TWI626438B - 檢查設備及物品製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種用於執行物體的檢查的檢查設備包括：照明裝置，其對於物體執行各向異性照明和各向同性照明；成像裝置，其使藉由照明裝置而被照明的物體成像；以及處理器，其基於由成像裝置所獲得的影像來執行檢查的處理。處理器基於由成像裝置在照明裝置分別執行複數個各向異性照明時所獲得的複數個第一影像、以及由成像裝置在照明裝置執行各向同性照明時所獲得的第二影像來產生檢查影像，並且基於檢查影像來執行處理。

Description

檢查設備及物品製造方法
本發明關於一種用於檢查物體的檢查設備以及一種物品製造方法。
取代以人眼觀看物體的傳統檢查方法，物體(例如，工件(work))的外觀(appearance)檢查，例如，最近使用檢查設備基於藉由使被照明物體成像所獲取的影像來執行。隨著可應用於檢測設備的照明系統，一種系統被提出，其中，可獨立地控制的光源被佈置為穹頂(dome)形狀(日本專利公開第7-294442號)。
此外，一種檢查設備被提出，此檢查設備藉由獨立地接通設置在物體周圍的複數個光源來獲取複數個影像，並基於藉由合成複數個影像所獲取的檢查影像來檢查物體(日本專利公開第2014-215217號)。
日本專利公開第7-294442號中所揭露的照明系統可獲取在各種照明條件下的影像，但由於它需要花費較多的處理時間來獲取和處理大量的影像，它在檢查物體 所需要的時間上可能是不利的。
日本專利公開第2014-215217號中所揭露的檢查設備從複數個方位角照明物體以獲取複數個影像，基於針對每個像素編號的像素值之最大值或最小值來產生檢查影像，並針對損傷(flaw)來檢查此檢查影像。然而，在這種檢查設備中，因為在關於缺陷的信號中之照明方位的差異為不清楚的，像是不均勻性(unevenness)和吸光性污染物(異物)的缺陷(其不是線狀損傷(linear flaw)或缺陷(刮擦))可能難以檢測出來。
本發明提供，例如，一種檢查設備，其在各種缺陷的檢查上為有利的。
本發明的態樣是一種用於執行物體的檢查的檢查設備，此檢查設備包括：照明裝置，其被配置為對於物體執行各向異性照明(anisotropic illumination)和各向同性照明(isotropic illumination)；成像裝置，其配置為使藉由照明裝置而被照明的物體成像；以及處理器，其基於由成像裝置所獲得的影像來執行檢查的處理，其中，處理器被配置為基於由成像裝置在照明裝置分別執行複數個各向異性照明時所獲得的複數個第一影像、以及由成像裝置在照明裝置執行各向同性照明時所獲得的第二影像來產生檢查影像，並基於檢查影像來執行處理。
從以下參照所附圖式的例示性實施例描述， 本發明的進一步特徵將變得清楚明瞭。
10‧‧‧檢查設備
11‧‧‧工件
12‧‧‧輸送帶
101‧‧‧照明裝置
102‧‧‧成像裝置
103‧‧‧處理器
104‧‧‧控制單元
105‧‧‧顯示單元
110‧‧‧開口
111a‧‧‧發光二極體(LED)
111b‧‧‧發光二極體(LED)
111c‧‧‧發光二極體(LED)
S101‧‧‧步驟
S102‧‧‧步驟
S103‧‧‧步驟
S104‧‧‧步驟
S105‧‧‧步驟
S106‧‧‧步驟
S201‧‧‧步驟
S202‧‧‧步驟
S203‧‧‧步驟
圖1顯示檢查設備的例示性配置。
圖2A和圖2B顯示照明裝置的例示性配置。
圖3顯示檢查的處理流程。
圖4顯示照明和成像的處理流程。
圖5A至圖5H顯示藉由照明裝置的照明條件。
圖6A至圖6H為顯示針對關於具有缺陷的物體之每個照明條件所獲取的影像的示意圖。
