TWI421539B - 光源裝置及投影型顯示裝置 - Google Patents

Description

光源裝置及投影型顯示裝置

本發明係有關使用複數個光源燈(lamp)的光源裝置及投影型顯示裝置。

為了實現以投影型顯示裝置顯示的影像的大畫面化及高亮度化，已有提案一種投影型顯示裝置，其具備設有複數個光源燈的多燈式光源裝置。例如，在專利文獻1(日本特開2001-359025號公報的段落[0013]至[0018]、第1圖)中提案的投影型顯示裝置用的光源裝置係利用配置在光源燈的聚光點附近的稜鏡(prism)將來自彼此相對向配置的2個光源燈的光束予以合成。再者，在專利文獻2(日本特開2005-115094號公報之段落[0099]至[0108]、第9圖、第10A圖、第10B圖)中提案的構成係利用傾斜配置於彼此不同方向之2片合成反射鏡(mirror)將來自2個光源燈的光束，導入於圓柱型光學積分器(Rod Integrator)之入射端面。

[先前技術文獻]

[專利文獻1]日本特開2001-359025號公報

[專利文獻2]日本特開2005-115094號公報

然而，在專利文獻1所記載的裝置中，由於係將2個光源燈以夾著稜鏡的方式相對向配置，因此光源燈的損失 (loss)光中到達相對向光源燈之發光部的光的比率變高，有光利用效率降低的問題、以及因損失光的入射而伴隨產生的光源燈的溫度上升所造成的光源燈壽命縮短的問題。

此外，在專利文獻2所記載的裝置中，由於各合成反射鏡係配置於朝與圓柱型光學積分器之光軸正交之方向偏移之位置，因此從各光源燈射出而在各合成反射鏡反射而入射於圓柱型光學積分器之各光束之入射角會變大(結果，將在2個合成反射鏡反射而入射於圓柱型光學積分器之2個光束視為1個光束時之聚光角度變大)。為了減輕(修正)因為入射於圓柱型光學積分器之光具有較大聚光角度所引起的不良影響(不充分之光強度均勻化)，乃於圓柱型光學積分器具備有錐形(taper)形狀部份。然而，在此種構成中，會有在圓柱型光學積分器內之光線之反射次數產生變異，而使圓柱型光學積分器之射出面之光強度均勻性(結果屏幕上照度均勻性)劣化之問題。此外，此種修正不充分時，由於未利用於屏幕照射之角度成分的光的存在，而有光利用效率降低的問題。

因此，本發明乃為了解決上述習知技術的課題而研創者，其目的在於提供一種光利用效率高、及屏幕上照度均勻性亦高，且能夠實現光源裝置長壽命化的投影型顯示裝置。

本發明提供一種光源裝置，其特徵為具備：光強度均勻化部，具有入射端及射出端，將入射至前述入射端的光 束轉換為強度分佈經均勻化的光束並從前述射出端射出；第1光源部，射出第1光束；至少1個彎曲反射部，將自前述第1光源部射出之前述第1光束導入於前述光強度均勻化部的前述入射端；及第2光源部，將朝向前述光強度均勻化部之前述入射端之第2光束射出；以使自前述第1光源部經由前述彎曲反射部到達前述光強度均勻化部之前述入射端之前述第1光束的光軸與自前述第2光源部到達前述光強度均勻化部之前述入射端之前述第2光束的光軸不具有一致的部分，而且，在剛要入射於前述光強度均勻化部之前述入射端之前之前述第1光束的光軸與自前述第2光源手段到達前述光強度均勻化部之前述入射端之前述第2光束的光軸成為彼此大致平行的方向之方式來配置前述第1光源部、前述第2光源部、及前述彎曲反射部。

依據本發明，即可提高光利用效率、且亦提高屏幕上照度均勻性。

(實施形態1)

第1圖係為概略性顯示本發明實施形態1之投影型顯示裝置之構成圖。如第1圖所示，實施形態1之投影型顯示裝置係具有：光源裝置10，射出強度經均勻化的光束；圖像顯示元件(光閥(light valve))61，依據輸入影像信號將自光源裝置10射出之光束L3調變轉換為圖像光L4；及投影光學系統62，將圖像光L4放大投影到屏幕63。雖然 在第1圖中顯示了反射型圖像顯示元件61，但圖像顯示元件61亦可為穿透型圖像顯示元件。圖像顯示元件61例如為液晶光閥、數位微鏡片裝置(DMD；Digital Micromirror Device)等。當為背面投影型之投影型顯示裝置時，屏幕63係屬於投影型顯示裝置的一部分。此外，光源裝置10、圖像顯示元件61、投影光學系統62、及屏幕63之配置並不限定於圖示之例。

光源裝置10係具有：作為屬於第1光源部之第1光源手段之第1光源燈11，其係射出第1光束L1；作為屬於第2光源部之第2光源手段之第2光源燈12，以與第1光源燈11成為平行的方式配置，且射出第2光束L2；作為屬於光強度均勻化部之光強度均勻化手段之光强度均勻化元件15，將入射至入射端15a之光束轉換為強度分佈經均勻化之光束並從射出端15b射出；及中繼(relay)光學系統13，將自第1光源燈11射出之第1光束L1引導至入射端15a。

實施形態1中，自第1光源燈11射出之第1光束L1及自第2光源燈12射出之第2光束L2係分別為聚光光束。更正確而言，第1光束L1中之自第1光源燈11之發光中心射出之第1光束的中心成分、及第2光束L2中之自第2光源燈12之發光中心射出之第2光束的中心成分，係分別為聚光光束。第1光源燈11或第2光源燈12之發光體係具有有限的大小，因此從發光中心以外位置亦射出光束，而從發光中心以外位置射出之光束，嚴格來說，係不會會 聚於第1光束之中心成分及第2光束之中心成分所會聚之聚光點之故。另外，自發光中心以外位置射出之光束，亦在第1光束之中心成分及第2光束之中心成分之聚光點周圍，廣泛地聚光。以使自第1光源燈11經由中繼光學系統13到達光強度均勻化元件15之入射端15a之第1光束L1的光軸11c1、11c2、11c3(亦即，第1光束L1之中心光線)與從第2光源燈12到達光強度均勻化元件15之入射端15a之第2光束L2的光軸12c(亦即，第2光束L2之中心光線)不具有一致的部分的方式，而且，以使剛要入射於入射端15a之前之第1光束L1的光軸11c3與第2光束L2之光軸12c成為大致平行之方式來決定第1光源燈11、第2光源燈12、及中繼光學系統13的各自構成、以及第1光源燈11、第2光源燈12、及中繼光學系統13相對於光强度均勻化元件15之配置。

