TWI704236B - 鉬合金靶材及其製法及鉬合金層 - Google Patents

Abstract

本創作提供一種鉬合金靶材及其製法及鉬合金層。該鉬合金靶材包括鉬及第一添加金屬，該第一添加金屬含有錸、釕或其組合；以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比。藉由控制鉬合金靶材之組成、選用特定氧含量的鉬粉與控制燒結條件，能製得具有特定組成、兩相以上之金相、低氧含量及高相對密度的鉬合金靶材，藉此令其所濺鍍而成之鉬合金層兼具良好的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性等特點，從而能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

Description

鉬合金靶材及其製法及鉬合金層

本創作關於一種磁記錄媒體之靶材、其製法及材料層，尤指一種可適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體的鉬合金靶材及鉬合金層。

磁記錄媒體係磁性材料之其中一種應用，主要用於資料的備份與儲存。根據磁頭磁化的方向，現有技術之磁記錄媒體可區分為水平式磁記錄媒體及垂直式磁記錄媒體。其中，水平式磁記錄媒體之熱傳效果已發展至極限，故現有技術轉而投入垂直式磁記錄媒體之研究。尤其，因熱輔助垂直式磁記錄(heat-assisted magnetic recording，HAMR)媒體能加大儲存容量，故受到相關領域的關注。

一般熱輔助垂直式磁記錄媒體之層狀結構由下至上包含基板、附著層(adhesion layer)、軟磁層(soft under layer)、散熱層(heat sink layer)、中間層(inter layer)、記錄層(recording layer)、覆蓋層(overcoat)，其中散熱層可提升磁記錄媒體之熱傳效果。

現有技術之散熱層多半選用鉬為主要成分，且為提升散熱層的耐熱性及耐腐蝕性，現有技術多半會於散熱層中摻入如鉻之高熔點的添加金屬；然而，由於這些高熔點的添加金屬同時具有高氧化性，易與氧反應形成氧化物，從而導致所製得之鉬合金靶材會於濺鍍時產生異常微粒或放電等問題，且濺鍍後的鉬合金層也會因氧含量過高存在表面粗糙度過高之缺陷，致使難以具體提升熱輔助垂直式磁記錄媒體的熱傳效果，故目前實有必要改良及開發其他散熱層材料以改善前述問題。

有鑑於上述技術缺陷，本創作一目的在於開發一種鉬合金靶材，利用該鉬合金靶材所濺鍍而成的鉬合金層能兼具良好的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性等特點。

本創作另一目的在於開發一種鉬合金靶材，其所濺鍍而成的鉬合金層能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中。

為達成前述目的，本創作提供一種鉬合金靶材，其包括鉬及一第一添加金屬，該第一添加金屬含有錸、釕或其組合；以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比；其中該鉬合金靶材之金相相數大於或等於兩相，該鉬合金靶材之氧含量小於或等於600 ppm。

據此，藉由控制鉬合金靶材之組成、氧含量及金相相數，本創作之鉬合金靶材所濺鍍而成的鉬合金層能兼具良好的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性，使鉬合金層能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

除了前述第一添加金屬之外，於其中一實施態樣中，該鉬合金靶材可進一步包含有一第二添加金屬，所述第二添加金屬含有鉻(chromium，Cr)、鉭(tantalum，Ta)、鎢(tungsten，W)、鈮(niobium，Nb)、釩(vanadium，V)或其組合，但並非僅限於此。

於其中一實施態樣中，以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第二添加金屬之總含量大於0原子百分比且小於或等於3原子百分比，該第一添加金屬及該第二添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比。

較佳的，以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第一添加金屬之含量大於或等於4原子百分比且小於或等於10原子百分比。

較佳的，所述鉬合金靶材的氧含量小於或等於500 ppm。

較佳的，所述鉬合金靶材之相對密度大於或等於98%；更佳的，所述鉬合金靶材之相對密度大於或等於98.5%；再更佳的，所述鉬合金靶材之相對密度大於或等於99%。據此，本創作之鉬合金靶材另有高相對密度之優點。

