TWI643681B - 塗佈裝置及塗佈方法 - Google Patents

Abstract

提供一種塗佈裝置及塗佈方法，在構成塗膜形成單元而該塗膜形成單元為利用連結部將噴嘴與硬化手段加以連結之情況下，可適當地確保噴嘴之移行速度(塗佈處理速度)而進行適切之塗佈處理，同時可適切地進行硬化處理開始時刻之調整，並且可適切地進行硬化處理速度(硬化處理時間)之調整。

本發明之塗佈裝置1，係使塗膜形成單元6在基板2之長度方向上移行移動，該塗膜形成單元6係經由連結部9而連結有噴吐塗液之噴嘴8及使塗液產生硬化之硬化手段10，並且在藉由噴嘴對基板進行塗佈處理之後，利用硬化手段對塗佈在基板上之塗液進行硬化處理，該塗佈裝置1係於連結部具備有滑動機構11，該滑動機構11係作為調整噴嘴與硬化手段之水平方向間隔D的調整機構，並且由螺軸11a及螺帽11b所形成。

Description

塗佈裝置及塗佈方法

本發明係關於一種塗佈裝置及塗佈方法，於構成以連結部連結噴嘴與硬化手段而成之塗膜形成單元之情況下，可妥適地確保噴嘴之移行速度(塗佈處理速度)而進行適宜之塗佈處理，同時可適宜地進行硬化處理開始時刻之調整，而且還可妥適地進行硬化處理速度(硬化處理時間)之調整。

習知有一種基板之塗佈裝置(例如，稱為桌台式塗佈機(table coater)(日本國登錄商標)等)，其以自可昇降地支持於移行在噴嘴用移行軌道之噴嘴用支持柱之噴嘴噴吐之塗液，對載置於工作台(表面平板)上之基板進行塗佈。作為此種塗佈裝置已知有專利文獻1~3之塗佈裝置，其等具備用以使塗佈於基板上之塗液硬化之硬化手段。

專利文獻1之「圖案形成方法及圖案形成裝置」，係自噴吐噴嘴前端之噴吐口朝基板噴吐塗佈液，並自第1照射光源對剛塗佈於基板後之塗佈液照射波長365nm之UV光。藉此，將塗佈液之表面硬化。接著，自第2照射光源對受到前面之UV光之照射之塗佈液照射更長波長(例如，385nm或395nm)之UV光。由於長波長之光穿透至塗佈液之更內部，因而促進了內部之硬化。照射光源係經由頭部之底座及注射泵而與噴吐噴嘴連結。

專利文獻2之「狹縫塗佈式塗佈裝置」，係具備保持基板之保持台；及與上述基板之保持於上述保持台之保持面之相反側的塗佈面對向地設置有供液體流出之狹縫狀之噴嘴開口之塗佈頭，藉由使上述基板與上述塗佈頭相對於上述塗佈面之面方向進行相對移動，將液體塗佈於上述基板之上述塗佈面，且該狹縫塗佈式塗佈裝置設置有加熱手段，其一方面藉由上述塗佈頭將液體塗佈於上述基板，一方面對剛塗佈於該基板後之液體進行加熱。

專利文獻3之「薄膜形成裝置及薄膜形成方法」，係具備吸附保持塗佈對象物之吸附台；一方面自噴射式噴嘴朝吸附保持於吸附台之塗佈對象物之表面噴吐塗佈材料一方面進行薄膜形成之複數個塗佈頭；及使塗佈頭於塗佈對象物之上方位置進行移動之支架，且於支架上更具備對塗佈對象物之表面進行加熱之熱源裝置。熱源裝置係經由支架而與塗佈頭連結。