圖7A和圖7B為顯示中間影像的示意圖。
圖8為顯示檢查影像的示意圖。
在下文中，參考圖式說明本發明的實施例。在圖式中，一般由相同的元件符號表示相同的組件(除非另外敘明)且其重複的說明被省略。
第一實施例
圖1顯示檢查設備10的例示性配置。檢查設備10檢查作為物體(待檢查的物體)的工件11的外觀。然而，待檢查的物體不限於工件11的外觀，而可能是對於人眼不可見的物體的特性(例如，表面粗糙度)。檢查設備 10在此可檢查由作為輸送單元的輸送帶12輸送的工件11。工件11可為，例如，被用於工業產品的金屬零件、樹脂零件等。在工件11的表面上，可能存在缺陷，例如線狀損傷(刮擦)、不均勻性(例如，表面上的取決於表面粗糙度、成分、膜厚度等的光反射特性的二維不均勻性、非線狀或各向同性的損傷、凹痕等)以及吸光性污染物(異物)。檢查設備10檢查這類的缺陷並處理工件11(例如，將工件11分類為無缺陷物體或有缺陷物體)。作為輸送單元的輸送帶12可由機器人、手動操作等來代替。
檢查設備10可以包括照明裝置101、成像裝置102、處理器103(其可以由PC所構成)、控制單元104、顯示單元105、輸入單元(未示出)等。控制單元104基於，例如，由處理器103預先設置的照明模式(pattern)和成像模式來控制照明裝置101和成像裝置102彼此同步。開口110被形成在照明裝置101的頂部處，使得工件11可由成像裝置102成像。成像裝置102由照相機本體、用於在照相機本體中的影像拾取裝置上使工件11成像的光學系統等所構成，且藉由成像所獲取的影像被傳輸(傳送)到處理器103。處理器103不一定是一般用途的PC，而可以是專用裝置。處理器103和控制單元104可以彼此一體地形成。處理器103基於從成像裝置102所傳輸的影像(亦即，數據)進行針對工件11的檢查之處理(例如，檢測工件11的表面(亦即，外觀)上的缺陷)。處理器103可以基於相對於稍後說明的檢查影像的像素值之容許 條件(tolerable condition)進行處理。顯示單元105顯示從處理器103所傳送的包括影像和檢查結果的資訊。輸入單元由，例如，鍵盤和滑鼠所構成，且將由使用者所輸入的輸入資訊等傳送到處理器103。
圖2A和2B顯示照明裝置101的例示性配置。圖2A為照明裝置101的截面圖，且圖2B是從上方觀看之照明裝置101的立體圖。照明裝置101包括總共20個光發射部或光源(在下文中，稱為“發光二極體(LED)”)111。光發射部不限於LED，而可以是其它光源，例如，螢光燈(fluorescent light)和汞弧燈(mercury arc light)。可以藉由在平面基板上佈置複數個殼型(shell type)或表面安裝型LED元件來配置複數個LED 111，此配置並非限制性的。例如，替代地，LED元件可以被佈置在撓性板上。此配置對於在穹頂形狀的照明裝置101中增加發光面積為有利的。複數個LED 111可以藉由控制單元104獨立地控制光量和發光定時。複數個LED 111被設置在三個不同的仰角(elevation)處。LED 111a在低仰角處照明工件11，LED 111b在中間仰角處照明工件11，且LED 111c在高仰角處照明工件11。沿著照明裝置101的圓周方向，設置八個LED 111a、八個LED 111b和四個LED 111c。藉由依次接通預定的複數個LED 111並使成像裝置102進行與複數個LED 111的接通同步地成像，可以在工件11在各種照明條件(亦即，仰角、方位角)下被照明的同時獲取影像。複數個LED的數量和佈置不限於以上 述的該些數量和佈置。僅需要以所需的數量和佈置來將複數個LED安裝在照明裝置101上，所需要的數量和佈置取決於待檢查的物體之類型、待檢查的物體之特性(缺陷)的類型等。
