TWI414902B - Liquid crystal exposure device - Google Patents

Liquid crystal exposure device Download PDF

Info

Publication number
TWI414902B
TWI414902B TW098143882A TW98143882A TWI414902B TW I414902 B TWI414902 B TW I414902B TW 098143882 A TW098143882 A TW 098143882A TW 98143882 A TW98143882 A TW 98143882A TW I414902 B TWI414902 B TW I414902B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
platform
liquid crystal
exposure apparatus
crystal exposure
fixed platform
Prior art date
Application number
TW098143882A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201040668A (en
Inventor
Naruo Watanabe
Katsuaki Matsuyama
Ryouji Nemoto
Nobuyuki Maki
Original Assignee
Hitachi High Tech Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Tech Corp filed Critical Hitachi High Tech Corp
Publication of TW201040668A publication Critical patent/TW201040668A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI414902B publication Critical patent/TWI414902B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67383Closed carriers characterised by substrate supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67778Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
    • H01L21/67781Batch transfer of wafers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

液晶曝光裝置
本發明係關於一種顯示用面板等之面板基板的製造裝置,關於在玻璃基板上形成圖案的裝置之液晶曝光裝置。
將設置光阻膜等的基板玻璃與遮罩成為接近1mm以下,並將平行光照射在遮罩而將遮罩圖案轉印至基板玻璃之鄰近方式曝光裝置係被用於液晶面板製造用。
該液晶曝光裝置所處理的基板玻璃係為了提升液晶面板的生產性,以利用一次曝光工程製作之液晶面板數變多的方式而朝大型化進展。於該液晶曝光裝置的大型化之際,在從液晶曝光裝置的安裝工場到液晶面板製造工場之搬運時,或是在液晶曝光裝置自身的製造時,以其重量或是大尺寸不會造成障礙的方式,將液晶曝光裝置、或是構成液晶曝光裝置的一部份之平台裝置由可分割為幾個零件的構造加以形成,以試驗時或安裝時再組裝的方式加以構成。在專利文獻1中係對於對應玻璃基板大型化之平台裝置加以敘述。
(先前技術文獻)
(專利文獻)
[專利文獻1]日本特開2007-175841號公報
習知技術中的平台裝置係以分割狀態運送平台裝置,在設置場所組裝平台裝置而設置液晶曝光裝置加以進行。平台裝置係具備藉由移動手段順著設置在已組裝的桌台上之軌道移動可動平台的構成。
針對已組裝的平台裝置之平台部,在已組裝的固定平台上設置軌道,並使可動平台在其軌道上移動。但是,在可動平台跨越構成固定平台之被分割的桌台間之締結位置時,例如已組裝的2個桌台係根據可動平台的荷重而各自位移。該位移即使在締結桌台的場所為小,但是從該位置離開在位於可動平台上之基板玻璃位置則會變成大的位移。
因此,為了使該位移變小,必須加強桌台間的締結力。為此必須使螺絲變粗並將使用個數變多,但是連接面積狹小無法廣泛取得螺絲鎖緊作業區域情況下之對應、或是為了調整而要好幾次鎖緊或螺鬆多個螺絲耗費時間等造成問題。
本發明之目的係為提供具有易於加工及運送之可分割的平台裝置,可以使在組裝後的平台裝置中定位誤差變小之液晶曝光裝置。
為了解決上述目的,本發明之液晶曝光裝置,係針對具有:搭載工件之工作台;具有該工作台的移動機構之可動平台;具有該可動平台的移動機構之固定平台;及支撐對前述工作台上的工件曝光遮罩圖案的曝光裝置之支架部的液晶曝光裝置,其特徵為:前述固定平台係在與前述可動平台移動方向為直角的方向具有可分割複數個的構造者。
