TWI471396B - 用於光學元件之丙烯酸系組成物，用於光學元件之保護膜，偏光板及液晶顯示器 - Google Patents

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Description

用於光學元件之丙烯酸系組成物，用於光學元件之保護膜，偏光板及液晶顯示器
本發明係關於用於光學元件之丙烯酸系組成物、用於光學元件之保護膜、偏光板及液晶顯示器(LCD)。
液晶顯示器(LCD)是一種用以藉由在兩個薄玻璃基板之間注入液晶而在螢幕上顯示影像的裝置。此裝置中，如果經由連接至液晶的電極施用電壓，則液晶的分子排列改變並據此改變通過液晶的光的穿透率，藉此顯示影像或顏色。由於低功率消耗和可製成平坦且薄，所以LCD吸引更多來自各領域的目光。
隨著對於LCD需求的提高，對於具有光學特性的膜(如，偏光板)也有需求，且亦須要高速LCD製法。此外，隨著生產線速率的提高，對於各式各樣的原料和輔助材料的需求亦提高，且原料和輔助材料之產製亦被視為重要的課題。
施用至光學組件(如，偏光板)的表面保護膜通常藉由將壓感性黏著劑組成物施用至基板，乾燥，與脫模膜層壓，老化，點檢，縱切和封裝的連續法製造。各階段中，壓感性黏著劑之老化須要超過數小時。此老化法係以介於交聯劑和混入壓感性黏著劑組成物中的壓感性黏著劑樹脂之間的反應進行，期間內，壓感性黏著劑的內聚強度(cohesive strength)和耐久性獲改良。據此，欲製造光學元件(如，偏光板)，須要用以控制前述老化條件的溫度/濕度控制裝置和空間，提高了加工成本並因此而弱化了產品的競爭力。
欲達到高速偏光板產製，在剝離保護膜期間觀察到裝置(如TFT IC)遭破壞，此因慣用方法中不常見的靜電生成之故，形成了欠佳的LCD。
欲解決此問題，韓國專利公開第2004-0030919號揭示一種用以藉由將有機鹽加至壓感性黏著劑中以得到抗靜電性質的技巧。但是，根據此技巧，必須使用高價有機鹽且僅表面阻抗降低，且未預期剝離期間產生的靜電力造成的恆定電壓變化。
日本專利公開第2004-287199號揭示一種壓感性黏著劑，包括異氰酸酯交聯劑和具有羥基的離子導電性聚合物。但是，黏著性和流變性因混合的異氰酸酯交聯劑而改變，使得抗靜電和黏著性難以控制。
日本專利特開平6-128539號揭示一種壓敏性黏著劑組成物，其包括異氰酸酯交聯劑、聚醚多元醇和金屬鹽。但是，根據此技巧，交聯度受到使用的交聯劑之影響且因為聚醚多元醇的伸烷氧之親水性而發生表面遷徙和黏著性降低的情況。
本發明的一個目的係提供用於光學元件之丙烯酸系組成物，用於光學元件之保護膜，偏光板及液晶顯示器(LCD)。
作為達到前述目的手段，本發明提供一種用於光學元件之丙烯酸系組成物，該丙烯酸系組成物包括：100重量份之可光聚合的丙烯酸系聚合物，該可光聚合的丙烯酸系聚合物包括主鏈(其係包含90至99.9重量份(甲基)丙烯酸酯單體和0.01至10重量份極性單體之單體混合物的聚合物)及0.06至16重量份之含有可光聚合基團的化合物鍵結至該主鏈；0.01至9重量份的抗靜電劑；和0.01至9重量份的聚合反應引發劑。
作為達到前述目的的另一手段，本發明提供一種用於光學元件之保護膜，該保護膜包括基底；和根據本發明之丙烯酸系組成物的固化產物，該固化產物形成於該基底上。
作為達到前述目的的另一手段，本發明提供一種偏光板，其具有根據本發明之保護膜附在該偏光板的一面或兩面上。
作為達到前述目的的另一手段，本發明提供一種液晶顯示器(LCD)，其具有根據本發明之偏光板附在液晶面板的一面或兩面上。
根據本發明，藉由將適當量的抗靜電劑加至包括預定比例之可光聚合的丙烯酸系聚合物(其中已引入光活化基團，該基團能夠藉照射光而自引發劑產生的基團引發交聯反應)和聚合反應引發劑之組成物中，可略過固化期間內的老化程序，藉此簡化製法及提供用於光學元件之丙烯酸系組成物、用於光學元件之保護膜、偏光板及LCD，其於剝離或使用期間內具有優良的抗靜電性，和卓越的耐久可靠性、加工性、黏著性、潤濕性和光學特性。
本發明係關於一種用於光學元件之丙烯酸系組成物，該丙烯酸系組成物包括100重量份之可光聚合的丙烯酸系聚合物，該可光聚合的丙烯酸系聚合物包括主鏈(其為包含90至99.9重量份(甲基)丙烯酸酯單體和0.01至10重量份極性單體之單體混合物的聚合物)及0.06至16重量份之含有可光聚合基團的化合物鍵結至該主鏈；0.01至9重量份的抗靜電劑；和0.01至9重量份的聚合反應引發劑。
下文中，將詳細描述根據本發明之丙烯酸系組成物。
根據本發明之丙烯酸系組成物中包括之可光聚合的丙烯酸系聚合物包括主鏈和含有可光聚合基團的化合物鍵結至該主鏈以提供光活化基團，並藉此可藉照射光而自引發劑生成的自由基引發交聯反應。
更特定言之，該可光聚合的丙烯酸系聚合物包括主鏈(其為包含90至99重量份(甲基)丙烯酸酯單體和1至10重量份極性單體之單體混合物的聚合物)；和0.06至16重量份之含有光活化基團的化合物鍵結至該主鏈。
未特別限制可光聚合的丙烯酸系聚合物的主鏈中含括之(甲基)丙烯酸酯單體的類型，且例如，可以使用(甲基)丙烯酸烷酯。此情況中，若單體中含括的烷基過長，則壓感性黏著劑的內聚強度可能會降低且可能難以調整玻璃轉變溫度或壓感性黏著性。因此，希望使用具1至14個碳原子的烷基之(甲基)丙烯酸酯單體。這樣的單體的例子可包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、和(甲基)丙烯酸十四碳烷酯中之一種或二或更多種之混合物。
該單體混合物中，相對於極性單體，(甲基)丙烯酸酯單體含量可為90至99.9重量份，以99至99.9重量份為佳。如果含量低於90重量份，則壓感性黏著劑的初始黏著強度(adhesive strength)可能會降低。如果含量超過99重量份，則可能會因為內聚強度降低而發生與耐久性相關的問題。
形成主鏈的單體混合物中含括的極性單體用以使得主鏈具有極性官能基而能夠與含有可光聚合的基團的化合物反應。極性官能基的例子可包括羥基、羧基、異氰酸酯基、胺基、和環氧基，且在本發明中，希望使用，但不限於，羥基或羧基。