為達成前述目的，本創作另提供一種鉬合金靶材之製法，其包括以下步驟：混合一鉬粉及一第一添加金屬，獲得一混合粉末，其中該第一添加金屬含有錸、釕或其組合，其中該鉬粉的氧含量小於或等於1500 ppm；以該混合粉末之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比；於1000 ^°C至1500 ^°C之燒結溫度下，持續燒結該混合粉末1小時以上，以得到一燒結塊；以及以線切割及車床加工該燒結塊，以製得該鉬合金靶材。

據此，藉由選用特定氧含量的鉬粉與控制燒結條件，本創作之鉬合金靶材能兼具特定組成、低氧含量及金相相數存在兩相以上等特點，故本創作之鉬合金靶材所濺鍍而成的鉬合金層能兼具良好的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性，使鉬合金層能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

較佳的，所述混合粉末的粒徑大於或等於10微米且小於或等於100微米。

較佳的，所述鉬粉的氧含量大於或等於800 ppm且小於或等於1500 ppm；更佳的，所述鉬粉的氧含量大於或等於800 ppm且小於或等於1300 ppm；再更佳的，所述鉬粉的氧含量大於或等於800 ppm且小於或等於1000 ppm。

較佳的，所述燒結溫度大於或等於1050 ^°C且小於或等於1450 ^°C；較佳的，所述燒結時間大於或等於2小時且小於或等於5小時。

較佳的，本創作之混合粉末可選擇本領域技術人員習知的燒結方法進行燒結，例如熱壓成形法(hot press，HP)、熱均壓成型法(hot isostatic pressing，HIP)或其組合，但並非僅限於此。

於其中一實施態樣中，所述混合粉末可進一步包含一第二添加金屬，該第二添加金屬含有鉻、鉭、鎢、鈮、釩或其組合，但並非僅限於此。

較佳的，以該混合粉末之原子總數為基準，該第二添加金屬之總含量大於0原子百分比且小於或等於3原子百分比，該第一添加金屬及該第二添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比。

較佳的，以該混合粉末之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於4原子百分比且小於或等於10原子百分比。

為達成前述目的，本創作另提供一種鉬合金層，其係由如前述鉬合金靶材所濺鍍而成。

據此，藉由使用本創作之鉬合金靶材所濺鍍而成之鉬合金層，亦能具有類似鉬合金靶材之組成及低含氧量之特性，故本創作之鉬合金層能兼具導熱性、耐熱性及耐腐蝕性等特點，使其得以適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體作為散熱層使用。

就鉬合金層之組成而言，以該鉬合金層之原子總數為基準，該第二添加金屬之總含量大於0原子百分比且小於或等於3原子百分比，該第一添加金屬及該第二添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比。

較佳的，以該鉬合金層之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於4原子百分比且小於或等於10原子百分比。

較佳的，所述鉬合金層的表面粗糙度(Ra)係小於或等於1.5奈米；更佳的，所述鉬合金層的表面粗糙度係小於或等於1.45奈米；再更佳的，所述鉬合金層的表面粗糙度係小於或等於1奈米。相較於現有技術之散熱層，本創作能具體解決以往散熱層存在表面粗糙度過高而缺乏良好導熱性之問題，從而使本創作之鉬合金層能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

為驗證鉬合金靶材之組成及鉬合金靶材的製程參數對該鉬合金靶材所濺鍍而成之鉬合金層的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性之影響，以下列舉數種具有不同組成之鉬合金靶材作為實施例，說明本創作之實施方式，另結合其他鉬合金靶材作為比較例，說明各實施例與比較例之特性差異；熟習此技藝者可經由本說明書之內容輕易地了解本創作所能達成之優點與功效，並且於不悖離本創作之精神下進行各種修飾與變更，以施行或應用本創作之內容。

