TWI466168B - Light source device - Google Patents

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TWI466168B TW098138096A TW98138096A TWI466168B TW I466168 B TWI466168 B TW I466168B TW 098138096 A TW098138096 A TW 098138096A TW 98138096 A TW98138096 A TW 98138096A TW I466168 B TWI466168 B TW I466168B
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Description

光源裝置
本發明係關於在半導體或液晶基板、甚至彩色濾光片等之製造工程中所被利用的曝光裝置用的光源裝置，尤其係關於具備有對於放射紫外線波長領域的光的光源供給能量束(energy beam)之手段的光源裝置。
近年來，在半導體或液晶基板、甚至彩色濾光片等之製造工程中，係藉由使用輸入電力較大的紫外線光源，來進行處理時間的短縮化、或對於大面積的被處理物的總括曝光等。隨此，對於作為紫外線光源的高壓放電燈，係被要求放射更為高亮度的光。但是，若單純加大對於高壓放電燈的輸入電力，對於被配置在放電容器內部的電極的負荷會增大，來自電極的蒸發物會成為肇因，使高壓放電燈內發生黑化，而造成短壽命化的原因。
為了解決如上所示之問題，已有各種提案被提出，例如，在專利文獻1中揭示一種光源，係配置封入有稀有氣體或水銀的放電容器，具備有用以對被配置在該放電容器之內部空間的種火生成用的一對電極間的中心照射連續狀或脈衝狀雷射束的雷射源。根據該專利文獻1所揭示的光源，藉由雷射束以使電漿呈高溫狀態的方式予以加熱，可由該已呈高溫狀態的電漿，使高亮度的紫外光放射。
上述光源係藉由被照射在腔室內的雷射束，與在腔室內相對向配置的一對電極間所產生的高溫電漿(Discharge Produced Plasma，以下亦稱之為DPP)呈獨立地生成高溫電漿(Laser Produced Plasma，以下亦稱之為LPP)。但是，該高溫電漿(LPP)係沿著雷射束的光軸進行振動，會有高溫電漿(LPP)沿著雷射束的光軸方向發生位置變動的問題。尤其當在放電容器內被封入有水銀及氙氣時，高溫電漿(LPP)的位置變動較為明顯。因此，會有在由光源所被放出的光產生閃爍的不良情形。其中，在上述專利文獻1中並未明確記載有關在放電容器內的何處入射雷射束。
(專利文獻1)美國專利2007/0228300號公報
本發明之目的在鑑於上述問題點，提供一種即使高溫電漿(LPP)沿著光軸方向作接續性振動，亦可防止光源閃爍的光源裝置。
本發明係為了解決上述課題，而採用如下所示之手段。
第1手段係一種光源裝置，係具備有：相對向配置有一對電極並且封入有放電媒體的放電燈、及朝向前述一對電極間照射能量束的能量束照射手段的光源裝置，其特徵為：前述能量束照射手段係在對前述電極供電而前述放電燈正在亮燈的狀態時，朝向形成在前述電極之前端附近的亮點照射能量束。
第2手段之光源裝置係在第1手段中，前述能量束照射手段係由相對於前述放電燈的管軸呈正交的方向照射能量束。
第3手段之光源裝置係在第1手段或第2手段中，具備有調整前述能量束照射手段的位置的位置調整手段，該位置調整手段係在使前述放電燈亮燈時，以將由前述能量束照射手段所照射的能量束朝向形成在前述電極之前端附近的亮點照射的方式作調整。
藉由本發明，即使所被入射的高溫電漿(LPP)等能量束作接續性振動，亦可防止光源閃爍。此外，藉由使形成在放電燈之電極間的高溫電漿(DPP)的亮點與高溫電漿(LPP)等能量束重複，可得極為高亮度的電漿。
使用第1圖至第4圖，說明本發明之第1實施形態。
第1圖係顯示本實施形態之發明之光源裝置之概略構成的斜視圖，第2圖係顯示以第1圖所示之光源裝置之直流亮燈方式亮燈時之放電燈之構成的正面剖面圖。
如第1圖所示，本實施形態之發明之光源裝置係具備 有：放電燈1；以包圍放電燈1的方式作配置的聚光反射鏡2；照射雷射束等能量束的能量束照射手段3；及使能量束照射手段3為可動而用以調整能量束之照射位置的能量束位置調整手段4。