本發明中，未特別限制極性單體，只要其分子中具有極性官能基和不飽和雙鍵即可。例如，本發明中，可以使用(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙二醇酯和(甲基)丙烯酸2-羥基丙二醇酯、(甲基)丙烯酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙酸、3-(甲基)丙烯醯氧基丙酸、4-(甲基)丙烯醯氧基丁酸、反-丁烯二酸、丙烯酸二聚體、衣康酸、順-丁烯二酸和順-丁烯二酸酐中之一種或二或更多種之混合物作為極性單體，但不在此限。
本發明中，無特別限制地，根據壓感性黏著劑的物理性質和待引至主鏈中之可光聚合的基團含量決定極性單體含量。本發明中，例如，相對於(甲基)丙烯酸酯單體，該單體混合物可包括0.01至10重量份，以0.01至5重量份為佳，0.01至1重量份更佳，的極性單體。若其含量低於0.01重量份，則可引至主鏈之光活化基團(可光聚合的基團)的量不足，降低內聚強度。若其含量超過10重量份，則相容性和/或流動特性會降低，因為原料成本提高而降低經濟效益。
除了包括前述組份的主鏈以外，根據本發明之可光聚合的丙烯酸系聚合物可包括含有可光聚合基團的化合物，其鍵結至主鏈，以鍵結至主鏈的側鏈為佳，以提供聚合物可光聚合的基團。
未特別限制該化合物的詳細類型，只要其每分子包括1至5個(1或2個為佳)可光聚合的基團(如，可光聚合的碳-碳雙鍵)，且具有能夠與主鏈中含括的極性官能基反應的官能基。能夠與主鏈中含括的極性官能基反應的官能基的例子可包括，但不限於，異氰酸酯基、環氧基、矽烷基和羧基。例如，若將羥基或羧基引至主鏈中，則化合物中含括的官能基可為異氰酸酯基、環氧基、或氯矽烷基。如果胺基或經取代的胺基引至主鏈中，則化合物中含括的官能基可為異氰酸酯基。如果主鏈中含括環氧基，則化合物中含括的官能基可為羧基。
可用於本發明之含有光活化基團的化合物的詳細例子可包括，但不限於，(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯、異氰酸1,1-雙(丙烯醯氧基甲基)乙酯、異氰酸(甲基)丙烯醯氧基乙酯、異氰酸間-異丙烯基-α,α-二甲基苄酯、甲基丙烯醯基異氰酸酯或異氰酸烯丙酯；二異氰酸酯化合物或多異氰酸酯化合物與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯反應得到的丙烯醯基單異氰酸酯化合物；藉由令二異氰酸酯化合物或多異氰酸酯化合物、多元醇化合物以及(甲基)丙烯酸2-羥乙酯反應得到的丙烯醯基單異氰酸酯化合物；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯；(甲基)丙烯酸；或3-甲基丙烯醯氧基丙基二甲基氯矽烷中之一種或二或更多種。
本發明中，無特別限制地，根據所欲用途地選擇含可光活化基團的化合物之含量。例如，相對於主鏈中含括的(甲基)丙烯酸酯單體或極性單體，含有可光活化基團的化合物的含量可為0.06至16重量份，以0.1至8重量份為佳，1至6重量份更佳，0.1至2重量份更佳。如果含有可光活化基團的化合物含量低於0.06重量份，則剝離強度過度提高，降低剝離加工效能。如果含量超過16重量份，則壓感性黏著劑的內聚強度過度提高，降低了耐久可靠性。本發明中，特別將因為原料成本提高所導致的經濟效益列入考慮，相對於主鏈，該含有可光活化基團的化合物的含量可為3重量%或更低，以2重量%或更低為佳，1重量%或更低更佳。
根據本發明之可光聚合的丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為200,000至1,000,000。若該聚合物的重量平均分子量低於200,000，則壓感性黏著劑的內聚強度降低並因此而有殘渣黏著。若其重量平均分子量超過1,000,000，則黏度過度提高，阻礙了與可光聚合基團之平順反應。
根據本發明之可光聚合的丙烯酸系聚合物的玻璃轉變溫度以-40℃或更低為佳。若該聚合物的玻璃轉變溫度超過-40℃，則黏著潤濕性會受損。本發明中，未特別限制該聚合物的玻璃轉變溫度下限，且例如，其可以適當地控制在-80℃或更高的範圍內。
本發明中，未特別限制製造可光聚合的丙烯酸系聚合物之方法。本發明中，例如，可光聚合的丙烯酸系聚合物可製自，先製造形成主鏈的丙烯酸系聚合物，然後藉由使得聚合物與含光活化基團的化合物反應而將可光聚合的基引入聚合物中(如，極性基團引至聚合物中)。
此情況中，未特別限制形成主鏈的聚合物之製法，且例如，可以使用一般聚合法製造聚合物，如，溶液聚合法、光聚合法、整體聚合法、懸浮聚合法或乳化聚合法。本發明中，使用溶液聚合法是合意的，更特別地，引發劑以單體已均勻混合的狀態混合且聚合溫度是50至140℃。可使用的引發劑可為以偶氮為主的聚合反應引發劑，如偶氨基雙異丁腈或偶氨基雙環己腈；和/或一般的引發劑，如過氧化物，如過氧化苄醯或過氧化乙醯。
未特別限制令製得的主鏈與含有光活化基團的化合物反應之方法，且例如，形成主鏈的聚合物和含有光活化基團的化合物可於室溫至40℃於大氣壓下反應4至48小時。此反應可藉由使用有機錫觸媒在溶劑(如，乙酸乙酯)中進行。
除了前述組份以外，根據本發明之丙烯酸系組成物包括抗靜電劑。此情況中，未特別限制抗靜電劑的類型，只要其具與可光聚合的丙烯酸系聚合物的相容性極佳並可提供抗靜電效果且不會影響壓感性黏著劑的透光性、加工性和耐久可靠性即可。
可用於本發明之抗靜電劑的例子包括i)含伸烷氧的化合物和金屬鹽之混合物；和ii)能夠形成配位共價鍵的化合物和金屬鹽之混合物，且在本發明中，可以使用其中之一種或二或更多種之混合物。
本發明中，抗靜電劑i)中含括之該含伸烷氧的化合物可與金屬鹽組份形成錯合物。由於該含伸烷氧的化合物與金屬鹽一起含括於抗靜電劑中(例如，藉由添加少量的抗靜電組份(如，金屬鹽))，故可賦予壓感性黏著劑優良的抗靜電效果並維持或改良壓感性黏著劑的耐久可靠性、透光性和加工性。
