JP6326315B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Description

本発明は、ノズルと硬化手段を連結部で連結した塗膜形成ユニットを構成する場合に、ノズルの走行速度（塗布処理速度）を適正に確保して適切な塗布処理を行うことができると同時に、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化処理速度（硬化処理時間）の調整も適正に行うことが可能な塗布装置及び塗布方法に関する。

従来、テーブル（定盤）に載置した基板を、ノズル用走行レールを走行するノズル用支持ポストに昇降自在に支持されたノズルから吐出される塗液で塗布するようにした基板の塗布装置（例えば、テーブルコータ（日本国登録商標）などと称される）が知られている。この種の塗布装置に、基板に塗布された塗液を硬化させるための硬化手段を備えた塗布装置として、特許文献１〜３が知られている。

特許文献１の「パターン形成方法およびパターン形成装置」は、吐出ノズル先端の吐出口から基板に向けて塗布液を吐出するとともに、基板に塗布された直後の塗布液に対して第１の照射光源から波長３６５ｎｍのＵＶ光を照射する。これにより塗布液の表面が硬化する。続いて、第２の照射光源から、より長波長（例えば３８５ｎｍまたは３９５ｎｍ）のＵＶ光を、先のＵＶ光の照射を受けた塗布液に照射する。長波長の光はより塗布液の内部まで浸透するので、内部の硬化が促進されるようになっている。照射光源は、ヘッド部のベースとシリンジポンプを介して、吐出ノズルと連結されている。

特許文献２の「スリットコート式塗布装置」は、基板を保持する保持テーブルと、前記基板の前記保持テーブルに保持された保持面とは反対側の塗布面に相対向して液体が流出されるスリット状のノズル開口が設けられた塗布ヘッドとを具備し、前記基板と前記塗布ヘッドとを前記塗布面の面方向に相対的に移動させることで、前記基板の前記塗布面に液体を塗布するスリットコート式塗布装置であって、前記塗布ヘッドによって前記基板に液体を塗布させながら、当該基板に塗布された直後の液体を加熱する加熱手段を設けるようにしている。

特許文献３の「薄膜形成装置および薄膜形成方法」は、塗布対象物を吸着保持する吸着テーブルと、吸着テーブルに吸着保持された塗布対象物の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッドと、塗布ヘッドを塗布対象物の上方位置で移動させるガントリと、を備える薄膜形成装置であって、ガントリに、塗布対象物の表面を加熱する熱源装置を更に備えている。熱源装置は、ガントリを介して、塗布ヘッドと連結されている。

いずれの特許文献にあっても、塗液を硬化させたり、液体や塗布対象物の表面を加熱する照射光源、加熱手段、熱源装置と、吐出ノズル等とは、一定の間隔を隔てて連結固定されている。

特開２０１２−１４３６９１号公報 特開２００５−２１８９６９号公報 特開２０１３−０００６５６号公報

上記特許文献と同様に、図８に示すように、テーブルａ上に載置された基板ｂに塗膜ｃを形成するために走行移動される塗膜形成ユニットｄを、塗液ｅを吐出して塗布処理するノズルｆと、ＵＶ光ｉなどを照射して塗液ｅを硬化処理する硬化手段ｇと、これら硬化手段ｇとノズルｆを一定の間隔（図中、間隔ＬＸ：不変）を隔てて連結固定する連結部ｈとから構成すると、第１に、硬化手段ｇとノズルｆとの間隔ＬＸを変更調整することができない。

間隔ＬＸが一定不変であると、ノズルｆからの塗液吐出時刻と、その時刻に吐出された塗液ｅの位置まで硬化手段ｇが到達して硬化処理を開始する硬化処理開始時刻との時間間隔は、塗膜形成ユニットｄの走行速度ＶＸ（ノズルｆ及び硬化手段ｇの移動速度も同一）に従って決定される一定の時間である（間隔ＬＸ／走行速度ＶＸ）。