所謂「以成為大致平行之方式配置」係指第1光源燈11之光軸11c3(亦即自第1光源燈11射出之第1光束之在光強度均勻化元件15之入射端15a之中心光線)與第2光源燈12之光軸12c(亦即自第2光源燈12射出之第2光束之在光強度均勻化元件15之入射端15a中之中心光線)成為平行之方式或可視為平行之方式來配置第1光源燈11與第2光源燈12及中繼光學系統13。在第1圖中，係顯示以第1光源燈11之第1光軸11c3與光強度均勻化元件15之光軸15c呈平行，而且，第2光源燈12之第2光軸12c與光強度均勻化元件15之光軸15c亦成為平行之方式來配置第 1光源燈11、第2光源燈12、中繼光學系統13、及光強度均勻化元件15之情形。此外，中繼光學系統13係具有：屬於將第1光束L1之光路徑予以彎曲反射之彎曲反射部之第1彎曲反射鏡13a及第2彎曲反射鏡13d、2片透鏡元件13b及13c。

另外，亦可取代中繼光學系統之配置，而構成為以使第1光源燈11之光軸11c1與第2光源燈12之光軸12c成為直角之方式來配置第1光源燈11與第2光源燈12，且以1個彎曲反射鏡將第1光束L1引導至光強度均勻化元件15之入射端15a。將此情形之彎曲反射鏡、或上述之第2彎曲反射鏡13d般之最接近光強度均勻化元件15之入射端15a之彎曲反射鏡作為最終彎曲反射部。

第1光源燈11例如可由射出白色光之發光體11a及設置在該發光體11a周圍之橢圓面鏡11b來構成。橢圓面鏡11b係將自對應於橢圓第1中心之第1焦點射出的光束予以反射並使反射光束會聚在對應於橢圓第2中心的第2焦點。發光體11a係配置在橢圓面鏡11b之第1焦點附近，而自該發光體11a射出之光束係會聚在橢圓面鏡11b之第2焦點附近。此外，第2光源燈12例如可由射出白色光之發光體12a及設置在該發光體12a周圍之橢圓面鏡12b來構成。橢圓面鏡12b係將自對應於橢圓第1中心之第1焦點射出的光束予以反射並使反射光束會聚在對應於橢圓第2中心的第2焦點。發光體12a係配置在橢圓面鏡12b之第1焦點附近，而自該發光體12a射出之光束係會聚在橢 圓面鏡12b之第2焦點附近。另外，亦可使用拋物面鏡取代橢圓面鏡11b及12b。此情形中，在藉由拋物面鏡將自發光體11a及12a射出之光束予以大致平行化後，只要利用聚焦透鏡(condenser lens)(未圖示)使之會聚即可。此外，亦可使用拋物面鏡以外的凹面鏡以取代橢圓面鏡11b及12b。此外，光源燈的數目亦可設為3座以上。

第1圖中之第1光束L1係為概念性顯示自發光體11a射出之光束聚光於橢圓面鏡11b之第1聚光點F1附近之情形。同樣地，第2光束L2係為概念性顯示自發光體12a射出之光束聚光於橢圓面鏡12b之聚光點F3附近之情形。另外，在實際的光源燈中，發光體係具有有限的大小且非理想性的點光源，因此一般而言不僅有第1圖中以直線(虛線)所示之會聚於聚光點之光束成分，尚包含多數個不聚光於聚光點之光束(分佈在聚光於聚光點之光束成分外側之成分)。關於不聚光於聚光點之光束，係圖示於後述之第14圖及第15圖。

此外，在實施形態1之投影型顯示裝置中，係以使第1光束L1之第1聚光點F1位於比第1彎曲反射鏡13a靠近光强度均勻化元件15側之方式來配置第1光源燈11與第1彎曲反射鏡13a。再者，在第1聚光點F1聚光之第1光束L1係以藉由透鏡13b與透鏡13c及第2彎曲反射鏡13d而使第2聚光點F2(最終聚光點)成為位在光強度均勻化元件15之入射端15a附近之方式來配置透鏡元件13b、透鏡元件13c、第2彎曲反射鏡13d、及光強度均勻化元件 15。由橢圓面鏡12b所聚光之第2光束L2未特別經由光學元件而直接聚光在光强度均勻化元件15之入射端15a附近的聚光點F3。此外，在實施形態1之投影型顯示裝置中，第1光束L1之中心光線(亦即，光軸11c3)(實施形態1中係平行於光軸12c而且平行於光強度均勻化元件15之光軸15c)入射至入射端15a之第1入射位置與第2光束L2之中心光線(亦即，光軸12c)(實施形態1中係平行於光強度均勻化元件15之光軸15c)入射至入射端15a之第2入射位置乃為彼此相異之位置，且為偏離光强度均勻化元件15之光軸15c之位置(後述之偏離達偏心量d1、d2之位置)。另外，在第1圖中，雖然係將第1聚光點F1配置在比第1彎曲反射鏡13a靠近光強度均勻化元件15側，但並非限定於此。

屬於最終彎曲反射部之第2彎曲反射鏡13d較宜配置於不會遮擋從第2光源燈12朝向入射端15a之第2光束L2之中心光線(與光軸12c一致)之位置。若能以成為不遮擋所有第2光束之中心成分之位置之方式配置則更理想。所謂光束之中心成分，係指從光源燈之發光中心發光而聚光於聚光點之光束成分。

第2彎曲反射鏡13d之第2光源燈12之光軸12c側之端部(連結光反射面及其背面之側面)13e之與光軸15c垂直之方向之位置，通常係為光軸15c上或其附近。然而，例如，將第1光源燈11之發光強度設為較第2光源燈12之發光強度大時，為了提高整體裝置之光利用效率，較宜 構成為使端部13e成為較光軸15c靠近第2光源燈12之光軸12c(第2光束L2之中心光線)側。反之，例如，將第2光源燈12之發光強度設為較第1光源燈11之發光強度大時，為了提高整體裝置之光利用效率，較宜構成為使端部13e成為較光軸15c靠近第1光源燈11之中心光線(光軸11c3)側。

第2彎曲反射鏡13d遮擋第2光束L2之程度，不僅視其位置，亦視其大小而定。欲使遮擋第2光束L2之程度較小，第2彎曲反射鏡13d係以較小為理想。反之，欲使朝向入射端15a之第1光束L1較多，第2彎曲反射鏡13d係以較大為較理想。第2彎曲反射鏡13d係以具有可將第1光束之中心成分全部反射之大小的反射面為較理想。

因此，在此實施形態1中，如第1圖所示，係將可將第1光束之中心成分全部反射之第2彎曲反射鏡13d，配置於第1光束L1與第2光束L2充分聚光之位置，且為不遮擋所有第2光束之中心成分之位置。另外，第2彎曲反射鏡13d亦可無法反射第1光束之中心成分之一部分，或遮擋第2光束之中心成分之一部分。