未特別限制可用於本發明之含伸烷氧的化合物的詳細類型，只要其可履行前述功能即可，且可包括，例如，包括具1至12個碳原子(1至8個碳原子較佳，1至4個碳原子更佳)的伸烷氧單元的化合物。更特定言之，可以使用包括伸乙氧和/或伸丙氧單元的化合物。
更特別地，該含伸烷氧的化合物可為，例如，以下表示的化合物：
其中R代表伸烷基，Y代表氫、烷基或-C(=O)R1 ，X代表氫、羥基、烷基或-C(=O)R2 ，而n代表1至120，其中R1 和R2 獨立地代表氫或烷基。
式1的定義中，伸烷基代表1至12個碳原子(1至8個碳原子較佳，1至4個碳原子更佳)的伸烷基，更特別指伸乙基或伸丙基。
式1的定義中，烷基代表1至12個碳原子(1至8個碳原子較佳，1至4個碳原子更佳)的烷基。
式1中，n以1至80為佳，1至40更佳。
式1表示的化合物的詳細例子可包括聚烷二醇(如，聚乙二醇或聚丙二醇)、聚烷二醇(如，聚乙二醇或聚丙二醇)的脂肪酸烷酯和聚烷二醇(如，聚乙二醇或聚丙二醇)的羧酸酯。
本發明中，該含伸烷氧的化合物之重量平均分子量以100至10,000為佳。若其重量平均分子量低於100，則複雜形成效能會降低。若重量平均分子量超過10,000，則壓感性黏著劑的流動性會受損。
未特別限制抗靜電劑i)中包括的金屬鹽類型，且例如，其可為包括鹼金屬陽離子或鹼土金屬陰離子的金屬鹽。此情況中，陽離子的詳細例子可包括鋰離子(Li+ )、鈉離子(Na+ )、鉀離子(K+ )、銣離子(Rb+ )、銫離子(Cs+ )、鈹離子(Be2+ )、鎂離子(Mg2+ )、鈣離子(Ca2+ )、鍶離子(Sr2+ )、和鋇離子(Ba2+ )中之一種或二或更多種，且較佳地為鋰離子(Li+ )、鈉離子(Na+ )、鉀離子(K+ )、銫離子(Cs+ )、鈹離子(Be2+ )、鎂離子(Mg2+ )、鈣離子(Ca2+ )、和鋇離子(Ba2+ )中之一種或二或更多種。就離子安定性和壓感性黏著劑而言，希望使用，但不限於，鋰離子(Li+ )。
本發明中，未特別限制金屬鹽中含括的陰離子類型，且例如，其可選自，但不限於，氟根(F- )、氯根(Cl- )、溴根(Br- )、碘根(I- )、過氯酸根(ClO4 - )、氫氧根(OH- )、碳酸根(CO3 2- )、羧酸根(如，CH3 CO2 - )、疊氮根(N3 - )、磷酸根(HPO4 2- )、硝酸根(NO3 - )、磺酸根(SO4 2- )、甲苯磺酸根(CH3 (C6 H4 )SO3 - )、對-甲苯磺酸根(CH3 C6 H4 SO3 - )、羧苯磺酸根(COOH(C6 H4 )SO3 - )、三氟甲磺酸根(CF3 SO2 - )、苯甲酸根(C6 H5 COO- )、乙酸根(CH3 COO- )、三氟乙酸根(CF3 COO- )、四氟硼酸根(BF4 - )、四苄基硼根(B(C6 H5 )4 - )、六氟磷酸根(PF6 - )、參(五氟乙基)三氟磷酸根(P(C2 F5 )3 F3 - )- )、雙三氟甲磺醯亞胺根(N(SO2 CF3 )2 - )、雙五氟乙磺醯亞胺根(N(SOC2 F5 )2 - )、雙三氟甲羰醯亞胺根(N(COC2 F5 )2 - )、雙五氟乙羰醯亞胺根(N(COC2 F5 )2 - )、雙全氟丁磺醯亞胺根(N(SO2 C4 F9 )2 - )、雙全氟丁羰醯亞胺根(N(COC4 F9 )2 - )、參三氟甲磺醯基甲基根(C(SO2 CF3 )3 - )和參三氟甲羰基甲基根(C(SO2 CF3 )3 - )。
本發明中，前述陰離子中，希望使用，但不限於，包括全氟烷基的陰離子，其可以有效地作為拉電子基並具有極佳的疏水性。
根據本發明之丙烯酸系組成物中，抗靜電劑i)中包括的金屬鹽之含括使得鹽中含括的陽離子(Mn+ ，其中n是1或2)對該含伸烷氧的化合物的烷氧單元(RO)之莫耳比([RO]/[Mn+ ])為1至100。若此莫耳比低於1，則金屬鹽的添加量相對提高，降低了光學組件所須的抗靜電性或物理性質，如，透光性或耐久性。若此莫耳比超過100，則壓感性黏著劑中的離子密度過度降低，損及抗靜電效能。
未特別限制抗靜電劑ii)中含括之能夠形成配位共價鍵的化合物類型，只要其安定地與金屬鹽形成錯合物以提供優良的抗靜電效能並同時維持或改良壓感性黏著劑的耐久可靠性、透光性和加工性即可。
本發明中，例如，可以使用含草酸酯基的化合物、含二胺基化合物、含多價羧基的化合物和含β-酮基的化合物中之一種或二或更多種作為能夠形成配位共價鍵的化合物，其中，希望使用，但不限於，含草酸酯基的化合物。該含草酸酯基的化合物藉分子結構中含括的碳-氧雙鍵和氧之未共享的電子對局部形成負電荷，並藉負電荷有效率地與金屬鹽的陽離子形成錯合物。
該含草酸酯基的化合物可為，例如，以下所示化合物：
其中R1 和R2 彼此獨立地代表氫、鹵素、烷基、烷氧基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或芳氧基。
式2的定義中，烷基、烷氧基、烯基或炔基可以具有直鏈類型、支鏈類型或環類型結構。
式2的定義中，烷基或烷氧基可為1至20個碳原子(1至12個碳原子為佳，1至8個碳原子更佳，1至4個碳原子最佳)的烷基或烷氧基，且芳基可為6至30個碳原子(6至20個碳原子較佳)的芳基。
本發明中，式2表示的化合物的詳細例子可包括，但不限於，草酸二乙酯、草酸二甲酯、草酸二丁酯、草酸二第三丁酯和草酸雙(4-甲基苄酯)中之一種或二或更多種。
該含二胺基的化合物可以下式表示：
其中R3 代表伸烷基或伸烯基。
式3的定義中，伸烷基可為1至12個碳原子(1至8個碳原子較佳)的伸烷基，且伸烯基可為2至10個碳原子(2至8個碳原子較佳)的伸烯基。
式3的定義中，伸烷基和伸烯基可以具有直鏈類型、支鏈類型或環類型結構。
本發明中，式3表示的化合物的詳細例子可包括，但不限於，乙二胺、1,2-二胺基丙烷和二胺基丁烷中之一種或二或更多種。
含多價羧基的化合物係包括多羧酸或羧酸酯的化合物，且例如，可為包括以下所示官能基的化合物：
