TWI459491B - 基板之處理裝置及處理方法 - Google Patents

Description

基板之處理裝置及處理方法 技術領域

本發明係有關一種一面以預定角度傾斜地運送基板一面進行處理之基板之處理裝置及處理方法。

背景技術

用於液晶顯示裝置之玻璃製基板上形成有電路圖案，而形成電路圖案於基板之方法係採用微影成像法。眾所週知，微影成像法係將抗蝕劑塗布於前述基板上，並透過形成有電路圖案之遮罩將光照射於前述抗蝕劑上。

接著，去除抗蝕劑上未照光的部份或已照光的部分，再蝕刻基板上去除抗蝕劑之部分，並在蝕刻後反覆進行多次將抗蝕劑去除等一連串製程，以形成電路圖案於前述基板上。

在前述微影成像法中，於前述基板上具有利用顯像液、蝕刻液或在蝕刻後去除抗蝕劑之剝離液等處理液處理基板之製程；及利用清洗液清洗之製程等，並且需要在清洗後去除附著殘留於基板之清洗液的乾燥製程。

以往，當對基板進行前述一連串處理時，前述基板係在水平狀態下由軸線配置成水平之運送滾子依序運送至各個處理室，並在處理室中利用處理液進行處理，且在處理後噴射壓縮氣體，以進行乾燥處理。

然而，最近使用於液晶顯示裝置之玻璃製基板具有大型化及薄型化的傾向。因此，當水平地運送基板時，運送滾子間的基板撓曲會增加，故會產生無法在各處理室中對基板整體板面均一地進行處理的問題。

再者，當基板大型化時，則必須將設有用以運送前述基板之運送滾子的運送軸拉長。又，由於基板大型化，供給至基板上之處理液也增多，施加於前述運送軸之負載也會隨著基板上處理液的量而變大，這樣一來，運送軸之撓曲也會增加。因此，基板會因運送軸之撓曲產生撓曲，而有無法進行均一處理的問題。

因此，當利用處理液處理基板時，可考慮以預定傾斜角度，例如，75度的角度傾斜地運送基板，以防止前述基板因處理液之重量產生撓曲。若傾斜地運送基板的話，處理液會在不積存於基板板面的情況下順利地從上方滑至下方，因此可防止基板因處理液之重量產生撓曲。

另外，當連續對基板進行藥液處理、清潔液處理及乾燥處理等多數處理時，處理裝置之結構係區劃形成有一列多數對基板依序進行多數處理之處理室。

設有一列多數處理室之處理裝置會拉長，此時，基板係從處理裝置之長方向的其中一端供給，並運送至前述裝置內進行處理，再從長方向的另一端排出，而從處理裝置之長方向的另一端排出之基板則傳遞至下一個製程。因此，對前述處理裝置之基板的供給或排出必須分別在處理裝置之長方向的其中一端與另一端進行，故有操作性不佳的問題。

因此，可考慮將基板之運送機與處理裝置平行地配 置，並將從處理裝置之其中一端供給處理後再從長方向之另一端排出的基板移置前述運送機，且利用該運送機送回處理裝置之長方向的其中一端，再傳遞至下一個製程，以提昇操作性。

發明揭示

若將從處理裝置之長方向的其中一端供給，且在該處理裝置中業經處理，並從長方向之另一端排出的基板送回處理裝置之長方向的其中一端的話，則可在相同位置進行對於處理裝置之基板供給與傳遞業經處理之基板至下一個製程的動作，因此可達到提昇操作性的目的。

然而，由於必須與處理裝置平行地設置運送機，因此必須確保用以設置運送機之專用空間。因此，無塵室內之空間必須有前述運送機之多餘空間，故會降地空間效率。

本發明係提供一種在一面以預定傾斜角度運送基板一面進行處理之情況下，不需多餘空間即可在相同位置對裝置本體進行基板之供給與排出基板之處理裝置及處理方法。

本發明係一種基板之處理裝置，係一面以預定角度傾斜地運送基板一面進行處理者，且前述基板之處理裝置之特徵在於包含有：裝置本體；傾斜運送裝置，係設於前述裝置本體上，且以預定角度傾斜地運送前述基板者；處理裝置，係 用以處理由前述傾斜運送裝置所運送之基板者；上部運送裝置，係設於前述裝置本體上部，且於供給前述基板時，以水平狀態運送前述基板者；及第一傾斜傳遞裝置，係設於前述裝置本體之其中一端，用以接收由前述上部運送裝置水平地運送而來之前述基板，且在使前述基板下降的同時使其傾斜至預定之角度並傳遞至前述傾斜運送裝置者。