光強度均勻化元件15係具有將自入射端15a入射之第1光束L1及第2光束L2在該光束剖面內(亦即與光強度均勻化元件15之光軸15c正交之平面內)之光強度予以均勻化(亦即降低照度不均)之功能。以光強度均勻化元件15而言，例如，係有以玻璃或樹脂等透明材料來製作且以側壁內側成為全反射面之方式構成的多角形柱狀棒(rod)(亦 即，剖面形狀為多角形的柱狀構件)，或者，以使光反射面作為內側之方式組合成筒狀且剖面形狀為多角形的管(pipe)(管狀構件)。當光强度均勻化元件15為多角柱狀棒時，光強度均勻化元件15係利用透明材料與空氣界面之全反射作用使從入射端入射的光反射複數次後從射出端射出。當光强度均勻化元件15為多角形管時，光強度均勻化元件15係利用朝向內側的鏡的反射作用使從入射端入射的光反射複數次後從射出端(射出口)射出。只要光强度均勻化元件15在光束的行進方向確保有適當的長度，在內部反射了複數次的光便會重疊照射在光强度均勻化元件15的射出端15b的附近，從而在光强度均勻化元件15的射出端15b附近可獲得大致均勻的強度分佈。

第2圖(a)及(b)係概略性顯示在光强度均勻化元件15之入射端15a之光束的分佈之說明圖。在第2圖(a)及(b)中，濃度畫得濃(接近黑色)之範圍屬於光束強(亮)的區域，濃度愈淡(愈接近白色)則屬於光束愈弱(暗)的區域。第2圖(a)係顯示使用1座光源燈的比較例的情形中光强度均勻化元件之入射端之光束分佈的一例。第2圖(a)係顯示在入射端15a之中央附近存在光強度的峰值(peak)且往周邊逐漸變暗的分佈情況。此外，第2圖(b)係顯示使用2座光源燈之本發明之情形中光强度均勻化元件15之入射端15a之光束分佈之例。此外，第2圖(b)係顯示於光强度均勻化元件15之入射端15a，第1光源燈11之光照射區域與第2光源燈12所照射之光照射區域的一部份在入射端 15a重疊之例。

在此，說明在使用1座光源燈時，入射端15a中之光束具有第2圖(a)所示之分佈之理由。光源燈中之發光體為理想的點光源時，自發光體射出之光束，理想上係會聚於橢圓面鏡之聚光點。然而，發光體係受到具有有限大小(一般而言，光軸方向之直徑係為0.8mm至1.5mm左右)、發光體之配置精確度或橢圓面鏡之形狀精確度等之影響，實際上聚光光束會成為具有如第2圖(a)之分佈。此外，由於聚光光束具有如第2圖(a)之分佈，因此不會所有光束都被取入於光強度均勻化元件15之入射端15a，而有一部分光束從入射端15a偏離，而不使用於圖像投影。

第3圖係為概略性顯示比較例之彎曲反射鏡之配置圖。第3圖係顯示配置1座光源燈(未圖示)，且自光源燈入射至彎曲反射鏡113為止之光束的中心光線(光軸111c)與光强度均勻化元件115之光軸115c正交，且以使在彎曲反射鏡113反射之光束L1的中心光線與光强度均勻化元件之光軸115c一致之方式構成的情形。在第3圖之比較例之情形中，由於能夠將彎曲反射鏡113之反射面之大小形成為足夠大，因此能夠將來自光源燈之光束L1以減少損失之方式予以彎曲反射。

第4圖係為顯示實施形態1之投影型顯示裝置之重點部分之構成圖。於第4圖顯示有第2彎曲反射鏡13d、及光强度均勻化元件15。實施形態1中係將各構成配置為使來自中繼光學系統13(第1圖所示)之第1光束L1之聚光 點F2及第2光源燈12(第1圖所示)之橢圓面鏡12b之第2焦點(聚光點F3)位於光强度均勻化元件15之入射端15a附近。此外，其構成方式為使來自第1光源燈11之第1光束L1之光軸中比彎曲反射鏡13d更靠近光強度均勻化元件15側之第1光軸11c3與來自第2光源燈12之第2光束之第2光軸12c大致平行配置，並且不具有一致之部分。

在利用中繼光學系統13使來自第1光源燈11之第1光束L1入射至光强度均勻化元件15之入射端15a、且同時使來自第2光源燈12之第2光束L2入射至光强度均勻化元件15之入射端15a之情形中，為了盡可能不遮擋來自第2光源燈12之第2光束L2，第2彎曲反射鏡13d係無法確保足夠的大小。因此，在第4圖之構成中，第1光束L1及第2光束L2不可避免會有某程度的損失。

假如使第2彎曲反射鏡13d所彎曲反射之第1光束L1之中心光線L10(光軸13c1)及第2光束L2之中心光線L20(光軸12c)與光强度均勻化元件15之光軸15c一致，光的損失會更多。是故，實施形態1之投影型顯示裝置中，乃將第1彎曲反射鏡13a所彎曲反射之第1光束L1之中心光線L10相對於光强度均勻化元件15之光軸15c之偏心量d1及第2光束L2之中心光線L20相對於光强度均勻化元件15之光軸15c之偏心量d2設定為比0大的值。

第5圖係為顯示計算偏心量d1、d2與光利用效率之關係時的構成說明圖。如第5圖所示，例如，當構成為使來自第1光源燈11之第1光束之中心光線L10入射至偏心量 d1之位置時，由於來自第1光源燈11之第1光束L1會聚光在光强度均勻化元件15之入射端15a上偏離達偏心量d1之位置，因此在光强度均勻化元件15之入射端15a的光利用效率降低。同樣地，如第5圖所示，例如，當構成為使來自第2光源燈12之第2光束之中心光線L20入射至偏心量d2之位置時，由於來自第2光源燈12之第2光束L2會聚光在光强度均勻化元件15之入射端15a上偏離達偏心量d2之位置，因此在光强度均勻化元件15之入射端15a的光利用效率降低。

第13圖(a)係為顯示實施形態1之光強度均勻化元件15之入射端15a之來自第1光源燈11之第1光束L1之分佈及第1光束L1之中心光線(光軸11c3)之偏心量d1之圖，第13圖(b)係為顯示光強度均勻化元件15之入射端15a之來自第2光源燈12之第2光束L2之分佈及第2光束L2之中心光線(光軸12c)之偏心量d2之圖。此外，第14圖係為顯示光強度均勻化元件15之入射端15a中具有第13圖(a)所示分佈之第1光束L1之代表性光線(不聚光於聚光點F2之光線之例)L1a、L1b之圖。再者，第15圖係為顯示在光強度均勻化元件15之入射端15a中具有第13圖(b)所示分佈之第2光束L2之代表性光線(不聚光於聚光點F3之光線之例)L2a、L2b、L2c、L2d之圖。

偏心量d1係為光強度均勻化元件15之光軸15c至第1光束L1之光軸11c3之距離，而偏心量d2係為光強度均勻化元件15之光軸15c至第2光束L2之光軸12c之距離。 如上所說明，由於發光體11a、12a係為具有大小之燈、發光體11a、12a之位置誤差、橢圓面鏡11b、12b之形狀誤差及位置誤差等主要原因，第1光束L1係如第14圖所示，包含不聚光於聚光點F2之光束成分(例如光線L1a、L1b)，而第2光束L2係如第15圖所示，包含不聚光於聚光點F3之光束成分(例如光線L2a、L2b、L2c、L2d)。結果，如第2圖(a)及(b)及第13圖(a)及(b)所示，來自光源燈之聚光光束係成為在入射端15a具有分佈(擴展)之光束。

