TWI702357B - 接續部封密構造及封密元件 - Google Patents
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Abstract
一種接續部封密構造(1),透過封密元件(31)接續第1接續部(11)與第2接續部(21),其中,使被設於封密元件(31)上之第1及第2內壓接推拔部(31h,31i)的推拔角(θ 11,θ 12),小於被設於第1及第2接續部(11,21)上之第1及第2內推拔部(14a,24a)的推拔角(θ 1,θ 2),藉此,第1及第2內側推拔壓接處(P1,P2)之壓接力,愈接近第1及第2環狀突起(17,27)的基端部(17a,27a)則變得愈大。
Description
本發明係關於一種透過封密元件,以接續第1接續部與第2接續部之接續部封密構造及封密元件。
先前,在半導體製造裝置中,於構成配管或流體控制機器等零件的接續部分上,配置封密元件,以防止流體洩漏到外部。例如專利文獻1及專利文獻2所述之接續部封密構造,係在配管的接續端面形成環狀突起與推拔面,另外,在封密元件形成環狀凹槽與推拔面,壓入環狀突起到環狀凹槽,藉壓接推拔面們以構成之。又,專利文獻1所述之接續部封密構造,係設於封密元件上之推拔面的推拔角,大於設於接續端面上之推拔面的推拔角,推拔面們的壓接處係在接近遠離環狀突起的基端部之流路壁面之位置變得較大。
【專利文獻1】日本專利第4465254號公報
【專利文獻2】日本專利第5134573號公報
但是,在專利文獻1及專利文獻2所述之接續部
封密構造中,有以下之問題。在專利文獻1所述之接續部封密構造中,推拔面們的壓接處,係在接近遠離環狀突起的基端部之流路壁面之位置變得較大。因此,在專利文獻1所述之接續部封密構造中,較大之壓接力施加在接續端面的壁厚較薄之流路壁附近,當流路壁面有往流路中心側撓曲之情形時,專利文獻1所述之接續部封密構造,有使流路變窄,或者,推拔面們的密封力因為撓曲而減少之虞。又,在專利文獻2中,雖然記載有壓入環狀突起到環狀凹槽,接觸推拔面們之情事,但是,針對其推拔形狀及問題點並未明述。
本發明係為解決上述問題點而研發出者,其目的係在於提供一種持續抑制流路之變形,具有較高密封性能之接續部封密構造及封密元件。
本發明之一態樣係具有如下之構造。(1)一種接續部封密構造,其係透過封密元件以接續第1接續部與第2接續部者,其特徵在於:前述第1接續部的接續端面與前述第2接續部的接續端面之兩者或一者係包括:流路壁,具有在前述接續端面開口之開口端部;環狀突起,沿著前述流路壁的前述開口端部的外周形成環狀,沿著前述流路壁的軸線方向突設;以及內組裝凹槽,被設於前述環狀突起的徑向內側;前述封密元件係被形成環狀,在兩端面或一邊的端面上,包括壓入有前述環狀突起之環狀凹槽,其特徵在於:前述內組裝凹槽,係在前述環狀突起的基端部的徑向內側,具有相對於前述環狀突起而言被設成銳角之內推拔部,前述內推拔部係接續在前述流路壁,前述封密元件的內周面,係具有沿著位於前述環狀凹槽開口之端面側上之端部被形成
之內壓接推拔部,前述內壓接推拔部係對應前述內推拔部以傾斜,前述內壓接推拔部的推拔角,係小於前述內推拔部的推拔角。
這種構成之接續部封密構造,係使被設於封密元件上之內壓接推拔部的推拔角,小於被設於接續部上之內推拔部的推拔角,藉此,內壓接推拔部與內推拔部壓接以密封之部分之壓接力,係在環狀突起側較大,在流路側較小。亦即,內壓接推拔部與內推拔部壓接以密封之部分之壓接力,係在接續部之壁厚較厚之部分中,變得較大,在壁厚較薄之部分中,變得較小。藉此,當透過封密元件以接續第1接續部與第2接續部時,接續部係被設於內推拔部與流路壁間之銳角部分的撓曲量變小。因此,當依據上述構成之接續部封密構造時,接續部藉封密元件之推斥力,不使流路壁往徑向內側鼓出較大,因此,可防止或抑制流路變狹窄。而且,內推拔部施加在內壓接推拔部上之面壓,係朝向環狀突起與環狀凹槽壓接處的密封部分產生。因此,產生在內推拔部與內壓接推拔部壓接之內側推拔壓接處、及環狀突起與環狀凹槽內壁密封之封密壓接處之密封力增加。因此,當依據上述構成之接續部封密構造時,可確實防止流體之洩漏,可具有較高之密封性能。
(2)在(1)所述之構成中,最好包括前述內組裝凹槽之前述接續端面,係具有被設於前述環狀突起的徑向外側之外組裝凹槽,前述封密元件係具有相對於前述外組裝凹槽的內壁而言,往徑向外側壓接之外側壓接處,前述外側壓接處係前述內壓接推拔部小於壓接於前述內推拔部上之內側推拔壓接處。
這種構成之接續部封密構造,係使外側壓接處小
於內側推拔壓接處,藉此,例如與使外側壓接處與內側推拔壓接處設為相同之情形相比較下,封密元件之推斥力減少。因此,當依據上述接續部封密構造時,當使第1接續部與第2接續部透過封密元件以接續後,可抑制第1接續部與第2接續部因為封密元件之推斥力而變形,可防止密封力之降低。
(3)在(2)所述之構成中,最好前述外側壓接處之位置,係比前述環狀凹槽的內壁與前述環狀突起所壓接之封密壓接處,還要靠近前述環狀突起的基端部側。
這種構成之接續部封密構造,係往外側壓接處之承受來自外組裝凹槽內壁之面壓,朝向環狀突起與環狀凹槽的內壁所壓接之封密壓接處以產生。因此,密封力增加。藉此,當依據上述構成之接續部封密構造時,可確實防止流體洩漏,可具有較高之密封性能。
(4)在(2)或(3)所述之構成中,最好前述外組裝凹槽係在前述環狀突起的基端部徑向外側,具有相對於前述環狀突起而言,被設成銳角之外推拔部。
這種構成之接續部封密構造,係藉外推拔部,外側壓接處變得很容易倒向環狀突起的基端部側。因此,當依據上述構成之接續部封密構造時,產生在封密壓接處上之面壓增加,所以,即使讓外側壓接處小於內側推拔壓接處,密封力也增加,可確實防止流體洩漏。
(5)在(2)~(4)中任一項所述之構成中,最好前述封密元件的外周面,係具有沿著位於前述環狀凹槽開口之端面側上之端部形成之外壓接推拔部。
這種構成之接續部封密構造,係藉外壓接推拔部,外側壓接處變得更容易倒向環狀突起的基端部側。因此,當依據上述構成之接續部封密構造時,產生在封密壓接處上之面壓增加,所以,即使讓外側壓接處小於內側推拔壓接處,密封力也增加,可確實防止流體洩漏。
(6)在(2)~(5)中任一項所述之接續部封密構造中,前述封密元件係位於徑向外側之外周面,包含被近設於沿著前述外組裝凹槽的前述軸線方向之面上之面。
這種構成之接續部封密構造,係例如重複環狀凹槽與環狀突起之過多裝卸,或者,第1及第2接續部與封密元件暴露於異常之溫度變化。在此情形下,即使外側壓接處之壓接力降低,封密元件的外周面與沿著外組裝凹槽之軸線方向之面也相抵接,封密元件之變形被抑制。此時,幫助外側壓接處被環狀突起側加壓,所以,上述構成之接續部封密構造,係與初期狀態及正常時之溫度變化時同樣地,可確保密封力。
(7)在(1)~(6)中任一項所述之構成中,最好具有在透過前述封密元件之狀態下,固定前述第1接續部與前述第2接續部之夾鉗元件,前述第1接續部與前述第2接續部,係被形成組裝前述夾鉗元件之夾鉗凹槽,呈凸緣形狀,被設於前述第1接續部上之接續端面之形狀,與被設於前述第2接續部上之接續端面之形狀係相同,前述封密元件係前述兩端面之形狀相同。
這種構成之接續部封密構造,係第1及第2接續部藉形成夾鉗凹槽以成凸緣形狀,剛性較低。但是,封密元件
