TWI510366B - 光學薄膜 - Google Patents

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Description

光學薄膜
本發明係有關一種光學薄膜。更具體本發明係有關一種具有聚胺甲酸酯塗層的光學薄膜，以提供對硬質塗層的優良接著力及高溫、高濕度下的優良接著力(耐熱、耐濕性)，同時抑制螢光燈下的彩虹現象；其中該聚胺甲酸酯塗層包括形成在基膜(base film)一表面或兩表面上的高折射無機材料。
光學薄膜既已用於顯示螢幕如觸控式面板、液晶顯示器(LCD)、電視或電腦之陰極射線管(CRT)、電漿顯示器等。
光學薄膜係要求優良的透明度及可見度，並使用具有機械特性與電氣特性的雙軸拉伸聚酯薄膜作為基膜。
雙軸拉伸聚酯薄膜於表面硬度、抗磨損力或刮痕抗性方面並不充分，因此其表面容易由摩擦及與物體接觸而受損，為避免此發生而將硬質塗層層疊於薄膜表面上。又為改善基體(即聚酯薄膜與硬質塗層)之間的接著力，則將作為中間層的塗層配置在聚酯薄膜上。
作為用於改善基體層與硬質塗層之間的接著力的中間層，一般係使用丙烯酸酯樹脂或胺甲酸酯樹脂。然而，當使用所述樹脂形成塗層時折射率為1.5左右，其與雙軸拉伸聚酯薄膜的表面折射率1.66差異甚大。因此，干擾之不良現象，即彩虹現象便因聚酯薄膜的表面與中間層間的外部光反射而產生。當彩虹現象產生在顯示構件上時，其會使可見度惡化並引起視覺疲勞(eye fatigue)，因此便需有一種用於改善彩虹現象的方法。
本發明係有關於一種光學雙軸拉伸聚酯薄膜。更具體地，本發明係提供一種無彩虹現象的光學薄膜。
詳言之，本發明係提供一種光學薄膜，其於高溫、高濕度下具有對硬 質塗層的優良接著力，且塗佈於硬質塗層時可抑制彩虹現象。
為達所述目的，本發明係有關於一種光學薄膜，其中使高折射填料(折射率為2.0或2.0以上)含於折射率為1.54~1.59的聚胺甲酸酯塗層中。
本發明者等人業已對控制光學薄膜(亦即聚胺甲酸酯塗層對折射率為約1.64的基膜，即雙軸拉伸聚酯薄膜)之塗層的折射率的方法進行研究。因此，當折射率為1.54~1.59的聚胺甲酸酯接著劑包含0.5~30wt%之折射率為2.0或2.0以上(更佳折射率為2.0~2.3)的高折射填料時，本發明者等人發現聚胺甲酸酯塗層的折射率近似於基膜的折射率，如此便可改善彩虹現象。由此，本發明者等人即基於該發現而完成本發明。
即，本發明包括：聚胺甲酸酯塗層，其包含作為塗佈在基膜及其一表面或兩表面上之塗層的高折射填料；並包含芳香族異氰酸酯化合物，以滿足聚胺甲酸酯接著劑的折射率為1.54~1.59之範圍。此時，本發明者等人發現：使25~90wt%的芳香族異氰酸酯化合物含於異氰酸酯的總含量中時，可滿足該折射率。由此，本發明者等人即基於該發現而完成本發明。當折射率小於1.54時，其與基膜的折射率差甚大而使得彩虹現象更趨明顯。為增大折射率，則高折射填料的含量需高於本發明之範圍，而使得薄膜的製造過程中塗佈外觀上的不良發生率更趨嚴重，並因成本增加而使商業價值降低。此外，當折射率超過1.59時，使用過量的芳香族異氰酸酯化合物以使多元醇與異氰酸酯間的當量比不同，由於使用大量的芳香基團，使得未反應的材料殘留而造成塗佈不均，並使基膜與硬質塗層間的接著力弱化。
詳言之，本發明係使多元醇與包括至少一種具以下化學式1之芳香族異氰酸酯化合物的異氰酸酯化合物反應來製備折射率為1.54~1.59的聚胺甲酸酯接著劑。同時，本發明係有關於一種光學薄膜，其中包含高折射無機填料的聚胺甲酸酯塗佈組成物係塗佈在基膜的一表面或兩表面上。
[化學式1]OCN-Ar-NCO
(上述化學式1中，Ar表示由C1-C5烷基取代或未取代的C6-C30伸芳基)
詳言之，上述化學式1中，Ar可為萘或菲。
本發明中，25~90wt%的芳香族異氰酸酯化合物可含於異氰酸酯的總含量中。當使用處於此範圍的芳香族異氰酸酯化合物時，折射率便滿足1.54~1.59的範圍。特別是本發明可使用萘二異氰酸酯作為上述化學式1的芳香族異氰酸酯化合物。
多元醇可使用聚酯系多元醇或聚醚系多元醇，較佳為聚酯系多元醇。 更佳可採用重量平均分子量為600~3000的聚酯系多元醇。