任一之專利文獻中，使塗液硬化、對液體或塗佈對象物之表面進行加熱之照射光源、加熱手段、熱源裝置、及吐出裝置等，皆相隔一定之間隔而被連結固定。

[先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2012-143691號公報

專利文獻2：日本專利特開2005-218969號公報

專利文獻3：日本專利特開2013-000656號公報

與上述專利文獻同樣地，如圖8所示，若由噴吐塗液e而進行塗佈處理之噴嘴f、照射UV光i等而對塗液e進行硬化處理之硬化手段g、及相隔一定之間隔(圖中，間隔LX：不變)將這些硬化手段g與噴嘴f連結固定之連結部h，構成為了將塗膜c形成於載置在平板a上之基板b而移行移動之塗膜形成單元d，則首先就無法對硬化手段g與噴嘴f之間隔LX進行變更調整。

若間隔LX恆定不變，則噴嘴f之塗液噴吐時刻、與硬化手段g到達該時刻所噴吐之塗液e之位置並開始硬化處理之硬化處理開始時刻之時間間隔，係根據塗膜形成單元d之移行速度VX(噴嘴f及硬化手段g之移動速度也相同)而決定之一定的時間(間隔LX/移行速度VX)。

塗膜形成單元d之移行速度VX，通常係根據塗佈處理而設定。關於塗佈處理，例如根據塗液e之種類(黏度及材質等)及膜厚等之條件，其具有較理想之塗佈處理速度(移行速度VX)。另一方面，關於硬化處理，其與塗佈處理相同，例如，根據塗液e之種類及膜厚等之條件，也有開始進行所塗佈之塗液e之硬化處理之較理想之硬化處理開始時間。

若噴嘴f與硬化手段g係由連結部h連結且這些間隔LX恆定不變，則如上述，由於自塗液噴吐時刻至硬化處理開始時刻為止之時間間隔已由移行速度VX所決定，因此若以使塗佈處理優先之移行速度VX進行硬化處理，則有硬化處理開始時刻過早、過遲，而無法以正確之硬化處理開始時刻開始進行硬化處理，從而有無法適宜地進行硬化處理之問題。

相反地，若設定為配合使硬化處理優先而可適宜地進 行硬化處理之時間間隔之移行速度VX，則需要藉由基於硬化處理之移行速度VX自噴嘴f噴吐塗液e，這又有噴吐量等之控制變得複雜，而且無法適宜地進行塗佈處理之問題。

其次，噴嘴f之移動速度與硬化手段g之移動速度成為相同速度VX，而無法對塗佈處理速度與硬化處理速度進行變更調整。關於塗佈處理，具有如上述之較理想之塗佈處理速度。另一方面，硬化處理也同樣地，根據塗液之種類及膜厚等，具有較理想之硬化處理速度。

於單位時間之硬化處理能恆定時，於硬化處理速度較慢之情況下，硬化處理時間變長，造成對塗液e之硬化處理能增大，於較快之情況下，硬化處理時間變短，造成硬化處理能減小。

若使塗佈處理優先來設定移動速度(塗膜形成單元之移行速度VX)，則硬化手段g只能以相同速度進行移動，因此無法適宜地確保硬化處理速度(硬化處理時間)，而有硬化處理能量過剩或不足，無法妥適地進行硬化處理之問題。相反地，若使硬化處理優先，則與第1情況同樣地，有無法適宜地進行塗佈處理之問題。

根據以上情況，於以連結部h且相隔恆定不變之間隔LX將硬化手段g與噴嘴f連結固定而成之塗膜形成單元d中，具有不容易形成膜厚及膜質等均勻且品質高之塗膜之問題。

本發明係鑑於上述習知之課題而發明者，其目的在於提供一種塗佈裝置及塗佈方法，於構成以連結部連結噴嘴及硬化手段而成之塗膜形成單元之情況下，可妥適地確保噴嘴之移行速度(塗佈處理速度)而進行適宜之塗佈處理，同時可適宜地進行硬化處理開始時刻之調整，而且還可適宜地進行硬化處理速度(硬化處理 時間)之調整。