第16圖係為顯示實施形態1之光強度均勻化元件15之入射端15a之來自第1光源燈11之第1光束L1之分佈及來自第2光源燈12之第2光束L2之分佈之一例圖。在第16圖所示之例中，入射端15a係為具有長邊與短邊之矩形，而入射端15a中第1光束L1之中心光線11c3之位置(第1入射位置)與第2光束L2之中心光線12c之位置(第2入射位置)在長邊方向係位於以光強度均勻化元件15之光軸15c為基準而彼此偏移於相反側之位置(偏心量d1、d2之位置)。此外，在第16圖所示之例中，第1入射位置(第16圖中之光軸11c3之位置)與第2入射位置(第16圖中之光軸12c之位置)，係為通過光強度均勻化元件15之光軸15c而朝長邊方向延伸之第1基準線H0上之位置。

第17圖係為顯示實施形態1之光強度均勻化元件15之入射端15a之來自第1光源燈11之第1光束L1之分佈及來自第2光源燈12之第2光束L2之分佈之另一例圖。在第17圖所示之例中，入射端15a係為具有長邊與短邊之 矩形，而入射端15a中第1光束L1之中心光線11c3之位置(第1入射位置)與第2光束L2之中心光線12c之位置(第2入射位置)，在長邊方向係位於以光強度均勻化元件15之光軸15c為基準而彼此偏移於相反側之位置(偏心量d1、d2之位置)，而且，在短邊方向，位於以光強度均勻化元件15之光軸15c為基準而彼此偏移於相反側之位置(偏心量v1、v2之位置)。要將入射於入射端15a之2個光束位置如第16圖所示排列於長邊方向、還是如第17圖所示排列於傾斜方向(或對角方向)，較宜根據提高光利用效率而且提高屏幕上照度均勻性之觀點來決定。

第18圖係為概念性顯示實施形態1之光強度均勻化元件15之入射端15a之損失光之行為的圖式。當第1光束L1及第2光束L2偏離達偏心量d1、d2時，由於聚光光束亦會聚光於偏離達偏心量d1、d2之位置，因此不會進入光強度均勻化元件15之入射端15a上(亦即成為無法利用的損失光)之光束更加增加。另外，在第13圖(a)及(b)中，朝向光強度均勻化元件15之入射端15a方向但不進入入射端15a上之損失光，係顯示為第1光束L1及第2光束L2之入射端15a之外側部分。

第6圖係顯示偏心量d1、d2與光利用效率B之關係之模擬(simulation)計算結果圖。第6圖中之模擬，係為將光強度均勻化元件15之剖面形狀以7mm×4.5mm之矩形形成時之計算例。第6圖中，光利用效率B係以相對於在偏心量d1、d2為0時，亦即如第4圖所示，入射至光强度均勻 化元件15之光束之中心光線與光强度均勻化元件15之光軸15c一致時之光利用效率之比值來表示。嚴格來說，第6圖中之模擬，關於第2光束，係設為不存在由第2彎曲反射鏡13d所遮蔽之損失光，而求取光利用效率B。關於第1光束，第6圖所示之光利用效率B，係為第2彎曲反射鏡13d具有充分的大小，而不存在有因為未被第2彎曲反射鏡13d反射而無法入射於入射端15a之損失光之情形。

依據第6圖，偏心量d1為0時，光利用效率B成為1。偏心量d1為0.5mm時，光利用效率B成為0.99，當偏心量d1分別增加至1mm、1.5mm、2mm時，光利用效率B分別降低至0.97、0.92、0.84。實施形態1中係例如將偏心量d1及d2皆設定為1.5mm以使光利用效率B高達0.9以上且來自第2光源燈12之第2光束L2不易被第2彎曲反射鏡13d遮擋(亦即，使干涉緩和)。但偏心量d1及d2係可依據各構成之形狀、尺寸(size)、配置、光束之行進方向、各構成之光學特性、要求性能等各種主要因素來決定。

第6圖中，相對於光強度均勻化元件15之剖面形狀為7mm×4.5mm，將偏心量d1設為1.5mm時，會如第13圖(a)所示，光強度均勻化元件15之入射端15a之分佈亦聚光於偏離1.5mm之位置。同樣地，將偏心量d2設為1.5mm時，光強度均勻化元件15之入射端15a之分部，亦如第13圖(b)所示成為偏離1.5mm之分佈。如此，將偏心量d1及d2設為1.5mm時，光強度均勻化元件15之入射端15a之來自光源燈11及光源燈12之聚光光束之分佈，如第2圖(b) 所示，構成為各個燈之聚光光束之一部分重複，因此可提升光利用效率。

第7圖係顯示偏心量d3與光利用效率C之關係的模擬計算結果圖。如第4圖所示，實施形態1中，第2彎曲反射鏡13d之光強度均勻化元件15的光軸15c側之端部13e係配置在光強度均勻化元件15之光軸15c上或者比光强度均勻化元件15之光軸15c更靠近第1光源燈11側(第4圖中的上側)以盡可能避免與來自第2光源燈12之第2光束L2發生干涉。在第7圖係顯示將第4圖中之偏心量d1固定為1.5mm且使偏心量d3變化時之光利用效率C之模擬計算結果。第7圖中之光利用效率C係以相對於偏心量d3為1mm時之光利用效率之比值來表示。第7圖中，係顯示使偏心量d3從1mm變化至5mm時之光利用效率C之變化。從第7圖可知，偏心量d3較小時，來自中繼光學系統13之光束會被光強度均勻化元件15之側面(第4圖中之光強度均勻化元件15之上側)遮擋，因此光利用效率C降低。以及可知當將偏心量d3從1mm持續增加時光利用效率C會逐漸升高，而在偏心量d3為3mm及3.5mm時光利用效率C達到最高。

在實施形態1中，雖係使用2座光源燈，且於合成部配置有第2彎曲反射鏡13d，然而來自2個光源燈11、12之光束之一部分，會成為無法入射於光強度均勻化元件15之入射端15a之損失光。以損失光之主要種類而言，如第18圖所示，在來自光源燈11之光束中，有不被彎曲反射 鏡13d反射而穿透之光束L11、雖在彎曲反射鏡13d反射但不入射於光強度均勻化元件15之入射端15a之光束L12、及未在彎曲反射鏡13d反射而朝向自光強度均勻化元件15之入射端15a偏離之方向之光束L13。此外，來自光源燈12之光束中，在彎曲反射鏡13d背面被吸收或反射之光束L21、及無法入射於光強度均勻化元件15之入射端15a之L22之光束會成為損失光。彎曲反射鏡13d係設為盡可能使較多的第1光束L1朝向入射端15a反射，而且，所遮擋之第2光束L21盡可能變少之位置與大小。