之推斥力被減少。因此,當第1接續部與第2接續部透過封密元件以被接續時,反翹變形被抑制。因此,上述構成之接續部封密構造,係無須加厚第1及第2接續部與夾鉗元件的壁厚以提高剛性,變得小型化。
(8)一種封密元件,被使用於(1)~(7)中任一項所述之接續部封密構造。當依據這種構成之封密元件時,當被配置於第1及第2接續部間時之推斥力被抑制,所以,可以持續抑制被形成於第1及第2接續部上之流路之變形,可發揮較高密封性能。
因此,當依據本發明時,可提供一種持續抑制流路之變形,具有較高密封性能之接續部封密構造及封密元件。
1、1x、1y:接續部封密構造
11、21:第1及第2接續部
12、22:第1及第2接續端面
14、24:第1及第2組裝凹槽
14a、24a:第1及第2內推拔部
14b、24b:第1及第2外推拔部
16、26:第1及第2流路
16a、26a:第1及第2流路壁
16ax、26ax:開口端部
17、27:第1及第2環狀突起
30:密封環
31、31x、31y:密封本體部
31a、31b:第1及第2環狀凹槽
31h、31i:第1及第2內壓接推拔部
31p、31q:第1及第2外壓接推拔部
P1、P2、P1x、P2x:第1及第2內側推拔壓接處
P3、P4、P3x、P4x:第1及第2外側壓接處
θ 1~θ 4、θ 11~θ 14、θ 11x~θ 14x:推拔角
第1圖係本發明第1實施形態之接續部封密構造之剖面圖。
第2圖係第1圖之A部放大圖。
第3圖係本發明第1實施形態之密封環之正面側立體圖。
第4圖係第3圖所示密封環的密封本體部周邊之放大剖面圖。
第5圖係說明第1及第2接續部之接續方法之圖,其中,其係表示暫時固定位置。
第6圖係說明第1及第2接續部之接續方法之圖,其中,其係表示開始壓入時。
第7圖係說明第1及第2接續部之接續方法之圖,其中,其係表示結束壓入時。
第8圖係說明產生在密封本體部的各壓接處上之力關係之圖。
第9圖係表示第1圖所示接續部封密構造之面壓解析結果之圖。
第10圖係表示本發明第2實施形態之接續部封密構造之剖面圖。
第11圖係第2實施形態密封環的密封本體部周邊之放大剖面圖。
第12圖係表示結束壓入第1及第2環狀突起到第1及第2環狀凹槽之作業後之狀態。
第13圖係說明第10圖所示接續部封密構造中之密封部力關係之圖。
第14圖係表示第10圖所示接續部封密構造之面壓解析結果之圖。
第15圖係本發明第3實施形態之接續部封密構造,其中,其係密封本體部周邊之放大剖面圖。
第16圖係第3實施形態密封環之正視圖。
第17圖係第3實施形態密封環之俯視圖。
第18圖係第3實施形態密封環之後側視圖。
第19圖係第3實施形態密封環之右側視圖。
第20圖係第16圖之BB剖面圖。
第21圖係第16圖之CC剖面圖。
第22圖係第16圖之DD剖面圖。
第23圖係第3實施形態密封環之正面側立體圖。
第24圖係密封本體部之第1變形例。
第25圖係密封本體部之第2變形例。
第26圖係密封本體部之第3變形例。
第27圖係密封環變形例之正視圖。
第28圖係第27圖所示密封環之俯視圖。
第29圖係第27圖所示密封環之後側視圖。
第30圖係第27圖所示密封環之右側視圖。
第31圖係第27圖之JJ剖面圖。
第32圖係第27圖之KK剖面圖。
第33圖係第27圖之LL剖面圖。
第34圖係第27圖所示密封環之正面側立體圖。
以下,依據圖面說明本發明接續部封密構造及封密元件之實施形態。
〈接續部封密構造之構成〉
第1圖係本發明第1實施形態之接續部封密構造1之剖面圖。第2圖係第1圖之A部放大圖。而且,第2圖所述之第1及第2內側推拔壓接處P1,P2、第1及第2外側壓接處P3,P4、第1及第2內側封密壓接處P5,P6、及第1及第2外側封密壓接處P7,P8,係實際上被壓潰。又,第1配管10、第2配管20及密封環30係由氟樹脂所形成,但是,在第1圖及第2圖中,為了容易觀圖,密封環30之剖面線係與第1配管10及第2配管20之剖面線不同。
如第1圖所示,接續部封密構造1係例如被使用
於半導體製造裝置所使用之氣體流動之第1配管10與第2配管20之接續部分。第1配管10與第2配管20,係第1接續部11的第1接續端面12與第2接續部21的第2接續端面22透過密封環30以被鄰接,在第1及第2接續部11,21的外周組裝有夾鉗元件40,藉此,接續狀態被維持。
第1及第2配管10,20、密封環30及夾鉗元件40,係由線膨脹係數很接近之樹脂所形成。因為例如當切換超過200℃之高溫藥液與常溫之洗淨液,到第1及第2配管10,20以流動等之時,使在第1及第2接續部11,21、密封環30及夾鉗元件40所產生之膨脹與收縮為相同程度,維持密封性能。第1及第2配管10,20係由例如PTFE等,耐腐蝕性與強度很優良之氟樹脂所形成。第1及第2配管10,20之樹脂可以相同,也可以不同。密封環30係由例如PFA等,耐腐蝕性很優良之氟樹脂所形成。另外,夾鉗元件40係為了抵抗密封環30之推斥力,以維持第1及第2接續部11,21之接續狀態,由強度大於第1及第2接續部11,21,具有耐腐蝕性之氟樹脂所形成。
〈第1及第2接續部之構成〉
如第1圖所示,第1接續部11與第2接續部21係被設成相同形狀。第1及第2接續部11,21,係用於組裝夾鉗元件40之第1及第2夾鉗凹槽13,23,沿著外周面被形成為環狀。因此,第1及第2接續部11,21係被設成凸緣形狀。亦即,在第1及第2接續部11,21的外緣部中,係第1及第2接續端面12,22與第1及第2夾鉗凹槽13,23間之壁厚變得較薄。
如第2圖所示,在第1接續端面12,第1流路16
的第1流路壁16a係開口。第1接續端面12係沿著第1流路壁16a的開口端部16ax的外周,第1組裝凹槽14被形成為環狀。在第1組裝凹槽14的底壁,第1環狀突起17係沿著第1流路壁16a的開口端部16ax的外周,被形成為環狀。第1環狀突起17係沿著第1流路壁16a的軸線方向被突設。因此,第1組裝凹槽14係包括:第1內組裝凹槽14c,被設於第1環狀突起17的徑向內側;以及第1外組裝凹槽14d,被設於第1環狀突起17的徑向外側。
第1內組裝凹槽14c係在第1環狀突起17的基端部17a的徑向內側,具有第1內推拔部14a。第1內推拔部14a係相對於第1環狀突起17而言被設成銳角,產生按壓密封環30的密封本體部31往第1環狀突起17之面壓F1(參照第8圖)。第1內推拔部14a係接續在第1流路壁16a。因此,第1接續部11係沿著第1流路壁16a設有支撐密封環30的密封本體部31之第1支撐片18。第1支撐片18係軸線方向剖面形狀成三角形,位於第1環狀突起17的基端部17a側之部分的壁厚,係大於位於第1環狀突起17的尖端部17b側之部分的壁厚。
第1外組裝凹槽14d係在第1環狀突起17的基端部17a的徑向外側,具有第1外推拔部14b。亦即,第1外推拔部14b係位於第1外組裝凹槽14d的徑向外側之流路壁軸線方向之壁面19,其中,其被設於第1組裝凹槽14的開口部(在第2圖中,位於第1組裝凹槽14之圖中右側之開口部),與位於流路軸線方向之相反側之深處側之部分(在第2圖中,位於第1組裝凹槽14之圖中左側之部分)。第1外推拔部14b係相
對於第1環狀突起17而言被設成銳角,產生按壓密封環30的密封本體部31往第1環狀突起17之面壓F2(參照第8圖)。