本發明之塗佈裝置，係使塗膜形成單元在基板之長度方向上移行移動，該塗膜形成單元係經由連結部而連結有噴吐塗液之噴嘴及使塗液產生硬化之硬化手段，並且在藉由該噴嘴對基板進行塗佈處理之後，利用該硬化手段對塗佈在基板上之塗液進行硬化處理，其特徵在於：於上述連結部，具備有調整上述噴嘴與上述硬化手段之水平方向間隔的調整機構。

其特徵在於：上述調整機構係具備有用以使上述硬化手段相對於上述噴嘴進行而相對移動之驅動手段。

其特徵在於：上述調整機構係為使上述硬化手段沿著基板之長度方向而可滑動之滑動機構。

其特徵在於：上述調整機構係為使上述硬化手段沿著基板面而可旋轉之旋轉機構。

其特徵在於：上述硬化手段係在基板之寬度方向上排列有複數個，並且上述連結部係用於將該等硬化手段以個別之方式連結至上述噴嘴而設置有複數個。

本發明之塗佈方法，其特徵在於：使用具備有上述調整機構之塗佈裝置，在藉由上述調整機構而將上述噴嘴與上述硬化手段之水平方向間隔加以設定之後，使上述塗膜形成單元移行移動，而進行藉由該噴嘴所執行之塗佈處理及藉由該硬化手段所執行之硬化處理。

本發明之塗佈方法，其特徵在於：使用具備有具有上述驅動手段之調整機構的塗佈裝置，在使上述塗膜形成單元移行移 動而進行藉由該噴嘴所執行之塗佈處理之時，一方面利用上述驅動手段使上述硬化手段相對於上述噴嘴而進行相對移動，一方面進行硬化處理。

本發明之塗佈裝置及塗佈方法，於構成以連結部連結噴嘴及硬化手段而成之塗膜形成單元之情況下，可妥適地確保噴嘴之移行速度(塗佈處理速度)而進行適宜之塗佈處理，同時可適宜地進行硬化處理開始時刻之調整，而且還可妥適地進行硬化處理速度(硬化處理時間)之調整。

1‧‧‧塗佈裝置

2‧‧‧基板

2a‧‧‧塗佈開始端

2b‧‧‧塗佈終端

3‧‧‧平板

4‧‧‧基台

5‧‧‧移行軌道

6‧‧‧塗膜形成單元

7‧‧‧移行體

7a‧‧‧柱部

7b‧‧‧梁部

7c‧‧‧前進移行方向前面

7d‧‧‧昇降用狹縫

7e‧‧‧前進移行方向後面

8‧‧‧噴嘴

9‧‧‧連結部

10‧‧‧硬化手段

11‧‧‧滑動機構

11a‧‧‧螺軸

11b‧‧‧螺帽

12‧‧‧馬達

13‧‧‧旋轉機構

14‧‧‧支持構件

14a‧‧‧後端

15‧‧‧擺臂

15a‧‧‧一端

16‧‧‧旋轉軸

C‧‧‧塗液

D‧‧‧水平方向間隔

F‧‧‧UV光

L‧‧‧基板之長度

V‧‧‧移行體之移行速度(塗佈處理速度)