如第2圖所示，放電燈1係例如封入水銀作為發光媒體的短弧(short arc)型高壓水銀燈。如該圖所示，在直流亮燈方式中，放電燈1以由大致球狀的發光部11及在其兩端接續的密封部12所形成的發光管13所構成，在發光部11內將陽極14及陰極15相對向配置，在陽極14與陰極15之間施加直流電壓，藉此作亮燈驅動。發光管13係以石英玻璃等透過紫外線的材料所構成，在發光部11內係被封入有水銀、氙氣等放電媒體。陽極14係由具有圓錐台形狀的前端部141及繼之的圓柱狀本體部142所構成，本體部142的根部由密封部12予以保持。陰極15係由形成在前端部的銳利的尖頭部151及繼之的圓柱狀本體部152所構成，本體部152的根部由密封部12予以保持。陽極14及陰極15係以例如鎢等高熔點材料所構成。
在第1圖中，聚光反射鏡2係整體而言具有碗型形狀的例如旋轉橢圓面反射鏡、拋物線反射面鏡，以其第1焦點與放電燈1之陰極15之尖頭部151之前端附近相一致並且包圍放電燈1周圍的方式作配置。聚光反射鏡2係以將HfO2 (氧化鉿)與SiO2 (氧化矽)交替層積而成的多層膜、或將Ta2 O5 (氧化鉭)與SiO2 (氧化矽)交替層積而成的多層膜等所構成的光反射面21所形成，將由放電燈1所出射的紫外光在光反射面21作反射而由光出射開口22出射。此外，在聚光反射鏡2的側面係形成有：用以使由能量束照射手段3所被放射的雷射束8入射至聚光反射鏡2內的開口23、及用以穿過有助於放電後的雷射束的開口24。
能量束照射手段3具備有用以朝向放電燈1的一對電極間14、15照射例如雷射束的雷射振盪器31，由雷射振盪器31所被放射的雷射束8係藉由被配置在雷射振盪器31之前方側的光學系5，以使束徑為最適大小的方式作調整，通過被設在聚光反射鏡2之側面的開口23而被照射在放電燈1的一對電極14、15間。以由能量束照射手段3所出射的連續波雷射而言，可例示半導體雷射或光纖雷射，以脈衝雷射而言，可例示YAG雷射或CO2 雷射等。雷射束8係例如波長為1065nm，且連續振盪輸出為500W的光纖雷射。
第2圖所示，當在電極14、15間施加直流電壓而將放電燈1作亮燈驅動時，藉由在一對電極14、15間發生放電而形成高溫電漿(DPP)6，亮點61會在陰極15的尖頭部151的前端附近形成。能量束位置調整手段4係使雷射振盪器31在X軸、Y軸、及Z軸方向的3次元方向為可動，以成為雷射束8的光軸9相對於放電燈1的管軸10呈正交，並且雷射束8聚光在陰極15的尖頭部151的前端附近的的亮點61的狀態的方式，將雷射振盪器31進行定位。其中，在此所謂的亮點係指比通過極間中心而與燈管軸呈正交的直線較為接近陰極側的領域，為大概形成在陰極之前端附近的領域。
如第2圖所示，本發明之光源裝置係以雷射束8的光軸9相對於放電燈1的管軸10呈正交的方式對放電燈1的亮點61進行照射，藉此可期待如下所示之效果。
首先，在放電燈1中的一對電極14、15間形成有沿著放電燈1的管軸10延伸的高溫電漿(DPP)6。此外，藉由使雷射束8入射至放電燈1的發光部11內，沿著雷射束8的光軸方向形成高溫電漿(LPP)7。由於放電燈1的管軸10與雷射束8的光軸9呈正交，因此形成為高溫電漿(DPP)6與高溫電漿(LPP)7彼此呈正交。如此一來，放電燈1的亮點61係在高溫電漿(DPP)6之中亮度為最高的部位，以在亮點61照射雷射束8的方式形成高溫電漿(LPP)7，且使高溫電漿(DPP)6的亮點61與高溫電漿(LPP)7重複，藉此可得極為高亮度的電漿。亦即，在利用以聚光反射鏡2所聚光的光的光源裝置中，光的取入領域成為局部，可使該光取入領域的光強度提升。
在此，即使假設高溫電漿(LPP)7已沿著雷射束8的光軸方向作接續性振動，亦可能減小光源閃爍。其原因在於在放電燈1的亮點61中使高溫電漿(DPP)6與高溫電漿(LPP)7重複而形成的混合電漿係高溫電漿(DPP)6之亮點61中的亮度極高，若整體觀看混合電漿，高溫電漿(LPP)7的亮度佔混合電漿的亮度的比例較低，因此因高溫電漿(LPP)7振動以致發生的光源的閃爍幾乎不會形成問題之故。
第3圖係作為第2圖所示之放電燈1之比較例的放電燈1的正面剖面圖。如該圖所示，該放電燈1係在一對電極14、15的極間中心，換言之在一對電極14、15間所形成的高溫電漿(DPP)6的中心照射雷射束8，在該情形下並無法抑制由放電燈1所放出之光的閃爍。亦即，在高溫電漿(DPP)6之中亮度較低的部位被照射雷射束8而形成有高溫電漿(LPP)7，因此若整體觀看混合電漿，高溫電漿(LPP)7的亮度佔混合電漿的亮度的比例會比第2圖所示之放電燈1為高。因此，高溫電漿(LPP)7對高溫電漿(DPP)6與高溫電漿(LPP)7的混合電漿的振動所造成的影響會變大，且光源閃爍會變大。