又為了解決上述目的,本發明之液晶曝光裝置,係針對具有:搭載工件之工作台;具有該工作台的移動機構之可動平台;具有該可動平台的移動機構之固定平台;及支撐對前述工作台的工件曝光遮罩圖案的曝光裝置之支架部的液晶曝光裝置,其特徵為:前述固定平台係由複數個桌台構成,利用該固定平台之與前述可動平台移動方向為直角的方向所承受之彎矩為最小的位置連接前述複數個桌台者。
又為了解決上述目的,本發明之液晶曝光裝置,係針對具有:搭載工件之工作台;具有該工作台的移動機構之可動平台;具有該可動平台的移動機構之固定平台;及支撐對前述工作台的工件曝光遮罩圖案的曝光裝置之支架部的液晶曝光裝置,其特徵為:前述固定平台係順著可動平台所移動的方向設置複數個分割面者。
根據本發明,能夠提供一種易於加工及運送且平台定位誤差變小之液晶曝光裝置。
(用以實施發明之形態)
第1圖係為顯示根據本發明之液晶曝光裝置之一實施例的立體圖。第1圖所示之液晶曝光裝置1大致上具備3個要素,對於對象照射光之光源部係具備從具有光源之燈殼501將光照射在遮罩(未圖示),將穿透遮罩的光照射在工件也就是基板玻璃(未圖示)上的構成。
其次支架部係具有遮罩支撐架505,遮罩支撐架505係支撐遮罩,並被支撐在對遮罩支架框架507調整傾斜及上下方向位置的調整機構。支架框架507係利用支架腳503加以支撐。
再者,平台裝置部係具有複數個平台。在支架框架507下方設置固定平台201,該固定平台201係組合締結桌台210、211、212而成為一體化者。支架部的支架腳503係對固定平台201為被固定的,在第1圖中係對桌台211或是桌台212為被固定的。
第2圖係為了說明而省略第1圖所示之燈殼501、支架框架507、支架腳503的表示者,針對根據本發明之液晶曝光裝置1之平台裝置部加以說明之立體圖。本實施例之固定平台201係具有構成固定平台201之中央部份的中央桌台210、及設置在中央桌台210兩側之側方桌台211及側方桌台212。又在本實施例中雖然構成固定平台201的桌台個數為3個,但是針對個數並不限於此,連接更多個桌台的構成亦可。
針對平台裝置部的構成更詳細說明。於第2圖中,在固定平台201的上面係設置6條軌道20。又軌道的設置數係不限於此。在考量軌道所承受的荷重也都可以增減。在軌道20上係設置第一可動平台40。
在固定平台201的上面係除了軌道20之外,與設置在固定平台201上面的溝內部對向設置第一可動平台驅動用線性馬達的固定子30。又固定子30的設置數係不限於第2圖所示的情況,也可以配合第一可動平台40的動作目的或使用環境增減。當具備未圖示的可動子之第一可動平台40設置在軌道20上時以使其可動子與固定子30對向的方式加以具備。藉由控制根據固定子30與可動子之線性馬達,第一可動平台40係朝軌道20方向移動。
在第2圖中,第一可動平台40的上面係設置2條軌道21。該軌道21的設置數係不限於2條,在考量軌道21所承受的荷重也都可以增減。在軌道21上設置第二可動平台41。
在第一可動平台40的上面係除了軌道21之外,與設置在第一可動平台40上面的溝內部對向設置第二可動平台驅動用線性馬達的固定子31。固定子31的設置數係不限於第2圖所示的情況,也可以配合第二可動平台41的動作目的增減。當具備未圖示的可動子之第二可動平台41設置在軌道21上時,以使其可動子與固定子31對向的方式加以具備。藉由控制根據固定子31與可動子之線性馬達,第二可動平台41係朝軌道21方向移動。
在可動平台41上係安裝頂部桌台50。基板玻璃701係搭載在頂部桌台50上。藉由順著軌道20與軌道21控制各線性馬達,可以定位在固定平台201的任何位置。在第2圖中,雖然只圖示支撐固定平台201的腳221、222,但是實際上以穩定支撐固定平台201的方式設置同樣的零件。
在本實施例中,軌道20係對於桌台210及211、或是桌台210及212的連接面而言平行具有連接面(分割面)為佳。又在桌台210及211、或是桌台210及212的連接方向設置軌道20為佳。換言之,固定平台201係利用在固定平台210上面中與移動固定平台201上之可動平台40移動方向垂直的方向分割為複數個的桌台加以構成。
藉此,軌道20係不會受到根據在利用桌台210及211、或是桌台210及212對向的連接面之偏移而在固定平台201上面產生段差的影響。又可動平台40在固定平台201上移動時使其位移為小,藉此能夠使可動平台41在可動平台40上移動時之可動平台41姿勢中的位移變小。也就是說,可以正確達到搭載在頂部桌台50上之基板玻璃的定位。
基板玻璃尺寸係踏上了擴大一途,為了將該基板玻璃一邊朝軌道20或是軌道21方向移動一邊正確定位,涵蓋基板玻璃的移動區域必須使固定平台201支撐這整個。
若是如第5圖的固定平台202所示,製作第1圖之固定平台201而成為一體物的話,涵蓋基板玻璃的移動區域,雖然可以將根據平台變形之定位誤差達到最小,但是因為在鑄造物製作之製作尺寸上限、加工尺寸上限、搬運尺寸上限,而以分割為幾個再製作比較妥當。
在分割固定平台組合設置複數個桌台的情況下,平台的剛性係在連接部為最弱,當在此發生大的彎矩時會使根據彎曲的變形變大。第1圖的固定平台201係使構成該平台的桌台210、211、212藉由根據支撐固定平台201的腳221、222之反力、及根據桌台自身重量的彎矩而變形。
第3圖係為模式化在第1圖之固定平台201所承受的外力者,並從在第2圖之線性馬達固定子30的方向正面觀視者。可動平台40及41係由於根據其配置而使承受的荷重有變化,所以在此,只考量固定平台201之分布荷重401、支撐固定平台201之腳221的反力402、及腳222的反力404。