塗膜形成ユニットｄの走行速度ＶＸは通常、塗布処理に基づいて設定される。塗布処理については、例えば塗液ｅの種類（粘度や材質等）や膜厚等の条件から、好ましい塗布処理速度（走行速度ＶＸ）がある。他方、硬化処理については、塗布処理と同じように、例えば塗液ｅの種類や膜厚等の条件から、塗布された塗液ｅの硬化処理を開始する、好ましい硬化処理開始タイミングがある。

ノズルｆと硬化手段ｇが連結部ｈで連結されてそれらの間隔ＬＸが一定不変であると、上述したように塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔が走行速度ＶＸで決定されてしまうので、塗布処理を優先した走行速度ＶＸで硬化処理を行うと、硬化処理開始時刻が早すぎたり、遅すぎたりして、的確な硬化処理開始時刻で硬化処理を開始することができず、硬化処理を適切に行うことができないという問題があった。

反対に、硬化処理を優先して、硬化処理を適切に行うことができる時間間隔に合わせた走行速度ＶＸに設定すると、硬化処理に基づく走行速度ＶＸに従ってノズルｆから塗液ｅを吐出させる必要があり、吐出量等の制御が煩雑になったり、また、塗布処理を適切に行うことができないという問題があった。

第２に、ノズルｆの移動速度と硬化手段ｇの移動速度が同一速度ＶＸとなり、塗布処理速度と硬化処理速度を変更調整することができない。塗布処理については、上述したように好ましい塗布処理速度がある。他方、硬化処理についても同様に、塗液の種類や膜厚等に応じて、好ましい硬化処理速度がある。

硬化処理速度は、単位時間当たりの硬化処理エネルギが一定のとき、遅い場合には、硬化処理時間が長くなって塗液ｅに対する硬化処理エネルギが大きくなり、速い場合には、硬化処理時間が短くなって硬化処理エネルギが小さくなる。

塗布処理を優先して移動速度（塗膜形成ユニットの走行速度ＶＸ）を設定すると、硬化手段ｇは同じ速度でしか移動できないため、硬化処理速度（硬化処理時間）を適切に確保することができず、硬化処理エネルギが過剰となったり不足したりして、硬化処理を適正に行うことができないという問題があった。反対に、硬化処理を優先すると、第１の場合と同様に、塗布処理を適切に行うことができないという問題があった。

以上のことから、硬化手段ｇとノズルｆを連結部ｈで一定不変の間隔ＬＸを隔てて連結固定する塗膜形成ユニットｄでは、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することが難しいという課題があった。

本発明は上記従来の課題に鑑みて創案されたものであって、ノズルと硬化手段を連結部で連結した塗膜形成ユニットを構成する場合に、ノズルの走行速度（塗布処理速度）を適正に確保して適切な塗布処理を行うことができると同時に、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化処理速度（硬化処理時間）の調整も適正に行うことが可能な塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。

本発明にかかる塗布装置は、塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、前記調整機構は、前記硬化手段を基板面に沿って旋回可能とする旋回機構であることを特徴とする。

前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする。

前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする。

本発明にかかる塗布装置は、塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、前記調整機構は、前記硬化手段を基板の長さ方向に沿ってスライド可能とするスライド機構であり、前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする。

前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする。

本発明にかかる塗布方法は、上述した上記調整機構を備える前者の塗布装置を用い、前記調整機構により前記ノズルと前記硬化手段との水平方向間隔を設定した後、前記塗膜形成ユニットを走行移動して、該ノズルによる塗布処理と該硬化手段による硬化処理を行うようにしたことを特徴とする。

本発明にかかる塗布方法は、上述した上記駆動手段を有する上記調整機構を備えた後者の塗布装置を用い、前記塗膜形成ユニットを走行移動して前記ノズルによる塗布処理を行うとき、前記駆動手段で前記硬化手段を該ノズルに対して相対移動しながら硬化処理を行うようにしたことを特徴とする。

本発明にかかる塗布装置及び塗布方法にあっては、ノズルと硬化手段を連結部で連結した塗膜形成ユニットを構成する場合に、ノズルの走行速度（塗布処理速度）を適正に確保して適切な塗布処理を行うことができると同時に、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化処理速度（硬化処理時間）の調整も適正に行うことが可能となる。

