，可以使用樹脂類粒子，還可以使用無機類粒子。作為樹脂類粒子，可例舉三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺/三聚氰胺/福馬林縮聚物、丙烯樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂、矽酮樹脂等。另一方面，作為無機粒子可以例舉如矽石、釩土、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦等。這些樹脂類粒子或者無機類粒子可以單獨使用，也可以二種以上組合使用。
消光劑之平均粒徑、粒度分佈以及含有量，隨著所設定之遮光層的膜厚或者基材膜的表面的凹凸形狀的程度不同而不同，使遮光部件的表面得到所需要的Ra值以及Rp-Rv值而進行調整。(A)方法時，例如於表面平滑的基材膜上形成2至35微米膜厚的遮光層的情形時，通常消光劑的平均粒徑較佳為1至40微米，另外遮光層的膜厚為4至25微米時，消光劑的平均粒徑較佳為5至20微米。
(C)方法之情形時，例如在具有凹凸形狀的基材膜上形成1至10微米的遮光層時，消光劑的平均粒徑較佳為2至15微米，而遮光層的膜厚為2至7微米時，消光劑的平均粒徑較佳為2至10微米。
消光劑之粒度分佈，根據遮光層的膜厚與所選擇的消光 劑的大小的組合而不同，不能一概而論，但較佳為盡可能為尖峰。另外還可以使用平均粒徑以及粒度分佈不同的多種消光劑，調整Ra以及Rp-Rv值。
消光劑之添加量取決於消光劑的平均粒徑、粒度分佈以及遮光層膜厚，在(A)方法時，較佳為相對於遮光劑全體100重量%為20重量%至80重量%。另外(C)方法時，較佳為1至40重量%。
藉由控制基材膜的表面形狀以及消光劑的平均粒徑、粒度分佈和含有量，還有遮光層的膜厚等，將遮光層表面的Ra值調整到0.5微米以上，且將Rp-Rv值調整到不足3，則即使很薄也能發揮優異的遮光特性。具體地，已經確認出如上所述藉由控制遮光層表面的Ra值和Rp-Rv值，則對於60°的入射角度的入射光，光澤度在3%以下。
另外，關於消光劑的形狀沒有特殊限定，但考慮塗敷液的流動特性和塗敷性、所得到之遮光層的滑動特性等，較佳為球狀的消光劑。進而，為了抑制光的反射，還可以根據需要，利用有機類或者無機類著色劑將消光劑著色為黑色。具體的著色劑，可以例舉如炭黑、苯胺黑、奈米碳管等。使用被炭黑著色了的消光劑，且將炭黑等添加到遮光層中作為著色．導電劑，能夠得到更優異的遮光特性。
作為著色．導電劑，通常使用炭黑等。由於添加著色．導電劑，使遮光層被著色，所以遮光性提高，且能夠得到良好的帶 電防止效果。
著色．導電劑的平均粒徑較佳為1奈米至1000奈米，更較佳為5奈米至500奈米。藉由使著色．導電劑的粒徑在上述範圍內，能夠得到更優異的遮光特性。
另外，著色．導電劑之含有量，較佳為相對於遮光層全體100重量%為9重量%至38重量%。藉由使著色．導電劑的含量在上述範圍內，能夠得到更優異的遮光特性。
於本發明中，作為遮光層的構成成分，還可以根據需要，進一步添加均化劑、增黏劑、pH調整劑、潤滑劑、分散劑，消泡劑等。
作為潤滑劑，可以使用固體潤滑劑的聚四氟乙烯(PTFE)粒子，此外，還可以使用聚乙烯類蠟、矽酮粒子等。
於有機溶劑或者水中，添加上述構成成分，藉由混合攪拌，能夠調製均勻的塗敷液。作為有機溶劑可以例舉如，甲基乙基酮、甲苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等。
將所得到之塗敷液直接塗敷到基材膜表面或者塗敷到事先形成的固定層上，經乾燥，形成遮光層。塗敷方法沒有特別限定，可以使用輥塗法或者刮刀法等。這裡，可以根據塗敷液的濃度以及使用量，乾燥時的風量等的塗膜製造條件，控制Ra值以及Rp-Rv值。
本發明之遮光層厚度，較佳為2微米至35微米。特別 係在含有消光劑時，在(A)方法時，遮光層之厚度較佳為2微米至30微米，更佳為4微米至25微米。另外(C)方法時，遮光層的厚度較佳為1微米至10微米，更佳為2微米至7微米。