在第7圖中，雖已說明光利用效率C之變化，惟由於當偏心量d3較小時，來自光源燈11之光束之損失光L11之成分就會增加，因此光源燈11之光利用效率減少。另一方面，關於來自光源燈12之光束，由於愈接近光強度均勻化元件15之入射端15a愈成為會聚之光束，因此當偏心量d3較小時，損失光L21及L22即變少，而提升光源燈12之光利用效率。相對於此，當逐漸增加偏心量d3時，由於光源燈11之光利用效率增加，而光源燈12之光利用效率反而減少，因此偏心量d3至某預定值前，光源燈11與光源燈12整體之光利用效率C會增加。然而，當偏心量d3超過預定值而變得過大時(第7圖中偏心量d3超過3.5mm時)，會變成在光源燈11及光源燈12的光束徑均較大處(亦即會聚不充分之處)配置第2彎曲反射鏡13d，而使損失光成分增加，而光利用效率C亦會降低。

第8圖係為顯示第2彎曲反射鏡(最終彎曲反射部)13d 之形狀的一例圖。第8圖所示之彎曲反射鏡13d係以使其光強度均勻化元件15側之端面13e位於光強度均勻化元件15之光軸15c上的方式進行配置。換言之，係以端面13e成為與第2光束L2之中心光線(亦即光軸12c)平行之面之方式配置。為了將來自第1光源燈11之第1光束L1盡可能引導至光強度均勻化元件15之入射端15a而希望將第2彎曲反射鏡13d之反射面13f盡可能加大配置。但在另一方面，為了盡可能避免第2彎曲反射鏡13d與來自第2光源燈12之第2光束L2之干涉而希望將第2彎曲反射鏡13d盡可能縮小配置。因此，如第8圖所示，以第2彎曲反射鏡13d之反射面13f比背面13g大的方式來構成第2彎曲反射鏡13d之光強度均勻化元件15之光軸15c側之端部13e。在第8圖中，係將第2彎曲反射鏡13d之反射面13f與端部13e之夾角設為銳角(未達90度)，且配置成使端部13e及光軸15c大致平行。亦可設為端部13e與光軸15c具有預定角度，且端部13e之接近入射面15a側之與光軸15c之間的距離，係較端部13e之遠離入射面15a側之與光軸15c之間的距離還小。藉此，使來自第1光源燈11之第1光束L1之光利用效率變高，並且來自第2光源燈12之第2光束L2與第2彎曲反射鏡13d之干涉亦變小，而第2光源燈12之光利用效率亦可提升。

第9圖係為顯示第2彎曲反射鏡(最終彎曲反射部)之形狀之另一例圖。第9圖所示之彎曲反射鏡13d2係以使光強度均勻化元件15側之端面13e2位於光強度均勻化元件 15之光軸15c上之方式進行配置。為了將來自第1光源燈11之第1光束L1盡可能引導至光強度均勻化元件15之入射端15a而希望將第2彎曲反射鏡13d2之反射面13f2盡可能加大配置。但在另一方面，為了盡可能避免第2彎曲反射鏡13d2與來自第2光源燈12之第2光束L2之干涉而希望將第2彎曲反射鏡13d2盡可能縮小地構成。因此，如第9圖所示，將第2彎曲反射鏡13d2之光強度均勻化元件15之光軸15c側，換言之將與第2光束相對向側之端部13e2以凸狀曲面來構成，而使第2彎曲反射鏡13d2之反射面13f2比背面13g2大。在第9圖中，係將第2彎曲反射鏡13d2之反射面13f2與端部13e2之夾角設為銳角(未達90度)。將端部13e2以凸狀曲面構成之理由，係由於反射面13f2與端面13e2之夾角設為過小時，構造性會變弱、及製造會變難之故。藉此，第8圖之第2彎曲反射鏡13d之端面13e之角部13h係形成為如第9圖之第2彎曲反射鏡13d2之端面13e2之角部13h2所示的圓弧化，因此不易遮擋從第2光源燈朝向光強度均勻化元件15之入射端15a的第2光束L2。亦即，形成反射面13f2之光強度均勻化元件15之光軸15c側之端最接近第2光束之中心光線(亦即第2光束L2之光軸12c)之形狀。換言之為下述之形狀：將從反射面13f2之最接近第2光束L2之中心光線之邊至第2光束L2之中心光線之距離設為第1距離、及將第2彎曲反射鏡13d2之與第2光束L2相對向之側面之最接近第2光束L2之中心光線之部分至前述第2光束L2之中心光 線之距離設為第2距離時，第1距離為第2距離以下。當採用第9圖之構成之第2彎曲反射鏡時，來自第1光源燈11之第1光束L1之光利用效率變高，並且來自第2光源燈12之第2光束L2與第2彎曲反射鏡13d2之干涉亦變小，而第2光源燈12的光利用效率亦可提升。

另外，在第8圖及第9圖中，第2彎曲反射鏡13d、13d2之反射面13f、13f2雖構成為較背面13g、13g2為大，惟此係就光強度均勻化元件15之光軸15c側之形狀予以應用之概念。例如，如第19圖所示，在第2彎曲反射鏡13d3中，只要將背面13g3之形狀設為與光強度均勻化元件15之光軸15c側之反射面13f3之形狀相同形狀，則反射面13f3與背面13g3之大小即成為相同。如第19圖所示構成時，亦只要將反射面13f3與端部(側面)13e3之夾角設為銳角，即可與第8圖及第9圖之情形同樣地提高光利用效率。換言之，只要設為下述形狀：使從反射面13f3之最接近第2光束L2之中心光線12c之端部至第2光束L2之中心光線12c之第1距離(例如u1)，成為在從側面13e3之最接近第2光束L2之中心光線12c之部分至第2光束L2之中心光線12c之第2距離(例如u2)以下(亦即u1≦u2)，即可提高光利用效率。然而，如第9圖所示，即使u1>u2，亦可藉由將(u1-u2)之值盡量設小，即可提高光利用效率。

如上述所說明，在實施形態1之投影型顯示裝置中，由於係以使第1光源燈11之第1光軸11c1、11c2、11c3與第2光源燈12之第2光軸12c不具有彼此一致的部分， 而且以使第1光束L1之光軸11c3與第2光束L2之光軸12c成為大致平行之方式配置，因此能夠成為光利用效率高，且光源燈11及光源燈12不受彼此的損失光之影響的構成。

此外，實施形態1之投影型顯示裝置中，由於將第1光源燈11與第2光源燈12之聚光點配置在光强度均勻化元件15之入射端15a附近，因此能夠供提光利用效率高的光學系統。

