TWI611920B - 用於窗片之層合物、含有該層合物之窗片以及含有該層合物之顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明有關一種層合物,其包含一基材膜;及一含半矽氧烷膜,其形成在該基材膜之至少一上部與下部側面,含有該層合物之視窗片以及含有該層合物之顯示裝置。
Description
本發明有關用於視窗片的層合物,含有該層合物之視窗片以及含有該層合物之顯示裝置。
玻璃通常用於傳統液晶顯示器面板的電極材料,或用於電漿顯示器面板、電致發光顯示器管或發光二極體的顯示器材料。然而,因為玻璃易受撞擊且具有高比重,生產薄且輕的玻璃是受限制的。
替代玻璃,透明塑膠材料在此技術領域中受到關注。塑膠材料輕且不易受撞擊,因此在多個領域提供替代玻璃的可能性。因此,已進行多種研究以改良塑膠材料的透光性、表面硬度、耐用性及抗熱性。
近幾年來,在多種顯示裝置如LCD、PDP、行動電話、投影TV及其相似者上的顯著進步,此一顯示裝置置於最外部區域的視窗片的部份以一塑膠材料取代。
依本發明的一態樣,一種用於視窗片的層合物,其包括一基材膜;及一膜,其形成於該基材膜之至少一上部側面或下部側面且含有半矽氧烷。
在本發明的另一態樣中,一含有該層合物的視窗片。
在本發明的又一態樣中,一包括該層合物的顯示裝置。
100、200、300、400‧‧‧層合物
110、210‧‧‧基材膜
120、220b‧‧‧第一接著劑層
130、230b‧‧‧第一膜
140‧‧‧第一塗佈層
230a‧‧‧第二膜
220a‧‧‧第二接著劑層
240a‧‧‧第二塗佈層
240b‧‧‧第一塗佈層
500‧‧‧液晶面板
505‧‧‧視窗片
600‧‧‧底部
圖1為本發明一實施例之層合物的剖視圖。
圖2為本發明另一實施例之層合物的剖視圖。
圖3為本發明又一實施例之層合物的剖視圖。
圖4為本發明又另一實施例之層合物的剖視圖。
圖5為本發明一實施例之顯示裝置的剖視圖。
圖6為一說明捲邊高度量測的示意圖。
如本文所使用,如“上部側面”及“下部側面”等詞為參考圖式所定義。因此,應瞭解“上部側面”一詞可與“下部側面”一詞交替使用。
依本發明的一態樣,一層合物,其可包括一基材膜;及一膜,其形成於該基材膜之至少一上部側面或下
部側面且含有半矽氧烷。
圖1及2為本發明實施例之層合物的剖視圖。
參考圖1,一層合物100可包含一基材膜110,及一第一膜130,其成形於基材膜110的上部側面且含有半矽氧烷。在圖1中,此層合物可免去一接著劑層120。
參考圖2,一層合物200可包含一基材膜210;一第一膜230b,其成形於基材膜210的上部側面且含有半矽氧烷;及一第二膜230a,其成形於基材膜210的上部側面且含有半矽氧烷。在圖2中,接著劑層220a、220b可由層合物200中免除。
此基材膜支持層合物且可為一無半矽氧烷膜。
此基材膜使用杜邦品牌墜落測試器評估落錘衝擊強度具有約5J或更多的耐衝擊性。在耐衝擊性範圍內,此基材膜在含半矽氧烷膜的層合物中可提供足夠的耐衝擊性且可提供高硬度與耐衝擊性。較佳地,此基材膜具有約5J至約20J的落錘衝擊強度。
使用杜邦品牌墜落測試器測量落錘衝擊強度(500g,針1/2",試樣:100mm x 100mm),此基材膜可具有約35cm或更多的耐衝擊性,較佳約35cm至約90cm。
此耐衝擊性使用杜邦品牌墜落測試器依鋼球墜落測量。例如,基材膜的耐衝擊性可使用杜邦品牌墜落衝擊測試器依ASTMD 4226測量。在耐衝擊性測量中,具有30mm x 70mmx基材膜厚度(長度x寬度x厚度)大小的試樣可
使用500g的負載。
此基材膜在400至800nm波長可具有約90%或更多的穿透率,較佳約90%至99%。穿透率在此範圍內時,此基材膜可做為一視窗片。
此基材膜可具有約50μm至約1000μm的厚度,較佳約100μm至約1000μm或約100μm至約900μm,更佳約150μm至約800μm。此基材膜在此厚度範圍內,此層合物可經由卷對卷製程製造且可具有合宜的厚度與耐衝擊性。
在某些實施例中,此基材膜可為具有玻璃轉化溫度(Tg)為約70℃至約220℃的透明塑膠膜。
在另一實施例中,此基材膜可為一透明塑膠片。
在某些實施例中,此基材膜可由聚苯乙烯、(甲基)丙烯酸酯-苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯甲酯-橡膠混合物、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚鄰苯二甲酸丁酯、聚丙烯、聚乙烯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚醯胺、聚芳香酯、賽珞凡(cellophane)、聚醚碸、原冰片烯樹脂、環烯烴共聚物或其等之混合物形成。
較佳地,此基材膜可由聚碳酸酯、聚甲基丙烯甲酯-橡膠共聚物或聚對苯二甲酸乙二酯形成。
含半矽氧烷膜可為一高硬度塑膠膜。
在一實施例中,含半矽氧烷膜可具有約9H至約10H的鉛筆硬度,其係在使用三菱鉛筆(UNI)在1kg負載下以0.8mm/sec速度劃線後以一鉛筆硬度測試器(Shinto Scientific,Heidon)測量。
此膜在膜厚度為200μm時於400至800nm的波長帶可具有約88%或更多的穿透率,較佳約90%或更多,更佳自約90%至約100%。
此膜可具有為約250℃或更多玻璃轉化溫度,較佳約290℃至約330℃。
膜可具有約50μm至約500μm的厚度,較佳為約100μm至約300μm。
在一實施例中,此含半矽氧烷膜可為含有半矽氧烷或半矽氧烷樹脂的膜。
在另一實施例中,此含半矽氧烷膜可為由含半矽氧烷或半矽氧烷樹脂的組合物之固化產物形成的膜。
在又一實施例中在又一實施例中,此含半矽氧烷膜可經由浸漬一強化材料至一含有聚有機矽氧烷或其相似者的基質樹脂中而製得,接著固化所得到者。強化材料的範例可包含玻璃纖維、玻璃纖維布、玻璃布、玻璃不織布、玻璃篩、玻璃珠、玻璃粉末、玻璃碎片、氧化矽粒子、膠狀氧化矽及其等之混合物,但未限制於此。
在又一實施例中,含半矽氧烷膜可包含一經由塗佈一半矽氧烷或含有半矽氧烷樹脂之組合物的固化產品於一透明膜的一或二側而製得的膜。
在某些實施例中,含半矽氧烷膜可包含經由疊置一具有在550nm波長的穿透率為約90%或更多且玻璃轉化溫度為約250℃或更多之樹脂層C1於一具有玻璃轉化溫度為約70℃至約220℃的透明膜C2上而製得的膜層合物。
此樹脂層可為含有光可固化籠型半矽氧烷樹脂的光可固化樹脂組合物之固化產物。
