KR20170073275A - 내지문성 코팅층이 형성된 전자 제품 - Google Patents

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polysilsesquioxane
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metal
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무코 히로미츠
고영덕
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Abstract

하우징 표면에 초박막 내지문성 내지문 코팅층이 형성된 전자 제품에 관한 것이다.
일 측면에 따른 전자 제품은 헤어라인 가공된 금속 기재로 마련된 하우징; 상기 하우징 표면에 형성되며, 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 내지문 코팅층;을 포함한다.

Description

내지문성 코팅층이 형성된 전자 제품{ELECTRONIC DEVICE HAVING THE ANTIFINGERPRINTING COATING LAYER}
초박막 내지문성 내지문 코팅층이 형성된 전자 제품에 관한 것이다.
최근 냉장고의 고급감, 청결감 등을 나타내기 위해 냉장고 전면 도어의 재질로 스테인리스 스틸이 주로 사용되고 있다. 그러나, 스테인리스 스틸로 마련된 냉장고의 경우 시간이 흐름에 따라 사용자의 접촉에 의해 냉장고 표면에 지문이 부착될 수 있다. 특히 헤어라인 가공된 스테인리스 스틸의 경우 사용자의 지문이 더욱 부각되어 나타나는 경향이 있으며, 이에 냉장고의 고급감이나 청결감이 손상될 수 있다.
이를 방지하기 위해 냉장고 표면에 여러 코팅 방식이 적용되고 있다. 일예로,AF(Anti-Fingerprint)코팅은 스프레이 또는 증착방법에 의해 코팅층을 형성시키는 방법으로, 제품 표면에 이지 클렌징성 및 슬립감 향상을 부여할 수 있으나 코팅층의 두께와 헤이즈의 영향으로 인해 스테인레스 스틸 본래의 고급감, 청결감이 손상될 수 있다.
일 측면은 헤어라인 가공된 금속 기재로 마련된 하우징 표면에 초박막 내지문 코팅층이 형성된 전자 제품을 제공하고자 한다.
일 측면에 따른 전자 제품은 헤어라인 가공된 금속 기재로 마련된 하우징; 하우징 표면에 형성되며, 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 내지문 코팅층;을 포함한다.
또한, 폴리실세스퀴옥산은, [RSiO3/2]의 화학식 1로 표현되는 단위체를 가지며, R은 에폭시기, 알킬기 및 비닐기로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 내지문 코팅층은, 0.01 내지 1.0 ㎛의 두께 범위를 가지는 것을 포함할 수 있다.
또한, 내지문 코팅층은, 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 코팅 조성물을 도포하여 마련된 것을 포함할 수 있다.
또한, 코팅 조성물은, 전체 코팅 조성물의 중량 대비 폴리실세스퀴옥산을 0.1 내지 60 중량부 포함할 수 있다.
또한, 하우징은, 하우징 표면의 전부 또는 일부가 헤어라인 가공된 것을 포함하고, 하우징 표면 중 헤어라인 가공된 부분은, 150 내지 300 nm 범위의 표면 조도를 가지는 것을 포함할 수 있다.
또한, 하우징은, 스테인리스 스틸 재질로 마련된 것을 포함할 수 있다.
또한, 하우징과 내지문 코팅층 사이에 마련되는 금속 코팅층;을 더 포함할 수 있다.
또한, 금속 코팅층은, 몰리브덴(Mo), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 망간(Mn) 및 실리콘(Si)을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나의 금속 성분을 포함할 수 있다.
또한, 전자 제품은, 냉장고, 청소 로봇, 디스플레이 장치, 공기조화기 및 모바일 기기를 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
일 측면에 따른 내지문성 코팅 기판 및 이를 포함하는 전자 제품에 의하면 다음과 같은 효과를 기대할 수 있다.
먼저, 개시된 발명에 따른 내지문 코팅층은 유기 무기 하이브리드 계통 재료이기 때문에 투명성이 높아 기재의 금속 광택이 유지될 수 있다.