遮光層厚度設在上述範圍內，能夠得到所需要之遮光性和滑動性。另外，含有消光劑的遮光層的厚度係從膜基材表面開始到從遮光層的消光劑中不突出的基質部的高度。上述遮光層的厚度基於JISP8118進行測定。
實施例
以下藉由實施例詳細說明本發明，但本發明不受這些實施例的限制。另外，於實施例中，沒有特別記載的情形下，「%」以及「份」表示重量%或者重量份。
(遮光層的構成成分)
(a)樹脂
(a1)丙烯酸樹脂：ACRYDIC A814、DIC股份有限公司製
(a2)聚氨酯樹脂：HYDRAN AP-40、DIC股份有限公司製
(b)固化劑
TDI類型聚異氰酸酯：CORONATE L、東曹股份有限公司製
(c)著色．導電劑
(c1)炭黑：NX-592黑，大日精化工業股份有限公司製
(c2)炭黑：GPIblack#4613，御國色素股份有限公司製
(d)消光劑
(d1)丙烯酸填料：MX-500(平均粒徑：5微米)綜研化學股份 有限公司製
(d2)丙烯酸填料：MX-1000(平均粒徑：10微米)綜研化學股份有限公司製
(d3)丙烯酸填料：MX-1500H(平均粒徑：15微米)綜研化學股份有限公司製
(d4)丙烯酸填料：MX-2000(平均粒徑：20微米)綜研化學股份有限公司製
(d5)丙烯酸填料：MX-300(平均粒徑：3微米)綜研化學股份有限公司製
(e)潤滑劑
高結晶聚乙烯蠟：HIGHTECH E-3500東邦化學工業股份有限公司製
(實施例1至6，比較例1至4)
按照表1所示配比(重量)將上述樹脂、固化劑、著色導電劑以及消光劑加入到溶劑中，混合攪拌得到塗敷液。這裡，作為溶媒使用甲基乙基酮和甲苯。
將厚度為50微米的聚乙烯膜(Lumirror X30、東麗股份有限公司製)作為基材膜，在一個面上塗敷了塗敷液後，於100℃乾燥2分鐘，形成遮光層。另外，於實施例1至6以及比較例1至4中，樹脂、固化劑、著色．導電劑的種類以及含有率都完全相同，只改變消光劑的種類，調製塗敷液。另外，實施例2以及比較例1、 實施例3、4以及比較例2、實施例5、6、比較例3以及4中，使用同樣的塗敷液，藉由改變塗敷時的WET厚度以及乾燥時的乾燥機的風量，得到不同形狀之遮光層。具體地，決定乾燥機的風量的變換器的旋轉數，在實施例2、3、5及比較例4中為1000rpm，在比較例1至3中為600rpm，使風量緩和，進行乾燥，在實施例1、4、6中為1400rpm，加強風量進行乾燥。
測定所得到之遮光部件以及遮光層的膜厚、Ra值、Rp-Rv值、對於60°入射角的入射光的光澤度，結果示於表1。
Figure 106131617-A0305-02-0018-1
對於入射角度為60°入射光的光澤度的測定按照JIS Z8741，測定了對於入射角為60°的鏡面光澤度。
(實施例7、8、9以及比較例5)
對厚度為50微米的黑色聚對苯二甲酸乙酯(Lumirror X30)的兩面進行噴砂消光加工，形成表面凹凸。將在噴砂消光加工的狀態下在表面不塗敷塗膜的試樣作為實施例7。
接著以表2所示的配合比(重量)，在溶劑中加入樹脂、固化劑、著色．導電劑、消光劑、潤滑劑，攪拌混合得到塗敷液。 這裏，作為溶劑，使用水和異丙醇的混合溶液。將得到之塗敷液，塗敷到兩面經噴砂消光加工的上述黑色聚對苯二甲酸乙酯基材膜的各個面上後，在110℃乾燥2分鐘，形成遮光層(實施例8、實施例9以及比較例5)。另外，實施例8中係在上述(B)方法得到的遮光層中不含消光劑的構成，實施例9係在上述(C)方法得到的、在表面具有凹凸的基材上設置含有消光劑的遮光層的構成。另外，作為比較，除了縮短噴砂消光加工時的消光處理時間，改變聚對苯二甲酸乙酯的表面粗糙度之外，其他與實施例8同樣，製作形成遮光層的試樣(比較例5)。
所得到之遮光部件以及遮光層的Ra值、Rp-Rv、對於60°的入射角的入射光的光澤度的測定結果示於表2。另外，在實施例8、實施例9以及比較例5中，遮光層的平均膜厚的測定結果也示於表2。