Va‧‧‧硬化手段之移動速度

a‧‧‧平板

b‧‧‧基板

c‧‧‧塗膜

d‧‧‧塗膜形成單元

e‧‧‧塗液

f‧‧‧噴嘴

g‧‧‧硬化手段

h‧‧‧連結部

i‧‧‧UV光

LX‧‧‧間隔

VX‧‧‧移行速度

θ‧‧‧擺臂之角度

圖1為顯示本發明之塗佈裝置之第1實施形態之立體圖。

圖2為圖1所示之塗佈裝置之俯視圖。

圖3為顯示利用圖1所示之塗佈裝置於基板上形成塗膜之狀況之側視圖。

圖4為對本發明之塗佈方法之較佳實施形態進行說明之概要說明圖。

圖5為顯示第1實施形態之變形例之塗佈裝置之俯視圖。

圖6為顯示本發明之塗佈裝置之第2實施形態之俯視圖。

圖7為沿圖6中A方向箭視部分放大圖。

圖8為說明背景技術之說明圖。

以下，參照所附圖式對本發明之塗佈裝置及塗佈方法之較佳實施形態詳細進行說明。圖1為顯示本發明之塗佈裝置之第 1實施形態之立體圖，圖2為圖1所示之塗佈裝置之俯視圖，圖3為顯示利用圖1所示之塗佈裝置於基板上形成塗膜之狀況之側視圖。

如圖1~圖3所示，第1實施形態之塗佈裝置1，主要由工作台(表面平板)3、左右一對之移行軌道5、及塗膜形成單元6所構成，平板3係可交換地供塗佈對象物即基板2載置，左右一對之移行軌道5係於平板3外側之基台4上，以自寬度方向兩側合夾基板2之配置，沿基板2之長度方向而設置，塗膜形成單元6係於基板2之長度方向移行移動於移行軌道5上。

塗膜形成單元6係由移行體7、噴嘴8、連結部9及硬化手段10所構成，移行體7係移行移動於移行軌道5上，噴嘴8係設於移行體7，且用以噴吐塗液C，連結部9係設於移行體7，硬化手段10係經由連結部9被支持於移行體7，且對塗液C進行硬化處理。

移行體7係由左右一對之柱部7a、及於其等柱部7a之間沿基板2之寬度方向架設之梁部7b而以門型形態所形成。移行體7係藉由周知之線性馬達及滾珠螺桿機構等移行移動於移行軌道5上。移行體7係於基板2之長度方向，往返移動於該基板2之一端(塗佈開始端2a)側與另一端(塗佈終端2b)側之間。

噴嘴8其長度方向兩端部被支持於移行體7之一對柱部7a上，藉此，噴嘴8係將其長度方向朝向基板2之寬度方向而設於移行體7。圖示例中，噴嘴8係與移行體7之前進移行方向前面7c面對地設置。噴嘴8係經由形成於柱部7a之昇降用狹縫7d而可昇降自如地設置於柱部7a，使得可調節其與基板2之間隙間 隔。使噴嘴8昇降之機構，係由周知之滾珠螺桿機構等所構成。

為了將塗液C供給於供給於噴嘴8，於噴嘴8上連接有未圖示之塗液供給手段。藉由自塗液供給手段朝噴嘴8供給塗液C，噴嘴8朝基板2噴吐塗液C。藉由自被支持於移行移動之移行體7之噴嘴8噴吐塗液C，對基板2進行塗佈處理(圖3中以梨皮(pearskin)部分顯示)。

連結部9係由滑桿(或者取代此之螺軸11a)、及滑塊(或者取代此之螺帽11b)所構成，滑桿係於移行體7之前進移行方向後面7e，且較該後面7e沿基板2之長度方向更朝後方水平地延設而成，滑塊係沿基板2之長度方向可滑動移動地設於滑桿。亦即，連結部9具備滑動機構11。

或者，也可利用滾珠螺桿機構等來構成連結部9所具備之滑動機構11。亦即，也可以螺軸11a來取代滑桿，以螺帽11b來取代滑塊，利用設於塗膜形成單元6之任一部位之作為驅動手段之馬達12來驅動螺軸11a，藉以構成可使螺帽11b滑動之連結部9。

圖示例中，螺軸11a係於基板2之寬度方向(移行體7之梁部7b之架設方向)左右一對而設置有2根。藉此，螺帽11b也安裝於各螺軸11a，且於基板2之寬度方向左右設置有2個。

於由滑桿及滑塊所構成之情況，滑塊藉由利用手動操作之緊固構件等被安裝於滑桿上。藉由鎖緊緊固構件等，將滑塊固定於滑桿上，且藉由鬆緩，可使滑塊相對於滑桿進行滑動。以下，對採用滾珠螺桿機構作為連結部9之情況進行說明。