本發明係一種基板之處理方法，係一面以預定角度傾斜地運送基板一面進行處理者，且前述基板之處理方法之特徵在於包含有以下步驟：以水平狀態於水平方向上運送前述基板的步驟；使以水平狀態運送之基板下降，並同時傾斜至預定之角度的步驟；一面以傾斜狀態運送傾斜成預定之角度之基板，一面進行處理的步驟；及使業經處理之基板從預定之傾斜角度返回至水平的步驟。

較佳地，前述處理方法更具有以下步驟：將業經處理且從預定之傾斜角度返回至水平之基板上升至可於前述水平方向上運送之高度的步驟；及在水平狀態下於前述水平方向上運送業已上升之基板，再於運送之途中排出基板的步驟。

根據本發明，由於使於水平方向上運送之基板在下降的同時傾斜，並於與水平運送方向相反之方向上運送且進行處理，因此不需將運送機設置於裝置本體之側邊，即可在相同位置進行基板之供給與排出。故，可在不需要多餘空間的情況下有效率地進行基板處理。

實施發明之最佳型態

以下，一面參照圖式一面針對本發明之實施型態作說明。

第1圖至第9圖係顯示本發明之第一實施型態，而第1圖係顯示本發明處理裝置之概略結構的透視圖，第2圖係正視圖，第3圖係平面圖。前述處理裝置具有裝置本體1，而前述裝置本體1具有多數業經分割之處理單元。在本實施型態中，第一至第五處理單元1A~1E係連結成一列並可分解。

如第4圖所示，各處理單元1A~1E具有架台2，而該架台2前面固持有以預定角度傾斜之箱型狀處理部3。前述架台2與處理部3上面設有上部運送部4。前述架台2之下端的橫向兩端設有一對可分解之板狀腳體5，且藉由前述腳體5於前述架台2之下面側形成空間部6。

前述空間部6可收納將機器7裝載於機架8之機器部9，而前述機器7包含供給在前述處理部進行後述之基板W處理時所使用之藥液或清潔液等處理液之槽及泵，或用以控制供給之控制裝置等。即，各處理單元1A~1E係以腳體5支撐架台2，並於處理部3下方形成空間部6，藉此分割成位於垂直方向上之處理部3、上部運送部4及機器部9等三個部分。

具有前述結構之處理裝置不僅可分割成多數處理單元1A~1E，各處理單元亦可分隔成處理部3、上部運送部4及機器部9。因此，即使在處理裝置大型化的情況下，不只可在運送時等分解成多數處理單元1A~1E，更可進行將各處理單元1A~1E分割成處理部3、上部運送部4及機器部9的處理。

即，處理裝置之裝置本體1不只將長度縮小，亦將高度縮小，因此當裝載在貨車之拖架上時，不會超過限制高度，而可進行運送。

如第4圖所示，前述處理部3之前面具有框體12，而該框體12設有可開關之蓋體11。前述框體12係以預定角度，例如，相對垂直線之75度角傾斜固持於前述架台2上，且於橫向之兩側面形成有供以75度角傾斜地運送之基板W通過的狹縫13(只圖示其中一側面)。

如第9圖所示，前述框體12內部以預定間隔於框體12之橫向上設有多數構成傾斜運送裝置之運送軸15(只圖示一個)。又，前述運送軸15上以預定間隔於軸方向上設有多數可旋轉之運送滾子14。又，前述運送軸15之上下端係由軸承16所支撐並可旋轉，且以與前述狹縫13相同角度傾斜軸線。