本発明に係る塗布装置の第１実施形態を示す斜視図である。 図１に示した塗布装置の平面図である。 図１に示した塗布装置で基板に塗膜を形成する様子を示す側面図である。 本発明に係る塗布方法の好適な実施形態を説明する概略説明図である。 第１実施形態の変形例を示す塗布装置の平面図である。 本発明に係る塗布装置の第２実施形態を示す平面図である。 図６中、Ａ方向矢視部分拡大図である。 背景技術を説明する説明図である。

以下に、本発明にかかる塗布装置及び塗布方法の好適な実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明に係る塗布装置の第１実施形態を示す斜視図、図２は、図１に示した塗布装置の平面図、図３は、図１に示した塗布装置で基板に塗膜を形成する様子を示す側面図である。

第１実施形態に係る塗布装置１は図１〜図３に示すように、主に、塗布対象物である基板２が交換可能に載置されるテーブル（定盤）３と、テーブル３外方の基台４上に、基板２を幅方向両側から挟む配置で、基板２の長さ方向に沿って設けられた左右一対の走行レール５と、基板２の長さ方向に走行レール５を走行移動される塗膜形成ユニット６とから構成される。

塗膜形成ユニット６は、走行レール５を走行移動する走行体７と、走行体７に設けられ、塗液Ｃを吐出するノズル８と、走行体５に設けられた連結部９と、連結部９を介して、走行体５に支持され、塗液Ｃを硬化処理する硬化手段１０とから構成される。

走行体７は、左右一対の柱部７ａと、これら柱部７ａの間に、基板２の幅方向に沿って架設される梁部７ｂとから、門型形態で形成される。走行体７は、周知のリニアモータやボールねじ機構等によって、走行レール５を走行移動される。走行体７は、基板２の長さ方向に、当該基板２の一端（塗布始端２ａ）側と他端（塗布終端２ｂ）側との間を往復走行される。

ノズル８は、その長さ方向両端部が走行体７の一対の柱部７ａに支持され、これによりノズル８は、長さ方向が基板２の幅方向に向けられて、走行体７に設けられる。図示例では、ノズル８は、走行体７の前進走行方向前面７ｃに面して設けられている。ノズル８は、基板２との隙間間隔を調節できるように、柱部７ａに形成された昇降用スリット７ｄを介して、柱部７ａに昇降自在に設けられる。ノズル８を昇降させる機構は、周知のボールねじ機構などで構成される。

ノズル８には、これに塗液Ｃを供給するために、図示しない塗液供給手段が接続される。塗液供給手段からノズル８に塗液Ｃが供給されることで、ノズル８は、基板２に向けて塗液Ｃを吐出する。走行移動される走行体７に支持されたノズル８から塗液Ｃが吐出されることにより、基板２は塗布処理される（図３中、梨地部分で示す）。

連結部９は、走行体７の前進走行方向後面７ｅに、当該後面７ｅより基板２の長さ方向に沿って後方へ向けて水平に延設されたスライドバー（もしくはそれに代わるねじ軸１１ａ）と、スライドバーに基板２の長さ方向に沿ってスライド移動可能に設けられたスライドブロック（もしくはそれに代わるナット１１ｂ）とから構成される。すなわち、連結部９は、スライド機構１１を備える。

あるいは、連結部９に備えられるスライド機構１１を、ボールねじ機構で構成しても良い。すなわち、スライドバーをねじ軸１１ａに代え、スライドブロックをナット１１ｂに代えて、塗膜形成ユニット６のいずれかの箇所に設けた駆動手段としてのモータ１２でねじ軸１１ａを駆動することにより、ナット１１ｂのスライドが可能な連結部９を構成しても良い。

図示例では、ねじ軸１１ａは、基板２の幅方向（走行体７の梁部７ｂの架設方向）に、左右一対で２本設けられている。従って、ナット１１ｂも、各ねじ軸１１ａに取り付けて、基板２の幅方向に左右２つ設けられている。

