TWI589542B - 玻璃基材 - Google Patents

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TWI589542B TW104106001A TW104106001A TWI589542B TW I589542 B TWI589542 B TW I589542B TW 104106001 A TW104106001 A TW 104106001A TW 104106001 A TW104106001 A TW 104106001A TW I589542 B TWI589542 B TW I589542B
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Description

玻璃基材
以下說明書係關於一種或多種用以提高適合保護如手機和個人數位助理(PDA)之移動終端設備的顯示幕之防護玻璃罩的玻璃基材之強度的技術。
在移動終端設備如手機和PDA中，為防止外力(衝擊)施加於前述移動終端設備的顯示器上，將一塑膠保護片如高度透明的丙烯酸樹脂保護片置於顯示器外預定距離處(例如日本專利特開平2004-299199號公報)。
然而，這種丙烯酸樹脂保護片易被外力所彎曲，因此不得不在移動終端設備的保護片和顯示器之間設計一較廣距離以承受丙烯酸樹脂保護片的彎曲變位。如此將造成難以將移動終端設備薄型化。
有鑑於上述原因，提供以化學強化的玻璃保護片以將移動終端設備薄型化，且即使前述保護片成型為薄狀仍可限制彎曲(restrains blending)而保持一定程度之的強度(例如日本專利特開2007-99557號公報，以下簡稱’557公報)。’557公報公開了一用於移動終端設備的防護玻璃罩以及製造該防護玻璃罩的方法。根據’557公報，其係透過將特定玻璃組合物的片玻璃切割成預定形狀，將前述片玻璃每一面拋光至平面鏡面光潔度，並透過化學強化步驟在前述片玻璃的每面表面層中形成壓縮應力層來使前述防護玻璃罩難以被 彎曲和損壞。
然而，用於防護玻璃罩的玻璃基材需具有高強度，使該玻璃基材能承受施加於其主表面上的強大外力。此外，用於移動終端設備的防護玻璃罩亦同時被要求減輕重量。因此，用於移動終端設備的玻璃基材即使成型為薄狀也需具有非常高的強度。
本發明之目的在於有利於提供一種或多種改良技術，以獲得一即使成型為薄片狀仍具有非常高之強度的玻璃基材。
有鑑於本發明之目的，因此提供一種化學強化的玻璃基材，其包含在其最表層中具有一壓縮應力層的主表面。前述壓縮應力層設置以藉由前述壓縮應力層中產生的壓縮應力來提高玻璃基材的強度。前述壓縮應力層係由含有鉀離子濃度等於或小於5000ppm的層體所組成。
任選地，前述壓縮應力層設置有一可被完全移除之含鉀離子濃度大於5000ppm之離子交換層。
任選地，前述玻璃基材係由熔融玻璃可透過下拉法形成。
還任選地，前述玻璃基材係使用含有SiO2、Al2O3、Li2O或Na2O中至少一種的鋁矽酸鹽玻璃構造而成。進一步任選地，前述玻璃基材可使用基本上不包含鉀離子的玻璃基材經化學強化構造而成。
又任選地，前述玻璃基材可設置以保護一行動終端設備(mobile terminal device)顯示幕的防護玻璃罩。
有鑑於本發明之目的，進一步提供一種製造玻璃 基材的方法，其方法包括如下步驟：將前述玻璃基材浸入加熱的熔融鹽中，使得玻璃基材的離子被熔融鹽的離子行離子交換以化學強化前述玻璃基材，以及去除於前述化學強化玻璃基材之步驟中，在玻璃基材的主表面之最表層所形成的離子交換層。應該注意的是，前述離子交換層可具有濃度大於5000ppm的鉀離子。
任選地，在去除離子交換層的步驟中，前述離子交換層可以蝕刻(etching)去除。
又任選地，前述蝕刻可使用含有氫氟酸、六氟矽酸或緩衝氫氟酸中至少一種的蝕刻溶液以濕的方式(wet manner)實施。
還任選地，在前述玻璃基材的化學強化步驟中，在等於或小於前述玻璃基材的玻璃化轉變點的溫度下，使用至少一種硝酸鉀的熔融鹽或硝酸鈉的熔融鹽化學強化前述玻璃基材。
1‧‧‧玻璃基材
1a‧‧‧壓縮應力層
1b‧‧‧離子交換層
1c‧‧‧水合層
11‧‧‧玻璃基材
12‧‧‧支撐台
12a‧‧‧玻璃基材的開口
13‧‧‧壓栓
第一A圖顯示經習知方法化學強化的玻璃基材的主表面區域。
第一B圖顯示經習知方法化學強化的玻璃基材的主表面區域。
第一C圖顯示本發明之一或多個具體實施態樣中，以改良的方法化學強化後之玻璃基材的主表面區域。
第二圖顯示本發明之一或多個具體實施態樣中，用於測量玻璃基材之強度的裝置之示意圖。
第三圖係為本發明之一或多個具體實施態樣中， 製造玻璃基材的方法流程之示意圖。
下文係根據本發明的具體實施態樣並參照圖式描述之。
第一A圖和第一B圖顯示以習知方法化學強化的玻璃基材1。第一A圖顯示含有玻璃基材之主表面的區域。第一B圖為第一A圖所示之部分X的放大圖。第一A圖所示的玻璃基材1係浸入於加熱的熔融鹽中，使得該玻璃基材中的離子與熔融鹽的離子行離子交換，從而化學強化前述玻璃基材1。前述玻璃基材1在其表面層中具有壓縮應力層1a。前述壓縮應力層1a係設置以藉由在其中產生的壓縮應力來提高玻璃基材1的強度。此外，在前述壓縮應力層1a的最表層中(在距離玻璃基材1的最表面數微米的深度的區域中)具有經化學強化形成之含有非常高的鹼金屬離子濃度的離子交換層1b。
當以水清洗具有如上構造的離子交換層1b的玻璃基材1時(在化學強化之後以水清洗)，如第一B圖所示，在化學強化時所形成之離子交換層1b中的鉀離子(K+)與氫離子(H+)行離子交換，其中，每個氫離子(H+)具有比鉀離子(K+)更小的離子半徑。因此，玻璃基材1的最表層變成水合層(hydration layer)1c。因此，在前述清洗過成中，前述玻璃基材1的離子交換層1b中會形成一拉伸應力層(tensile stress layer)，該拉伸應力層中會產生拉伸應力而降低玻璃基材1的強度。特別是當以酸性溶液作為在清洗 過程中使用的清洗液體時，上述效應會更顯著地發生。不僅如此，化學強化(即離子交換)在透過下拉法形成的玻璃基材中比透過壓制法(press method)並接著拋光所形成的玻璃基材中進行得更快。因此，上述效應在下拉法形成的玻璃基材中比在壓制法並接著拋光而形成的玻璃基材中更為顯著。
根據本發明的一個具體實施態樣，透過去除在化學強化時在玻璃基材表面層所形成的離子交換層，應可防止因隨之進行的清洗過程而形成拉伸應力層，並因此提高玻璃基材的強度。更具體地，在具體實施態樣中，將玻璃基材浸入加熱熔融鹽使得玻璃基材中的離子被熔融鹽的離子行離子交換以化學強化前述玻璃基材。接著，去除在化學強化中於玻璃基材主表面上所形成的離子交換層。亦即，參考第一C圖，該具體實施態樣中，將玻璃基材上的離子交換層(如第一A圖和第一B圖所示)完全去除。因此，應可獲得即使成型為薄片狀也具有非常高之強度的玻璃基材。