硬化手段10其長度方向兩端側被支持於左右之螺帽11，藉此，硬化手段10係將其長度方向朝向基板2之寬度方向而 與連結部9連結。設置有硬化手段10之連結部9，無論是滾珠螺桿機構，還是由上述之滑桿及滑塊所構成之構造，皆可使螺帽11b及滑塊滑動。

藉此，連結部9具備於移行體7之移行移動方向(基板2之長度方向)對噴嘴8與硬化手段10之水平方向間隔D進行調整之調整機構。於滾珠螺桿機構之情況下，藉由利用驅動手段即馬達12使螺軸11a旋轉，即可使螺帽11b進行滑動，因此於移行體7之移行移動中，可使螺帽11b沿螺軸11a滑動。藉此，可使硬化手段10相對於噴嘴8進行相對移動。當然，連結部9具備將硬化手段10對移行體7之噴嘴8進行連結之功能。

只要塗液C係UV硬化型者，就可使用UV照射體作為硬化手段10，而若塗液C為熱硬化型者，可使用發熱體作為硬化手段10，而若為自然乾燥型者，可使用噴吐空氣等之乾燥用氣體之吹風機。

硬化手段10係藉由經由連接於其之未圖示之電配線而供給之電力，朝基板2發出UV光F，或者經發熱而對基板2放射熱，或者朝基板2噴射乾燥用空氣。當然，可根據塗液C之種類，採用各種類型者來作為硬化手段10。藉由自經由連結部9連結於移行體7之硬化手段10發出UV光F等，對利用噴嘴8塗佈於基板2之塗液C進行硬化處理(圖3中，以黑色部分顯示)。

接著，對使用第1實施形態之塗佈裝置1之塗佈方法進行說明。圖4為顯示本塗佈方法之概要說明圖。於基板2上形成塗膜時，使塗膜形成單元6之移行體7沿基板2之長度方向移行移動於移行軌道5上。噴嘴8首先到達基板2之塗佈開始端2a，將塗 液C噴出後而開始進行塗佈處理。

隨著噴嘴8於基板2上前行，之後，被支持於連結部9所具備之滾珠螺桿機構之螺帽11b之硬化手段10，到達基板2之塗佈開始端2a。若以在塗佈開始端2a之塗佈處理及硬化處理為例進行說明，則自噴嘴8朝塗佈開始端2a之塗液噴吐時刻、與開始進行被塗佈於塗佈開始端2a之塗液C之硬化處理之硬化處理開始時刻之時間間隔，係基於塗膜形成單元6之移行速度V，且藉由噴嘴8與硬化手段10之水平方向間隔D所決定。

本實施形態中，由於連結部9具備調整水平方向間隔D之調整機構(滾珠螺桿機構)，因此可對該水平方向間隔D進行增減，從而與背景技術不同，可對自塗液噴吐時刻至硬化處理開始時刻為止之時間間隔進行變更調整。

例如，於塗膜形成單元6之移行速度V為20mm/sec之情況、且水平方向間隔D為80mm而固定之情況下，時間間隔為4秒(=D/V)而恆定，但由於可藉由調整機構調整水平方向間隔D，因此可將水平方向間隔D增加至100mm且將時間間隔設定為5秒，或者減小為60mm且將時間間隔設定為3秒，於塗佈塗液C後，自由調整迄開始硬化處理為止之時間。

如此，於第1實施形態之塗佈裝置1及使用其之塗佈方法中，即使於例如以將塗佈處理作為優先之移行速度V進行塗膜形成之情況下，藉由水平方向間隔D之調整，可於妥適之硬化處理開始時刻開始硬化處理，從而可適宜地進行硬化處理。水平方向間隔D之調整，係藉由利用馬達12驅動滾珠螺桿機構而可自動地進行。