スライドバー及びスライドブロックで構成する場合、スライドブロックは、手で操作される締結部材等により、スライドバーに取り付けられる。締結部材等を締め付けることで、スライドブロックはスライドバーに固定され、緩めることで、スライドバーに対し、スライド可能とされる。以下、連結部９として、ボールねじ機構を採用した場合について説明する。

硬化手段１０は、その長さ方向両端側が左右のナット１１ｂに支持され、これにより硬化手段１０は、長さ方向が基板２の幅方向に向けられて、連結部９と連結される。硬化手段１０が設けられる連結部９は、ボールねじ機構であっても、上述したスライドバーとスライドブロックで構成した構造であっても、ナット１１ｂやスライドブロックがスライド可能である。

従って、連結部９は、ノズル８と硬化手段１０との水平方向間隔Ｄを、走行体５の走行移動方向（基板２の長さ方向）に調整する調整機構を備える。ボールねじ機構の場合、駆動手段であるモータ１２でねじ軸１１ａを回転することによりナット１１ｂのスライドが可能なので、走行体７の走行移動中にナット１１ｂをねじ軸１１ａに沿ってスライドさせることができ、これにより、ノズル８に対して硬化手段１０を相対移動させることができる。もちろん、連結部９は、走行体７のノズル８に対し、硬化手段１０を連結する機能を備える。

硬化手段１０としては、塗液ＣがＵＶ硬化タイプであればＵＶ照射体が用いられ、塗液Ｃが熱硬化タイプであれば発熱体が用いられ、自然乾燥タイプであれば空気等の乾燥用気体を噴出するドライヤーが用いられる。

硬化手段１０は、これに接続される図示しない電気配線を介して供給される電力により、基板２に向けてＵＶ光Ｆを発したり、発熱されて基板２に向けて放熱したり、乾燥用気体を基板２に向けて噴射する。硬化手段１０としてはもちろん、塗液Ｃの種類に応じて、種々のものを採用することができる。連結部９を介して走行体７に連結された硬化手段１０からＵＶ光Ｆ等が発せられることにより、ノズル８で基板２に塗布された塗液Ｃは硬化処理される（図３中、黒色部分で示す）。

次に、第１実施形態に係る塗布装置１を用いた塗布方法について説明する。図４は、本塗布方法の概略説明図が示されている。基板２に塗膜を形成するとき、塗膜形成ユニット６の走行体７が走行レール５を基板２の長さ方向に走行移動される。ノズル８が最初に基板２の塗布始端２ａに到達し、塗液Ｃを吐出して塗布処理を開始する。

ノズル８が基板２上を前進していくと、その後、連結部９に備えられたボールねじ機構のナット１１ｂに支持された硬化手段１０が、基板２の塗布始端２ａに到達する。塗布始端２ａにおける塗布処理及び硬化処理を例にとって説明すると、ノズル８からの塗布始端２ａへの塗液吐出時刻と、塗布始端２ａに塗布された塗液Ｃの硬化処理を開始する硬化処理開始時刻との時間間隔は、塗膜形成ユニット６の走行速度Ｖに基づいて、ノズル８と硬化手段１０との水平方向間隔Ｄによって決定される。

本実施形態では、連結部９が水平方向間隔Ｄを調整する調整機構（ボールねじ機構）を備えているので、当該水平方向間隔Ｄを広げたり狭めたりすることができ、背景技術とは異なり、塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔を変更調整することができる。

例えば、塗膜形成ユニット６の走行速度Ｖが２０ｍｍ／sec.である場合、水平方向間隔Ｄが８０ｍｍで固定されている場合には、時間間隔は４秒（＝Ｄ／Ｖ）で一定になってしまうが、調整機構によって水平方向間隔Ｄを調整することができるので、水平方向間隔Ｄを１００ｍｍに広げて時間間隔を５秒にしたり、６０ｍｍに狭めて時間間隔を３秒にしたりして、塗液Ｃを塗布してから、硬化処理を開始するまでの時間を自在に調整することができる。