前述框體12內如後述般從前述狹縫13導入有基板W。導入框體12內之基板W係由設於前述運送軸15之運送滾子14支撐其為非裝置面之背面，而前述基板W之下端係由驅動滾子17所支撐。前述驅動滾子17設於驅動軸18之一端。又，前述驅動軸18係由軸承19a所支撐並可旋轉，且因驅動源19而旋轉驅動。

如此一來，背面由運送滾子14所支撐，下端由驅動滾子17所支撐之基板W係由前述驅動滾子17如後述般從前述第一處理單元1A朝第五處理單元1E以75度角傾斜地運送。

又，亦可將前述運送滾子14固定於運送軸15上，再利用旋轉驅動前述運送軸15，與前述驅動滾子17一同運送基板W，又，亦可在不驅動驅動滾子17之情況下只驅動運送滾子14來運送基板W。

各處理單元1A~1E之框體12內設有與以75度角傾斜地運送之基板W前面相對的處理裝置20。基板W係一面以75度角傾斜地運送一面利用前述處理裝置20處理其前面。

設於第一、第二處理單元1A、1B之處理裝置20係依序噴射例如剝離液或蝕刻液等藥液於基板W上之第一、二藥液處理裝置，而設於第三、第四處理單元1C、1D之處理裝置20係分別噴射清潔液於業經藥液處理之基板上W的清潔處理裝置。又，設於第五處理單元1E之處理裝置20係噴射氣體於業經清潔處理之基板W以進行乾燥的乾燥處理裝置。

因此，藉由將基板W供給至第一處理單元1A再運送至第五處理單元1E，可依序進行藥液處理、清潔處理及乾燥處理。

如第4圖所示，前述上部運送部4具有平板狀基部21，且前述基部21上以預定間隔設有多數具有運送滾子22之運送軸23，而該等運送軸23之軸線呈水平狀態，並因圖未示之驅動源而可旋轉驅動。又，基部21係由可裝卸之蓋體24所覆蓋。

第一至第五處理單元1A~1E之上部運送部4係一列地配置於裝置本體1上部，並構成以水平狀態於水平方向上運送基板W之上部運送裝置。又，基板W係從第五處理單元1E朝第一處理單元1A運送，即，基板W係由設於前述處理部3之傾斜運送裝置之運送滾子17運送於與運送方向相反之方向上。

前述裝置本體1之長方向一端，即，第五處理單元1E側設有作為水平傳遞裝置之水平傳遞單元31。如第5圖與第6圖所示，前述水平傳遞單元31具有框體32，而前述框體32上部形成有上部運送部33。又，前述上部運送部33設有多數可旋轉且具有旋轉滾子34之運送軸35，而該等運送軸35之軸線垂直於裝置本體1之長方向上，並因圖未示之驅動源而可旋轉驅動。如第6圖所示，上部運送部33之其中一端為以水平狀態供給基板W之供給部36，而另一端為送出由前述運送滾子34運送而來之基板W的輸出部37。

從前述供給部36供給再以水平狀態從前述輸出部37送出之基板W係藉由圖未示之機器人等送入第五處理單元1E之上部運送部4。送入第五處理單元1E之上部運送部4的基板W係如前所述，藉由各處理單元之上部運送部4以水平狀態依序朝第一處理單元1A運送。

前述框體32內部設有架台41。如第6圖所示，樞軸43係由一對第一軸承42支撐於前述架台41上並可旋轉。又，前述樞軸43之兩端部設有第二軸承44，且一對第二軸承44係安裝於平板狀姿勢轉換構件45下面之預定方向中途部的 兩端部。

前述姿勢轉換構件45上面設有多數具有接收滾子46之接收軸47，而該等接收軸47之軸線與前述樞軸43之軸線垂直，且該等接收軸47可沿著與前述樞軸43之軸線垂直的方向旋轉，並因圖未示之驅動源而可旋轉驅動。如第5圖所示，前述姿勢轉換構件45上面之長方向一端部設有端部支撐滾子48，而該端部支撐滾子48之旋轉軸線與前述姿勢轉換構件45的板面垂直。