本發明中，該含多價羧基的化合物的詳細例子可包括，但不限於，乙二胺-N,N,N’,N’-四醋酸(EDTA)、N,N,N’,N”,N”-二乙三胺五醋酸(DTPA)、1,4,7,10-四氮雜環十二烷-N,N’,N”,N’”-四醋酸(DOTA)、1,4,7,10-四氮雜環十二烷-N,N’,N”-三醋酸(DO3A)、反(1,2)-環己烷二乙三胺五醋酸或N,N-雙羧基甲基甘胺酸中之一種或二或更多種。
本發明中，該該含多價羧基的化合物可為以下所示化合物：
本發明中，含β-酮基的化合物可為，例如，以下所示化合物：
其中R4 和R5 彼此獨立地代表烷基、烷氧基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或芳氧基，而R6 代表氫、烷基、烷氧基、烯基、炔基、芳基、芳烷基或芳氧基。
式12的定義中，烷基、烷氧基、烯基或炔基可以具有直鏈類型、支鏈類型或環類型結構。
式12的定義中，烷基或烷氧基可為1至20個碳原子(1至12個碳原子為佳，1至8個碳原子更佳，1至4個碳原子最佳)的烷基或烷氧基，且芳基可為6至30個碳原子(6至20個碳原子較佳)的芳基。
可用於本發明之根據式12的化合物的詳細例子可包括，但不限於，2,4-戊二酮、1-苄醯基丙酮和乙醯基乙酸乙酯中之一種或二或更多種。
未特別限制可含括於抗靜電劑ii)中的金屬鹽及能夠形成配位共價鍵的化合物的類型，且例如，可以包括含括於抗靜電劑i)中之相同的金屬鹽。
根據本發明之抗靜電劑ii)可包括0.1至10重量份能夠形成配位共價鍵的化合物和0.1至50重量份金屬鹽。藉由將金屬鹽和能夠形成配位共價鍵的化合物含量控制在那些範圍內，可賦予壓感性黏著劑極佳的抗靜電性並同時維持或改良壓感性黏著劑之優良的物理性質，如，耐久可靠性、透光性和加工性。
相對於100重量份的可光聚合的丙烯酸系聚合物，抗靜電劑i)和/或ii)的含量可為0.01至9重量份，以0.01至5重量份為佳。若抗靜電劑含量低於0.01重量份，則抗靜電效能降低。若其含量超過9重量份，則壓感性黏著劑的物理性質(如，耐久可靠性或透光性)會降低。
根據本發明之丙烯酸系組成物包括，相對於100重量份的可光聚合的丙烯酸系聚合物，0.01至9重量份(0.01至5重量份較佳)的聚合反應引發劑。未特別限制可用於本發明之聚合反應引發劑的類型，且例如，可以使用藉光照射而生成自由基以引發聚合反應的一般光引發劑。未特別限制可用於本發明的光引發劑類型，且可為，但不限於，苯偶姻、羥基酮、胺基酮或膦氧化物，且更特定地，苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻***、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻異丁醚、乙醯苯、二甲胺基乙醯苯、2,2-二甲氧基-2-苯基乙醯苯、2,2-二乙氧基-2-苯基乙醯苯、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對-苯基二苯甲酮、4,4’-二乙胺基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2-甲基硫酮(2-methylthioxanthone)、2-乙基硫酮、2-氯硫酮、2,4-二甲基硫酮、2,4-二乙基硫酮、苄基二甲基縮酮、乙醯苯二甲基縮酮、對-二甲胺基苯甲酸酯、寡[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]和2,4,6-三甲基苄醯基-二苯基-膦氧化物。本發明中，可以使用前述例子中之一種或二或更多種。
本發明中，相對於100重量份的丙烯酸系聚合物，聚合反應引發劑的含量可為0.01至9重量份，以0.01至5重量份為佳。若其含量低於0.01，則聚合反應無法平順地進行。若其含量超過9重量份，則壓感性黏著劑的物理性質(如，耐久可靠性或透光性)會降低。
根據本發明之丙烯酸系組成物可進一步包括，相對於100重量份的丙烯酸系聚合物，0.1至10重量份(0.5至6重量份較佳)的可光聚合的化合物。藉由適當地將此化合物加至丙烯酸系組成物中，可進一步增進壓感性黏著劑的物理性質，如，內聚強度或耐久可靠性。
未特別限制可用於本發明之可光聚合的化合物類型，且例如，可以使用其分子中具有二或更多個可光聚合基團(如，丙烯酸酯基)且分子量或重量平均分子量為100至10,000的化合物。
可用於本發明之可光聚合的化合物可包括，多官能性丙烯酸酯、丙烯酸胺甲酸酯低聚物和環氧基丙烯酸酯低聚物。
未特別限制可用於此處的多官能性丙烯酸酯的類型，其例子可包括，但不限於，二官能性丙烯酸酯，如，二(甲基)丙烯酸1,4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇己二酯、二(甲基)丙烯酸羥基三甲基乙酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、經己內酯修飾的二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、經伸乙氧修飾的二(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸二(甲基)丙烯醯氧基乙酯、烯丙基化的二(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸三環癸基二甲醇酯、二(甲基)丙烯酸二羥甲基二環戊酯、經伸乙氧修飾的二(甲基)丙烯酸六氫酞酸酯、(甲基)丙烯酸三環癸烷二甲醇酯、經新戊二醇修飾的二(甲基)丙烯酸三甲基丙烷酯、二(甲基)丙烯酸金鋼烷酯、或9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]烯氟；三官能性丙烯酸酯，如，三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、經丙酸修飾的三(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