第2接續端面22係第2流路壁26a、第2組裝凹槽24、第2內推拔部24a、第2外推拔部24b、第2內組裝凹槽24c、第2外組裝凹槽24d、第2環狀突起27及第2支撐片28,係與被設於第1接續端面12上之第1流路壁16a、第1組裝凹槽14、第1內推拔部14a、第1外推拔部14b、第1內組裝凹槽14c、第1外組裝凹槽14d、第1環狀突起17及第1支撐片18同樣地被設置。如此一來,第2接續端面22係與第1接續端面12為相同形狀,所以,說明予以割愛。
〈封密元件之構成〉
第3圖係本發明實施形態之密封環30之正面側立體圖。圖4係第3圖所示密封環30的密封本體部31周邊之放大剖面圖。而且,第4圖係為了容易觀圖,僅記載剖面部分之形狀,剖面線之記載予以省略。
第3圖所述之密封環30,係藉射出成形以被成形。密封環30係包括:密封本體部31,呈環狀;突出部32,被設成自密封本體部31的外周面往徑外方向突出;以及握持部33,沿著突出部32的外周緣被形成。密封本體部31係成為封密元件之一例。
如第5圖所示,握持部33係被配置於第1及第2接續部11,21之外側。如第3圖所示,握持部33係被卡止於第5圖所述之第1及第2接續部11,21的突部15,25上之卡止部33c,33d,分別被設於延伸部33a,33b。
如第2圖所示,密封環30係被設計,使得內徑尺
寸與第1及第2流路壁16a,26a之內徑尺寸大概相同,內周面31g係與第1及第2流路壁16a,26a一同形成流路。
如第2圖及第4圖所示,密封本體部31係被組裝於第1及第2接續部11,21的第1及第2組裝凹槽14,24。密封本體部31係軸線方向剖面形狀呈H形。亦即,密封本體部31係在軸線方向之一邊端面,形成有第1環狀凹槽31a,在軸線方向之另一邊端面,形成有第2環狀凹槽31b。因此,密封本體部31係在第1環狀凹槽31a的徑向內側設有第1內側環狀壁31v,在第1環狀凹槽31a的徑向外側設有第1外側環狀壁31m。又,密封本體部31係在第2環狀凹槽31b的徑向內側設有第2內側環狀壁31w,在第2環狀凹槽31b的徑向外側設有第2外側環狀壁31n。
如第2圖所示,第1環狀凹槽31a係徑向寬度尺寸W21,小於第1環狀突起17之徑向寬度尺寸W11。藉此,第1環狀凹槽31a係在位於徑向內側之內周面,設有第1內側封密壓接處P5,在位於徑向外側之內周面,設有第1外側封密壓接處P7。又,第2環狀凹槽31b係徑向寬度尺寸W22,小於第2環狀突起27之徑向寬度尺寸W12。藉此,第2環狀凹槽31b係在位於徑向內側之內周面,設有第2內側封密壓接處P6,在位於徑向外側之內周面,設有第2外側封密壓接處P8。亦即,密封本體部31係包括:第1及第2內側封密壓接處P5,P6,壓接第1及第2內側環狀壁31v,31w與第1及第2環狀突起17,27以進行密封;以及第1及第2外側封密壓接處P7,P8,壓接第1及第2外側環狀壁31m,31n與第1及第2環狀突起17,27以進行密封。
如第2圖及第4圖所示,在第1環狀凹槽31a的
開口部,使第1環狀突起17相對於第1環狀凹槽31a而言,在軸線方向上導引定位之第1定位部31c,係被形成為推拔狀。第1定位部31c的入口,係使徑向寬度尺寸形成為大於第1環狀突起17之徑向寬度尺寸,藉此,設有第1大直徑部31e。藉此第1大直徑部31e,如第2圖所示,密封本體部31係在第1內側環狀壁31v與第1環狀突起17的基端部17a之間,形成環狀之間隙S5,在第1外側環狀壁31m與第1環狀突起17的基端部17a之間,形成環狀之間隙S1。間隙S5,S1係在拉近第1及第2接續部11,21時與拉近後,容許第1內側環狀壁31v與第1外側環狀壁31m,往第1環狀突起17側變形,吸收密封本體部31之推斥力。
又,如第2圖及第4圖所示,在第2環狀凹槽31b的開口部,第1環狀凹槽31a的第1定位部31c與第1大直徑部31e同樣地,形成有第2定位部31d與第2大直徑部31f。藉第2大直徑部31f,如第2圖所示,密封本體部31係在第2內側環狀壁31w與第2環狀突起27的基端部27a之間,形成環狀之間隙S6,在第2外側環狀壁31n與第2環狀突起27的基端部27a之間,形成環狀之間隙S2,在拉近第1及第2接續部11,21時與拉近後所產生之推斥力,係被間隙S2,S6吸收。
密封本體部31的內周面31g,係沿著位於第1環狀凹槽31a開口之端面側上之端部,形成有第1內壓接推拔部31h。又,內周面31g係沿著位於第2環狀凹槽31b開口之端面側上之端部,形成有第2內壓接推拔部31i。
如第2圖及第4圖所示,第1內壓接推拔部31h係
包括對應第1內推拔部14a之傾斜,被壓接在第1內推拔部14a。如第2圖所示,第1內壓接推拔部31h係其推拔角θ 11,小於第1內推拔部14a之推拔角θ 1。在此,推拔角θ 11係稱做位於第1大直徑部31e的徑向內側上之內周面與第1內壓接推拔部31h所夾之角度,推拔角θ 1係稱做位於第1環狀突起17的徑向內側上之內周面與第1內推拔部14a所夾之角度。亦即,第1內壓接推拔部31h壓接於第1內推拔部14a上之第1內側推拔壓接處P1,係被設成位於第1內側環狀壁31v的尖端側上之部分P1a者,大於位於第1內側環狀壁31v的基端側上之部分P1b。亦即,第1內側推拔壓接處P1之壓接力F5(參照第8圖),係愈往第1環狀突起17的基端部17a側,則變得愈大。第1支撐片18係基端部17a側之壁厚較厚,剛性較高。因此,第1支撐片18之具有強度之部分,與第1內側推拔壓接處P1之壓接力F5變大之部分相對應,第1支撐片18係藉壓接力F5而較難變形。
另外,如第2圖及第4圖所示,第2內壓接推拔部31i係包括對應第2內推拔部24a之傾斜,被壓接到第2內推拔部24a。如第2圖所示,第2內壓接推拔部31i係其推拔角θ 12,小於第2內推拔部24a之推拔角θ 2。在此,推拔角θ 12係稱做位於第2大直徑部31f的徑向內側上之內周面與第2內壓接推拔部31i所夾之角度,推拔角θ 2係稱做位於第2環狀突起27的徑向內側上之內周面與第2內推拔部24a所夾之角度。亦即,第2內壓接推拔部31i壓接第2內推拔部24a之第2內側推拔壓接處P2,係被設成位於第2內側環狀壁31w的尖端側上之部分P2a者,大於位在第2內側環狀壁31w的基端側上之部分P2b。亦即,第
2內側推拔壓接處P2之壓接力F5(參照第8圖),係愈往第2環狀突起27的基端部27a側,則變得愈大。第2支撐片28係基端部27a側之壁厚較厚,剛性較高。因此,第2支撐片28之具有強度之部分,與第2內側推拔壓接處P2之壓接力F5變大之部分係相對應,第2支撐片28藉壓接力F5而很難變形。
另外,密封本體部31的外周面31j,係沿著位於第1環狀凹槽31a開口之端面側上之端部,形成有第1外壓接推拔部31p。又,外周面31j係沿著位於第2環狀凹槽31b開口之端面側上之端部,形成有第2外壓接推拔部31q。