再者，實施形態1之投影型顯示裝置中，由於構成為將中繼光學系統13配置在第1光源燈11與第2聚光點F2之間，從而將第1光束L1聚光於光強度均勻化元件15之入射端15a附近，且第2光源燈12之第2光束L2直接聚光於光強度均勻化元件15之入射端15a附近，因此能夠提供光利用效率高的光學系統。

此外，實施形態1之投影型顯示裝置中，第2彎曲反射鏡13d係形成為其反射面13f之形狀為相異於背面13g之形狀且比背面13g更大，因此能夠提供光利用效率高的光學系統。

此外，實施形態1之投影型顯示裝置中，可在彎曲反射鏡13a或彎曲反射鏡13d或該兩者均具備屬於能夠調整位置或角度或該兩者之彎曲反射調整部之鏡調整手段(後述之第11圖所示之機構27)。此情形時，即使有光源燈11及光源燈12之大小不同與位置偏移發生的情形，藉由鏡調整手段之調整便能夠調整入射至光強度均勻化元件15之 光量，因此能夠提供光利用效率高的光學系統。再者，在具備此種鏡調整手段之情形中，當僅點亮光源燈11或光源燈12其中一方而成1燈點亮時，藉由將彎曲反射鏡13d之位置往未點亮之光源側移動(當僅點亮光源燈11時，將彎曲反射鏡13d往光源燈12之光軸12c側移動；當僅點亮光源燈12時，將彎曲反射鏡13d往光源燈11之光軸11c側移動)，便能夠提供1燈點亮時之光利用效率高的光學系統。

此外，實施形態1之投影型顯示裝置中，可在光源燈11或光源燈12或該兩者均具備屬於能夠調整位置或角度或該兩者之光源調整部之光源燈調整手段(後述之第11圖所示之機構28)。此時，即使是光源燈11及光源燈12的位置發生偏移、大小有不同時，藉由光源燈調整手段之調整便能夠調整入射至光強度均勻化元件15之光量，因此能夠提供光利用效率高的光學系統。

此外，實施形態1之投影型顯示裝置中，當利用以內面作為光反射面之管狀構件來構成光强度均勻化元件15時，光强度均勻化元件15之保持構造之設計變得容易，並且散熱性能提升。

此外，實施形態1的投影型顯示裝置中，當以利用透明材料所構成之剖面形狀為多角形的柱狀光學元件作為光强度均勻化元件15時，光强度均勻化元件15的設計變得容易。

再者，實施形態1之投影型顯示裝置中，由於將各構 成配置為使聚光點位於比第2彎曲反射鏡13d更靠近光强度均勻化元件15側，因此能夠抑制彎曲反射鏡之發熱。是故，實施形態1之投影型顯示裝置中，不需要追加冷卻裝置等，能夠實現構成之簡單化、裝置之低成本化。

(實施形態2)

第10圖係為概略性顯示本發明實施形態2之投影型顯示裝置之光源裝置20之構成圖。第10圖所示之光源裝置20係能夠作為第1圖(實施形態1)所示之投影型顯示裝置之光源裝置來使用。第10圖中之第1光源燈21、第2光源燈22、中繼光學系統23分別與第1圖(實施形態1)中第1光源燈11、第2光源燈12、中繼光學系統13為同樣構成。第10圖中之發光體21a及22a、橢圓面鏡21b及22b、光軸21c1、21c2、21c3及22c係分別與第1圖中之發光體11a及12a、橢圓面鏡11b及12b、光軸11c1、11c2、11c3及12c為同樣構成。實施形態2之投影型顯示裝置與上述實施形態1之投影型顯示裝置之差異在於光强度均勻化元件25之構成。如第10圖所示，實施形態2中，光强度均勻化元件25係藉由將以二維形式排列複數個透鏡元件而成之透鏡陣列(lens array)25a及25b朝光軸25c方向並排配置而構成。第1光源燈11之第1光束L1與第2光源燈12之第2光束係藉由透鏡元件26a與26b而被引導至光強度均勻化元件25。藉由此種構成之光强度均勻化元件25，使照明光束之剖面內之強度分佈均勻，而能夠抑制照度不均。此外，依據實施形態2之投影型顯示裝置，相較 於以光學構件之棒(rod)來構成光强度均勻化元件之情形，能夠縮小光軸25c方向的尺寸。

另外，實施形態2中除了上述構成之外，其餘皆與上述實施形態1之情形相同。

(實施形態3)

第11圖係為概略性顯示本發明實施形態3之投影型顯示裝置之光源裝置30之構成圖。第11圖所示之光源裝置30係能夠作為第1圖(實施形態1)所示之投影型顯示裝置之光源裝置來使用。第11圖中之第1光源燈31、第2光源燈32、中繼光學系統33、及光强度均勻化元件35係分別與第1圖中第1光源燈11、第2光源燈12、中繼光學系統13、及光强度均勻化元件15為同樣構成。第11圖中之發光體31a及32a、橢圓面鏡31b及32b、光軸31c1、31c2、31c3及32c、入射端35a、射出端35b、以及光軸35c分別與第1圖中的發光體11a及12a、橢圓面鏡11b及12b、光軸11c1、11c2、11c3及12c、入射端15a、射出端15b、以及光軸15c為同樣構成。實施形態3之投影型顯示裝置與上述實施形態1之投影型顯示裝置之相異點在於實施形態3之投影型顯示裝置係以使第1光束L1之光軸31c1、31c2、31c3與光强度均勻化元件35之光軸35c不為平行、且第2光束L2之光軸32c與光强度均勻化元件35之光軸35c不成為平行之方式來配置第1光源燈31、第2光源燈32、中繼光學系統33、及光强度均勻化元件35。因此，第1光源燈31及第2光源燈32係配置成：在自第1光源燈 31剛射出之後之第1光束L1之光軸31c1與在自第2光源燈32剛射出之後之第2光束L2之光軸32c成為隨著光束前進而使彼此之間隔增加之方向。依據實施形態3之構成，能夠縮短光源裝置30之第11圖中之縱方向的尺寸。

此外，如第11圖所示，在投影型顯示裝置，亦可於彎曲反射鏡33a或彎曲反射鏡33d或該兩者具備可調整位置或角度或該兩者之鏡調整手段(機構27)。再者，在投影型顯示裝置，亦可於光源燈11或光源燈12或該兩者具備可調整位置或角度或該兩者之光源燈調整手段(機構28)。機構27及28係包含用以使支撐彎曲反射鏡或光源燈之構造物移動或轉動之機械性構造。此外，機構27及28亦可具備用以驅動構成該等機構之機械性構造之馬達等驅動源。此外，機構27及28亦可應用於其他實施形態。

此外，第11圖中雖然係顯示將第1光源燈31配置在第11圖中之上側、將第2光源燈32配置在第11圖中之下側，但亦可配置在其相反的方向。此外，亦可將第1光源燈31或第2光源燈32其中任一方的光軸(31c1或32c)配置成與光強度均勻化元件35之光軸35c平行。