在一實施例中,此籠型半矽氧烷樹脂係在一有機極性溶劑及一鹼性觸媒存在下經由水解及部份縮合由下列化學式1表示之矽化合物,並接著在非極性溶劑與鹼性觸媒存在下縮合水解產物而製備:<化學式1>RSiX3,(其中R為(甲基)丙烯醯基、縮水甘油基或乙烯基,及X為一可水解基)。
在另一實施例中,此籠型半矽氧烷樹脂可由化學式2或3表示:<化學式2>[RSiO3/2]n
(其中R為(甲基)丙烯醯基、縮水甘油基或乙烯基且n為8、10、12或14)
<化學式3>
[R1R2 2SiO1/2]m[R1SiO3/2]n
(其中R1為乙烯基、C1-C10烷基、苯基、(甲基)丙烯醯基、烯丙基或含氫氧烷環(oxylane)的官能基;至少二之(m+n)R1為具有未飽和雙鍵旳反應性有機官能基,其可選自乙烯基、(甲基)丙烯醯基或烯丙基;R2為甲基;m為1至4的整數;n為8至16的整數;及m+n在10至20範圍間)。
此光可固化組合物可包含至少一或二的由化學式2或3表示之半矽氧烷樹脂。
<化學式6>CH2=CH-
(其中,m為1至3的整數,且R1為氫或一甲基)。
此可水解基X可為任可呈現水解性質的基團且可為一C1至C10烷氧基或一乙醯氧基。
此透明膜可由聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚鄰苯二甲酸丁酯、環烯烴聚合物、環烯烴共聚物、聚碳酸酯、乙酸酯、丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚醯胺、聚芳香酯、賽珞凡、聚醚碸或原冰片烯樹脂形成。
樹脂層(C1)的厚度與透明膜(C2)的厚度之比例可在約0.1至約5.0範圍間。
此含半矽氧烷膜可商業取得。例如,此含半矽氧烷膜可為Silplus® J200(Nippon Steel Chemical Group),但未限制於此。
此層合物可經由任何典型的方法製備。
在一實施例中,此層合物可經由使用一結合劑或接著劑結合此含半矽氧烷膜至基材膜而製得。
在另一實施例中,此層合物可經由將含半矽氧烷組合物塗佈在基材膜上,接著乾燥或固化含半矽氧烷組合物而製得。
此層合物在基材膜與含半矽氧烷膜間可更包括一接著劑層。
參考圖1,此層合物100包括基材膜110;第一膜130,其形成於基材膜110之上部側面且含有半矽氧烷;及一第一接著劑層120,其形成於基材膜110與第一膜130間。
參考圖2,該層合物200包括基材膜210;第一膜230b,其形成於基材膜210之上部側面且含有半矽氧烷;一第一接著劑層230b,其形成於基材膜210與第一膜230b間;第二膜230a其形成於基材膜210之下部側面且含有半矽氧烷;及一第二接著劑層220a,其形成於基材膜210與第二膜230a間。
此接著劑層可具有約-50℃至約-10℃的玻璃轉化溫度。在此玻璃轉化溫度範圍,此接著劑層允許此層合物穩定的形成且防止基材膜自含半矽氧烷膜分離。較佳地,此接著劑層可具有自約-40℃至約-10℃的玻璃轉化溫度,更較佳為約-25℃至約-10℃。
此接著劑層的玻璃轉化溫度可經由任何此技術領域已知的典型方法測量。例如,一接著劑組合物塗佈在一離型膜上,接著乾燥並加熱固化以形成一接著劑層。接著,此接著劑層的玻璃轉化溫度可使用DSCQ100(TA Instrument公司)在一10℃/min的溫度上升速率由-70℃加熱至50℃而測量。
此接著劑層可具有一在約1x104至約1.5x106dyn/cm2範圍間的模數(G')。在此模數範圍內,此接著劑層允許此層合物穩定的形成並提供耐用性。較佳地,此接著劑層具有約1x105至約1.45x106dyn/cm2的模數(G')。
接著劑層的模數可以任何此技術領域已知的方法測量。例如,接著劑層的模數可使用ARES(先進流變擴充系統,Rheomrtric Scientific公司)於一10rad/s頻率及2℃
/min的溫度上升速率在25℃至70℃的溫度範圍間在5%應變下測量。雖可在51.3℃得到一模數,但本發明並未限制於此。
此接著劑層可具有自約5μm至約50μm的厚度,較佳約10μm至約30μm。
此接著劑層可具有一約2N/英吋至約15N/英吋的接著強度。
為測量接著強度,一接著劑組合物塗佈於PET膜上至20μm的厚度,接著乾燥並在80℃熱固化此接著劑組合物3分鐘以形成一接著劑膜,其接著在40℃靜置48小時並與一般的玻璃板結合,然後靜置4小時。接著,此膜的接著強度可使用一接著強度測試器(Shinto Scientific,Heidon)測量。
此接著劑層可由一含有(甲基)丙烯酸共聚物與固化劑的接著劑組合物形成。在某些實施例中,此接著劑層可經由接著劑組合物在80℃熱固化180秒而製得。
在一實施例中,此層合物可經由在基材膜與含半矽氧烷膜間放置及固化該接著劑組合物而製備。
在另一實施例中,此層合物可經由一離型膜上設置接著劑組合物以形成接著劑膜,其接著疊置於基材膜與含半矽氧烷膜間,然後固化該接著劑而製得。
固化可包含在約50℃至約140℃約1分鐘至約5分鐘的熱固化製程。接著劑組合物的設置可使用模具塗布機、凹板塗布機、微-凹板塗布機、反向塗布機、刀式塗
佈機、缺角輪塗佈機及其相似者進行。
(甲基)丙烯酸共聚物可且有約-50℃至約-10℃的玻璃轉化溫度,較佳為約-40℃至約-20℃。
(甲基)丙烯酸共聚物可為至少一選自含羥基的乙烯單體、含烷基的乙烯單體、含羧酸基的乙烯單體及含芳香基的乙烯單體組成之群組中的單體混合物之共聚物。
較佳地,(甲基)丙烯酸共聚物為一包括含羥基的乙烯單體、含烷基的乙烯單體及含羧酸基的乙烯單體的單體混合物之共聚物。
較佳地,此(甲基)丙烯酸共聚物為含有含羥基之乙烯單體及一含烷基之乙烯單體的單體混合物之共聚物。
此含羥基的乙烯單體可為一具有羥基的(甲基)丙烯酸酯。較佳地,此具有羥基的(甲基)丙烯酸酯可為在一端或在分子結構中具有至少一羥基與C1至C20烷基的(甲基)丙烯酸酯。
例如,含羥基的烯單體可包含至少一選自由2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥基己基(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、1-氯-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥
甲基乙烷二(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯基氧基丙基(甲基)丙烯酸酯及1,6-環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯,但未限制於此。
此含羥基的乙烯單體於(甲基)丙烯酸共聚物的存在量可為約0.1wt%至約50wt%,或約0.1wt%至約5wt%,或約1wt%至約50wt%,較佳為約1wt%至約3wt%。
此含烷基的乙烯單體可包含具有非環、直鏈或支鏈C1至C20烷基的(甲基)丙烯酸酯。
例如,此含烷基的乙烯單體可包含至少一選自由甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、t-丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、庚基(甲基)丙烯酸酯、辛基(甲基)丙烯酸酯、異辛基(甲基)丙烯酸酯、壬基(甲基)丙烯酸酯、癸基(甲基)丙烯酸酯及月桂基(甲基)丙烯酸酯組成的群組,但未限制於此。
此含烷基的乙烯單體在(甲基)丙烯酸共聚物的存在量可為約50wt%至約99wt%,較佳約55wt%至約99wt%。
含羧酸基的乙烯單體可為一在端基或分子結構中具有至少一羧酸的C1至C10(甲基)丙烯酸酯、或具有一乙烯基的羧酸。
例如,含羧酸基的乙烯單體可為至少一選自由(甲基)丙烯酸、亞甲基丁二酸、丁烯酸、順丁烯二酸、反
丁烯二酸及順丁烯二酸酐組成的群組中,但未限制於此。
含羧酸基的乙烯單體在(甲基)丙烯酸共聚物的存在量可為約0至約40wt%。在此範圍內時,含羧酸基的乙烯單體可改良黏著性。較佳地,含羧酸基的乙烯單體在(甲基)丙烯酸共聚物的存在量可為約0.1wt%至約40wt%。
其中Y為氫或一C1-C5烷基;p為0至10的整數;及X為選自由苯基、甲基苯基、甲基乙基苯基、甲氧基苯基、丙基苯基、環己基苯基、氯苯基、溴基苯基、苯基苯基、苯甲基及一苯甲基苯基組成的組群中。
尤其,此由化學式7表示的乙烯單體可包含至少一選自由苯基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基苯氧基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、2-苯基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-苯基丙基(甲基)丙烯酸酯、4-苯基丁基(甲基)丙烯酸酯、2-(2-甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(3-甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-丙基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-(1-甲基乙基)苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-甲氧基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-環己基苯基)乙基(甲
基)丙烯酸酯、2-(2-氯苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(3-氯苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-氯苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-溴基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(3-苯基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯及2-(4-苯甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯組成的組群中,但未限制於此。
此含芳香基的乙烯單體可包含於一(甲基)丙烯酸共聚物中。在此範圍內時,其可能獲得一可加工性之增進且可在高溫壓制應力。
此(甲基)丙烯酸共聚物可經由任何已知的方法製備,如溶液聚合作用、光聚合作用、總體聚合作用、懸浮聚合作用或乳化聚合作用。較佳地,此(甲基)丙烯酸共聚物經由在一聚合溫度為約50℃至約140℃下的溶液聚合作用製備。
在(甲基)丙烯酸共聚物的聚合作用,可使用一起始劑。此起始劑可為任何形式的起始劑,其包括偶氮系聚合作用起始劑如偶氮雙異丁腈或偶氮雙環己烷碳化腈;及/或過氧化物如過氧化苯甲醯或過氧化苯乙醯。
此固化劑的存在為基於100重量份的(甲基)丙烯酸共聚物之約0.01至5重量。固化劑在此範圍內時,接著劑層可具有一預期的玻璃轉化溫度,且此接著劑組合物可提供增進的耐用性及重製性。較佳地,此固化劑的存在量為約0.1至3重量份。
此固化劑可選自由異氰酸酯、環氧樹脂、氮丙
啶、三聚氫胺、胺、亞胺、碳二亞胺、醯胺固化劑及其等之混合物組成的群組中,但未限制於此。
當需要時,此接著劑組合物可更包括添加劑。此添加劑可包含偶合劑、固化促進劑、增稠樹脂、重組樹脂(多元醇、酚、丙烯酸樹脂、聚酯、聚烯烴、環氧樹脂、環氧化聚-丁二烯樹脂等)、UV吸收劑、調平劑、消泡劑、增塑膠、分散劑、熱安定劑、光安定劑、抗靜電劑或其等之混合物,但未限制於此。
此添加劑在接著劑組合物中的存在量可為約0.05wt%至約15wt%。
此接著劑組合物可更包括一溶劑。此溶劑可包含丁酮、甲基異丁基酮、乙酮、環己酮、環戊酮、二氧雜環戊烷、二噁烷、二甲氧基乙烷、甲苯、二甲苯、乙基乙酯或其等之混合物,但未限制於此。
此接著劑組合物可經由混合(甲基)丙烯酸共聚物、固化劑及可選擇的添加劑而製得。
此層合物可更包括一塗佈層。在某些實施例中,該塗佈層可形成於該含半矽氧烷膜的至少一側。
圖3及4為本發明實施例之層合物的剖視圖。
參考圖3,一層合物300可包含一基材膜110及一第一膜130,其成形於基材膜110的上部側面且含有半矽氧烷;及一第一塗佈層140,其形成於第一膜130的上部側面。
參考圖4,一層合物400可包含一基材膜210;及一第一膜230b,其成形於基材膜210的上部側面且含有半矽氧烷第一膜;一第二膜230a,其形成於基材膜210的且含有下部側面半矽氧烷;一第一塗佈層240b,其形成於第一膜230b的上部側面;及一第二塗佈層240a,其形成於第二膜230a的下部側面。