圖3顯示藉由檢查設備10的檢查的處理流程。在圖3中，工件11首先被照明和成像(步驟S101)。參考圖4、圖5A至圖5H、以及圖6A至圖6H以詳細說明步驟S101的處理。圖4顯示照明和成像的處理流程。在圖4中，首先對於複數個方位依次進行各向異性照明和成像(步驟S201)。此處的術語“各向異性”不是對於“仰角”而是對於“方位”被使用。具體而言，照明裝置101和成像裝置102經由控制單元104被控制，使得設置在各個方位角和仰角處的複數個LED 111被依次接通，且藉由成像裝置102與以預定方式的複數個LED 111的接通同步地使工件11成像。
圖5A至圖5H顯示照明裝置101的照明條件。在該等圖式中，以黑色填滿的複數個LED處於點亮狀態，且以白色填滿的複數個LED則不處於點亮狀態。圖5A至圖5D顯示步驟S201中的照明模式。關於設置在最低仰角處的複數個LED 111a，兩個相互面對的LED被同時接通以依次從不同的四個方位(角)照明工件11。由此獲取總共四個影像。照明的方位角在圖5A中為0°，在圖5B中為45°，在圖5C中為90°，且在圖5D中為135°。雖然設置在最低仰角處的兩個相互面對的LED在此處被同 時接通，此配置並非限制性的，且鄰接於這些LED的複數個LED可以進一步被同時接通。以此方式，關於複數個方位的各向異性照明和成像依次被進行。
圖6A至圖6H為顯示關於針對具有缺陷的物體之每個照明條件所獲取的影像的示意圖。在圖5A至圖5H的照明條件下所獲取的影像分別對應於圖6A至圖6H。圖6A至圖6H顯示其中線狀損傷(刮擦)、不均勻性、或吸光性污染物(異物)作為缺陷存在於工件11的表面上的情況下的影像。如果線狀損傷存在於工件11中，如圖6A至圖6D中所示，則損傷的外觀(亦即，對比度)會根據照明方位(角)而改變。如果線狀損傷被從基本上與其平行的方位(方位角：0°)照明，則損傷不會在影像上被清晰地可視化(visualize)。如果線狀損傷被從與其垂直的方位(方位角：90°)照明，則損傷在影像上被清晰地可視化。這是因為線狀損傷的截面形狀會根據方位而顯著地不同，且當線狀損傷被從與其垂直的方位照明時，來自損傷之較大量的反射光或散射光前進到成像裝置102。在不均勻性或吸光性污染物的情況下，不同於線狀損傷，截面形狀不會根據方位而有如此大的不同。因此，如圖6A至圖6D中所示，影像上的缺陷的外觀(亦即，對比度)不會根據照明方位而改變的那麼大。
接下來，關於複數個仰角依次進行各向同性照明和成像(步驟S202)。如同“各向異性”一般，此處的術語“各向同性”不是對於“仰角”而是對於“方位”被使用。具 體而言，照明裝置101和成像裝置102經由控制單元104被控制，使得設置在複數個仰角處的複數個LED 111被依次接通，且藉由成像裝置102與複數個LED 111的接通同步地使工件11成像。圖5E至圖5G顯示步驟S202中的照明模式。關於LED 111a、LED 111b和LED 111c，在相同仰角處的複數個LED被同時接通，工件11依次在三個不同的仰角處被照明，且獲取總共三個影像。關於照明的仰角，圖5E顯示低角度、圖5F顯示中間角度，且圖5G顯示高角度。前進到成像裝置102的反射光或散射光的量取決於工件11的表面的可散射性，且隨著照明的仰角而改變。因此，LED 111a、LED 111b和LED 111c可被設置為具有相互不同的光量值，使得優化影像的像素值可以被獲取。