如第2圖及第4圖所示,在第1外壓接推拔部31p,係設有相對於位在被設於第1接續部11上之第1外組裝凹槽14d的徑向外側上之外周面而言,往徑向外側壓接之第1外側壓接處P3。第1外壓接推拔部31p之推拔角θ 13,係小於第1外推拔部14b之推拔角θ 3。在此,推拔角θ 13係稱做位於第1大直徑部31e的徑向外側上之外側內壁與第1外壓接推拔部31p所夾之角度,推拔角θ 3係稱做位於第1環狀突起17的徑向外側上之外周面與第1外推拔部14b所夾之角度。因此,第1外側壓接處P3之壓接力F6(參照第8圖),係愈接近第1環狀突起17的基端部17a,則變得愈大。第1接續部11係使基端部17a附近的強度較高。因此,第1接續部11之具有強度之部分,與第1外側壓接處P3之壓接力F6變得較大之部分係相對應。而且,第1外側環狀壁31m係變形,使得尖端部倒向徑向外側。因此,密封本體部31係持續使壓接力F6較小地,可維持密封力。
第1外壓接推拔部31p之推拔角θ 13,係小於第1內壓接推拔部31h之推拔角θ 11。藉此,在第1外壓接推拔部31p與第1外推拔部14b之間,形成有用於吸收第1外側環狀壁31m之變形之間隙S3。又,第1外側環狀壁31m的尖端面31t,係被設成比第1內側環狀壁31v的尖端面31r還要靠近第1環狀凹槽31a的底部。因此,密封本體部31係第1外壓接推拔部31p與第1外推拔部14b之接觸面積,比第1內壓接推拔部31h與第1內推拔部14a之接觸面積還要窄,第1外側壓接處P3之壓接力F6,變得小於第1內側推拔壓接處P1之壓接力F5。
第1外壓接推拔部31p與外周面31j,係透過第1傾斜部31k以被接續。第1傾斜部31k之推拔角θ 15係被設成大於第1外壓接推拔部31p之推拔角θ 13,提高第1外側環狀壁31m之剛性。
如第2圖及第4圖所示,在第2外壓接推拔部31q,設有相對於位在被設於第2接續部21上之第2外組裝凹槽24d的徑向外側上之外周面而言,往徑向外側壓接之第2外側壓接處P4。第2外壓接推拔部31q之推拔角θ 14,係小於第2外推拔部24b之推拔角θ 4。在此,推拔角θ 14係稱做位於第2大直徑部31f的徑向外側上之外側內壁與第2外壓接推拔部31q所夾之角度,推拔角θ 4係稱做位於第2環狀突起27的徑向外側上之外周面與第2外推拔部24b所夾之角度。因此,第2外側壓接處P4之壓接力F6(參照第8圖),係愈接近第2環狀突起27的基端部27a,則變得愈大。第2接續部21係使基端部27a附近的強度較高。因此,第2接續部21之具有強度之部分與第2外
側壓接處P4之壓接力F6變得較大之部分係相對應。而且,第2外側環狀壁31n係變形,使得尖端部倒向徑向外側。因此,密封本體部31係使壓接力F6持續較小地,可維持密封力。
第2外壓接推拔部31q之推拔角θ 14,係小於第2內壓接推拔部31i之推拔角θ 12。藉此,在第2外壓接推拔部31q與第2外推拔部24b之間,形成有用於吸收第2外側環狀壁31n變形之間隙S4。又,第2外側環狀壁31n的尖端面31u,係被設於比第2內側環狀壁31w的尖端面31S還要靠近第2環狀凹槽31b的底部。因此,密封本體部31係第2外壓接推拔部31q與第2外推拔部24b之接觸面積,比第2內壓接推拔部31i與第2內推拔部24a之接觸面積還要窄,第2外側壓接處P4之壓接力F6變得小於第2內側推拔壓接處P2之壓接力F5。
第2外壓接推拔部31q與外周面31j,係透過第2傾斜部311以接續。第2傾斜部311之推拔角θ 16,係被設成大於第2外壓接推拔部31q之推拔角θ 14,提高第2外側環狀壁31n之剛性。
<第1及第2接續部之接續方法>
接著,說明第1接續部11與第2接續部21之接續方法。第5圖、第6圖及第7圖係說明接續部接續方法之圖。第8圖係說明產生在密封本體部31的各壓接處P1~P8上之力關係之圖。而且,在第5圖~第8圖中,為了容易觀圖,僅記載剖面部分之形狀。又,第5圖、第6圖及第7圖係與第1圖及第2圖同樣地,密封環30的剖面線係與第1配管10及第2配管20的剖面線不同。又,在第8圖中,剖面線係予以省略。
如第5圖所示,密封環30係卡止卡止部33c到第1接續部11的突部15,卡止卡止部33d到第2接續部21的突部25,藉此,暫時固定在第1及第2接續部11,21而不脫落。在此狀態下,第1及第2環狀突起17,27係未到達第1及第2定位部31c,31d。
在此,例如在第1及第2夾鉗凹槽13,23卡合未圖示之治具,使接近第1及第2接續端面12,22之方向之拉近負載,施加在第1及第2接續部11,21上。如此一來,第1及第2環狀突起17,27係藉第1及第2定位部31c,31d,沿著軸線被第1及第2環狀凹槽31a,31b導引,如第6圖所示,尖端部17b,27b開始被密封本體部31的第1及第2內側封密壓接處P5,P6與第1及第2外側封密壓接處P7,P8壓入。密封環30係第1及第2環狀凹槽31a,31b被第1及第2環狀突起17,27壓寬,第1及第2內側環狀壁31v,31w與第1及第2外側環狀壁31m,31n,係變形使得倒向第1及第2環狀突起17,27之相反側。
當藉未圖示之治具以繼續拉近第1及第2接續部11,21時,密封本體部31係滑接第1及第2內推拔部14a,24a與第1及第2內壓接推拔部31h,31i,滑接第1及第2外推拔部14b,24b與第1及第2外壓接推拔部31p,31q。如此一來,第1及第2內側環狀壁31v,31w與第1及第2外側環狀壁31m,31n,係藉承受自第1及第2內推拔部14a,24a與第1及第2外推拔部14b,24b之面壓,變形被抑制。
第7圖所示,當壓入結束時,密封環30係第1及第2環狀凹槽31a,31b的內壁,密封到第1及第2環狀突起
17,27,第1及第2內壓接推拔部31h,31i係密封到第1及第2內推拔部14a,24a,第1及第2外壓接推拔部31p,31q係密封到第1及第2外推拔部14b,24b,藉此,防止自第1及第2接續部11,21間洩漏流體。
亦即,如第8圖所示,密封環30係第1及第2內側封密壓接處P5,P6被壓抵在第1及第2環狀突起17,27的內周面上以密著,第1及第2外側封密壓接處P7,P8被壓抵在第1及第2環狀突起17,27的外周面上以密著,藉此,產生密封負載F3,F4。而且,密封環30係相對於第1及第2內壓接推拔部31h,31i之各壓接力F5而言,分別承受來自第1及第2內推拔部14a,24a之面壓F1,藉此,壓潰第1及第2內側推拔壓接處P1,P2以進行密封,同時貢獻於密封負載F3之增加。又,密封環30係相對於第1及第2外壓接推拔部31p,31q之各壓接力F6而言,分別承受來自第1及第2外推拔部14b,24b之面壓F2,藉此,壓潰第1及第2外側壓接處P3,P4,以貢獻於密封負載F4之增加。
在此情形下,第1及第2內壓接推拔部31h,31i之推拔角θ 11,θ 12,係小於第1及第2內推拔部14a,24a之推拔角θ 1,θ 2,所以,第1及第2內側推拔壓接處P1,P2之各壓接力F5與第1及第2外側壓接處P3,P4之各壓接力F6,係愈接近第1及第2環狀突起17,27的基端部17a,27a,則變得愈大。第1及第2接續部11,21係基端部17a,27a附近之壁厚較厚,強度較大,所以,很難變形。因此,接續部封密構造1係第1及第2接續部11,21很難因為密封本體部31之壓接力F5,F6而變形。
尤其,支撐密封本體部31的內周面31g之第1及
第2支撐片18,28,係軸線方向剖面形狀呈三角形而強度較小。但是,第1及第2內側推拔壓接處P1,P2係在第1及第2支撐片18,28的壁厚較厚之部分中,壓接力F5變大。因此,接續部封密構造1係第1及第2支撐片18,28藉壓接力F5,很難往第1及第2流路16,26側鼓出變形。因此,當依據本形態之接續部封密構造1時,可避免或抑制因為第1及第2支撐片18,28之變形,而密封力降低,或者,流路變窄。