重量平均分子量可使用多角度光散射(MALS)系統(Wyatt公司製)。MALS系統的組態如下：
MALS系統的組態
-凝膠滲透層析儀(GPC)；Water 1525兩組HPLC泵
-折射率偵測器(RI)：Optilab rex
-MALS；Wyatt Dawn 8+
-管柱；μ-Styragel HR 0.5,HR 1,HR 2,HT 3
聚胺甲酸酯接著劑可為一種水性聚胺甲酸酯接著劑，其含有固體含量為15~30wt%的固體，其中包括含有離子基團與水的反應性乳化劑(reactive emulsifier)。
此外，聚胺甲酸酯塗佈組成物可為一種水分散/水性組成物，其總固體含量為2~10wt%，其中包括5~30wt%的聚胺甲酸酯接著劑、0.5~30wt%之總固體含量為5~40wt%的水分散高折射無機填料、0.1~0.4wt%之潤濕劑及0.1~0.5wt%之平均粒徑為100~200nm的氧化矽。
聚胺甲酸酯塗佈組成物係塗佈成15~150nm的乾燥塗佈厚度。
作為基膜，可使用聚對苯二甲酸乙二酯膜。
根據本發明的光學薄膜包括硬質塗層，其進一步包括硬質塗層或抗反射膜，該硬質塗層或抗反射膜則進一步包括防盲眩(anti-glare)塗層。
本發明將詳述於後。
作為本發明所使用的基膜可採用聚酯膜，詳言之，可採用對本質黏度(intrinsic viscosity)為0.60~0.65的聚對苯二甲酸乙二酯片實施熔融擠製(melt extrusion)所製得的膜，其具有優良的透光度(light transmittance)。此時，可採用折射率較佳為1.63~1.65，更佳為1.64的基膜。為滿足折射 率範圍，則可添加添加劑或填料。作為聚對苯二甲酸乙二酯膜可採用拉伸薄膜，並可採用單軸或雙軸拉伸薄膜。
本發明中，聚胺甲酸酯塗層係藉由使多元醇與包括至少一種具以下化學式1之芳香族異氰酸酯化合物的異氰酸酯化合物反應來製備，以將用於光學薄膜的聚胺甲酸酯塗佈組成物塗佈在基膜的一表面或兩表面上，其中該聚胺甲酸酯塗佈組成物包含在折射率為1.54~1.59的聚胺甲酸酯接著劑與0.1~30wt%之折射率為2.1的高折射無機填料中。
[化學式1]OCN-Ar-NCO
(上述化學式1中，Ar表示由C1-C5烷基取代或未取代的C6-C30伸芳基)
詳言之，上述化學式1中，Ar可為萘或菲。較佳可使用萘，而作為該化合物則有萘二異氰酸酯。
本發明中，25~90wt%的芳香族異氰酸酯化合物可含於異氰酸酯的總含量中。當使用處於此範圍的芳香族異氰酸酯化合物時，折射率便滿足1.54~1.59的範圍。作為可與芳香族異氰酸酯化合物共同使用的異氰酸酯化合物，係可無限制地使用該領域中一般使用的任何異氰酸酯化合物。較佳的是，使用六亞甲基二異氰酸酯在製造預聚合物的過程中係有利於反應的控制，而使得塗佈聚胺甲酸酯塗佈組成物時，塗層的外觀可更均勻。
當芳香族異氰酸酯化合物的含量，特別是萘二異氰酸酯的含量係以25~90wt%的範圍混合時，即可達到目標折射率1.54~1.59。
本發明中，多元醇可使用聚酯系多元醇或聚醚系多元醇，較佳為聚酯系多元醇。聚酯系多元醇為使羧酸、癸二酸(sebacic acid)或酸酐與多元醇(polyhydric alcohol)反應所製備的多元醇。多元醇的種類非限於此，惟採用重量平均分子量為600~3000的聚酯在增大最終反應材料的折射率、及改善接著力與物理強度之提升方面係有效的。
本發明中，聚胺甲酸酯塗佈組成物可為一種水分散/水性組成物，其總固體含量為2~10wt%，其中包括5~30wt%之固體含量為15~30wt%的聚胺甲酸酯接著劑、0.5~30wt%之總固體含量為5~40wt%的水分散高折射無機填料、0.1~0.4wt%之潤濕劑及0.1~0.5wt%之平均粒徑為100~200nm的 氧化矽。
聚胺甲酸酯接著劑可為一種固體含量為15~30wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑，並包括含有離子基團與水的反應性乳化劑。詳言之，聚胺甲酸酯接著劑可由5~10wt%的多元醇、8~15wt%的異氰酸酯化合物、0.1~5wt%的乳化劑與剩餘的水構成，並可包括15~30wt%的總固體含量。水分散/水性塗佈組成物係藉由準備固體含量為15~30wt%的水分散/水性聚胺甲酸酯接著劑、然後混合該水分散/水性聚胺甲酸酯接著劑與添加劑，如潤濕劑、氧化矽、無機填料等、以及水來製備。此時，係以控制成2~10wt%的方式來塗佈固體總含量，如此即可容易控制塗佈厚度。