、經伸丙氧修飾的三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三官能性(甲基)丙烯酸胺甲酸酯、或異氰酸參(甲基)丙烯酸基乙酯；四官能性丙烯酸酯，如，四(甲基)丙烯酸二甘油酯或四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯；八官能性丙烯酸酯，如，經丙酸修飾的五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯；和六官能性丙烯酸酯，如，六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、經己內酯修飾的六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、或(甲基)丙烯酸胺甲酸酯(如，異氰酸酯單體和三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯之間的反應產物)。
可用於此處之丙烯酸胺甲酸酯低聚物的例子可包括，但不限於，藉由使包括羥基的(甲基)丙烯酸酯與其末端部分具有異氰酸酯基的胺甲酸酯預聚物(藉由令聚酯類型或聚醚類型的多元醇化合物與異氰酸酯化合物反應而製造)反應而製造的低聚物。該異氰酸酯化合物的詳細例子包括，但不限於，二異氰酸2,4-甲苯酯、二異氰酸2,6-甲苯酯、二異氰酸1,3-二甲苯酯、二異氰酸1,4-二甲苯酯和二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯，而(甲基)丙烯酸酯的例子可包括，但不限於，(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯和(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯。
可用於此處的環氧基丙烯酸酯低聚物的例子可為令兩個末端具有環氧基的芳族或非芳族環氧樹脂與化合物(如，(甲基)丙烯酸)反應而製造的低聚物。
本發明中，相對於100重量份的丙烯酸系聚合物，可光聚合的化合物含量為0.1至10重量份。若其含量低於0.1重量份，則內聚強度改良效果可能不足。若其含量超過10重量份，則壓感性黏著劑的潤濕性可能受損。
在不影響本發明之效果的範圍內，根據本發明之丙烯酸系組成物可進一步包括一或多種添加劑，其選自由矽烷偶合劑、增黏劑、環氧樹脂、交聯劑、UV安定劑、抗氧化劑、著色劑、強化劑、填料、消沫劑、界面活性劑和塑化劑所組成之群組。
本發明亦係關於一種用於光學元件之保護膜，其包括基底；和根據本發明之丙烯酸系組成物的固化產物，該固化產物形成於該基底上。
如前述者，根據本發明之壓感性黏著劑得以省略老化程序，藉此簡化製法。此外，該壓感性黏著劑具有卓越的耐久可靠性、加工性和透光性，並展現優良的抗靜電性，藉此可有效地用於在製造或使用期間要求抗靜電性之各式各樣的光學裝置或顯示裝置。特別地，包括透明基底和形成於透明基底上之根據本發明之壓感性黏著劑之壓感性黏著板可以有效地作為用以保護光學元件(如，偏光板、波板、相阻滯板、光學補償膜、反射板和亮度增進膜)的表面保護膜。
用於根據本發明之保護膜的基底在此領域中可為一般透明的膜，其例子可包括塑膠膜，如，聚酯膜(如，聚對酞酸乙二酯膜、聚對酞酸丁二酯膜)、聚四氟乙烯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、氯乙烯共聚物或聚醯胺膜。該基底可為單層或二或更多層的層壓結構。此基底膜可進一步包括官能性層，如，防污層或抗靜電層。本發明中，表面處理，如，底塗，可用於基底的一或兩面上以改良基底黏著性。
本發明中，可以無特定限制地適當地選擇基底膜的厚度，且厚度通常為5至500微米，以10至100微米為佳。
未特別限制根據本發明之保護層中含括的壓感性黏著層厚度，且例如，可為2至100微米，以5至50微米為佳。若壓感性黏著劑的厚度超出此範圍，則難以形成均勻的壓感性黏著層，使得壓感性黏著膜的物理性質不一致。
本發明中，未特別限制在基底上形成壓感性黏著層的方法，且例如，該方法可包括以一般方式(如，棍塗佈機)將丙烯酸系組成物施用在基底上並將其固化，或將丙烯酸系組成物施用至離型基底表面上並將其固化以製造壓感性黏著層及藉由使用離型基底，將壓感性黏著層轉移至基底。
未特別限制在壓感黏著性偏光板製造期間，固化根據本發明之丙烯酸系組成物之方法，且可以使用此領域的一般方法。但是，希望使用射線(如UV或電子射線)照射之固化法，使用UV照射的固化法更佳。
UV照射可藉由使用如高壓汞燈、感應燈或氙燈裝置進行。
未特別限制UV固化的照射量，只要未損及整體物理性質並提供足夠的固化程度即可，例如，較佳地，其照明強度為50至1,000毫瓦/平方公分且照射強度為50至1,000毫焦耳/平方公分。
本發明亦係關於一種偏光板，其具有根據本發明之保護膜附在該偏光板的一面或兩面上。
附有保護膜的偏光板可包括偏光膜或偏光元件；及形成於偏光膜或偏光元件的一面或兩面上的保護板。根據本發明之偏光板可進一步包括一或多種官能層，其選自由保護層、反射層、防炫光膜、相阻滯板、用於寬視角的補償膜、亮度增進膜所組成之群組。
未特別限制形成偏光板的偏光膜或偏光元件之類型。例如，本發明中，可以使用將偏光組份(如碘或二向色染料)加至聚乙烯醇樹脂膜上並將其拉長而製得的膜作為該偏光膜或偏光元件。該聚乙烯醇樹脂可包含聚乙烯醇、聚乙烯基甲縮醛、聚乙烯基乙縮醛和乙烯-乙酸乙烯酯共聚物的水解物…等。同樣地，對偏光膜的厚度沒有特別限制，因此該偏光膜可製成慣用厚度。
本發明之偏光板中，可形成於偏光膜或偏光元件的一面或兩面上之保護板係與本發明之保護膜不同的板。其特定種類包含纖維素膜，如，三乙醯基纖維素；聚酯膜，如，聚碳酸酯膜或聚對酞酸乙二酯；聚醚亞碸膜；和/或聚烯烴膜，如，聚乙烯膜、聚丙烯膜、具有環狀或原冰片烯結構的聚烯烴膜，或乙烯-丙烯共聚物。此處，未特別限制這些保護板的厚度。其可製成一般厚度。
