TWI541126B - 壓塊機 - Google Patents

Description

壓塊機

本發明係針對一種製造壓塊之壓塊機。

習知地，已知一種壓塊機，其包含藉由壓縮自料斗供應之原料來使原料凝固的一對輥且形成壓塊(例如，見專利文獻1及2)。

相關技術之描述

專利文獻

專利文獻1：JPH09-192896

專利文獻2：JPH06-55299

本發明待解決之問題

然而，此壓塊機具有以下問題。亦即，若形成於輥之每一外表面上的凹穴不匹配，則由該機器製造之壓塊有可能具有錯位或毛邊，其降低了壓塊之品質。

使一輥上之凹穴能夠匹配另一輥之凹穴的一種方法為藉由重設輥之位置。但通常，將輥安置於包圍其之框架內。因此，重設輥之位置將需要將降低重設輥之位置之效率的工作。

鑒於此問題，本發明提供一種壓塊機，其可維持壓塊之品質，同時其可增加工作之效率以使一輥之凹穴與另一輥之凹穴匹配。

為了解決該問題，本發明之壓塊機包含：一第一輥及一第二輥，其每一者為環形，使該第一輥之旋轉軸與該第二輥之旋轉軸彼此平行地安置，且每一輥具有處於其外表面上之凹穴，藉此將原料在該第一輥之該等凹穴與該第二輥之該等凹穴之間壓縮；一驅動單元，其產生旋轉驅動力；一第一耦接構件，其將該驅動單元的該旋轉驅動力傳送至該第一輥；輥側上之旋轉構件，其與該第二輥成一體旋轉；驅動單元側上之旋轉構件，其由該驅動單元旋轉；用於沿著該輥側上的該旋轉構件相對於該驅動單元側上的該旋轉構件之旋轉方向調整該輥側上的該旋轉構件之位置之機構；及一第二耦接構件，其將該驅動單元的該旋轉驅動力傳送至該第二輥(下文中稱為第一發明)。

若形成於第一輥之外表面上的凹穴與形成於第二輥上之凹穴不匹配，則具有第一發明之結構的壓塊機能夠藉由沿著輥側上的旋轉構件相對於驅動單元側上的旋轉構件之旋轉方向調整輥側上的旋轉構件之位置來使第一輥之凹穴匹配第二輥之凹穴。位置之調整由安置於第二耦接構件上的用於調整位置之機構進行。因此，本發明之壓塊機可藉由第一輥之凹穴與第二輥之凹穴的協調工作來壓縮原料，該等輥之兩處之凹穴匹配。因此，壓塊之品質得以維持。

另外，通常將第一耦接構件與第二耦接構件曝露於框架上方。因此，藉由在第二耦接構件上安裝一用於調整位置之機構，可改良使凹穴匹配之效率。

根據第一發明之壓塊機經修改為其中用於調整位置之該機構安置於在自在該驅動單元側上的該旋轉構件之中心看的徑向方向上為外側之位置處之壓塊機。用於調整位置之該機構包含：一螺帽，其經安置使得該螺帽之軸線平行於該驅動單元側上的該旋轉構件之切線方向或徑向方向而擺放；一螺釘，其螺固至該螺帽內；及一受壓部分，其形成於該輥側上的該旋轉構件上、該螺釘之尖部接觸該輥側上的該旋轉構件之處，其中按壓力係由當將該螺釘螺固至該螺帽內時該螺釘之該尖部在該輥側上的該旋轉構件之該切線方向或該徑向方向上施加(下文中稱為第二發明)。

在此壓塊機中，若該等輥側上之凹穴不匹配，則使兩處之凹穴能夠匹配之工作可由以下過程執行。即，首先，將獲得螺釘之旋轉與輥側上的旋轉構件相對於驅動單元側上的旋轉構件之旋轉之間的數值相關性。接下來，基於自由第一輥及由第二輥形成之壓塊獲得的關於凹穴之錯位量的資料及如上所述獲得之相關性，計算螺釘之必要的旋轉度。若藉由按如此計算出之旋轉度旋轉螺釘而將螺釘螺固至螺帽內，則受壓部分由螺釘之端部在輥側上的旋轉構件之切線方向上受壓。接著，相對於驅動單元側上的旋轉構件旋轉輥側上的旋轉構件，使得在兩個側上之凹穴匹配。以此方式，與藉由檢驗藉由壓縮原料形成之壓塊進行使凹穴匹配之情況相比，用於使兩處之凹穴匹配的工作之效率得以改良。此係因為本發明之用於使凹穴匹配的工作不需要檢驗壓塊。

根據第二發明之壓塊機經修改為其中用於調整位置之機構在該輥側上的該旋轉構件之外表面之徑向方向上安置至內側且驅動單元側上的旋轉構件之外表面之徑向方向上安置至內側之壓塊機(下文中稱為第三發明)。