또한, 유무기 하이브리드 재료의 우수한 경도 특성으로 인해 코팅층의 표면 경도가 높아질 수 있으며, 결과적으로 제품의 내구성이 향상될 수 있다.
또한, 개시된 발명에 따른 내지문 코팅층은 초 박막으로 적용되기 때문에 기재의 금속 촉감이 유지될 수 있다. 보다 상세하게, 사용자로 하여금 기재의 금속성뿐만 아니라 기재 표면의 헤어라인 가공 요철을 손끝으로 느끼도록 할 수 있다
또한, 표면이 요철 구조이기 대문에 기판에 입사된 광이 난반사하여 사용자의 눈부심을 방지할 수 있다.
도 1은 전자 제품의 일 예로 냉장고의 외관을 도시한 도면이다.
도 2는 도1에 도시한 저장실 도어를 AA'방향으로 자른 측단면도 이다.
도 3은 도 2의 표시 부분을 확대 도시한 도면이다.
도 4는 코팅 조성물 내 폴리실세스퀴옥산의 함량에 따른 내지문성 코팅 기판의 단면을 도시한 도면이다.
도 5는 다른 실시 예에 따른 내지문성 코팅 기판의 구조를 도시한 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 개시된 발명에 따른 전자 제품에 대해 설명하도록 한다.
일 측면에 따른 전자 제품은 제품의 외관이 헤어라인 가공된 금속 기재로 마련되고, 금속 기재 표면에 초 박막 내지문 코팅층이 형성된 것을 포함할 수 있다. 즉, 전자 제품의 하우징은 내지문성 코팅 기판으로 마련될 수 있다. 내지문성 코팅 기판은 금속의 고급감과 청결감을 유지하면서 내지문성이 부여된 기능성 코팅 기판의 하나로, 이러한 내지문성 코팅 기판은 다양한 전자 제품의 외관에 적용될 수 있다. 일 예로, 내지문성 코팅 기판은 냉장고, 청소 로봇, 디스플레이 장치, 공기조화기, 모바일 기기 등을 포함하는 전자 제품의 외관에 적용 가능할 수 있으며, 이하 설명의 편의상 냉장고를 예로 들어 개시된 발명에 대해 상세하게 설명하도록 한다.
도 1은 전자 제품의 일 예로 냉장고(100)의 외관을 도시한 도면이고, 도 2는 도1에 도시한 저장실 도어(130, 140, 200)를 AA'방향으로 자른 측단면도 이고, 도 3은 도 2의 표시 부분을 확대 도시한 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 냉장고(100)는 본체(110)와, 본체(110) 전면에 회동 가능하게 마련된 저장실 도어(130, 140, 200)를 포함할 수 있으며, 이러한 본체(110) 또는 저장실 도어(130, 140, 200)에는 개시된 발명에 따른 내지문성 코팅 기판(300)이 적용될 수 있다. 이하, 설명의 편의상 저장실 도어(130, 140, 200)에 개시된 발명에 따른 내지문성 코팅 기판(300)이 적용된 경우를 예로 들어 발명의 실시 예에 대해 설명하도록 한다.
도 2 및 도 3에 도시된 바를 참조하면, 저장실 도어(130, 140, 200)는 헤어라인 가공된 금속 기재(S)로 마련된 하우징(H)과, 하우징(H) 표면에 형성되며 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 내지문 코팅층(A)을 포함할 수 있다.
하우징은 부품을 수용하는 상자 부분이나 기구를 포용하는 프레임 등 모든 기계 장치를 둘러싸고 있는 상자 모양의 부분으로, 하우징의 액세서리를 포함하는 개념일 수 있다. 이하, 하우징의 액세서리란 저장실 도어(130, 140, 200)의 손잡이와 같이 외관을 형성하는 하우징의 일 부분을 포함하는 개념일 수 있다.