目前已有一種習知之技術，可降低或限制洗脫化學強化的玻璃基材之鹼性成分(例如參見日本專利特開平10-194788號公報)。然而，應注意的是，將玻璃基材的表面脫鹼(de-alkalize)的適合技術，或是在玻璃基材的表面上形成一層用以保護洗脫的鹼性成份的技術，兩者之技術概念在本質上於本發明並不相同。
基於上述觀點，具體實施態樣中的玻璃基材可透過將玻璃基材浸入加熱的熔融鹽中，使玻璃基材藉由其中的離子與熔融鹽的離子進行離子交換而被化學強化，接著去除在化學強化中於玻璃基材之主表面上形成的離子交換層來製得。
以上述方式獲得的玻璃基材具有透過化學強化而形成的壓縮應力層。然而，前述壓縮應力層不包括離子交換層，且在主表面中鉀離子的濃度等於或小於5000ppm。在玻璃基材的主表面中的鉀離子濃度和玻璃基材的表面狀態(即主表面是否含有離子交換層)可藉由如波長色散X射線光譜儀(wavelength dispersive X-ray spectrometer，下稱WDX)或能量色散X射線光譜儀(energy dispersive X-ray spectrometer，下稱EDX)檢測。附帶地，WDX係設置以使X射線或電子束輻射至樣本，藉由分析晶體在輻照激發時，樣本區域所發射的螢光X射線之各種波長中提取特定的螢光X射線波長，並用檢測器測量波長和該提取的螢光X射線的強度。此外，EDX係設置以使X射線或電子束輻射至樣本，將輻照激發的樣本區域所發射之螢光X射線的各種波長放大，並用分析器鑑別波長和螢光X射線的各種波長之強度。
待用的玻璃基材可直接由熔融玻璃成型為片狀，或透過從特定厚度的玻璃體上切割預定厚度的玻璃片，並將該玻璃片加工成型為具有拋光主表面及所需厚度的玻璃片。將玻璃基材直接由熔融玻璃成型為片狀是較理想的做法，因為：直接由熔融玻璃成型為片狀的玻璃基材之主表面是具有非常高之平整度和光滑度且無微裂紋的熱成型(hot-formed)表面。下拉法或浮法(float method)可作為直接透過熔融玻璃將玻璃基材形成片狀的方法。以下拉法將熔融玻璃形成玻璃基材是理想的做法。
此外，構造前述玻璃基材較佳係選用鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃或硼矽酸鹽玻璃。其中，欲使用含有 SiO2、Al2O3、Li2O或Na2O中至少一種的鋁矽酸鹽玻璃構造前述玻璃基材。特別地，前述鋁矽酸鹽玻璃含有62~75wt%的SiO2、5~15wt%的Al2O3、4~10wt%的Li2O、4~12wt%的Na2O和5.5~15wt%的ZrO2(應注意“wt%”係表示以重量計算的百分比)是較理想的。而且，前述鋁矽酸鹽玻璃具有限定其重量比為Na2O/ZrO2：0.5~2.0和重量比為Al2O3/ZrO2：0.4~2.5的組合物是較理想的。此外，前述玻璃基材係由本質上不含氧化鉀的成分製得是理想的狀況。
考慮到玻璃材料的化學耐久性(chemical durability)及/或其熔解溫度，SiO2為玻璃基材的主要成份，較佳係於前述玻璃基材中包含62~75wt%的SiO2。
考慮到玻璃材料的化學耐久性，玻璃基材包含了Al2O3以提高其表面的離子交換能力，且較佳係於前述玻璃基材中包含了5~15wt%的Al2O3。
Li2O是化學強化的必要成份。Li2O特定在玻璃基材的表面層上主要與離子交換浴中的Na離子行離子交換。考慮到玻璃材料的離子交換能力及/或化學耐久性，較佳係於前述玻璃基材中包含了4~10wt%的Li2O。
Na2O是用於化學強化的必要成份。Na2O特定在玻璃基材的表面層上與離子交換浴中的K離子進行離子交換。考慮到玻璃材料的化學耐久性及/或機械強度，較佳係於玻璃基材中包含了4~12wt%的Na2O。
ZrO2具有提高玻璃基材之機械強度的效果。於玻璃基材中包含5.5~15wt%的ZrO2是理想的狀況，以確保均質玻璃的穩定製備和玻璃材料的化學耐久性。
在實施化學強化中，在300~450℃的熔融鹽溫度下使用如硝酸鉀的熔融鹽，持續作用1~30小時的加工時間。在實行化學強化中，熔融鹽溫度在等於或小於玻璃基材之材料的玻璃轉移點(glass transition point)的狀況下，使用硝酸鉀及/或硝酸鈉的熔融鹽是理想的狀況。這種低溫化學強化可使表面層的鹼金屬離子與具有大離子半徑之離子進行離子交換。在此情況下，加工時間等於或小於16小時是理想的狀況。在化學強化之後，較佳為透過清洗玻璃基材以除去外來物質，例如附著於玻璃基材表面的熔融鹽。在此情況下，可使用的清洗方法如使用清洗劑(例如水)、將玻璃基材浸入清洗劑中的浸入法(dipping method)和使玻璃基材與輥體(roll body)接觸，而該輥體在清洗劑作用時旋轉的擦洗法(scrubbing method)。在使用浸入法時可同時施行超聲波。
蝕刻或拋光可作為去除因化學強化在玻璃基材主表面上形成之離子交換層的方法。在直接由熔融玻璃將玻璃基材成型為片狀的情況中下，較佳為透過蝕刻去除離子交換層，以避免在主表面上形成損壞(如刮傷)。
用於去除離子交換層的蝕刻溶液理想中為含有氫氟酸、六氟矽酸或緩衝氫氟酸中至少一種。在此情況下，蝕刻溫度較佳為20~60℃，更佳為30~50℃。此外，蝕刻時間為3~60分鐘是理想狀態。在蝕刻過程中，前述蝕刻溶液可透過泵迴流，且玻璃基材係為浸入蝕刻溶液的狀態，或在玻璃基材以浸入蝕刻溶液的狀態下使前述玻璃基材上下移動。或者，可將蝕刻溶液淋在玻璃基材上。而且，在除去離子交換層之後， 可使用水或水溶液清洗玻璃基材以除去附著於玻璃基材表面的外來物質。此外，可使用市購之清洗劑，如：中性洗滌劑、表面活性劑和鹼性洗滌劑，及水或含水溶液。在此情況下，硫酸、鹽酸或硝酸可作為前述水溶液。清洗可使用超聲波進行之。
根據前述方法製得的玻璃基材適用於保護如手機和PDA之移動終端設備(其顯示幕)的防護玻璃罩。在此情況下，透過片狀玻璃基材的主表面上形成抗蝕樣版(pattern)，並以該抗蝕樣版作為遮罩以腐蝕劑蝕刻前述玻璃基材，從而將前述玻璃基材切割成所需的形狀。外部形狀通過蝕刻限定的前述防護玻璃罩具有非常高光滑度的蝕刻端面。此外，前述具有熔融玻璃表面的防護玻璃罩的設置中，其端面不具有任何微裂紋(micro-crack)，而透過機械過程將不可避免地造成前述微裂紋。即使用於移動終端設備之防護玻璃罩具有複雜的外形，以此方式構造的防護玻璃罩也具有移動終端設備之防護玻璃罩所需的高機械強度。需要注意的是，在玻璃基材形成所需的形狀後，較佳係可實行化學強化。由此，有可能也化學強化玻璃基材的端面，並因而避免玻璃基材在附著上移動終端設備時被切碎或破裂。