本發明亦係關於一種液晶顯示器(LCD)，其包括液晶面板，其中，根據本發明之偏光板附在液晶胞的一面或兩面上。
未特別限制形成根據本發明之LCD的液晶胞類型，且包括一般的液晶胞，如扭曲向列(TN)類型、超扭曲向列(STN)類型或直立排列(VA)類型。未特別限制根據本發明之LCD所含括的其他結構之類型和製法，且可無限制地採用此領域中的一般結構。
[體系]
下文中，將參考根據本發明之實例及非根據本發明之比較例更詳細地解釋本發明，但本發明之範圍不受限於下文所述的實例。
製備例1.丙烯酸系聚合物A之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，添加80重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、17重量份丙烯酸正丁酯(BA)和3.0重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，之後添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。以氮氣滌氣1小時以移除氧且溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物A。
製備例2.可光聚合的丙烯酸系聚合物A1之製備
製備例1中製造的丙烯酸系聚合物A加至有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，然後將3.3重量份異氰酸2-丙烯醯氧基乙酯和適當量的觸媒加至反應器中。然後，在反應器溫度維持於40℃時，反應2小時，藉此製造已有可光聚合的基團引入的丙烯酸系聚合物A1。
製備例3.丙烯酸系聚合物B之製備
在製備例1中使用的反應器中，添加90重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、5.0重量份丙烯酸正丁酯(BA)和5.0重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，之後添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。以氮氣滌氣1小時以移除氧且反應器溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物B。
製備例4.可光聚合的丙烯酸系聚合物B1之製備
在反應器中，添加100重量份製備例3中製造的丙烯酸系聚合物、5.5重量份異氰酸2-丙烯醯氧基酯和適當量的觸媒，然後於40℃反應2小時，藉此製造可光聚合的丙烯酸系聚合物B1。
製備例5.丙烯酸系聚合物C之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，添加75重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、10重量份丙烯酸正丁酯(BA)和15重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，之後添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。以氮氣滌氣1小時以移除氧且溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物C。
製備例6.可光聚合的丙烯酸系聚合物C1之製備
在反應器中，添加100重量份製備例5中製造的丙烯酸系聚合物、16.5重量份異氰酸2-丙烯醯氧基乙酯和適當量的觸媒，然後於40℃反應2小時，藉此製造可光聚合的丙烯酸系聚合物C1。
製備例7.丙烯酸系聚合物D之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，添加95重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、4.95重量份丙烯酸正丁酯(BA)和0.05重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，之後添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。然後，以氮氣滌氣1小時以移除氧，且反應器溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物D。
製備例8.可光聚合的丙烯酸系聚合物D1之製備
在反應器中，添加100重量份製備例7中製造的丙烯酸系聚合物、0.055重量份異氰酸2-丙烯醯氧基乙酯和適當量的觸媒，然後於40℃反應2小時，藉此製造可光聚合的丙烯酸系聚合物D1。
製備例9.丙烯酸系聚合物E之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，添加99.5重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)和0.5重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。然後，以氮氣滌氣1小時以移除氧，且反應器溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物E。
製備例10.可光聚合的丙烯酸系聚合物E1之製備
在反應器中，添加100重量份製備例9中製造的丙烯酸系聚合物、0.55重量份異氰酸2-丙烯醯氧基乙酯和適當量的觸媒。然後，於溫度維持於40℃，反應2小時，藉此製造已有可光聚合的基團引入之可光聚合的丙烯酸系聚合物E1。