하우징(H)은 금속 기재(S)로 마련될 수 있으며, 일 예로 스테인리스 스틸 재질(Stainless steel)로 마련될 수 있다. 이하, 하우징(H)이 스테인리스 스틸 재질로 마련되었다는 의미는 하우징(H)이 단일 스테인리스 스틸 재질로 마련된 경우뿐만 아니라, 하우징(H)이 스테인리스 스틸 재질을 포함하는 합금 재질로 마련 경우를 포함하는 개념으로 넓게 이해될 수 있다. 즉, 하우징(H)은 알루미늄(Al), 아연(Zn), 마그네슘(Mg), SUS(Steel Use Stinless) 및 스틸(Steel)을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나의 성분과 스테인리스 스틸(Stainless Steel)의 합금 조성물로 마련된 것을 포함할 수 있다.
하우징(H)의 표면은 헤어라인(hairline) 가공된 것을 포함할 수 있다. 헤어라인 가공은 기계적 방법에 의해 표면에 방향성이 있는 조흔을 만들어 마무리하는 기법으로 장식 도금에 주로 사용된다. 일 예로, 헤어라인 요철은 150 내지 300 nm 범위 내로 마련될 수 있다(MITSUTOYO 제 SJ-400으로 측정). 다만, 헤어라인 요철의 범위가 이에 한정되는 것은 아니며 제품의 종류, 목적 등에 따라 요철 범위를 달리 형성할 수 있음은 물론이다.
하우징(H) 표면에는 내지문 코팅층(A)이 마련될 수 있다. 내지문 코팅층(A)은 하우징(H) 표면의 전부 또는 일부에 형성될 수 있다. 일 예로, 내지문 코팅층(A)은 하우징(H) 표면의 헤어라인 가공된 부분에 적용될 수 있으며, 실시 예에 따라 헤어라인 가공된 부분의 주위에 함께 적용될 수도 있다.
내지문 코팅층(A)은 유기 무기 하이브리드 계통 재료로 마련될 수 있으며, 일 예로 폴리실세스키옥산(Polysilsesquioxane)으로 마련될 수 있다.
Si-O-Si 결합으로 이루어진 실록산의 구조는 일반적으로 [표 1]에 나타낸 것과 같이 4 가지 종류(M, D, T, Q)로 구별하여 정의될 수 있다.
Q T D M
Figure pat00001
Figure pat00002
Figure pat00003
Figure pat00004
Figure pat00005
Figure pat00006
Figure pat00007
Figure pat00008
Figure pat00009
[표 1]을 참조하면, [RSiO3/2]n으로 표시되는 폴리실록산은 4 가지의 구조 명칭 중 T 단위구조로 표시하며 이것의 학명이 폴리실세스키옥산이다.
폴리실세스키옥산은 가수분해-중합방법을 이용하여 합성되며, 크게 트리알콕시실란(RSi(OR)3)을 이용하는 방법과 트리클로로실란(RSiCl3)을 이용한 가수분해-중합법이 알려져 있다. 이렇게 합성된 폴리실세스키옥산의 구조는 6, 8, 10, 12량체와 같은 케이지 구조(cage structure) 혹은 저분자량의 불규칙적 구조(random, brached structure)를 가질 수 있으며, 폴리실세스키옥산의 관능기를 치환하여 폴리실세스키옥산의 열안정성, 광학적 투명성 등을 구현할 수 있다.
일 예로 개시된 발명에 적용된 폴리실세스퀴옥산은 [RSiO3/2]의 화학식 1으로 표현되는 단위체가 중합된 형태로 마련될 수 있다.
보다 상세하게, 폴리실세스퀴옥산의 구조는 아래의 구조식 1과 같이 나타낼 수 있다.
구조식 1
Figure pat00010
구조식 1의 R은 각각 에폭시기(epoxy group), 알킬기(alkyl group) 및 비닐기(vinyl group) 를 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.
개시된 발명에 따른 내지문 코팅층(A)은 유무기 하이브리드 계통 재료이기 때문에 투명성이 높아 기재의 금속 광택이 유지될 수 있다. 또한, 유무기 하이브리드 재료의 우수한 경도 특성으로 인해 코팅층의 표면 경도가 높아질 수 있으며, 결과적으로 제품의 내구성이 향상될 수 있다.
