TWI557278B - Heat treatment of heat sinks - Google Patents

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散熱片之陽極處理方法
本發明係提供一種散熱片之陽極處理方法,尤指可透過二次陽極加工處理,在散熱片表面進行電鍍加工處理之步驟,利用不同陽極處理的加工方式,達到於散熱片表面成型具多種色彩之目的。
按,隨著時代不斷進步,許多電子、電氣產品的研發,提供人們在生活及工作上的諸多便利而在各種電子、電氣產品中都是藉由電子電路佈局及各式電子零組件的運作,達到電子、電氣產品預期操控之運作及其功效,並在各種電子、電氣產品的執行功能愈來愈多,內部電子零組件的設計也愈來愈精密、執行運作的處理速度也愈來愈快,則各種電子零組件在運作過程中,便容易發熱而產生熱能,如中央處理器(CPU)、微處理器、晶片、記憶卡、顯示卡或介面卡等,因此必須設置輔助散熱之散熱器或散熱片等,以供電子零組件可以快速降溫、維持運作之功能不致故障,且記憶卡、顯示卡或介面卡等,係呈板片狀,則外部散熱片亦配合呈板片狀夾持方式,以供輔助記憶卡、顯示卡或介面卡等進行散熱,則用以輔助散熱之散熱片,係為鋁或銅等金屬之材質所製成,若直接應用容易發生氧化、生鏽等情況,影響散熱片的散熱功能變差,即有業者在散熱片外表面進行陽極處理或電鍍等加工,避免發生氧化或生鏽等缺失,以供 散熱片具有良好的散熱功能,並可以防止散熱片在使用時形成氧化或生鏽的現象,然一般散熱片進行陽極處理或電鍍加工,大都只是將金屬片材直接置放在電鍍作業之處理槽內的溶液中,再透過陽極處理或電鍍進行表面的加工,只進行一次的陽極處理或電鍍加工,也在散熱片表面形成單一的金屬顏色、無法具有不同的顏色變化,但僅經過一次陽極處理或電鍍加工的作業,加工過程較為快速且簡易,容易發生散熱片表面污漬或髒污等未清理乾淨,並產生散熱片表面陽極處理或電鍍加工的面附著層不均勻的情況,而導致陽極處理或電鍍加工的附著層剝落或脫離,則使陽極處理或電鍍加工的品質較差,且無法提升散熱片的散熱效能。
是以,如何解決目前散熱片在進行陽極處理時,無法讓附著層均勻成型在散熱片表面之麻煩與問題,且因陽極處理前置作業不完善,易導致附著層剝落或脫離,影響散熱片的散熱功能等困擾及缺失,即為從事此行業之相關廠商所亟欲研究改善之方向所在者。
故,發明人有鑑於上述之問題與缺失,乃搜集相關資料,經由多方評估及考量,並以從事於此行業累積之多年經驗,經由不斷試作及修改,始設計出此種可透過二次陽極加工處理的加工,在散熱片表面成型均勻的附著層,並不易產生剝落或脫離等缺失,供散熱片具有良好散熱功效之散熱片之陽極處理方法的發明專利誕生者。
本發明之主要目的乃在於該陽極處理方法,係包括有二次陽極加工處理之步驟,並在進行散熱片之第一次陽極處理時,透過包括前處理、陽極處理、染色處理及後處理等步驟、進行對散熱片的第一次陽極 處理,且在散熱片完成第一次陽極處理之後,再實施第二次陽極處理,第二次陽極處理則包括去膜處理之切割技術(可為鑽切、鑽雕或雷射雕刻等)去除陽極膜、超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理等步驟,即可完成散熱片之二次陽極處理步驟,而可達到在散熱片表面形成均勻附著層之目的,並具有多種顏色變化之效果。
本發明之次要目的乃在於該第一次陽極處理之加工步驟,係包括前處理、陽極處理、染色處理及後處理,且前處理為透過熱脫脂、多次熱水洗、多次常溫水洗、鹼性侵蝕、多次除膜中和、化學拋光等處理步驟,完成散熱片進第一次陽極處理的前處理步驟,即可進行陽極處理之步驟,並透過陽極處理及多次的常溫水洗後,完成陽極處理步驟,而可進行染色處理,利用表面調整、多次常溫水洗、染色等步驟完成染色之處理步驟,才進行後處理之封孔處理、水洗、熱水洗及烘乾等步驟,達到完成散熱片第一次陽極處理之加工步驟。
本發明之另一目的乃在於該第二次陽極處理之加工步驟,則是進行去膜處理時採用鑽切、鑽雕或雷射雕刻等加工技術,在散熱片的第一次陽極處理表面,成型所需之圖形、文字或圖案等,再進行超音波洗淨後,實施第二次陽極處理、染色處理及後處理,而完成散熱片的二次陽極處理加工步驟,即可得到二次陽極處理後之散熱片成品。
第一圖 係為本發明陽極處理加工步驟之流程圖。
第二圖 係為本發明陽極處理加工之方塊圖。
第三圖 係為本發明第一次陽極處理之前處理作業流程圖(一)。
第四圖 係為本發明第一次陽極處理之前處理作業流程圖(二)。
第五圖 係為本發明第一次陽極處理加工之陽極處理作業流程圖。
第六圖 係為本發明第一次陽極處理加工之表面調整作業流程圖。
第七圖 係為本發明第一次陽極處理加工之封孔處理作業流程圖。