此塗佈層在25℃可具有一約80°或更多的水接觸角或約25°或更多的十六烷接觸角。接觸角在此範圍內時,此塗佈層具有低的表面能量以呈現良好的防污性及抗指紋性質,且具有一6H或更多的鉛筆硬度並同時呈現一良好的抗刮性。
此塗佈層較佳具有約80°至約110°的水接觸角,更佳約86°至約108°。此塗佈層較佳具有約25°至約80°的十六烷接觸角,更佳為約27°至約50°。
此水接觸角及十六烷接觸角可分別經由將一滴水或十六烷置於塗佈層的表面並使用一接觸角測試器(例如Surface Electro Optics,Phoenix 300)於25℃測量該測滴與塗佈層的角度。
此塗佈層具有約6H或更多的鉛筆硬度,較佳約6H至約7H。
鉛筆硬度可具有100μm至300μm厚度的層合物使用鉛筆硬度/抗刮性測試器(14FW,Heidon)測定,但未限制於此。在用於鉛筆硬度測量的層合物中,此具有含半矽氧烷的樹脂層疊置之基材膜可具有100μm至300μm的厚
度,且此塗佈層可具有10nm至500nm的厚度。
此塗佈層在550nm波長可具有約2%或更少的反射率。在此範圍內時,此塗佈層可達到抗反射性及抗眩光功能,且此層合物可用於做為視窗片。此塗佈層較佳具有約0.1%至約1.8%的反射率,更佳為約0.5%至約1.5%,又更佳為約0.9%至約1.4%。
此塗佈層在400nm至800nm波長可具有約90%或更多的穿透率。穿透率在此範圍內時,此塗佈層呈現良好的穿透率,因此可允許此層合物用於視窗片。較佳地,此塗佈層具有約90%至約100%的穿透率。
此塗佈層的厚度可依最終層合物、含半矽氧烷膜、含半矽氧烷的樹脂層或基材膜的厚度決定。在某些實施例中,此塗佈層可考慮視窗片的穿透率而決定具有約10nm至約500nm的厚度。
此塗佈層可包含單一層。包含單一層的塗佈層亦可提供如傳統抗反射膜之高穿透率且可允許反射率與色彩感受的調整。
此塗佈層可包含一含有(甲基)丙烯酸酯系化合物、無機奈米粒子與起始劑的組合物之固化產物。
在本文中使用的"(甲基)丙烯酸酯系"一詞為指丙烯酯與甲基丙烯酯化合物二者。
在一實施例中,此(甲基)丙烯酸酯系化合物可含有氟。
在一實施例中,此塗佈層可由含有含氟之(甲基)
丙烯酸酯系化合物與無機奈米粒子的組合物形成。
在含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物中,氟可增進塗佈層的抗指紋性及防污性,且(甲基)丙烯酸酯官能基可形成塗佈層的基質。
此含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物可包含一氟改質之(甲基)丙烯酸酯共聚物、一氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體或其等之混合物。較佳地,使用至少二具有不同數量官能基的共聚物或單體以提供塗佈層在折射率及塗層強度上優良的效用。
此氟改質之(甲基)丙烯酸酯共聚物可為一單-或更多官能基、雙-或更多官能基或三-或更多官能基的含氟之(甲基)丙烯酸酯共聚物。較佳地,此氟改質之(甲基)丙烯酸酯共聚物為一雙-或更多官能基,更佳為三-或更多官能基、氟改質之(甲基)丙烯酸酯共聚物。
此氟改質之(甲基)丙烯酸酯共聚物可具有約500g/mol或更多的重量平均分子量,較佳約500g/mol至約10,000g/mol。
此氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體可為單-官能基、雙-官能基或三-官能基、含氟之(甲基)丙烯酸酯單體。
此氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體可具有少於約500g/mol的重量平均分子量,較佳為約200g/mol至約400g/mol。
用於塗佈層的組合物可包含氟改質之(甲基)丙
烯酸酯共聚物與氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體二者,其中氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體(b)與氟改質之(甲基)丙烯酸酯共聚物(a)之含量比例(b/a,以重量計)在約0.1至約6範圍間,較佳約0.2至約5.5。
氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體可包含一含有C1至C18,較佳為C2至C11的氟烷基或C1至C18,較佳C4至C11的過氟烷基的烷基(甲基)丙烯酸酯。在某些實施例中,此單體可包含至少一三(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯及(過氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯,但未限制於此。
在用於塗佈層的組合物中,此含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物的存在量相對總計100重量份含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物與無機奈米粒子之約50至99重量份。在此範圍內,此塗佈層可提供優良的抗污、抗油及低反射性質。此含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物較佳的存在量為約60至95重量份,更佳為約60至92重量份。
此含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物在用於塗佈層的組合物之固含量計之存在量為約40至95重量份。在此範圍內,此塗佈層可提供優良的抗污、抗油及低反射性質。較佳地,含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物的存在量為約50至92重量份,更佳為約59至92重量份。
此無機奈米粒子可包含中空氧化矽、反應性氧化矽或其等之混合物。
此無機奈米粒子可具有但未限制為一球形、片
狀或非晶形,較佳為一球狀。
在本文中使用的"中空氧化矽"一詞意指由無機矽化合物或有機矽化合物製得之氧化矽粒子,其中孔洞存在於氧化矽粒子的表面及/或內部。
此中空氧化矽粒子可具有約5nm至約300nm的平均粒子大小(直徑),較佳約10nm至約250nm,及一比表面積為50m2/g至約1500m2/g。
此中空氧化矽可以氟化合物進行表面處理。此氟化合物可包含氟及一(甲基)丙烯酸酯官能基(例如,一丙烯酸黏結劑)。此氟化合物可包含一氟改質之(甲基)丙烯酸酯單體。
