TWI699611B - 鐳射投射器、相機模組和電子裝置 - Google Patents

鐳射投射器、相機模組和電子裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI699611B
TWI699611B TW108112770A TW108112770A TWI699611B TW I699611 B TWI699611 B TW I699611B TW 108112770 A TW108112770 A TW 108112770A TW 108112770 A TW108112770 A TW 108112770A TW I699611 B TWI699611 B TW I699611B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
bracket
collimating
thread
diffraction
laser
Prior art date
Application number
TW108112770A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201944163A (zh
Inventor
張學勇
Original Assignee
大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CN201810338838.XA external-priority patent/CN108594458A/zh
Priority claimed from CN201810338839.4A external-priority patent/CN108594459A/zh
Application filed by 大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司 filed Critical 大陸商Ｏｐｐｏ廣東移動通信有限公司
Publication of TW201944163A publication Critical patent/TW201944163A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI699611B publication Critical patent/TWI699611B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/025—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using glue
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/02—Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
    • G01S17/06—Systems determining position data of a target
    • G01S17/46—Indirect determination of position data
    • G01S17/48—Active triangulation systems, i.e. using the transmission and reflection of electromagnetic waves other than radio waves
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B17/00—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor
    • G03B17/48—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor adapted for combination with other photographic or optical apparatus
    • G03B17/54—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor adapted for combination with other photographic or optical apparatus with projector
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
    • G03B21/2033—LED or laser light sources
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/50—Depth or shape recovery
    • G06T7/521—Depth or shape recovery from laser ranging, e.g. using interferometry; from the projection of structured light
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/025—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/56—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof provided with illuminating means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/10—Image acquisition modality
    • G06T2207/10028—Range image; Depth image; 3D point clouds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Projection Apparatus (AREA)
  • Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)

Abstract

一種鐳射投射器。鐳射投射器包括基板組件、鏡筒組件、光源、準直元件及繞射元件。鏡筒組件設置在基板組件上，鏡筒組件包括活動連接的第一部件及第二部件，第一部件設置在基板組件上。光源設置在基板組件上。準直元件安裝在鏡筒組件上，且用於準直光源發射的鐳射。光源為邊發射鐳射器，邊發射鐳射器包括發光面，發光面朝向準直元件。繞射元件設置在第二部件上，用於繞射經準直元件準直後的鐳射以形成鐳射圖案。

Description

鐳射投射器、相機模組和電子裝置
本申請涉及立體成像技術領域，更具體而言，涉及一種鐳射投射器、相機模組和電子裝置。
