TWI623793B - 製造保護窗之方法及以彼製造之顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
一種顯示裝置包括製備一高硬度膜。於該高硬度膜中係沉積有一第一支撐構件、一倍半矽氧烷膜、以及一第二支撐構件。該高硬度膜係經預處理,形成一預窗(pre-window)。一透明構件係藉由一注入程序而形成於該預窗之一表面上。該透明構件係由聚碳酸酯形成。該第一支撐構件及該第二支撐構件係由聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯形成。
Description
本發明之例示性具體實施態樣一般係關於顯示器,且更特定而言,係關於一製造保護窗之方法及以彼製造之顯示裝置。
透明保護窗係用於保護顯示面板免於外部衝擊。
該保護窗係位於電子裝置之最外部,因此其必需以一對外部衝擊具強抵抗性之材料形成。
強化玻璃可使用作為該保護窗之材料。然而,使用強化玻璃可能增加該顯示面板之重量和厚度。再者,強化玻璃難以形成不同的形狀。
根據本發明一例示性具體實施態樣之顯示裝置係包括製備一高硬度膜。於該高硬度膜中係沉積有一第一支撐構件、一倍半矽氧烷膜、以及一第二支撐構件。該高硬度膜係經預處理,形成一預窗(pre-window)。一透明構件由聚碳酸酯形成。該透明
構件藉由一注入程序而形成於該預窗之一表面上。該第一支撐構件及該第二支撐構件係由聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯形成。
該預處理可於一真空狀態執行。該高硬度膜被加熱,且該高硬度膜係安裝於一工模(jig)。
該預窗可包括一弧面。
該預處理可於一真空狀態執行。一接觸膜被加熱,且該高硬度膜係被安裝於該工模且與該接觸膜接觸。
該預窗可包括一弧面。
該預處理可於約250℃至約500℃之溫度下執行。
根據本發明例示性具體實施態樣之一顯示裝置係包括一顯示面板。該顯示面板包括一顯示單元以顯示影像。一保護窗位於該顯示面板上。該保護窗包括一對應於該顯示面板之一顯示區域的平面,和一對應於該顯示面板之一邊緣的弧面。該保護窗包括一第一透明構件由聚碳酸酯形成。一第二透明構件係位於該第一透明構件上。該第二透明構件由聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯形成。一第三透明構件係位於該第二透明構件上。該第三透明構件係由倍半矽氧烷形成。
該顯示面板可包括一有機發光元件。
一硬塗層可位於該第二透明構件和該第三透明構件之間。
該第一透明構件之厚度可為約0.4毫米至約1毫米的範圍。該第二透明構件之厚度可為約38微米至約100微米的範圍。該第三透明構件之厚度可為約75微米至約150微米的範圍。
10‧‧‧顯示面板
100‧‧‧顯示裝置
11‧‧‧顯示區域
12‧‧‧非顯示區域
13‧‧‧第一基材
14‧‧‧第二基材
2‧‧‧第一透明構件
20、22、24‧‧‧保護窗
211‧‧‧透明部分
212‧‧‧不透明部分
26‧‧‧驅動電路單元
30‧‧‧可撓性印刷電路
4‧‧‧第二透明構件
40‧‧‧殼
50‧‧‧印刷電路板
51‧‧‧接頭
52‧‧‧延伸件
6‧‧‧第三透明構件
602‧‧‧下模
604‧‧‧上模
72‧‧‧保護膜
77‧‧‧樹脂
8‧‧‧硬塗層
80‧‧‧預窗
800‧‧‧高硬度膜
82‧‧‧第一支撐膜/構件
84‧‧‧倍半矽氧烷膜
86‧‧‧第二支撐膜/構件
900‧‧‧工模