腳221係設置在從固定平台201左端開始的a處,腳222係成為從固定平台201右端開始的a,腳221與腳222之間的距離為b。固定平台201係成為1m左右w的分布荷重。
第4圖係為顯示第1圖中之固定平台201的彎矩分布者。
固定平台201所承受的彎矩係在中央達到最大,
-w(2a+b)2 /8-wa(2a+b)/2
在分割固定平台201為2,將其分割位置設置在中央的情況,在此變形會成為最大。在固定平台201之腳221、222位置的彎矩係為wa2 /2。
在固定平台201的腳221、222之間,有彎矩為0的位置,當在此設置分割位置時,使固定平台201的變形為最小。因此,在本實施形中,在固定平台201所承受的彎矩為0的附近設置分割位置。換言之,將桌台寬幅W1設置在中央,並在其兩側配置W2的桌台之以3個桌台構成固定平台201。
藉此,根據自身重量之彎矩為最大的位置係藉由配置在中央的桌台剛性抑制變形,藉由在彎矩為0的位置與其他桌台連接,可以將在桌台間的連接部份中之連接面的偏移抑制為最小。因此,在固定平台201的加工或運送中也可以使處理變得容易,又即使在安裝中也可以使定位誤差變得極小。
在本實施例之平台裝置部的固定平台201中,雖然以腳221、222之2個加以說明,但是即使藉由增加腳的個數,同樣變化桌台間連接部份的位置,也可以達成同樣的效果。
20...軌道
21...軌道
30...固定子
31...固定子
40...第一可動平台
41...第二可動平台
50...頂部桌台
201...固定平台
202...固定平台
210...桌台
211...桌台
212...桌台
221...腳
222...腳
401...分布荷重
402...反力
404...反力
501...燈殼
503...支架腳
505...遮罩支撐架
507...支架框架
701...基板玻璃
W1...中央桌台寬幅
W2...端側桌台寬幅
第1圖係為顯示根據本發明之液晶曝光裝置的實施例之立體圖。
第2圖係為顯示根據本發明之液晶曝光裝置的實施例之立體圖。
第3圖係為顯示第2圖之平台所承受的外力之圖面。
第4圖係為顯示第2圖之平台所承受的彎矩之圖面。
第5圖係為顯示根據習知技術之液晶曝光裝置的立體圖。
201...固定平台
210...桌台
211...桌台
212...桌台
501...燈殼
503...支架腳
505...遮罩支撐架
507...支架框架

Claims (17)

  1. 一種液晶曝光裝置,係針對具有:搭載工件之工作台;具有該工作台的移動機構之可動平台;具有該可動平台的移動機構之固定平台;及支撐對前述工作台上的工件曝光遮罩圖案的曝光裝置之支架部的液晶曝光裝置,其特徵為:前述固定平台係在與前述可動平台移動方向為直角的方向具有可分割複數個的構造;前述固定平台的分割面係設置在前述固定平台之與前述可動平台移動方向為直角的方向所承受之彎矩為最小的位置,且前述承受之彎矩為最小的位置係位於前述支架固定平台之腳的位置與前述支架固定平台之中央部之間。
  2. 如申請專利範圍第1項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係在與前述可動平台移動方向為直角的方向具有2個分割面。
  3. 如申請專利範圍第1項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有支撐前述可動平台移動之軌道,與前述軌道平行具有分割面。
  4. 如申請專利範圍第1項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有複數個軌道,由具有與前述支架部連接的連接部之2個側方桌台部、及沒有與前述支架部的連接部之中央桌台部構成。
  5. 如申請專利範圍第4項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有複數個軌道,分別在前述側方桌台部 與前述中央桌台部設置軌道,在設置於前述中央桌台部的前述複數個軌道之中,於前述可動平台移動方向設置在外側的2個軌道係設置在前述固定平台的分割面附近。
  6. 如申請專利範圍第1項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台的分割面係順著前述可動平台移動方向加以設置。
  7. 一種液晶曝光裝置,係針對具有:搭載工件之工作台;具有該工作台的移動機構之可動平台;具有該可動平台的移動機構之平台;及支撐對前述工作台上的工件曝光遮罩圖案的曝光裝置之支架部的液晶曝光裝置,其特徵為:前述平台之中固定前述支架部之支架固定平台部係可利用該支架固定平台部之與前述可動平台移動方向為直角的方向所承受之彎矩為最小的位置進行分割,且前述承受之彎矩為最小的位置係位於前述支架固定平台之腳的位置與前述支架固定平台之中央部之間。
  8. 如申請專利範圍第7項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係在與前述可動平台移動方向為直角的方向具有2個分割面。
  9. 如申請專利範圍第7項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有支撐前述可動平台移動之軌道,與前述軌道平行具有分割面。