鉬合金靶材

實施例1至10、比較例1至9之鉬合金靶材係各自取用適量的第一添加金屬(例如錸、釕)及第二添加金屬(例如鉻、鉭)等原料，依如下所述之製法所製得。於下表1中，鉬合金靶材中各成分的含量單位以原子百分比(at%)表示。

首先，於鉬合金靶材的製作過程中，係先依下表1所示之組成，秤取適量的鉬粉(其氧含量小於1500 ppm)、第一添加金屬粉及第二添加金屬粉，進行滾動混粉，得到混合粉末，其中該混合粉末的粒徑為25微米。

接著，將混合粉末填入石墨模具中，經由熱壓成形法(hot press，HP)及熱均壓成型法(hot isostatic pressing，HIP)，於1050°C至1450°C之燒結溫度、250至2000 bars之燒結壓力以及惰性氣體(如氬氣)形成之保護氣氛下持溫燒結60至300分鐘，以獲得燒結塊。

最後，將前述燒結塊進行線切割與電腦數值控制(computer numerical control，CNC)車床加工等步驟後，形成直徑165毫米以上、厚度4毫米以上的圓餅形鉬合金靶材。

於此，製作各實施例和比較例之鉬合金靶材的製程參數如下表1所示。於下表1中所列之燒結溫度係指HP和HIP二者的溫度條件，燒結時間係指HP和HIP二者的總燒結時間。

試驗例 1 ：氧含量

本試驗例係以各實施例和比較例所選用之鉬粉原料及所製得之鉬合金靶材作為待測樣品，使用氮氣分析儀(儀器型號：EMGA-620W，購自堀場股份有限公司)分析前述製備實施例1至10及比較例1至9之鉬合金靶材所用之鉬粉原料的氧含量以及實施例1至10及比較例1至9之鉬合金靶材的氧含量。

取50至100毫克之待測樣品放置於石墨坩堝中，於持續通氦氣的氣氛下進行加熱燃燒，使前述待測樣品中的氧含量轉化為一氧化碳，最後再以非分散紅外吸收法進行檢測，得到各待測樣品的氧含量，其結果係如下表1所示。

如下表1所示，製備實施例1至10之鉬合金靶材所用的鉬粉原料的氧含量皆可控制在小於1500 ppm；反之，製備比較例2及7之鉬合金靶材所用的鉬粉原料的氧含量超出1500 ppm。

再比較鉬合金靶材的氧含量可見，如下表1所示，實施例1至10之鉬合金靶材相較於比較例1至9之鉬合金靶材皆具有較低的氧含量，且實施例1至10之鉬合金靶材的氧含量皆可控制在600 ppm以下。也就是說，根據氮氣分析儀的分析結果可見，藉由控制鉬合金靶材的組成、選用特定氧含量的鉬粉與控制燒結條件能有利於降低鉬合金靶材的氧含量。

此外，再比較實施例1至10之鉬合金靶材的氧含量可見，當鉬合金靶材中僅含有4 at%至10 at%之單獨一種的第一添加金屬(即僅含有錸或釕其中一種)且未含有第二添加金屬時，能進一步降低鉬合金靶材的氧含量，使實施例4、5、7、9、10之鉬合金靶材的氧含量降低至500 ppm以下。

試驗例 2 ：相對密度

於本試驗例中使用阿基米德法量測相對密度，於前述實施例1至10及比較例1至9之鉬合金靶材分別以線切割方式裁切成約20毫米×20毫米×4毫米之各待測樣品，將前述各待測樣品浸入水中，水溫設定於25°C下，量測各待測樣品之密度，並分別以各鉬合金靶材之理論密度為基準，得到各鉬合金靶材的相對密度，其結果係如下表1所示。

如下表1所示，實施例1至10之鉬合金靶材相較於比較例1至9之鉬合金靶材皆具有較高的相對密度，具體來說，實施例1至10之鉬合金靶材的相對密度皆可控制在98%以上，實施例1至7、9、10之鉬合金靶材的相對密度更可控制在98.5%以上，但比較例2至9之鉬合金靶材的相對密度皆未能達到98%。也就是說，控制鉬合金靶材的組成及其製程參數能有效提升鉬合金靶材的相對密度。

