TWI413668B - 抗炫光膜用組成物及用其製備之抗炫光膜 - Google Patents

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Description

抗炫光膜用組成物及用其製備之抗炫光膜
本發明係關於一種具良好的保存穩定性，抗炫光性，可應用於高解析度顯示器的影像清晰度以及對比的抗炫光膜組成物，與其製造之抗炫光膜。
本申請案主張於2007年5月16日申請之韓國優先權，專利案號為2007－0047603，其揭示之內容完全併入本發明中，以供參酌。。
近來，為了配合高速度與高密度的訊息傳遞，以及顧客對於高品質產品如大尺寸螢幕，高品質影像，多功能與高效能的需求趨勢，而採用大尺寸平面顯示器。而為使顯示器發展朝向大尺寸以及輕薄化之方向，加上筆記型電腦的需求增加，越來越多樣的平面顯示器如液晶顯示器，電漿顯示器，後投影電視與其類似者，均開始發展並商品化。然而，當顯示器暴露在外源光線如自然光下使用時，其表面反射的光將導致使用者眼睛疲勞，或引發頭痛，且顯示器所提供的影像清晰度也因此無法分辨其清楚畫面。
為解決習知技術之缺點，在顯示器表面會形成有凹面與凸面的圖樣，以散射掉表面之外源光線，獲得抗炫光之效果，但卻因此造成高解析度顯示器的影像減弱的問題。為解決此問題，可於塗覆層加入粒子以引發於內部散射之效果。
為解決習知技術中的問題，有許多前案技術提供建 議，將於後敘述，其缺點的分析以及解決問題的技術也將於後敘述。
韓國註冊專利案號10－046782揭示一種高解析度的抗炫光塗覆層，其包括一平均直徑為0.05到1μm之間的第一粒子，其中丙烯酸黏結劑樹脂以及第一粒子的折射率差在0.2到0.5之間，以及一平均直徑為0.5到3μm之間的第二粒子，其中丙烯酸黏結劑樹脂以及第一粒子的折射率差不超過0.1。然而丙烯酸黏結劑樹脂以及第一粒子的折射率差較高，會減弱對比效果。
同時，韓國註冊專利案號10－037840以及日本未實審之專利申請案公開號2001－3178揭示了一種抗炫光塗覆層，其包括至少二個或更多傳導粒子於黏結劑樹脂中，其中光傳導粒子以及黏結劑的折射率差為0.03到0.2之間，且光傳導粒子具有不同的折射率。然而缺點在於，同一影像清晰度與霧度之基準下，其抗炫光性能會減弱，而在霧度為10%或以上時，對比也會降低。
此外，韓國註冊專利案號10－0296369揭示了一種抗炫光塗覆層，包括一光傳導粒子於黏結劑樹脂中，其中表面的凹面與凸面所造成之外部霧度為7－30，而光傳導粒子所造成之內部霧度為1－15。然而缺點在於，高表面霧度將導致對比的降低。日本未實審之專利申請案公開號2002－67675揭示了一種抗炫光塗覆層，其於黏結劑樹脂中包括一球形粒子，其折射率為1.55以上，以及一非結晶粒子，折射率1.48以下，其中黏結劑樹脂的厚度大於球形粒 子的平均直徑。但其缺點在於，在相同影像清晰度與霧度之基準下，其抗炫光性能會減弱。
日本未實審之專利申請案公開號2002－185927揭示了一種抗炫光塗覆層，其包括一平均直徑為1到7μ m的有機物粒子，以及在黏結劑樹脂中平均直徑為0.1μ m的無機物粒子，其中黏結劑樹脂的厚度大於有機物粒子平均直徑的0.3到3倍。然而，由於無機物粒子不會貼附在有機物粒子的表面，因此難以藉由無機物粒子於表面形成凸面與凹面，因此降低了粒子提供的抗炫光效果。
日本註冊專利案號3507344揭示了一種抗炫光塗覆層，包括至少一光傳導粒子於黏結劑樹脂中，其中光傳導粒子以及黏結劑樹脂折射率差為0.3以下，且其突出於黏結劑樹脂層表面約0.1到0.3μ m。但其缺點在於，在相同影像清晰度與霧度之基準下，其抗炫光性能會減弱。