對於此壓塊機，用於調整位置之機構在該輥側上的該旋轉構件之外表面之該徑向方向上安置至內側且在該驅動單元側上的該旋轉構件之外表面之該徑向方向上安置至內側。因此，可防止用於調整位置之該機構在輥側上的旋轉構件及驅動單元側上的旋轉構件旋轉的同時接觸處於輥側上的旋轉構件及驅動單元側上的旋轉構件外側之物件。

根據第一發明、第二發明及第三發明中之任一者的壓塊機經修改為包含以下各者之壓塊機：在固定側上之軸承單元，其支撐安置於該第一輥或該第二輥中之任一者上且可與該輥成一體旋轉之一軸構件；在可移動側上之軸承單元，其支撐安置於該第一輥及該第二輥中之另一者上且可與該另一輥成一體旋轉之一軸構件，在該可移動側上之該軸承單元可在該第一輥及該第二輥的半徑之方向上移動，其中其可接觸該固定側上之該軸承單元或可自該固定側上之該軸承單元回縮；一間隔片，其調整間隙，該間隔片安置於該固定側上之該軸承單元與該可移動側上之該軸承單元之間，且其將在該第一輥與該第二輥之間形成一間隙；一液壓缸，其安置於與該固定側上之該軸承單元相對之側上，其中該可移動側上之該軸承單元擺放於其間，該液壓缸按其軸線在與該第一輥之該半徑及該第二輥之該半徑共同的線之方向上定位之方式安置，該等半徑中之每一者垂直於該第一輥之旋轉軸及該第二輥之旋轉軸，且該液壓缸具有一缸桿，該缸桿在一端上具有用於調整軸線方向上的位置之構件；一壓力偵測裝置，其安置於該缸桿之另一端與該可移動側上之該軸承單元之間，且偵測在該缸桿之另一端與該可移動側上之該軸承單元之間的壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機(feeder screw)，其安置於該料斗內，該螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動，一變速控制馬達，其驅動該給料螺旋機，及一控制單元，其按對應於由該壓力偵測器偵測到的壓力之增加或減小而減小或增加該給料螺旋機之旋轉之方式控制該變速控制馬達。

舉例而言，對於此壓塊機，給料螺旋機之旋轉根據在缸桿之另一端與可移動側上之軸承單元之間的壓力之增加或減小而減小或增加。若在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力基於自料斗供應的原料之密度或流動性而波動，則壓力將增加或減小。以此方式，可控制在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力。因此，可使厚度之分佈及壓塊之重量均勻。

根據第一發明、第二發明及第三發明中之任一者的壓塊機經修改為包含以下各者之壓塊機：第一輥及第二輥，其中之一者固定於其半徑之方向上，且其中之另一者可在其半徑之方向上接觸該第一輥及該第二輥中之該一者且可自該一者回縮；一液壓缸，若按該第一輥及該第二輥中之該一者自該第一輥及該第二輥中之該另一者回縮之方式將力施加於該第一輥及該第二輥中之該另一者上，則該液壓缸在該第一輥及該第二輥中之該另一者上施加該壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該給料螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動；一變速控制馬達，其旋轉該給料螺旋機；一偵測器，其偵測該給料螺旋機將該原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動之壓力；及一控制單元，其控制該變速控制馬達，使得該給料螺旋機之該旋轉根據由該偵測器偵測到的值而減小或增加(下文中稱為第五發明)。

舉例而言，對於此壓塊機，給料螺旋機之旋轉根據給料螺旋機將原料向下且在第一輥與第二輥之間推動的壓力之增加或減小而減小或增加。若在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力基於自料斗供應的原料之密度或流動性而波動，則壓力增加或減小。

以此方式，可控制在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力之波動。因此，可使厚度之分佈及壓塊之重量均勻。

根據第五發明的壓塊機經修改為偵測器為壓力偵測器之壓塊機(下文中稱為第六發明)。

可更易於控制此壓塊機，此係因為與按電流值偵測壓力之偵測器相比，其更準確地偵測壓力。

根據第一發明、第二發明及第三發明中之任一者的壓塊機經修改為包含以下各者之壓塊機：第一輥及第二輥，其中之一者固定於其半徑之方向上，且其中之另一者可在其半徑之方向上接觸該第一輥及該第二輥中之該一者且可自該一者回縮；一液壓缸，若按該第一輥及該第二輥中之該一者自該第一輥及該第二輥中之該另一者回縮之方式將力施加於該第一輥及該第二輥中之該另一者上，則該液壓缸在該第一輥及該第二輥中之該另一者上施加該壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動；一變速控制馬達，其旋轉該給料螺旋機；一偵測器，其偵測安置於一驅動單元處的驅動馬達之驅動電流；及一控制單元，其控制該變速控制馬達，使得該給料螺旋機之該旋轉根據由該偵測器偵測到的值而減小或增加(下文中稱為第七發明)。

舉例而言，對於此壓塊機，在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力基於自料斗供應的原料之密度或流動性而波動，因此，給料螺旋機之旋轉對應於安置於驅動單元處的驅動馬達之驅動電流之增加或減小而減小或增加。

以此方式，可控制在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力之波動。因此，可使厚度之分佈及壓塊之重量均勻。