鐳射投射器通常具有較小的體積，以便於將鐳射投射器集成到電子裝置，如手機中。當鐳射投射器的體積較小時，鐳射投射器中的各個部件也非常小，以致於在安裝過程中容易被損壞或者難以保證較高的安裝精度。
本申請實施方式提供一種鐳射投射器、相機模組和電子裝置。
本申請實施方式的鐳射投射器包括基板組件、鏡筒組件、光源、準直元件及繞射元件。所述鏡筒組件設置在所述基板組件上，所述鏡筒組件包括活動連接的第一部件及第二部件，所述第一部件設置在所述基板組件上。所述光源設置在所述基板組件上。所述準直元件安裝在所述鏡筒組件上，且用於準直所述光源發射的鐳射。所述光源為邊發射鐳射器，所述邊發射鐳射器包括發光面，所述發光面朝向所述準直元件。所述繞射元件設置在所述第二部件上，用於繞射經所述準直元件準直後的鐳射以形成鐳射圖案。
本申請實施方式的相機模組包括上述實施方式所述的鐳射投射器、圖像採集器和處理器。所述圖像採集器用於採集由所述鐳射投射器向目標空間中投射的鐳射圖案。所述處理器用於處理所述鐳射圖案以獲得深度圖像。
本申請實施方式的電子裝置包括殼體和上述實施方式所述的相機模組。所述相機模組設置在所述殼體內並從所述殼體暴露以獲取深度圖像。
本申請的實施方式的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或藉由本申請的實施方式的實踐瞭解到。
以下結合附圖對本申請的實施方式作進一步說明。附圖中相同或類似的標號自始至終表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。
另外，下面結合附圖描述的本申請的實施方式係示例性的，僅用於解釋本申請的實施方式，而不能理解為對本申請的限制。
在本申請中，除非另有明確的規定和限定，第一特徵在第二特徵“上”或“下”可以係第一和第二特徵直接接觸，或第一和第二特徵藉由中間媒介間接接觸。而且，第一特徵在第二特徵“之上”、“上方”和“上面”可係第一特徵在第二特徵正上方或斜上方，或僅僅表示第一特徵水準高度高於第二特徵。第一特徵在第二特徵“之下”、“下方”和“下面”可以係第一特徵在第二特徵正下方或斜下方，或僅僅表示第一特徵水準高度小於第二特徵。
本申請實施方式的鐳射投射器10包括基板組件11、鏡筒組件12、光源13、準直元件14及繞射元件15。所述鏡筒組件12設置在所述基板組件11上，所述鏡筒組件12包括活動連接的第一部件及第二部件，所述第一部件設置在所述基板組件11上。所述光源13設置在所述基板組件11上。所述準直元件14安裝在所述鏡筒組件12上，且用於準直所述光源13發射的鐳射。所述光源13為邊發射鐳射器，所述邊發射鐳射器包括發光面131，所述發光面131朝向所述準直元件14。所述繞射元件15設置在所述第二部件上，用於繞射經所述準直元件14準直後的鐳射以形成鐳射圖案。
在某些實施方式中，所述第一部件為基座121，所述第二部件為支架122，所述支架122能夠相對所述基座121沿所述鏡筒組件12的軸向運動；所述準直元件14設置在所述支架122上。
在某些實施方式中，所述基座121的頂端1211的外側壁1212上形成有外螺紋，所述支架122的底端1221的內側壁1222上形成有內螺紋，所述支架122與所述基座121藉由所述內螺紋與所述外螺紋螺合以活動連接。
在某些實施方式中，所述鐳射投射器10還包括卡止件16，所述支架122的外側壁1223上開設有卡止孔1224，所述卡止件16穿設所述卡止孔1224並能夠抵持在所述基座121上。
在某些實施方式中，所述基座121的頂端1211的內側壁1213上形成有內螺紋，所述支架122的底端1221的外側壁1223上形成有外螺紋，所述支架122與所述基座121藉由所述外螺紋與所述內螺紋螺合以活動連接。
在某些實施方式中，所述鐳射投射器10還包括鎖止件17，所述基座121的外側壁1212上開設有鎖止孔1214，所述鎖止件17穿設所述鎖止孔1214並能夠抵持在所述支架122上。
在某些實施方式中，所述基座121的頂面1216開設有環形的螺紋凹槽1215，所述支架122的底端1221的側壁上形成有螺紋，所述支架122與所述基座121藉由所述螺紋與所述螺紋凹槽1215螺合以活動連接；或
所述支架122的底面1226開設有環形的螺紋凹槽1215，所述基座121的頂端1211的側壁上形成有螺紋，所述支架122與所述基座121藉由所述螺紋凹槽1215與所述螺紋螺合以活動連接。
在某些實施方式中，所述第一部件為準直支架40，所述第二部件為繞射支架50，所述準直支架40與所述繞射支架50為分體結構；所述準直元件14由所述準直支架40支撐；所述繞射元件15由所述繞射支架50支撐。
在某些實施方式中，所述準直支架40與所述繞射支架50均承載在所述基板組件11上，所述準直支架40收容在所述繞射支架50內。
在某些實施方式中，所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述繞射支架50的底端51的內側壁54形成有內螺紋，所述準直支架40的頂端42的外側壁43形成有外螺紋，所述繞射支架50與所述準直支架40藉由所述內螺紋與所述外螺紋螺合連接；或
所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述繞射支架50的底端51的外側壁53形成有外螺紋，所述準直支架40的頂端42的內側壁44形成有內螺紋，所述繞射支架50與所述準直支架40藉由所述內螺紋與所述外螺紋螺合連接。
在某些實施方式中，所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述繞射支架50包括支架本體55及自所述支架本體55的外側壁53延伸出的環形凸台56，所述支架本體55部分收容在所述準直支架40內，所述環形凸台56固定在所述準直支架40的頂部；或
所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述繞射支架50包括支架本體55及自所述支架本體55的內側壁54延伸出的環形凸台56，所述準直支架40部分收容在所述支架本體55內，所述環形凸台56固定在所述準直支架40的頂部。
在某些實施方式中，所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述繞射支架50的底端51卡合固定在所述準直支架40的頂端42。
在某些實施方式中，所述準直支架40的頂面402開設有卡槽45，所述繞射支架50的底面501設置有彈性卡勾57，所述彈性卡勾57與所述卡槽45卡合連接。
在某些實施方式中，所述卡槽45與所述彈性卡勾57均呈環形。 在某些實施方式中，所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述準直支架40的頂面402開設有環形的螺紋槽，所述繞射支架50的底端51的側壁上形成有螺紋，所述螺紋螺合在所述螺紋槽內以將所述繞射支架50的底端51固定在所述準直支架40的頂面402上；或