此中空氧化矽可包含約1wt%至約99wt%的氧化矽與約1wt%至約99wt%的丙烯酸黏結劑。較佳地,此中空氧化矽包括約40wt%至約60wt%的氧化矽與約40wt%至約60wt%的丙烯酸黏結劑。
如在本文中使用的"反應性氧化矽"一詞為指由無機矽化合物或有機矽化合物製得的氧化矽粒子,該粒子的表面及內部為完全填充,故不能在其表面及/或內部形成孔洞,此不同於中空氧化矽。
此反應性氧化矽可具有約5nm至約300nm的平均粒子大小(直徑),較佳為約10nm至約250nm。粒子大小在此範圍內,此塗佈層可呈現良好的表面強度及抗刮性。
此反應性氧化矽可以(甲基)丙烯酸酯系化合物進行一表面處理。反應性氧化矽之整個表面積的約3%至
約50%以(甲基)丙烯酸酯系化合物進行一表面處理。在此範圍內時,此氧化矽粒子可均勻的分布且呈現良好的透光性。
此(甲基)丙烯酸酯系化合物的範例可包含具C1至C20線性或支鏈烷基的(甲基)丙烯酸酯、具羥基及C1至C20烷基的(甲基)丙烯酸酯、具C4至C20均質或包括氮、氧或硫的異質脂環的(甲基)丙烯酸單體、具C4至C20均質或異質脂環的(甲基)丙烯酸酯、具C6至C20芳基、芳氧基或芳烷基的(甲基)丙烯酸酯及等之混合物。例如,此(甲基)丙烯酸酯系化合物可包含甲基(甲基)丙烯酸酯、基(甲基)丙烯酸酯及其相似者。
氧化矽以(甲基)丙烯酸酯系化合物的表面處理可經由此技術領域中的任何典型方法進行。例如,氧化矽粒子可使用單-官能基甲氧基/乙氧基或多官能基之甲氧基/乙氧基丙烯酯矽烷進行表面處理,但未限制於此。
在用於塗佈層的組合物中,此無機奈米粒子的存在量為總計100重量份的含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物與無機奈米粒子之約1至50重量份。無機奈米粒子在此範圍內時,此塗佈層可呈現低反射性。較佳地,此無機奈米粒子的存在量為約5至40重量份,更佳約8至40重量份。
此無機奈米粒子在用於塗佈層的組合物中以固含量計的存在量為約約1至50重量份,較佳約5至38重量份。
此用於塗佈層的組合物可更包括一起始劑。
此起始劑可包含任何此技術領域中已知的光-聚合作用起始劑。可用於本發明之光-聚合作用起始劑的範例包括三氮雜苯酮、苯乙酮、二苯甲酮、噻噸酮、安息香、磷、系化合物及其等之混合物,但未限制於此。
此起始劑在用於塗佈層的組合物中以固含量計的存在量為約0.1至10重量份。起始劑在此範圍內時,此組合物可充分的固化以形成該塗佈層且在反應後未殘留,因此防止在透光性的劣化。較佳地,此起始劑在組合物中的存在量為約0.1至5重量份。
在另一實施例中,此(甲基)丙烯酸酯系化合物無氟。
在一實施例中,此塗佈層可由一組合物形成,其包括一UV可固化樹脂、一多官能基之(甲基)丙烯酸酯單體、無機奈米粒子、一矽改質之聚丙烯酸酯及一消泡劑。
可UV固化樹脂可包含一具有(甲基)丙烯酸酯系官能基的樹脂。
在一實施例中,此UV可固化樹脂可包含胺基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多烯多硫醇樹脂、多官能基之化合物的(甲基)丙烯酸酯樹脂如多元醇及其相似者。
在另一實施例中,UV可固化樹脂可包含至少一選自下列組成的群組中:單-或多官能基與單或多元醇(甲基)丙烯酸酯、多元羧酸及其等之酐、及/或(甲基)丙烯酸
之酯化而獲得的聚酯(甲基)丙烯酸酯,其中單-或多官能基及單或多元醇(甲基)丙烯酸酯包括乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、聚醇聚(甲基)丙烯酸酯、雙酚A-二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯及其相似者;聚矽氧烷-聚丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、芳香族胺基甲酸酯樹脂、及脂族胺基甲酸酯樹脂,但未限制於此。
可UV固化樹脂可更包括一含羥基的(甲基)丙烯酸酯。含羥基的(甲基)丙烯酸酯的範例可包含2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、2,3-二羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基甲基環己基(甲基)丙烯酸酯及其相似者。
UV可固化樹脂可為一含氟樹脂如含氟之環氧丙烯酯、含氟之烷氧基矽烷及其相似者。含氟樹脂的範例可包含2-(過氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-過氟辛基-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-(過氟-9-甲基癸基)-1,2-環氧丙烷、(甲基)丙烯酸酯-2,2,2-三氟乙基、(甲基)丙烯酸酯-2-三氟甲基、(甲基)丙烯酸酯-三氟甲基、(甲基)丙烯酸酯-3,3,3-三氟丙基及其相似者,但未限制於此。
在用於塗佈層的組合物中,此UV可固化樹脂的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之(甲基)丙烯酯單體及無機奈米粒子之約30至70重量份。在此範圍內,此塗佈層可呈現高硬度及低的捲邊效
果。較佳地,此UV可固化樹脂的存在量為約40至60重量份。
此多官能基之(甲基)丙烯酸酯單體可為二-或更多官能基的(甲基)丙烯酸酯單體,較佳為六-或更多官能基的(甲基)丙烯酸酯單體。
在一實施例中,此多官能基之(甲基)丙烯酸酯單體可為至少一選自下列組成的群組中:乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、酚醛清漆環氧(甲基)丙烯酸酯及丙二醇二(甲基)丙烯酸酯,但未限制於此。
在用於塗佈層的組合物中,多官能基之(甲基)丙烯酸酯單體的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之(甲基)丙烯酯單體及無機奈米粒子之約5至25重量份。在此範圍內,此塗佈層可呈現良好的硬度及表面硬化效用。較佳地,此多官能基之(甲基)丙烯酸酯單體的存在量約10至20重量份。
此無機奈米粒子可包含前述的中空氧化矽、反應性氧化矽或其等之混合物。