在圖5E至圖5G的照明條件下所獲取的影像分別對應於圖6E至圖6G。如果工件11具有線狀損傷，如圖6E至圖6G中所示，則損傷的外觀(亦即，特徵)根據照明的仰角而改變。如果損傷在低角度處被照明，則損傷在影像上相較於背景水平被可視化為更亮的。如果損傷在高角度處被照明，則損傷在影像上相較於背景水平被可視化為更暗的。然而，如果損傷在中間角度處被照明，則損傷不會被清晰地可視化。與無缺陷部分的表面相比，形成有損傷的工件11的表面傾斜。因此，在低角度照明中，相較於來自無缺陷部分的散射光，來自損傷之更大量的散射光前進到成像裝置102。在高角度照明中，相較於來自 無缺陷部分的散射光，來自損傷之更小量的散射光前進到成像裝置102。如在線狀損傷的情況下一般，影像上的不均勻性的外觀隨著照明的仰角而改變。不同於線狀損傷或不均勻性，當被從任何仰角照明時，吸光性(亦即，光吸收性)污染物(異物)吸收光。因此，吸光性污染物在影像上被可視化為暗的，且其外觀不會根據仰角而改變的那麼大。
接下來，對於全部仰角同時進行各向同性照明和成像(S203)。圖5H顯示步驟S203中的照明模式。在全部LED被同時接通的情況下獲取影像。每個LED的光量可為相同或不同的。不需要使全部LED接通，或不需要接通相對較小數量的LED。在圖5H的照明條件下所獲取的影像對應於圖6H。由於在低角度照明中和在高角度照明中，線狀損傷和不均勻性的亮度和暗度被顛倒，故當同時進行低角度照明和高角度照明時，線狀損傷和不均勻性兩者無法被充分地可視化。由於吸光性污染物在被從任何仰角照明時均吸收光，即使全部LED被同時接通，吸光性污染物仍被可視化為暗的。
回到圖3，在步驟S102中，處理器103對由成像裝置102所獲取的影像進行陰影校正(shading correction)和階調校正(gradation correction)。陰影校正使得像素值廣泛地均勻，且階調校正將像素值的均勻水平設定為預定值。因此，影像變為適合於產生稍後說明的檢查影像的影像。如圖6E到圖6G中所示，藉由成像所獲取 的影像的均勻度(uniformity)和水平可能根據照明的仰角而變化。均勻度和水平藉由陰影校正和階調校正而被校正。
可以在原始影像被除以藉由將多項式(polynomial)擬合(fitting)到參考影像中而預先獲得的結果的情況下進行陰影校正。進一步地，可以在原始影像被除以預先獲得之關於複數個影像的平均值的情況下進行陰影校正，複數個影像是藉由使複數個無缺陷工件11(無缺陷物體)中的每一者成像而獲取的。可以進行階調校正，使得關於原始影像中的預定部分(例如，對應於工件11的部分)的像素值(的代表值(例如，平均值))變為預定值。
接下來，處理器103從藉由陰影校正和階調校正所獲取的複數個影像產生中間影像(步驟S103)。圖7A和圖7B為顯示中間影像的示意圖。圖7A是藉由處理器103經由陰影校正和階調校正從圖6A至圖6D的四個影像所產生的中間影像。藉由獲得與四個影像中有關每個像素(像素編號或像素ID)相關的像素組(4個像素)中的最大像素值和最小像素值之間的差異來產生中間影像。工件11的無缺陷區域中的像素值不會根據照明方位而改變的那麼大。如圖6A至圖6D中所示，線狀損傷的區域中的像素值根據照明方位而顯著地改變。因此，如圖7A中所示，損傷在中間影像中被可視化為亮的。藉由獲得四個影像中的最大像素值和最小像素值之間的差異，中間影像的雜訊被減少。關於其外觀根據照明方位而顯著地改變的線狀損傷，相較於四個影像的信號噪音比(S/N比)，中間影 像具有改善的S/N比。
如圖6A至圖6D中所示，如在無缺陷區域中一般，影像上的不均勻性或吸光性污染物的外觀(亦即，像素值)不會根據照明的方位角而改變的那麼大。因此，不均勻性和吸光性污染物在圖7A的中間影像中均不會被清晰地可視化。