韓國未實審之專利申請案公開號10－2005－0006349揭示了一種光吸收層，其包括具有核殼結構的金屬氧化物，以及據此製得之太陽能電池。然而，既然具有高折射率之未定型金屬氧化物結晶可作為含非晶性或結晶性金屬氧化物所組成之核或殼，則在應用作為抗炫光塗覆層之組成物會有問題。
一般而言，抗炫光塗覆層中所發生之模糊，是由於抗炫光塗覆層表面的不平整造成之外部散射，以及黏結劑樹脂中因填充料造成的內部散射，而抗炫光效果則與表面的不平整造成之外部散射相關，影像清晰度則與光線漫射角 度有關。此外，光線漫射的角度與黏結劑樹脂和粒子間之折射率差，以及塗覆層表面的粗糙度相關。具體而言，當塗覆層表面較粗糙時，影像清晰度就降低。據此，由於影像清晰度與抗炫光性能是呈反比，故製作具有優異影像清晰度與抗炫光特性的高解析度顯示器之抗炫光塗覆層時，控制其表面粗糙度是一重要技術因子。
在已知球形粒子的例子中，製造具有優異影像清晰度與抗炫光特性的抗炫光塗覆層有其難度，且RGB畫素會因粒子的透鏡效應而彼此混合在一起。
此外，一般來說，在使用交聯有機物粒子的例子中，會使用一種好的溶劑使粒子具單分散性，但在此例子中，因為交聯粒子在表面膨脹而發生沾黏，在粒子間發生碰撞而凝結。因此會有塗覆組成物的保存穩定性降低的情形。
本發明是基於習知技術的缺點而研究。即，由於抗炫光以及影像清晰度的技術提昇無法於習用技術中獲得，故本發明是為了提升一個功能的特性而降低另一發生問題的功能。為解決此問題，本發明目的在提供一抗炫光膜組成物，其包括有機粒子，其中，其表面粗糙度可獲控制，保存穩定性優異，抗炫光特性優異，且可應用於顯示器，以提供具有優異影像清晰度與對比的高解析度顯示器，以及一種用其製備之抗炫光膜。
本發明提供一抗炫光膜組成物，包括：一黏結劑樹脂；以及一有機粒子，其於100重量份黏結劑樹脂中佔1－30重量份，且於其表面形成有凹面與凸面的圖樣。
本發明提供一抗炫光膜，包括：一黏結劑樹脂；以及一有機粒子，其於100重量份黏結劑樹脂中佔1－30重量份，且於其表面形成有凹面與凸面的圖樣。
根據本發明具高解析度的抗炫光膜中，其有機粒子的保存穩定性被提升，進而增加產品耐久性與壽命，避免使用者因入射光而感受到炫光的現象，且影像顯示裝置之影像清晰度與對比率也可獲提升。
本發明之抗炫光膜組成物包括一黏結劑樹脂，以及於100重量份黏結劑樹脂中佔1－30重量份之一有機粒子，且於其表面形成有凹面與凸面的圖樣。
可使用一可固化且以丙烯酸為基底的黏結劑樹脂作為黏結劑樹脂。其類型於本實施例中不限制，但是使用於本發明所屬技術領域中的典型樹脂可於不受限制下選用。
例如，可使用單一材料或選自二個以上下述材料之混合物：反應型丙烯酸寡聚體以及多官能丙烯酸單體。反應型丙烯酸寡聚體是包括至少一個可參與固化反應之丙烯酸多官能基團的寡聚體，且多官能丙烯酸單體是包括一個或多個可參與固化反應之丙烯酸官能基團的單體。
反應型丙烯酸寡聚體以及多官能丙烯酸單體之種類不限，但是使用於本發明所屬領域中的典型樹脂可於不受限制下選用。
反應型丙烯酸寡聚體之範例包括單一材料或選自二個以上下述材料之混合物：氨基甲酸酯丙烯酸寡聚體，環氧丙烯酸寡聚體，聚酯丙烯酸以及聚醚丙烯酸。
多官能丙烯酸單體之範例包括單一材料或選自二個以上下述材料之混合物：二異戊四醇六丙烯酸酯、單羥基五丙烯酸二異戊四醇酯、異戊四醇四丙烯酸、異戊四醇三烯酸、三亞甲基丙基三丙烯酸、丙氧化丙三醇三丙烯酸、三羥甲基丙烷乙氧基三丙烯酸、1,6－己二醇二丙烯酸、丙氧化丙三醇三丙烯酸、三丙二醇乙二醇二丙烯酸以及乙二醇二丙烯酸。
黏結劑樹脂之種類不限，但是使用於本發明所屬技術領域中的典型樹脂可於不受限制下選用。