所述準直支架40承載在所述基板組件11上，所述繞射支架50的底面501開設有環形的螺紋槽，所述準直支架40的頂端42的側壁上形成有螺紋，所述螺紋螺合在所述螺紋槽內以將所述準直支架40的頂端42固定在所述繞射支架50的底面501上。
在某些實施方式中，所述鐳射投射器10還包括固定件18，所述固定件18用於將所述邊發射鐳射器固定在所述基板組件11上。
在某些實施方式中，所述基板組件11包括基板111和電路板112，所述電路板112設置在所述基板111上且與所述邊發射鐳射器電連接，所述固定件18包括封膠181，所述封膠181設置在所述邊發射鐳射器與所述基板111之間，所述封膠181為導熱膠。
在某些實施方式中，所述固定件18包括設置在所述基板組件11上的至少兩個彈性的支撐架182，至少兩個所述支撐架182共同形成收容空間183，所述收容空間183用於***述邊發射鐳射器，至少兩個所述支撐架182用於支撐住所述邊發射鐳射器。
本申請實施方式的相機模組100包括上述實施方式所述的鐳射投射器10、圖像採集器20和處理器30。所述圖像採集器20用於採集由所述鐳射投射器10向目標空間中投射的鐳射圖案。所述處理器30用於處理所述鐳射圖案以獲得深度圖像。
本申請實施方式的電子裝置1000包括殼體200和上述實施方式所述的相機模組100。所述相機模組100設置在所述殼體200內並從所述殼體暴露以獲取深度圖像。
請參閱圖1和圖2，本申請提供一種電子裝置1000。電子裝置1000可以係智慧手機、智慧手環、智慧手錶、平板電腦、智慧眼鏡、智慧頭盔、體感遊戲裝置等。電子裝置1000包括殼體200和相機模組100。相機模組100設置在殼體200內並從殼體200暴露以獲取深度圖像。相機模組100包括鐳射投射器10、圖像採集器20和處理器30。鐳射投射器10用於向目標空間中投射鐳射圖案。圖像採集器20用於採集鐳射投射器10向目標空間中投射的鐳射圖案。處理器30用於獲取由圖像採集器20採集得到的鐳射圖案以獲得深度圖像。
具體地，鐳射投射器10藉由投射視窗60向目標空間中投射鐳射圖案，圖像採集器20藉由採集視窗70採集被目標物體調製後的鐳射圖案。圖像採集器20可為紅外相機，處理器30採用圖像匹配演算法計算出該鐳射圖案中各畫素點與參考圖案中的對應各個畫素點的偏離值，再根據偏離值進一步獲得該鐳射圖案的深度圖像。其中，圖像匹配演算法可為數位圖像相關(Digital Image Correlation，DIC)演算法。當然，也可以採用其它圖像匹配演算法代替DIC演算法。
如圖3所示，鐳射投射器10包括基板組件11、鏡筒組件12、光源13、準直元件14和繞射元件15。光源13、準直元件14和繞射元件15依次設置在光源13的光路上，具體地，光源13發出的光依次穿過準直元件14和繞射元件15。
基板組件11包括基板111及承載在基板111上的電路板112。基板111用於承鏡筒組件12、光源13和電路板112。基板111的材料可以係塑膠，比如聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Glycol Terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate，PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚醯亞胺(Polyimide，PI)中的至少一種。也就係說，基板111可以採用PET、PMMA、PC或PI中任意一種的單一塑膠材質製成。如此，基板111品質較輕且具有足夠的支撐強度。
電路板112可以係印刷電路板、柔性電路板、軟硬結合板中的任意一種。電路板112上可以開設有收容孔113，收容孔113內可以用於容納光源13，電路板112一部分被鏡筒組件12罩住，另一部分延伸出來並可以與連接器1a連接，連接器1a可以將鐳射投射器10連接到電子裝置1000的主機板上。
鏡筒組件12設置在基板組件11上。鏡筒組件12包括第一部件及第二部件，第一部件與第二部件活動連接，其中，第一部件設置在基板組件11上。
在如圖3至圖7所示的實施例中，第一部件為基座121，第二部件為支架122，即，鏡筒組件12包括基座121和支架122。基座121設置在基板組件11上，支架122活動連接在基座121上。具體地，基座121位於支架122與基板組件11之間，基座121與基板組件11可以藉由粘膠固定連接，基座121可以環繞光源13設置，支架122上可以安裝有準直元件14，支架122能夠相對基座121沿鏡筒組件12的軸線（如圖3中的Z軸）方向運動，以改變準直元件14與光源13的距離。
請參閱圖3和圖4，在一個例子中，基座121的頂端1211的外側壁1212上形成有外螺紋，支架122的底端1221的內側壁1222上形成有內螺紋，支架122與基座121藉由內螺紋與外螺紋螺合以活動連接。藉由轉動支架122可以使得支架122相對於基座121轉動，並在內螺紋和外螺紋的作用下，外側壁1212與內側壁1222的結合面積發生改變，以使得支架122相對於基座121沿鏡筒組件12的軸線方向運動。在實際使用中，可以藉由人為手動轉動支架122到合適位置後，再將支架122固定以使其不發生轉動以固定支架122與基座121的相對位置；也可以藉由馬達驅動支架122轉動到預定的位置，以即時控制支架122與基座121的相對位置。
在如圖3和圖4的例子中，鐳射投射器10還包括卡止件16，支架122的外側壁1223上開設有卡止孔1224，卡止件16穿設卡止孔1224並能夠抵持在基座121上。具體地，卡止件16可以係螺釘，卡止孔1224可以係螺孔，當轉動支架122到合適位置後，可以將卡止件16旋入卡止孔1224內並抵持基座121，此時，支架122不再能相對於基座121轉動。當需要再次轉動支架122時，可以旋出螺釘以使螺釘不再抵持基座121，此時，支架122可以相對於基座121轉動。
光源13用於發射鐳射。光源13設置在基板組件11上，光源13與電路板112電連接，並進一步地由電路板112與處理器30電連接。光源13可為邊發射鐳射器（edge-emitting laser，EEL），邊發射鐳射器的發光面131朝向準直元件14。具體地，光源13可為分佈回饋式鐳射器（Distributed Feedback Laser，DFB）。分佈回饋式鐳射器的溫漂較小，且為單點發光結構，無需設置陣列結構，製作簡單，鐳射投射器10的成本較低。分佈回饋式鐳射器的鐳射在傳播時，經過光柵結構的回饋獲得功率的增益，要提高分佈回饋式鐳射器的功率，需要藉由增大注入電流和/或增加分佈回饋式鐳射器的長度，由於增大注入式電流會使得分佈回饋式鐳射器的功耗增大並且出現發熱嚴重的問題，因此，為了保證分散式回饋鐳射器能夠正常工作，需要增加分佈回饋式鐳射器的長度。當分佈回饋式鐳射器的長度增加時，鐳射投射器10的高度也會隨之增加。本申請實施方式的分佈回饋式鐳射器收容在電路板112的收容孔113中，可以減小分佈回饋式鐳射器的長度增加對鐳射投射器10的高度產生的影響，同時保證分佈回饋式鐳射器能夠正常工作。