  10. 如申請專利範圍第7項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有複數個軌道,由具有與前述支架部連接的連接部之2個側方桌台部、及沒有與前述支架部的連 接部之中央桌台部構成。
  11. 如申請專利範圍第10項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有複數個軌道,分別在前述側方桌台部與前述中央桌台部設置軌道,在設置於前述中央桌台部的前述複數個軌道之中,於前述可動平台移動方向設置在外側的2個軌道係順著前述方向設置複數個分割面。
  12. 如申請專利範圍第7項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台的分割面係順著前述可動平台移動方向加以設置。
  13. 一種液晶曝光裝置,係針對具有:搭載工件之工作台;具有該工作台的移動機構之可動平台;具有該可動平台的移動機構之平台;及支撐對前述工作台上的工件曝光遮罩圖案的曝光裝置之支架部的液晶曝光裝置,其特徵為:前述平台之中固定前述支架部之支架固定平台部係順著前述可動平台所移動的方向設置複數個分割面;前述複數個分割面係位於該前述固定平台部中的與前述可動平台移動方向為直角的方向所承受之彎矩為最小的位置,且前述承受之彎矩為最小的位置係位於前述支架固定平台之腳的位置與前述支架固定平台之中央部之間。
  14. 如申請專利範圍第13項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係在與前述可動平台移動方向為直角的方向具有2個分割面。
  15. 如申請專利範圍第13項之液晶曝光裝置,其 中,前述固定平台係具有支撐前述可動平台移動之軌道,與前述軌道平行具有分割面。
  16. 如申請專利範圍第13項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有複數個軌道,由具有與前述支架部連接的連接部之2個側方桌台部、及沒有與前述支架部的連接部之中央桌台部構成。
  17. 如申請專利範圍第16項之液晶曝光裝置,其中,前述固定平台係具有複數個軌道,分別在前述側方桌台部與前述中央桌台部設置軌道,在設置於前述中央桌台部的前述複數個軌道之中,於前述可動平台移動方向設置在外側的2個軌道係設置在前述固定平台的分割面附近。
TW098143882A 2009-02-16 2009-12-21 Liquid crystal exposure device TWI414902B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009032122A JP4881965B2 (ja) 2009-02-16 2009-02-16 液晶露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201040668A TW201040668A (en) 2010-11-16
TWI414902B true TWI414902B (zh) 2013-11-11

Family

ID=42608853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098143882A TWI414902B (zh) 2009-02-16 2009-12-21 Liquid crystal exposure device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4881965B2 (zh)
KR (1) KR101120439B1 (zh)
CN (1) CN101807007B (zh)
TW (1) TWI414902B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103207529B (zh) 2013-03-22 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 曝光方法及曝光设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007073688A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Shinko Electric Co Ltd Xyステージ装置及びその製造方法
CN101082742A (zh) * 2006-05-30 2007-12-05 株式会社东芝 中间基座、xy工作台、密封剂涂敷装置及液晶面板的制造方法
JP2008107702A (ja) * 2006-10-27 2008-05-08 Nakan Corp 光配向膜形成装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000164494A (ja) 1998-11-26 2000-06-16 Nikon Corp ステージ装置及び走査型露光装置
JP3673169B2 (ja) * 2000-12-22 2005-07-20 住友重機械工業株式会社 X−yステージ装置