而且,密封本體部31係在最容易變形之第1及第2內側環狀壁31v,31w尖端部與第1及第2外側環狀壁31m,31n尖端部中,面壓F1,F2變成最大。而且,該面壓係朝向第1及第2內側封密壓接處P5,P6與第1及第2外側封密壓接處P7,P8作用。亦即,該面壓係朝向第1及第2內側封密壓接處P5,P6與第1及第2外側封密壓接處P7,P8之中,接近第1及第2流路16,26之部分,亦即,朝向第1及第2環狀凹槽31a,31b與第1及第2定位部31c,31d之接續位置附近作用,維持或提高密封負載F3,F4。
又,密封本體部31係使第1及第2內側推拔壓接處P1,P2,設於比第1及第2內側封密壓接處P5,P6還要靠近基端部17a,27a側,使第1及第2外側壓接處P3,P4,設於比第1及第2外側封密壓接處P7,P8還要靠近基端部17a,27a側,藉此,可使面壓F1,F2作用之方向,更確實朝向第1及第2內側封密壓接處P5,P6與第1及第2外側封密壓接處P7,P8。
因此,即使接續部封密構造1係在可抑制第1及第2支撐片18,28變形之程度下,減少壓接力F5,也可使作用在第1及第2環狀突起17,27的內周側上之密封負載F3維
持或提高。又,即使減少壓接力F6,也可使作用在第1及第2環狀突起17,27的外周側上之封密負載維持或提高。
因此,當依據本形態之接續部封密構造1時,可確實防止流體的洩漏,具有較高之密封性能。
第1及第2接續部11,21係為了藉未圖示之治具,透過密封本體部31以維持拉近第1及第2接續部11,21後之狀態,如第1圖所示,在第1及第2夾鉗凹槽13,23組裝有夾鉗元件40。
如第8圖所示,在第1及第2接續部11,21中,比第1及第2環狀突起17,27的徑向內側,還要靠近第1及第2環狀突起17,27的徑向外側地,沿著第1及第2接續端面12,22具有簷狀部。因此,在第1及第2接續部11,21中,藉自第1及第2外壓接推拔部31p,31q,相對於第1及第2外推拔部14b,24b而言,往徑向外側作用之壓接力F6所產生之形變,很容易表現在簷狀部之形狀。因此,第1及第2外側壓接處係例如當與第1及第2內側推拔壓接處為相同大小時,第1及第2接續端面12,22有在外周面側反翹變形之虞。
相對於此,本形態之接續部封密構造1,係第1及第2外側壓接處P3,P4小於第1及第2內側推拔壓接處P1,P2,壓接力F6小於壓接力F5。流體洩漏係主要藉第1及第2環狀突起17,27的內周面與第1及第2環狀凹槽31a,31b的內壁之封密部分而被防止。因此,第1及第2外側壓接處P3,P4無須與第1及第2內側推拔壓接處P1,P2為相同程度之大小。亦即,第1及第2外側壓接處P3,P4可減少到可抑制第1及第2外側
環狀壁31m,31n變形,以維持既定密封負載F4之程度為止。
如此一來,使第1及第2外側壓接處P3,P4為最小限度之大小,藉此,本形態之接續部封密構造1,係抵抗密封本體部31彈力以拉近第1及第2接續部11,21之拉近負載減少。亦即,當透過密封本體部31以拉近第1及第2接續部11,21後,產生在密封本體部31之推斥力減少。因此,當依據本形態之接續部封密構造1時,可防止第1及第2接續端面12,22因為密封本體部31之推斥力而變形,或者,密封力降低。
又,第1及第2接續端面12,22之反翹被抑制,藉此,如第7圖所示,第1及第2接續部11,21係拉近後之第1夾鉗凹槽13與第2夾鉗凹槽23間之距離W1,變得與夾鉗元件40的內部尺寸W2為相同程度。因此,接續部封密構造1係變得很容易組裝夾鉗元件40,到透過密封本體部31以被接續之第1及第2接續部11,21。又,無須回復第1及第2接續端面12,22之反翹地,提高夾鉗元件40之強度,所以,可減少夾鉗元件40或第1及第2接續部11,21之壁厚,以可使接續部封密構造1小型化。
此外,本形態之接續部封密構造1係藉間隙S1~S4,容許第1及第2外側環狀壁31m,31n之變形,藉間隙S5,S6,容許第1及第2內側環狀壁31v,31w之變形,所以,當透過密封本體部31以拉近第1及第2接續部11,21時,可減少密封本體部31所產生之推斥力。如此一來,藉推斥力減少,第1及第2接續部11,21係當透過密封本體部31以被接續後,變形第1及第2接續端面12,22之情事被抑制。因此,在此點中,也可減少夾鉗元件40或第1及第2接續部11,21之壁厚,
以可使接續部封密構造1小型化。
又,本形態之接續部封密構造1,係第1及第2外推拔部14b,24b與第1及第2外壓接推拔部31p,31q,相對於第1及第2環狀突起17,27的基端部17a,27a而言,成銳角傾斜,所以,第1及第2外側環狀壁31m,31n很容易倒向第1及第2環狀突起17,27的基端部17a,27a側。因此,當依據本形態之接續部封密構造1時,藉分別產生於第1及第2外側壓接處P3,P4上之倒入,可效率良好地提高密封負載F4,所以,即使讓第1及第2外側壓接處P3,P4小於第1及第2內側推拔壓接處P1,P2,密封負載F3,F4也變高,可確實防止流體洩漏。
〈關於面壓解析〉
發明者們係針對本形態之接續部封密構造1,進行過解析產生於密封本體部31上之面壓之模擬。第1及第2接續部11,21的第1及第2接續端面12,22係相同形狀,密封本體部31的兩端面係相同形狀,所以,模擬係僅針對第1接續端面12的第1環狀突起17與密封本體部31的第1環狀凹槽31a側以進行之。表示此面壓解析結果於第9圖。在第9圖中,面壓之方向與強度係以條形圖表示,而且,面壓之大小也以漸層表示。亦即,條形圖之長度愈長,漸層濃度愈濃,則意味面壓愈大。
如第9圖所示,可知在第1內側推拔壓接處P1之中,位於第1內側環狀壁31v尖端側上之部分P1a,產生有較強之面壓Z3。又,該面壓Z3係朝向做為第1環狀凹槽31a與第1定位部31c之接續位置附近之圖中11部分以產生。藉此,可知第1內側封密壓接處P5的第1環狀凹槽31a與第1定位
部31c之接續位置附近之面壓係增加。如此一來,使較高之面壓在局部產生之情事,係成為在防止流體洩漏上之有力密封力。因此,可知為了減少第1接續部11之撓曲,在第1內側推拔壓接處P1之中,即使讓位於比第1內側環狀壁31v尖端還要深處側上之部分P1b,小於位於尖端側上之部分P1a,也可使第1內側封密壓接處P5之密封力維持較高。
又,在第1外側壓接處P3產生之面壓Z4,係朝向做為第1環狀凹槽31a與第1定位部31c之接續位置附近之圖中I2部分以產生。藉此,可知產生在第1外側封密壓接處P7的第1環狀凹槽31a與第1定位部31c之接續位置附近之面壓增加。而且,在第1內側封密壓接處P5與第1外側封密壓接處P7中,第1環狀突起17的尖端部壓寬第1環狀凹槽31a以被壓入,藉此,面壓Z1a,Z1b係局部性產生。藉此,在第1內側封密壓接處P5與第1外側封密壓接處P7中,係於四處產生較高之面壓,其各有較強之密封力,所以,可防止流體洩漏。