於利用滑桿及滑塊構成調整機構之情況下，只要於塗膜形成單元6之移行停止狀態下，利用手動操作使滑塊沿滑桿滑動而進行水平方向間隔D之調整，然後利用緊固構件等將滑塊鎖緊固定於滑桿上即可。如此，於設定水平方向間隔D後，使塗膜形成單元6移行移動，進行藉由噴嘴8執行之塗佈處理及藉由硬化手段10執行之硬化處理。

又，於使用第1實施形態之塗佈裝置之塗佈方法中，藉由利用滾珠螺桿機構來構成調整手段，於塗佈處理中，可使硬化手段10沿基板2之長度方向，相對於噴嘴8進行相對移動。

例如，於以設定為移行速度V=20mm/sec.之塗膜形成單元6對長度L=1000mm之基板2進行塗膜形成之情況下，當不使硬化手段10相對於噴嘴8進行相對移動時，硬化手段10之硬化處理速度與移行體7相同而成為20mm/sec.。此情況下之硬化處理時間成為50秒。

相對於此，於利用移行移動之噴嘴8進行塗佈處理時，若使螺帽11b、即硬化手段10，相對於螺軸11a以移動速度Va=10mm/sec.，朝與塗膜形成單元6之前進移行方向相反之方向，而朝逐漸離開噴嘴8之方向相對移動，則硬化手段10之相對於基板2之相對移動速度為10mm/sec.，該情況之硬化處理時間為100秒。

於此情況下，於將自塗佈開始端2a處之塗液噴吐時刻至硬化處理開始時刻為止之時間間隔設定為例如20秒(噴嘴8與硬化手段10之水平方向間隔D為400mm)時，使用至少為900mm((100-50)秒×10mm/sec.+400mm)之長度者作為螺軸11a即 可。

相反地，於利用移行移動之噴嘴8進行塗佈處理時，若使硬化手段10相對於螺軸11a以移動速度Va=5mm/sec.，朝與塗膜形成單元6之前進移行方向相同之方向，且朝逐漸靠近噴嘴8之方向相對移動，則硬化手段10之相對於基板2之相對移動速度為25mm/sec.，該情況之硬化處理時間為40秒。

於使硬化手段10以靠近噴嘴8之方式相對移動之情況下，為了不發生噴嘴8與硬化手段10之衝撞等之干涉，以硬化手段10迄完成硬化處理為止而相對移動之距離(200mm=5mm/sec.×40秒)，較設定自塗佈開始端2a處之塗液噴吐時刻至硬化處理開始時刻為止之時間間隔之噴嘴與硬化手段10之水平方向間隔D，例如上述400mm更短之方式進行設定。

如此，於第1實施形態中，於塗膜形成單元6更具備使硬化手段10相對於噴嘴9進行相對移動之馬達12，因此不僅可自由調整硬化處理開始時刻，而且還可自由調整與塗佈處理速度V不同之硬化處理速度即硬化處理時間，進而可以適宜之硬化處理能使塗液C硬化。

因此，即使於進行例如以將塗佈處理作為優先之移行速度進行塗膜形成之情況下，由於可調整可移動之硬化手段10之相對移動速度，因此可適宜地確保硬化處理速度(硬化處理時間)，藉此可適宜地進行硬化處理。

如以上說明，第1實施形態之塗佈裝置及塗佈方法中，於構成利用連結部9連結噴嘴8與硬化手段10而成之塗膜形成單元6之情況下，可藉由調整機構對噴嘴8與硬化手段10之水 平方向間隔D進行調整，因此可適宜地進行硬化處理開始時刻之調整，進而，還可藉由使硬化手段10相對移動之馬達12，適宜地進行硬化處理速度(硬化處理時間)之調整，從而可形成膜厚及膜質等均勻且品質較高之塗膜。