在用於塗佈層的組合物中,此無機奈米粒子的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之丙烯酯單體及無機奈米粒子之平衡量。無機奈米粒子在此範圍內時,此塗佈層可提供良好的硬度及抗刮性。較佳地,此無機奈米粒子的存在量為約0至50重量份,更較佳約5至45重量份,又更佳約20至45重量份。
矽改質之聚丙烯酸酯可與消泡劑經由改良塗佈層的水接觸角或十六烷接觸角而改良塗佈層的抗指紋性。
此矽改質之聚丙烯酸酯可為一含有至少一矽原子的聚丙烯酸酯。較佳地,此矽改質之聚丙烯酸酯具有至少一端羥基。此羥基允許矽改質之聚丙烯酸酯直接***並緊固於一由UV可固化樹脂、多官能基之丙烯酸酯單體與無機奈米粒子構成塗佈層組成的聚合物基質中。
例如,此矽改質之聚丙烯酸酯可具有一結構,其中至少一羥基結合至一非極性聚矽氧烷。尤其,此矽改質之聚丙烯酸酯可包含甲基丙烯酯-聚矽氧烷、乙烯聚矽氧烷及其相似者,但未限制於此。
矽改質之聚丙烯酸酯可具有佔固含量之約20mgKOH/g至約40mgKOH/g的酸值。酸值在此範圍內時,此塗佈層可呈現優良的抗指紋性。
矽改質之聚丙烯酸酯可經由一典型的製備方法獲得或可由市場上商業購得。例如,商業可購得的矽改質之聚丙烯酸酯產品包括BYK®-SILCLEAN 3700(BYK Chemie)、BYK®-SILCLEAN 3720(BYK Chemie)及其相似
者,但未限制於此。
在用於塗佈層的組合物中,矽改質之聚丙烯酸酯的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之(甲基)丙烯酯單體及無機奈米粒子之約0.1至5重量份。矽改質之聚丙烯酸酯在此範圍內內,此塗佈層具有高的水接觸角且可呈現良好的抗指紋性。較佳地,矽改質之聚丙烯酸酯之存存在量為約0.5至2.0重量份。
消泡劑可與矽改質之聚丙烯酸酯經由改良塗佈層的水接觸角或十六烷接觸角而改良塗佈層的抗指紋性。
做為消泡劑,可使用此技術領域中已知的任何消泡劑。例如,消泡劑可為一矽系消泡劑如二甲基聚矽氧烷、有機改質之聚矽氧烷及其相似者。較佳地,此消泡劑為一氟改質之聚矽氧烷。可使用商業可得的消泡劑,例如BYK065(BYK Chemie)。
在用於塗佈層的組合物中,此消泡劑的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之(甲基)丙烯酯單體及無機奈米粒子之約0.01至5重量份。在此範圍內,此消泡劑可與矽改質之聚丙烯酸酯形成針孔與,因此增加塗佈層的水接觸角,同時改良抗指紋性。較佳地,此消泡劑存在量為約0.1至2重量份,更佳約0.25至1重量份。
在塗佈層或在用於塗佈層的組合物中,矽改質之聚丙烯酸酯與消泡劑(矽改質之聚丙烯酸酯:消泡劑)的重量比例在約1:0.25至約1:1範圍間。在此範圍內,可
增加塗佈層的水接觸角,及改良抗指紋性。
此組合物可更包括一起始劑。
此起始劑可包含在此技術領域已知的典型光可固化起始劑。在某些實施例中,此組合物可包含前述的光-聚合作用起始劑。
在用於塗佈層的組合物中,此起始劑的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之(甲基)丙烯酯單體及無機奈米粒子之約0.1至10重量份。
除了前述的組份外,此用於塗佈層的組合物中依需要可更包括一溶劑及添加劑。此添加劑為典型的添加劑且可包含至少一選自由下列組成的群組中:感光劑、去感光劑、聚合作用抑制劑、調平劑、濕潤改良劑、界面活性劑、增塑劑、UV吸收劑、抗氧化劑及無機填充劑。
此添加劑的存在量為基於為總計100重量份的含氟之(甲基)丙烯酯化合物及無機奈米粒子之約1至20重量份。
再者,此添加劑的存在量為基於為總計100重量份的UV可固化樹脂、多官能基之(甲基)丙烯酯單體及無機奈米粒子之約1至20重量份。
此塗佈層以使用用於塗佈層的組合物以任何典型的方法形成。例如,此塗佈層經由在含有半矽氧烷的樹脂層上塗佈及乾燥用於塗佈層的組合物(例如:約100nm至200μm的塗層厚度),接著經由使用鹵素灯或相似者進行UV照射固化而形成。
功能性層如一接著劑層、高折射層、抗靜電層、預塗層及其相似者可更疊置於含半矽氧烷膜與塗佈層間。
此層合物可更包括一硬塗佈層以在處理中防止刮傷及凹陷同時改良層合物的耐用性、耐衝擊性及更度。
此硬塗佈層可在層合物的一側形成,較佳在層合物的最上層。
此硬塗佈層可具有約2H至約3H的鉛筆硬度,其係在使用三菱鉛筆(UNI)在1kg負載下以0.8mm/sec速度劃線後以一鉛筆硬度測試器(Shinto Scientific,Heidon)測量。
此硬塗佈層可具有約0.5μm至約10μm的厚度。
此硬塗佈層可由一塗料液體形成,其包括一固化劑及一UV可固化材料如胺基甲酸酯化合物,但未限制於此。
此層合物可具有約6H或更多的鉛筆硬度,較佳約6H至約7H。鉛筆硬度可使用一鉛筆硬度/抗刮測試器(14FW,Heidon)於一100至300μm厚的層合物測定,但未限制於此。在用於測定鉛筆硬度的層合物中,此具有含半矽氧烷膜疊至其上的基材膜具有100μm至300μm的厚度,且塗佈層具有10nm至500nm的厚度。
此層合物可呈現優良的耐衝擊性、高硬度、抗刮性、抗眩光性、抗折射性及抗污性。此層合物可經由改
良高硬度樹脂膜的耐衝擊性及添加一具有抗眩、低折射及抗污性之塗佈層至樹脂膜而具有高功能性。
此層合物可用於做為一視窗片。
在相關技術中,一高硬度視窗片依在最終高硬度視窗片上的沉積方法而具有抗反射、低折射及抗污性質。換言之,此高硬度視窗片因低可撓性可經由沉積方法取代卷塗佈而製造。
相反地,本發明的層合物即使經由卷對卷型的濕塗佈可提供抗反射及抗污性質。
依本發明的又一態樣,提供包含有該層合物的顯示裝置。此顯示裝置包括一視窗片,及一在該視窗片下形成的液晶面板,其中該視窗片包括該層合物。顯示裝置的範例可包含行動電話、液晶顯示裝置及其相似者,但未限制於此。
圖5為本發明一實施例之顯示裝置的剖視圖。
參考圖5,此顯示裝置可包含一液晶面板500;及一視窗片505,其形成於液晶面板500的上部側面。
本發明可經由後文的實施例與比較實施例而有更佳的瞭解。此些實施例僅為用於說明之用而非用於以任何方式解釋限制本發明的範疇。
(1)用於實施例1至7及比較實施例1至10的組份詳細資料:
(A)含半矽氧烷膜:含POS(聚四面體寡聚半矽氧烷(polyhedral oligomeric silsesquioxane)的膜(Silplus® J200,
Nippon Steel Chemical Group,厚度:200μm)