Figure 106131617-A0305-02-0019-2
由表1可知，藉由使用不同種類的消光劑，能夠改變遮光層的膜厚、表面之Ra值以及Rp-Rv值。另外，比較實施例2 以及比較例1、實施例3、4以及比較例2、實施例5、6、比較例3以及4，確認出使用同一塗敷液，即使消光劑種類相同，也可以藉由改變遮光層的膜厚以及製造條件，控制表面的Ra值以及Rp-Rv。這裡，比較使用了同樣的塗敷液的實施例以及比較例，得知Rp-Rv值越低，則相對於60°的入射角度的入射光的光澤度越低，遮光性提高。
第3圖顯示了遮光部件表面的Rp-Rv值與對於入射角度為60°的入射光的光澤度的關係的結果。由該結果可顯而易見地得知遮光部件表面之Rp-Rv值越小，對於入射角度為60°的入射光的光澤度具有減少的傾向。另外，可知Rp-Rv值在3附近時，則對於入射角為60°的入射光的光澤度為3以下，具有非常優異的遮光性。Rp-Rv值超過3，則對於入射角為60°的入射光的光澤度就急劇上升，遮光性低下。因此，認為將遮光部件表面的Rp-Rv值設為不滿3係重要的。這裡如果Ra值在0.5微米以上，藉由使Rp-Rv值為不滿3，則能夠發揮優異的遮光性。
另外，在表中沒有記載，表1所示之實施例以及比較例的試樣的表面硬度都在H以上。對專利文獻1之實施例的遮光部件的表面硬度的測定結果係B，由此可以確認出本實施也實現了遮光層的高硬度化。
如表2所示，將形成凹凸的膜基材直接作為遮光部件使用的實施例7中，Ra值為0.68微米、Rp-Rv值為0.9，對於入射角度為60°的入射光的光澤度為2.4%。在表面覆蓋有不含有消光 劑的遮光層的實施例8中，Ra值為0.76微米，Rp-Rv值為1.2，對於入射角度為60°的入射光的初期光澤度為2%。進而在形成有凹凸的膜基材的表面，覆蓋含有消光劑的遮光層的實施例9中，Ra值為0.58微米，Rp-Rv值為1.1，對於入射角度為60°的入射光的初期光澤度為2.9%。與此相對，在Ra值為0.41和表面凹凸較少的比較例5中，Rp-Rv值為0.7，對於入射角度為60°的入射光的光澤度為6.9%。由此確認出為了獲得優異的遮光性，必須係Ra值在指定值以上，且Rp-Rv值控制很低。具體地，與遮光部件的構成無關，藉由控制Ra值在0.5微米以上，Rp-Rv值不滿3，則光澤度為3%以下，能夠得到優異的遮光特性。另外，表中沒有示出，但無論在哪種構成中，即使Ra值在0.5微米以上，Rp-Rv值大到3以上，則不能得到良好的遮光性。
由以上結果可確認出將表面的JIS B0601：2001的算術平均粗糙度Ra設為0.5微米以上，且最大波峰Rp與最大波谷Rv的差(Rp-Rv)不足3時的本發明的遮光部件的優異性。
產業上之使用可能性
本發明之遮光部件，可以應用於特別係照相機、投影儀以及攝像機、影印機、光學物性測量機(光澤計等)的光學設備的內壁面、柔性印刷基板、快門、虹膜(光圈)、隔片等。另外，還可以用於手錶、玩具等。
1:遮光部件
2:基材膜
3:遮光層
31:消光劑
32:基質部

Claims (2)

  1. 一種光學設備用遮光部件，其中，其具有基材膜及形成於該基材膜的至少一個面上之遮光層；該遮光層含有樹脂成分及消光劑；該遮光層的表面的基於JIS B0601：2001測出的算術平均粗糙度Ra為2微米以上，且最大波峰Rp與最大波谷Rv之差(Rp-Rv)小於3微米；依照JIS K5600測出的表面硬度在H以上；動摩擦係數為0.42以下；對於該遮光層的表面，將含浸甲基乙基酮的脫脂棉以每3平方公分(cm2)250公克(g)的負荷，按照200毫米(mm)/秒使其往復滑動20次，往復滑動前後的光學濃度差在1.5以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學設備用遮光部件，其中，該遮光層的平均膜厚為2微米至35微米。
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