第八圖 係為本發明第二次陽極處理加工之去膜處理作業流程圖。
第九圖 係為本發明第二次陽極處理加工之超音波熱水洗作業流程圖。
第十圖 係為本發明第二次陽極處理加工之陽極處理作業流程圖。
第十一圖 係為本發明第二次陽極處理加工之表面調整作業流程圖。
第十二圖 係為本發明第二次陽極處理加工之封孔處理作業流程圖。
為達成上述目的與功效,本發明所採用之技術手段及其構造、實施之方法等,茲繪圖就本發明之較佳實施例詳加說明其特徵與功能如下,俾利完全瞭解。
請參閱第一、二、三、四圖所示,係為本發明陽極處理加工步驟之流程圖、陽極處理加工之方塊圖、第一次陽極處理之前處理作業流程圖(一)、第一次陽極處理之前處理作業流程圖(二),由圖中所示可以清楚看出,本發明散熱片進行陽極處理之加工方法,其步驟係:
(A)對散熱片進行第一次陽極處理加工,係包括前處理、陽極處理、染色處理及後處理等之加工處理步驟。
(B)對散熱片再進行第二次陽極處理,則包括去膜處理之切割技術去除陽極膜,可透過鑽切、鑽雕或雷射雕刻等技術,將散熱片 的表面第一次陽極處理之附著層、切割出所需的圖形、文字或圖樣等,再依序進行超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理等之加工步驟。
(C)完成散熱片之陽極處理加工作業。
則上述對散熱片進行陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第一次陽極處理加工作業,其前處理之加工步驟係包括:
(A001)熱脫脂,其建浴方式以純水添加脫脂劑之槽液,且槽液溫度約為50℃~70℃,並將散熱片浸泡於槽液中,藉以去除散熱片表面之油污與髒污。
(A002)第一次熱水洗,將散熱片浸泡於溫度40℃~50℃之潔淨水溶液中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A003)第一次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A004)鹼性侵蝕,使用鹼性溶液去除散熱片表面之雜質或氧化物;而建浴係可採用氫氧化納〔NaOH〕以35%~40%(質量百分比)比例與水混合成鹼性溶液,其槽液溫度約為50℃~60℃。
(A005)第二次熱水洗,將散熱片浸泡於溫度40℃~50℃之潔淨水溶液中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A006)第二次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A007)除膜中和,使用混合硝酸〔HNO3〕之酸性溶液,利用酸鹼中和,去除散熱片浸泡鹼性侵蝕後、表面所產生之灰色氧 化膜;則建浴採用硝酸〔HNO3〕比例15%及除膜中和劑9%與純水混合浸泡,且槽液溫度為常溫。
(A008)第三次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A009)化學拋光,係以60%~70%(質量百分比)的磷酸〔H3PO4〕為基礎的溶液,添加20%~40%(質量百分比)的硫酸〔H2SO4〕,並可選擇添加硝酸含量3%~10%(質量百分比)之變化,加熱至80℃~100℃後,即將散熱片浸泡於槽液內進行化學拋光作用。
(A010)第三次熱水洗,將散熱片浸泡於溫度40℃~50℃之潔淨純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A011)第四次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A012)除膜中和,使用混合硝酸〔HNO3〕之酸性溶液,利用酸鹼中和,去除散熱片浸泡鹼性侵蝕後、表面所產生之灰色氧化膜,浸泡時間約為30~60秒;則建浴採用硝酸〔HNO3〕比例5%~15%及除膜中和劑3%~9%與純水混合浸泡,且槽液溫度為常溫。
(A013)水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
請參閱第五、六、七圖所示,係為本發明第一次陽極處理加工之陽極處理作業流程圖、表面調整作業流程圖、封孔處理作業流程圖 ,其中上述之第一次陽極處理加工作業中,針對該散熱片進行陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第一次陽極處理加工作業,其陽極處理之加工步驟係包括:
(A101)陽極處理,使用混合硫酸〔H2SO4〕之酸性溶液,作為陽極處理之電解液,即可將散熱片〔可為由鋁或鋁合金等金屬材料所製成〕浸泡於電解槽中並接上陽極(正極),則施加預定之電壓及電流,使散熱片表面形成氧化層;而建浴係採用硫酸〔H2SO4〕比例25%~27%與純水混合成槽液,並施以12~17V〔伏特〕之電壓,且控制槽液溫度在18℃~25℃以內,作業時間可為10~40分鐘,可依作業時間長、短之不同,而獲得所需之陽極氧化膜厚度。
(A102)第一次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A103)第二次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A104)第三次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
上述對散熱片進行陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第一次陽極處理加工作業,其染色處理之加工步驟係包括:
(A201)表面調整,將散熱片浸泡在酸性藥劑溶液中,以去除散熱片表面孔洞中所殘留之酸污,並調整不均勻的氧化膜,活化氧化膜以提高染色性之用;其建浴係採用濃度4%~8%之調整酸性藥劑溶液,加熱至45℃~60℃,槽液pH值控制於1.8~2.5之間, 浸泡時間約為10~15分鐘。
(A202)第一次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A203)第二次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A204)染色,將散熱片浸泡於染色槽中進行第一次染色處理,依照氧化膜之厚度,進行各類染料浸泡吸收,依時間不同而獲得要求之顏色色澤。
(A205)第三次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A206)第四次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
再者,上述對散熱片陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第一次陽極處理加工作業,其後處理之加工步驟係包括:
(A301)封孔處理,將散熱片浸泡於溫度70℃~95℃之槽液中,使用熱水或化學封孔藥劑,以封閉陽極孔洞成為沒有吸附性的表面;且槽液係以5%~10%之封孔藥劑與純水混合而成,並控制pH值介於5.2~5.8之間,浸泡時間約為10~15分鐘。
(A302)水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(A303)熱水洗,將散熱片浸泡於溫度40℃~60℃之潔淨純水中、約浸泡30~60秒以進行洗淨。
(A304)烘乾,以去除散熱片表面水分。
經由上述之前處理、陽極處理、染色處理及後處理等加工方式,以完成散熱片的第一次陽極處理加工步驟,即可再對散熱面進行第二次的陽極處理之加工,則散熱片進行第二次陽極處理係包括去膜處理、超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理等加工方式,其實施之步驟:請參閱第八、九、十、十一、十二圖所示,係為本發明第二次陽極處理加工之去膜處理作業流程圖、超音波熱水洗作業流程圖、陽極處理作業流程圖、表面調整作業流程圖、封孔處理作業流程圖,其中上述之第二次陽極處理加工作業,其去膜處理之加工步驟係包括:
(B01)去膜處理,去除散熱片表面欲進行第二次陽極處理範圍所在表面上之陽極膜,以得到所需之圖形、文字或圖樣等範圍之原材質表面;而去除陽極膜係可透過鑽切、鑽雕或雷射雕刻等技術,對已完成第一次陽極處理之散熱片,進行去膜處理。
(B02)去除第二次陽極處理所需要的載點(掛點)上之陽極氧化膜,使散熱片顯露出足夠載點(掛點)夾持導電之原材質表面;係可採用雷射雕刻技術去除陽極膜,或預先在第一次陽極處理前以耐酸鹼油墨塗佈遮蔽之後再去除。
又,上述對散熱片進行陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第二次陽極處理加工作業,其超音波洗淨處理之加工步驟係包括:
(B11)超音波熱水洗,浸泡常溫之純水中,並以超音波震動進行洗淨,且浸泡時間約為1~2分鐘。
(B12)水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡 5~10秒以進行洗淨。
另,上述對散熱片進行陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第二次陽極處理加工作業,其陽極處理之加工步驟係包括:
(B21)陽極處理,使用混合硫酸〔H2SO4〕之酸性溶液,作為陽極處理之電解液,即可將散熱片〔可為由鋁或鋁合金等金屬材料所製成〕浸泡於電解槽中並接上陽極(正極),則施加預定之電壓及電流,使散熱片表面形成氧化層;而建浴係採用硫酸〔H2SO4〕比例25%~27%與純水混合成槽液,並施以12~17V〔伏特〕之電壓,且控制槽液溫度在18℃~25℃以內,作業時間可為10~40分鐘,即可依作業時間長、短不同,而獲得所需之陽極氧化膜厚度。
(B22)第一次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(B23)第二次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(B24)第三次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
至於上述對散熱片進行陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第二次陽極處理加工作業,其染色處理之加工步驟係包括:
(B31)表面調整,將散熱片浸泡在酸性藥劑溶液中,以去除散熱片表面孔洞中所殘留之酸污,並調整不均勻的氧化膜,活化氧化膜以提高染色性之用;其建浴係採用濃度4%~8%之調整酸性藥劑溶液,加熱至45℃~60℃,槽液pH值控制於1.8~2.5之間,浸 泡時間約為10~15分鐘。
(B32)第一次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(B33)第二次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(B34)染色,將散熱片浸泡於染色槽中進行第一次染色處理,依照氧化膜之厚度,進行各類染料浸泡吸收,依時間不同而獲得要求之顏色色澤。
(B35)第三次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(B36)第四次水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
而上述對散熱片陽極處理之加工方法,在實施步驟中之第二次陽極處理加工作業,其後處理之加工步驟係包括:
(B41)封孔處理,將散熱片浸泡於溫度70℃~95℃之槽液中,使用水或化學封孔藥劑,以封閉陽極孔洞成為沒有吸附性的表面;且槽液係以5%~10%之封孔藥劑與純水混合而成,並控制pH值介於5.2~5.8之間,浸泡時間約為10~15分鐘。
(B42)水洗,將散熱片浸泡於常溫之純水中、約浸泡5~10秒以進行洗淨。
(B43)熱水洗,將散熱片浸泡於溫度40℃~60℃之潔淨純水中、約浸泡30~60秒以進行洗淨。
(B44)烘乾,以去除散熱片表面水分。
即經由上述之去膜處理、超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理等加工方式,而可完成散熱片的第二次陽極處理加工步驟,並可在散熱片表面完成均勻又完整的陽極處理加工,並不易再發生剝離或脫落等現象,並可透過二次陽極處理的加工步驟中之染色處理,分別在散熱片表面染附各種顏色,使散熱片進行陽極處理後、可具有多種顏色應用之模式,並供透過散熱片表面之不同顏色呈現、作為辨識散熱片應用模式的區分功能。
若散熱片表面必須具有更多顏色之需求時,可以透過反覆多次執行上述第二次陽極處理之加工步驟,而可獲的多種顏色之散熱片陽極處理之成品,供散熱片之陽極處理具有更多型式變化之應用,在散熱片表面進行均勻的陽極處理作業,可提升散熱片良好的輔助散熱功能,可供散熱片應用在顯示卡、記憶卡或介面卡等板片狀發熱源之外部,進行輔助散熱之作用。
是以,以上所述僅為本發明之較佳實施例而已,非因此侷限本發明之專利範圍,本發明散熱片之陽極處理方法,係將散熱片進行二次的陽極處理,在第一次陽極處理中透過前處理、陽極處理、染色處理及後處理等加工作業後,再對散熱片進行第二次陽極處理,並透過去膜處理之鑽切、鑽雕或雷射加工等技術,去除散熱片表面第一次陽極加工的後所需得到圖形、文字或圖樣等範圍之陽極膜,再施以超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理後,俾可達到在散熱片表面均勻附著陽極處理膜層之目的,且可進行多次不同顏色的陽極處理加工,在散熱片表面形成多種顏 色之效果,可供辨識散熱片的不同應用性質,並在散熱片表面均勻附著陽極處理之膜層、且不易剝離或脫落、可保持良好的輔助散熱功效,故舉凡可達成前述效果之結構、裝置皆應受本發明所涵蓋,此種簡易修飾及等效結構變化,均應同理包含於本發明之專利範圍內,合予陳明。
