TWI414817B - 線型彩色共焦顯微系統 - Google Patents

Description

線型彩色共焦顯微系統

本發明係有關一種共焦顯微技術，尤其是指一種線型彩色共焦顯微系統。

傳統之彩色共焦顯微系統，一般是架設於桌面上以進行垂直或橫向掃描來檢測待測物之表面形貌。由於系統體積大與占用空間之問題容易造成量測不便，對於待測物若是輪廓表面之傾斜角度過大或是量測空間受限之情況，以桌上型之架構要進行量測將有其限制性。例如欲量測大型晶圓上所形成之大型積體電路(large scale integration,LSI)晶片之凸塊高度，礙於機型架構之限制，將無法使用於一般線上(in-situ )量測之應用上。

習用技術中，如美國公開US.Pub.No.2004/0051879則揭露一種共焦位移感測器，以量測待測物之表面形貌。在該技術中，分別利用兩組光源產生偵測光，然後利用兩組導光元件分別導引偵測光而投射至待測物上，由待測物上反射之測物光則分別再經該兩組導光元件，而分別由每一組導光元件所對應的感測器接收。

另外，如美國專利US.Pat.No.5,785,651所揭露的一種共焦顯微裝置，其係利用兩組光纖分別導引由光源產生之偵測光，以及物體反射的測物光。在該技術中，係產生一點色散光在物體上，經由物體表面反射後之測物光進行分析以得到物體之表面形貌。而歐洲專利EP2124085則教導 一種狹縫掃描共焦顯微裝置，其係利用類狹縫光源(slit-like light source)將光分成複數個點光源(unit light source)，並且設置與該類狹縫光源共軛對應之線感測器感測由待側物反射的測物光。該線感測器具有複數個感測像素，其係分別與該點光源共軛對應。另外，又如美國專利US.Pat.No.7,672,527也揭露一種利用菲涅爾透鏡(Fresnel lens)來產生色散的裝置。

此外，如圖一所示，在習用之彩色共焦顯微系統中，由於光源10產生之偵測光，經色散物鏡11投射至待測物12之光路，再經由待測物12反射投射至光譜影像感測單元13，此傳統共焦顯微系統之光路徑顯然相當長(約320 mm)，因而減弱了單位面積光的強度，因此影像感測單元必須具有一定時間以上之曝光時間，以獲得足夠的反射光強，以利進行有效之共焦形貌量測。不過延長曝光時間會減低檢測速度，因此為了實現高速線上檢測，需搭配多波長且高功率輸出之高成本之燈源，大幅提昇投射至待測物上之單位面積光強值，以利縮短影像感測單元曝光所需要的時間，達到快速取像之效果。如此一來，目的雖然達到，但整個系統製作成本將相對昂貴，於實用性上之經濟效益不高，其競爭能力亦顯不足。

本發明提供一種線型彩色共焦顯微系統，其係藉由兩相互對應之光纖模組，其中一光纖模組將導引光線而投射至待測物後，反射回來之物光即入射至相對應之另一光纖 模組上。由於接收物光之光纖模組內每一條光纖絲將發揮空間濾波之功效，可有效濾除失焦光和雜散光，而僅允許聚焦光通過，因此可以大幅降低因光點重疊而產生橫向干擾(cross talk)之雜訊，使得本發明之線型彩色共焦系統不僅具有可一次取得待測物之線剖面輪廓資訊之即時檢測優勢，同時擁有類似於單點共焦顯微系統之高量測解析度。

本發明提供一種線型彩色共焦顯微系統，其係藉由複數個色差透鏡的組合，一方面可以將線光場進行軸向色散，另一方面又可以使得反射回來的線光場聚焦在同一平面上以解決場曲像差的問題，以簡化習用之線色散系統複雜度的問題。

本發明提供一種線型彩色共焦顯微系統，其係藉由將聚光鏡組裝置於光學探頭架構內之多波長共焦顯微鏡模組前，以縮短色散物鏡與成像之光路徑，同時具有增加單位面積光強值之集光功能，使得高光量之系統不僅可大幅減少影像感測器之曝光時間，且可縮小系統架構體積、減少光量浪費、降低可能雜散光之干擾問題。

