TWI436858B - 基板研磨裝置及使用該基板研磨裝置之方法 - Google Patents

Description

基板研磨裝置及使用該基板研磨裝置之方法

本發明係關於一種基板研磨裝置及使用該基板研磨裝置之方法，且更特定言之，係關於無需裝載時間即可實現連續研磨基板之基板研磨裝置與使用該基板研磨裝置之方法。

通常而言，平板顯示器面板或用作面板材料之原玻璃(下文稱之為“基板”)具有銳邊，因此處理期間其易於破裂。因而研磨銳邊之製程有必要防止基板破裂或類似情況出現。

圖1顯示一傳統基板研磨裝置。如圖中所示，該傳統裝置包括一用於真空固持基板S之研磨台110與用於研磨藉由該研磨台110真空固持之該基板S長短側之上下邊緣之研磨單元120。

圖2顯示圖1中該基板研磨裝置之操作。

該研磨台110形成有真空固持該基板S之真空孔111，且該基板S之相對側提供有用以放置該基板S在該等研磨單元120間之一對研磨單元120。

首先，該基板S被裝載至該研磨台110上，並利用經由該等真空孔111形成之真空作用固持於其上(參見(a))。

在此狀態下，該研磨台110經由該對研磨單元120水準輸送。在水準輸送期間，該等研磨單元120研磨該基板之該等邊緣(參見(b)與(c))。

當完成研磨操作後，該基板S自該研磨台110卸載，其又返回至裝載一新基板之起始位置。

為於研磨完一基板後裝載一新基板，如此一傳統基板研磨裝置返回至該起始位置需要花費時間。因而，該傳統基板研磨裝置存在不能連續實施研磨複數個基板之操作之問題。

本發明係旨在解決如上所述之該等問題，且本發明之一方面係提供一種無需裝載時間即可實現連續研磨基板之基板研磨裝置及使用該基板研磨裝置之方法。

根據本發明之一方面，一基板研磨裝置包括：一輸送基板之輸送單元；一佈置於該輸送單元任一側之研磨單元；與一在研磨區域均勻支撐該基板之支撐台。

該輸送單元可為一傳送帶。

該傳送帶可包括一真空孔。

該支撐台可佈置於研磨區域內該傳送帶之下方。

該支撐台可包括一真空孔，該真空孔與該傳送帶之該真空孔相互連通以真空固持該研磨區域內之該基板。

該支撐台可進一步包括一提供真空密封之密封構件。

該密封構件可在該支撐台上表面之邊緣上包括一O型圈。

該傳送帶可包括一對傳送帶，該對傳送帶佈置於該基板之相對側，用以支撐該基板之該等相對側。

該對傳送帶間之間距可調節。

該基板研磨裝置可進一步包括一輸送台，該輸送台佈置於該對傳送帶之間，用以輸送一被裝載之基板至該研磨區域。

該輸送台可包括一用以真空固持該基板之真空孔。

該輸送台可上下驅動。

該輸送台可包括一對輸送台。

根據本發明之另一方面，一基板研磨方法包括：藉由傳送帶輸送基板；及在該基板被輸送時在研磨區域均勻維持該基板與該傳送帶。

輸送基板可包括當該基板藉由該傳送帶支撐時真空固持與輸送該基板。

現將參照附圖詳細描述本發明之具體實施例。

參照圖3至5，根據本發明之一具體實施例之基板研磨裝 置1包括：輸送基板P之一傳送帶11；一佈置於該傳送帶11任一側之研磨單元20；一在研磨區域內均勻支撐該基板P之支撐台40；與輸送台31、32。

該傳送帶11係用於連續輸送或支撐該基板之組件且包括一對傳送帶，該對傳送帶支撐該基板P之相對側，用以穩定輸送該基板P。該等傳送帶11被連接至一皮帶傳動裝置12，該皮帶傳動裝置12驅動該等傳送帶11。該對傳送帶11可彼此靠近或彼此分開。因而，該對傳送帶11間之距離可調節。該裝置之組態使得處理各種尺寸之基板成為可能。

該等研磨單元20形成為一對，用以同時研磨該基板之該等相對側，且每一該等研磨單元20包括一磨石與一心軸。

該等輸送台31、32位於該對傳送帶11之間，用以輸送在該傳送帶11一端部處裝載之基板至該等研磨單元20所在處之研磨區域。即，儘管該傳送帶11足以輸送該基板，但該等輸送台31、32係用作更為穩定地輸送該基板之輔助組件。若提供該等輸送台31、32，則該等傳送帶11可僅起支撐該基板之作用。

每一該等輸送台31、32形成有用以真空固持該基板之若干真空孔，且可驅動其上下移動。該基板在該傳送帶11之該端部處被裝載時，當真空固持該基板後，該輸送台31或32向上移動並輸送該基板。當輸送該基板完成時，該輸送台31或32釋放一真空，且向下移動，用以返回至其初始位置。該等輸送台31、32同樣組成一對，用以連續輸送基板。舉例言之，當一輸送台31真空固持且輸送該基板時，另一輸送台32返回至其初始位置以裝載一新基板。

圖6為根據本發明之一具體實施例之研磨區域之放大圖。如圖中所示，該支撐台40佈置於研磨區域內該等傳送帶11之下方。參照圖7，該支撐台40形成有經由其可形成真空之若干真空孔41，且一用於提供真空密封之O型圈42係以如 此一方式佈置，即其沿週邊佈置之十字形且位元於該支撐台40之上表面中央。