製備例11.丙烯酸系聚合物F之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，添加90.9重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、9.0重量份丙烯酸正丁酯(BA)和0.1重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。然後，以氮氣滌氣1小時以移除氧，且反應器溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物F。
製備例12.可光聚合的丙烯酸系聚合物F1之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的反應器中，添加製備例11中製造的丙烯酸系聚合物F、0.11重量份異氰酸2-丙烯醯氧基乙酯和適當量的觸媒。然後，於溫度維持於40℃，反應2小時，藉此製造已有可光聚合的基團引入之可光聚合的丙烯酸系聚合物F1。
製備例13.丙烯酸系聚合物G之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的1升反應器中，添加89.995重量份丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、10重量份丙烯酸正丁酯(BA)和0.005重量份丙烯酸2-羥丁酯(2-HBA)，添加100重量份乙酸乙酯(EAc)作為溶劑。然後，以氮氣滌氣1小時以移除氧，且反應器溫度維持於55℃。之後，反應器中放置0.05重量份在乙酸乙酯中稀釋至濃度為50%的偶氨基雙異丁腈(AIBN)作為反應引發劑，然後反應8小時，藉此製造丙烯酸系聚合物G。
製備例14.可光聚合的丙烯酸系聚合物G1之製備
在有氮氣迴流並配備用於簡便調整溫度之冷卻系統的反應器中，添加製備例13中製造的丙烯酸系聚合物G、0.0055重量份異氰酸2-丙烯醯氧基乙酯和適當量的觸媒。然後，於溫度維持於40℃，反應2小時，藉此製造已有可光聚合的基團引入之可光聚合的丙烯酸系聚合物G1。
實例1
100重量份可光聚合的丙烯酸系聚合物A1、0.5重量份抗靜電劑(包括聚乙二醇的脂肪酸烷酯和LiClO4 )和作為光引發劑的0.5重量份1-羥基-環己基-苯基酮(Irgacure 184，Ciba(製造商))混合，然後稀釋至適當濃度，藉此製得塗佈液。之後，此塗佈液塗佈至38微米厚的雙軸定向PET膜的一面上並於之後乾燥調整至厚度約20微米，然後層壓至離型膜。然後，藉由使用汞燈(UV B範圍，280毫焦耳/平方公分)進行光聚合，藉此製造保護膜。
實例2至8及比較例1至7
除了使用以表1和2為基礎的丙烯酸系組成物以外，以與實例1相同的方式製得保護膜(表1和2中，含量單位為重量份)。
實例和比較例中製造的保護膜以下述方式測定耐久可靠性、濁度、剝離靜電壓、剝離強度和潤濕性。
1.耐久可靠性評估
已施用實例和比較例中製造的保護膜的偏光板(200毫米×200毫米)處於高溫條件(耐熱條件)(80℃，1,000小時)和高溫且高濕度條件(濕和熱耐受性)(60℃，90% R.H.，1,000小時)，然後觀察壓感黏著表面是否發生上提或剝離情況並根據下列標準評估耐久可靠性：
○：未觀察到氣泡或剝離現象。
△：發生少數氣泡或剝離現象。
×：發生許多氣泡或剝離現象。
2.濁度測定
實例和比較例中製造的保護膜切成40毫米×70毫米尺寸以製造試樣，並根據JIS K7150和ASTM D1003-95評估濁度。更特定言之，測定擴散的穿透率(Td)和總透光(Ti)並藉Td相對於Ti之百分比定義濁度。之後，試樣處於溫度為60℃和相對濕度為90%的條件下1,000小時，並以相同方式測定濁度，之後比較保存之前和之後的濁度以評估白化情況。
3.剝離靜電壓評估
使用2公斤滾輪，實例和比較例中製造的保護膜附於偏光板的防炫光層表面(AG，日本DNP(製造商))，且然後維持於溫度為23℃和相對濕度為50%下24小時(試樣尺寸：22公分×24公分)。然後，當附於試樣的保護膜以40米/分鐘速率剝離時，藉由使用置於偏光板表面上方2公分處的靜電壓測定機(SATATIRON-M2)測定偏光板表面上產生的靜電壓。以相同方式，10度測定靜電壓且其平均值示於表2。
4. 180°剝離強度評估
根據JIS Z 0237，使用2公斤滾輪，實例和比較例中製造的保護膜附於偏光板的防炫光層表面(AG，日本DNP(製造商))，且然後維持於溫度為23℃和相對濕度為60%下24小時。然後，使用張力試驗機，於剝離角度為180°和剝離速率為0.3米/分鐘和30.0米/分鐘測定剝離強度。
5.潤濕性評估
根據JIS Z 0237，使用2公斤滾輪，實例和比較例中製造的保護膜附於偏光板的防炫光層表面(AG，日本DNP(製造商))。然後維持於溫度為23℃和相對濕度為65%下24小時，然後切成尺寸為25公分×2.5公分以製造試樣。保護膜的一面自試樣正面剝離至留下約1公分，然後輕放該保護膜以測定保護膜再度黏著的時間。
○：再度黏著所須時間低於10秒鐘。
×：再度黏著所須時間超過10秒鐘。
前述測定結果示於表3。
如可由表2看出者，根據本發明的實例1至4同時滿足優良的抗靜電性、透光性、耐久可靠性和壓感黏著性，藉此可有效地用於各式各樣的顯示裝置。
另一方面，丙烯酸系聚合物的可光聚合基團含量高的比較例1因為壓感性黏著層的內聚強度過度提高而使得耐久可靠性和潤濕性欠佳，而可光聚合基團含量低的比較例2之高速率和低速率剝離強度過度提高，由此預期加工效能降低。抗靜電劑過量添加的比較例3具有與耐久可靠性相關的問題，而可聚合的引發劑過度添加的比較例4之耐久可靠性明顯降低。比較例6中，可光聚合的丙烯酸系聚合物中之光活化基團量過少，儘管添加可光聚合的化合物以強化內聚強度，因為缺乏內聚強度而使得剝離強度過度提高且剝離加工效能降低。

Claims (19)

  1. 一種用於光學元件之保護膜，包括基底及形成於該基底上的壓感性黏著層，其中該壓感性黏著層含有一丙烯酸系組成物的固化產物，該丙烯酸系組成物包含100重量份之可光聚合的丙烯酸系聚合物、0.01至9重量份的抗靜電劑、和0.01至9重量份的聚合反應引發劑，其中該可光聚合的丙烯酸系聚合物包含：主鏈，其為包含90至99.9重量份(甲基)丙烯酸酯單體和0.01至10重量份具有極性官能基之極性單體之單體混合物的聚合物；及0.06至16重量份之含有可光聚合基團的化合物鍵結至該主鏈，且該含有可光聚合基團的化合物具有能與該極性官能基反應的官能基和可光聚合之基團，且藉由該官能基與該極性官能基之反應而將該可光聚合之基團提供予該主鏈。