有機粒子可於100重量份之黏結劑樹脂中佔1－30重量份。在重量份少於1的時候，將因內部散射導致霧度不足。而在重量份高於30的時候，黏結劑樹脂的黏度會增加，導致缺乏塗覆特性，且因內部散射而導致霧度非常高。因此，對比率可能降低。
表面形成有凹面與凸面圖樣的有機粒子，其平均粒徑在1到10μm之問。
當平均粒徑低於1μm時，對比率會因乳白色薄霧的產生而降低。當平均粒徑高於10μm時，由於內部填充物數量 降低，內部散射率就會減少，因而無法實現足夠的霧度。
有機粒子因形成凸面與凹面的圖樣而具表面粗糙度，凸面與凹面的高度在0.01到2μm之間，凸面與凹面的寬度在0.01到4μm之間。
如圖5所示，凸面與凹面之高度為凹面最低部分與凸面最高部分的距離，而凸面與凹面之寬度為凹面之間的距離。
當凸面與凹面的高度低於0.01μm，且寬度低於0.01μm時，由於有機粒子上之凸面與凹面尺寸較小，散射效果不足，抗炫光的改善效果因而不顯著。
當凸面與凹面的高度高於2μm，且寬度大於4μm時，與抗炫光效果相關之影像清晰度將降低。
有機粒子上之凸面與凹面的總分佈率，佔有機粒子全部表面區域的10到100%之間。
當凸面與凹面的總分佈率低於10%時，由於用以實現增進抗炫光效果的凸面與凹面數量較少，實際上的抗炫光效果就難以實現。
此外，凸面與凹面的圖樣可以是連續性或非連續性的形成，如圖5所示。
有機粒子因形成凸面與凹面的圖樣而具表面粗糙度，而任何已知之習知技術方法，皆可用以形成凸面與凹面的圖樣。
聚合物粒子(如有機粒子)的凸面與凹面之控制，可利用相分離(Phase Separation)方法達成，而凸面與凹面的外形 與分佈可利用熱力學與動力學加以控制。
有機粒子與黏結劑樹脂之間的平均折射率差可於0.01到0.3之間。
當有機粒子與黏結劑樹脂之間的平均折射率差低於0.01時，則因內部散射而難以獲得充足的模糊值。而當平均折射率差高於0.3時，穿透度降低，模糊值則因內部散射而增加，因此降低對比率。
有機粒子可由單一材料或二個以上材料之共聚物所形成，其係選自：聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酸、聚丙烯酸聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚醯胺、聚亞醯胺、聚碸、聚氧化二甲苯、聚縮醛、環氧樹脂、酚醛樹脂、矽樹脂、三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺、聚二乙烯基苯、聚二乙烯基苯聚苯乙烯、聚二乙烯基苯聚丙烯酸、聚苯二甲酸二烯丙酯、以及三丙烯基三聚氰酸鹽聚合物。
此外，本發明抗炫光膜組成物可更包括一有機溶劑，且此有機溶劑可於100重量份的黏結劑樹脂加入50到500的重量份。較佳的是，本發明抗炫光膜組成物可包括一黏結劑樹脂，一有機粒子以及一有機溶劑。
當有機溶劑的量低於50重量份時，由於此塗覆組成物之黏度非常高，塗覆特性就較低。當有機溶劑的量高於500重量份時，塗覆層低，且不易製備成厚膜。
有機溶劑可為單一材料，係選自：C1到C6低碳鏈醇 類、酯類、酮類、賽璐素(cellosolves)、二甲基甲醯胺、四氫呋喃、丙基烯乙二醇甲醚醋酸、甲苯、以及二甲苯或其混合物。
低碳鏈醇類可使用包括選自下列之材料：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇以及二丙酮醇。酯類可使用包括選自下列之材料：甲酯、乙酯、異丙酯、丁酯、以及賽璐酯。酮類可使用包括選自下列之材料：甲乙酮、甲基異丁基酮、乙基丙酮、以及丙酮，但並不以此為限。