根據第七發明的壓塊機經修改為偵測器為電流偵測器之壓塊機(第八發明)。

此壓塊機比使用壓力偵測器之壓塊機價格低廉。

根據第一發明、第二發明及第三發明中之任一者的壓塊機經修改為包含以下各者之壓塊機：第一輥及第二輥，其中之一者固定於其半徑之方向上，且其中之另一者可在其半徑之方向上接觸該第一輥及該第二輥中之該一者且可自該一者回縮；一液壓缸，若按該第一輥及該第二輥中之該一者自該第一輥及該第二輥中之該另一者回縮之方式將力施加於該第一輥及該第二輥中之該另一者上，則該液壓缸在該第一輥及該第二輥中之該另一者上施加該壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動；一變速控制馬達，其旋轉該給料螺旋機；一偵測器，其偵測安置於一驅動單元處的驅動馬達之功率消耗；及一控制單元，其控制該變速控制馬達，使得該給料螺旋機之該旋轉根據由該偵測器偵測到的值而減小或增加(下文中稱為第九發明)。

舉例而言，對於此壓塊機，給料螺旋機之旋轉對應於安置於驅動單元處的驅動馬達之功率消耗之增加或減小而減小或增加。若在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力視自料斗供應的原料之密度或流動性而波動，則功率消耗增加或減小。

以此方式，可控制在第一輥與第二輥之間壓縮原料之力之波動。因此，可使厚度之分佈及壓塊之重量均勻。

根據第九發明的壓塊機經修改為其中偵測器為功率計之壓塊機(下文中稱為第十發明)。

此壓塊機比使用壓力偵測器之壓塊機價格低廉。另外，與電流偵測器相比，可由功率消耗偵測器進行較準確的控制，此係因為其不受電壓影響。

因此，藉由本發明之壓塊機，可維持壓塊之品質，同時可改良使凹穴匹配之效率。

以下藉由參看圖式解釋本發明之實施例。

如自圖1、圖2及圖3看出，本發明之第一實施例之壓塊機10包含第一輥12、第二輥14、驅動單元16、第一耦接構件18、第二耦接構件20、料斗22、給料螺旋機24及變速控制馬達26。

第一輥12及第二輥14安置於框架27中。第一輥12及第二輥14兩者皆形成為一環，且其係按使得其旋轉軸L1、L2彼此平行之方式安置。如圖4中所示，複數個凹穴28、30分別形成於第一輥12及第二輥14之外表面12A、14A上。第一輥12之複數個凹穴28及第二輥14之複數個凹穴30按以下方式分別形成於外表面12A及14A之位置處：兩處之凹穴沿著輥之環形之圓周匹配。

如圖2及圖3中所示，驅動單元16包含一驅動馬達32及一減速器34。該減速器包含彼此平行安置之一對軸出軸36、38。第一耦接構件18將輸出軸中之一者36連接至第一輥12。第二耦接構件20將輸出軸中之另一者38連接至第二輥14。

如圖5中所示，料斗22安置於第一輥12及第二輥14上方。給料螺旋機24安置於料斗22內。從動機構39安裝於給料螺旋機24上方。

當驅動驅動單元16時，藉由分別藉由第一耦接構件18及第二耦接構件20而傳送至第一輥12及第二輥14的驅動單元16之旋轉驅動力，壓塊機10使第一輥12及第二輥14在相反方向上旋轉。接著，若旋轉變速控制馬達26，則經由從動機構39將其旋轉力傳送至給料螺旋機24，藉此旋轉給料螺旋機24且向下且在第一輥12與第二輥14之間推動料斗22中之原料。接著，自原料產生壓塊，該等壓塊由凹穴28及30之協調操作來壓縮，且接著經凝固。

更特定言之，如圖6中所示，第一輥12由固定構件42固定至旋轉軸構件40之外表面40A。軸構件44在第一輥12之軸線之方向上在該輥之每一側上形成於旋轉軸構件40上，軸構件44具有與第一輥12相同的軸線。每一對軸構件44由在可移動側上之軸承單元46支撐。

又，輥側上之連接單元48形成於軸構件44中較之於第一輥12更靠近第一耦接構件18而安置的軸構件上，輥側上之連接單元48具有與軸構件44中之該軸構件之軸線相同的軸線。

如由圖6中之圓括號中的數字展示，與第一輥12相同，第二輥14由固定構件52固定至旋轉軸構件50之外表面50A。軸構件54在第二輥14之軸線之方向上在該輥之每一側上形成於每一旋轉軸構件50上，軸構件54具有與第二輥14相同的軸線。該對軸構件54中之每一者由固定側上之軸承單元56支撐。又，輥側上之連接單元58形成於軸構件54中較之於第二輥14更靠近第二耦接構件20而安置的軸構件上。

如圖7中所示，更特定言之，第二耦接構件20包含輥側上之固定構件62、輥側上之旋轉構件64、驅動單元側上之旋轉構件66、驅動單元側上之固定構件68及套管67、69。此等構件經置放使得其具有共同的軸線或具有彼此平行之不同軸線。