而且,產生於第1內側封密壓接處P5之面壓Z1a,Z2a,與產生於第1外側封密壓接處P7之面壓Z1b,Z2b,係在往徑向內側與外側,以大概相同大小,對稱性產生。又,產生於第1內側封密壓接處P1之面壓Z3,與產生於第1外側壓接處P3之面壓Z4,係分別朝向第1內側封密壓接處P5與第1外側封密壓接處P7,以大概相同大小,對稱性產生。亦即,產生於第1及第2接續部11,21與密封本體部31間之密封力,係在往徑向內側與徑向外側,平衡良好地作用。因此,可知在接續部封密構造1中,組裝第1接續部11的夾鉗元件40之部
分係很難反翹變形,密封力也可保持在一定以上。
接著,說明本發明之第2實施形態。第10圖係表示本發明第2實施形態之接續部封密構造1x之剖面圖。第11圖係第10圖所示密封環30x的密封本體部31x周邊之放大剖面圖。而且,第10圖雖然第1配管10、第2配管20及密封環30x係以氟樹脂所形成,但是,為了容易觀圖,密封環30x之剖面線係與第1配管10及第2配管20之剖面線不同。第11圖係僅記載剖面部分之形狀,省略剖面線。
〈接續部封密構造之概略構成〉
第2實施形態之接續部封密構造1x,係除了密封環30x的密封本體部31x,其構造與第1實施形態相同。在此,以密封本體部31x為中心做說明。而且,關於與第1實施形態共通之構造,在圖面與說明中,係使用與第1實施形態相同之編號,適宜之說明則予以省略。
第10圖及第11圖所示之密封本體部31x,主要係第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix、第1及第2外壓接推拔部31px,31qx、第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x、及第1及第2外側壓接處P3x,P4x,相對於第1及第2環狀突起17,27而言為對稱形之點,係與第1實施形態之密封本體部31不同。
第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix係被設成徑向壁厚比第1實施形態之第1及第2內壓接推拔部31h,31i還要大一些。亦即,第1及第2內側環狀壁31vx,31wx的尖端面31rx,31sx,係被設成在徑向寬度上,比第1實施形態之第
1及第2內側環狀壁31v,31w的尖端面31r,31s還要寬。
第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix之推拔角θ 11x,θ 12x,係分別被設成與第1實施形態之推拔角θ 11,θ 12相同。因此,第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix的第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x,如第10圖所示,接近尖端面31rx,31sx之部分P1ax,P2ax者,係被設成大於遠離尖端面31rx,31sx之部分P1bx,P2bx。亦即,第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x係愈接近基端部17a,27a,則變得愈大。
第10圖及第11圖所示之第1及第2外壓接推拔部31px,31qx,係被設成推拔角θ 13x,θ 14x小於第1及第2外推拔部14b,24b之推拔角θ 3,θ 4。因此,第1及第2外壓接推拔部31px,31qx的第1及第2外側壓接處P3x,P4x,係接近第1及第2外側環狀壁31mx,31nx的尖端面31tx,31ux之部分P3ax,P4ax者,被設成大於遠離第1及第2外側環狀壁31mx,31nx的尖端面31tx,31ux之部分P3bx,P4bx。亦即,第1及第2外側壓接處P3x,P4x係愈接近基端部17a,27a,則變得愈大。
第1及第2外壓接推拔部31px,31qx之推拔角θ 13x,θ 14x,係分別被設成與第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix之推拔角θ 11x,θ 12x相同。因此,如第10圖所示、第1及第2外壓接推拔部31px,31qx的第1及第2外側壓接處P3x,P4x,係被設成與第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x為相同程度之大小。第1及第2內側環狀壁31vx,31wx的尖端面31rx,31sx,與第1及第2外側環狀壁31mx,31nx的尖端面31tx,31ux,係被設成相同高度,於第1及第2外推拔部14b,24b與
第1及第2外壓接推拔部31px,31qx之間,未形成有間隙。
如第10圖所示,第1及第2大直徑部31ex,31fx,係徑向寬度尺寸被設成與第1及第2環狀突起17,27之徑向寬度尺寸為相同程度。因此,間隙S1x,S2x,S5x,S6x係小於第1實施形態之間隙S1,S2,S5,S6。
〈關於接續部封密構造中之力關係〉
第12圖係表示結束壓入第1及第2環狀突起17,27到第1及第2環狀凹槽31a,31b之作業後之狀態。第13圖係說明第10圖所示接續部封密構造1x中之密封部之力關係之圖。而且,第13圖係為了容易觀圖,僅記載剖面部分之形狀。又,第12圖係與第10圖同樣地,密封環30x之剖面線係與第1配管10及第2配管20之剖面線不同。
如第12圖所示,在本形態之接續部封密構造1x中,係壓入第1及第2環狀突起17,27到第1及第2環狀凹槽31a,31b,如此一來,第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix係被第1及第2內推拔部14a,24a壓接,第1及第2外壓接推拔部31px,31qx係被第1及第2外推拔部14b,24b壓接。藉此,密封本體部31x係第1及第2內側環狀壁31vx,31wx,與第1及第2外側環狀壁31mx,31nx之變形被抑制。
如第13圖所示,密封本體部31x係愈接近第1及第2環狀突起17,27的基端部17a,27a,又,愈接近第1及第2支撐片18,28之徑向壁厚變大之部分,則第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x變得愈大。因此,第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x,係在第1及第2支撐片18,28之強度較強之部分,加大壓
接力F15。藉此,第1及第2支撐片18,28係即使作用密封本體部31x之推斥力,也很難使流路變窄地變形,可維持密封力。
第1及第2外側壓接處P3x,P4x係設成與第1及第2內側推拔壓接處P1x,P2x相同程度大小,相對於第1及第2接續部11,21而言,壓接力F15,F16相同程度地作用。因此,在接續部封密構造1x中,面壓F12係大於面壓F11,如第12圖所示,第1及第2接續端面12,22很容易反翹變形。
但是,本形態之接續部封密構造1,係推拔角θ 13x,θ 14x小於推拔角θ 3,θ 4。因此,密封本體部31x係在變形變得最大之第1及第2外側環狀壁31mx,31nx的尖端側中,第1及第2外側壓接處P3x,P4x之壓接力F16變大。壓接力F16變大之部分,係碰觸到第1及第2環狀突起17,27的基端部17a,27a,成為第1及第2接續部11,21之中,強度也係較大之部分。因此,第1及第2接續部11,21係第1及第2接續端面12,22之變形被抑制。藉此,如第12圖所示,變形第1及第2接續端面12,22之變形負載F31,F32係變小。因此,可使拉近第1及第2接續部11,21之負載極力減少,使得第1及第2夾鉗凹槽13,23之距離W1x與夾鉗元件40之內部尺寸W2一致。