本發明抗炫光膜組成物可更包括一UV固化起始劑，以於UV照射時進行固化，而UV固化起始劑的添加可於100重量份的黏結劑樹脂中加入0.1到10重量份。較佳者，本發明抗炫光膜組成物可包括一黏結劑樹脂、一有機粒子、一有機溶劑、以及一UV固化起始劑。
UV固化起始劑的添加量可於100重量份的黏結劑樹脂中加入0.1到10重量。在UV固化起始劑低於0.1重量份時，固化程度不夠。在UV固化起始劑高於10重量份時，抗炫光膜的強度可能降低。
固化起始劑，為單一材料選自：1－羥基環己苯基酮、苄基二甲基縮酮、羥基二甲基乙醯苯、安息香、安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、以及安息香丁醚，或較佳可使用二個或以上材料之混合物，但並不以此為限。
本發明抗炫光膜組成物可更包括一個或多個添加劑，選自：流平劑、潤濕劑、消泡劑以及平均粒徑在1到50 nm的矽。
添加劑可於100重量份的黏結劑樹脂中加入0.01到10重量份。
流平劑可使塗覆於抗炫光膜外的本發明組成物之塗覆層表面更平均。
由於潤濕劑可降低本發明抗炫光膜組成物的表面能，因此當抗炫光膜組成物塗覆於透明基板層時，可獲均勻的塗覆效果。
消泡劑的使用可移除本發明抗炫光膜組成物的氣泡。
矽是無機材料顆粒，且其添加可增加刻劃的耐性以及塗覆層的強度。當顆粒直徑在1到50nm時，由於透明塗覆層可獲保護，且塗覆層的光學特性不會被影響，因此會比較令人滿意。
同時，本發明之抗炫光膜組成物包括一黏結劑樹脂及一抗炫光層，其包括於100重量份黏結劑樹脂中佔1－30重量份且表面形成有凹面與凸面圖樣之有機粒子。
抗炫光層的結構可透過本發明描述之抗炫光膜組成物得知，因此其細節說明將不再贅述。
抗炫光塗覆層可更包括一透明基板層，提供於抗炫光層之至少一側，及/或一低反射層提供於該抗炫光層上。
低反射層的厚度可於40到200 nm之間，而低反射層之折射率可於1.2到1.45之間。
用以形成低反射層的低折射材料包括折射率1.40的金屬氟化物，或折射率更低的氟化鈉(NaF)、氟化鋰(LiF)、氟化鋁(AlF3 )、錐冰晶石(Na5 Al3 F14 )、六氟合鋁酸鈉 (Na3 AlF6 )、氟化鎂(MgF2 )、以及氟化釔(YF3 )。可單獨使用上述材料，或二種以上之混合物，而較佳之使用尺寸為1到100 nm。
此外，可使用於低反射層之氟基類硅烷如：十三氟代辛烷基三乙氧基硅烷、十七氟代辛烷基三乙氧基硅烷、十七氟代辛烷基三異丙基硅烷。可單獨使用上述材料，或二種以上之混合物。用以形成低反射層的材料不限於此。
抗炫光膜可更包括一透明基板層提供於抗炫光層之至少一側，及/或一防污染層提供於該抗炫光層上。
防污染層的厚度可於0到100 nm之間，且防污染層可利用單官能團與包括一氟基團的多官能丙烯酸而形成，然並不以此為限。
本發明抗炫光膜可包括一透明基板層；以及一抗炫光層，其提供於透明基板層上，且由一抗炫光膜組成物所形成。
此外，本發明抗炫光膜可包括一透明基板層；一抗炫光層，其提供於透明基板層上，且由一抗炫光膜組成物所形成；以及一低反射層於該抗炫光層上。
此外，本發明抗炫光膜可包括一透明基板層；一抗炫光層，其提供於透明基板層上，且由一抗炫光膜組成物所形成；以及一防污染層於該抗炫光層上。
此外，本發明抗炫光膜可包括一透明基板層；一抗炫光層；一低反射層；以及一抗污染層。
本發明抗炫光膜可使用於高解析度平面顯示器。
同時，本發明製造抗炫光膜的方法可包括下列步驟：a)塗覆本發明之抗炫光膜組成物於透明基板層；以及b)固化塗覆後之膜。