本發明中，反應性乳化劑具有陰離子性親水基團或陽離子性親水基團之官能基，其中作為該陰離子性親水基團及該陽離子性親水基團，可使用具有可聚合未飽和基團的陰離子性親水基團或陽離子性親水基團。反應性乳化劑可包括陰離子性親水基團或陽離子性親水基團作為官能基。
陰離子性親水基團的一實例可包括官能基-SO2 M、-SO3 M、-COOM、-PO3 M2 或-PO3 MH(M為氫原子、鹼金屬原子如鋰、鈉、鉀或銨鹽)等。陽離子性親水基團的一實例則可包括烷基胺與乙氧基化胺類衍生物、咪唑啉(imidazolin)衍生物、四級銨鹵化物官能基，其等可任意地使用。
作為具有可聚合未飽和鍵之陽離子性材料的陽離子性反應性乳化劑可為一種具有醚基、酯基、碸基、亞碸基、硫醚基(sulfide group)或羥基的材料，此外還可為一種含有雙鍵及烷基、芳香族化合物或陽離子性基團的材料。該陽離子性基團可由磺酸基、羧酸基、磷酸酯基、磺酸酯基或其等之鹽類所構成。作為具有可聚合未飽和鍵之陰離子性材料的陰離子性反應性乳化劑則可為一種具有烷基及芳香族化合物的材料，此外還可為一種含有雙鍵及陰離子性基團的材料，亦可為具有官能基如醚基、酯基、碸基、亞碸基、硫醚基或羥基的材料。
高折射無機填料係使用ZnO、TiO2 、CeO2 、SnO2 及ZrO2 的至少一種，且高折射無機填料的大小最大可設為100nm，較佳為30nm或30nm以下，更詳細為1~10nm。當高折射無機填料的大小超過100nm時，光學薄膜的光學特性，尤其是霧度(haze)便可增大。
聚胺甲酸酯塗佈組成物可塗佈成15~150nm的乾燥塗佈厚度，如此可 達目標折射率。塗佈方法可實施在聚酯薄膜的拉伸過程中對表面進行塗佈的線上塗佈(in line coating)，並於薄膜製成後實施離線塗佈(off line coating)，更可同時實施兩種塗佈。較佳的是，線上塗佈為較佳者，其原因在於實施該塗佈之際同時可移除薄膜以節省製造成本，且塗層厚度可依拉伸大小(stretched magnification)來變化。
根據本發明的光學薄膜可具有適於用作硬質塗膜的接著力，並可改善彩虹現象。
此後以實例來敘述本發明，惟本發明並未限於以下實例。
示於以下實例與比較例之測定物理特性的方法如下：
(1)總透光度的測定：整片薄膜的總透光度係於聚胺甲酸酯塗層塗佈在基膜(即聚對苯二甲酸乙二酯膜)上之後，由總透光度計(Nippon Denshoku 300A)來測定。
(2)折射率的測定：折射率係於水性胺甲酸酯接著劑塗佈在聚碳酸酯薄膜上並乾燥之後，在常溫下由作為折射率計的ABBE折射計(ATAGO Co.DR-M2)來測定。
(3)彩虹現象的測定-1：在製造根據實例與比較例之光學薄膜後，對該光學薄膜的一表面實施硬塗佈製程(折射率1.52)並塗黑其另一表面，再以肉眼確認是否產生彩虹(現象)。視覺評定係於暗室中，在三波燈(tri-wave lamp)下進行。
評定條件如下：
高：未顯示彩虹現象並顯示均勻的色感(impression of color)
中：些微顯示彩虹現象並顯示均勻的色感
低：高度顯示彩虹現象並顯示強的色感
(4)彩虹現象的測定-2：參第1圖，可見光區的反射圖案係在製造實例與比較例的光學薄膜之後，對該光學薄膜的一表面實施硬塗佈製程(折射率1.52)並塗黑其另一表面，再以紫外-可見光光譜儀(CARY 5000)來測定。
高：相較於其他波長帶的漣波振幅(ripple amplitude)，500～600nm的漣波振幅降低且漣波振幅為1%或1%以下。
中：相較於其他波長帶的漣波振幅，500～600nm的漣波振幅降低且漣波振幅為3%或3%以下。
低：漣波振幅所處的波長帶非為500～600nm，或未顯示振幅降低的波長帶。
(5)對硬質塗層之接著力的測定(ASTM B905)：在製造根據實例與比較例的光學薄膜之後，評定對塗佈有聚胺甲酸酯塗佈組成物的一表面實施硬塗佈後於常溫下的接著力、及實施高溫熱水處理(100℃、10分)後硬質塗層與聚胺基甲酸酯塗層之間的接著力。