在一實施例中，本發明提供一種線型彩色共焦顯微系統，其包括：一光源，其係提供一偵測光；一第一光纖模組，其一端係與該光源相耦接，而另一端係將該偵測光調制成一調制偵測光；一色散物鏡，其係與該第一光纖模組相耦接，該色散物鏡具有兩個以上之色差透鏡，該色散物鏡係使該調制偵測光產生軸向色散，使得該調制偵測光聚焦形成複數個具有不同深度之子調制光場，每一個子調制光場具有不同波長，該複數個子調制光場係經由一物體反 射而形成一測物光；一第二光纖模組，其係以呈線性排列之光纖絲與該色散物鏡相耦接，以對該測物光進行空間濾波而得到一濾波光；一光譜影像感測單元，其係與該第二光纖模組相耦接以感測該濾波光以形成一光譜影像；以及一運算處理單元，其係與該光譜影像感測單元電訊連接，以接收該光譜影像並經由運算產生一線剖面輪廓形貌資訊。

在另一實施例中，該色散物鏡更耦接有一聚光鏡組，以縮短該偵測光進入該色散物鏡之路徑，以及縮短該測物光進入該光譜影像感測單元之路徑。其中該聚光鏡組，更包括有兩個以上之光學透鏡。

在另一實施例中，該第一光纖模組與該色散物鏡間更設置有一光調制模組，其係具有複數個與該調制偵測光相對應的光調制元件，該複數個光調制元件分成複數個群組，該光調制模組藉由週期性循環調制的方式，依序控制該複數個群組中相對應的光調制元件，將該調制偵測光投射至該色散物鏡，藉由本實施例之控制方式以達到最小的光強橫向干擾(cross talk)影響。

在另一實施例中，該第一光纖模組與該光源間更設置有一光調制模組，其係具有複數個光調制元件，該複數個光調制元件分成複數個群組，該光調制模組藉由週期性循環調制的方式，依序控制該複數個群組中相對應的光調制元件將該偵測光調制成一不連續偵測光而投射至該第一光纖模組。

為使 貴審查委員能對本發明之特徵、目的及功能有更進一步的認知與瞭解，下文特將本發明之系統的相關細部結構以及設計的理念原由進行說明，以使得 審查委員可以了解本發明之特點，詳細說明陳述如下：請參閱圖二所示，該圖係為本發明之線型彩色共焦顯微系統實施例示意圖。該系統2包括有一光源20、一第一光纖模組21、一色散物鏡22、一第二光纖模組23、一光譜影像感測單元24以及一運算處理單元25。該光源20，其係提供一偵測光，在本實施例中，該光源20係為具有不同波長之寬頻光場。該第一光纖模組21，其一端係與該光源20相耦接，而另一端係將該偵測光調制成一調制偵測光。在本實施例中，該調制偵測光係為一線偵測光，以下以線偵測光稱之。另外，在本實施例中，該第一光纖模組21係為一光纖束，其係具有複數條光纖絲，該第一光纖模組21兩端分別具有一端部模組210與211，以分別與該光源20以及該色散物鏡22相耦接。如圖三A所示，該第一光纖模組21與該光源20耦接之端部模組210截面上，該複數條光纖絲212係呈現圓形的排列。如圖三B所示，該第一光纖模組21與該色散物鏡22相耦接之端部模組截面上，係具有複數個以一維線性排列的方式之光纖絲212。藉由圖三B之線性截面結構，使得該第一光纖模組21可以將該偵測光調制成線偵測光。

如圖四所示，該圖係為本發明之第一光纖模組另一實施例示意圖。在本實施例中，該第一光纖模組21具有一線 型狹縫213、一光纖束214以及一位置調整單元215。該線型狹縫213係與色散透鏡相耦接。該光纖束214與該光源相耦接之端部模組截面係如圖三A所示之結構；此外，而該光纖束214係以一端部模組216與該線型狹縫213相耦接。該端部模組216內具有以二維陣列排列之光纖絲212。該位置調整單元215，其係與該線型狹縫213相耦接，藉由至少兩維度之線性位移運動以調整該光纖束214與該線型狹縫間213的相對位置，使得該二維陣列光纖絲中的一線性排列光纖絲與該線型狹縫213相對應。該位置調整單元215係可利用位移精密度高的線性導軌，但不以此為限制，來調整該光纖束214與該線型狹縫213間的相對位置，使得一排的光纖絲可以與線型狹縫213相對應，而將偵測光調制成線偵測光。要說明的是，雖然在圖四中，該位置調整單元與該線型狹縫213相耦接，但在另一實施例中，該位置調整單元215亦可以與該光纖數束214所具有之二維陣列排列之光纖絲相耦接，藉由調整該二維陣列排列的光纖絲的位置，使得一排的光纖絲可以與線型狹縫213相對應。