驅動單元側上之旋轉構件66置放於一位置中，使得其具有與輥側上之連接單元58共同的軸線或具有不同軸線，亦即，平行於輥側上之連接單元58之軸線的軸線。驅動單元側上之旋轉構件66可相對於輥側上之連接單元58旋轉。

輥側上之固定構件62經固定，使得其可與輥側上之連接單元58成一體旋轉。輥側上之旋轉構件64藉由螺釘70及螺帽72固定至與輥側上之固定構件62嚙合的套管67，且可與套管67成一體旋轉。輥側上之旋轉構件64可相對於驅動單元側上之旋轉構件66順時針或逆時針旋轉，使得其可安置於相對於驅動單元側上之旋轉構件66之位置移位的位置處。

驅動單元側上之固定構件68固定至驅動單元16之輸出軸38，且可與驅動單元16成一體旋轉。驅動單元側上之旋轉構件66藉由螺釘74及螺帽76固定至與驅動單元側上之固定構件68嚙合的套管69，且可與套管69成一體旋轉。

輥側上之旋轉構件64與驅動單元側上之旋轉構件66由螺釘78及螺帽80固定在一起，且可成一體旋轉。螺釘78穿過的驅動單元側上的旋轉構件66之孔82為圓形，且螺釘78穿過的輥側上的旋轉構件64之孔84為(如圖8中所示)沿著輥側上之旋轉構件64之圓周延伸的長孔。因此，當放鬆螺釘78與螺帽80之間的緊固時，輥側上之旋轉構件64可相對於驅動單元側上的旋轉構件66順時針或逆時針旋轉至螺釘78可在沿著輥側上之旋轉構件64之圓周延伸的長孔內移動的程度。因此，輥側上之旋轉構件64可安置於相對於驅動單元側上的旋轉構件66之位置移位的位置處。

用於調整位置之機構86置放於第二耦接構件20上，且在輥側上之旋轉構件64及驅動單元側上之旋轉構件66的各別外表面64A、66A之徑向方向上處於內側。如圖7及圖8中所示，用於調整位置之機構86包含一螺帽88、一螺釘90及一受壓部分92。

如圖8中所示，輥側上之旋轉構件64具有在外表面上開放之凹形部分94，且具有在凹形部分內之螺帽88及螺釘90。如圖7中所示，螺帽88具有沿著第二耦接構件20之軸線形成的一對固定插銷96、98。

一固定插銷96與形成於驅動單元側上之旋轉構件66上的嚙合孔100嚙合，且另一固定插銷98與形成於套管67之凸緣101上的嚙合孔102嚙合。因此，螺帽88相對於驅動單元側上的旋轉構件66及套管67為固定的。又，螺帽88在驅動單元側上的旋轉構件66之旋轉中心之徑向方向上安置於外側上，且具有在驅動單元側上的旋轉構件66之切線方向上的軸線。螺釘90與螺帽88嚙合。

如圖8中所示，受壓部分92由凹形部分94之內側壁形成，且其為凹形部分94之一部分。其在輥側上的旋轉構件64之徑向方向上延伸。受壓部分92具有螺釘90的按壓於其上之端部。對於用於調整位置之機構86，當將螺釘90螺固至螺帽88內時，與螺釘90之推進成比例地產生在輥側上之旋轉構件64之切線方向上的在螺釘90之端部處的按壓力F。因此，當放鬆螺帽78與螺釘80之間的緊固時，且若將螺釘90螺固至螺帽88內，則可調整輥側上的旋轉構件64在旋轉方向上相對於驅動單元側上的旋轉構件66之位置的位置。

如圖9中所示，可在第一輥12及第二輥14之徑向方向(X方向)上相對於固定側上之軸承單元56移動可移動側上之軸承單元46。因此，其可接觸固定側上之軸承單元56，或自固定側上之軸承單元56回縮。用於調整間隙之間隔片104設於固定側上之軸承單元56與可移動側上之軸承單元46之間，從而提供第一輥12與第二輥14之間的間隙。該間隙由用於調整間隙之間隔片104的寬度調整。

液壓缸106安置於與固定側上之軸承單元56相反的側上，其中可移動側上之軸承單元46擺放於其間。液壓缸106係按以下方式安置：在與第一輥12之半徑及第二輥14之半徑共同的線之方向上定位其軸線，該等半徑中之每一者垂直於第一輥12之旋轉軸及第二輥14之旋轉軸。

液壓缸106包含一缸體108及一缸桿110。缸體108固定至外殼112之包含固定側上之軸承單元56、可移動側上之軸承單元46、第一輥12、第二輥14等之側。缸桿110具有在其在縱向方向上之中間部分處的活塞構件114，該活塞構件114容納於缸體108中。

在缸桿110之一端上形成一螺桿構件116，其螺固至調整螺帽118內。調整螺帽118接觸與缸體108之外殼112相對的壁。螺桿構件116及調整螺帽118構成位置調整構件120，其中藉由控制螺桿構件116至調整螺帽118內之推進來調整缸桿110在軸向方向上的位置。