第4圖係顯示以第1圖所示之光源裝置之交流亮燈方式亮燈時之放電燈1之構成的正面剖面圖。
如該圖所示，交流亮燈方式中，放電燈1以由大致球狀的發光部11及在其兩端接續的密封部12所成的發光管13所構成，在發光部11內將電極16及電極17相對向配置，在電極16與電極17之間施加交流電壓，藉此作亮燈驅動。發光管13係以石英玻璃等透過紫外線的材料所構成，在發光部11內係被封入有水銀、氙氣等放電媒體。電極16、17係由形成在前端部的銳利的尖頭部161、171及繼之的圓柱狀本體部162、172所構成，本體部162、172的根部由密封部12予以保持。電極16、17係以例如鎢等高熔點材料所構成。
如該圖所示，若進行交流亮燈時，形成在發光部11內的高溫電漿(DPP)6的亮點62、63係在每次施加電壓的極性改變時即形成在各電極16、17的前端附近。由能量束照射手段3所照射的雷射束8係朝向一對電極16、17中任一電極16(17)的前端附近所形成的亮點62(63)照射。藉此，基於與直流亮燈方式的情形為相同的理由，即使高溫電漿(LPP)7振動而發生接續性位置變動，亦可防止光源閃爍。其中，在此所謂的亮點係指比通過極間中心而與燈管軸呈正交的直線較為接近各電極側的領域，亦即為形成在各電極之前端附近的領域。
使用第5圖至第7圖，說明本發明之第2實施形態。
第5圖係顯示本實施形態之發明之光源裝置之概略構成的斜視圖，第6圖係顯示以第5圖所示之光源裝置之直流亮燈方式亮燈時之放電燈之構成的正面剖面圖，第7圖係顯示以第5圖所示之光源裝置之交流亮燈方式亮燈時之放電燈之構成的正面剖面圖。
在第5圖中，本實施形態之發明之光源裝置係與第1圖所示之相同元件符號的構成相對應，因此省略詳細說明。其中，在第5圖中，θ1係表示繞X軸的旋轉角，θ2係表示繞Y軸的旋轉角，θ3係繞Z軸的旋轉角。
如第6圖所示，當在陽極14與陰極15間施加直流電壓而將放電燈1作亮燈驅動時，藉由在電極14、15間發生放電而形成高溫電漿(DPP)6，亮點61會在陰極15的尖頭部151的前端附近形成。如第5圖所示，能量束位置調整手段4係以X軸、Y軸、及Z軸方向的3次元方向、以及繞X軸為θ1的旋轉方向、繞Y軸為θ2的旋轉方向、及繞Z軸為θ3的旋轉方向，將由雷射振盪器31所放射的雷射束8的位置進行調整。藉此，能量束位置調整手段4係以成為雷射束8的光軸9相對於放電燈1的管軸10呈斜交的方式入射，並且雷射束8聚光在陰極15的尖頭部151的前端附近的的亮點61的狀態的方式，將雷射振盪器31進行定位。
如第6圖所示，本發明之光源裝置係以雷射束8的光軸9相對於放電燈1的管軸10呈斜交的方式對放電燈1的亮點61照射雷射束8，藉此可期待如下所示之效果。
在放電燈1中的一對電極14、15間形成有沿著放電燈1的管軸10延伸的高溫電漿(DPP)，此外，藉由使雷射束8入射至放電燈1的發光部11內，沿著雷射束8的光軸方向形成高溫電漿(LPP)。由於放電燈1的管軸10與雷射束8的光軸9呈斜交，因此相對於高溫電漿(DPP)6，高溫電漿(LPP)7以斜向形成。如此一來，放電燈1的亮點61係在高溫電漿(DPP)6之中亮度為最高的部位，因此以在亮點61照射雷射束8而形成高溫電漿(LPP)7，藉此使高溫電漿(DPP)6的亮點61與高溫電漿(LPP)7重複，可得極為高亮度的電漿。
在此，即使假設高溫電漿(LPP)7已沿著雷射束8的光軸方向作接續性振動，亦可能減小光源閃爍。其原因在於使放電燈1的高溫電漿(DPP)6的亮點61與高溫電漿(LPP)7重複而形成的混合電漿係高溫電漿(DPP)6之亮點61中的亮度極高，若整體觀看混合電漿，高溫電漿(LPP)7的亮度佔混合電漿的亮度的比例較低，因此可使因高溫電漿(LPP)7振動以致發生的光源的閃爍幾乎不會形成問題。
此外，如第7圖所示，若進行交流亮燈時，形成在發光部11內的高溫電漿(DPP)6的亮點62、63係在每次施加電壓的極性改變時即形成在各電極16、17的前端附近。由能量束照射手段3所照射的雷射束係朝向一對電極16、17中任一電極16(17)的前端附近所形成的亮點62(63)而由斜向照射。藉此，基於與直流亮燈方式的情形為相同的理由，即使高溫電漿(LPP)7振動而發生接續性位置變動，亦可防止光源閃爍。
1‧‧‧放電燈
2‧‧‧聚光反射鏡
3‧‧‧能量束照射手段
4‧‧‧能量束位置調整手段
5‧‧‧光學系