前述姿勢轉換構件45之前述第二軸承44的另一端部側樞接有構成姿勢轉換裝置之環51的一端。又，前述環51之另一端樞接於可動體52，而該可動體52係由一對線性導件53支撐並可移動。又，前述線性導件53係沿著垂直方向設於前述架台41上。

前述可動體52上用螺絲連接有螺絲軸54，而該螺絲軸54因驅動源55而可旋轉驅動。若使螺絲軸54旋轉驅動的話，前述可動體52則可根據其旋轉方向沿著前述線性導件53上下移動。

當前述可動體52位於下降位置時，前述姿勢轉換構件45則如第5圖之實線所示變成水平狀態。當從前述狀態中旋轉前述螺絲軸54使前述可動體52朝上升方向驅動時，前述姿勢轉換構件45則從水平狀態變成如第5圖之虛線所示以預定角度，即，75度角傾斜的狀態。

前述姿勢轉換構件45係利用設於其上面之接收滾子46接收以75度之傾斜角度從第五處理單元1E之處理部3輸出 之基板W的背面。此時，基板W之下端係由端部支撐滾子48所支撐。

之後，接收到基板W之姿勢轉換構件45旋轉驅動成水平狀態，即，水平傳遞單元31在接收由各處理單元1A~1E一面以75度角運送一面進行處理，並從第五處理單元1E輸出之基板W後，再將其角度從75度之傾斜角度轉換成水平狀態。

前述裝置本體1之長方向的另一端，即，第一處理單元1A側設有作為傾斜傳遞裝置之傾斜傳遞單元61。前述傾斜傳遞單元61係在接收由上部運送部4水平地運送來之基板後，使前述基板W下降並以75度角傾斜，以傳遞至第一處理單元1A之處理部3。

即，如第7圖與第8圖所示，前述傾斜傳遞單元61具有框體62，而前述框體62內設有上下可動體63。又，上下可動體63因上下驅動裝置64而可驅動於垂直方向上。

前述上下驅動裝置64具有設於前述上下可動體63一側面的接收構件65，而該接收構件65可滑動地接合沿著垂直方向設置之線性導件66。

前述框體62之一側面設有螺帽體67，而前述螺帽體67用螺絲連接有軸線沿著垂直方向之螺絲軸68。又，螺絲軸68因設於下端之驅動源69而可旋轉驅動。藉此，可驅動前述上下可動體63於前述框體62內的垂直方向上。

如第8圖所示，樞軸76係由一對第一軸承75支撐於前述上下可動體63上並可旋轉。又，前述樞軸76之兩端部設有 第二軸承77，且一對第二軸承77係安裝於作為接收部之姿勢轉換構件78下面之預定方向中途部。

前述姿勢轉換構件78上面設有多數具有接收滾子79之接收軸81，而該等接收軸81之軸線與前述樞軸76之軸線垂直，且該等接收軸81可沿著與前述樞軸76之軸線垂直的方向旋轉，並因圖未示之驅動源而可旋轉驅動。如第7圖所示，前述姿勢轉換構件78上面之長方向一端部設有端部支撐滾子82，而該端部支撐滾子82之旋轉軸線與前述姿勢轉換構件78的板面垂直。

前述姿勢轉換構件78之前述第二軸承77的另一端部側樞接有構成姿勢轉換裝置85之環84的一端。又，前述環84之另一端樞接於接收構件86，而該接收構件86係由線性導件87所支撐且可移動。又，前述線性導件87係沿著垂直方向設於前述上下可動體63上。

前述接收構件86上用螺絲連接有螺絲軸88，而該螺絲軸88因驅動源89而可旋轉驅動。若使螺絲軸88旋轉驅動的話，前述接收構件86則可根據其旋轉方向沿著前述線性導件87上下移動。

當前述接收構件86位於下降位置時，前述姿勢轉換構件78則如第7圖之實線所示呈水平狀態。當從前述狀態中旋轉前述螺絲軸88使前述接收構件86朝上升方向驅動時，前述姿勢轉換構件78則從水平狀態變成如第7圖之虛線所示以預定角度，即，75度角傾斜的狀態。