於步驟a)中，可使用濕式塗覆法，其舉例包括滾軸塗覆法、棒式塗覆法、噴灑塗覆法、浸漬塗覆法以及旋轉塗覆法。塗覆法並不限於上述，且不需特別說明，應可理解多種不同習知之塗覆法均可使用。
步驟b)可分為乾燥步驟與固化步驟來實施，或於單一步驟中實施。
之後將搭配圖式詳述本發明之細節，然其範圍並非用以限制本發明。
如圖1所示，本發明之抗炫光膜包括一透明基板層1；以及一抗炫光層2，其係形成於透明基板層1上，且由本發明抗炫光膜組成物所組成。
透明基板層1的結構不限制，但本發明所屬技術領域所使用之習用基板層均可使用。
舉例而言，基板層可選自一下列材料：三醋酸纖維素膜(TAC)、對苯聚乙烯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)以及一降冰片烯聚合物。然而，材料並不限於上述，且無須特別說明，亦可使用本發明所屬技術領域中用以製備透明基板層的習知材料。
當抗炫光膜作為高解析度顯示器之偏光板時，透明基板層1較佳是以三醋酸纖維素膜製備。
於透明基板層1中，穿透率至少85%，模糊值為1% 或更低且厚度在30到120μm之間，但並不以此為限。
抗炫光層2可保護透明基板層1，且具有優異抗炫光特性、影像清晰度與對比，並可改善製成膜之機械強度。
抗炫光層2的固化是於透明基板層1上塗覆一層電子束(EB)或紫外光(UV)可固化之黏結劑樹脂，其乾燥厚度可於1到20μm之間。
以丙烯酸為基底之樹脂可用以作為可固化的黏結劑樹脂。如，反應型丙烯酸寡聚體，多官能丙烯酸單體或其混合物。
固化條件依組合之比率或成分而異，一般而言，於電子束或UV光束的例子中，照射量約為200到1,000 mJ/cm2 ，固化時間較佳進行1秒到10分鐘。
於電子束或UV光束進行固化時，若固化時間低於1秒，則因不足以固化黏結劑樹脂，其機械特性如耐耗損能力會較差，而當固化時間超過10分鐘，將導致透明基板層1發生黃化。
可利用滾軸塗覆法或棒式塗覆法，但並不以此為限，以製備如圖1所示之抗炫光層2。本發明所屬技術領域中習用之各種方法亦可使用於本發明中。
表面粗糙度經控制之有機粒子3係分佈於抗炫光層2中。
當凸面與凹面圖樣形成於有機粒子3的表面，如圖1所示，該些有機粒子係位於抗炫光層2中，而凸面與凹面圖樣將形成於炫光層2之表面。
當凸面與凹面圖樣形成於有機粒子3的表面，會使有機粒子3的表面粗糙，外源入射光會因凸面與凹面圖樣而產生多種角度的散射。因此，使用者所感覺到的反射光將降低。
【發明態樣】
在此，本發明實施之方式將如後以實施例詳細描述。本發明可藉由多個不同態樣的實施方式說明，且應可理解不以本文所述實施例為限制。這些實施例的提供可使此揭露更完整，並完全將本發明概念提供於本領域具通常知識者。
實施例1
(製備抗炫光膜組成物) 將10 g氨基甲酸酯丙烯酸寡聚體，20 g二異戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)作為多官能丙烯酸單體，2 g粒子(其平均粒徑為3.5μm，且表面形成有高度為300 nm以下之凸面與凹面，凸面與凹面寬度為1 μm以下，且凸面與凹面分佈率為80%)，30 g丁酮以及作為有機溶劑之甲苯38 g，與2 g UV固化起始劑均勻的混合，以製備組成物抗炫光膜組成物。
(製備抗炫光膜) 藉由滾軸塗覆法，將上述方法製得之液狀抗炫光膜組成物塗覆於三醋酸纖維素透明基板層上(厚度80μm)，其乾燥厚度為4μm，再照射280 mJ/cm2 之UV，以固化該膜層。
實施例2
除了將實施例1所使用之粒子，以平均粒徑為3.5μm， 表面形成凸面與凹面之高度為580 nm以下，凸面與凹面之寬度為1.5μm以下的粒子來代替外，藉由相同於實施例1之方法，製備抗炫光膜組成物後，再藉此製得抗炫光膜。