請參閱圖3和圖5，準直元件14用於準直光源13發射的鐳射，經準直後的鐳射投射到繞射元件15上，準直元件14可以係光學透鏡，例如球面透鏡、非球面透鏡、螺紋透鏡等，準直元件14設置在支架122上。可以理解，在準直元件14不變的情況下，改變準直元件14與光源13與之間的距離，可以改變被準直元件14準直後投射到繞射元件15上的鐳射的彙集程度，以使繞射元件15投射出不同的鐳射圖案。由於本申請實施方式的準直元件14設置在支架122上，藉由使支架122相對於基座121運動，可改變準直元件14與光源13的距離，以使鐳射投射器10投射出不同的鐳射圖案。
繞射元件15可以設置有繞射光柵，經準直元件14準直後的鐳射入射到繞射元件15後，會被繞射光柵繞射並形成鐳射圖案出射。在本申請實施例中，繞射元件15設置在準直元件14上，繞射元件15與準直元件14一同運動。
現有技術中，結構光投射器用於向目標空間中投射結構光圖案以獲取深度圖像，一般需要將結構光投射器的光源發射的光束通過準直透鏡，經準直透鏡準直後的光束再由繞射元件繞射出結構光圖案，而在實際安裝和使用時，由於裝配誤差等原因，準直透鏡與光源的距離往往難以達到理想的距離，導致準直透鏡的準直效果不佳。綜上，本申請實施方式的電子裝置1000中，光源13設置在基板組件11上，準直元件14設置在支架122上，可以控制支架122相對於基座121運動，以調整準直元件14與光源13的距離到需求的距離，保證較好的準直效果。採用基座121支撐準直元件14，採用支架122支撐繞射元件15，基座121和支架122為彼此獨立的分體結構，而非一體成型，如此，準直元件14和繞射元件15的安裝可分別進行，而後再進行組裝，不受空間限制，光源13、準直元件14和繞射元件15的相對位置容易調整，安裝精度易於控制，安裝的效率高。
請參閱圖3，在某些實施方式中，鐳射投射器10還包括保護罩19，保護罩19安裝在支架122上，保護罩19用於將繞射元件15限制在支架122上，避免繞射元件15從支架122上脫出。在本申請實施例中，保護罩19藉由粘膠固定在支架122上，保護罩19可以係由透光的材料製成，例如玻璃等，繞射元件15繞射出的鐳射圖案可以穿過保護罩19後從鐳射投射器10投射出去。在其他實施例中，保護罩19也可以開設有透光孔，透光孔可與繞射元件15上的繞射結構對應，繞射元件15繞射出的鐳射圖案可以穿過透光孔。
實現支架122可相對於基座121運動的結構不限於上述的討論，還可以藉由其他方式實現，下面將示例性地給出幾種可行的方式，可以理解，能夠實現的方式不限於舉例的幾種。例如，請參閱圖5，在某些實施方式中，基座121的頂端1211的內側壁1213上形成有內螺紋，支架122的底端1221的外側壁1223上形成有外螺紋。支架122與基座121藉由外螺紋與內螺紋螺合以活動連接。藉由轉動支架122可使得支架122相對於基座121轉動，並在外螺紋和內螺紋的作用下，內側壁1213與外側壁1223的結合面積發生改變，以使得支架122相對於基座121沿鏡筒組件12的軸向運動。進一步地，在如圖5所示的例子中，鐳射投射器10還包括鎖止件17，基座121的外側壁1212上開設有鎖止孔1214，鎖止件17穿設鎖止孔1214並能夠抵持在支架122上。具體地，鎖止件17可以係螺釘，鎖止孔1214可以係螺孔，當轉動支架122到合適位置後，可以將鎖止件17旋入鎖止孔1214內並抵持支架122，此時支架122不再能相對於基座121轉動。當需要再將轉動支架122時，可以旋出螺釘以使螺釘不再抵持支架122，此時，支架122可以相對於基座121轉動。
又例如，請參閱圖6，在某些實施方式中，基座121的頂面1216開設有環形的螺紋凹槽1215，支架122的底端1221的側壁（1222、1223）上形成有螺紋，支架122與基座121藉由螺紋與螺紋凹槽1215螺合以活動連接。將支架122的側壁（1222、1223）旋入螺紋凹槽1215內，轉動支架122時可使得支架122相對於基座121沿鏡筒組件12的軸向運動。具體地，螺紋可以係形成在支架122的外側壁1223上的內螺紋，同時螺紋凹槽1215的靠近基座121的外側壁1212的壁面上可以形成有外螺紋，內螺紋與外螺紋螺合；或者螺紋可以係形成在支架122的內側壁1222上的外螺紋，同時螺紋凹槽1215的靠近基座121的內側壁1213的壁面上可以形成有內螺紋，外螺紋與內螺紋螺合。螺紋也可以同時包括本實施例中形成在支架122的側壁（1222、1223）上的外螺紋和內螺紋，螺紋凹槽1215可同時與支架122的側壁（1222、1223）上的外螺紋和內螺紋配合。可以理解，此時基座121的外側壁1212上可以開設有上述的鎖止孔1214，鎖止件17可以穿過鎖止孔1214並抵持支架122，在此不再贅述。
再例如，請參閱圖7，在某些實施方式中，支架122的底面1226開設有環形的螺紋凹槽1225，基座121的頂端1211的側壁（1212、1213）上形成有螺紋，支架122與基座121藉由螺紋凹槽1225與螺紋螺合以活動連接。旋轉支架122以使基座121的側壁（1212、1213）旋入螺紋凹槽內，轉動支架122時可使得支架122相對於基座121沿鏡筒組件12的軸向運動。具體地，螺紋可以係形成在基座121的外側壁1212上的內螺紋，同時螺紋凹槽1225的靠近支架122的外側壁1223的壁面上可以形成有外螺紋，內螺紋與外螺紋螺合；或者螺紋可以係形成在基座121的內側壁1213上的外螺紋，同時螺紋凹槽1225的靠近支架122的內側壁1222的壁面上形成有內螺紋，外螺紋與內螺紋螺合。螺紋也可以同時包括本實施例中的形成在基座121的側壁（1212、1213）上外螺紋和內螺紋，螺紋凹槽1225可同時與基座121的側壁（1212、1213）上的外螺紋和內螺紋配合。可以理解，此時支架122的外側壁1223上可以開設有上述的卡止孔1224，卡止件16可以穿過卡止孔1224並抵持基座121，在此不再贅述。
圖8至圖16為本申請另一些實施方式，與上述圖3至圖7所示的實施方式不同之處在於：
第一部件為準直支架40，第二部件為繞射支架50，即，鏡筒組件12包括準直支架40和繞射支架50，準直支架40與繞射支架50為各自獨立的分體結構。在本實施例中，準直元件14由準直支架40支撐。繞射元件15由繞射支架50支撐。
具體地，請參閱圖8，準直支架40承載在基板組件11上，繞射支架50也承載在基板組件11上。準直支架40的底面401藉由黏膠40a粘接在基板組件11上，繞射支架50的底面501也藉由黏膠50a粘接在基板組件11上。準直支架40收容在繞射支架50內。
保護罩19承載在繞射支架50上，可藉由黏膠與繞射支架50進行粘接，以固定連接保護罩19與繞射支架50。保護罩19能夠在防止繞射元件15脫落的同時，還能夠避免繞射元件15裸露在鏡筒的外面，從而使得繞射元件15防水防塵。當然，在其他實施方式中，保護罩19可以開設有透光孔，透光孔與繞射元件15的面積最大的光學有效區相對以避免遮擋繞射元件15的光路。
本實施例的鐳射投射器10採用準直支架40支撐準直元件14，採用繞射支架50支撐繞射元件15，準直支架40和繞射支架50為彼此獨立的分體結構，而非一體成型，如此，準直元件14和繞射元件15的安裝可分別進行，而後再進行組裝，不受空間限制，光源13、準直元件14和繞射元件15的相對位置容易調整，安裝精度易於控制，安裝的效率高。