再回到圖二所示，該色散物鏡22，其係與該第一光纖模組21相耦接，在本實施例中，該色散物鏡22與該第一光纖模組21間更具有一分光鏡26，其係可將該線偵測光導引至該色散物鏡22，而投射至設置於移動平台27上之待測物90上；另一方面，該分光鏡26更將由該待測物90表面反射之測物光反射而由該第二光纖模組23接收，進而傳至該光譜影像感測單元24。該色散物鏡22具有兩個以 上之色差透鏡，該色散物鏡22係使該線偵測光產生軸向色散，使得該線偵測光聚焦形成複數個具有不同深度之子線光場，每一個子線光場具有不同波長。本發明之色散物鏡22一方面可以將線光場產生軸向色散，另一方面又可以使得反射回來的線光場聚焦在同一平面上，以解決場曲像差的問題

圖五A與圖五B係分別為本發明之色散物鏡剖面示意圖。在圖五A之實施例中，係為兩個色差透鏡220a與220b之實施例。而在圖五B中，則為三個色差透鏡220a~220c。該色散物鏡22係使線偵測光92產生軸向色散，使得該線偵測光92聚焦形成複數個具有不同深度之子線光場92a、92b與92c，每一個子線光場92a、92b與92c具有不同波長。至於該複數個子線光場係構成一連續光譜，其係可為可見光譜或者是不可見光譜。在本實施中，為了方便說明，該複數個子線光場係以紅色光場92a(R)、綠色光場92b(G)以及藍色光場92c(B)來做說明。

如圖六A所示，該圖係為本發明之第二光纖模組示意圖，該第二光纖模組23具有一光纖束，其兩端分別以端部模組230與231與色散物鏡以及光譜影像感測單元耦接，以對該測物光進行空間濾波而得到一濾波光。在圖六A中，端部模組230與231之光纖絲232係按照規則呈線性排列組合，其中光纖絲232之中心間距為一個定值d 。為了達到最小的光強橫向干擾影響，如圖六B所示，將兩光纖相對應之邊緣之間具有一適當間距d _i ，將彼此間光強橫向干擾降低為最小。如圖七A與圖七B所示，該圖係為本 發明之第一光纖模組與第二光纖模組共軛關係示意圖。由於第一光纖模組21與該色散透鏡22耦接之線性排列之光纖絲212與第二光纖模組23與該色散透鏡22相耦接之線性排列光纖絲232，於空間中存在著一對一之互相對應之關係，使得由待測物反射回來之光即入射至第二光纖模組23內相互對應之光纖絲上，光纖內每一條裸光纖絲將濾除失焦光和周圍的雜散光的影響，僅允許聚焦光通過，以達成共軛焦之顯微效果。

在圖七B中，經由相對位置調校過後，經由線性排列的光纖絲212，而形成線偵測光920、921與922由分光鏡而進入該色散物鏡22而投射至待測物90。由於第二光纖模組23與該色散物鏡22耦接之端部模組230內的光纖絲232亦呈現一維排列，使得由待測物90反射之測物光可以聚焦於該光纖絲232端面上，其測物光930、931與932才可以進入至光纖絲232內。因此，該第二光纖模組23具有類似於點型(point type)共軛焦之顯微量測能力，以大幅降低習用之狹縫產生光點重疊而導致橫向干擾(cross talk)之雜訊，進而增加光訊號橫向量測解析度。在圖七B中，經由待測物90表面反射的測物光，再藉由分光鏡26之導引，而向第二光纖模組23之端部模組230上之光纖絲232投射。因此只有可以聚焦在該光纖絲232端面之光才可以進入光纖絲232內。如圖八所示，該圖係為使用線型光纖排列與線型狹縫作為空間濾波元件之聚焦反應曲線示意圖。該圖可以看出利用線型排列之光纖作為空間濾波之全寬半高值(FWHM)，明顯地比利用線型狹縫作為空間濾波之全 寬半高值小了許多，使得峰值之判斷更加容易且精確，使得量測系統之深度量測解析與準確度獲得有效提升。