試驗例 3 ：金相相數

於本試驗例中，先以線切割方式將前述各鉬合金靶材中取大小約10毫米×10毫米之試片，將各試片進行研磨拋光，再使用掃描式電子顯微鏡(儀器型號：JEOL S-3400N SEM)觀察各試片的金相微結構，並將各試片所觀察得到的金相相數列於下表1所示。

如下表1所示，實施例1至10之鉬合金靶材的金相相數皆可控制在兩相以上，相較於比較例1、2、5、9之鉬合金靶材的金相相數皆僅為一相。

此外，本說明書中另以實施例5、比較例2之鉬合金靶材分別作為實施例和比較例之代表進行示例說明，由圖1A至圖1B的比較結果可見，實施例5之鉬合金靶材的金相微結構並未觀察到有孔洞存在，反觀圖1B卻可明顯觀察到比較例2之鉬合金靶材存在孔洞，致使比較例2之鉬合金靶材的相對密度較低，僅有95.8%。 表1：實施例1至10及比較例1至9之鉬合金靶材的組成、製程參數及特性分析結果和鉬合金層的特性分析結果。

	鉬合金靶材的組成	鉬合金靶材的製程參數	鉬合金靶材的特性分析	鉬合金層的特性分析
	Mo (at%)	第一添加金屬	第二添加金屬	鉬粉 氧含量(ppm)	燒結 時間 (小時)	燒結 溫度 (°C)	氧含量(ppm)	相對 密度 (%)	金相 相數	耐熱性評估	耐腐蝕性評估	表面 粗糙度(奈米)
	Ru (at%)	Re (at%)	Cr (at%)	Ta (at%)
實施例1	97	3	-	-	-	1393	3	1050	597	98.9	2	△	△	1.48
實施例2	93	5	-	2	-	1327	3.5	1300	539	99.0	2	△	△	1.38
實施例3	90	8	-	-	2	1280	2.5	1150	510	98.5	2	O	O	1.45
實施例4	90	10	-	-	-	1244	4	1100	488	98.3	2	O	O	1.30
實施例5	96	-	4	-	-	1053	3	1300	398	99.6	2	O	△	1.12
實施例6	94	-	4	2	-	1391	3.5	1100	558	98.6	3	O	△	1.35
實施例7	93	-	7	-	-	1402	5	1100	325	99.2	2	O	O	0.82
實施例8	92	1	5	2	-	1335	2	1450	502	98.4	3	O	O	0.91
實施例9	90	-	10	-	-	1159	3	1200	387	98.5	2	O	O	0.55
實施例10	90	1	9	-	-	1310	3.5	1200	417	98.7	3	O	O	0.72
比較例1	98	2	-	-	-	1420	5	1025	842	98.1	1	X	X	2.08
比較例2	98	-	-	2	-	1532	3	1000	950	96.1	1	X	X	2.44
比較例3	93	5	-	2	-	1375	1	1300	784	95.5	3	△	X	1.58
比較例4	92	3	-	5	-	1466	1.5	1400	922	97.5	2	△	X	1.91
比較例5	99	-	1	-	-	1349	1.5	1150	783	95.8	1	X	X	2.10
比較例6	98	-	2	-	-	1297	1.5	1200	631	96.3	2	X	X	1.71
比較例7	88	-	4	-	8	1551	3	1025	852	96.5	3	△	X	2.81
比較例8	90	-	3	7	-	1447	1.5	1450	1031	97.3	2	△	X	2.23
比較例9	98	1	-	-	1	1330	1.5	1300	679	96.4	1	X	X	2.35