自第1光源燈31剛射出之後之第1光束的光軸與自第2光源燈32剛射出之後之第2光束的光軸的各自的傾斜角度可設定在相對於第11圖的水平方向約±15°左右為止的範圍內，但為了獲得第1光源燈31及第2光源燈32的充分性能，較佳為構成在±5°為止的範圍內。此外，考慮中繼光學系統33之構成容易度等，第1光源燈31之光軸及第2 光源燈32之光軸的傾斜角度更佳為構成在相對於第11圖之水平方向±3°為止的範圍內(或者，構成為第1光源燈31之光軸及第2光源燈32之光軸的夾角成為6°以內)。

另外，實施形態3中除了上述構成之外，其餘皆與上述實施形態1或2的情形相同。此外，亦可將實施形態3之第1光源燈31或第2光源燈32應用至實施形態2之光源裝置。

(實施形態4)

第12圖係為概略性顯示本發明實施形態4之投影型顯示裝置之光源裝置40之構成圖。第12圖所示之光源裝置40係能夠作為第1圖(實施形態1)所示之投影型顯示裝置之光源裝置來使用。第12圖中之第1光源燈41、第2光源燈42、中繼光學系統43、及光强度均勻化元件45係分別與第1圖中第1光源燈11、第2光源燈12、中繼光學系統13、及光强度均勻化元件15為同樣構成。第12圖中之發光體41a及42a、橢圓面鏡41b及42b、光軸41c1、41c2、41c3及42c、入射端45a、射出端45b、以及光軸45c係分別與第1圖中之發光體11a及12a、橢圓面鏡11b及12b、光軸11c1、11c2、11c3及12c、入射端15a、射出端15b、以及光軸15c為同樣構成。

實施形態4之投影型顯示裝置與上述實施形態1之投影型顯示裝置之相異點在於，實施形態4之投影型顯示裝置具備：與光強度均勻化元件45之入射端45a鄰接，用以將來自第1光源燈41之光束之中未到達第2彎曲反射鏡 43d之損失光L5予以遮光(反射或吸收)之屬於遮光部之遮光板46。此外，遮光板46亦具有將射出自第1光源燈41且朝向光強度均勻化元件45之側面(第12圖中之光強度均勻化元件45之上側的面)的光束予以遮光(反射或吸收)之功能。遮光板46之材料只要是不使光穿透的材料即可。

遮光板46較佳為配置在不會遮擋從第1光源燈41朝向第2彎曲反射鏡43d之光束L1之位置。此外，遮光板46較佳為設計成將來自第1光源燈41之光束之中未到達第2彎曲反射鏡43d之損失光L5盡可能地予以遮擋較多之位置、大小(長度及寬度)、及形狀。

如第12圖所示，實施形態4中，係能夠藉由遮光板46將來自第1光源燈41之光束中未到達第2彎曲反射鏡43d之損失光L5及來自第2光源燈42之光束之中之損失光予以遮光。是故，從第1光源燈41朝向光強度均勻化元件45之側面的損失光減少，因此具有能夠減小光強度均勻化元件45所受之熱影響的效果。

另外，實施形態4中除了上述構成之外，其餘皆與上述實施形態1的情形相同。此外，亦可將遮光板46應用至上述實施形態2或3。

10、20、30、40‧‧‧光源裝置

11、21、31、41‧‧‧第1光源燈

11a、12a、21a、22a、31a、32a、41a、42a‧‧‧發光體

11b、12b、21b、22b、31b、32b、41b、42b‧‧‧橢圓面鏡

11c1、11c2、11c3、21c1、21c2、21c3、31c1、31c2、31c3、41c1、41c2、41c3‧‧‧第1光源燈之光軸

12、22、32、42‧‧‧第2光源燈

12c、22c、32c、42c‧‧‧第2光源燈之光軸

13、23、33、43‧‧‧中繼光學系統

13a、23a、33a、43a‧‧‧第1彎曲反射鏡

13b、13c、23b、23c、26a、26b、33b、33c、43b、43c‧‧‧透鏡元件

13d、13d2、23d、33d、43d‧‧‧第2彎曲反射鏡

13e、13e2‧‧‧第1彎曲反射鏡之端部(端面)

13f、13f2‧‧‧第1彎曲反射鏡之反射面

13g、13g2‧‧‧第1彎曲反射鏡之背面

13h、13h2‧‧‧第1彎曲反射鏡之角部

15、25、35、45、115‧‧‧光强度均勻化元件

15a、25a、35a、45a‧‧‧光强度均勻化元件之入射端

15b、25b、35b、45b‧‧‧光强度均勻化元件之射出端

15c、25c、35c、45c、115c‧‧‧光强度均勻化元件之光軸

25a、25b‧‧‧透鏡陣列

27‧‧‧鏡調整手段

28‧‧‧光源燈調整手段

46‧‧‧遮光板

61‧‧‧圖像顯示元件

62‧‧‧投影光學系統

63‧‧‧屏幕

111c‧‧‧光源燈之光軸

d1、d2、d3‧‧‧偏心量

L1‧‧‧第1光束

L2‧‧‧第2光束

L3‧‧‧從光强度均勻化元件射出之射出光

L4‧‧‧圖像光

L5‧‧‧第1損失光

L10‧‧‧第1光束之中心光線

L20‧‧‧第2光束之中心光線

F1‧‧‧第1聚光點

F2‧‧‧第2聚光點

F3‧‧‧第3聚光點

第1圖係為概略性顯示本發明實施形態1之投影型顯示裝置之構成圖。

第2圖(a)係為概略性顯示在比較例之光強度均勻化元件之入射端的光束分佈圖；(b)係為概略性顯示在實施形 態1之光強度均勻化元件之入射端的光束分佈圖。

第3圖係為概略性顯示比較例之彎曲反射鏡之配置圖。

第4圖係為顯示實施形態1之投影型顯示裝置之重點部分之構成圖。

第5圖係為顯示計算來自第1光源燈之第1光束之中心光線的偏心量及來自第2光源燈之第2光束之中心光線的偏心量與光利用效率之關係時的構成之說明圖。

第6圖係為顯示來自第1光源燈之第1光束之中心光線的偏心量及來自第2光源燈之第2光束之中心光線的偏心量與光利用效率之關係的計算結果圖。

第7圖係為顯示第4圖所示之偏心量d3與光利用效率之關係的計算結果圖。

第8圖係為顯示彎曲反射鏡之形狀的一例圖。

第9圖係為顯示彎曲反射鏡之形狀的另一例圖。

第10圖係為概略性顯示本發明實施形態2之投影型顯示裝置之構成圖。

第11圖係為概略性顯示本發明實施形態3之投影型顯示裝置之構成圖。

第12圖係為概略性顯示本發明實施形態4之投影型顯示裝置之構成圖。

第13圖(a)係為顯示實施形態1之光強度均勻化元件之入射端之來自第1光源燈之第1光束之分佈及第1光束之中心光線之偏心量之圖，(b)係為顯示光強度均勻化元件 之入射端之來自第2光源燈之第2光束之分佈及第2光束之中心光線之偏心量之圖。