壓力偵測器124固定於可移動側上的軸承單元46之側壁上，該壁係與固定側上之軸承單元56相對地定位。此壓力偵測器124安置於缸桿110之另一端與可移動側上的軸承單元46之間，其中缸桿110之另一端接觸壓力偵測器124。在缸桿110之另一端與可移動側上的軸承單元46之間產生的壓力由壓力偵測器124偵測。來自壓力偵測器124之輸出信號經由加法器及放大器進入控制單元126。

如此構成之壓塊機10具有由用於調整間隙之間隔片104在於第一輥12與第二輥14之間不產生壓力負載的條件下設定的在第一輥12與第二輥14之間的間隙。同時，缸桿110之另一端之位置經調整，使得其接觸壓力偵測器124。在此刻，無輸出信號自壓力偵測器124發送。接下來，藉由將液壓油注入缸體108之活塞構件114之一側內來固定缸桿110之位置。

若在第一輥12與第二輥14之間供應原料，且若開始在第一輥12及第二輥14上產生壓力，則在缸桿110之另一端與可移動側上之軸承單元46之間產生的壓力由壓力偵測器124偵測到。對應於壓力之信號經由加法器及放大器(圖中未示)進入控制單元126(圖11之步驟S1)。

控制單元126判定由壓力偵測器124偵測到之值是否在預定義之範圍內(圖11之S2)。若偵測到之值在預定義之範圍內，則維持給料螺旋機24之旋轉。

若控制單元126判定由壓力偵測器124偵測到之值大於預定義之值(圖11之S3)，則變速控制馬達26經控制，使得降低給料螺旋機24之旋轉(圖11之S4)。若偵測到之值小於預定義之值，則變速控制馬達26經控制，使得增加給料螺旋機24之旋轉(圖11之S5)。

若由於(例如)混合於正***於第一輥12與第二輥14之間的原料中之一些夾雜物而在第一輥12與第二輥14之間產生任何不規則的過多壓力，則經由可移動側上之軸承單元46、襯套122及壓力偵測器124將由過多壓力造成的衝擊震動傳動至缸桿110。接著，缸桿110抵抗液壓油之阻力而移動，且吸收衝擊震動。

接下來，解釋在本發明之一實施例中獲得的操作及效應。

若分別形成於第一輥12及第二輥14之外表面12A及14A上的凹穴28及30不匹配，則壓塊機10能夠藉由相對於驅動單元側上之旋轉構件66調整輥側上之旋轉構件64的旋轉方向上之位置(藉由設於第二耦接構件20上的用於調整位置之機構86)而使凹穴28與30匹配。因此，壓塊機10可藉由用匹配之凹穴28與30壓縮原料來形成壓塊，使得可維持壓塊之品質。

又，通常，第一耦接構件18及第二耦接構件20曝露在框架27外。因此，藉由在第二耦接構件20處安裝用於調整位置之機構86，使凹穴28與30匹配之效率得以改良。

在本發明之壓塊機10之實施例中，若凹穴28與30不匹配，則(例如)可應用以下程序以便使凹穴28與30能夠匹配。亦即，首先，將獲得(1)螺釘90之旋轉與(2)輥側上的旋轉構件64相對於驅動單元側上的旋轉構件66之旋轉之間的數值相關性。接下來，自凹穴28與30之間的錯位量(如自由第一輥12及第二輥14製造之壓塊獲得)及如此獲得之數值相關性，計算需要的螺釘90之旋轉度。藉由按計算出之旋轉度旋轉螺釘90且將其螺固至螺帽88內，在輥側上之旋轉構件64之切線方向上將在螺釘90之端部處的按壓力F施加於受壓部分92上，藉此相對於驅動單元側上之旋轉構件66旋轉輥側上之旋轉構件64，使得將凹穴28與30引向匹配。以此方式，基於所製造之壓塊機，可在並不實際上決定凹穴28與30是否匹配之情況下使凹穴28與30匹配。因此，使凹穴28與30匹配的工作之效率得以改良。

用於調整位置之機構86位於向著分別在輥側上之旋轉構件64及驅動單元側上之旋轉構件66的外表面64A及66A之內側之位置處。因此，可防止用於調整位置之機構86接觸置放於輥側上之旋轉構件64及驅動單元側上之旋轉構件66外側的任何物件(當其正旋轉時)。

另外，若產生於缸桿110之另一端與可移動側上之軸承單元46之間的壓力對應於壓縮固持於第一輥12與第二輥14之間的原料之力之改變而變化(該壓縮力取決於由料斗22供應的原料之密度及流動性而改變)，則壓力之此變化增加或減小給料螺旋機24之旋轉度。因此，變得有可能抑制壓縮固持於第一輥12與第二輥14之間的原料之力之改變，藉此可維持厚度之分佈及壓塊之重量之均勻性。