6‧‧‧高溫電漿(DPP)
7‧‧‧高溫電漿(LPP)
8‧‧‧雷射束
9‧‧‧光軸
10‧‧‧管軸
11‧‧‧發光部
12‧‧‧密封部
13‧‧‧發光管
14‧‧‧陽極
15‧‧‧陰極
16、17‧‧‧電極
21‧‧‧光反射面
22‧‧‧光出射開口
23‧‧‧開口
24‧‧‧開口
31‧‧‧雷射振盪器
61‧‧‧亮點
62、63‧‧‧亮點
141‧‧‧前端部
142‧‧‧本體部
151‧‧‧尖頭部
152‧‧‧本體部
161、171‧‧‧尖頭部
162、172‧‧‧本體部
第1圖係顯示第1實施形態之發明之光源裝置之概略構成的斜視圖。
第2圖係顯示以第1圖所示之光源裝置之直流亮燈方式亮燈時之放電燈之構成的正面剖面圖。
第3圖係作為第2圖所示之放電燈1之比較例的放電燈1的正面剖面圖。
第4圖係顯示以第1圖所示之光源裝置之交流亮燈方式亮燈時之放電燈1之構成的正面剖面圖。
第5圖係顯示第2實施形態之發明之光源裝置之概略構成的斜視圖。
第6圖係顯示以第5圖所示之光源裝置之直流亮燈方式亮燈時之放電燈之構成的正面剖面圖。
第7圖係顯示以第5圖所示之光源裝置之交流亮燈方式亮燈時之放電燈之構成的正面剖面圖。
1‧‧‧放電燈
6‧‧‧高溫電漿(DPP)
7‧‧‧高溫電漿(LPP)
8‧‧‧雷射束
9‧‧‧光軸
10‧‧‧管軸
11‧‧‧發光部
12‧‧‧密封部
13‧‧‧發光管
14‧‧‧陽極
15‧‧‧陰極
61‧‧‧亮點
141‧‧‧前端部
142‧‧‧本體部
151‧‧‧尖頭部
152‧‧‧本體部

Claims (3)

  1. 一種光源裝置，係具備有：相對向配置有一對電極並且封入有放電媒體的放電燈、及朝向前述一對電極間照射能量束的能量束照射手段的光源裝置，其特徵為：前述能量束照射手段係在對前述電極供電而前述放電燈正在亮燈的狀態時，朝向形成在前述電極之前端附近的亮點照射能量束。
  2. 如申請專利範圍第1項之光源裝置，其中，前述能量束照射手段係由相對於前述放電燈的管軸呈正交的方向照射能量束。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之光源裝置，其中，具備有調整前述能量束照射手段的位置的位置調整手段，該位置調整手段係在使前述放電燈亮燈時，以將由前述能量束照射手段所照射的能量束朝向形成在前述電極之前端附近的亮點照射的方式作調整。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101278425B1 (ko) * 2008-12-27 2013-06-24 에너제틱 테크놀로지 아이엔씨. 광원 장치
JP5180854B2 (ja) * 2009-01-23 2013-04-10 ウシオ電機株式会社 光源装置および当該光源装置を備える露光装置
KR101748461B1 (ko) 2010-02-09 2017-06-16 에너제틱 테크놀로지 아이엔씨. 레이저 구동 광원
JP5553042B2 (ja) * 2011-02-08 2014-07-16 ウシオ電機株式会社 放電ランプ装置
US9390892B2 (en) * 2012-06-26 2016-07-12 Kla-Tencor Corporation Laser sustained plasma light source with electrically induced gas flow
RU2534223C1 (ru) * 2013-04-11 2014-11-27 Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" Источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения
US9185788B2 (en) * 2013-05-29 2015-11-10 Kla-Tencor Corporation Method and system for controlling convection within a plasma cell
NL2013513A (en) * 2013-10-17 2015-04-20 Asml Netherlands Bv Photon source, metrology apparatus, lithographic system and device manufacturing method.