再回到圖二所示，該光譜影像感測單元24，其係感測該濾波光以形成一光譜影像。在本實施例中，該光譜影像感測單元24更包括有：一光譜分光單元240以及一影像感測元件241。該光譜分光單元240，其係耦接於該第二光纖模組23之另一端部模組231上，該光譜分光單元240係將該測物光分光。該影像感測元件241，其係與該光譜分光單元240耦接，以感測被分光之光場而形成該光譜影像。該運算處理單元25，其係與該光譜影像感測單元24以及該位移平台27連接，以接收該反射光光譜影像，經由同步即時運算產生一線剖面輪廓形貌資訊，並同時搭配該移動平台27的線性移動，可以使得該待測物90通過該色散物鏡22，使得線偵測光92可以掃描該待測物90之表面，僅需藉由一維度的位移掃描即可完成待測物90之全域表面形貌檢測。至於光譜分光單元240以及一影像感測元件241之分光與解析剖面之原理係屬於習用之技術，在此不作贅述。

請參閱圖九所示，該圖係為本發明之線型彩色共焦顯微系統另一實施例示意圖。本實施例中，基本上與圖二類似，差異的是在該分光鏡26與該色散物鏡22間更設置有一聚光鏡組28，以縮短該偵測光進入該色散物鏡之路徑以及縮短該測物光進入該光譜影像感測單元之路徑。藉由此聚光鏡組28以大幅地縮短由該第一光纖模組23發射之線偵測光投射至待測物90以及由該待測物90反射至光譜影 像感測單元24之光路徑，同時具有增加單位面積光強值之集光功能，使得高光量之系統不僅可大幅減少影像感測器之曝光時間，且可縮小系統架構、減少光量浪費、降低可能產生雜散光之干擾。聚光鏡組28係由兩個以上之光學透鏡組成，其目的為縮束且增加光量，但關鍵在於此鏡組不影響系統之成像品質、色像差和色散範圍，所以材質選用阿貝數(Abbe number)較高之SF11和N-BK7，同時利用不同透鏡之曲率搭配，使得色像差降至最低程度，而不改變色散之聚焦範圍。在本實施例中，該聚光鏡組28係由兩平凹透鏡280與281以及一雙凸透鏡282所構成。

請參閱圖十A所示，該圖係為本發明之線型彩色共焦顯微系統又一實施例示意圖。在本實施例中，基本上與圖二類似，差異的是，本實施例之第一光纖模組21與該色散物鏡22之間更可以設置一光調制模組29，用以減低光強橫向干擾之影響。該光調制模組係可為數位微反射鏡裝置(digital micromirror device,DMD)或者是矽基液晶裝置(liquid crystal on silicon,LCOS)等光調制元件。

以DMD為例，如圖十一A所示，該圖係為DMD裝置之反射元件排列示意圖。由於DMD所構成之光調制模組29係由複數個排列成二維陣列的光調制元件(反射鏡)290所構成，而且每一個光調制元件290可以藉由控制改變其傾角。如圖十一B所示，該圖係為反射鏡改變傾角示意圖。在圖十一B之實施例中，光調制元件290a將光反射至它處，只有光調制元件290b將光反射至色散物鏡。

為了同時兼顧提昇量測的空間解析與降低光強橫向干 擾的影響，如圖十二所示，該光調制模組29與該線偵測光對應的複數個光調制元件290a~290c，係分成複數個群組291~294，該光調制模組29藉由週期性循環調制的方式，依序控制該複數個群組291~294中相對應的光調制元件，將該線偵測光導引至分光鏡26而進入該色散物鏡22中。所謂週期性循環調制之方式係為，在第一時間點t₀ 時，同步控制每一群組中的光調制元件290a之傾角，以將光反射至色散物鏡22，此時光調制元件290b與290c會被改變傾角，而不會將光反射至色散物鏡22內。然後經過時間T之後，同步控制每一群組中的光調制元件290b之傾角，以將光反射至色散物鏡22，此時光調制元件290a與290c會被改變傾角，而不會將光反射至色散物鏡22內。