用於蝕刻玻璃基材以獲得如上前述的所需形狀的蝕刻法可為濕蝕刻法(wet etching)和乾蝕刻法(dry etching)的任一種。只要腐蝕劑能蝕刻玻璃基材，則任何腐蝕劑皆可用於濕蝕刻法。例如，具有氫氟酸為主要成分的酸溶液則可作為濕蝕刻的腐蝕劑。而且，含有硫酸、硝酸、鹽酸、氟矽酸及氫氟酸中至少一種的混合溶液可用作濕蝕刻法的腐蝕劑。另一方面，只 要腐蝕劑能腐蝕玻璃基材，任何腐蝕劑可用於乾蝕刻法。例如，氟化氣體可用作乾蝕刻法的腐蝕劑。可藉由使用刻線加工或雷射加工將玻璃基材切成前述形狀。
在具體實施態樣中，前述玻璃基材透過將玻璃基材浸入加熱的熔融鹽中，使玻璃基材之離子與熔融鹽的離子行離子交換而使玻璃基材被化學強化，接著去除在化學強化中在玻璃基材的主表面上形成的離子交換層來製得。因此，應可防止玻璃基材的離子被清洗過程中的氫離子進行離子交換，從而提高玻璃基材的強度。
接著，將以實施例闡明本發明的效果。第三圖顯示了每個下列實施例中製造玻璃基材的方法之大致流程。
實施例1
最初，以下拉法將含63.5wt%的SiO2、8.2wt%的Al2O3、8.0wt%的Li2O、10.4wt%的Na2O和11.9wt%的ZrO2之鋁矽酸鹽玻璃成型為80毫米(長邊)×45毫米(短邊)×0.5毫米(厚度)的片狀。
隨後，將玻璃基材浸入360℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽6小時而化學強化。之後，用水清洗玻璃基材以除去附著其上的外來物質，例如熔融鹽。接著，將前述玻璃基材浸入35℃之含3wt% H2SiF6的蝕刻溶液中，並於該蝕刻溶液中上下移動10分鐘。藉此，前述玻璃基材的主表面被蝕刻約1微米。然後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入40℃之含有15wt% H2SO4的清洗溶液中5分鐘，以清洗該 玻璃基材。由此製得實施例1之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為5000ppm。
使用第二圖所示的裝置測量所得玻璃基材的強度。如第二圖所示，將所得的玻璃基材11特別置於在支撐台12上，該支撐台12在中心有一小於玻璃基材11的開口12a。然後，通過一以10毫米/分鐘的速度向下移動的壓栓13施壓於前述玻璃基材11的中心。因此，在玻璃基材11破碎時測量玻璃基材11的斷裂負載(breaking load)。對30個玻璃基材進行相同的強度測量以確定玻璃基材11的強度(即斷裂負載)的平均值、最大值和標準差。結果顯示於下表1中。
實施例2
以實施例1相同之方式成型為相同片狀的玻璃基材浸入360℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽6小時以化學強化該玻璃基材。之後，用水清洗玻璃基材以除去附著其上的外來物質，例如熔融鹽。隨後，取3wt% H2SiF6之45℃蝕刻溶液淋洗前述玻璃基材20分鐘而使之被蝕刻。藉此，前述玻璃基材的主表面被蝕刻約2微米。之後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入40℃之含15wt% H2SO4的清洗溶液5分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得實施例2之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為2000ppm。將實施例2所獲得之玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果亦顯示於下表1中。
實施例3
以實施例1相同之方式成型為相同片狀的玻璃基材浸入360℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽浴6小時以化學化強該玻璃基材。之後，用水清洗玻璃基材以除去附著其上的外來物質，例如熔融鹽。接著，將前述玻璃基材浸入35℃之含6wt% H2SiF6的蝕刻溶液中10分鐘，並同時透過泵迴流前述蝕刻溶液以蝕刻該玻璃基材。藉此，前述玻璃基材的主表面被蝕刻約3微米。然後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入40℃之含15wt% H2SO4的清洗溶液5分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得實施例3之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為1500ppm。將實施例3所獲得之玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果亦顯示於下表1中。
比較實施例1
以實施例1相同之方式成型為相同片狀的玻璃基材浸入360℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽浴6小時以化學強化該玻璃基材。之後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入40℃之含15wt% H2SO4的清洗溶液10分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得比較實施例1之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為6000ppm。將比較實施例1所獲得之玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果亦顯示於下表1中。
由表1可知，即使將實施例1至實施例3之玻璃基材之成型為0.5毫米的厚度，它們仍具有較比較實施例1高的斷裂強度。此外，實施例1至實施例3之玻璃基材顯示較比較實施例1小的斷裂強度標準差。經思考後，以上結果係因實施例1至實施例3中，皆以蝕刻去除在玻璃基材的主表面上所形成的離子交換層。因此，在實施例1至實施例3中，應可防止玻璃基材的離子在清洗中與氫離子行離子交換，並因此避免降低玻璃基材之強度的拉伸應力層形成。
實施例4