내지문 코팅층(A)은 도 3에 도시된 바와 같이 제품 표면에 초박막 형태로 적용될 수 있다. 도 3에 도시된 바를 참조하면, 금속 기재(S) 표면에 형성된 요철의 골 부분은 요철의 마루 부분과 비교해 내지문 코팅층(A)이 두껍게 마련됨을 확인할 수 있다. 내지문 코팅층(A)의 형성 과정에서 코팅 조성물이 요철의 표면을 따라 흘러 내릴 수 있으며, 이로 인해 요철 표면에서 내지문 코팅층(A)의 두께 차이가 발생될 수 있다.
초박막 내지문 코팅층(A)은 0.01 내지 1.0 ㎛ 범위의 두께로 마련될 수 있다. 내지문 코팅층(A)을 지나치게 얇게 형성할 경우 기재 표면에 내지문 성능을 부여하기 어려우며, 내지문 코팅층(A)을 지나치게 두껍게 형성할 경우 내지문 코팅층(A)의 투명성을 확보하기 여럽고 기재 표면에 형성된 헤어라인 촉감을 유지하기 어려울 수 있다.
이하, 표 1에서는 내지문 코팅층(A)의 두께에 따른 코팅층의 투명성, 헤어라인 촉감, 내지문성 및 내화학성 테스트 결과를 나타내었다. 내화학성은 STS 201 BA t0.5mm Art에 코팅된 시편의 내알칼리성을 평가한 결과이다.
내지문 코팅 층의 두께 0.01 ㎛ 미만 0.01 - 1.0 ㎛ 1.0 ㎛ 초과
실제 금속감 코팅층 투명성 Pass Pass Fail
헤어라인 촉감 Pass Pass Fail
내지문성 Fail Pass Fail
내알칼리성 Fail Pass Pass
[표 2]를 참조하면, 내지문 코팅층(A)의 두께가 0.01 ㎛보다 얇게 형성되는 경우 코팅층에 내지문 성능을 부여하기 어려울 수 있으며, 내화학성에 취약한 결과를 가져올 수 있음을 확인하였다.
반면, 내지문 코팅층(A)의 두께가 1.0 ㎛보다 두껍게 형성된 경우 내지문 코팅층(A)의 투명성이 유지되기 어려우며 기재 표면의 헤어라인 촉감을 유지하기 어려움을 확인하였다.
한편, 내지문 코팅층(A) 두께가 0.01 내지 1.0 ㎛ 범위 내의 초 박막 형태로 적용될 경우, 코팅 후에도 코팅층의 투명성을 유지함과 동시에 사용자로 하여금 기재의 금속성뿐만 아니라 기재 표면의 헤러라인 가공 요철을 손으로 느끼도록 할 수 있음을 확인하였다. 또한, 내지문 코팅층(A)의 형성으로 기재 표면에 내지문성을 부여함과 동시에 내화학성도 부여할 수 있음을 확인할 수 있었다.
실험 결과 내지문 코팅층(A)을 초 박막 형태로 적용하되, 두께 범위를 적절하게 조절하는 것이 바람직 함을 확인할 수 있었다.
한편, 실시 예에 따라 내지문 코팅층(A)을 형성하는 내지문 코팅 조성물의 폴리실세스퀴옥산 함량을 조절해 하우징(H)표면에 드러나는 헤어라인 촉감을 조절할 수 있다. 일 예로, 코팅 조성물은 전체 코팅 조성물의 중량 대비 폴리실세스퀴옥산을 0.1 내지 60 중량부 포함할 수 있으며, 폴리실세스퀴옥산의 함량에 따른 금속 기재(S) 표면에 내지문 코팅층(A)의 형성 예는 다음과 같다.
도 4는 코팅 조성물 내 폴리실세스퀴옥산의 함량에 따른 내지문성 코팅 기판(300)의 단면을 도시한 도면이다.
도 4에 도시된 바를 참조하면 폴리실세스퀴옥산의 함량이 낮을 경우 내지문 코팅층(A1)이 상대적으로 얇게 형성되며 결과적으로 내지문성 코팅 기판(300)의 표면 조도가 상대적으로 높게 나타남을 확인할 수 있다.