故,本發明為主要針對散熱片之陽極處理進行設計,係利用散熱片進行二次的陽極處理加工,並經過第一次陽極處理之前處理、陽極處理、染色處理及後處理等加工作業後,再對散熱片進行第二次陽極處理,並透過去膜處理之鑽切、鑽雕或雷射加工等技術,再施以超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理後,而可達到散熱片表面均勻附著陽極處理膜層為主要保護重點,且可在第二次陽極處理加工後,再反覆進行多次的陽極處理加工,在散熱片表面均勻附著陽極處理膜層、且不易剝離或脫落,保持良好的輔助散熱功效,乃僅使散熱片表面具有多種顏色呈現之優勢,則可供散熱片應用具有辨識作用之目的,惟,以上所述僅為本發明之較佳實施例而已,非因此即侷限本發明之專利範圍,故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化,均應同理包含於本發明之專利範圍內,合予陳明。
綜上所述,本發明上述之散熱片之陽極處理方法於實際執行及實施時,為確實能達到其功效及目的,故本發明誠為一實用性優異之研發,為符合發明專利之申請要件,爰依法提出申請,盼 審委早日賜准本案,以保障發明人之辛苦研發、創設,倘若 鈞局審委有任何稽疑,請不吝來函指示,發明人定當竭力配合,實感德便。

Claims (1)

  1. 一種散熱片之陽極處理方法,係包括二次陽極處理加工,其加工之步驟為:(A)散熱片進行第一次陽極處理,係包括前處理、陽極處理、染色處理及後處理之步驟,且該前處理實施之步驟為:(A001)熱脫脂,透過建浴方式以純水添加脫脂劑之槽液,將工作物浸泡於槽液中、去除表面油污、髒污,而槽液溫度為60℃~70℃,並將散熱片浸泡於槽液中2~5分鐘;(A002)第一次熱水洗,浸泡潔淨之溫熱純水中進行洗淨,且溫熱水溫度為40℃~50℃,浸泡時間為5~10秒;(A003)第一次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(A004)鹼性浸蝕,使用鹼性溶液去除散熱片表面雜質或氧化物,該鹼性溶液係以35~45%氫氧化鈉〔NaOH〕與水混合而成,且槽液溫度為50℃~60℃;(A005)第二次熱水洗,浸泡潔淨之溫熱純水中進行洗淨,則溫熱水溫度為40℃~50℃,浸泡時間為5~10秒;(A006)第二次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(A007)第一次除膜中和,使用混合硝酸〔HNO3〕之酸性溶液,利用酸鹼中和、去除散熱片在浸泡鹼性侵蝕後,表 面產生之灰色氧化膜;(A008)第三次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(A009)化學拋光,利用磷酸為基礎溶液、添加硫酸液,即將工作物浸泡在槽液中進行化學拋光作用;(A010)第三次熱水洗,浸泡潔淨之溫熱純水中進行洗淨,而溫熱水溫度為40℃~50℃,浸泡時間為5~10秒;(A011)第四次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(A012)第二次除膜中和,使用混合硝酸〔HNO3〕之酸性溶液,利用酸鹼中和、去除散熱片在浸泡鹼性侵蝕後,表面產生之灰色氧化膜,將散熱片浸泡在酸性容液中30~60秒;(A013)第五次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;至於該第一次陽極處理,其陽極處理實施之步驟為:(A101)陽極處理,使用混合硫酸〔H2SO4〕之酸性溶液,作為陽極處理電解液,將散熱片浸泡於電解槽中並接上陽極,施加預定電壓與電流,促使供作物表面形成氧化層,酸性容液係以25~27%比例的硫酸〔H2SO4〕與純水混合成酸性槽液,且電壓為12~24V〔伏特〕,並控制槽液溫度為21~25℃以內,且散熱片浸 泡之時間為30~40分鐘;(A102)第一次水洗,將散熱片浸泡在常溫之純水中進行洗淨,浸泡時間為5~10秒;(A103)第二次水洗,將散熱片浸泡在常溫之純水中進行洗淨,浸泡時間為5~10秒;(A104)第三次水洗,將散熱片浸泡在常溫之純水中進行洗淨,浸泡時間為30~60秒;而該第一次陽極處理,其染色處理實施之步驟為:(A201)表面調整,將散熱片浸泡在使用酸性藥劑溶液中,去除散熱片表面孔洞殘留之酸污,並調整不均勻的氧化膜,活化氧化膜以提高染色性用途,而調整劑建浴係以4%~8%之濃度酸性藥劑溶液,加熱至45~60℃,且槽液之pH值控制於1.8~2.5之間,將散熱片浸泡1~5分鐘;(A202)第一次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(A203)第二次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(A204)染色,將散熱片浸泡於染色槽中進行第一次染色處理,依照陽極氧化膜之厚度進行多種染料浸泡吸收,依浸泡時間獲得所需之顏色;(A205)第三次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間 