このように第１実施形態に係る塗布装置１及びそれを用いた塗布方法では、例えば塗布処理を優先した走行速度Ｖで塗膜形成を行う場合であっても、水平方向間隔Ｄの調整により、的確な硬化処理開始時刻で硬化処理を開始することができ、硬化処理を適切に行うことができる。水平方向間隔Ｄの調整は、モータ１２でボールねじ機構を駆動することで自動的に行うことができる。

調整機構を、スライドバーとスライドブロックで構成した場合には、塗膜形成ユニット６の走行停止状態で、手で操作して、スライドバーに沿ってスライドブロックをスライドして水平方向間隔Ｄを調整し、その後、締結部材等でスライドブロックをスライドバーに締め付けて固定するようにすればよい。このようにして水平方向間隔Ｄを設定した後、塗膜形成ユニット６を走行移動して、ノズル８による塗布処理と硬化手段１０による硬化処理が行われる。

さらに、第１実施形態に係る塗布装置を用いた塗布方法では、調整手段をボールねじ機構で構成することにより、塗布処理中に、基板２の長さ方向に沿って、硬化手段１０をノズル８に対して相対移動させることができる。

例えば、長さＬ＝１０００ｍｍの基板２を、走行速度Ｖ＝２０ｍｍ／sec.に設定した塗膜形成ユニット６で塗膜形成する場合に、硬化手段１０をノズル８に対し相対移動しないときには、硬化手段１０の硬化処理速度は、走行体７と同じ２０ｍｍ／sec.となる。この場合の硬化処理時間は５０秒となる。

これに対し、走行移動されるノズル８で塗布処理を行っているときに、ナット１１ｂ、すなわち硬化手段１０を、ねじ軸１１ａに対し移動速度Ｖａ＝１０ｍｍ／sec.で、塗膜形成ユニット６の前進走行方向とは反対方向に、次第にノズル８から離隔していく方向へ相対移動させると、硬化手段１０の基板２に対する相対移動速度が１０ｍｍ／sec.となり、この場合の硬化処理時間は１００秒になる。

この場合、塗装始端２ａにおける塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔を例えば２０秒（ノズル８と硬化手段１０との水平方向間隔Ｄは４００ｍｍ）に設定したとき、ねじ軸１１ａとしては、少なくとも９００ｍｍ（(100-50）秒×１０ｍｍ／sec. ＋４００ｍｍ）の長さのものを用いればよい。

反対に、走行移動されるノズル８で塗布処理を行っているときに、硬化手段１０を、ねじ軸１１ａに対し移動速度Ｖａ＝５ｍｍ／sec.で、塗膜形成ユニット６の前進走行方向と同じ方向に、次第にノズル８に接近していく方向へ相対移動させると、硬化手段１０の基板２に対する相対移動速度が２５ｍｍ／sec.となり、この場合の硬化処理時間は４０秒となる。

硬化手段１０をノズル８に近づけるように相対移動させる場合には、ノズル８と硬化手段１０とが衝突するなど、干渉が生じないように、塗装始端２ａにおける塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔を設定するノズル８と硬化手段１０との水平方向間隔Ｄ、例えば上記４００ｍｍよりも、硬化処理を完了するまでに硬化手段１０が相対移動する距離（２００ｍｍ＝５ｍｍ／sec.×４０秒）が短くなるように設定される。

このように第１実施形態では、さらに、硬化手段１０をノズル９に対して相対移動させるモータ１２を塗膜形成ユニット６に備えているので、硬化処理開始時刻を自在に調整できるだけでなく、塗布処理速度Ｖとは異なる硬化処理速度、すなわち硬化処理時間を自在に調整することができ、ひいては好適な硬化処理エネルギで塗液Ｃを硬化させることができる。

従って、例えば塗布処理を優先した走行速度Ｖで塗膜形成を行う場合であっても、移動可能な硬化手段１０の相対移動速度を調整することができるので、硬化処理速度（硬化処理時間）を適切に確保することができ、これにより硬化処理を適正に行うことができる。