替代使用最大像素值與最小像素值之間的差異，可以僅使用最大像素值或最小像素值來產生中間影像。如果缺陷被可視化為亮的，則可使用最大像素值，且如果缺陷被可視化為暗的，則可使用最小像素值。如果缺陷被可視化為亮的或暗的這兩者，則較佳地使用最大像素值與最小像素值之間的差異。
接下來，圖7B是藉由處理器103基於圖6E至圖6G的三個影像經由陰影校正和階調校正所產生的中間影像。藉由獲得與三個影像中有關每個像素(像素編號或像素ID)相關的像素組(3個像素)中的最大像素值和最小像素值之間的差異來產生中間影像。工件11的無缺陷區域中的像素值不會根據照明的仰角而改變的那麼大。如圖6E至圖6G中所示，線狀損傷和不均勻性具有根據照明的仰角而顯著地改變的像素值。因此，如圖7B中所示，線狀損傷和不均勻性在中間影像中被可視化為亮的。
如圖6E至圖6G中所示，以與無缺陷區域中相同的方式，影像上的吸光性污染物的外觀(像素值)不會根據照明的仰角而改變的那麼大。因此，吸光性污染物在 圖7B的中間影像中不會被清晰地可視化。
替代使用最大像素值與最小像素值之間的差異，可以僅使用最大像素值或最小像素值來產生中間影像。替代上面所說明之在三個仰角處的三個影像，可以基於在高角度照明的影像和在低角度照明的影像來產生中間影像。由於在高角度照明中和在低角度照明中的亮度和暗度被顛倒，故線狀損傷和不均勻性在基於最大像素值與最小像素值之間的差異所產生的中間影像中被以高的對比度可視化。
接下來，處理器103產生檢查影像(步驟S104)。圖7A和圖7B中所顯示的兩個中間影像以及圖6H中所顯示的影像(藉由在全部LED 111被同時接通的情況下成像所獲得的影像(“全部光源被接通的影像”))被用於產生檢查影像。處理器103藉由獲得與這三個影像中有關每個像素(像素編號或像素ID)相關的像素組(3個像素)中的最大像素值和最小像素值之間的差異來產生檢查影像。圖8是顯示檢查影像的示意圖。
工件11的無缺陷區域的外觀(像素值)不會在兩個中間影像以及全部光源被接通的影像的任何一者中改變的那麼大。如圖7A或圖7B中所示，線狀損傷在兩個中間影像中被可視化為亮的，且如圖6H中所示，在全部光源被接通的影像中不會被清晰地可視化。因此，如圖8中所示，線狀損傷在使用這三個影像所產生的檢查影像中被可視化為亮的(亦即，具有相對大的像素值)。
不均勻性在圖7B中所顯示的中間影像中被可視化為亮的，且不會在圖7A的中間影像中和在圖6H的全部光源被接通的影像中被清晰地可視化。因此，如圖8中所示，不均勻性被可視化為亮的(亦即，具有相對大的像素值)。
吸光性污染物在圖6H中所顯示的全部光源被接通的影像中被可視化為暗的，且不會在圖7A和圖7B中所顯示的兩個中間影像中被清晰地可視化。因此，如圖8中所示，吸光性污染物被可視化為亮的(亦即，具有相對大的像素值)。
在基於以上說明的三個影像所產生的檢查影像中，像是線狀損傷、不均勻性和吸光性污染物的各種缺陷被可視化(亦即，具有相對大的像素值)。
替代使用三個影像中有關每個像素之最大像素值與最小像素值之間的差異，可以僅使用最大像素值或最小像素值來產生檢查影像。如果缺陷被可視化為亮的，則可以使用最大像素值，且如果缺陷被可視化為暗的，則可以使用最小像素值。如果缺陷被可視化為亮的或暗的這兩者，則較佳的使用最大像素值與最小像素值之間的差異。
接下來，處理器103基於檢查影像對工件11的外觀進行缺陷檢測(亦即，缺陷判斷)(步驟S105)。由於各種缺陷可以在檢查影像中被清晰地可視化(亦即，可以具有相對大的像素值)，故各種缺陷藉由(例如)二值化 (binarization)處理為可檢測的。由於作為缺陷檢測的目標之檢查影像的數量為一，故高速檢查是可能的。
