TWI456360B - 基板處理系統及基板處理方法 - Google Patents

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Claims (14)

  1. 一種基板處理系統，可因應於對1片基板進行至少2次曝光之曝光裝置；包含：載具區塊，將收納有複數片基板之載具送入送出；處理部，對於從載具區塊逐片送入之基板，進行形成包含感光材料膜之塗布膜的塗布處理、以及將曝光成既定曝光圖案之該感光材料膜加以顯影的顯影處理；介面區塊，在該處理部與將該感光材料膜曝光成既定曝光圖案之曝光裝置間，傳送基板；基板輸送機構，於該述各部分之間輸送基板；及輸送控制機構，控制由該基板輸送機構所進行的基板輸送；其特徵為：該處理部具有：第1塗布處理部，進行對應於第1次曝光的第1次塗布處理；第1顯影處理部，進行第1次顯影處理；第2塗布處理部，進行對應於第2次曝光的第2次塗布處理；及第2顯影處理部，進行第2次顯影處理；該第2顯影處理部上堆疊該第1塗布處理部而成之第1堆疊體、與該第1顯影處理部上堆疊該第2塗布處理部而成之第2堆疊體二者並排；且該輸送控制機構依如下方式控制該輸送機構：將基板從該載具區塊之載具送往該處理部之該第1塗布處理部；於該第1塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第1次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第1顯影處理部；於該第1顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板送往該第2塗布處理部；於該第2塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第2次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第2顯影處理部；於該第2顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板收納到該載具區塊之載具。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板處理系統，其中，該介面區塊具備用以緩衝複數片基板之緩衝部。
  3. 一種基板處理系統，可因應於對1片基板進行至少2次曝光之曝光裝置；包含：載具區塊，將收納有複數片基板之載具送入送出；處理部，對從載具區塊逐片送入之基板，進行形成包含感光材料膜之塗布膜的塗布處理、以及將曝光成既定曝光圖案之該感光材料膜加以顯影的顯影處理；介面區塊，在該處理部與將該感光材料膜曝光成既定曝光圖案之曝光裝置間，傳送基板；基板輸送機構，於該等部分間輸送基板；及輸送控制機構，控制由該基板輸送機構所進行的基板輸送；其特徵為：該處理部具有：第1塗布處理部，進行對應於第1次曝光的第1次塗布處理；第1顯影處理部，進行第1次顯影處理；第2塗布處理部，進行對應於第2次曝光的第2次塗布處理；及第2顯影處理部，進行第2次顯影處理；該第2顯影處理部上堆疊該第1塗布處理部而成之第1堆疊體、與該第1顯影處理部上堆疊該第2塗布處理部而成之第2堆疊體二者並排；該輸送控制機構依如下方式控制該輸送機構：將基板從該載具區塊之載具送往該處理部之該第1塗布處理部；於該第1塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第1次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第1顯影處理部；於該第1顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板送往該第2塗布處理部；於該第2塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第2次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第2顯影處理部；於該第2顯影處理部之顯影處 理結束後，將該基板收納到該載具區塊之載具；且該介面區塊具備用以緩衝複數片基板的緩衝部，於該緩衝部進行基板之緩衝，使處理量為曝光裝置之處理量的一半。
  4. 如申請專利範圍第2或3項之基板處理系統，其中，該緩衝部具有送入用緩衝晶圓匣盒，用以在往曝光裝置送入基板時進行緩衝。
  5. 如申請專利範圍第4項之基板處理系統，其中，該緩衝部更具有送出用緩衝晶圓匣盒，該送出用緩衝晶圓匣盒用以緩衝從曝光裝置送出之基板。
  6. 如申請專利範圍第5項之基板處理系統，其中，該送入用緩衝晶圓匣盒或者該送入用及該送出用緩衝晶圓匣盒包含第1次曝光用與第2次曝光用。
  7. 如申請專利範圍第1或3項之基板處理系統，其中，該第1塗布處理部與該第2塗布處理部具備感光材料膜塗布處理層，該感光材料膜塗布處理層整合有用以塗布感光材料膜之單元，該第1顯影處理部與該第2顯影處理部具備顯影處理層，該顯影處理層整合有用以進行顯影處理之單元；且該輸送機構具有：主輸送裝置，各於該感光材料膜塗布處理層內與該顯影處理層內，往各單元輸送基板；及傳送機構，各於該第1堆疊體與該第2堆疊體，沿縱向聯繫各處理層。
  8. 如申請專利範圍第7項之基板處理系統，其中，該第1塗布處理部除了該感光材料膜塗布處理層以外，也具備下部抗反射膜塗布處理層與上部抗反射膜塗布處理層的至少其中之一，該下部抗反射膜塗布處理層整合有用以在該感光材料膜之下部形成抗反射膜 之單元，該上部抗反射膜塗布處理層整合有用以在該感光材料膜之上部形成抗反射膜之單元。