最初，以下拉法將含63.5wt%的SiO2、8.2wt%的Al2O3、8.0wt%的Li2O、10.4wt%的Na2O和11.9wt%的ZrO2之鋁矽酸鹽玻璃成型為100毫米(長邊)×50毫米(短邊)×0.7毫米(厚度)的片狀。隨後，將玻璃基材浸入380℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽浴2小時以化學強化。之後，用水清洗玻璃基材以除去附著其上的外來物質，例如熔融鹽。接著，將前述玻璃基材浸入30℃之含1wt% HF的蝕刻溶液 中，並於該蝕刻溶液中上下移動5分鐘。藉此，前述玻璃基材的主表面被蝕刻約3微米。然後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入30℃含10wt% HCl的清洗溶液20分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得實施例4的玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為500ppm。將實施例4所獲得之玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果顯示於下表2中。
實施例5
以實施例4相同之方式成型為相同片狀的玻璃基材浸入380℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽浴2小時以化學強化該玻璃基材。之後，用水清洗玻璃基材以除去附著其上的外來物質，例如熔融鹽。接著，將前述玻璃基材浸入45℃之含0.5wt% HF的蝕刻溶液10分鐘並同時透過泵迴圈前述蝕刻溶液以蝕刻該玻璃基材。藉此，前述玻璃基材的主表面被蝕刻約2微米。之後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入30℃之含10wt% HCl的清洗溶液20分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得實施例5之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為1000ppm。將實施例5中獲得的玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果亦顯示於下表2中。
實施例6
以實施例4相同之方式成型為相同片狀的玻璃基材浸入380℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混 合鹽浴2小時以化學強化該玻璃基材。之後，用水清洗玻璃基材以除去附著其上的外來物質，例如熔融鹽。隨後，將前述玻璃基材浸入40℃之含2.0wt% HF的蝕刻溶液中，並在該蝕刻溶液中上下移動3分鐘。藉此，前述玻璃基材的主表面被蝕刻約2微米。之後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入30℃之含10wt% HCl的清洗溶液20分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得實施例6之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為1000ppm。將實施例6所獲得之玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果亦顯示於下表2中。
比較實施例2
以實施例4相同的方式成型為相同片狀的玻璃基材浸入380℃之含60wt% KNO3和40wt% NaNO3的混合鹽浴2小時以化學強化該玻璃基材。之後，在40kHz超聲波下，將前述玻璃基材浸入30℃含10wt% HCl的清洗溶液20分鐘以清洗該玻璃基材。由此製得比較實施例2之玻璃基材。值得注意的是，所得玻璃基材的主表面上的鉀離子濃度經WDX測得為5500ppm。將比較實施例2中獲得的玻璃基材進行與實施例1相同的強度測量。結果亦顯示於下表2中。
由表2可知，即使將實施例4至實施例6之玻璃基材成型為0.7毫米的厚度，它們仍具有較比較實施例2更高的斷裂強度。此外，實施例4至實施例6的玻璃基材顯示較比較實施例2更小的斷裂強度標準差。經思考後，以上結果係因在實施例4至實施例6，皆以蝕刻去除在玻璃基材的主表面上所形成的離子交換層。因此，在實施例4至實施例6中，可能防止玻璃基材的離子在清洗中被氫離子行離子交換，並因此避免降低玻璃基材之強度的拉伸應力層形成。
在上文描述了根據本發明的方面的具體實施態樣。本發明能通過採用常規材料、方法和設備實施。因此，這些材料、設備和方法的細節在本文未詳細描述。在前述描述中描述了許多特定的細節，如特定的材料、結構、方法等，從而提供對本發明的完全理解。然而，應認識到能無需重新分配特別描述的細節而實施本發明。在其他的例子中未詳細描述公知的加工結構，以避免不必要地使本發明含糊。
在本公開中顯示並描述了本發明僅有的示例性具體實施方案和其通用方式的一些實施例。應瞭解本發明能夠在各種其他組合和環境中使用，並能夠在本文表述的發明概念的範圍內變化和改變。
例如，儘管在上述具體實施態樣中通過蝕刻法去除離子交換層，但離子交換層可通過除了蝕刻法之外 的方法(例如拋光法)去除。
1‧‧‧玻璃基材
1a‧‧‧壓縮應力層

Claims (12)

  1. 一種玻璃基材，其經化學強化而且以片狀形成，該玻璃基材包含主表面，該主表面是平整面，而且在該主表面之整個最表層中具有一壓縮應力層，前述壓縮應力層係設置以藉由前述壓縮應力層中產生的壓縮應力來提高該玻璃基材的強度，其中前述壓縮應力層係由含鉀離子濃度超過0ppm且等於或小於5000ppm之層體所組成。
  2. 一種化學強化的玻璃基材，其包含在其最表層中具有一壓縮應力層之主表面，前述壓縮應力層係設置以藉由前述壓縮應力層中產生的壓縮應力來提高該玻璃基材的強度，其中前述壓縮應力層係由含鉀離子濃度超過0ppm且等於或小於5000ppm之層體所組成；其中前述壓縮應力層所含有之鉀離子包括原始包含(originally-contained)鉀離子與離子交換(ion-exchanged)鉀離子。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃基材，其中前述化學強化的玻璃基材之前述主表面是平整面，而且前述壓縮應力層形成於該主表面之整個最表層中。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述的玻璃基材，其中前述主表面係以蝕刻(etching)形成之蝕刻表面。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述的玻璃基材，其中前述玻璃基材之一端面係以蝕刻形成之蝕刻表面。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述的玻璃基材，其中前述玻璃基材係由熔融玻璃透過下拉法(down-draw method)形成。