如第2圖所示，將100%存留於晶格中的情況評為5分、95%存留於其中者評為4分、95～85%存留於其中者評為3分、85～65%存留於其中者評為2分、65%或65%以下存留於其中者評為0分。
(6)乾燥塗佈厚度的測定：薄膜的剖面係由SEM(掃描式電子顯微鏡，Hitachi S-4300)來測定，其中係沿相對機器方向的橫向(TD)，將聚胺甲酸酯塗佈組成物上的基膜全寬以1m的間隔設成5點並算出平均值。
[實例1] 聚胺甲酸酯塗佈組成物(1)的製備
固體含量為20wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑係藉由使以下成分反應來製備：9wt%的聚酯系多元醇(重量平均分子量為1000的聚伸乙基己二酸二醇(polyethylene adipatediol))、10%的異氰酸酯混合物(其中六亞甲基二異氰酸酯與2,6-萘二異氰酸酯係以25：75wt%混合)、1%之具有離子性基團的反應性乳化劑(Asahi Denka,Adecaria Soap，其為聚氧乙烯烯丙基縮水甘油壬基苯基醚(SETM)之磺酸酯)與80%的水。所製備之水性聚胺甲酸酯接著劑的折射率測定結果為1.57。
將以下成分添加至水中，其後攪拌3小時來製備總固體含量為6.5wt%的聚胺甲酸酯塗佈組成物(1)：25wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑、0.3wt%的矽系潤濕劑(Dow Corning Co.聚酯矽氧烷共聚物)、6wt%之平均粒徑為5nm的氧化鋯溶膠(固體含量30wt%、折射率2.15)、0.3wt%之平均粒徑為140nm的膠體氧化矽填料。
製造單側塗佈聚酯膜
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪(casting drum)使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻之。此後，將聚胺甲酸酯塗佈組成物(1)以棒式塗佈法(bar coating)塗佈在一表面上，其後以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造塗佈在一表面上之188μm的雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機(five step tenter)中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。聚胺甲酸酯塗層的乾燥塗佈厚度為100nm。
所得之光學薄膜的物理特性係示於表1。
[實例2] 製造兩側塗佈聚酯膜
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻。此後，將實例1中所製備的聚胺甲酸酯塗佈組成物(1)以棒式塗佈法塗佈在兩表面上，其後以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造塗佈在一表面上之188μm的雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。每個聚胺甲酸酯塗層的乾燥塗佈厚度為100nm。所得之光學薄膜的物理特性係示於表1。
[實例3] 聚胺甲酸酯塗佈組成物(2)的製備
固體含量為20wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑係藉由使以下成分反應來製備：9wt%的聚酯系多元醇(重量平均分子量為1000的聚伸乙基己二酸二醇)、10%的異氰酸酯混合物(其中六亞甲基二異氰酸酯與2,6-萘二異氰酸酯係以10：90wt%混合)、1%之具有離子性基團的反應性乳化劑(Asahi Denka,Adecaria Soap，其為聚氧乙烯烯丙基縮水甘油壬基苯基醚(SETM)之磺酸酯)與80%的水。所製備之水性聚胺甲酸酯接著劑的折射率測定結果為1.59。