姿勢轉換構件78如第7圖之實線所示由姿勢轉換裝置85維持成水平狀態，且由上下驅動機構64驅動於同一圖之虛線所示的上升位置上。驅動於上升位置之姿勢轉換構件78係定位於與第一處理單元1A之上部運送部4相同高度的位置處。

藉此，可將以水平狀態從第五處理單元1E之上部運送部4運送至第一處理單元1A之上部運送部4的基板W傳遞至設於前述姿勢轉換構件78之接收滾子79。

當姿勢轉換構件78接收到基板W時，上下驅動裝置64便開始作動，使前述姿勢轉換構件78開始下降，隨著前述下降之連動，姿勢轉換裝置85亦開始作動，使姿勢轉換構件78從水平狀態傾斜成75度角。

以75度角傾斜之基板W係由前述姿勢轉換構件78之接收滾子79支撐其背面，而由端部支撐滾子82支撐其下端。此外，藉由旋轉驅動設有前述接收滾子79之接收軸81，前述基板W可從前述傾斜傳遞單元61輸入前述第一處理單元1A。

接著，針對具有前述結構之處理裝置的基板W處理動作加以說明。

未處理之基板W係由圖未示之機器人等供給至水平傳遞單元31之上部運送部33的供給部36。供給至上部運送部33之基板W係由設於前述上部運送部33之運送滾子34從輸出部37輸出，再送入第五處理單元1E之上部運送部4。

輸入第五處理單元1E之上部運送部4的基板W係以水平狀態於各處理單元1D~1A之上部運送部4的水平方向運送，並從第一處理單元1A之上部運送部4傳遞至傾斜傳遞單元61。

即，傾斜傳遞單元61係在前述姿勢轉換構件78呈水平狀態之情況下上升，並待機於與前述第一處理單元1A之上部運送部4具有相同高度之位置處。因此，運送至第一處理單元1A之上部運送部4的基板W可從前述上部運送部4傳遞至前述姿勢轉換構件78之接收滾子79。

當姿勢轉換構件78接收到基板W時，前述傾斜傳遞單元61之上下驅動裝置64便開始作動，使前述姿勢轉換構件78下降，同時態轉換裝置85亦開始作動，使姿勢轉換構件78從水平狀態傾斜成75度角。

與前述姿勢轉換構件78一起傾斜成75度角之基板W係藉由旋轉驅動設於姿勢轉換構件78之接收滾子79而輸入第一處理單元1A內，並藉由設於前述處理部3內之運送軸15上的運送滾子14支撐其背面，而藉由驅動滾子17支撐其下端。此外，藉由旋轉驅動驅動滾子17，基板W可以75度角傾斜地從第一處理單元1A朝第五處理單元1E運送。

當利用傾斜傳遞單元61將基板W從第一處理單元1A之上部運送部4傳遞至該處理單元1A之處理部3時，可利用前述姿勢轉換構件78同時進行基板W之下降與傾斜。因此，相較於分別進行基板之下降與傾斜之情況下，可縮短操作時間。

供給至第一處理單元1A之基板W係從第一處理單元1A朝第五處理單元1E運送。基板W係在運送過程中利用各處理單元1A~1E之處理裝置20依序進行預定處理。

即，在第一、第二處理單元1A、1B進行藥液處理，而在第三、第四處理單元1C、1D進行清潔藥液之清潔處理。接著，在第五處理單元1E進行去除附著於基板W之清潔液的乾燥處理。

業經第五處理單元1E乾燥處理過之基板W係傳遞至水平傳遞單元31，即，水平傳遞單元31之姿勢轉換構件45係在以75度角傾斜之狀態下進行待機。藉此，可利用前述姿勢轉換構件45之接收滾子46支撐從第五處理單元1E送出之基板W的背面。

當姿勢轉換構件45接收到基板W時，姿勢轉換裝置50之驅動源55便開始作動，使可動體52向下驅動。如此一來，前述姿勢轉換構件45會透過環51從傾斜狀態轉換成水平狀態。接著，藉由圖未示之機器人等取出姿勢轉換成水平狀態之基板W，再傳遞至下一個製程。