又,第1及第2內推拔部14a,24a授予第1及第2內壓接推拔部31hx,31ix之各面壓F11,與第1及第2外推拔部14b,24b授予第1及第2外壓接推拔部31px,31qx之各面壓F12,係朝向第1及第2內側封密壓接處P5,P6與第1及第2外側封密壓接處P7,P8作用,在第1環狀凹槽31a與第1定位部31c之接續位置附近以及第2環狀凹槽31b與第2定位部31d之接續位置
附近,增加密封負載F3,F4。因此,在接續部封密構造1x中,可以最低限度之壓接力F15,F16,維持或增加密封力。
〈關於面壓解析〉
發明者們係針對本形態之接續部封密構造1x,進行解析產生在密封部上之面壓之模擬。本模擬也與第1實施形態同樣地,僅針對第1接續端面12的第1環狀突起17與密封本體部31x的第1環狀凹槽31a側進行。表示此面壓解析結果在第14圖。在第14圖中,使面壓之方向與強度以條形圖表示,而且,面壓之大小係以漸層表示。亦即,條形圖之長度愈長,漸層愈濃,則意味面壓愈大。
接續部封密構造1x係在第1內側推拔壓接處P1x與第1外側壓接處P3x之中,接近第1環狀突起17的基端部17a之部分P1ax,P3ax之面壓Z3x,Z4x變大。而且,該較大之面壓Z3x,Z4x,係朝向做為第1環狀凹槽31a與第1定位部31c之接續位置附近之圖中I1x部分與圖中I2x部分產生。藉此,可知產生在第1內側封密壓接處P5上之面壓增加。由此可知:為了減少第1接續部11之摩擦,即使讓第1內側推拔壓接處P1x之中,位於比第1內側環狀壁31vx的尖端還要深處側之位置之部分P1bx,小於位於尖端側之位置之部分P1ax,也可維持第1內側封密壓接處P5之密封負載F3。又,可知即使第1外側壓接處P3x係與第1內側推拔壓接處P1x相同程度,面壓Z4x也朝向第1外側封密壓接處P7產生。藉此,可知藉使推拔角θ 13x小於推拔角θ 3,第1外側壓接處P3x係愈接近基端部17a則變得愈大,藉此,可抑制第1接續端面12反翹變形,減少密封力之降低。
接著,說明本發明之第3實施形態。第15圖係本發明第3實施形態之接續部封密構造1y,其中,其係密封本體部31y周邊之放大剖面圖。第16圖係密封環30y之正視圖。第17圖係密封環30y之俯視圖。第18圖係密封環30y之後側視圖。第19圖係密封環30y之右側視圖。第20圖係第16圖之BB剖面圖。第21圖係第16圖之CC剖面圖。第22圖係第16圖之DD剖面圖。第23圖係密封環30y之正面側立體圖。而且,因為密封環30y之仰視圖係第28圖所示之俯視圖,與左側面圖係第30圖所示之右側視圖,分別對稱表示,所以予以省略。而且,第1配管10、第2配管20及密封環30y係以氟樹脂形成,但是,為了容易觀圖,在第15圖、第20圖、第21圖及第22圖中,密封環30y之剖面線係與第1配管10及第2配管20之剖面線不同。
〈接續部封密構造之概略構成〉
第3實施形態之接續部封密構造1y,除了密封本體部31y,係與第1實施形態同樣構造。在此,以密封本體部31y為中心做說明。而且,針對與第1實施形態共通之構造,係在圖面與說明中,使用與第1實施形態相同之編號,省略適宜之說明。
第15圖所示之密封本體部31y,係第1及第2外組裝凹槽14d,24d的流路壁軸線方向之壁面19,29,與密封本體部31y的外周面31jy中之流路壁軸線方向之壁面係被近設,但是,其與第1實施形態之密封本體部31不同。亦即,密封本體部31y係第1及第2外側環狀壁31my,31ny之徑向壁厚,大於第1實施形態之第1及第2外側環狀壁31m,31n之徑向壁厚。
〈關於接續部封密構造中之力關係〉
在第3實施形態之接續部封密構造1y中,第1及第2組裝凹槽14,24的流路壁之軸線方向之壁面19,29,與密封本體部31y的外周面31jy中之流路壁軸線方向之壁面係被近設。亦即,壁面19,29之內徑尺寸係被設定成僅比外周面31jy的第1及第2外側環狀壁31my,31ny之外徑尺寸大少許。因此,當壓入第1及第2環狀突起17,27到第1及第2環狀凹槽31a,31b的各壓接處P5~P8後,第1及第2外側環狀壁31my,31ny係藉第1及第2環狀突起17,27,被往徑向外側推壓,以抵接外周面31jy到壁面19,29。藉此,在第1及第2外側環狀壁31my,31ny與壁面19,29之接觸部分,朝向第1及第2環狀突起17,27以產生面壓。因此,第1及第2外側環狀壁31my,31ny係往第1及第2環狀突起17,27側被押出。
例如當第1及第2環狀凹槽31a,31b與第1及第2環狀突起17,27重複過多之裝卸,或者,第1及第2接續部11,21與密封環30y暴露在異常之溫度變化後,第1及第2外側壓接處P3,P4之各壓接力F6有可能減少。即使如此,本形態之接續部封密構造1y,係外周面31jy抵接到壁面19,29,藉此,可充分押出第1及第2外側環狀壁31my,31ny到第1及第2環狀突起17,27側,以抑制密封本體部31y之變形,可維持密封負載F4與壓接力F6。因此,當依據本形態時,與初期狀態及正常時之溫度變化時同樣地,可確保密封力。
而且,本發明係不侷限於上述實施形態,可有種種應用。
例如接續部封密構造1,係也可適用於在閥的驅動
部與閥本體之間配置密封環30之情形。
例如接續部封密構造1,係也可適用於被適用在半導體製造裝置以外之配管及流體控制機器。
例如密封本體部31係也可省略第1及第2大直徑部31e,31f。又,例如如第24圖所示,密封本體部31也可以直接接續第1外壓接推拔部31p到外周面31j,省略第1及第2傾斜部31k,31l。
例如也可以第1及第2接續部11,21係PFA,密封環30係PTFE。又,例如也可以使第1及第2接續部11,21與密封環30,以PFA或PTFE等之相同材質形成。
例如第1及第2接續部11,21的第1及第2接續端面12,22,也可以非同一形狀。又,密封本體部31也可以兩端面非同一形狀。例如也可以在第1接續端面12與第2接續端面22之任一者上,設置內推拔部或外推拔部等,僅在密封本體部31一邊之端面上,設置內壓接推拔部或外壓接推拔部等。
例如第1及第2外側壓接處P3,P4,P3x,P4x,也可以包含因為在組裝時所產生之密封本體部31,31x之形變所產生之部分。例如如第25圖所示,密封本體部31也可以設置第1外壓接推拔部31py,使得朝向徑向內側成剖面圓弧狀地凹陷。又,例如如第26圖所示,密封本體部31也可以設置第1外壓接推拔部31pz,使得朝向徑向外側成剖面圓弧狀地突出。又,例如也可以與這些相反地,使密封本體部31的第1外壓接推拔部以推拔面形成,第1接續部11係於對應該第1外壓接推拔部之位置上,設置第1外推拔部,使得成剖面圓弧狀地
突出,或者,設置第1外推拔部,使得成剖面圓弧狀地凹陷。亦即,也可以藉第1外推拔部之形狀,外側壓接處係愈接近基端部,則變得愈大。