  2. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中該(甲基)丙烯酸酯單體係包含具1至14個碳原子的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯。
  3. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中該極性官能基是由羥基、羧基、異氰酸酯基、胺基或環氧基所組成。
  4. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中該含有可光聚合基團的化合物係選自由(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯、異氰酸1,1-雙(丙烯醯氧基甲基) 乙酯、異氰酸(甲基)丙烯醯氧基乙酯、異氰酸間-異丙烯基-α,α-二甲基苄酯、甲基丙烯醯基異氰酸酯、異氰酸烯丙酯；丙烯醯基單異氰酸酯化合物；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯；(甲基)丙烯酸；和3-甲基丙烯醯氧基丙基二甲基氯矽烷所組成之群組中之一或多者。
  5. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中該可光聚合的丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為200,000至1,000,000。
  6. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中該抗靜電劑係i)含伸烷氧的化合物和金屬鹽之混合物；或ii)能夠形成配位共價鍵的化合物和金屬鹽之混合物。
  7. 如申請專利範圍第6項之用於光學元件之保護膜，其中該含伸烷氧的化合物以下式表示： 其中R代表伸烷基，Y代表氫、烷基或-C(=O)R1 ，X代表氫、羥基、烷基或-C(=O)R2 ，而n代表1至120，其中R1 和R2 獨立地代表氫或烷基。
  8. 如申請專利範圍第6項之用於光學元件之保護膜，其中該含伸烷氧的化合物係聚烷二醇、聚烷二醇的脂肪酸烷酯或聚烷二醇的羧酸酯。
  9. 如申請專利範圍第6項之用於光學元件之保護膜 ，其中該含伸烷氧的化合物之重量平均分子量為100至10,000。
  10. 如申請專利範圍第6項之用於光學元件之保護膜，其中該能夠形成配位共價鍵的化合物係選自由含草酸酯基的化合物、含二胺基化合物、含多價羧基的化合物和含β-酮基的化合物所組成之群組中之一或多者。
  11. 如申請專利範圍第10項之用於光學元件之保護膜，其中該含草酸酯基的化合物係草酸二乙酯、草酸二甲酯、草酸二丁酯、草酸二第三丁酯或草酸雙(4-甲基苄酯)；該含二胺基的化合物係乙二胺、1,2-二胺基丙烷或二胺基丁烷；該含多價羧基的化合物係乙二胺-N,N,N’,N’-四醋酸、N,N,N’,N”,N”-二乙三胺五醋酸、1,4,7,10-四氮雜環十二烷-N,N’,N”,N”，-四醋酸、1,4,7,10-四氮雜環十二烷-N,N’,N”-三醋酸、反(1,2)-環己烷二乙三胺五醋酸或N,N-雙羧基甲基甘胺酸；而該含β-酮基的化合物係2,4-戊二酮、1-苄醯基丙酮或乙醯乙酸乙酯。
  12. 如申請專利範圍第6項之用於光學元件之保護膜，其中該金屬鹽包含選自由Li+ 、Na+ 、K+ 、Rb+ 、Cs+ 、Be2+ 、Mg2+ 、Ca2+ 、Sr2+ 和Ba2+ 所組成之群組中之一或多種陽離子；及選自由F- 、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、OH- 、CO3 2- 、CH3 CO2 - 、N3 - 、HPO4 2- 、NO3 - 、SO4 2- 、CH3 (C6 H4 )SO3 - 、CH3 C6 H4 SO3 - 、COOH(C6 H4 )SO3 - 、CF3 SO2 - 、C6 H5 COO- 、CH3 COO- 、CF3 COO- 、BF4 - 、B(C6 H5 )4 - 、PF6 - 、P(C2 F5 )3 F3 - )- 、N(SO2 CF3 )2 - 、 N(SOC2 F5 )2 - 、N(COC2 F5 )2 - 、N(COC2 F5 )2 - 、N(SO2 C4 F9 )2 - 、N(COC4 F9 )2 - 、C(SO2 CF3 )3 - 、和C(SO2 CF3 )3 - 所組成之群組中之一或多種陰離子。
  13. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中該聚合反應引發劑係苯偶姻化合物、羥基酮化合物、胺基酮化合物或膦氧化物化合物。
  14. 如申請專利範圍第1項之用於光學元件之保護膜，其中相對於100重量份的該丙烯酸系聚合物，該丙烯酸系組成物進一步包含0.1至10重量份之可光聚合的化合物。
  15. 如申請專利範圍第14項之用於光學元件之保護膜，其中該可光聚合的化合物係多官能性丙烯酸酯、胺甲酸酯丙烯酸酯低聚物或環氧基丙烯酸酯低聚物。
  16. 如申請專利範圍第1項之保護膜，其中該基底厚度為5至500微米。
  17. 如申請專利範圍第1項之保護膜，其中壓感性黏著層厚度為2至100微米。
  18. 一種偏光板，包含如申請專利範圍第1項之保護膜，該保護膜附在該偏光板的一面或兩面上。
  19. 一種液晶顯示器，其具有如申請專利範圍第18項之偏光板附在液晶面板的一面或兩面上。
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