鉬合金層

實施例1至10及比較例1至9之鉬合金層係各自取用前述實施例1至10及比較例1至9之鉬合金靶材，依如下所述之製法所製得。

首先，將前述各鉬合金靶材以線切割與CNC車床加工得到直徑3英吋、厚度4毫米的待測樣品。接著，將各待測樣品放置於磁控濺鍍機台中，先進行預濺鍍，以對各待測樣品之表面進行除汙；再於持續通有30 sccm的氬氣流量、壓力為3 mtorr之環境下，設定150 W的濺鍍功率，以磁控濺鍍法分別濺鍍各待測樣品長達150秒，藉以於面積為20毫米×20毫米之多晶矽基板上濺鍍形成各實施例及各比較例之鉬合金層，其厚度為約120至140奈米。

試驗例 4 ：導熱性

於本試驗例中，以前述各鉬合金層(大小約20毫米×20毫米)作為本試驗例的分析對象，使用原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope，AFM；儀器型號：Veeco DI-3100；雷射光源強度：1.0 mW；雷射光源最大波長：670 nm；探針購自Nanoworld)分析各鉬合金層的表面粗糙度(Ra)，使探針針尖與前述各鉬合金層的表面原子力進行交互作用，使探針針臂因此產生偏折，再使用雷射光照射探針針臂背面，藉此紀錄雷射光受到探針針臂偏移的情形；最後，將前述所分析的偏移情形，再使用電路回饋及電腦繪圖分析各鉬合金層的表面起伏，即量測得到前述各鉬合金層的表面粗糙度，其結果係如上表1所示。於此，藉由控制鉬合金層的組成，其表面粗糙度與其導熱性之間呈現負相關，即其表面粗糙度越低代表其導熱性越佳。

如上表1所示，實施例1至10之鉬合金層的表面粗糙度皆小於1.5奈米，明顯低於比較例1至9之鉬合金層的表面粗糙度。由此可見，利用本創作之鉬合金靶材所濺鍍而成的鉬合金層皆能具有較低的表面粗糙度。

由試驗例4之實驗結果證實，實施例1至10之鉬合金層皆能具有低於比較例1至9之鉬合金層的表面粗糙度，故實施例1至10之鉬合金層應能獲得良好的導熱性，使其能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體作為散熱層使用。

試驗例 5 ：耐熱性

於本試驗例中，先將前述各鉬合金層(大小約20毫米×20毫米)放置於壓力低於10 ^-6torr之真空環境下，再於500°C下持溫放置2小時進行高溫測試；而後再使用原子力顯微鏡，經由如前述試驗例4所述之分析方法，得到各鉬合金層經過高溫測試後的表面粗糙度。

本試驗例中係以高溫測試前、後的鉬合金層的表面粗糙度之增加程度作為評估鉬合金層的耐熱性之依據。當高溫測試後的鉬合金層的表面粗糙度相較於高溫測試前之鉬合金層的表面粗糙度(即，試驗例4所測得之表面粗糙度)的增加程度小於10%，表示鉬合金層的耐熱性極佳，於上表1中標示「O」；當鉬合金層的表面粗糙度相較於測試前的增加程度落在10%至20%之範圍內，表示鉬合金層的耐熱性良好，於上表1中標示「△」；當鉬合金層的表面粗糙度相較於測試前的增加程度大於20%，表示鉬合金層的耐熱性差，於上表1中標示為「X」。

如上表1所示，實施例1至10之鉬合金層皆具有良好的耐熱性，尤其，實施例3至10之鉬合金層更具有極佳的耐熱性；相較之下，如上表1所示，比較例1、2、5、6、9之鉬合金層的耐熱性皆差，無法適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

試驗例 6 ：耐腐蝕性

於本試驗例中，先將前述各鉬合金層(大小約20毫米×20毫米)放置於壓力為760 torr之一般環境下，再於濕度85%，100°C下持溫放置120小時進行測試；而後再以肉眼觀察各鉬合金層的變色面積，藉此評估鉬合金層的耐腐蝕性。