藉由參考以下詳細說明以及後附圖式,可更加清楚地獲得本發明之更完整理解及更多相關面向,其中:第1圖係根據本發明一例示性具體實施態樣之顯示裝置的分解視圖;第2圖係一沿第1圖,根據本發明一例示性具體實施態樣,之線II-II’的截面圖;第3圖及第4圖係根據本發明之例示性具體實施態樣之保護窗的截面圖;第5圖係根據本發明之例示性具體實施態樣之一製造保護窗之方法的流程圖;以及第6圖至第9圖係根據本發明之例示性具體實施態樣之製造保護窗的方法之中間步驟的截面圖。
根據本發明之例示性具體實施態樣將參考附圖於後詳細地說明。然而,本發明可以各種方式修改,且不應被解釋為限於在此所載之具體實施態樣。
本說明書及本圖式中相似或近似的元件以相似的參
考數字標示。應理解的是,當一元件如一層、膜、區塊、或基材被指稱為「於另一元件上」(“on”another element)、「耦合於另一元件」(“coupled to”another element)、「連接於另一元件」(“connected to”another element)時,其可直接地於另一元件上或耦合於另一元件或連接於另一元件,或者也可存在***的元件。於此所用,除非內文有明確相反說明,單數形式「一(“a”、“an”)」、及「該」(“the”)也意圖包括複數形式。
第1圖係根據本發明一例示性具體實施態樣之顯示裝置的分解視圖。
如第1圖所示,顯示裝置100係包括一顯示面板10以顯示影像、一用以容納顯示面板10之殼40、以及一用以保護顯示面板10之保護窗20。保護窗20係設置於顯示面板10之前面。
顯示面板10可為一有機發光顯示面板。或者,顯示面板10可為一液晶顯示面板。於本發明一例示性具體實施態樣中,為說明之目的係舉例一有機發光顯示面板做為顯示面板10而說明,但本發明之例示性具體實施態樣不限於此。
顯示面板10係經由一可撓性印刷電路30而電性連接於一印刷電路板(PCB)50。
用以顯示影像之畫素係以一矩陣形式而佈置於顯示面板10之一第一基材13上。一第二基材14係經由一密封構件而結合於第一基材13以保護該畫素。第一基材13可為一背面基材,以及第二基材14可為一正面基材。
舉例而言,於一主動式矩陣有機發光顯示面板中,每一個畫素係包括一有機發光元件及一驅動電路單元。該有機發光元件係包括一陽極、一有機發光層、及一陰極。該驅動電路單元係驅動該有機發光元件。該驅動電路單元係可包括一薄膜電晶體(TFT)。一資料導線係連接於該TFT之一輸入端,且一閘極導線係連接於該TFT之一控制端。該有機發光元件之陽極電極或陰極電極係連接於該TFT之一輸出端。
連接於該薄膜電晶體之資料導線及閘極導線係經由可撓性印刷電路30而連接於印刷電路板(PCB)50。一訊號經由印刷電路板(PCB)50而輸入至該TFT之輸入端及控制端。該TFT根據該訊號而開啟或關閉,且因此一驅動該畫素之電子訊號係輸出至該TFT的輸出端。
該驅動電路單元26產生一定時訊號以於一預定時間施加一經由印刷電路板(PCB)50而傳輸之驅動訊號至該閘極導線及資料導線。該驅動電路單元26係以一積體電路(IC)的形式形成於第一基材13上。或者,該驅動電路單元26可與基材13上的畫素電路整合。
印刷電路板(PCB)50係包括處理驅動訊號之電性元件、一外部訊號輸入的接頭51、以及一延伸件(expansion)52。經接頭51輸入之外部訊號係經延伸件52而傳輸至印刷電路板(PCB)50之電子元件。
保護窗20係保護顯示面板10免於外部衝擊。保護窗20係位於顯示面板10之前面。保護窗20可由一聚合物製成。
顯示面板10及保護窗20可藉一黏著層而彼此黏接。
保護窗20係包括一透明部分211及一非透明部分212。該透明部分211係對應於一具有畫素且顯示影像之顯示區域11。透明部分211係由一允許影像由外部觀看之透明材料所形成。非透明部分212係包圍透明部分211。該非透明部分212係對應於一無影像顯示之非顯示區域12。非顯示區域12係允許該驅動電路及電線不由外部所見。非透明部分212可包括一該顯示設備之標識、一裝飾性圖案、或類似物。
