TWI426557B - 鍍膜裝置 - Google Patents

Description

鍍膜裝置

本發明涉及一種鍍膜裝置。

鍍膜是一種被廣泛應用於工業生產中的技術以改變工件的表面特性，為了能夠使工件的表面獲得多種不同的性能，往往需要對工件進行多重鍍膜，因此，需要將鍍膜工件在不同的鍍膜機之間轉換從而獲得不同的鍍膜層。然而，現有技術中的鍍膜機往往採用單線流水作業的方式，即，將複數鍍膜機並排設置在同一條流水線上，流水線貫穿所有鍍膜裝置。工件通過流水線依次經過每一鍍膜機從而進行鍍膜，每一鍍膜機上均設置有兩個門以方便工件的進出。這種運送的工件方式使得鍍膜機之間需要通過閥門相互聯通，容易在產品的移轉過程中發生鍍膜氣體的相互對流而污染鍍膜空間，影響產品的鍍膜品質，此外，鍍膜機的維護也會因為彼此相連變得十分麻煩。

有鑒於此，有必要提供一種可提高鍍膜品質的鍍膜裝置。

一種鍍膜裝置，其包括一支架，複數鍍膜腔體，複數獨立的傳送帶，複數轉臺，以及至少一承載盤。所述複數鍍膜腔體間隔設置在所述支架上，每一鍍膜腔體包括一艙門。所述複數傳送帶環繞所述每一鍍膜腔體設置在所述支架上並延伸至每一鍍膜腔體的艙 門外。所述複數轉臺分別設置在每兩條相互獨立的傳送帶之間。所述至少一承載盤承載在所述傳送帶上，並在所述傳送帶的帶動下依次進入所述複數鍍膜腔體對承載在承載盤上的工件鍍膜。

相較現有技術，本發明鍍膜裝置通過鋪設在鍍膜腔體週邊並延伸至鍍膜腔體的艙門前的傳送帶配合轉臺來實現承載盤在複數鍍膜腔體之間的自動轉換，從而使複數鍍膜腔體彼此分開設置，避免了鍍膜氣體的污染從而提高了鍍膜的品質，此外，自動化的過程有效的提高了生產效率。

100‧‧‧鍍膜裝置

110‧‧‧支架

112‧‧‧軌道

114‧‧‧變軌感測器

120‧‧‧鍍膜腔體

122‧‧‧艙門

130‧‧‧傳送帶

140‧‧‧轉臺

141‧‧‧導軌

142‧‧‧感測器

144‧‧‧旋轉伺服機構

146‧‧‧傳送伺服機構

150‧‧‧承載盤

152‧‧‧滾輪

圖1係本發明提供的一種鍍膜裝置的立體示意圖。

圖2係圖1中鍍膜裝置的局部放大圖。

圖3係圖1中鍍膜裝置的承載盤的俯視圖。

圖4係圖1中鍍膜裝置的承載盤的立體示意圖。

請參閱圖1至圖2，本發明較佳實施方式提供的一種鍍膜裝置100。該鍍膜裝置100包括一支架110，複數鍍膜腔體120，複數獨立的傳送帶130，複數轉臺140，以及至少一承載盤150。所述複數鍍膜腔體120間隔設置在所述支架110上，每一鍍膜腔體120包括一艙門122。所述複數傳送帶130設置在所述支架110上，且環繞所述每一鍍膜腔體120並延伸至每一鍍膜腔體120的艙門122外。所述複數轉臺140分別設置在每兩條相互獨立的傳送帶130之間。所述至少一承載盤150承載在所述傳送帶130上，並在所述傳送帶130的帶動下依次進入所述複數鍍膜腔體120進行鍍膜。

所述支架110用以支撐鍍膜腔體120、傳送帶130、轉臺140、以及複數驅動所述傳送帶130及轉臺140轉動的驅動裝置(圖未示)。為了使所述承載盤150能在所述傳送帶130的帶動下在平穩地運動，在所述支架110的表面設置有複數內凹的軌道112，所述內凹的軌道112環繞所述鍍膜腔體120並延伸至鍍膜腔體120的艙門122外。所述支架110的軌道112內還可設置變軌感測器114，用以在有承載盤150通過時發出信號給轉臺140，所述轉臺140根據該信號旋轉從而與承載盤150當前所在的軌道112相接。

所述鍍膜腔體120用以對待鍍膜工件進行鍍膜。所述複數鍍膜腔體120用以對產品鍍不同的膜層。所述複數鍍膜腔體120的艙門122的朝向相同。且在所述鍍膜腔體120內部設置有可裝卸所述承載盤150的裝卸裝置(圖未示)用以自動將承載盤150裝載至鍍膜腔體120內的預定位置處，並在鍍膜完成後將承載盤150卸下並重新放置在艙門122外的傳送帶130上。為了簡化鍍膜腔體120的結構，所述艙門122前的傳送帶130也可直接延伸至鍍膜腔體120內部，從而使承載盤150可直接由傳送帶傳裝載至鍍膜腔體120內部進行鍍膜。

請參閱圖3，所述複數傳送帶130分別鋪設在支架110的上方並容置在所述支架110的軌道112內。為了能夠使設置有待鍍膜工件的承載盤150可順利的按照預定的路徑進入鍍膜腔體120中進行鍍膜，並能在鍍膜完成後順利的進入到下一鍍膜腔體，所述複數傳送帶130彼此獨立，且可以正轉及反轉。本實施方式中，在所述鍍膜腔體120設置有艙門122的一側設置有兩條傳送帶130，在兩條傳送帶130的相對的一端設置有一條與所述兩條傳送帶130相互垂 直且延伸至所述艙門122位置處的傳送帶130。