第14圖係為顯示在光強度均勻化元件之入射端具有第13圖(a)所示分佈之第1光束之代表性光線之圖。

第15圖係為顯示在光強度均勻化元件之入射端具有第13圖(b)所示分佈之第2光束之代表性光線之圖。

第16圖係為顯示來自實施形態1之光強度均勻化元件之入射端之第1光源燈之第1光束之分佈及來自第2光源燈之第2光束之分佈之一例圖。

第17圖係為顯示來自實施形態1之光強度均勻化元件之入射端之第1光源燈之第1光束之分佈及來自第2光源燈之第2光束之分佈之另一例圖。

第18圖係為概念性顯示實施形態1之光強度均勻化元件之入射端中之損失光之動作圖。

第19圖係為顯示彎曲反射鏡之形狀之一例圖。

10‧‧‧光源裝置

11‧‧‧第1光源燈

11a、12a‧‧‧發光體

11b、12b‧‧‧橢圓面鏡

11c1、11c2、11c3‧‧‧第1光源燈之光軸

12‧‧‧第2光源燈

12c‧‧‧第2光源燈之光軸

13‧‧‧中繼光學系統

13a‧‧‧第1彎曲反射鏡

13b‧‧‧透鏡元件

13d‧‧‧第2彎曲反射鏡

13e‧‧‧第1彎曲反射鏡之端部(端面)

15‧‧‧光强度均勻化元件

15a‧‧‧光强度均勻化元件之入射端

15b‧‧‧光强度均勻化元件之射出端

15c‧‧‧光强度均勻化元件之光軸

61‧‧‧圖像顯示元件

62‧‧‧投影光學系統

L1‧‧‧第1光束

L2‧‧‧第2光束

L3‧‧‧從光强度均勻化元件射出之射出光

L4‧‧‧圖像光

F1‧‧‧第1聚光點

F2‧‧‧第2聚光點

F3‧‧‧第3聚光點

Claims (17)

1. 一種光源裝置，其特徵為具備：光強度均勻化部，具有入射端及射出端，將入射至前述入射端的光束轉換為強度分佈經均勻化的光束並從前述射出端射出；第1光源部，射出第1光束；至少1個彎曲反射部，將自前述第1光源部射出之前述第1光束導入於前述光強度均勻化部之前述入射端；及第2光源部，將朝向前述光強度均勻化部之前述入射端之第2光束射出；以下述方式配置前述第1光源部、前述第2光源部、及前述彎曲反射部：使自前述第1光源部經由前述彎曲反射部到達前述光強度均勻化部之前述入射端之前述第1光束的光軸與自前述第2光源部到達前述光強度均勻化部之前述入射端之前述第2光束的光軸不具有一致的部分，而且，在剛要入射於前述光強度均勻化部之前述入射端之前之前述第1光束的光軸與自前述第2光源部到達前述光強度均勻化部之前述入射端之前述第2光束的光軸成為彼此大致平行的方向；前述彎曲反射部內，屬於配置在最靠近前述光強度均勻化部的彎曲反射部之最終彎曲反射部係具有：反射前述第1光束之反射面、屬於前述反射面背側之面的背面、及連結前述反射面與前述背面之側面； 且為下述形狀：從前述反射面之最接近前述第2光束之中心光線的邊至前述第2光束之中心光線的第1距離，係為從前述側面之最接近前述第2光束之中心光線的部分至前述第2光束之中心光線的第2距離以下。
2. 如申請專利範圍第1項之光源裝置，其中，前述第1光束中之自前述第1光源部發光中心射出之前述第1光束之中心成分及前述第2光束中之自前述第2光源部發光中心射出之前述第2光束之中心成分係為聚光光束；以下述方式配置前述第1光源部、前述第2光源部、最終彎曲反射部、及前述光強度均勻化部：使前述第1光束之中心成分之最終聚光點位於比配置在最靠近前述光強度均勻化部的屬於前述彎曲反射部的前述最終彎曲反射部靠近前述光強度均勻化部側，及使前述第2光束之中心成分之聚光點位於比前述最終彎曲反射部靠近前述光強度均勻化部側。
3. 如申請專利範圍第2項之光源裝置，其中，前述最終彎曲反射部係以成為不遮擋自前述第2光源部朝向前述入射端之前述第2光束之中心光線之位置之方式配置。
4. 如申請專利範圍第2或3項之光源裝置，其中，具有彎曲反射調整部，可調整至少1個前述彎曲反射部之位置或角度或該兩者。
5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，具有光源調整部，可調整前述第1及/或第2光源 部之位置或角度或該兩者。
6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，前述第1光束之中心光線入射至前述入射端的第1入射位置與前述第2光束之中心光線入射至前述入射端的第2入射位置係為彼此相異的位置，且為偏離前述光強度均勻化部之光軸的位置。
7. 如申請專利範圍第6項之光源裝置，其中，前述第1入射位置與前述第2入射位置係為以前述光強度均勻化部之光軸為基準而彼此偏移於相反側之位置。
8. 如申請專利範圍第6項之光源裝置，其中，前述入射端係為具有長邊與短邊之矩形；前述第1入射位置與前述第2入射位置係為在前述長邊方向以前述光強度均勻化部之光軸為基準而彼此偏移於相反側之位置。
9. 如申請專利範圍第8項之光源裝置，其中，前述第1入射位置與前述第2入射位置係為在通過前述光強度均勻化部之光軸而朝前述長邊方向延伸之第1基準線上之位置。
10. 如申請專利範圍第6項之光源裝置，其中，前述入射端係為具有長邊與短邊之矩形；前述第1入射位置與前述第2入射位置係為在前述長邊方向以前述光強度均勻化部之光軸為基準而彼此偏移於相反側之位置，而且為在前述短邊方向以前述光強度均勻化部之光軸為基準而彼此偏移於相反側之位 置。
11. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，具備有遮光部，其係與前述入射端鄰接而設置，用以將自前述第1光源部射出且未入射至前述入射端的光予以遮光。
12. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，前述光強度均勻化部係包含有以內面作為光反射面之管狀構件。
13. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，前述光強度均勻化部係包含有由透明材料構成之多角柱狀構件。
14. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，前述光強度均勻部係包含有以二維形式排列複數個透鏡元件而成的透鏡陣列。
15. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之光源裝置，其中，以使剛自前述第1光源部射出後之前述第1光束的光軸與剛自前述第2光源部射出後之前述第2光束的光軸成為大致平行之方式來配置前述第1光源部及前述第2光源部。
16. 如申請專利範圍第15項之光源裝置，其中，以使剛自前述第1光源部射出後之前述第1光束的光軸與自前述第2光源部射出之前述第2光束的光軸之夾角成為6。 以內之方式來配置前述第1光源部及前述第2光源部。
17. 一種投影型顯示裝置，係具備申請專利範圍第1項至第 16項中任一項之光源裝置。