保護窗20係包括一第一平面其對應於顯示面板10之顯示區域11,及一第二平面其對應於顯示面板10之側邊表面。保護窗20也包括一具有預定曲率之弧面。該弧面係連接該第一平面及該第二平面,且包覆顯示面板10之邊緣。
於本發明之一例示性具體實施態樣中,該弧面係位於該第一平面之二相對側。或者,僅一弧面可位於該第一平面之二相對側之一。
保護窗20可包括複數層。
第2圖係沿第1圖,根據本發明之例示性具體實施態樣,之線II-II’的截面圖。
如第2圖所示,保護窗20係包括依序沉積之一第一透明構件2、一第二透明構件4、以及一第三透明構件6。
第一透明構件2係由聚碳酸酯(PC)所製成,且可具有約0.4毫米至約1毫米之厚度。
第二透明構件4係可由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)所製成,且可具有約38微米至約100微米之厚度。
第三透明構件6係由倍半矽氧烷所製成,且具有約75微米至約150微米之厚度。第三透明構件6係實體耦合於第二透明構件4。第二透明構件4之表面係以奈米粒子處理,且因此第二透明構件4係易於與第三透明構件6分開的。
於表1顯示之結構單元M、D、T、及Q中,倍半矽氧烷係一包括T單元的聚合物,且可以通式(RSiO3/2)n表示。倍半矽氧烷可由三烷氧矽烷(RSiOR)3或三氯矽烷(RSiCl3)之水解聚合反應而生成。於本發明之一例示性具體實施態樣中,除該水解聚合反應外,倍半矽氧烷可由本領域具通常知識者所知悉之方法生成。
第3圖及第4圖係根據本發明例示性具體實施態樣之保護窗的截面圖。
如第3圖所示,保護窗22係包括一第一透明構件2、一第二透明構件4、以及一第三透明構件6。
保護窗22可與第2圖所示之保護窗20實質相同。舉例而言,保護窗22之第一至第三透明構件2、4、及6可於材料與厚度上分別實質上相同於保護窗20之第一至第三透明構件2、4、及6。
整個保護窗22可由一透明材料所形成,不含非透明部分。當保護窗22整體係由一透明材料所製成時,顯示面板10之畫素區域係可延伸至顯示面板10之側邊,增加該顯示區域。顯示面板10可具有如保護窗22之彎曲部分。
或者,當保護窗22僅包括一弧面,顯示面板10可具有一對應於保護窗22之弧面的彎曲部分。
如第4圖所示,一保護窗24係包括一第一透明構件2、一第二透明構件4、一第三透明構件6、以及一硬塗層8。硬塗層8係位於第二透明構件4與第三透明構件6之間。
硬塗層8係可由一有機-無機複合材料所製成,如一聚甲基丙烯酸甲酯系材料(PMMA(polymethylmethacrylate)-based material)。硬塗層8係增加保護窗20之強度。
根據本發明一例示性具體實施態樣之製保護窗的造方法係參考第5圖至第9圖而詳細說明。
第5圖係一根據本發明例示性具體實施態樣之製造
保護窗之方法的流程圖,而第6圖至第9圖係一根據本發明例示性具體實施態樣之製造保護窗的方法之中間步驟的截面圖。
如第5圖所示,一根據本發明例示性具體實施態樣之製造保護窗方法係包括製備一高硬度膜(S100)、形成一印刷層於該高硬度膜上(S102)、預切割該高硬度膜(S104)、預處理該高硬度膜(S106)、注入該窗(S108)、以及移除一閘門(S110)。
如第6圖所示,製備高硬度膜800(S100)。高硬度膜800係包括一倍半矽氧烷膜84、一第一支撐膜82、及一第二支撐膜86。倍半矽氧烷膜84係由倍半矽氧烷所製成。第一支撐膜82與第二支撐膜86係分別附於倍半矽氧烷膜84之二相反表面。由聚乙烯(PE)所製成之保護膜72係各附於第一支撐膜82與第二支撐膜86。