US9263238B2 (en) * 2014-03-27 2016-02-16 Kla-Tencor Corporation Open plasma lamp for forming a light-sustained plasma
US9741553B2 (en) 2014-05-15 2017-08-22 Excelitas Technologies Corp. Elliptical and dual parabolic laser driven sealed beam lamps
JP6707467B2 (ja) * 2014-05-15 2020-06-10 エクセリタス テクノロジーズ コーポレイション レーザ駆動シールドビームランプ
US11367989B1 (en) 2020-12-21 2022-06-21 Hamamatsu Photonics K.K. Light emitting unit and light source device
US11587781B2 (en) 2021-05-24 2023-02-21 Hamamatsu Photonics K.K. Laser-driven light source with electrodeless ignition

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06349451A (ja) * 1993-06-03 1994-12-22 Fujitsu Ltd 光源及びこれを用いた液晶表示装置
US5818169A (en) * 1995-06-26 1998-10-06 Ushiodenki Kabushiki Kaisha High power mercury lamp of the short arc type with specific cathode design and process for operation thereof
TW410360B (en) * 1998-02-05 2000-11-01 Purepulse Technologies Inc Microwave assisted flashlamps
US20070228300A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Energetiq Technology, Inc. Laser-Driven Light Source

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61193358A (ja) * 1985-02-22 1986-08-27 Canon Inc 光源装置
JP3200575B2 (ja) * 1997-09-01 2001-08-20 フェニックス電機株式会社 メタルハライドランプ
JP2001185080A (ja) * 1999-12-27 2001-07-06 Toshiba Lighting & Technology Corp 高圧放電ランプ、高圧放電ランプ装置および照明装置
US6653781B2 (en) * 2001-06-15 2003-11-25 General Electric Company Low pressure discharge lamp with end-of-life structure
JP2005038685A (ja) * 2003-07-18 2005-02-10 Seiko Epson Corp 照明装置、プロジェクタ及び発光管
JP4388365B2 (ja) * 2003-12-24 2009-12-24 フェニックス電機株式会社 光源装置
US7087914B2 (en) 2004-03-17 2006-08-08 Cymer, Inc High repetition rate laser produced plasma EUV light source
DE102005013760A1 (de) * 2005-03-22 2006-09-28 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Verfahren zur Herstellung einer Elektrode und Entladungslampe mit einer derartigen Elektrode
JP4993478B2 (ja) * 2007-03-23 2012-08-08 株式会社オーク製作所 放電ランプ及びその電極の製造方法
JP2009032487A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Lasertec Corp 点光源ランプ及びマスク検査装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06349451A (ja) * 1993-06-03 1994-12-22 Fujitsu Ltd 光源及びこれを用いた液晶表示装置
US5818169A (en) * 1995-06-26 1998-10-06 Ushiodenki Kabushiki Kaisha High power mercury lamp of the short arc type with specific cathode design and process for operation thereof
TW410360B (en) * 1998-02-05 2000-11-01 Purepulse Technologies Inc Microwave assisted flashlamps
US20070228300A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Energetiq Technology, Inc. Laser-Driven Light Source
WO2007120521A2 (en) * 2006-03-31 2007-10-25 Energetiq Technology, Inc. Lazer-driven light source

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