圖5為顯示上述第1實施形態之變形例之俯視圖。第1實施形態中，硬化手段10係於基板2之寬度方向設置有一個，但本變形例中，以將該一個硬化手段10複數分割之形態，於基板2之寬度方向排列地構成複數之硬化手段10。為了將這些複數之硬化手段10單獨地連結於噴嘴8、具體為支持噴嘴8之移行體7，連結部9係設置有複數個。連結部9之構成係與第1實施形態同樣。

根據此種構成，可相對於排列在基板2之寬度方向之硬化手段10之各個，設定不同之水平方向間隔D，或以不同之動作使各個分別相對移動。

當將塗液C塗佈於基板2時，由於基板2之中央區域較基板2之外周端緣區域更不容易自然乾燥，因此，若對這些外端周緣區域及中央區域之硬化處理(硬化處理開始時刻及硬化處理時間等)為相同，則有無法於基板2全面形成均質之塗膜之虞。

於本變形例中，由於可對排列於基板2之寬度方向之硬化手段10之每個，進行單獨之設定，因此，例如可將對中央區域進行硬化處理之任一之硬化手段10，相對於對外周端緣區域進行硬化處理之其他硬化手段10，提早或者延遲設定硬化處理開始時刻，也可加快或者減慢相對移動速度，藉此，可於自然乾燥之容易度不同之基板2上之各區域的每個，進行與各個區域對應之適宜之硬化處理，進而可形成膜厚及膜質等均勻且品質較高之塗膜。

再者，於一直線地排列複數個硬化手段10之情況下，可進行與上述第1實施形態之單一硬化手段10之情況同樣之塗膜形成。

圖6及圖7顯示第2實施形態之塗佈裝置。圖6為顯示本發明之塗佈裝置之第2實施形態之俯視圖，圖7為沿圖6中A方向箭視部分放大圖。第2實施形態係將旋轉機構13作為調整機構而取代第1實施形態之滑動機構11之情況。其他之構成係與第1實施形態相同。

連結部9係由支持構件14、及左右一對之擺臂15所構成，支持構件14係於移行體7之前進移行方向後面7e，自該後面7e之中央沿基板2之長度方向而朝後方水平地延設者，左右一對之擺臂15係一端15a藉由旋轉軸16而可旋轉地被支持於支持構件14之後端14a。亦即，連結部9具備具有旋轉之擺臂15之旋轉機構13。

擺臂15係藉由利用手動操作之緊固構件等被安裝於支持構件14。藉由鎖緊緊固構件等，將擺臂15固定於支持構件14上或將其鬆緩，從而可使其相對於支持構件14進行旋轉。

擺臂15也可取代緊固構件等，與設於支持構件14之作為驅動手段之馬達(未圖示)連結，而可旋轉驅動地安裝於支持構件14。馬達可設置一個而用以一併驅動左右一對之擺臂15，或者，為了單獨進行驅動而可設置2個。

此外，為了以相同之旋轉角度使左右一對之擺臂15旋轉，也可以齒式聯軸器(gear coupling)等將可旋轉地支持於支持構件14之各擺臂15之一端15a彼此結合。可旋轉之擺臂15可於自 靠近移行體7或噴嘴8之方向至分離方向之範圍內，對與支持構件14相對之角度θ進行調整。

硬化手段10係安裝於各擺臂15下方，相對於基板2之寬度方向設置有2個。硬化手段10係藉由調整擺臂15之角度θ，隨著朝基板2之端緣側移行而靠近或離開噴嘴8，或者將角度θ設定為90度，而朝向與噴嘴8平行之方向。也可使左右一對之擺臂15之角度θ不同，以改變2個硬化手段10之方向。

設置有硬化手段10之連結部9，無論是馬達驅動式，還是由緊固構件等安裝之形式，擺臂15皆可旋轉。藉此，連結部9具備於移行體7之移行移動方向(基板2之長度方向)對噴嘴8及硬化手段10之水平方向間隔D進行調整之調整機構。