第一支撐膜82與第二支撐膜86係防止氧氣流入倍半矽氧烷膜84,因此避免倍半矽氧烷膜84被分解。第一與第二支撐膜82與86在預處理(S106)過程中支撐倍半矽氧烷膜84,避免倍半矽氧烷膜84破裂。
第一支撐膜82與第二支撐膜86係由一具有高彈性系數及高衝擊抵抗力的材料所形成,例如,PET或PEN。
第二支撐膜86與倍半矽氧烷膜84係由一黏著劑而彼此耦合,且第一支撐膜82和倍半矽氧烷膜84係實體地彼此耦合。該黏著劑之類型並不特別侷限。舉例而言,該黏著劑可包括且有高透明度、高耐氣候性、及良好熱絕緣性之材料,例如丙烯酸系黏著劑。
當第一支撐膜82與第二支撐膜86各具有一少於約38微米的厚度時,高硬度膜800可能因倍半矽氧烷膜84的強度而無法在形成後維持其形狀。當第一與第二支撐膜82與86各具有大於約188微米之厚度時,高硬度膜800可能因倍半矽氧烷膜84、第一支撐膜82、及第二支撐膜86之強度而難以形成,且因此,第一支撐膜82可能剝離或倍半矽氧烷膜84可能損壞。根據本發明之一例示性具體實施態樣,第一支撐膜82與第二支撐膜86各可具有一約50微米至約100微米之厚度,且第一支撐膜82與第二支撐膜86具有實質上相同的厚度。
當倍半矽氧烷膜84具有少於約75微米之厚度,其對應之鉛筆硬度係降低到少於約8H,且其表面平整度可能無法維持。當倍半矽氧烷膜84之厚度大於125微米,倍半矽氧烷膜84之強度係增加的,且因此,倍半矽氧烷膜84可能難以形成。根據本發明之一例示性具體實施態樣,倍半矽氧烷膜84係具有約75微米至約125微米的厚度。
如第7圖所示,保護膜72被移除。一印刷層係形成於第一支撐膜82之一曝露表面上(S102)。該印刷層可具有一黑色矩陣其覆蓋顯示面板10之非顯示區域。該印刷層也可包括一顯示裝置100之標識、一裝飾性圖案、或相似物。
該印刷層可由不同的方法形成,如,使用一墊印刷機(pad printer)與一絹印孔版印刷機(silk screen printer),且可被乾燥。一印刷墨水可包括一顏色墨水和一固著劑(binder)之混合物,其允許該印刷層在不被推至在後續注入程序所***之樹脂
的情形下而黏著於該樹脂層。該固著劑可為一PMMA系或一PC系材料。
高硬度膜800被切割成較之後形成之窗20的尺寸為大的尺寸(S104)。
如第8圖所示,所切割的高硬度膜800係使用一預處理工模(jig)900而預處理成一窗的形狀(S106)。該預處理可以一真空形成方法或加壓空氣形成方法執行。
於真空形成方法中,高硬度膜800係固定於一夾,且之後設置一加熱器於該高硬度膜之上或之下,加熱且軟化該高硬度膜800。該加熱係於約250℃至約500℃的溫度下執行約5秒至約10秒。當該溫度高於約500℃時,該第一與第二支撐構件82與86被結晶化且其強度因此增加。因此,該倍半矽氧烷膜84可能被損壞,且其熱形變可能困難。
之後移除該加熱器。高硬度膜800係安裝於工模900上,且於一真空狀態執行預處理S106。藉由預處理S106,使高硬度膜800與工模900之表面緊密接觸,且因此具有實質上相同於工模900表面之形狀,因此形成一預窗80。預窗80被冷卻且之後與工模900分離。工模900包括彎曲部分,且因此使得預窗80具有對應於工模900彎曲部分的彎曲表面。
於加壓空氣形成方法中,於真空狀態下使高壓空氣噴向高硬度膜800。因此使高硬度膜800與工模900之表面緊密接觸,形成一預窗80。預窗80被冷卻且與工模900分離。