반면, 폴리실세스퀴옥산의 함량이 높아질수록 내지문 코팅층(A2)이 상대적으로 두껍게 형성되며 결과적으로 내지문성 코팅 기판(300)의 표면 조도가 상대적으로 낮게 나타남을 확인할 수 있다.
즉, 구현하고자 하는 표면 특성에 따라 폴리실세스퀴옥산의 함량을 조절해 내지문성 코팅 기판(300)의 표면 조도를 조절할 수 있다.
이상으로, 일 실시 예에 따른 내지문성 코팅 기판(300)이 전자 제품의 하우징(H)에 적용된 예에 대해 설명하였다. 일 실시 예에 따른 내지문성 코팅 기판(300)과 관련해 전술한 도 1 내지 3에서 설명한 것과 중복되는 설명은 생략하도록 한다.
다음으로, 내지문성 코팅 기판(300)의 변형 실시 예에 대해 설명하도록 한다. 후술하는 내지문성 코팅 기판(300)의 변형 실시 예 또한 전술한 전자 제품의 외관에 적용될 수 있다.
도 5는 다른 실시 예에 따른 내지문성 코팅 기판(300a)의 구조를 도시한 도면이다. 도 5에 도시된 바를 참조하면, 다른 실시 예에 따른 내지문성 코팅 기판(300a)은 헤어라인 가공된 금속 기재(S)와, 금속 기재(S) 표면에 마련된 금속 코팅층(M)과, 금속 코팅층(M) 표면에 마련되며 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 내지문 코팅층(A)을 포함할 수 있다. 즉, 도 4에 따른 내지문성 코팅 기판(300)은 금속 기재(S)와 내지문 코팅층(A) 사이에 금속 코팅층(M)이 마련된 점에 있어서 도 3에 따른 내지문성 코팅 기판(300)과 차이가 있으며, 이하 도 3과의 차이를 중심으로 설명하도록 한다.
금속 코팅층(M)은 금속 기판과 내지문 코팅층(A)의 부착성을 향상시키기 위한 목적에서 마련될 수 있다. 다만, 금속 코팅층(M)이 반드시 필요한 것은 아니며 경우에 따라 금속 코팅층(M)이 생략될 수 있음은 물론이다.
금속 코팅층(M)이 적용될 경우, 금속 코팅층(M)은 수 nm 범위 내로 적용되는 것이 바람직하다. 전술한 바와 같이 개시된 발명에 따른 내지문성 코팅 기판(300)은 금속 기재(S) 표면에 초박막 내지문 코팅층(A)을 적용함으로써 금속 기재(S) 표면의 헤어라인 가공을 유지할 수 있도록 한다. 따라서, 금속 코팅층(M) 역시 금속 기재(S) 표면의 헤어라인 가공을 유지할 수 있도록 하는 범위 내로 형성되는 것이 바람직하다.
이러한 금속 코팅층(M)은 몰리브덴(Mo), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 망간(Mn) 및 실리콘(Si)을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나의 금속 성분으로 마련될 수 있으며, 실시 예에 따라 전술한 금속 성분의 합금 조성물로 마련될 수 있다. 다만, 금속 코팅층(M)에 적용 가능한 금속 성분의 예가 이에 한정되는 것은 아니며 금속 기재(S)과 내지문 코팅층(A)의 부착력을 향상하기 위한 목적 범위 내에서 당업자가 쉽게 생각할 수 있는 성분을 포함할 수 있다.
이상으로, 내지문성 코팅 기판(300, 300a)이 적용된 전자 제품의 다양한 실시 예를 설명하였다.
다음으로, 발명의 이해를 돕기 위해 코팅 조성물의 종류에 따른 내지문성 코팅 기판의 특성 실험 결과에 대해 설명하도록 한다.
먼저, 실험을 위한 내지문성 코팅 조성물의 제조 과정 및 코팅 조성물을 스테인리스 스틸 기재에 코팅하는 방법에 대해 설명하도록 한다.