再參照圖6，每一該等傳送帶11亦形成有該等真空孔11a。因而，當該基板被輸送至該研磨區域時，其藉由該等真空孔41與在該支撐台40及該傳送帶11中形成之真空孔11a所形成之真空固持。

換言之，該基板P、該等傳送帶11與該支撐台40在該研磨區域內彼此緊密接觸。在如此一緊密接觸狀態下，該等傳送帶11相對於該支撐台40相對運動時，其隨同該基板一起持續移動。因而，該等傳送帶11與該基板之間無相對運動存在。同樣地，該支撐台40與該等傳送帶11之間存在相對運動。此處，該O型圈42係用作使該支撐台40與該等傳送帶11彼此間可平穩滑動。換言之，該O型圈42不僅提供真空密封，同時亦使得該支撐台40與該等傳送帶11彼此間可平穩滑動。

因而，該基板藉由該支撐台40於該研磨區域內均勻維持之時，同時藉由該等傳送帶11水準輸送，且該基板之該等相對邊緣藉由佈置於該基板之該等相對側處之該等研磨單元20研磨。

下面將參照圖4描述根據本發明之一具體實施例之該基板研磨裝置之操作與研磨方法。

首先，一裝載單元51吸附一將被研磨之基板P₃，並將其裝載於該傳送帶11之一端部。

然後，該輸送台31或32被提升且真空固持該基板P₂之同時朝研磨區域輸送該被裝載之基板P₂。此處，該等傳送帶11持續操作。

當該基板P₂以此方式被輸送至該研磨區域時，經由該支撐台40與該等傳送帶11內形成之該等真空孔形成真空，故該支撐台40、該傳送帶11與該基板P₂彼此緊密接觸，同時在該研磨區域內均勻維持該基板。

在此狀態下，該傳送帶11持續操作，因此該基板P₂可隨同該傳送帶11輸送。然而，該傳送帶11相對於該支撐台40滑動。當該基板被輸送之時，該基板之該等相對側處之該等邊緣藉由該等研磨單元20研磨(參見圖3)。

然後，該被研磨後之基板P₁藉由該傳送帶11輸送，且藉由一卸載單元52卸載。

圖3顯示用於研磨一基板相對之長側之基板研磨裝置。當完全研磨完該基板之該等相對之長側後，該基板被裝載進一用於研磨其相對之短側之基板研磨裝置。除該對傳送帶間之距離比圖3中所示之距離大之外，用於研磨該等相對之短側之該基板研磨裝置與圖3中所示之裝置相同。

如上所述，本發明提供一種無需裝載時間即可連續研磨基板之基板研磨裝置與使用該基板研磨裝置之方法。

儘管為圖示說明本發明已經提供一些具體實施例，但熟悉此項技藝之人士顯然明白該等具體實施例係以圖示說明之方式給出，在不偏離本發明之精神與範圍時，可進行各種更改與提供等價之具體實施例。本發明之範圍僅由所附之申請專利範圍與其等價物限定。

1‧‧‧基板研磨裝置

11‧‧‧傳送帶

11a‧‧‧真空孔

12‧‧‧皮帶傳動裝置

20‧‧‧研磨單元

31‧‧‧輸送台

32‧‧‧輸送台

40‧‧‧支撐台

41‧‧‧真空孔

42‧‧‧O型圈

51‧‧‧裝載單元

52‧‧‧卸載單元

110‧‧‧研磨台

111‧‧‧真空孔

120‧‧‧研磨單元

P‧‧‧基板

P₁‧‧‧基板

P₂‧‧‧基板

P₃‧‧‧基板

S‧‧‧基板

參照該等附圖與上述描述將清楚瞭解本發明之該等上述與其他方面、特徵與優點，其中：圖1顯示一傳統基板研磨裝置；圖2顯示圖1中之該基板研磨裝置之操作；且圖3至7顯示根據本發明之一具體實施例之基板研磨裝置。

1‧‧‧基板研磨裝置

11‧‧‧傳送帶

12‧‧‧皮帶傳動裝置

20‧‧‧研磨單元

31‧‧‧輸送台

32‧‧‧輸送台

40‧‧‧支撐台

P₁‧‧‧基板

P₂‧‧‧基板

P₃‧‧‧基板

Claims (5)

1. 一種基板研磨裝置，其包括：一對輸送基板並支撐該基板之該等相對側之傳送帶，該傳送帶具有一真空孔；一佈置於該傳送帶任一側之研磨單元；一對佈置於該對傳送帶間並上下驅動之輸送台，用以輸送一被裝載之基板至該研磨單元；以及一固定地設置於該研磨單位並均勻地支撐由該輸送台輸送之該基板的支撐台，該支撐台具有一真空孔及一提供密封之密封件，該真空孔與該傳送帶之該真空孔相互連通以真空固持位於該研磨單元處之該基板。
2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該支撐台佈置於該研磨區域內之該傳送帶下方。
3. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該密封件在該支撐台之上表面邊緣上包含一O型圈。
4. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該對傳送帶間之距離可調節。
5. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該輸送台具有一用以真空固持該基板之真空孔。