以上説明したように、第１実施形態に係る塗布装置及び塗布方法にあっては、ノズル８と硬化手段１０を連結部９で連結した塗膜形成ユニット６を構成する場合に、調整機構によりノズル８と硬化手段１０の水平方向間隔Ｄを調整することができるので、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化手段１０を相対移動させるモータ１２によって硬化処理速度（硬化処理時間）の調整も適正に行うことができて、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することができる。

図５は、上記第１実施形態の変形例を示す平面図である。第１実施形態では、硬化手段１０は、基板２の幅方向に一つ設けられていたが、この変形例では、この一つの硬化手段１０を複数に分割した形態で、複数の硬化手段１０が、基板２の幅方向に配列されて構成される。連結部９は、これら複数の硬化手段１０を個別にノズル８、具体的にはノズル８を支持している走行体７に連結するために、複数設けられる。連結部９の構成は、第１実施形態と同様である。

このように構成すると、基板２の幅方向に配列された硬化手段１０個々に対し、異なる水平方向間隔Ｄを設定したり、それぞれを異なる動きで相対移動させることができる。

基板２に塗液Ｃを塗布していく際、基板２の外周端縁領域よりも、基板２の中央領域の方が自然乾燥し難いので、これら外周端縁領域及び中央領域に対する硬化処理（硬化処理開始時刻や硬化処理時間等）が同じであると、基板２全面にわたって均質な塗膜を形成できないおそれがある。

この変形例では、基板２の幅方向に配列した硬化手段１０個々に対して、個別の設定を行うことができるので、例えば、中央領域を硬化処理するいずれかの硬化手段１０を、外周端縁領域を硬化処理する他の硬化手段１０に対して、硬化処理開始時刻を早めに、あるいは遅めに設定したり、相対移動速度を速くしたり遅くしたりすることができ、これにより、自然乾燥のし易さが異なる基板２上の各領域毎に、それぞれに対応した適切な硬化処理を行うことができて、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することができる。

なお、複数の硬化手段１０を一直線に配列した場合には、上記第１実施形態の単一の硬化手段１０の場合と同様な塗膜形成を行うことができる。

図６及び図７には、第２実施形態に係る塗布装置が示されている。図６は、本発明に係る塗布装置の第２実施形態を示す平面図、図７は、図６中、Ａ方向矢視部分拡大図である。第２実施形態は、調整機構が、第１実施形態のスライド機構１１に代えて、旋回機構１３である場合である。その他の構成は、第１実施形態と同じである。

連結部９は、走行体７の前進走行方向後面７ｅに、当該後面７ｅの中央から基板２の長さ方向に沿って後方へ向けて水平に延設されたサポートメンバー１４と、サポートメンバー１４の後端１４ａに、一端１５ａが回転軸１６で回転可能に支持された左右一対のスイングアーム１５とから構成される。すなわち、連結部９は、旋回されるスイングアーム１５を有する旋回機構１３を備える。

スイングアーム１５は、手で操作される締結部材等により、サポートメンバー１４に取り付けられる。締結部材等を締め付けることで、スイングアーム１５はサポートメンバー１４に固定され、緩めることで、サポートメンバー１４に対し、旋回可能とされる。

スイングアーム１５は、締結部材等に代えて、サポートメンバー１４に設けた駆動手段としてのモータ（図示せず）と連結して、サポートメンバー１４に旋回駆動可能に取り付けるようにしてもよい。モータは、左右一対のスイングアーム１５を一括して駆動するために１つ設けても、あるいは、個別に駆動するために、２つ設けても良い。

また、左右一対のスイングアーム１５を同一の旋回角度で旋回させるために、サポートメンバー１４に回転可能に支持される各スイングアーム１５の一端１５ａ同士をギアカップリングなどで結合するようにしてもよい。旋回可能なスイングアーム１５は、走行体７やノズル８に接近する向きから、離隔する向きにわたる範囲で、サポートメンバー１４に対する角度θが調整可能とされる。