所述複數轉臺140分別設置在所述複數傳送帶130之間的接頭位置處，用以使承載在所述傳送帶130上的承載盤150能夠改變軌道從而到達指定位置處。在所述轉臺140的表面上設置有與支架110的軌道112相對應且可匹配連接的導軌141。為了使所述轉臺140能夠精確的實現其功能，在所述轉臺140上設置有複數感測器142，一旋轉伺服機構144以及一傳送伺服機構146。所述旋轉伺服機構144可接受設置在支架110上的變軌感測器114的感測信號並使轉臺140與具有承載盤150的軌道112相對接，以使所述承載盤150可順利移動至轉臺140上。所述複數感測器142分別佈置在所述轉臺140的表面上用以感測承載盤150與傳送帶130接觸的表面是否完全進入轉臺140的導軌141內並與所述傳送伺服機構146相接觸，當所述承載盤150完全脫離軌道112及傳送帶130後，所述複數感測器142同時發出信號至所述旋轉伺服機構144。所述旋轉伺服機構144使轉臺140旋轉90度與下一傳送帶130及軌道112相對接。當所述旋轉伺服機構144旋轉完畢後發出信號給傳送伺服機構146，所述傳送伺服機構146帶動所述承載盤150進入下一軌道112並由傳送帶130運載至指定位置處。

請參閱圖4，所述承載盤150用以承載工件，為了增加在傳送帶130及軌道112內的穩定性，在其底部設置有兩個滾輪152，所述滾輪150在通常情況下與軌道112或導軌141的底面分離，在承載盤150由於改變方向而發生傾斜時，所述滾輪152可以支撐在所述軌道112或者軌道141的底面以防止承載盤150傾覆。

使用時，待鍍膜工件被設置在所述承載盤150內，所述承載盤150 在所述傳送帶130的帶動下在所述支架110的軌道112內移動，當承載盤150移動至兩個傳送帶130之間的轉臺140上並完全進入轉臺140的導軌141內時，所述轉臺140在旋轉伺服機構144的帶動下轉動90度，使導軌141與軌道112對接，接著傳送伺服機構146將所述承載盤150送入軌道112內並由傳送帶130傳送至鍍膜腔體120的艙門位置處。所述鍍膜腔體120通過其內部的上料裝置自動將所述承載盤150裝載至鍍膜腔體120內進行鍍膜，並在完成鍍膜後將所述承載盤150移出鍍膜腔體120放置在艙門122外的傳送帶130上，此時，艙門122外的傳送帶130反轉，將所述承載盤150運送至轉臺140上，轉臺140旋轉90度將與下一軌道112對接，並驅動承載盤150運動至下一軌道112內並由所述傳送帶130運送至下一作業環節中。

本發明鍍膜裝置100通過鋪設在鍍膜腔體120週邊並延伸至鍍膜腔體120的艙門122前的軌道112、傳送帶130配合轉臺140來實現承載盤150在複數鍍膜腔體120之間的自動轉換，如此，所述複數鍍膜腔體120便可獨立分開設置，避免了鍍膜氣體的污染從而提高了鍍膜的品質，此外，自動化的過程有效的提高了生產效率。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

100‧‧‧鍍膜裝置

110‧‧‧支架

112‧‧‧軌道

120‧‧‧鍍膜腔體

130‧‧‧傳送帶

140‧‧‧轉臺

150‧‧‧承載盤

Claims (5)

1. 一種鍍膜裝置，其包括一支架，複數鍍膜腔體，複數獨立的傳送帶，複數轉臺，以及至少一承載盤，所述複數鍍膜腔體間隔設置在所述支架上，每一鍍膜腔體包括一艙門，所述支架的表面設置有複數內凹的軌道，所述軌道環繞所述鍍膜腔體並延伸至鍍膜腔體的艙門外，所述複數傳送帶設置在所述支架的上方且分別容置在所述軌道內，所述複數轉臺分別設置在每兩條相互獨立的傳送帶之間，所述複數轉檯用以使承載在所述傳送帶上的承載盤改變軌道從而到達指定位置處，所述至少一承載盤承載在所述傳送帶上，並在所述傳送帶的帶動下依次進入所述複數鍍膜腔體對承載在承載盤上的工件進行鍍膜。
2. 如申請專利範圍第1所述之鍍膜裝置，其中，在所述轉臺的表面上設置有與支架的軌道相對應且可匹配連接的導軌。
3. 如申請專利範圍第2所述之鍍膜裝置，其中，在所述轉臺上設置有複數感測器、一旋轉伺服機構以及一傳送伺服機構，所述複數感測器分別佈置在所述轉臺的表面上用以感測承載盤與傳送帶接觸的表面是否完全進入，當所述承載盤完全脫離軌道及傳送帶後，所述複數感測器同時發出信號至所述旋轉伺服機構，所述旋轉伺服機構使轉臺旋轉度與下一傳送帶及軌道相對接，當所述旋轉伺服機構旋轉完畢後發出信號給傳送伺服機構，所述傳送伺服機構帶動所述承載盤進入下一軌道並由傳送帶運載至指定位置處。
4. 如申請專利範圍第3所述之鍍膜裝置，其中，所述支架的軌道內設置有變軌感測器，所述變軌感測器在有承載盤通過該軌道時發出信號給轉臺，所述轉臺的旋轉伺服機構接受設置在支架上的變軌感測器的信號後驅動 轉臺與具有承載盤的軌道相對接。
5. 如申請專利範圍第4所述之鍍膜裝置，其中，所述承載盤的底部設置有兩個滾輪。