本試驗例中係以高溫高濕測試後的鉬合金層的變色面積占鉬合金層的總面積作為評估鉬合金層的耐腐蝕性之依據。當高溫高濕測試後的鉬合金層的變色面積占其總面積的比例小於20%，表示鉬合金層的耐腐蝕性極佳，於上表1中標示「O」；當鉬合金層的變色面積占其總面積的比例落在20%至50%之範圍內，表示鉬合金層的耐腐蝕性良好，於上表1中標示為「△」；當鉬合金層的變色面積占其總面積的比例大於50%，且有剝落的現象，表示鉬合金層的耐腐蝕性差，於上表1中標示為「X」。

如上表1所示，實施例1至10之鉬合金層皆具有良好的耐腐蝕性，尤其，實施例3、4、7、10之鉬合金層更具有極佳的耐腐蝕性；相較之下，比較例1至9之鉬合金層的耐腐蝕性皆差，無法適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

綜合上述試驗例1至6之分析結果，藉由控制鉬合金靶材之組成、選用特定氧含量的鉬粉與控制燒結條件，能成功製得具有特定組成、兩相以上之金相及低氧含量的鉬合金靶材；故利用此種鉬合金靶材所濺鍍而成的鉬合金層能兼具良好的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性等特點，從而使本創作之鉬合金層能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

此外，即便於鉬合金靶材中進一步添加適量的第二添加金屬，藉由控制鉬合金靶材之組成、選用特定氧含量的鉬粉與控制燒結條件，也能成功製得具有特定組成、兩相以上之金相及低氧含量的鉬合金靶材；故其所濺鍍而成的鉬合金層也能兼具良好的導熱性、耐熱性及耐腐蝕性等特點，故能適用於熱輔助垂直式磁記錄媒體中作為散熱層使用。

上述之實施例僅係為說明書創作之例示，並非於任何方面限制本創作主張之權利範圍。本創作所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述具體實施例。

無。

圖1A至圖1B依序為實施例5之鉬合金靶材及比較例2之鉬合金靶材的掃描式電子顯微鏡影像圖。

無。

Claims (10)

1. 一種鉬合金靶材，其包括鉬及一第一添加金屬，該第一添加金屬含有錸、釕或其組合；以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比；其中該鉬合金靶材之金相相數大於或等於兩相，該鉬合金靶材之氧含量小於或等於600 ppm。
2. 如請求項1所述之鉬合金靶材，其中該鉬合金靶材包含一第二添加金屬，該第二添加金屬含有鉻、鉭、鎢、鈮、釩或其組合。
3. 如請求項2所述之鉬合金靶材，其中以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第二添加金屬之總含量大於0原子百分比且小於或等於3原子百分比，該第一添加金屬及該第二添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比。
4. 如請求項3所述之鉬合金靶材，其中以該鉬合金靶材之原子總數為基準，該第一添加金屬之含量大於或等於4原子百分比且小於或等於10原子百分比。
5. 如請求項1至4中任一項所述之鉬合金靶材，其中該鉬合金靶材之相對密度大於或等於98%。
6. 一種鉬合金靶材之製法，其包括以下步驟： 混合一鉬粉及一第一添加金屬，獲得一混合粉末，其中該第一添加金屬含有錸、釕或其組合，其中該鉬粉的氧含量小於或等於1500 ppm；以該混合粉末之原子總數為基準，該第一添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比； 於1000 ^°C至1500 ^°C之燒結溫度下，持續燒結該混合粉末1小時以上，以得到一燒結塊；以及 以線切割及車床加工該燒結塊，以製得該鉬合金靶材。
7. 如請求項6所述之製法，其中該混合粉末包含一第二添加金屬，該第二添加金屬含有鉻、鉭、鎢、鈮、釩或其組合。
8. 如請求項7所述之製法，其中以該混合粉末之原子總數為基準，該第二添加金屬之總含量大於0原子百分比且小於或等於3原子百分比，該第一添加金屬及該第二添加金屬之總含量大於或等於3原子百分比且小於或等於10原子百分比。
9. 一種鉬合金層，其係由如請求項1至5中任一項之鉬合金靶材所濺鍍而成。
10. 如請求項9所述之鉬合金層，其中該鉬合金層之表面粗糙度小於或等於1.5奈米。

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