因此，根據本實施型態之處理裝置，未處理之基板W係水平地運送於設於裝置本體1上部之第五至第一處理單元1E~1A的上部運送部4上，再傳遞至傾斜傳遞單元61之姿勢轉換構件78，接著，在前述姿勢轉換構件78下降的同時以75度角傾斜，再供給至第一處理單元1A之處理部3。

以75度角傾斜之基板W係在傾斜的狀態下由上部運送部4運送於與水平運送方向相反之方向上，即，一面從第一處理單元1A朝第五處理單元1E運送一面以各處理單元進行預定處理。

即，前述基板W之運送路徑係形成如第2圖之箭號X所示，從裝置本體1之其中一端上方供給，且在另一端一面下降一面傾斜後，再從另一端朝其中一端一面運送一面進行處理，並如同一圖之箭號Y所示，從另一端水平地排出的路徑，即，基板W之運送路徑的側面形狀大致形成字狀。

因此，可在裝置本體1之一端利用例如1台傳遞用機器人進行對裝置本體之基板W的供給與輸出，故可達到提昇操作性與有效利用設備之目的。

並且，由於將上部運送部4設於裝置本體1上部，因此可確保側面形狀大略呈字狀之基板W的運送路徑。故，除了設置裝置本體1之空間以外不需要多餘的空間，因此可有效利用無塵室之空間。

由上部運送部4水平地運送至裝置本體1之另一端的基板W係利用傾斜傳遞單元61同時進行下降與傾斜，再傳遞至第一處理單元1A。

因此，相較於分別進行基板W之下降與傾斜的情況，不僅可縮短傳遞所需之時間，亦可只利用傾斜傳遞單元61進行基板W之下降與傾斜，因此可達到將裝置小型化之目的。

在前述一實施型態中，係將水平傳遞單元31設於裝置本體1之其中一端，且將傾斜傳遞單元61設於另一端，並從裝置本體1之其中一端供給基板W再運送至另一端，接著在側面形狀形成字狀之運送路徑回轉，並從裝置本體1之其中一端輸出。

取而代之，第10圖所示之處理裝置係將第一傾斜傳遞單元61A設於裝置本體1之第一處理單元1A側的端部，且將第二傾斜傳遞單元61B設於第五處理單元1E側之端部。又，該等第一、第二傳遞單元61A、61B具有與前述一實施型態所示之傾斜傳遞單元61相同地結構。

另一方面，未處理之基板W係如同一圖之箭號S所示，利用機器人等從第三處理單元1C之上部運送部4供給，供給至第三處理單元1C之上部運送部4的基板W係朝第一處理單元1A水平地運送，並從前述第一處理單元1A之上部運送部4傳遞至以水平狀態待機於第一傾斜傳遞單元61A之上升位置處的姿勢轉換構件78。

接收到基板W之姿勢轉換構件78係一面下降一面傾斜，並以75度角傾斜基板W，再傳遞至第一處理單元1A之處理部4。供給至第一處理單元1A之處理部4的基板W係朝第五處理單元1E運送，並在該運送過程中進行預定處理。

業經第五處理單元1E處理過之基板W係在使第二傾斜傳遞單元61B以75度角傾斜後傳遞至待機於下降位置之姿勢姿勢轉換構件78。接收到基板W之姿勢轉換構件78係一面從傾斜狀態旋動成水平方向一面上升。

固持於在上升位置形成水平狀態之姿勢轉換構件78的基板W係從第五處理單元1E之上部運送部4運送至第三處理單元1C之上部運送部，接著如同一圖之箭號O所示，利用圖未示之機器人等輸出。

即，在該實施型態之中，由於裝置本體1之其中一端與另一端分別設有傾斜傳遞單元61A、61B，因此可在一列地設於裝置本體1上部之上部運送部4中位於中途部之第三處理單元1C的上部運送部4進行基板W之供給與輸出。

即，當無法在裝置本體1之長方向端部確保用以對前述裝置本體1進行基板之供給與輸出的操作空間等的情況下，可在裝置本體1之長方向中途部側邊的同一處對前述裝置本體1進行基板之供給與輸出。