  7. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之玻璃基材，其中前述玻璃基材包括由SiO2、Al2O3、Li2O及Na2O所 組成群組中所選出之至少一種。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之玻璃基材，其中前述玻璃基材本質上不以氧化鉀作為玻璃成分。
  9. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之玻璃基材，其中前述玻璃基材係設置以作為保護一行動終端設備(mobile terminal device)顯示幕的防護玻璃罩。
  10. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之玻璃基材，其中前述玻璃基材之厚度等於或小於0.7毫米。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之玻璃基材，其中前述玻璃基材之厚度等於0.5毫米，前述玻璃基材之斷裂負載(breaking load)等於或大於546N，前述斷裂負載係在前述玻璃基材之周邊端被固持之狀態下，以一壓栓施壓於前述玻璃基材之前述主表面之中心而測量者。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之玻璃基材，其中前述玻璃基材之厚度等於0.7毫米，且前述玻璃基材之斷裂負載等於或大於830N，前述斷裂負載係在前述玻璃基材之周邊端被固持之狀態下，以一壓栓施壓於前述玻璃基材之前述主表面之中心而測量者。
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Families Citing this family (89)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8673163B2 (en) 2008-06-27 2014-03-18 Apple Inc. Method for fabricating thin sheets of glass
US7810355B2 (en) 2008-06-30 2010-10-12 Apple Inc. Full perimeter chemical strengthening of substrates
JP2010168270A (ja) * 2008-12-26 2010-08-05 Hoya Corp ガラス基材及びその製造方法
CN102388003B (zh) 2009-03-02 2014-11-19 苹果公司 用于强化用于便携式电子设备的玻璃盖的技术
US9778685B2 (en) 2011-05-04 2017-10-03 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
EP2521699A1 (en) * 2010-01-07 2012-11-14 Corning Incorporated Impact-damage-resistant glass sheet
US9302937B2 (en) 2010-05-14 2016-04-05 Corning Incorporated Damage-resistant glass articles and method
US9213451B2 (en) 2010-06-04 2015-12-15 Apple Inc. Thin glass for touch panel sensors and methods therefor
US10189743B2 (en) 2010-08-18 2019-01-29 Apple Inc. Enhanced strengthening of glass
US8584354B2 (en) * 2010-08-26 2013-11-19 Corning Incorporated Method for making glass interposer panels
US8824140B2 (en) 2010-09-17 2014-09-02 Apple Inc. Glass enclosure
JP5695068B2 (ja) * 2010-09-30 2015-04-01 Hoya株式会社 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法
US8950215B2 (en) * 2010-10-06 2015-02-10 Apple Inc. Non-contact polishing techniques for reducing roughness on glass surfaces
KR101228094B1 (ko) * 2010-11-23 2013-01-31 삼성코닝정밀소재 주식회사 글라스기판 에칭방법 및 글라스기판
CN103249690B (zh) * 2010-12-03 2014-12-10 旭硝子株式会社 显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法
WO2012093525A1 (ja) * 2011-01-07 2012-07-12 日本電気硝子株式会社 強化ガラス材の製造方法
US10781135B2 (en) 2011-03-16 2020-09-22 Apple Inc. Strengthening variable thickness glass
US9725359B2 (en) 2011-03-16 2017-08-08 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened glass
JP2012218995A (ja) * 2011-04-12 2012-11-12 Asahi Glass Co Ltd 強化ガラス板及びカバーガラスの製造方法並びにカバーガラス