缺陷檢測(亦即，缺陷判斷)可以藉由相對於以上說明的二值化的結果來設定合適的判斷標準(例如，閾值)而進行，或者可以藉由學習複數個檢查影像並從其特徵值計算得分數(Score)而進行。如果使用者針對各種缺陷中的每一者設定有缺陷/無缺陷的判斷標準需要相當多的時間和技能，則如以上說明的基於學習之自動得分數計算為較佳的。
檢查影像的產生不限於使用以上說明的三個影像。例如，在其中線狀損傷不被當作缺陷而被產生的工件中，檢查影像可基於圖7B中所顯示的中間影像和圖6H中所顯示的全部光源被接通的影像的兩個影像而被產生。
進一步地，替代全部光源被接通的影像，例如，可以使用僅在中間角度照明處的影像。也就是說，可以基於由成像裝置102經由特定仰角處的各向同性照明所獲取的影像來產生檢查影像。此外，例如，可以使用基於在高角度照明的影像、在中間角度照明的影像、以及在低角度照明的影像的總和或者平均值的影像。此情況在檢查時間上是有利的，因為沒有必要藉由成像裝置102獲取全部光源被接通的影像。
此外，不具有缺陷的無缺陷影像可以被添加到用於產生檢查影像的複數個影像中。在圖6H的全部光源被接通的影像中，線狀損傷和不均勻性在一些情況下可 被以某一程度的對比度可視化。在此情況下，損傷的對比度在檢查影像中可能變得不足。即使在這種情況下，可以藉由添加無缺陷影像來獲取相對高的對比度的線狀損傷或不均勻性的檢查影像。如果無缺陷物體的表面的光反射特性是均勻的，則替代實際的無缺陷影像，可以使用與具有擁有恆定像素值的區域之無缺陷物體相關的人工影像。
如上所述，根據本實施例，可以提供，例如，有利於檢查各種缺陷的檢查設備。
與物品製造方法相關的實施例
根據以上說明的實施例之檢查設備可被用於物品製造方法中。物品製造方法可包括使用檢查設備檢查物體的步驟、以及在檢查過程中處理被檢查的物體的步驟。處理可包括，例如，測量、加工、切割、輸送、建立(組裝)、檢查和分類中的至少任一個。根據本實施例之製造物品的方法在物品的性能、質量、生產率及生產成本中的至少一者相較於相關領域中的方法為有利的。
雖然已參照例示性實施例描述了本發明，但應理解的是，本發明不限於所揭露的例示性實施例。以下申請專利範圍的範疇應被賦予最寬廣的解釋，以使其包含所有這類的修改以及相等的結構和功能。

Claims (13)

  1. 一種用於執行物體的檢查的檢查設備，該檢查設備包括：照明裝置，其被配置為對於該物體執行各向異性照明和各向同性照明；成像裝置，其被配置為使藉由該照明裝置而被照明的該物體成像；以及處理器，其被配置為基於由該成像裝置所獲得的影像來執行該檢查的處理，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置在該照明裝置分別執行複數個各向異性照明時所獲得的複數個第一影像、以及由該成像裝置在該照明裝置執行各向同性照明時所獲得的第二影像來產生檢查影像，並基於該檢查影像來執行該處理。
  2. 如申請專利範圍第1項之檢查設備，其中，該處理器被配置為對於由該成像裝置所獲得的該影像執行陰影校正和階調校正。
  3. 如申請專利範圍第1項之檢查設備，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置分別經由來自相應的複數個方位之該複數個各向異性照明所獲得的該複數個第一影像來產生中間影像，並且基於該中間影像來產生該檢查影像。
  4. 如申請專利範圍第1項之檢查設備，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置分別經由在相應的複數個 仰角處的複數個各向同性照明所獲得的複數個影像來產生中間影像，並且基於該中間影像來產生該檢查影像。