然後再經過時間T之後，同步控制每一群組中的光調制元件290c之傾角，以將光反射至色散物鏡22，此時光調制元件290a與290b會被改變傾角，而不會將光反射至色散物鏡22內。最後再經過時間T之後，同步控制每一群組中的光調制元件290a之傾角，以將光反射至色散物鏡22，以完成一次的循環。接著一直重複上述之順序直到完成取像為止。藉由如圖十二之投光方式，可將反射的光調制元件間隔開來，以避免相鄰的光調制元件同時投光，而使得相鄰的光調制元件周圍附近產生光強橫向干擾的現象。因此，圖十A或圖十B中的第二光纖模組23將不受限於光纖之排列關係(此時它可為圖六A或圖六B之排列方式)，而可以避免光纖絲之間光強互相干擾之情形發生，而影響到光譜影像的成像效果。此外，如圖十B所示，該光 調制模組29亦可以放置於光源20與第一光纖模組21之端部模組210之間，亦可以產生相同作用。在圖十B之實施例中，該光調制模組29具有複數個光調制元件，可參閱如圖十三所示，將其中一排的光調制元件290a~290c分成複數個群組291~294，該光調制模組29藉由週期性循環調制的方式，依序控制該複數個群組中相對應的光調制元件290a~290c將該偵測光調制成一不連續偵測光而投射至該第一光纖模組21之端部模組210上。不連續的偵測光藉由該第一光纖模組21傳導而投射至分光鏡26上。前述之週期性循環調制方式係如圖十二所述之方式，在此不作贅述。藉由如圖十三之投光方式，可將反射的光調制元件290a~290c間隔開來，以避免相鄰的光調制元件同時投光，而使得相鄰的光調制元件周圍附近產生光強橫向干擾的現象。另外，在圖十A與與圖十B之實施例中，亦可以設置如圖九所示之聚光鏡組28，以縮短該偵測光進入該色散物鏡22之路徑以及縮短該測物光進入該光譜影像感測單元24之路徑。

唯以上所述者，僅為本發明之較佳實施例，當不能以之限制本發明範圍。即大凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化及修飾，仍將不失本發明之要義所在，故都應視為本發明的進一步實施狀況。

10‧‧‧光源

11‧‧‧色散物鏡

11‧‧‧待測物

13‧‧‧光譜影像感測單元

2‧‧‧線型彩色共焦顯微系統

20‧‧‧光源

21‧‧‧第一光纖模組

210、211‧‧‧端部模組

212‧‧‧光纖絲

213‧‧‧線型狹縫

214‧‧‧光纖束

215‧‧‧位置調整單元

216‧‧‧端部模組

22‧‧‧色散物鏡

220a、220b、220c‧‧‧色散透鏡

23‧‧‧第二光纖模組

230、231‧‧‧端部模組

232‧‧‧光纖絲

24‧‧‧光譜影像感測單元

240‧‧‧光譜分光單元

241‧‧‧影像感測元件

25‧‧‧運算處理單元

26‧‧‧分光鏡

27‧‧‧移動平台

28‧‧‧聚光鏡組

29‧‧‧光調制模組

290、290a~290c‧‧‧光調制元件

291~294‧‧‧群組

280、281、282‧‧‧透鏡

90‧‧‧待測物

92‧‧‧偵測光

920~922‧‧‧偵測光

930、931、932‧‧‧測物光

圖一係為習用之彩色共焦顯微系統中，由光源發出之偵測光以及由待測物反射之測物光路示意圖。

圖二係為本發明之線型彩色共焦顯微系統實施例示意圖。

圖三A與圖三B係為本發明之第一光纖模組兩端之端部模組剖面示意圖。

圖四係為本發明之第一光纖模組另一實施例示意圖。

圖五A與圖五B係為分別本發明之色散物鏡剖面示意圖。

圖六A係為本發明之第二光纖模組示意圖。

圖六B係為本發明之第二光纖模組另一實施例示意圖。

圖七A與圖七B係為本發明之第一光纖模組與第二光纖模組共軛關係示意圖。

圖八係為使用線型光纖排列與線型狹縫作為空間濾波元件之聚焦反應曲線示意圖。

圖九係為本發明之線型彩色共焦顯微系統另一實施例示意圖。

圖十A與圖十B係為本發明之線型彩色共焦顯微系統又一實施例示意圖。

圖十一A係為DMD裝置之反射元件排列示意圖。

圖十一B係為反射鏡改變傾角示意圖。

圖十二與圖十三係為控制光調制模組之光調制元件反射示意圖。

2‧‧‧線型彩色共焦顯微系統

20‧‧‧光源

21‧‧‧第一光纖模組

210、211‧‧‧端部模組

22‧‧‧色散物鏡

23‧‧‧第二光纖模組

230、231‧‧‧端部模組

24‧‧‧光譜影像感測單元

240‧‧‧光譜分光單元

241‧‧‧影像感測元件

25‧‧‧運算處理單元

26‧‧‧分光鏡

27‧‧‧移動平台

90‧‧‧待測物

92‧‧‧偵測光

Claims (15)