比較例1
除了將實施例1所使用之粒子，以平均粒徑為3.5μm，且為實心結構不具表面粗糙度的粒子來代替外，藉由相同於實施例1之方法，製備抗炫光膜組成物後，再藉此製得抗炫光膜。
比較例2
除了將實施例1使用粒子的量(2 g)降低到0.1 g外，藉由相同於實施例1之方法，製備抗炫光膜組成物後，再藉此製得抗炫光膜。
比較例3
除了將實施例1使用粒子的量(2 g)增加到10g外，藉由相同於實施例1之方法，製備抗炫光膜組成物後，再藉此製得抗炫光膜。
實驗例1
圖2到4為掃描式電子顯微鏡(SEM)照片，顯示實施例1與2，以及比較例1到3之粒子表面粗糙度。
圖2為掃描式電子顯微鏡照片，顯示實施例1，比較例1與比較例2的粒子，其平均粒徑為3.5μm，平均凸面與凹面之表面高度為300 nm以下，凸面與凹面之寬度為1 μm以下。
圖3係掃描式電子顯微鏡(SEM)照片，顯示使用於實施例2之核殼粒子，其平均粒徑3.5μm，凸面與凹面之平均表面高度580nm以下，凸面與凹面之寬度為1.5μm以下。
圖4係掃描式電子顯微鏡(SEM)照片，顯示使用於實施例3之實心粒子，其平均粒徑3.5μm，且不具平均表面粗糙度。
從圖2到4的掃描式電子顯微鏡照片，可從粒子看出表面粗糙度之相對程度。
實驗例2
根據實施例1與2與比較例1到3所製備之抗炫光膜的物理特性，以下列條件評估，並記錄結果於表1。
穿透度(%) 穿透度是利用Murakami Color Research Laboratory,Co.製造之HR－100進行評估。
模糊值(%) 模糊值是利用Murakami Color Research Laboratory,Co.製造之HR－100進行評估。
60°反射眩光 60°反射眩光是以BYK Gardner,Co.製造的攜帶式三角度光澤計(micro－TRI－gloss)進行評估。
影像清晰度 影像清晰度是以Suga Test Instrument Co.,Ltd.製造之ICM－1T評估之。
對比 暗房對比以及亮房對比均依照韓國標準(KS C IEC 61988－2－1)做評估。
抗刮性 將鋼棉(#0000)裝設於1kg的榔頭上，並於抗炫光塗覆層上摩擦10次。並加以觀察。
◎：刻劃數值：0○：刻劃數值：五條1公分或更小尺寸的淺層刻劃△：刻劃數值：五條或更多條1公分或更小尺寸的淺層刻劃，或一到三條1公分或更大尺寸的較長刻痕×：刻劃數值：三條或以上1公分或更大尺寸的較長刻痕
如表1所示，在實施例1與2中，使用表面粗糙度經控制的粒子，可看到具有優異的保存穩定性，且抗炫光特性，影像清晰度與對比都很優異。
另一方面，在比較例1中，使用的粒子不具表面粗糙度，其60°反射眩光為110，塗覆層的抗炫光特性降低，且 因粒子間的膨脹導致聚集，而使保存穩定性降低。
此外，在比較例2中，其具有表面粗糙度之粒子使用量低於1重量份，其模糊值非常低，60°反射眩光為135，且塗覆層的抗炫光特性極差。在比較例3中，具表面粗糙度之核殼粒子使用量高於30重量份，抗炫光特性優異，但影像清晰度明顯的降低。
本發明描述了最佳實施例。所使用之名詞僅用於清楚描述，不應用以限制本發明揭示之主張。
上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已，本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述實施例。
透明基板層‧‧‧1
抗炫光層‧‧‧2
有機粒子‧‧‧3
圖1係本發明一較佳實施例之抗炫光膜剖面圖。