US9128666B2 (en) 2011-05-04 2015-09-08 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
JP5730241B2 (ja) * 2011-05-11 2015-06-03 Hoya株式会社 電子機器用カバーガラスの製造方法および電子機器用カバーガラスのガラス基板保持具
JP5904456B2 (ja) * 2011-05-13 2016-04-13 日本電気硝子株式会社 積層体
KR102043657B1 (ko) 2011-05-13 2019-11-12 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 적층체, 적층체의 절단 방법, 적층체의 가공 방법, 및 취성 판상물의 절단 장치 및 절단 방법
JP5705040B2 (ja) * 2011-06-17 2015-04-22 Hoya株式会社 携帯機器用カバーガラスの製造方法
JP5701703B2 (ja) * 2011-07-01 2015-04-15 Hoya株式会社 携帯機器用カバーガラスの製造方法
US9315412B2 (en) * 2011-07-07 2016-04-19 Corning Incorporated Surface flaw modification for strengthening of glass articles
CN102875035B (zh) * 2011-07-15 2015-04-22 比亚迪股份有限公司 一种玻璃不良品返修的方法
TWI572480B (zh) 2011-07-25 2017-03-01 康寧公司 經層壓及離子交換之強化玻璃疊層
WO2013018774A1 (ja) * 2011-08-04 2013-02-07 旭硝子株式会社 化学強化ガラスの衝撃試験方法、化学強化ガラスの割れ再現方法及び化学強化ガラスの製造方法
JP2013040086A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Asahi Glass Co Ltd 強化ガラス板及びカバーガラスの製造方法並びにカバーガラス
CN103874668A (zh) * 2011-08-23 2014-06-18 Hoya株式会社 强化玻璃基板的制造方法和强化玻璃基板
JP2013043795A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス及びその製造方法
JP5724779B2 (ja) 2011-09-13 2015-05-27 旭硝子株式会社 化学強化ガラスの強度測定方法、化学強化ガラスの割れ再現方法及び化学強化ガラスの製造方法
US9944554B2 (en) 2011-09-15 2018-04-17 Apple Inc. Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor
KR102004007B1 (ko) * 2011-09-29 2019-07-25 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 화학 강화 유리 및 그 제조 방법
US9516149B2 (en) 2011-09-29 2016-12-06 Apple Inc. Multi-layer transparent structures for electronic device housings
WO2013047679A1 (ja) 2011-09-29 2013-04-04 セントラル硝子株式会社 化学強化ガラス板及びその製造方法
CN106892553A (zh) 2011-11-10 2017-06-27 康宁股份有限公司 玻璃的酸强化
US10144669B2 (en) 2011-11-21 2018-12-04 Apple Inc. Self-optimizing chemical strengthening bath for glass
CN105439445B (zh) 2011-12-16 2018-04-03 旭硝子株式会社 显示器用保护玻璃、显示器用保护玻璃的制造方法
US10133156B2 (en) 2012-01-10 2018-11-20 Apple Inc. Fused opaque and clear glass for camera or display window
US8773848B2 (en) 2012-01-25 2014-07-08 Apple Inc. Fused glass device housings
US11497681B2 (en) 2012-02-28 2022-11-15 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
DE202013012666U1 (de) 2012-02-28 2018-04-26 Corning Incorporated Glaserzeugnisse mit reibungsarmen Beschichtungen
US10737973B2 (en) 2012-02-28 2020-08-11 Corning Incorporated Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction
CN104379532B9 (zh) 2012-02-29 2021-08-24 康宁股份有限公司 可离子交换的低cte玻璃组合物以及包含该玻璃组合物的玻璃制品
US9938186B2 (en) * 2012-04-13 2018-04-10 Corning Incorporated Strengthened glass articles having etched features and methods of forming the same
TWI592382B (zh) * 2012-05-30 2017-07-21 宸鴻科技控股有限公司 硬質基板、觸控面板及硬質基板的處理方法
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
MX2014015003A (es) 2012-06-07 2015-03-05 Corning Inc Contenedores de vidrio resistentes a la deslaminacion.