為5~10秒;(A206)第四次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;且該第一次陽極處理,其後處理實施之步驟為:(A301)封孔處理,將散熱片浸泡於溫度85~95℃之槽液中,使用熱水或化學封孔藥劑,封閉陽極孔洞成為沒有吸附性的表面,係透過添加5%~10%封孔藥劑與純水混合而成,並控制pH值於5.2~5.8之間,浸泡時間則為10~15分鐘;(A302)水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~60秒;(A303)熱水洗,浸泡潔淨之溫熱水中進行洗淨,且溫熱水溫度為40℃~60℃,浸泡時間為30~60秒;(A304)烘乾,去除散熱片表面水分;(B)散熱片再進行第二次陽極處理,則包括去膜處理之切割技術去除陽極膜、超音波洗淨、陽極處理、染色處理及後處理之步驟,而該第二次陽極處理,其去膜處理實施之步驟為:(B01)去除散熱片表面欲進行二次陽極處理範圍所在表面上之陽極膜,以獲得所需圖形、文字或圖樣範圍之原材質表面,且係透過鑽切、鑽雕或雷射雕刻技術去除陽極膜;(B02)去除第二次陽極處理所需要的載點上的陽極氧化膜,使之顯露出足夠載點夾持導電之原材質表面,係採用雷射雕刻 技術去除陽極膜;至於該第二次陽極處理,其超音波洗淨實施之步驟為:(B11)超音波熱水洗,浸泡常溫之純水中,並以超音波震動進行洗淨,且浸泡時間為1~2分鐘;(B12)水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;且該第二次陽極處理,其陽極處理實施之步驟為:(B21)陽極處理,使用混合硫酸〔H2SO4〕之酸性溶液,作為陽極處理電解液,將散熱片浸泡於電解槽中並接上陽極,施加預定電壓與電流,促使供作物表面形成氧化層,酸性容液係以25~27%比例的硫酸〔H2SO4〕與純水混合成酸性槽液,且電壓為12~24V〔伏特〕,並控制槽液溫度為21~25℃以內,且散熱片浸泡之時間為30~40分鐘;(B22)第一次水洗,將散熱片浸泡在常溫之純水中進行洗淨,浸泡時間為5~10秒;(B23)第二次水洗,將散熱片浸泡在常溫之純水中進行洗淨,浸泡時間為5~10秒;(B24)第三次水洗,將散熱片浸泡在常溫之純水中進行洗淨,浸泡時間為15~20秒;再者,該第二次陽極處理,其染色處理實施之步驟為:(B31)表面調整,將散熱片浸泡在使用酸性藥劑溶液中,去除散 熱片表面孔洞殘留之酸污,並調整不均勻的氧化膜,活化氧化膜以提高染色性用途,而調整劑建浴係以4%~8%之濃度酸性藥劑溶液,加熱至45~60℃,且槽液之pH值控制於1.8~2.5之間,將散熱片浸泡1~5分鐘;(B32)第一次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(B33)第二次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(B34)染色,將散熱片浸泡於染色槽中,進行第二次染色處理,依照陽極氧化膜之厚度進行多種染料浸泡吸收,依浸泡時間獲得所需之顏色;(B35)第三次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;(B36)第四次水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~10秒;另,該第二促陽極處理,其後處理實施之步驟為:(B41)封孔處理,將散熱片浸泡於溫度85~95℃之槽液中,使用熱水或化學封孔藥劑,封閉陽極孔洞成為沒有吸附性的表面,係透過添加5%~10%封孔藥劑與純水混合而成,並控制pH值於5.2~5.8之間,浸泡時間則為10~15分鐘; (B42)水洗,浸泡常溫之純水進行洗淨,水洗浸泡時間為5~60秒;(B43)熱水洗,浸泡潔淨之溫熱水中進行洗淨,且溫熱水溫度為40℃~60℃,浸泡時間為30~60秒;(B44)烘乾,去除散熱片表面水分;(C)完成散熱片之陽極處理加工作業。
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