(B)接著劑:於製備實施例1至5製備的接著劑組合物
(C)基材膜:列於表中的基材膜
在附有一簡單溫度控制器的冷卻裝置之1L反應器中,於氮氛圍下加入99重量份的n-丁基丙烯酯(BA)及199重量份的4-羥基丁基丙烯酯(4-HBA)。再者,加入120重量份的乙基乙酯。在反應器經由氮氣滌氣60分鐘以去除氧後,反應器維持在60℃,並加入0.05重量份的2,2'-偶氮雙異丁腈(AIBN)(基於100重量份的丙烯酸共聚物)做為起始劑。此丙烯酸共聚物經由在60℃反應8小時而製得。
100重量份(1986g)製得之丙烯酸共聚物、1.9重量份(60g)的固化劑(L-45R,Soken)及40重量份(900g)的丁酮在室溫攪拌45分鐘以製備一接著劑組合物。
接著劑組合物以相同於製備實施例1的方法製,除了共聚物的單體含量(單位:重量份),固化劑的種類及含量(單位:重量份)如表2所示。
在製備實施例1中製備的接著劑組合物在一聚對苯二甲酸乙二酯離型膜上塗佈及乾燥,因此製得一20μm厚的接著劑膜。此製得的接著劑膜在40℃進行老化48小
時。接著劑膜與含半矽氧烷膜依序疊置在表1的基材膜上,接著在室溫使用波爾貼裝器(Polattacher)結合,因此製備具有圖1結構的層合物。
層合物以相同於實施例1的方法製備,除了接著劑組合物的種類與基材膜的種類如表3所示變化。
層合物以相同於實施例1的方法製備,除了接著劑的種類及基材膜種類如列於表4中者。
評估實施例1至7及比較實施例1至4製備的層合物之下列性質,且結果列於表5中。
1.耐衝擊性:在一球墜落測試器中固定層合物(長度x寬度,5cmx6cm),一36g鋼球由高度墜落至層合物的中心點。墜落測試在相同條件下重覆三次且無裂縫層合物標示為O而裂縫的層合物標示為X。
2.捲邊高度:在層合物(表3及4的層合物,長度x寬度x厚度,15cmx15cmx厚度)於85℃/85%RH靜置72小時,且接著於25℃靜置4小時,使用一間隙規測量層合物由底部至的最大捲邊高度。參閱圖6。參考圖6,捲邊高度意指層合物100由底部600的最大的捲邊高度(C)。此處,層合物100包括一接著劑層120及疊置於基材膜110上的含半矽氧烷膜130。
3.穿透率:穿透率在400至800nm波長帶使用穿透率測試器Lambda 950(Perkin Elmer)測量。
4.分離:層合物在高溫/高濕室(Newpower ENG.)中於85℃與85%RH條件下靜置72小時,並接著靜於室溫4小時。以裸眼觀察決定塑膠片與半矽氧烷膜分離間的分離。分離以O表示而無分離以X表示。
如表5所示,本發明的層合物在透光性、耐衝擊性與抗刮性上呈現優良的性質,且因此可應用於需要透光性與耐衝擊性的視窗片上。然而,在比較實施例1中使用具有玻璃轉化溫度超過-10℃的接著劑組合物所製得的層合物具有低的起始接著強度且遭受分離。在比較實施例2中使用具有玻璃轉化溫度低於-50℃的接著劑組合物所製得的層合物亦具有良好的起始黏度但遭受分離,此因為低的內聚力及耐久性。此外,比較實施例3中製備且包括基材的層合物,其耐衝擊性並不符合本發明的範圍,且具有不預期的厚度並在球墜落測試中未能吸附衝擊,造成裂縫的產生。比較實施例4中製備且包括低厚度的層合物當層合成圖1結構時嚴重捲邊。
(2)實施例8至16與比較實施例5至9中使用的成份詳細資料如下:
(1)基材膜:聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度:100μm)
(2)含半矽氧烷膜:Silplus®J200(Nippon Steel Chemical Group)(厚度:200μm)
(3)塗佈層1
(B11)氟改質之丙烯酯共聚物:TU-2180(JSR公司,重量平均分子量:550g/mol,官能基數:3)
(B12)氟改質之丙烯酯單體:TU-2157(JSR公司,重量平均分子量:400g/mol,官能基數:1至2)
(B13)中空氧化矽:TU-2286(JSR公司,氧化矽50%+丙烯酸黏結劑50%,平均粒子大小:30nm)
(B14)反應性氧化矽(以丙烯酯進行表面處理的無機奈米粒子):SST650U(平均粒子大小:20nm,Ranco)
(B15)起始劑:Irgacure184(Ciba)
(4)塗佈層2
(B21)可UV固化樹脂:HX-920UV(Kyoeisha)
(B22)多官能基之丙烯酯單體:DPHA(SKCytec)
(B23)中空氧化矽:TU-2286(JSR公司,氧化矽50%+丙烯酸黏結劑50%,平均粒子大小:30nm)
(B24)反應性氧化矽(以丙烯酯進行表面處理的無機奈米粒子):SST650U(平均粒子大小:20nm,Ranco)
(B25)光-聚合作用起始劑:Irgacure 184(Ciba)
(B26)矽改質之聚丙烯酸酯:SILCLEAN3700(BYK)
(B27)消泡劑:BYK065(BYK)
前述組份以如所表6列示的量(單位:重量份)與
100重量份的甲基異丁基酮混合以製備用於塗佈層的組合物。一含半矽氧烷膜疊置於一基膜上,接著塗佈該組合物並乾燥100秒以形成一具有100nm厚度的塗佈層。此塗佈層在一金屬鹵素灯在250mJ/cm2下固化,因此製得一層合物。
使用一不含含半矽氧烷膜的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)(厚度:100μm),替代在實施例8中以一具有含半矽氧烷膜的基材膜疊置於其上。前述組份以如所表6列示的量加入以製備用於塗佈層的組合物。以相同於實施例8的方法製備層合物(塗佈層厚度:100nm)。
前述組份以如所表7列示的量(單位:重量份)與100重量份的甲基異丁基酮混合以製備用於塗佈層的組合物。一含半矽氧烷膜疊置於一基膜上,接著塗佈該組合物並乾燥100秒以形成一具有100nm厚度的塗佈層。此塗佈層在一金屬鹵素灯於250mJ/cm2下固化,因此製備一層合物。
以相同於實施例13的方法製備層合物,除了組合物如表7所示變化。
以相同於實施例13的方法製備層合物,除了使用一聚對苯二甲酸乙二酯(PET)(厚度:100μm)替代疊置其
上的具有含半矽氧烷膜之材膜。
評估實施例8至16與比較實施例5至9中製得的層合物的下列性質,且結果列示於表6及7中。
1.水接觸角及十六烷接觸角:測量此值以評估層合物中塗佈層的表面張力。一滴蒸餾水或十六烷滴在塗佈層上。接著,使用一接觸角測試器(Phoenix 300改良型,Surface Electro Optics,測量頻率:3次/批)在25℃測量接觸角。