CN103508663A (zh) * 2012-06-14 2014-01-15 睿明科技股份有限公司 触控显示设备的玻璃基板的制作方法
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
US9946302B2 (en) * 2012-09-19 2018-04-17 Apple Inc. Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing
JPWO2014045809A1 (ja) * 2012-09-20 2016-08-18 旭硝子株式会社 化学強化ガラスの製造方法
US9387651B2 (en) 2012-09-26 2016-07-12 Corning Incorporated Methods for producing ion exchanged glass and resulting apparatus
US20140087193A1 (en) * 2012-09-26 2014-03-27 Jeffrey Scott Cites Methods for producing ion exchanged glass and resulting apparatus
WO2014055583A1 (en) * 2012-10-05 2014-04-10 Corning Incorporated Glass/metal laminated structures and methods of manufacturing laminated structures
WO2014084096A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 旭硝子株式会社 強化ガラスおよびその製造方法
US9459661B2 (en) 2013-06-19 2016-10-04 Apple Inc. Camouflaged openings in electronic device housings
CN106316155A (zh) 2013-07-19 2017-01-11 旭硝子株式会社 化学强化玻璃及其制造方法
CN105593182A (zh) * 2013-07-25 2016-05-18 康宁股份有限公司 玻璃表面的处理方法
PL3053888T3 (pl) * 2013-09-30 2021-07-19 Nippon Sheet Glass Company, Limited Sposób wytwarzania tafli szkła
JP6392363B2 (ja) * 2013-10-14 2018-09-19 コーニング インコーポレイテッド イオン交換プロセスおよびそれにより得られる化学強化されたガラス基材
US9321677B2 (en) 2014-01-29 2016-04-26 Corning Incorporated Bendable glass stack assemblies, articles and methods of making the same
US9886062B2 (en) 2014-02-28 2018-02-06 Apple Inc. Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing
US20150274585A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 Apple Inc. Asymmetric chemical strengthening
RU2579043C2 (ru) * 2014-04-15 2016-03-27 Открытое Акционерное Общество "Научно-Исследовательский Институт Технического Стекла" Способ упрочнения стекла
JP6568542B2 (ja) 2014-04-25 2019-08-28 コーニング インコーポレイテッド 複合ガラス製品を製造する装置及び方法
EP3189017B1 (en) 2014-09-05 2022-11-16 Corning Incorporated Glass articles and methods for improving the reliability of glass articles
CN107001096A (zh) 2014-10-07 2017-08-01 康宁股份有限公司 具有确定的应力分布的玻璃制品及其生产方法
CN107428598A (zh) * 2015-01-06 2017-12-01 康宁股份有限公司 生产防眩光表面的设备和方法
KR102368462B1 (ko) 2015-08-07 2022-03-02 삼성디스플레이 주식회사 강화 유리의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
EP3150564B1 (en) 2015-09-30 2018-12-05 Corning Incorporated Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings
KR20180067577A (ko) 2015-10-14 2018-06-20 코닝 인코포레이티드 결정된 응력 프로파일을 갖는 적층 유리 제품 및 그 제조방법
KR102500473B1 (ko) 2015-10-26 2023-02-16 삼성디스플레이 주식회사 플로트 유리 및 이의 제조방법
CN108349789A (zh) 2015-10-30 2018-07-31 康宁股份有限公司 具有聚合物和金属氧化物混合涂层的玻璃制品
US10043903B2 (en) 2015-12-21 2018-08-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor devices with source/drain stress liner
CN108473368B (zh) * 2015-12-28 2021-10-29 Ａｇｃ株式会社 化学强化玻璃的制造方法
JP2017149628A (ja) * 2016-02-26 2017-08-31 旭硝子株式会社 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法
TWI733903B (zh) * 2016-09-27 2021-07-21 美商康寧公司 具有工程設計的應力分佈的基於玻璃的製品及其製造方法
EP3577082A1 (en) * 2017-02-02 2019-12-11 Corning Incorporated Lithium containing glass or glass ceramic article with modified k2o profile near the glass surface
KR102315418B1 (ko) * 2017-03-10 2021-10-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 윈도우 제조 방법 및 표시 장치 윈도우
JP6897270B2 (ja) * 2017-04-20 2021-06-30 Ａｇｃ株式会社 化学強化ガラス
KR102584366B1 (ko) * 2018-02-12 2023-10-04 삼성디스플레이 주식회사 유리 제품 및 그 제조 방법
CN113840810A (zh) * 2019-05-17 2021-12-24 康宁股份有限公司 改良具有处于压应力下的区域的纹理化玻璃基板以增加玻璃基板强度的方法
CN111204991A (zh) * 2020-01-16 2020-05-29 Oppo广东移动通信有限公司 玻璃盖板及其强化方法、电子设备
US20230309368A1 (en) * 2020-08-28 2023-09-28 Corning Incorporated Foldable substrates and methods of making
CN112851140B (zh) * 2021-01-22 2022-09-23 昆山国显光电有限公司 玻璃盖板制作方法、玻璃盖板及显示模组
WO2023244792A1 (en) * 2022-06-17 2023-12-21 Corning Incorporated Au and ag containing glass composition and colored glass-based articles formed therefrom

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3357876A (en) * 1965-01-19 1967-12-12 Pittsburgh Plate Glass Co Method of strengthening a glass article by ion exchange
NL6410825A (zh) * 1963-11-21 1965-05-24
BE753189A (fr) * 1969-07-10 1970-12-16 Asahi Glass Co Ltd Procede de renforcement d'un article en verre par echange d'ions et produit ainsi obtenu