又，用作偵測器之壓力偵測器124可比使用電流之偵測器更準確地偵測壓力。因此，其可更易於加以控制。

接下來，解釋一替代實施例。

在以上解釋之實施例中，給料螺旋機24之旋轉經控制，使得其取決於在缸桿110之另一端與可移動側上之軸承單元46之間的壓力之增加或減小而增加或減小。但亦可使用具有以下結構之壓塊機。

亦即，如圖12及圖13(其說明一經修改之實施例)中所示，第一輥12可在徑向方向上接觸第二輥14且可自第二輥14回縮。另外，若按第二輥14自第一輥回縮之方式產生力，則第一輥12由液壓缸128加壓以移動。在料斗22之底端提供一壓力偵測器130，其偵測當藉由給料螺旋機24將原料向下且在第一輥12與第二輥14之間推動時之壓力。在此實施例中，變速控制馬達26由控制單元126控制，使得給料螺旋機24之旋轉對應於由壓力偵測器130偵測到的值之增加或減小而減小或增加。

藉由如此構成的替代實施例之壓塊機，若藉由給料螺旋機24將原料向下、在第一輥12與第二輥14之間推動時之壓力對應於壓縮固持於第一輥12與第二輥14之間的原料之力之改變而變化(該力壓縮取決於由料斗22供應的原料之密度及流動性而改變)，則壓力之此變化減小或增加給料螺旋機24之旋轉度。因此變得有可能抑制壓縮固持於第一輥12與第二輥14之間的原料之力之改變，藉此可維持厚度之分佈及壓塊之重量之均勻性。

如圖14中所示，偵測驅動馬達32之電流的電流偵測器132或偵測驅動馬達32之功率消耗的電功率偵測器133可用作偵測器，其連接至控制單元126及驅動馬達32兩者且定位於兩者間。變速控制馬達26可由控制單元126控制，使得給料螺旋機24之旋轉對應於由電流偵測器132或電功率偵測器133偵測到的值之增加或減小而減小或增加。

若將電流偵測器132用作偵測器，則與當使用壓力偵測器時之成本相比，其將降低成本。若使用電功率偵測器133，則與當使用壓力偵測器時之成本相比，其將降低成本。不受電壓影響之電功率偵測器133可達成比電流偵測器132可達成之控制準確的控制。

如圖8中所示，在以上提到之實施例中，按以下方式安置螺帽88：其具有其在驅動單元側上的旋轉構件66之切線方向上延行之軸線。受壓部分92在輥側上之旋轉構件64之徑向方向上延伸。然而，如圖15中所示，可按以下方式定位螺帽88：其具有其在驅動單元側上的旋轉構件66之徑向方向上延行之軸線。可按以下方式定位受壓部分92：其對照輥側上之旋轉構件64之徑向方向及切線方向而傾斜。

即使按此方式構成用於調整位置之機構，但藉由按先前計算之旋轉度旋轉螺釘90且藉由將其螺固至螺帽88內，獲得抵抗受壓部分92而產生的在螺釘90之端部處的按壓力之分力F，其中在輥側上之旋轉構件64之切線方向上產生分力F。因此，分力F可相對於驅動單元側上的旋轉構件66旋轉輥側上之旋轉構件64，藉此可使凹穴28與30匹配。

在以上論述之實施例中，作為連接至具有用於調整位置之機構86的第二耦接構件20之輥，使用第二輥14，第二輥14處於在固定側上之軸承單元56側上。但亦可使用安置於連接至處於可移動側上之軸承單元46上之第一輥12的第一耦接構件上之用於調整位置之機構86。

雖然已說明及描述本發明之特定實施例，但對熟習此項技術者將顯而易見，在不脫離本發明之精神及範疇之情況下，可進行各種其他改變及修改。因此，希望在隨附申請專利範圍中涵蓋處於本發明之範疇內的所有此等改變及修改。

2011年2月28日申請之基本日本專利申請案第2011-042973號在此以引用的方式全部併入本申請案中。

自此說明書之詳細描述，將變得更充分地理解本發明。然而，詳細描述及特定實施例說明本發明之所要的實施例，且僅為了解釋之目的而描述。基於詳細描述，各種可能改變及修改將對一般熟習此項技術者顯而易見。

本申請者並不意欲將任何揭示之實施例公開透露。在揭示之改變及修改中，字面上可能不屬於本申請專利範圍之範疇的彼等者因此構成本發明之一部分(在等效物之教義之意義上)。

在說明書及申請專利範圍中的詞「一」及「該(等)」及類似指示物之使用將被解釋為涵蓋單數及複數兩者，除非在本文中另有指示或上下文另有清晰的否認。任何及所有實例或本文中提供之例示性語言(例如，「諸如」)之使用僅意欲更佳地闡述本發明，且並不對本發明之範疇外加限制，除非另有主張。