於將高硬度膜800安裝於工模900之後,一接觸膜被加熱且接著附著於該高硬度膜800,且當維持該真空狀態時,可執行該預處理。該接觸膜可為一聚合物膜如ABS(丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物)、ABS/PC、及PET,其根據溫度為可逆反應。該接觸膜係於約250℃至約500℃之溫度下加熱5秒且附於高硬度膜800。
該接觸膜係覆蓋高硬度膜800,且因此排出在高硬度膜800及工模900之間的空氣,且之後於高硬度膜800與工模900接觸時形成一真空狀態。據此,高硬度膜800可與工模900緊密地接觸。
根據本發明之一例示性具體實施態樣,第一支撐構件82及第二支撐構件86係分別附於倍半矽氧烷膜84二相反表面。據此,即使當高度脆的倍半矽氧烷膜84被彎曲以形成弧面時,倍半矽氧烷膜84被第一支撐構件82及第二支撐構件86支撐,且可在不損壞倍半矽氧烷膜84之情形下形成該弧面。
如第9圖所示,可由一使用彼此嚙合之下模602和上模604的注入程序S108而形成一窗(S108)。下模602與上模604之內部具有所形成之該窗的形狀,且預窗80係安裝於上模604和下模602之間。上模604可以如第1圖之第一透明構件2的厚度與預窗80彼此分隔。
將一預定量之樹脂77注入至預窗80與上模604之間的間隙。所注射之樹脂77的量係可根據第一透明構件2的厚度而調整。
將所注入之樹脂77硬化,形成一包括第一透明構件2之保護窗20。預窗80之第一支撐構件82係對應於第2圖之第二透明構件4,且倍半矽氧烷膜84係對應於第2圖之第三透明構件6。
當以注入程序形成窗20,於樹脂77注入之處形成一伸入部分(也稱為「閘門」)。使用雷射移除該伸入部分(S110)。該雷射可為具高功率之二氧化碳雷射。
第二支撐構件86係藉一黏著劑而黏著於第三透明構件6(如,倍半矽氧烷膜84)以保護第三透明構件6。第二支撐構件86係於保護窗20形成之後移除。
本發明雖已經由例示性具體實施態樣而說明及顯
示,本領域具通常知識者應理解,可在不背離如後附申請專利範圍所定義之本發明精神及範圍之下,做出多種形式及細節上的改變。
Claims (5)
- 一種製造保護窗的方法,該方法包含:製備一高硬度膜,於其中沉積有一第一支撐構件、一倍半矽氧烷膜、以及一第二支撐構件;預處理該高硬度膜以形成一預窗(pre-window);以及藉由一注入程序形成一透明構件於該預窗之一表面上,該透明構件由聚碳酸酯形成,其中該第一支撐構件與該第二支撐構件係由聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯形成,以及其中該預處理係於一真空狀態下執行,且包括加熱一接觸膜、安裝該高硬度膜於一工模上、以及將該高硬度膜與該接觸膜接觸。
- 如請求項1之方法,其中該預處理係於約250℃至約500℃之溫度下執行。
- 一種製造一窗之方法,該方法包含:藉依續地沉積一第一支撐構件、一倍半矽氧烷膜、及一第二支撐構件以形成一高硬度膜;藉預處理該高硬度膜以形成一預窗;形成一透明構件於該第一支撐構件上;以及移除該第二支撐構件,其中該第一支撐構件與第二支撐構件係由聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯形成,其中該預處理係於一真空狀態下執行,且包括加熱一接觸膜、安裝該高硬度膜於一工模上、以及將該高硬度膜與該接觸膜接觸。
- 如請求項3之方法,其中一硬塗層係形成於該第一支撐構件和該倍半矽氧烷膜之間。
- 如請求項3之方法,其中保護膜係分別形成於該高硬度膜之二相反表面上。
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