US3660060A (en) * 1969-12-11 1972-05-02 Owens Illinois Inc Process of making glass lasers of increased heat dissipation capability
US4156755A (en) * 1978-04-19 1979-05-29 Ppg Industries, Inc. Lithium containing ion exchange strengthened glass
US4218230A (en) * 1978-08-04 1980-08-19 Brockway Glass Company, Inc. Method of glass strengthening by ion exchange
JPH0193004A (ja) * 1987-10-01 1989-04-12 Asahi Glass Co Ltd 透明導電性ガラス基板およびその製造方法
US4849002A (en) * 1987-10-27 1989-07-18 Kigre, Inc. Ion-exchangeable germanate method for strengthened germanate glass articles
DE69129046T2 (de) 1990-09-13 1998-09-24 Nippon Sheet Glass Co Ltd Glasfrontplatte und damit versehene Kathodenstrahlröhre
US5252112A (en) * 1990-09-13 1993-10-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of producing a glass front-panel protected from coloring by electron rays
US5279851A (en) * 1991-04-03 1994-01-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of manufacturing a conductive glass with high strength and wear resistance
JP2776112B2 (ja) 1991-04-15 1998-07-16 富士ゼロックス株式会社 電子写真法
GB9306444D0 (en) * 1993-03-27 1993-05-19 Pilkington Aerospace Ltd Glass component
WO1999006333A1 (fr) * 1997-07-30 1999-02-11 Hoya Corporation Procede de production d'un substrat de verre pour support de donnees
JP2002174810A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Hoya Corp ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ
JP4185266B2 (ja) * 2001-07-25 2008-11-26 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板の製造方法
US6660060B2 (en) 2002-01-09 2003-12-09 Hp Intellectual Corp. Air filtering system
JP2003277102A (ja) * 2002-01-18 2003-10-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板
CN1161298C (zh) 2002-03-26 2004-08-11 中国建筑材料科学研究院 一种玻璃综合增强方法
KR101004525B1 (ko) * 2002-08-19 2010-12-31 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 글래스 기판 제조 방법, 마스크 블랭크제조방법, 전사 마스크 제조 방법, 반도체 디바이스제조방법, 마스크 블랭크용 글래스 기판, 마스크 블랭크,및 전사 마스크
JP4795614B2 (ja) * 2002-10-23 2011-10-19 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
JP4239649B2 (ja) 2003-03-31 2009-03-18 住友化学株式会社 耐擦傷性樹脂板及びそれを用いた携帯型情報端末の表示窓保護板
JP4209316B2 (ja) * 2003-12-12 2009-01-14 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
US7891212B2 (en) * 2004-03-25 2011-02-22 Hoya Corporation Magnetic disk glass substrate
DE102004022629B9 (de) * 2004-05-07 2008-09-04 Schott Ag Gefloatetes Lithium-Aluminosilikat-Flachglas mit hoher Temperaturbeständigkeit, das chemisch und thermisch vorspannbar ist und dessen Verwendung
JP2007099557A (ja) * 2005-10-04 2007-04-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 強化ガラス物品およびその製造方法
CN1990402A (zh) * 2005-12-28 2007-07-04 庄大建 防飓风玻璃生产工艺
WO2007138986A1 (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Nippon Electric Glass Co., Ltd. 強化ガラス及びその製造方法
KR101351366B1 (ko) * 2006-10-10 2014-01-14 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 강화 유리 기판
US7666511B2 (en) * 2007-05-18 2010-02-23 Corning Incorporated Down-drawable, chemically strengthened glass for cover plate
US8349454B2 (en) * 2007-06-07 2013-01-08 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Strengthened glass substrate and process for producing the same
JP5743125B2 (ja) * 2007-09-27 2015-07-01 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及び強化ガラス基板
KR101512213B1 (ko) * 2007-12-18 2015-04-14 호야 가부시키가이샤 휴대 단말기용 커버 글래스 및 그 제조 방법, 및 휴대 단말 장치
JP2011510904A (ja) * 2008-02-05 2011-04-07 コーニング インコーポレイテッド 電子装置のカバープレートとして使用するための耐損傷性ガラス物品
US8232218B2 (en) * 2008-02-29 2012-07-31 Corning Incorporated Ion exchanged, fast cooled glasses
JP5867953B2 (ja) * 2008-06-27 2016-02-24 日本電気硝子株式会社 強化ガラスおよび強化用ガラス
CN102131740B (zh) * 2008-07-11 2015-12-02 康宁股份有限公司 用于消费用途的具有压缩表面的玻璃
JP2010168270A (ja) * 2008-12-26 2010-08-05 Hoya Corp ガラス基材及びその製造方法
US20120052275A1 (en) * 2010-08-30 2012-03-01 Avanstrate Inc. Glass substrate, chemically strengthened glass substrate and cover glass, and method for manufactruing the same
US9434644B2 (en) * 2010-09-30 2016-09-06 Avanstrate Inc. Cover glass and method for producing cover glass

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Publication number Publication date
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