10．．．壓塊機

12．．．第一輥

12A．．．第一輥之外表面

14．．．第二輥

14A．．．第二輥之外表面

16．．．驅動單元

18．．．第一耦接構件

20．．．第二耦接構件

22．．．料斗

24．．．給料螺旋機

26．．．變速控制馬達

27．．．框架

28．．．凹穴

30．．．凹穴

32．．．驅動馬達

34．．．減速器

36．．．軸出軸

38．．．軸出軸

39．．．從動機構

40．．．旋轉軸構件

40A．．．旋轉軸構件之外表面

42．．．固定構件

44．．．軸線

46．．．可移動側上之軸承單元

48．．．輥側上之連接單元

50．．．旋轉軸構件

50A．．．旋轉軸構件之外表面

52．．．固定構件

54．．．軸線

56．．．固定側上之軸承單元

58．．．輥側上之連接單元

62．．．輥側上之固定構件

64．．．輥側上之旋轉構件

64A．．．輥側上之旋轉構件的外表面

66．．．驅動單元側上之旋轉構件

66A．．．驅動單元側上之旋轉構件的外表面

67．．．套管

68．．．驅動單元側上之固定構件

69．．．套管

70．．．螺釘

72．．．螺帽

74．．．螺釘

76．．．螺帽

78．．．螺釘

80．．．螺帽

82．．．孔

84．．．孔

86．．．用於調整位置之機構

88．．．螺帽

90．．．螺釘

92．．．受壓部分

94．．．凹形部分

96．．．固定插銷

98．．．固定插銷

100．．．嚙合孔

101．．．凸緣

102．．．嚙合孔

104．．．用於調整間隙之間隔片

106．．．液壓缸

108．．．缸體

110．．．缸桿

112．．．缸體之外殼

114．．．活塞構件

116．．．螺桿構件

118．．．調整螺帽

120．．．位置調整構件

122．．．襯套

124．．．壓力偵測器

126．．．控制單元

128．．．液壓缸

130．．．壓力偵測器(偵測器)

132．．．電流偵測器(偵測器)

133．．．電功率偵測器

圖1為在本發明之一實施例中的壓塊機之前視圖。

圖2為圖1之壓塊機之右側視圖。

圖3為圖1之壓塊機之平面圖。

圖4為圖1之壓塊機之第一輥及第二輥之立體圖。

圖5為圖1之壓塊機之料斗及給料螺旋機之橫截面。

圖6為圖1之壓塊機之第一輥及其周圍區域之橫截面側視圖。

圖7為圖1之第二耦接構件及其周圍區域之橫截面側視圖。

圖8為如在F方向上看到的第二耦接構件之視圖。

圖9為與圖1中展示之壓塊機不同的壓塊機之固定輥及可移動輥及其周圍環境之平面圖。

圖10為圖9中展示的固定輥及可移動輥及其周圍環境之前視圖，包括其中之每一者之一部分之橫截面圖。

圖11為展示由控制單元進行的操作序列之圖。

圖12為圖1之壓塊機之第一替代實施例。

圖13為圖12之主要部分之放大圖。

圖14為圖1之壓塊機之第二替代實施例。

圖15為圖1之用於調整位置的機構之替代實施例。

16．．．驅動單元

20．．．第二耦接構件

38．．．軸出軸

58．．．輥側上之連接單元

62．．．輥側上之固定構件

64．．．輥側上之旋轉構件

64A．．．輥側上之旋轉構件的外表面

66．．．驅動單元側上之旋轉構件

66A．．．驅動單元側上之旋轉構件的外表面

67．．．套管

68．．．驅動單元側上之固定構件

69．．．套管

70．．．螺釘

72．．．螺帽

74．．．螺釘

76．．．螺帽

78．．．螺釘

80．．．螺帽

82．．．孔

84．．．孔

86．．．用於調整位置之機構

88．．．螺帽

90．．．螺釘

96．．．固定插銷

98．．．固定插銷

100．．．嚙合孔

101．．．凸緣

102．．．嚙合孔

Claims (10)