2.反射率:藉由接附一黑片至層合物的基材膜以得一試樣並在一離線層合機中加熱所得之試樣至80℃。以層合物的塗佈層置於面向光源,在550nm波長(可見光區)使用UV/VIS光譜儀(Lambda 950,PERKINELMER)測量反射率。此測量的反射率為在視窗片中塗佈層的反射率。
3.霧度及穿透率:測量在層合物中塗佈層的霧度及穿透率。層合物的塗佈層置於面向光源(D65),在400nm至800nm波長帶使用霧度計(NDH2000改良型式,Nippon Denshoku,測量頻率:1次/批)測量塗佈層的霧度及穿透率。
4.鉛筆硬度:測量在層合物中塗佈層的鉛筆硬度。鉛筆硬度為相對層合物使用鉛筆硬度/抗刮性測試器(14FW,Heidon,測量頻率:5次/批)測定。由測試器能夠量測的鉛筆硬度範圍在5B至9H間。
5.摩擦試驗後的接觸角:在500g的負載下,一抹擦器
在一層合物試樣上往復250次(每分鐘40次)同時施加甲醇(99.3%)。抹擦器行程為15mm,甲醇以1ml/50次的速率添加,且此抹擦器置於一夾具之末端突出5mm的距離。抹擦器用於進行層合物的摩擦試驗。在摩擦試驗完成後,以相同於前述的方法確定水接觸角。
如表6及7所示,本發明的層合物具有一高的水接觸角或一高的十六烷接觸角且呈現在抗污與抗指紋的性質的增進。再者,本發明的層合物具有高穿透率及低反射率,且因此可使內部光的反射最小化。
雖然在本文中已描述數個實施例,但熟於是項技術人士將瞭解此些實施例僅為說明之用,且在未偏離本發技術思想範疇可完成多種修飾、變化、改變及等效的實施例。因此,本發明的範圍及技術思想將由後文所附的申請專利範圍及其等效者界定。
100‧‧‧層合物
110‧‧‧基材膜
120‧‧‧第一接著劑層
130‧‧‧第一膜
Claims (25)
- 一種用於視窗片的層合物,其包括:一基材膜;及一含半矽氧烷膜,其形成於該基材膜之至少一上部側面或下部側面,該層合物更包含:一在該基材膜與該含半矽氧烷膜間的接著劑層,其中該接著劑層具有-25℃至約-10℃的玻璃轉化溫度。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該層合物具有一少於約5mm的捲邊高度。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該層合物具有約6H或更多的鉛筆硬度。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該基材膜具有依ASTMD4226的約5J或更多之落錘衝擊強度。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該基材膜具有使用杜邦墜落測試器(500g,針1/2",試樣:100mm x 100mm)測量為約35cm或更多的耐衝擊性。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該基材膜由聚苯乙烯、(甲基)丙烯酸酯-苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯甲酯-橡膠混合物、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚鄰苯二甲酸丁酯、聚丙烯、聚乙烯、環烯烴聚合物、環烯 烴共聚物、丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚醯胺、聚丙烯酸酯、賽珞凡(cellophane)、聚醚碸、原冰片烯樹脂、環烯烴共聚物或其等之混合物形成。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該含半矽氧烷膜約9H至約10H的鉛筆硬度,其係在使用三菱鉛筆(UNI)在1kg負載下以0.8mm/sec速度劃線後以一鉛筆硬度測試器(Shinto Scientific,Heidon)測量。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該接著劑層具有約1x104至約1.5x106dyn/cm2的模數(G')。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其中該接著劑層由一含有(甲基)丙烯酸共聚物與固化劑的接著劑組合物形成。
- 如申請專利範圍第9項之層合物,其中該(甲基)丙烯酸共聚物為一或更多選自由含羥基的乙烯單體、含烷基的乙烯單體、含羧酸基的乙烯單體及含芳香基的乙烯單體組成之群組中的單體之混合物的共聚物。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其更包含:一形成於含半矽氧烷膜之一側的塗佈層。
- 如申請專利範圍第11項之層合物,其中該塗佈層於25℃具有約80°或更多的水接觸角或約25°或更多的十六烷接觸角。
- 如申請專利範圍第11項之層合物,其中該塗佈層在550nm波長具有約2%或更低的反射率。
- 如申請專利範圍第11項之層合物,其中該塗佈層由含有 (甲基)丙烯酸酯系化合物、無機奈米粒子及一起始劑之組合物形成。
- 如申請專利範圍第14項之層合物,其中該(甲基)丙烯酸酯系化合物包含一含氟之(甲基)丙烯酸酯系化合物。
- 如申請專利範圍第14項之層合物,其中該(甲基)丙烯酸酯系化合物包含至少一選自(甲基)丙烯酸UV可固化樹脂及多官能基之(甲基)丙烯酸酯單體。
- 如申請專利範圍第16項之層合物,其中該組合物更包含矽改質之聚丙烯酸酯及消泡劑之至少一者。
- 如申請專利範圍第14項之層合物,其中該無機奈米粒子包含中空氧化矽、反應性氧化矽或其等之混合物。
- 如申請專利範圍第18項之層合物,其中該中空氧化矽具有約5nm至約300nm的平均粒子大小與約50m2/g至約1500m2/g的比表面積。
- 如申請專利範圍第18項之層合物,其中該反應性氧化矽具有約5nm至約300nm的平均粒子大小。
- 如申請專利範圍第18項之層合物,其中該中空氧化矽以氟化合物進行表面處理。
- 如申請專利範圍第18項之層合物,其中該反應性氧化矽以(甲基)丙烯酸酯系化合物進行表面處理。
- 如申請專利範圍第1項之層合物,其更包含:一硬塗佈層。
- 一種包含如申請專利範圍第1項之層合物的視窗片。
- 一種包含如申請專利範圍第24項之視窗片的顯示裝置。
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