실험을 위한 내지문성 코팅 조성물의 제조 과정은 다음과 같다.
가압용기에 질소분위기 하에서 폴리실세스퀴옥산을 SK종합화학사의 Kocosol-100 용매와 배합하여 내지문성 코팅 조성물을 제조하였다. 다음으로, 코팅 조성물이 균일한 상태가 되도록 교반하고, CSM사의 마이크로필터(0.6 ㎛)를 이용하여 조성물 내의 액상 파티클을 제거한 후 사용하였다.
다음으로, 코팅 조성물을 스테인리스 스틸 기재에 코팅하는 공정은 다음과 같다.
코터의 피딩부에 스테인리스 스틸의 코일을 셋팅하고, 잉크팬에 전술한 내지문성 코팅 조성물을 넣어 두었다. 다음으로, 픽업 롤과, 터치 롤과, 라미네이트 롤로 구성된 코터 헤드에 코일을 피딩하였다. 코일이 전술한 롤들을 지나가게 되면 코일 표면에 코팅 조성물이 코팅되게 된다.
코팅 공정이 완료되면 건조 공정이 수행되게 된다. 보다 상세하게, 코일은 복수 개의 영역으로 구획된 건조로에 진입할 수 있으며, 이후 코팅액이 건조되는 공정이 수행될 수 있다. 일 예로 건조로는 네 개의 영역으로 구획될 수 있으며, 각 건조로의 온도는 약 180 내지 220 ℃ 범위로 조절될 수 있다.
전술한 방식으로 제조된 내지문성 코팅 기판(300)의 실시 예 및 비교 예는 다음과 같다.
[실시 예 1]
메틸기(-CH3)를 관능기로 하는 폴리실세스퀴옥산 고형분 15 중량부와, SK 종합화학사의 Kocosol-100 용매 85 중량부를 배합하여 만든 코팅 조성물을 스테인리스 스틸에 코팅하여 내지문성 코팅 기판을 제조하였다.
[실시 예 2]
비닐기(-CH=CH2)를 관능기로 하는 폴리실세스퀴옥산 고형분 15 중량부, SK 종합화학사의 Kocosol-100 용매 85 중량부를 배합하여 만든 코팅 조성물을 스테인리스 스틸에 코팅하여 내지문성 코팅 기판을 제조하였다.
[실시 예 3]
에폭시기를 관능기로 하는 폴리실세스퀴옥산 고형분 15 중량부, SK 종합화학사의 Kocosol-100 용매 85 중량부를 배합하여 만든 코팅 조성물을 스테인리스 스틸에 코팅하여 내지문성 코팅 기판을 제조하였다.
[비교 예 1]
우레탄 아크릴 수지 고형분 15 중량부와, SK 종합화학사의 Kocosol-100 용매 85 중량부를 배합하여 만든 코팅 조성물을 스테인리스 스틸에 코팅하여 내지문성 코팅 기판을 제조하였다.
[비교 예 2]
유기실록산(PDMS) 수지 고형분 15 중량부와, SK 종합화학사의 Kocosol-100 용매 85 중량부를 배합하여 만든 코팅 조성물을 스테인리스 스틸에 코팅하여 내지문성 코팅 기판을 제조하였다.
[실시 예 1] 내지 [실시 예 3], [비교예 1] 내지 [비교예 2]에 따른 내지문성 코팅 기판(300)의 특성을 다음의 [표 3]에 정리하였다.
실시 예 1 실시 예 2 실시 예 3 비교 예 1 비교 예 2
내지문성 양호 양호 양호 양호 양호
투명성 양호 양호 양호 나쁨 양호
내스크래치 양호 양호 우수 나쁨 나쁨
유연성 양호 양호 양호 양호 우수
경화 조건 200℃ 광경화 200℃ 200℃ 200℃
합성 용이성 어려움 양호 어려움 용이 용이
보관 안정성 겔화 양호 양호 양호 양호
[표 3]을 참조하면, [실시 예 1] 내지 [실시 예 3], [비교예 1] 내지 [비교예 2]에 따른 내지문성 코팅 기판은 모두 양호한 내지문 성능을 가짐을 확인할 수 있다.