圖2係掃描式電子顯微鏡(SEM)照片，顯示本發明比較例1以及比較例2中用於抗炫光膜之有機粒子。
圖3係掃描式電子顯微鏡(SEM)照片，顯示本發明實施例2中用於抗炫光膜之有機粒子。
圖4係掃描式電子顯微鏡(SEM)照片，顯示本發明比較例3中用於抗炫光膜之有機粒子。
圖5顯示形成於有機粒子表面的凸面與凹面圖樣之高度與寬度。
透明基板層‧‧‧1
抗炫光層‧‧‧2
有機粒子‧‧‧3

Claims (20)

  1. 一種抗炫光膜用組成物，包括：一黏結劑樹脂；以及一有機粒子，於100重量份黏結劑樹脂中佔1-30重量份，且於其表面形成有凹面與凸面的圖樣；其中該有機粒子之凹面與凸面之高度在0.01到2μm之間，該有機粒子之凹面與凸面之寬度在0.01到4μm之間，且該有機粒子之凹面與凸面在該有機粒子之全部表面區域的分佈率在10到100%之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，其中該有機粒子之平均直徑為1到10μm之間。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，其中該有機粒子與該黏結劑樹脂的折射率差在0.01到0.3之間。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，其中該有機粒子是單一材料或選自二個以上材料之共聚物，其係選自：聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酸、聚丙烯酸苯乙烯、聚甲基丙烯酸苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯苯乙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚醯胺、聚亞醯胺、聚碸、聚氧化二甲苯、聚縮醛、環氧樹脂、酚醛樹脂、矽樹脂、三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺、聚二乙烯基苯、聚二乙烯基苯苯乙烯、聚二乙烯基苯丙烯酸、聚苯二甲酸二烯丙酯、與三丙烯基三聚氰酸鹽聚合物。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，其中該黏結劑樹脂是單一材料或二個以上材料的混合物，其係選自：反應型丙烯酸寡聚體與多官能丙烯酸單體。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之抗炫光膜用組成物，其中該反應型丙烯酸寡聚體是單一材料或二個以上材料的混合物，其係選自：氨基甲酸酯丙烯酸寡聚體、環氧丙烯酸寡聚體、聚酯丙烯酸與聚醚丙烯酸。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之抗炫光膜用組成物，其中該多官能丙烯酸單體是單一材料或二個以上材料的混合物，其係選自：二異戊四醇六丙烯酸酯、單羥基五丙烯酸二異戊四醇酯、異戊四醇四丙烯酸、異戊四醇三丙烯酸、三亞甲基丙基三丙烯酸、丙氧化丙三醇三丙烯酸、三羥甲基丙烷乙氧基三丙烯酸、1,6-己二醇二丙烯酸、丙氧化丙三醇三丙烯酸、三丙二醇乙二醇二丙烯酸、與乙烯乙二醇二丙烯酸。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，更包括於100重量份黏結劑樹脂中佔50-500重量份之一有機溶劑。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，更包括於100重量份的黏結劑樹脂佔0.1到10重量份的UV固化起始劑。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之抗炫光膜用組成物，更包括一或多個添加劑，其係選自：流平劑、潤濕劑、消泡劑與平均粒徑在1到50nm的矽。