在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上時，電路板112上承載準直支架40的位置也可開設有環形的容置孔。如此，準直支架40可部分收容在容置孔內，準直支架40的底面401塗覆黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與基板62固定連接，可減小鐳射投射器10的高度。同樣地，繞射支架50承載在基板組件11上時，電路板112上承載繞射支架50的位置也可開設有環形的容置孔。如此，繞射支架50可部分收容在容置孔內，繞射支架50的底面501塗覆有黏膠50a，繞射支架50藉由黏膠50a與基板62固定連接，可減小鐳射投射器10的高度。
請參閱圖9，在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上，具體地，準直支架40的底面401塗覆有黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與電路板112固定連接。繞射支架50的底端51的內側壁54形成有內螺紋，準直支架40的頂端42的外側壁43形成有外螺紋，繞射支架50的內螺紋與準直支架40的外螺紋螺合連接。如此，繞射支架50和準直支架40藉由螺合方式連接，穩固性較高，且安裝較為方便。另外，準直支架40部分收容在繞射支架50內，從準直元件14出射的鐳射可以全部入射到繞射元件15中，鐳射的利用效率更高。
請參閱圖10，在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上，具體地，準直支架40的底面401塗覆有黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與電路板112固定連接。繞射支架50的底端51的外側壁53形成有外螺紋，準直支架40的頂端42的內側壁44形成有內螺紋，繞射支架50的外螺紋與準直支架40的內螺紋螺合連接。如此，繞射支架50和準直支架40藉由螺合方式連接，穩固性較高，且安裝較為方便。
請參閱圖11，在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上，具體地，準直支架40的底面401塗覆有黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與電路板112固定連接。繞射支架50包括支架本體55及自支架本體55的外側壁53延伸出的環形凸台56。支架本體55部分收容在準直支架40內，環形凸台56固定在準直支架40的頂部。具體地，環形凸台56的底面561塗覆有黏膠40b，環形凸台56藉由黏膠40b與準直支架40的頂面402固定粘接。如此，準直支架40與繞射支架50藉由黏膠40b進行粘接，安裝較為方便，且環形凸台56可以防止繞射支架50向準直元件14的方向脫落。鏡筒組件12的穩固性更高。
請參閱圖12，在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上，具體地，準直支架40的底面401塗覆有黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與電路板112固定連接。繞射支架50包括支架本體55及自支架本體55的內側壁54延伸出的環形凸台56。準直支架40部分收容在支架本體55內，環形凸台56固定在準直支架40的頂部。具體地，環形凸台56的底面561塗覆有黏膠40b，環形凸台56藉由黏膠40b與準直支架40的頂面402固定粘接。如此，準直支架40與繞射支架50藉由黏膠40b進行粘接，安裝較為方便，且環形凸台56可以防止繞射支架50向準直元件14的方向脫落。鏡筒組件12的穩固性更高。另外，準直支架40部分收容在繞射支架50內，從準直元件14出射的鐳射可以全部入射到繞射元件15中，鐳射的利用效率更高。
進一步地，在某些實施方式中，環形凸台56還可用於承載繞射元件15，此時，環形凸台56的底面561藉由黏膠40b與準直支架40的頂面402粘接，環形凸台56的頂面562與繞射元件15的入射面151相抵觸。如此，可以避免繞射元件15的脫落，使繞射元件15更加穩固地設置在繞射支架50上。
請一併參閱圖13和圖14，在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上，具體地，準直支架40的底面401塗覆有黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與電路板112固定連接。繞射支架50的底端51卡合固定在準直支架40的頂端42。準直支架40的頂面402開設有卡槽45，繞射支架50的底面501設置有彈性卡勾57。卡槽45的數量與彈性卡勾57的數量均為複數（大於等於兩個），複數卡槽45的設置位置與複數彈性卡勾57的設置位置一一對應。如此，繞射支架50的彈性卡勾57與準直支架40的卡槽45卡合連接。如此，繞射支架50與準直支架40藉由卡合方式連接，穩固性較高，且安裝較為方便。
當然，在某些實施方式中，彈性卡勾57可以設置在準直支架40的頂面402，卡槽45可以設置在繞射支架50的底面501。卡槽45的數量與彈性卡勾57的數量均為複數，複數卡槽45的設置位置與複數彈性卡勾57的設置位置一一對應。準直支架40的彈性卡勾57與繞射支架50的卡槽45卡合連接。卡槽45與彈性卡勾57的數量也可以均為一個，此時，卡槽45與卡勾57均為完整的環形結構。
請參閱圖15和圖16，在某些實施方式中，準直支架40承載在基板組件11上，具體地，準直支架40的底面401塗覆有黏膠40a，準直支架40藉由黏膠40a與電路板112固定連接。準直支架40的頂面402開設有環形的螺紋槽46，繞射支架50的底端51的側壁上形成有螺紋。具體地，螺紋槽46的第一內壁461形成有外螺紋，繞射支架50的底端51的內側壁54上形成有內螺紋，內側壁54上的內螺紋與螺紋槽46的外螺紋螺合連接，以實現繞射支架50與準直支架40的固定連接。或者，螺紋槽46的第二內壁462形成有內螺紋，繞射支架50的底端51的外側壁53上形成有外螺紋，外側壁53上的外螺紋與螺紋槽46的內螺紋螺合連接，以實現繞射支架50與準直支架40的固定連接。如此，繞射支架50和準直支架40藉由螺合方式連接，穩固性較高，且安裝較為方便。
請參閱圖3和圖17，在某些實施方式中，鐳射投射器10還包括固定件18。具體地，光源13呈柱狀，光源13遠離基板112的一個端面形成發光面131。鐳射從發光面131發出，發光面131朝向準直元件14。光源13固定在基板112上。固定件可為封膠181，光源13藉由封膠181粘接在基板112上，例如，光源13的與發光面131相背的一面粘接在基板112上。請結合圖18，光源13的側面132也可粘接在基板112上，封膠181包裹住四周的側面132，也可以僅粘接側面132的某一個面與基板112或粘接某幾個面與基板112。此時封膠181可為導熱膠，以將光源13工作產生的熱量傳導至基板112中。由於邊發射鐳射器通常呈細條狀，當邊發射鐳射器的發光面131朝向準直元件14時，邊發射鐳射器豎直放置，此時邊發射鐳射器容易出現跌落、移位或晃動等意外，因此藉由設置封膠181能夠將邊發射鐳射器固定住，防止邊發射鐳射器發射跌落、移位或晃動等意外。