將以下成分添加至水中，其後攪拌3小時來製備總固體含量為4wt%的聚胺甲酸酯塗佈組成物(2)：25wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑、0.3wt%的矽系潤濕劑(Dow Corning Co.聚酯矽氧烷共聚物)、4wt%之平均粒徑為5nm的氧化鋯溶膠(固體30wt%、折射率2.15)、0.3wt%之平均粒徑為140nm的膠體氧化矽填料。
製造兩側塗佈聚酯膜
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻。此後，將聚胺甲酸酯塗佈組成物(2)以棒式塗佈法塗佈在兩表面上，其後以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造塗佈在兩表面上之188μm的雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。每個聚胺甲酸酯塗層的乾燥塗佈厚度為90nm。
所得之光學薄膜的物理特性係示於表1。
[實例4] 製造兩側塗佈聚酯膜
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻。此後，將實例1中所製備的聚胺甲酸酯塗佈組成物(1)以棒式塗佈法塗佈在一表面上，再將實例3中所製備的聚胺甲酸酯塗佈組成物(2)以棒式塗佈法塗佈在另一表面上，其後以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造塗佈於兩表面上之188μm的雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。聚胺甲酸酯塗佈組成物(1)的乾燥塗佈厚度為100nm且聚胺甲酸酯塗佈組成物(2)的乾燥塗佈厚度為90nm。
[比較例1]
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻。此後，對聚對苯二甲酸乙二酯板以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造188μm的未塗佈雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。
所得之光學薄膜的物理特性係示於表1。
[比較例2] 聚胺甲酸酯塗佈組成物(3)的製備
固體含量為20wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑係藉由使以下成分反應來製備：9wt%的聚酯系多元醇(重量平均分子量為1000的聚伸乙基己二酸二醇)、10%的異氰酸酯混合物(其中六亞甲基二異氰酸酯與2,6-萘二異氰酸酯係以25：75wt%混合)、1%之具有離子性基團的反應性乳化劑(Asahi Denka,Adecaria Soap，其為聚氧乙烯烯丙基縮水甘油壬基苯基醚(SETM)之磺酸酯)與80%的水。所製備之水性聚胺甲酸酯接著劑的折射率測定結果為1.57。
將以下成分添加至水中，其後攪拌3小時來製備總固體含量為6.5wt%的聚胺甲酸酯塗佈組成物(3)：25wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑、0.3wt%的矽系潤濕劑(Dow Corning Co.聚酯矽氧烷共聚物)、0.3wt%之平均粒徑為140nm的膠體氧化矽填料。
製造兩側塗佈聚酯膜
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻。此後，將聚胺甲酸酯塗佈組成物(3)以棒式塗佈法塗佈在兩表面上，其後以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造塗佈於兩表面上之188μm的雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。每個聚胺甲酸酯塗層的乾燥塗佈厚度為80nm。
[比較例3] 聚胺甲酸酯塗佈組成物(4)的製備