  11. 一種抗炫光膜，包括：一黏結劑樹脂；以及一抗炫光膜層，包括一於100重量份黏結劑樹脂中佔1-30重量份的有機粒子，且於其表面形成有凹面與凸面的圖樣；其中該有機粒子之凹面與凸面之高度在0.01到2μm之間，該有機粒子之凹面與凸面之寬度在0.01到4μm之間，且該有機粒子之凹面與凸面在該有機粒子之全部表面區域的分佈率在10到100%之間。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，其中該有機粒子之平均直徑為1到10μm之間。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，其中該有機粒子與該黏結劑樹脂的折射率差在0.01到0.3之間。
  14. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，其中該有機粒子是單一材料或二個以上材料的共聚物，其係選自：聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酸、聚丙烯酸苯乙烯、聚甲基丙烯酸苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯苯乙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚醯胺、聚亞醯胺、聚碸、聚氧化二甲苯、聚縮醛、環氧樹脂、酚醛樹脂、矽樹脂、三聚氰胺樹脂、苯代三聚氰胺、聚二乙烯基苯、聚二乙烯基苯苯乙烯、聚二乙烯基苯丙烯酸、聚苯二甲酸二烯丙酯、與三丙烯基三聚氰酸鹽聚合物。
  15. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，其中該黏結劑樹脂是單一材料或二個以上材料的混合物，其係選自：反應型丙烯酸寡聚體與多官能丙烯酸單體。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之抗炫光膜，其中該反應型丙烯酸寡聚體是單一材料或二個以上材料的混合物，其係選自：氨基甲酸酯丙烯酸寡聚體、環氧丙烯酸寡聚體、聚酯丙烯酸與聚醚丙烯酸。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之抗炫光膜，其中該多官能丙烯酸單體是單一材料或二個以上材料的混合物，其係選自：二異戊四醇六丙烯酸酯、單羥基五丙烯酸二異戊四醇酯、異戊四醇四丙烯酸、異戊四醇三丙烯酸、三亞甲基丙基三丙烯酸、丙氧化丙三醇三丙烯酸、三羥甲基丙烷乙氧基三丙烯酸、1,6-己二醇二丙烯酸、丙氧化丙三醇三丙烯酸、三丙二醇乙二醇二丙烯酸、與乙烯乙二醇二丙烯酸。
  18. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，更包括一透明基板層，提供於該抗炫光層之至少一側。
  19. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，更包括一低反射層於該抗炫光層上。
  20. 如申請專利範圍第11項所述之抗炫光膜，更包括一防污染層於該抗炫光層上。
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