請參閱圖19，在某些實施方式中，固定件18還可為彈性的支撐架182。支撐架182的個數為兩個或兩個以上。複數支撐架182共同形成收容空間183。收容空間183用於收容光源13，複數支撐架182支撐住光源13，如此，可以防止光源13發生晃動。
進一步地，如圖15所示，基板111開設有散熱孔1111。散熱孔1111內可以填充導熱膠以為光源13散熱。
在本說明書的描述中，參考術語“某些實施方式”、“一個實施方式”、“一些實施方式”、“示意性實施方式”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”的描述意指結合所述實施方式或示例描述的具體特徵、結構、材料或者特點包含於本申請的至少一個實施方式或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的係相同的實施方式或示例。而且，描述的具體特徵、結構、材料或者特點可以在任何的一個或複數實施方式或示例中以合適的方式結合。
此外，術語“第一”、“第二”僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特徵可以明示或者隱含地包括至少一個所述特徵。在本申請的描述中，“複數”的含義係至少兩個，例如兩個，三個，除非另有明確具體的限定。
儘管上面已經示出和描述了本申請的實施例，可以理解的係，上述實施例係示例性的，不能理解為對本申請的限制，本領域的普通技術人員在本申請的範圍內可以對上述實施例進行變化、修改、替換和變型，本申請的範圍由申請專利範圍及其等同物限定。
1000‧‧‧電子裝置 100‧‧‧相機模組 1a‧‧‧連接器 10‧‧‧鐳射投射器 11‧‧‧基板組件 111‧‧‧基板 112‧‧‧電路板 113‧‧‧收容孔 12‧‧‧鏡筒組件 121‧‧‧基座 1211、42‧‧‧頂端 1212、1223、43、53‧‧‧外側壁 1213、1222、44、54‧‧‧內側壁 1214‧‧‧鎖止孔 1215、 1225‧‧‧螺紋凹槽 1216、 402、562‧‧‧頂面 122‧‧‧支架 1221、51‧‧‧底端 1224‧‧‧卡止孔 1226、401、501、561‧‧‧底面 13‧‧‧光源 131‧‧‧發光面 132‧‧‧側面 14‧‧‧準直元件 15‧‧‧繞射元件 16‧‧‧卡止件 17‧‧‧鎖止件 18‧‧‧固定件 181‧‧‧封膠 182‧‧‧支撐架 183‧‧‧收容空間 19‧‧‧保護罩 20‧‧‧圖像採集器 30‧‧‧處理器 40‧‧‧準直支架 40a、40b、50a‧‧‧黏膠 45‧‧‧卡槽 46‧‧‧螺紋槽 461‧‧‧第一內壁 462‧‧‧第二內壁 50‧‧‧繞射支架 55‧‧‧支架本體 56‧‧‧環形凸台 57‧‧‧彈性卡勾 60‧‧‧投射窗口 70‧‧‧採集窗口 200‧‧‧殼體
本申請的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施方式的描述中將變得明顯和容易理解，其中： 圖1係本申請實施方式的電子裝置的結構示意圖； 圖2係本申請實施方式的相機模組的結構示意圖； 圖3係本申請實施方式的鐳射投射器的結構示意圖； 圖4係圖3所示的鐳射投射器的的IV部分的放大示意圖； 圖5至圖7係本申請另外的實施方式的鐳射投射器的結構示意圖； 圖8至圖13係本申請另外的實施方式的鐳射投射器的結構示意圖； 圖14係圖13中鐳射投射器的XIV部分的放大示意圖； 圖15係本申請另外的實施方式的鐳射投射器的結構示意圖； 圖16係圖15中鐳射投射器沿XVI-XVI線的截面示意圖； 圖17至圖19係本申請實施方式的鐳射投射器的部分結構示意圖。
10‧‧‧鐳射投射器
11‧‧‧基板組件
111‧‧‧基板
112‧‧‧電路板
113‧‧‧收容孔
12‧‧‧鏡筒組件
121‧‧‧基座
1211‧‧‧頂端
122‧‧‧支架
1221‧‧‧底端
13‧‧‧光源
131‧‧‧發光面
14‧‧‧準直元件
15‧‧‧繞射元件
19‧‧‧保護罩
1a‧‧‧連接器

Claims (17)

  1. 一種鐳射投射器，其改進在於，包括：基板組件；鏡筒組件，所述鏡筒組件設置在所述基板組件上，所述鏡筒組件包括活動連接的第一部件及第二部件，所述第一部件設置在所述基板組件上；光源，所述光源設置在所述基板組件上；準直元件，所述準直元件安裝在所述鏡筒組件上，且用於準直所述光源發射的鐳射，所述光源為邊發射鐳射器，所述邊發射鐳射器包括發光面，所述發光面朝向所述準直元件；繞射元件，所述繞射元件設置在所述第二部件上，用於繞射經所述準直元件準直後的鐳射以形成鐳射圖案；和至少兩個彈性的支撐架，所述支撐架設置在所述基板組件上，至少兩個所述支撐架共同形成收容空間，所述收容空間用於***述邊發射鐳射器，至少兩個所述支撐架用於支撐住所述邊發射鐳射器。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述的鐳射投射器，其中，所述第一部件為基座，所述第二部件為支架，所述支架能夠相對所述基座沿所述鏡筒組件的軸向運動；所述準直元件設置在所述支架上。
  3. 根據申請專利範圍第2項所述的鐳射投射器，其中，所述基座的頂端的外側壁上形成有外螺紋，所述支架的底端的內側壁上形成有內螺紋，所述支架與所述基座藉由所述內螺紋與所述外螺紋螺合以活動連接。
  4. 根據申請專利範圍第2項或第3項所述的鐳射投射器，其中，所述鐳射投射器還包括卡止件，所述支架的外側壁上開設有卡止孔，所述卡止件穿設所述卡止孔並能夠抵持在所述基座上。
  5. 根據申請專利範圍第2項所述的鐳射投射器，其中，所述基座的頂端的內側壁上形成有內螺紋，所述支架的底端的外側壁上形成有外螺紋，所述支架與所述基座藉由所述外螺紋與所述內螺紋螺合以活動連接。
  6. 根據申請專利範圍第2項或第5項所述的鐳射投射器，其中，所述鐳射投射器還包括鎖止件，所述基座的外側壁上開設有鎖止孔，所述鎖止件穿設所述鎖止孔並能夠抵持在所述支架上。
  7. 根據申請專利範圍第2項所述的鐳射投射器，其中，所述基座的頂面開設有環形的螺紋凹槽，所述支架的底端的側壁上形成有螺紋，所述支架與所述基座藉由所述螺紋與所述螺紋凹槽螺合以活動連接；或所述支架的底面開設有環形的螺紋凹槽，所述基座的頂端的側壁上形成有螺紋，所述支架與所述基座藉由所述螺紋凹槽與所述螺紋螺合以活動連接。
  8. 根據申請專利範圍第1項所述的鐳射投射器，其中，所述第一部件為準直支架，所述第二部件為繞射支架，所述準直支架與所述繞射支架為分體結構；所述準直元件由所述準直支架支撐；所述繞射元件由所述繞射支架支撐。