固體含量為20wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑係藉由使以下成分反應來製備：9wt%的聚酯系多元醇(重量平均分子量為1000的聚伸乙基己二酸二醇)、10%的六亞甲基二異氰酸酯與2,6-萘二異氰酸酯、1%之具有離子性基團的反應性乳化劑(Asahi Denka,Adecaria Soap，其為聚氧乙烯烯丙基縮水甘油壬基苯基醚(SETM)之磺酸酯)與80%的水。所製備之水性聚胺甲酸酯接著劑的折射率測定結果為1.53。
將以下成分添加至水中，其後攪拌3小時來製備總固體含量為5wt%的聚胺甲酸酯塗佈組成物(4)：25wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑、0.3wt%的矽系潤濕劑(Dow Corning Co.聚酯矽氧烷共聚物)、0.15wt%之平均粒徑為140nm的膠體氧化矽填料。
製造兩側塗佈聚酯膜
厚度為2000μm的聚對苯二甲酸乙二酯板係由此製造：將除去水分後的聚對苯二甲酸乙二酯片置入擠製機以進行熔融擠製，其後以表面溫度為20℃的鑄造鼓輪使其急速冷卻、固化。於80℃下，沿機器方向(MD)拉伸所製成的聚對苯二甲酸乙二酯板達3.5倍後，於常溫下冷卻。此後，將聚胺甲酸酯塗佈組成物(4)以棒式塗佈法塗佈在一表面上，其後以每秒1℃升溫至達到110℃～150℃來進行預加熱及乾燥，並沿橫向(TD)拉伸達3.5倍。此後，由此製造塗佈於兩表面上之188μm的雙軸拉伸薄膜：在五階段拉幅機中，於235℃下經熱處理，再於200℃下沿機器方向與橫向予以鬆弛10%，並進行熱固定。每個聚胺甲酸酯塗層的乾燥塗佈厚度為80nm。
第1圖為表示根據實例與比較例之反射圖案的圖；以及
第2圖為用於評定接著性的標準。

Claims (8)

  1. 一種光學薄膜，包括：一雙軸拉伸聚酯基膜；以及一聚胺甲酸酯塗層，係由包含折射率為1.54~1.59的聚胺甲酸酯接著劑與折射率為2.0或2.0以上的高折射無機填料的聚胺甲酸酯塗佈組成物塗佈在該基膜的一表面或兩表面上而成，其中該聚胺甲酸酯塗層的乾燥塗佈厚度為15~150nm，以及其中該聚胺甲酸酯接著劑係使多元醇與包括至少一種具以下化學式1之芳香族異氰酸酯化合物的異氰酸酯化合物反應來製備，[化學式1]OCN-Ar-NCO(上述化學式1中，Ar為萘或菲)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學薄膜，其中該高折射無機填料為選自ZnO、TiO2 、CeO2 、SnO2 及ZrO2 的一種、或是兩種或兩種以上的混合物。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的光學薄膜，其中該芳香族異氰酸酯化合物係以25~90wt%含於異氰酸酯的總含量中。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的光學薄膜，其中該聚胺甲酸酯塗佈組成物含有總固體含量2~10wt%，其中包括5~30wt%的聚胺甲酸酯接著劑、0.5~30wt%之總固體含量為5~40wt%的水分散高折射無機填料、0.1~0.4wt%之潤濕劑及0.1~0.5wt%之平均粒徑為100~200nm的氧化矽。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的光學薄膜，其中該聚胺甲酸酯接著劑係為一種固體含量為15~30wt%的水性聚胺甲酸酯接著劑，並包括含有離子基團與水的反應性乳化劑。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的光學薄膜，其中該高折射無機填料其平均粒徑係小於30nm。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的光學薄膜，其中該基膜為聚對苯二甲酸乙二酯膜。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的光學薄膜，其中該光學薄膜進一步包括一硬質塗層。
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