又，在第10圖所示之實施型態中，亦可將未處理之基板W從第二傾斜傳遞單元61B上部供給，再運送於上部運送部4且以水平狀態傳遞至第一傾斜傳遞單元61A，接著，以75度角傾斜基板W並依序運送於第一至第五之處理部3，且在處理後利用第二傾斜傳遞單元61B將姿勢轉換成水平狀態，並且在該位置或轉變成水平狀態的同時進行上升，再從該上升位置輸出基板W。

在前述一實施型態中，係將水平傳遞單元設於裝置本體之其中一端，並透過前述水平傳送單元之上部運送部將未處理之基板傳遞至第五處理單元1E之上部運送部，但亦可將基板直接供給第五處理單元1E之上部運送部。

1．．．裝置本體

1A~1E．．．第一至第五處理單元

2．．．架台

3．．．處理部

4．．．上部運送部

5．．．腳體

6．．．空間部

7．．．機器

8．．．框架

9．．．機器部

11．．．蓋體

12．．．框體

13．．．狹縫

14．．．運送滾子

15．．．運送軸

16．．．軸承

17．．．驅動滾子

18．．．驅動軸

19．．．驅動源

19a．．．軸承

20．．．處理裝置

21．．．基部

22．．．運送滾子

23．．．運送軸

24．．．蓋體

31．．．水平傳遞單元

32．．．框體

33．．．上部運送部

34．．．運送滾子

35．．．運送軸

36．．．供給部

37．．．輸出部

41．．．架台

42．．．第一軸承

43．．．樞軸

44．．．第二軸承

45．．．姿勢轉換構件

46．．．接收滾子

47．．．接收軸

48．．．端部支撐滾子

50．．．姿勢轉換裝置

51．．．環

52．．．可動體

53．．．線性導件

57．．．螺絲軸

55．．．驅動源

61,61A,61B．．．傾斜傳遞單元

62．．．框體

63．．．上下可動體

64．．．上下驅動裝置

65．．．接收構件

66．．．線性導件

67．．．螺帽體

68．．．螺絲軸

69．．．驅動源

75．．．第一軸承

76．．．樞軸

77．．．第二軸承

78．．．姿勢轉換構件

79．．．接收滾子

81．．．接收軸

82．．．端部支撐滾子

84．．．環

85．．．姿勢轉換裝置

86．．．接收構件

87．．．線性導件

88．．．螺絲軸

89．．．驅動源

第1圖係顯示本發明一實施型態之處理裝置之概略結構透視圖。

第2圖係前述處理裝置之正視圖。

第3圖係前述處理裝置之平面圖。

第4圖係處理單元之分解透視圖。

第5圖係水平傳遞單元之側視圖。

第6圖係水平傳遞單元之正視圖。

第7圖係傾斜傳遞單元之側視圖。

第8圖係傾斜傳遞單元之正視圖。

第9圖係顯示處理單元之處理部內的圖。

第10圖係顯示本發明另一實施型態之處理裝置的平面圖。

1．．．裝置本體

1A~1E．．．第一至第五處理單元

2．．．架台

3．．．處理部

4．．．上部運送部

5．．．腳體

6．．．空間部

7．．．機器

8．．．框架

9．．．機器部

31．．．水平傳遞單元

61．．．傾斜傳遞單元

Claims (5)