  9. 根據申請專利範圍第8項所述的鐳射投射器，其中，所述準直支架與所述繞射支架均承載在所述基板組件上，所述準直支架收容在所述繞射支架內。
  10. 根據申請專利範圍第8項所述的鐳射投射器，其中，所述準直支架承載在所述基板組件上，所述繞射支架的底端的內側壁形成有內螺紋，所述準直支架的頂端的外側壁形成有外螺紋，所述繞射支架與所述準直支架藉由所述內螺紋與所述外螺紋螺合連接；或所述準直支架承載在所述基板組件上，所述繞射支架的底端的外側壁形成有外螺紋，所述準直支架的頂端的內側壁形成有內螺紋，所述繞射支架與所述準直支架藉由所述內螺紋與所述外螺紋螺合連接。
  11. 根據申請專利範圍第8項所述的鐳射投射器，其中，所述準直支架承載在所述基板組件上，所述繞射支架包括支架本體及自所述支架本體的外側壁延伸出的環形凸台，所述支架本體部分收容在所述準直支架內，所述環形凸台固定在所述準直支架的頂部；或所述準直支架承載在所述基板組件上，所述繞射支架包括支架本體及自所述支架本體的內側壁延伸出的環形凸台，所述準直支架部分收容在所述支架本體內，所述環形凸台固定在所述準直支架的頂部。
  12. 根據申請專利範圍第8項所述的鐳射投射器，其中，所述準直支架承載在所述基板組件上，所述繞射支架的底端卡合固定在所述準直支架的頂端。
  13. 根據申請專利範圍第12項所述的鐳射投射器，其中，所述準直支架的頂面開設有卡槽，所述繞射支架的底面設置有彈性卡勾，所述彈性卡勾與所述卡槽卡合連接。
  14. 根據申請專利範圍第13項所述的鐳射投射器，其中，所述卡槽與所述彈性卡勾均呈環形。
  15. 根據申請專利範圍第8項所述的鐳射投射器，其中，所述準直支架承載在所述基板組件上，所述準直支架的頂面開設有環形的螺紋槽，所述繞射支架的底端的側壁上形成有螺紋，所述螺紋螺合在所述螺紋槽內以將所述繞射支架的底端固定在所述準直支架的頂面上；或所述準直支架承載在所述基板組件上，所述繞射支架的底面開設有環形的螺紋槽，所述準直支架的頂端的側壁上形成有螺紋，所述螺紋螺合在所述螺紋槽內以將所述準直支架的頂端固定在所述繞射支架的底面上。
  16. 一種相機模組，其改進在於，包括：申請專利範圍第1項至第15項任意一項所述的鐳射投射器； 圖像採集器，所述圖像採集器用於採集由所述鐳射投射器向目標空間中投射的鐳射圖案；和處理器，所述處理器用於處理所述鐳射圖案以獲得深度圖像。
  17. 一種電子裝置，其特徵在於，包括：殼體；和申請專利範圍第16項所述的相機模組，所述相機模組設置在所述殼體內並從所述殼體暴露以獲取深度圖像。
TW108112770A 2018-04-16 2019-04-11 鐳射投射器、相機模組和電子裝置 TWI699611B (zh)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810338838.X 2018-04-16
??201810338838.X 2018-04-16
CN201810338839.4 2018-04-16
CN201810338838.XA CN108594458A (zh) 2018-04-16 2018-04-16 激光投射器、相机模组及电子设备
??201810338839.4 2018-04-16
CN201810338839.4A CN108594459A (zh) 2018-04-16 2018-04-16 激光投射器、相机模组和电子装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201944163A TW201944163A (zh) 2019-11-16
TWI699611B true TWI699611B (zh) 2020-07-21

Family

ID=66182366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108112770A TWI699611B (zh) 2018-04-16 2019-04-11 鐳射投射器、相機模組和電子裝置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10823852B2 (zh)
EP (1) EP3557298A1 (zh)
TW (1) TWI699611B (zh)
WO (1) WO2019201010A1 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108344376A (zh) * 2018-03-12 2018-07-31 广东欧珀移动通信有限公司 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN110031830B (zh) * 2019-04-29 2020-11-03 清华大学深圳研究生院 一种基于激光线扫描成像的测距方法
CN112019660B (zh) * 2019-05-31 2021-07-30 Oppo广东移动通信有限公司 电子装置的控制方法及电子装置
CN110974226A (zh) * 2019-11-29 2020-04-10 上海联影医疗科技有限公司 医学设备的照明装置及具有其的医学设备
CN113534472B (zh) * 2020-04-16 2023-06-13 三赢科技（深圳）有限公司 光束整合器
CN111443497B (zh) * 2020-05-13 2023-11-28 东莞埃科思科技有限公司 一种激光投射模组、深度成像装置及转换镜头的选定方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201639908A (zh) * 2012-02-29 2016-11-16 Polyplastics Co 照像機模組用液晶性樹脂組合物
CN206209271U (zh) * 2016-11-24 2017-05-31 深圳奥比中光科技有限公司 一种激光投影装置以及深度相机
US20170187997A1 (en) * 2015-12-28 2017-06-29 Himax Technologies Limited Projector, electronic device having projector and associated manufacturing method
CN107102506A (zh) * 2017-07-07 2017-08-29 深圳奥比中光科技有限公司 光学投影装置及其深度相机
CN107167997A (zh) * 2017-06-05 2017-09-15 深圳奥比中光科技有限公司 激光投影模组及深度相机

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000019374A (ja) * 1998-06-29 2000-01-21 Murata Mfg Co Ltd フォーカスユニット及び画像形成装置