例如推拔角θ 1,θ 2,θ 3,θ 4係大於推拔角θ 11,θ 12,θ 13,θ 14,θ 11x,θ 12x,θ 13x,θ 14x,推拔角θ 1,θ 2,θ 3,θ 4可以係30度~60度,推拔角θ 11,θ 12,θ 13,θ 14,θ 11x,θ 12x,θ 13x,θ 14x可以係10度~15度。因為當推拔角太小時,各部材之壁厚變薄,很容易變得強度不足,又,當推拔角太大時,在此所產生之面壓,係朝向第1及第2流路壁16a,26a之軸線方向,不朝向第1及第2環狀突起17,27側,所以,密封負載F3,F4之維持或增強有可能很難做到。
例如上述形態之密封環30,30x,30y,係對應安裝對象(接續之配管之接續端部等)之尺寸,當然可適宜變更密封本體部31,31x,31y或突出部32、握持部33之厚度或徑向尺寸等。例如密封環30係如第27圖~第34圖所示之密封環30z所示,也可以變更厚度或徑向尺寸等。而且,第27圖係密封環30z之正視圖。第29圖係密封環30z之後側視圖。第28圖係密封環30z之俯視圖。第30圖係密封環30z之右側視圖。第31圖係第27圖之JJ剖面圖。第32圖係第27圖之KK剖面圖。第33圖係第27圖之LL剖面圖。第34圖係密封環30z之正面側立體圖。而且,密封環30z之仰視圖係第28圖所示之俯視圖,與左側面圖係第30圖所示之右側視圖,因為分別對稱地表示,所以予以省略。
在例如上述實施形態及第27圖~第34圖所示之
變形例中,雖然在密封本體部31,31x,31y一體設置突出部32與握持部33,但是,也可以省略突出部32與握持部33。亦即,密封環30,30x,30y,30z也可以沒有突出部32及握持部33。又,例如密封環30,30x,30y,30z也可以沒有握持部33。
10:第1配管
11、21:第1及第2接續部
12、22:第1及第2接續端面
14、24:第1及第2組裝凹槽
14a、24a:第1及第2內推拔部
14b、24b:第1及第2外推拔部
14c、24c:第1及第2內組裝凹槽
14d、24d:第1及第2外組裝凹槽
16a、26a:第1及第2流路壁
17、27:第1及第2環狀突起
17a、27a:基端部
17b、27b:尖端部
18、28:第1及第2支撐片
19、29:壁面
20:第2配管
30:密封環
31:密封本體部
31a、31b:第1及第2環狀凹槽
31c、31d:第1及第2定位部
31e、31f:第1及第2大直徑部
31g:內周面
31h、31i:第1及第2內壓接推拔部
31j:外周面
31k、31l:第1及第2傾斜部
31m、31n:第1及第2外側環狀壁
31p、31q:第1及第2外壓接推拔部
31v、31w:第1及第2內側環狀壁
32:突出部
P1、P2:第1及第2內側推拔壓接處
P1a:第1內側環狀壁尖端側上之部分
P1b:第1內側環狀壁基端側上之部分
P2a:第2內側環狀壁尖端側上之部分
P2b:第2內側環狀壁基端側上之部分
P3、P4:第1及第2外側壓接處
P5、P6:第1及第2內側封密壓接處
P7、P8:第1及第2外側封密壓接處
S1~S6:間隙
W11、W12、W21、W22:徑向寬度尺寸
θ 1~θ 4、θ 11~θ 16:推拔角
Claims (10)
- 一種接續部封密構造,其係透過封密元件以接續第1接續部與第2接續部者,其特徵在於:前述第1接續部的接續端面與前述第2接續部的接續端面之兩者或一者係包括:流路壁,具有在前述接續端面開口之開口端部;環狀突起,在前述流路壁的徑向外側沿著前述開口端部的外周形成環狀,沿著前述流路壁的軸線方向突設;以及內組裝凹槽,被設於前述環狀突起的徑向內側,前述封密元件係被形成環狀,在兩端面或一邊的端面上,包括壓入有前述環狀突起之環狀凹槽,前述內組裝凹槽,係在前述環狀突起的基端部的徑向內側,具有相對於前述環狀突起而言被設成銳角之內推拔部,支撐前述封密元件的內周面端部的支撐片係,藉由前述內推拔部,沿著前述流路壁環狀地設置,位於前述環狀突起的基端部側之部分的徑向壁厚,係大於位於前述環狀突起的尖端部側之部分的徑向壁厚,前述封密元件的內周面,係具有沿著位於前述環狀凹槽開口之端面側上之端部被形成之內壓接推拔部,前述內壓接推拔部係以壓接前述內推拔部的方式傾斜,前述內壓接推拔部壓接於前述內推拔部的內側推拔壓接處,前述環狀突起的基端部側者係大於前述環狀突起的尖端部側。
- 如申請專利範圍第1項所述之接續部封密構造,其中,包括前述內組裝凹槽之前述接續端面,係具有被設於前述環狀突起的徑向外側之外組裝凹槽,前述封密元件係具有相對於前述外組裝凹槽的內壁而言,往徑向外側壓接之外側壓接處,前述外側壓接處係前述內壓接推拔部,小於壓接於前述內推拔部上之內側推拔壓接處。
- 一種接續部封密構造,其係透過封密元件以接續第1接續部與第2接續部者,其特徵在於:前述第1接續部的接續端面與前述第2接續部的接續端面之兩者或一者係包括:流路壁,在前述接續端面開口;環狀突起,沿著前述流路壁的外周形成環狀,沿著前述流路壁的軸線方向突設;以及內組裝凹槽,被設於前述環狀突起的徑向內側,前述封密元件係被形成環狀,在兩端面或一邊的端面上,包括壓入有前述環狀突起之環狀凹槽,前述內組裝凹槽,係在前述環狀突起的基端部的徑向內側,具有相對於前述環狀突起而言被設成銳角、接續在前述流路壁之內推拔部,前述封密元件的內周面,係具有沿著位於前述環狀凹槽開口之端面側上之端部被形成之內壓接推拔部,前述內壓接推拔部係對應前述內推拔部以傾斜, 前述內壓接推拔部的推拔角,係小於前述內推拔部的推拔角,包括前述內組裝凹槽之前述接續端面,係具有被設於前述環狀突起的徑向外側之外組裝凹槽,前述封密元件係具有相對於前述外組裝凹槽的內壁而言,往徑向外側壓接之外側壓接處,前述外側壓接處係前述內壓接推拔部,小於壓接於前述內推拔部上之內側推拔壓接處。
- 如申請專利範圍第2或3項所述之接續部封密構造,其中,前述外側壓接處之位置,係比前述環狀凹槽的內壁與前述環狀突起所壓接之封密壓接處,還要靠近前述環狀突起的基端部側。
- 如申請專利範圍第2或3項所述之接續部封密構造,其中,前述外組裝凹槽係在前述環狀突起的基端部徑向外側,具有相對於前述環狀突起而言,被設成銳角之外推拔部。
- 如申請專利範圍第2或3項所述之接續部封密構造,其中,前述封密元件的外周面,係具有沿著位於前述環狀凹槽開口之端面側上之端部形成之外壓接推拔部。
- 如申請專利範圍第2或3項所述之接續部封密構造,其中,前述封密元件係位於徑向外側之外周面,包含被近設於沿著前述外組裝凹槽的前述軸線方向之面上之面。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之接續部封密構造,其中,具有在透過前述封密元件之狀態下,固定前述 第1接續部與前述第2接續部之夾鉗元件,前述第1接續部與前述第2接續部,係被形成組裝前述夾鉗元件之夾鉗凹槽,呈凸緣形狀,被設於前述第1接續部上之前述接續端面之形狀,與被設於前述第2接續部上之前述接續端面之形狀係相同,前述封密元件係前述兩端面之形狀相同。
- 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之接續部封密構造,其中,前述封密元件,在前述環狀突起被壓入前述環狀凹槽的情況下,係在與前述環狀突起的基端部之間形成環狀之間隙。
- 一種封密元件,被使用於申請專利範圍第1至9項中任一項所述之接續部封密構造。
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