1. 一種壓塊機，其包含：一第一輥及一第二輥，其每一者為環形，使該第一輥之旋轉軸與該第二輥之旋轉軸彼此平行地安置，且每一輥具有處於其外表面上之凹穴，藉此將原料在該第一輥之該等凹穴與該第二輥之該等凹穴之間壓縮；一驅動單元，其產生用於一旋轉驅動力；一第一耦接構件，其將該驅動單元之該旋轉驅動力傳送至該第一輥；輥側上之一旋轉構件，其與該第二輥成一體旋轉；驅動單元側上之一旋轉構件，其由該驅動單元旋轉，用於沿著該輥側上的該旋轉構件相對於該驅動單元側上的該旋轉構件之旋轉方向調整該輥側上的該旋轉構件之位置之一機構；及一第二耦接構件，其將該驅動單元之該旋轉驅動力傳送至該第二輥。
2. 如申請專利範圍第1項之壓塊機，其中用於調整該位置之該機構安置於在如自該驅動單元側上的該旋轉構件之中心看的徑向方向上向著外側之位置處，用於調整該位置之該機構包含：一螺帽，其經安置使得該螺帽之軸線平行於該驅動單元側上的該旋轉構件之切線方向或該徑向方向擺放；一螺釘，其螺固於螺帽內；及一受壓部分，其形成於該輥側上的該旋轉構件上、該螺釘之尖部接觸該輥上的該旋轉構件之處，其中按壓力係由當將該螺釘螺固至該螺帽內時該螺釘之該尖部在該輥側上的該旋轉構件之該切線方向或該徑向方向上施加。
3. 如申請專利範圍第2項之壓塊機，其中用於調整該位置之該機構在該輥側上的該旋轉構件之外表面之該徑向方向上安置至內側且在該驅動單元側上的該旋轉構件之外表面之該徑向方向上安置至內側。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之壓塊機，其中該壓塊機包含：固定側上之一軸承單元，其支撐一軸構件，該軸構件安置於該第一輥或該第二輥中之任一者上且可與該輥成一體旋轉；可移動側上之一支撐單元，其支撐一軸構件，該軸構件安置於該第一輥及該第二輥中之另一者上且可與另一輥成一體旋轉，該可移動側上之該軸承單元可在該第一輥及該第二輥的半徑之方向上移動，其中其可接觸該固定側上之該軸承單元或可自該固定側上之該軸承單元回縮；一間隔片，其調整間隙，該間隔片安置於該固定側上之該軸承單元與該可移動側上之該軸承單元之間，且其將在該第一輥與該第二輥之間形成一間隙；一油壓缸，其安置於與該固定側上之該軸承單元相對之側上，其中該可移動側上之該軸承單元擺放於其間，該液壓缸係按其軸線在與該第一輥之該半徑及該第二輥之該半徑共同的線之方向上定位之方式安置，該等半徑中之每一者垂直於該第一輥之旋轉軸及該第二輥之旋轉軸，且該液壓缸具有一缸桿，該缸桿在一端上具有用於調整軸線方向上的位置之一構件；一壓力偵測裝置，其安置於該缸桿之另一端與該可移動側上之該軸承單元之間，且其偵測在該缸桿之另一端與該可移動側上之該軸承單元之間的壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之該原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動，一變速控制馬達，其驅動該給料螺旋機，及一控制單元，其按對應於由該壓力偵測器偵測到的該壓力之增加或減小而減小或增加該給料螺旋機之旋轉之方式控制該變速控制馬達。
5. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之壓塊機，其中該壓塊機包含：該第一輥及該第二輥，其中之一者固定於其半徑之該方向上，且其中之另一者可在其半徑之該方向上接觸該第一輥及該第二輥中之該一者且可自該一者回縮；一液壓缸，若按該第一輥及該第二輥中之該一者自該第一輥及該第二輥中之該另一者回縮之方式將該力施加於該第一輥及該第二輥中之該另一者上，則該液壓缸在該第一輥及該第二輥中之該另一者上施加該壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該給料螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之該原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動；一變速控制馬達，其旋轉該給料螺旋機；一偵測器，其偵測該給料螺旋機將該原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動之該壓力；及一控制單元，其控制該變速控制馬達，使得該給料螺旋機之該旋轉根據由該偵測器偵測到的值而減小或增加。
6. 如申請專利範圍第5項之壓塊機，其中該偵測器為一壓力偵測器。
7. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之壓塊機，其中該壓塊機包含：該第一輥及該第二輥，其中之一者固定於其半徑之該方向上，且其中之另一者可在其半徑之該方向上接觸該第一輥及該第二輥中之該一者且可自該一者回縮；一液壓缸，若按該第一輥及該第二輥中之該一者自該第一輥及該第二輥中之該另一者回縮之方式將該力施加於該第一輥及該第二輥中之該另一者上，則該液壓缸在該第一輥及該第二輥中之該另一者上施加該壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之該原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動；一變速控制馬達，其旋轉該給料螺旋機；一偵測器，其偵測安置於一驅動單元處的驅動馬達之驅動電流；及一控制單元，其控制該變速控制馬達，使得該給料螺旋機之該旋轉根據由該偵測器偵測到的值而減小或增加。
8. 如申請專利範圍第7項之壓塊機，其中該偵測器為一電流偵測器。
9. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之壓塊機，其中該壓塊機包含：該第一輥及該第二輥，其中之一者固定於其半徑之該方向上，且其中之另一者可在其半徑之該方向上接觸該第一輥及該第二輥中之該一者且可自該一者回縮；一液壓缸，若按該第一輥及該第二輥中之該一者自該第一輥及該第二輥中之該另一者回縮之方式將該力施加於該第一輥及該第二輥中之該另一者上，則該液壓缸在該第一輥及該第二輥中之該另一者上施加該壓力；一料斗，其安置於該第一輥及該第二輥上；一給料螺旋機，其安置於該料斗內，該螺旋機藉由旋轉該螺旋機而將該料斗內之該原料向下且在該第一輥與該第二輥之間推動；一變速控制馬達，其旋轉該給料螺旋機；一偵測器，其偵測安置於一驅動單元處的該驅動馬達之功率消耗；及一控制單元，其控制該變速控制馬達，使得該給料螺旋機之該旋轉根據由該偵測器偵測到的值而減小或增加。
10. 如申請專利範圍第9項之壓塊機，其中該偵測器為一功率計。