於馬達驅動式之情況下，由於可利用馬達16使擺臂15旋轉，因此於移行體7之移行移動中，可使硬化手段10相對於噴嘴8進行相對移動。當然，連結部9具備將硬化手段10相對於移行體7之噴嘴8進行連結之功能。

於第2實施形態之塗佈裝置及塗佈方法中，藉由將硬化手段10之方向相對於噴嘴8傾斜配置，與第1實施形態之變形例同樣地，可變更調整對基板2之中央區域及外周端緣區域之硬化處理，且與該第1變形例同樣地，可按每一區域進行根據基板2上之塗液厚度等之狀況之適宜之硬化處理，進而可形成膜厚及膜質等均勻且品質較高之塗膜。

另一方面，藉由平行地配置噴嘴8及硬化手段10，可與第1實施形態相同來進行硬化處理，可獲得與該第1實施形態同樣之作用功效。

作為利用馬達驅動而使硬化手段10相對於噴嘴8滑動式地相對移動之機構，例示出滾珠螺桿機構進行了說明，但不限於此，當然也可採用線性馬達機構或齒條與小齒輪(rock and pinion)機構等之其他周知之移動機構。

Claims (7)

1. 一種塗佈裝置，其使塗膜形成單元在基板之長度方向上移行移動，該塗膜形成單元係經由連結部而連結有噴吐塗液之噴嘴及使塗液產生硬化之硬化手段者，並且在藉由該噴嘴對基板進行塗佈處理之後，利用該硬化手段對被塗佈在基板上之塗液進行硬化處理；其特徵在於：於上述連結部，具備有調整上述噴嘴與上述硬化手段之水平方向間隔的調整機構，上述調整機構係為使上述硬化手段可沿著基板面旋轉之旋轉機構。
2. 如申請專利範圍第1項之塗佈裝置，其中，上述硬化手段可用各不相同之上述水平方向間隔之設定的方式在基板之寬度方向上排列有複數個，並且上述連結部為了將該等硬化手段個別地連結至上述噴嘴而設置有複數個。
3. 如申請專利範圍第1或2項之塗佈裝置，其中，上述調整機構具備有用以使上述硬化手段相對於上述噴嘴進行相對移動之驅動手段。
4. 一種塗佈裝置，其使塗膜形成單元在基板之長度方向上移行移動，該塗膜形成單元係經由連結部而連結有噴吐塗液之噴嘴及使塗液產生硬化之硬化手段者，並且在藉由該噴嘴對基板進行塗佈處理之後，利用該硬化手段對被塗佈在基板上之塗液進行硬化處理；其特徵在於：於上述連結部，具備有調整上述噴嘴與上述硬化手段之水平方向間隔的調整機構，上述調整機構係為使上述硬化手段可沿著基板之長度方向滑動之滑動機構，上述硬化手段可用各不相同之上述水平方向間隔之設定的方式在基板之寬度方向上排列有複數個，並且上述連結部為了將該等硬化手段 個別地連結至上述噴嘴而設置有複數個。
5. 如申請專利範圍第4項之塗佈裝置，其中，上述調整機構具備有用以使上述硬化手段相對於上述噴嘴進行相對移動之驅動手段。
6. 一種塗佈方法，其特徵在於：使用申請專利範圍第1、2或4項中任一項所記載之塗佈裝置，在藉由上述調整機構設定上述噴嘴與上述硬化手段之水平方向間隔之後，使上述塗膜形成單元移行移動，而進行藉由該噴嘴所執行之塗佈處理及藉由該硬化手段所執行之硬化處理。
7. 一種塗佈方法，其特徵在於：使用申請專利範圍第3或5項所記載之塗佈裝置，在使上述塗膜形成單元移行移動而進行藉由上述噴嘴所執行之塗佈處理時，一邊利用上述驅動手段使上述硬化手段相對於該噴嘴進行相對移動，一邊進行硬化處理。