1. 一種線型彩色共焦顯微系統，其包括：一光源，其係提供一偵測光；一第一光纖模組，包括有一光纖束，其係具有複數個第一光纖絲，該複數個第一光纖絲一端係與該光源相耦接，而另一端係具有線性排列之第一光纖絲用以將該偵測光調制成一調制偵測光；一色散物鏡，其係與該第一光纖模組相耦接，該色散物鏡具有兩個以上之色差透鏡，該色散物鏡係使該調制偵測光產生軸向色散，使得該調制偵測光聚焦形成複數個具有不同深度之子調制光場，每一個子調制光場具有不同波長，該複數個子調制光場係經由一物體反射而形成一測物光；一第二光纖模組，其係具有呈線性排列之第二光纖絲，該第二光纖模組之一端與該色散物鏡相耦接，以對該測物光進行空間濾波而得到一濾波光，其中每一第二光纖絲係分別與該線性排列之每一第一光纖絲一對一相對應；一光譜影像感測單元，其係與該第二光纖模組之另一端相耦接以感測該濾波光以形成一光譜影像；以及一運算處理單元，其係與該光譜影像感測單元電訊連接，以接收該光譜影像並經由運算產生一線剖面輪廓形貌資訊。
2. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該光纖束與該光源耦接之截面上之該複數個第一光 纖絲係為圓形排列。
3. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該光纖束係為二維陣列排列之第一光纖絲，該第一光纖模組具有：一線型狹縫，其係與該光纖束以及該色散透鏡相耦接；以及一位置調整單元，其係與該光纖束或該線型狹縫相耦接，以調整該光纖束與該線型狹縫間的相對位置，使得該二維陣列之第一光纖絲中的一部分形成該線性排列之第一光纖絲與該線型狹縫相對應。
4. 如申請專利範圍第3項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該光纖束與該光源耦接之截面係為圓形。
5. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該色散物鏡更耦接有一聚光鏡組，以縮短該調制偵測光進入該色散物鏡之路徑以及縮短該測物光進入該光譜影像感測單元之路徑。
6. 如申請專利範圍第5項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該聚光鏡組，更包括有兩個以上之光學透鏡。
7. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該光譜影像感測單元更包括有：一光譜分光單元，其係與該第二光纖模組相耦接，該光譜分光單元係將該測物光分光；以及一影像感測元件，其係與該光譜分光單元偶接，以感測被分光之光場而形成該光譜影像。
8. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統， 其係更具有一線性移動平台以提供承載該物體進行線性位移運動。
9. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該第二光纖模組係分別以線性排列之光纖絲與該色散物鏡以及該光譜影像感測單元相耦接。
10. 如申請專利範圍第9項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中第二光纖模組中相鄰之光纖絲相對應之邊緣具有一間距。
11. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該第一光纖模組與該色散物鏡間更設置有一光調制模組，其係具有複數個與該調制偵測光對應的光調制元件，該複數個光調制元件分成複數個群組，該光調制模組藉由週期性循環調制的方式，依序控制該複數個群組中相對應的光調制元件將該調制偵測光投射至該色散物鏡。
12. 如申請專利範圍第11項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該光調制模組係為數位微反射鏡裝置或者是矽基液晶裝置。
13. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該第一光纖模組與該光源間更設置有一光調制模組，其係具有複數個光調制元件，該複數個光調制元件分成複數個群組，該光調制模組藉由週期性循環調制的方式，依序控制該複數個群組中相對應的光調制元件將該偵測光調制成一不連續偵測光而投射至該第一光纖模組。
14. 如申請專利範圍第13項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中該光調制模組係為數位微反射鏡裝置或者是矽基 液晶裝置。
15. 如申請專利範圍第1項所述之線型彩色共焦顯微系統，其中相鄰的第一光纖絲或相鄰的第二光纖絲間具有一間距。