  5. 如申請專利範圍第1項之檢查設備，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置經由在特定仰角處的該各向同性照明所獲得的影像來產生該檢查影像。
  6. 如申請專利範圍第5項之檢查設備，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置經由在複數個仰角的全部處的各向同性照明所獲得的影像來產生該檢查影像。
  7. 如申請專利範圍第1項之檢查設備，其中，該處理器被配置為基於對於該檢查影像的像素值的容許條件來執行該處理。
  8. 如申請專利範圍第7項之檢查設備，其中，該處理器被配置為基於其每個像素值滿足該容許條件的影像來進一步產生該檢查影像。
  9. 如申請專利範圍第3項之檢查設備，其中，基於相對於複數個影像中彼此對應的每組像素的最大像素值和最小像素值中的至少一個，該處理器被配置為從包括該中間影像的該複數個影像來產生該檢查影像。
  10. 如申請專利範圍第4項之檢查設備，其中，基於相對於複數個影像中彼此對應的每組像素的最大像素值和最小像素值中的至少一個，該處理器被配置為從包括該中間影像的該複數個影像來產生該檢查影像。
  11. 一種製造物品的方法，該方法包括以下的步驟：使用檢查設備執行物體的檢查；以及 處理已對其執行該檢查的該物體，以製造該物品，其中，該檢查設備包括：照明裝置，其被配置為對於該物體執行各向異性照明和各向同性照明；成像裝置，其被配置為使藉由該照明裝置而被照明的該物體成像；以及處理器，其被配置為基於由該成像裝置所獲得的影像來執行該檢查的處理，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置在該照明裝置分別執行複數個各向異性照明時所獲得的複數個第一影像、以及由該成像裝置在該照明裝置執行各向同性照明時所獲得的第二影像來產生檢查影像，並基於該檢查影像來執行該處理。
  12. 一種用於執行物體的檢查的檢查設備，該檢查設備包括：照明裝置，其被配置為對於該物體執行來自限定方位的照明、以及來自非限定方位的照明，該非限定方位的方位範圍大於該限定方位的方位範圍；成像裝置，其被配置為使藉由該照明裝置而被照明的該物體成像；以及處理器，其被配置為基於由該成像裝置所獲得的影像來執行該檢查的處理，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置在該照明裝置分別執行各自來自該限定方位的複數個照明時所獲得 的複數個第一影像、以及由該成像裝置在該照明裝置執行來自該非限定方位的照明時所獲得的第二影像來執行該處理。
  13. 一種製造物品的方法，該方法包括以下的步驟：使用檢查設備執行物體的檢查；以及處理已對其執行該檢查的該物體，以製造該物品，其中，該檢查設備包括：照明裝置，其被配置為對於該物體執行來自限定方位的照明、以及來自非限定方位的照明，該非限定方位的方位範圍大於該限定方位的方位範圍；成像裝置，其被配置為使藉由該照明裝置而被照明的該物體成像；以及處理器，其被配置為基於由該成像裝置所獲得的影像來執行該檢查的處理，其中，該處理器被配置為基於由該成像裝置在該照明裝置分別執行各自來自該限定方位的複數個照明時所獲得的複數個第一影像、以及由該成像裝置在該照明裝置執行來自該非限定方位的照明時所獲得的第二影像來執行該處理。
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