또한, [실시 예 1] 내지 [실시 예 3] 및 [비교예 2]에 따른 내지문성 코팅 기판은 비교적 양호한 투명성 성능을 보이는데 비해, [비교예 1]에 따른 내지문성 코팅 기판은 불투명한 성능을 보임을 확인하였다.
또한, [실시 예 1] 내지 [실시 예 3]에 따른 내지문성 코팅 기판은 모두 양호한 내스크래치 성능을 보이는데 비해, [비교 예 1] 및 [비교 예 2]에 따른 내지문성 코팅 기판은 스크레치에 약한 것을 확인하였다.
또한, [실시 예 1] 내지 [실시 예 3], [비교예 1] 내지 [비교예 2]에 따른 내지문성 코팅 기판은 모두 양호한 유연성 성능을 가짐을 확인하였다.
또한, [실시 예 2], [실시 예 3], [비교예 1] 및 [비교예 2]에 따른 내지문성 코팅 기판은 보관 안전성이 양호한 반면, [실시 예 1]에 따른 내지문성 코팅 기판은 보관 안정성이 좋지 않음을 확인하였다.
실험 결과, [실시 예 3]에 따른 내지문성 코팅 기판의 경우 양호한 내지문성, 내스크래치성, 유연성, 보관 안정성 성능을 보이며, 우수한 내스크래치 성능을 보임을 확인하였다. 즉, 에폭시를 관능기로 하는 폴리실세스퀴옥산 성분을 내지문성 코팅 조성물의 주 성분으로 하는 것이 가장 바람직 함을 확인하였다.
이상으로 내지문성 코팅 기판 및 내지문성 코팅 기판이 적용된 전자 제품의 여러 실시 예에 대해 설명하였다. 발명의 기술적 사상이 전술한 실시 예에 한정되는 것은 아니며 당해 업계에서 통상의 지식을 지닌 자가 쉽게 실시할 수 있는 범위 내의 변경을 포함하는 개념으로 넓게 이해되어야 할 것이다.
100: 냉장고
300: 내지문성 코팅 기판
S: 금속 기재
A: 내지문 코팅층
H: 하우징
M: 금속 코팅층

Claims (10)

  1. 헤어라인 가공된 금속 기재로 마련된 하우징;
    상기 하우징 표면에 형성되며, 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 내지문 코팅층;을 포함하는 전자 제품.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 폴리실세스퀴옥산은,
    [RSiO3/2]의 화학식 1로 표현되는 단위체를 가지며,
    R은 에폭시기, 알킬기 및 비닐기로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 전자 제품.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 내지문 코팅층은,
    0.01 내지 1.0 ㎛의 두께 범위를 가지는 전자 제품.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 내지문 코팅층은,
    상기 폴리실세스퀴옥산을 포함하는 코팅 조성물을 도포하여 마련된 전자 제품.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 코팅 조성물은,
    전체 코팅 조성물의 중량 대비 상기 폴리실세스퀴옥산을 0.1 내지 60 중량부 포함하는 전자 제품.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 하우징은,
    상기 하우징 표면의 전부 또는 일부가 헤어라인 가공된 것을 포함하고,
    상기 하우징 표면 중 헤어라인 가공된 부분은,
    150 내지 300 nm 범위의 표면 조도를 가지는 것을 포함하는 전자 제품.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 하우징은,
    스테인리스 스틸 재질로 마련된 전자 제품.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 하우징과 상기 내지문 코팅층 사이에 마련되는 금속 코팅층;을 더 포함하는 전자 제품.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 금속 코팅층은,
    몰리브덴(Mo), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 망간(Mn) 및 실리콘(Si)을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나의 금속 성분을 포함하는 전자 제품.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 전자 제품은,
    냉장고, 청소 로봇, 디스플레이 장치, 공기조화기 및 모바일 기기를 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 전자 제품.
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