JP2005189776A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Nsk Ltd Xy位置決めテーブル及び露光装置
JP4550494B2 (ja) * 2004-06-22 2010-09-22 大日本印刷株式会社 Xyステージ装置
JP2006198725A (ja) * 2005-01-20 2006-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd クランプ装置及び画像形成装置
JP2007024969A (ja) * 2005-07-12 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp セル内構造の製造方法及びセル内構造並びに表示装置
JP4673215B2 (ja) 2005-12-28 2011-04-20 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
CN101326625B (zh) * 2006-03-06 2010-04-21 株式会社爱发科 台架装置
JP4138858B2 (ja) * 2007-12-12 2008-08-27 住友重機械工業株式会社 ステージ装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007073688A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Shinko Electric Co Ltd Xyステージ装置及びその製造方法
CN101082742A (zh) * 2006-05-30 2007-12-05 株式会社东芝 中间基座、xy工作台、密封剂涂敷装置及液晶面板的制造方法
JP2008107702A (ja) * 2006-10-27 2008-05-08 Nakan Corp 光配向膜形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010190924A (ja) 2010-09-02
TW201040668A (en) 2010-11-16
KR20100093479A (ko) 2010-08-25
JP4881965B2 (ja) 2012-02-22
CN101807007A (zh) 2010-08-18
KR101120439B1 (ko) 2012-02-24
CN101807007B (zh) 2013-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5594404B1 (ja) テーブル装置、搬送装置、半導体製造装置、及びフラットパネルディスプレイ製造装置
TW201102273A (en) Alignment stage
WO2015001689A1 (ja) テーブル装置、及び搬送装置
JP2006242679A (ja) 基板検査装置及び基板検査装置の組み立て方法
US20190024842A1 (en) System for generating the movement of a support plate in six degrees of freedom
JP4673215B2 (ja) ステージ装置
JP4150411B2 (ja) ステージ装置
TW200926340A (en) Stage device
TWI414902B (zh) Liquid crystal exposure device
KR20180059861A (ko) 이동체 장치, 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법, 그리고 물체의 이동 방법
JP5380225B2 (ja) ガラス基板の検査装置
JP2007322706A (ja) 露光装置及び露光方法
JP6442831B2 (ja) テーブル装置、及び搬送装置
TW200844020A (en) Stage device
JP2007040831A (ja) 回路基板保持装置
KR20110069175A (ko) 노광 장치와 그 조립 방법, 및 디바이스 제조 방법
KR101052888B1 (ko) 실런트 경화장치
JP7292819B2 (ja) コンベアテーブル移載装置、搬送システムおよびコンベアテーブル移載方法
JP2006095665A (ja) ステージ装置
JP2010091628A (ja) 表示用パネル露光装置および露光方法並びに表示用パネル露光装置の組立てまたは調整方法
WO2023162165A1 (ja) 搬送路切換装置、搬送システムおよび搬送路切換方法
WO2023162167A1 (ja) 搬送路切換装置、搬送システムおよび搬送路切換方法
JP6256242B2 (ja) テーブル装置、測定装置、半導体製造装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び工作機械
US11492284B2 (en) Rotary driven stage
JP2006341350A (ja) エアスライドおよびその組立方法