US20070019103A1 (en) 2005-07-25 2007-01-25 Vkb Inc. Optical apparatus for virtual interface projection and sensing
US20160025993A1 (en) * 2014-07-28 2016-01-28 Apple Inc. Overlapping pattern projector
CN203797573U (zh) * 2014-04-23 2014-08-27 伍必胜 一种灯具调焦结构及使用该结构的射灯和筒灯
US10199801B2 (en) * 2014-11-10 2019-02-05 Sanhe Laserconn Tech Co., Ltd. High-power semiconductor laser based on VCSEL and optical convergence method therefor
CN205228396U (zh) * 2015-11-17 2016-05-11 高斯泰克（北京）科技有限公司 光路支架及投影装置、结构光三维测量设备
KR102410030B1 (ko) * 2016-03-02 2022-06-17 옵토튠 컨슈머 아게 광학 장치, 특히, 자동초점, 이미지 흔들림 방지 및 초-고해상도 기능을 포함하는 카메라
WO2017159859A1 (ja) * 2016-03-18 2017-09-21 住友電気工業株式会社 赤外線レンズユニット
TWM559423U (zh) * 2016-06-23 2018-05-01 Ningbo Sunny Opotech Co Ltd 定焦攝像模組
CN206805630U (zh) 2017-05-19 2017-12-26 深圳奥比中光科技有限公司 基于vcsel阵列光源的结构光投影模组
CN107229173B (zh) * 2017-06-14 2023-10-31 奥比中光科技集团股份有限公司 投影模组及其制造方法以及深度相机
US20200026080A1 (en) * 2017-11-28 2020-01-23 North Inc. Wavelength combiner photonic integrated circuit with edge coupling of lasers
US10310281B1 (en) * 2017-12-05 2019-06-04 K Laser Technology, Inc. Optical projector with off-axis diffractive element
CN108594459A (zh) * 2018-04-16 2018-09-28 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射器、相机模组和电子装置
CN108594458A (zh) * 2018-04-16 2018-09-28 Oppo广东移动通信有限公司 激光投射器、相机模组及电子设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201639908A (zh) * 2012-02-29 2016-11-16 Polyplastics Co 照像機模組用液晶性樹脂組合物
US20170187997A1 (en) * 2015-12-28 2017-06-29 Himax Technologies Limited Projector, electronic device having projector and associated manufacturing method
CN206209271U (zh) * 2016-11-24 2017-05-31 深圳奥比中光科技有限公司 一种激光投影装置以及深度相机
CN107167997A (zh) * 2017-06-05 2017-09-15 深圳奥比中光科技有限公司 激光投影模组及深度相机
CN107102506A (zh) * 2017-07-07 2017-08-29 深圳奥比中光科技有限公司 光学投影装置及其深度相机

Also Published As

Publication number Publication date
US20190317216A1 (en) 2019-10-17
WO2019201010A1 (zh) 2019-10-24
EP3557298A1 (en) 2019-10-23
US10823852B2 (en) 2020-11-03
TW201944163A (zh) 2019-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI699611B (zh) 鐳射投射器、相機模組和電子裝置
TWI702391B (zh) 繞射光學組件、鐳射投射模組、深度相機和電子裝置
CN108490631B (zh) 结构光投射器、图像获取结构和电子装置
TWI771569B (zh) 鐳射投射模組、深度相機及電子裝置
WO2019233103A1 (zh) 衍射光学元件、光电模组、输入输出组件及电子设备
CN108415209B (zh) 结构光投射模组、摄像组件和电子装置
WO2019174434A1 (zh) 结构光投射器、深度相机和电子设备
CN108303757B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108388065B (zh) 结构光投射器、光电设备和电子装置
CN108303756B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN207780465U (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108594458A (zh) 激光投射器、相机模组及电子设备
CN108563032A (zh) 结构光投射器、摄像组件和电子设备
CN108594459A (zh) 激光投射器、相机模组和电子装置
US10962870B2 (en) Laser projection unit, depth camera and electronic device
CN108594449B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
WO2020253686A1 (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508619B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508618B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN108508623B (zh) 激光投射模组、深度相机和电子装置
CN112558259B (zh) 激光投射模组的组装方法