1. 一種基板之處理裝置，一面以預定角度傾斜地運送基板一面進行處理，且前述基板之處理裝置之特徵在於包含有：裝置本體，將複數個處理單元連結成一列；傾斜運送裝置，設於前述裝置本體上，且以預定角度傾斜地運送前述基板；處理裝置，用以處理由前述傾斜運送裝置所運送之基板；上部運送裝置，設於前述裝置本體上部，且於前述傾斜運送裝置之運送方向的相反方向，以水平狀態運送前述基板；及第一傾斜傳遞裝置，設於前述裝置本體之其中一端側，具有可朝旋轉方向及上下方向驅動地設置之第一接收部，該第一接收部以水平狀態由前述上部運送裝置接收前述基板時，前述第一接收部自身朝旋轉方向及下降方向被驅動而使前述基板傾斜至預定之角度並傳遞至前述傾斜運送裝置。
2. 如申請專利範圍第1項之基板之處理裝置，其中前述第一傾斜傳遞裝置包含有：前述第一接收部，具有用以接收前述基板之接收滾子；上下可動體，支撐前述第一接收部並使其可旋轉，且可由上下驅動機構朝上下方向驅動；及旋轉驅動機構，設於前述上下可動體，且用以使 前述第一接收部旋轉成水平狀態與傾斜至預定角度之狀態。
3. 一種基板之處理裝置，是一面以預定角度傾斜地運送基板一面進行處理，且前述基板之處理裝置之特徵在於包含有：裝置本體，將複數個處理單元連結成一列；傾斜運送裝置，設於前述裝置本體，且以預定角度傾斜地運送前述基板；處理裝置，用以處理由前述傾斜運送裝置所運送之基板；上部運送裝置，設於前述裝置本體上部，且於前述傾斜運送裝置之運送方向的相反方向，以水平狀態運送前述基板；第一傾斜傳遞裝置，設於前述裝置本體之其中一端側，具有可朝旋轉方向及上下方向驅動地設置之第一接收部；及第二傾斜傳遞裝置，設於前述裝置本體之另一端側，具有可朝旋轉方向及上下方向驅動地設置之第二接收部，該第一接收部以水平狀態由前述上部運送裝置接收前述基板時，前述第一接收部自身朝旋轉方向及下降方向被驅動而使前述基板傾斜至預定之角度並傳遞至前述傾斜運送裝置，該第二接收部在傾斜之狀態接收一面藉由前述傾 斜運送裝置運送一面藉由前述處理裝置處理後的基板時，前述第二接收部自身朝旋轉方向及上升方向被驅動而使前述基板成水平並傳遞至前述上部運送裝置。
4. 一種基板之處理裝置，是一面以預定角度傾斜地運送基板一面進行處理，且前述基板之處理裝置之特徵在於包含有：裝置本體，將複數個處理單元連結成一列；傾斜運送裝置，設於前述裝置本體，且沿前述裝置本體之長方向以預定角度傾斜地運送前述基板；處理裝置，用以處理由前述傾斜運送裝置所運送之基板；上部運送裝置，設於前述裝置本體上部，且於前述傾斜運送裝置之運送方向的相反方向，以水平狀態運送前述基板；第一傾斜傳遞裝置，設於前述裝置本體之長方向的其中一端側，具有可朝旋轉方向及上下方向驅動地設置之第一接收部；及第二傾斜傳遞裝置，設於前述裝置本體之長方向的另一端側，具有可朝旋轉方向及上下方向驅動地設置之第二接收部，前述第一接收部以水平狀態接收從前述上部運送裝置之長方向中途部所供給且水平運送之前述基板時，前述第一接收部自身朝旋轉方向及下降方向被驅動而使前述基板傾斜至預定之角度並傳遞至前述傾斜運 送裝置，前述第二接收部在傾斜之狀態接收一面藉由前述傾斜運送裝置運送一面藉由前述處理裝置處理後的基板時，前述第二接收部自身朝旋轉方向及上升方向被驅動而使前述基板成水平並傳遞至前述上部運送裝置，藉此使前述基板藉由前述上部運送裝置運送而使其從該長方向中途部運出。
5. 如申請專利範圍第3或4項之基板之處理裝置，其中前述第一傾斜傳遞裝置包含有：前述第一接收部，具有用以接收前述基板之接收滾子；上下可動體，支撐前述第一接收部並使其可旋轉，且可藉由上下驅動機構朝上下方向被驅動；及旋轉驅動機構，設於前述上下可動體，且用以使前述第一接收部旋轉成水平狀態與傾斜至預定角度之狀態，前述第二傾斜傳遞裝置包含有：前述第二接收部，具有用以接收前述基板之接收滾子；上下可動體，支撐前述第二接收部並使其可旋轉，且可藉由上下驅動機構朝上下方向被驅動；及旋轉驅動機構，用以將設於前述上下可動體之前述第二接收部旋轉成水平狀態與傾斜至預定角度之狀態。