  9. 如申請專利範圍第7項之基板處理系統，其中，該第2塗布處理部除了該感光材料膜塗布處理層以外，也具備清洗/表面處理層，該清洗/表面處理層整合有對在第1塗布處理部以塗布處理形成之塗布膜進行清洗處理與表面處理之至少其中之一的單元。
  10. 如申請專利範圍第9項之基板處理系統，其中，該清洗/表面處理層進行硬化處理，作為表面處理。
  11. 如申請專利範圍第7項之基板處理系統，其中，該第2塗布處理部除了該感光材料膜塗布處理層以外，也具備上部抗反射膜塗布處理層，該上部抗反射膜塗布處理層整合有用以在該感光材料膜之上部形成抗反射膜之單元的上部抗反射膜塗布處理層。
  12. 一種基板處理方法，使用可因應於對1片基板進行至少2次曝光之曝光裝置的基板處理系統；該系統包含：載具區塊，將收納有複數片基板之載具送入送出；處理部，對從載具區塊逐片送入之基板，進行形成包含感光材料膜之塗布膜的塗布處理、以及將曝光成既定曝光圖案之該感光材料膜加以顯影的顯影處理；介面區塊，於該處理部與將該感光材料膜曝光成既定曝光圖案之曝光裝置間，傳送基板；及基板輸送機構，於該等部分間輸送基板；且該處理部包含：第1塗布處理部，進行對應於第1次曝光的第1次塗布處理；第1顯影處理部，進行第1次顯影處理；第2塗布處理部，進行對應於第2次曝光的第2次塗布處理；第2顯影處理部，進行第2次顯影處理；且該第2顯影處理部上堆疊該第1塗布處理部而成之第1堆疊體、與該第1顯影處理部上堆疊該第2塗布處理部而成之第2堆疊體二者並排； 其特徵為：將基板從該載具區塊之載具送往該處理部之該第1塗布處理部；於該第1塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第1次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第1顯影處理部；於該第1顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板送往該第2塗布處理部；於該第2塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第2次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第2顯影處理部；於該第2顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板收納到該載具區塊之載具。
  13. 一種基板處理方法，使用可因應於對1片基板進行至少2次曝光之曝光裝置的基板處理系統；該基板處理系統包含：載具區塊，將收納有複數片基板之載具送入送出；處理部，對從載具區塊逐片送入之基板，進行形成包含感光材料膜之塗布膜的塗布處理、以及將曝光成既定曝光圖案之該感光材料膜加以顯影的顯影處理；介面區塊，於該處理部與將該感光材料膜曝光成既定曝光圖案之曝光裝置間，傳送基板；及基板輸送機構，於該等部分間輸送基板；且該處理部包含：第1塗布處理部，進行對應於第1次曝光的第1次塗布處理；第1顯影處理部，進行第1次顯影處理；第2塗布處理部，進行對應於第2次曝光的第2次塗布處理；第2顯影處理部，進行第2次顯影處理；且該第2顯影處理部上堆疊該第1塗布處理部而成之第1堆疊體、與該第1顯影處理部上堆疊該第2塗布處理部而成之第2堆疊體二者並排；其特徵為：將基板從該載具區塊之載具送往該處理部之該第1塗布處理部；於該第1塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第1次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第1顯影處理部；於該第1 顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板送往該第2塗布處理部；於該第2塗布處理部之塗布處理結束後，將該基板經由該介面區塊送往該曝光裝置；於該曝光裝置之第2次曝光後，將該基板經由該介面區塊送往該處理部之該第2顯影處理部；於該第2顯影處理部之顯影處理結束後，將該基板收納到該載具區塊之載具；而且於該介面區塊進行基板之緩衝，以使處理量成為曝光裝置之處理量的一半。
  14. 一種記憶媒體，係儲存有程式之電腦可讀取的記憶媒體；該程式在電腦上動作，用以控制可因應於對1片基板進行至少2次曝光之曝光裝置的基板處理系統；此基板處理系統包含：載具區塊，將收納有複數片基板之載具送入送出；處理部，對從載具區塊逐片送入之基板，進行形成包含感光材料膜之塗布膜的塗布處理、以及將曝光成既定曝光圖案之該感光材料膜加以顯影的顯影處理；介面區塊，於該處理部與將該感光材料膜曝光成既定曝光圖案之曝光裝置間，傳送基板；及基板輸送機構，於該等部分間輸送基板；且該處理部包含：第1塗布處理部，進行對應於第1次曝光的第1次塗布處理；第1顯影處理部，進行第1次顯影處理；第2塗布處理部，進行對應於第2次曝光的第2次塗布處理；第2顯影處理部，進行第2次顯影處理；且該第2顯影處理部上堆疊該第1塗布處理部而成之第1堆疊體、與該第1顯影處理部上堆疊該第2塗布處理部而成之第2堆疊體二者並排；其特徵為：該程式於執行時，使電腦控制該基板處理系統，俾進行申請專利範圍第12或13項之基板處理方法。
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