硬化手段１０は、各スイングアーム１５下に取り付けられて、基板２の幅方向に対し、２つ設けられる。硬化手段１０は、スイングアーム１５の角度θを調整することにより、基板２の端縁側に行くほど、ノズル８に接近したり、離隔されたり、あるいは角度θを９０°とすることでノズル８と平行な向きに向けられる。左右一対のスイングアーム１５の角度θを異ならせて、２つの硬化手段１０の向きを異ならせるようにしても良い。

硬化手段１０が設けられる連結部９は、モータ駆動式であっても、締結部材等で取り付ける形式であっても、スイングアーム１５が旋回可能である。従って、連結部９は、ノズル８と硬化手段１０との水平方向間隔Ｄを、走行体７の走行移動方向（基板２の長さ方向）に調整する調整機構を備える。

モータ駆動式の場合、モータ１６でスイングアーム１５の旋回が可能なので、走行体６の走行移動中に、ノズル８に対して硬化手段１０を相対移動させることができる。もちろん、連結部９は、走行体７のノズル８に対し、硬化手段１０を連結する機能を備える。

第２実施形態に係る塗布装置及び塗布方法では、ノズル８に対して硬化手段１０の向きを傾けて配置することにより、第１実施形態の変形例と同様に、基板２の中央領域と外周端縁領域に対する硬化処理を変更調整することができて、当該第１変形例と同様に、基板２上の塗液厚さなどの状況に応じた適切な硬化処理を領域毎に行うことができ、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することができる。

他方、ノズル８と硬化手段１０を平行に配置することにより、第１実施形態と同じ硬化処理を行うことができ、当該第１実施形態と同様の作用効果を奏することができる。

モータ駆動でノズル８に対し硬化手段１０をスライド式に相対移動させる機構として、ボールねじ機構を例示して説明したが、これに限らず、リニアモータ機構やラックアンドピニオン機構など、その他周知の移動機構を採用しても良いことはもちろんである。

１ 塗布装置
２ 基板
２ａ 塗布始端
２ｂ 塗布終端
３ テーブル
４ 基台
５ 走行レール
６ 塗膜形成ユニット
７ 走行体
７ａ 柱部
７ｂ 梁部
７ｃ 前進走行方向前面
７ｄ 昇降用スリット
７ｅ 前進走行方向後面
８ ノズル
９ 連結部
１０ 硬化手段
１１ スライド機構
１１ａ ねじ軸
１１ｂ ナット
１２ モータ
１３ 旋回機構
１４ サポートメンバー
１４ａ 後端
１５ スイングアーム
１５ａ 一端
１６ 回転軸
Ｃ 塗液
Ｄ 水平方向間隔
Ｆ ＵＶ光
Ｌ 基板の長さ
Ｖ 走行体の走行速度（塗布処理速度）
Ｖａ 硬化手段の移動速度
ａ テーブル
ｂ 基板
ｃ 塗膜
ｄ 塗膜形成ユニット
ｅ 塗液
ｆ ノズル
ｇ 硬化手段
ｈ 連結部
ｉ ＵＶ光
ＬＸ 間隔
ＶＸ 走行速度
θ スイングアームの角度

Claims (7)

1. 塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、
   前記調整機構は、前記硬化手段を基板面に沿って旋回可能とする旋回機構であることを特徴とする塗布装置。
2. 前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布装置。
4. 塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、
   前記調整機構は、前記硬化手段を基板の長さ方向に沿ってスライド可能とするスライド機構であり、
   前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする塗布装置。
5. 前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
6. 請求項１，２または４いずれかの項に記載の塗布装置を用い、前記調整機構により前記ノズルと前記硬化手段との水平方向間隔を設定した後、前記塗膜形成ユニットを走行移動して、該ノズルによる塗布処理と該硬化手段による硬化処理を行うようにしたことを特徴とする塗布方法。
7. 請求項３または５に記載の塗布装置を用い、前記塗膜形成ユニットを走行移動して前記ノズルによる塗布処理を行うとき、前記駆動手段で前記硬化手段を該ノズルに対して相対移動しながら硬化処理を行うようにしたことを特徴とする塗布方法。

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