TWI390286B - 可撓式液晶顯示面板及其製造方法 - Google Patents

可撓式液晶顯示面板及其製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI390286B
TWI390286B TW097135390A TW97135390A TWI390286B TW I390286 B TWI390286 B TW I390286B TW 097135390 A TW097135390 A TW 097135390A TW 97135390 A TW97135390 A TW 97135390A TW I390286 B TWI390286 B TW I390286B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
flexible substrate
forming
manufacturing
substrate
flexible
Prior art date
Application number
TW097135390A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201011396A (en
Inventor
Wei Hung Kuo
Tun Chun Yang
Seok-Lyul Lee
Wei Ming Huang
Original Assignee
Au Optronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Au Optronics Corp filed Critical Au Optronics Corp
Priority to TW097135390A priority Critical patent/TWI390286B/zh
Priority to US12/318,548 priority patent/US20100066951A1/en
Publication of TW201011396A publication Critical patent/TW201011396A/zh
Priority to US13/537,255 priority patent/US20120264243A1/en
Application granted granted Critical
Publication of TWI390286B publication Critical patent/TWI390286B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133504—Diffusing, scattering, diffracting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/13613—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit the semiconductor element being formed on a first substrate and thereafter transferred to the final cell substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/02—Materials and properties organic material
    • G02F2202/022—Materials and properties organic material polymeric
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/01—Function characteristic transmissive

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

可撓式液晶顯示面板及其製造方法
本發明是有關於一種可撓式液晶顯示面板及其製造方法，且特別是有關於一種彩色濾光片於陣列上(color filter on array，COA)可撓式液晶顯示面板及其製造方法。
平面顯示器是否具備可撓性，取決於其所使用的基板材質。當平面顯示器所使用的基板為硬質基板(如玻璃基板)時，平面顯示器將不具有可撓性。反之，平面顯示器所使用的基板為可撓性基板(如塑膠基板)時，平面顯示器便具有良好的可撓性。
目前，在硬質基板上製作薄膜電晶體的技術已漸趨成熟，但在可撓性基板上製作薄膜電晶體的技術仍有待開發。一般來說，若要在可撓性基板上製作薄膜電晶體，通常需先將可撓性基板黏著於硬質基板上，之後才進行一系列的成膜製程。由於可撓性基板與硬質基板的熱膨脹係數差異(thermal expansion coefficient mis－match)很大，在可撓性基板上進行不同的成膜製程(高溫製程)、微影製程以及蝕刻製程時，常會因為操作溫度升高而使可撓性基板產生翹曲。值得注意的是，在嚴重翹曲的可撓性基板上進行成膜製程，將會使得膜層與膜層之間發生嚴重的誤對準(mis－alignment)，進而導致製程失敗。也就是說，若選擇穿透率較高的熱塑性塑膠基板，其耐熱性卻為較差，而選擇耐熱性較佳的熱塑性塑膠基板，其穿透率卻反之較差。
因此，可撓性陣列基板的製程良率一直很難提升。
鑑於前述，本發明的目的是提供一種可撓式液晶顯示面板，其可以利用高溫製程製作而成。
本發明的目的是提供一種可撓式液晶顯示面板，其為反射式彩色濾光片於陣列可撓式液晶顯示面板，且具有較佳的可撓性。
本發明的目的是提供一種可撓式液晶顯示面板，其為穿透式彩色濾光片於陣列可撓式液晶顯示面板，且具有較佳的可撓性。
本發明的目的是提供一種可撓式液晶顯示面板的製造方法，其係在高溫製程中進行。
本發明所提供之可撓式液晶顯示面板的製造方法，包括形成一硬質基板，該硬質基板包括一硬質基底，其中該硬質基底之厚度約為100微米至700微米；形成一可撓式基板，該可撓式基板包括一可撓式基底；以及形成一液晶層於該硬質基板以及該可撓式基板之間。
本發明所提供之可撓式液晶顯示面板的製造方法，包括形成一第一可撓式基板；形成一第二可撓式基板以及形成一液晶層於該第一可撓式基板以及該第二可撓式基板之間。其中形成該第一可撓式基板包括提供一第一載具板；以及形成一第一可撓式基底於該第一載具板上。其中形成該第二可撓式基板包括提供一第二載具板；形成一第二可 撓式基底於該第二載具板上；以及形成一主動陣列於該第二可撓式基底上。
本發明所提供之可撓式液晶顯示面板包括一硬質基板、一可撓式基板以及一液晶層位於該硬質基板以及該可撓式基板之間。其中該硬質基板，包括一硬質基底；以及一彩色濾光主動陣列位於該硬質基底上。
本發明所提供之可撓式液晶顯示面板包括一第一可撓式基板、一第二可撓式基板以及一液晶層位於該第一可撓式基板以及該第二可撓式基板之間。其中該第一可撓式基板包括一第一可撓式基底。該第二可撓式基板包括一第二可撓式基底；一主動陣列位於該第二可撓式基底上；一絕緣材料層位於該主動陣列上，該絕緣材料層具有複數凸起；一反射層位於該些凸起上；以及一彩色濾光層位於該反射層上。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
 第一實施例
第1A圖至第3B圖為本發明之第一實施例之反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板的製造方法。第1A圖至第1B圖為製造本發明之本實施例之硬質基板的方法。第2A圖至第2C圖為製造本發明之本實施例之可撓式基板的方法。
第1A圖至第1B圖為形成硬質基板的方法。如第1A圖及第1B圖所示，提供硬質基底100，硬質基底100厚度約為100微米至700微米，硬質基底100之材質包括玻璃或石英，接下來，於製程溫度約為220度C至700度C下，形成彩色濾光主動陣列115於該硬質基底100上，形成彩色濾光主動陣列115之方式為，如第1A圖所示，形成主動陣列110於硬質基底100上，然後如第1B圖所示，形成彩色濾光層120於主動陣列110上，其中主動陣列110以及彩色濾光層120構成彩色濾光主動陣列115。是故，便完成硬質基板10。
第2A圖至第2C圖為形成可撓式基板的方法。如第2A圖至第2C圖所示，提供載具板2，形成可撓式基底200於該載具板2上，可撓式基底200之材質包括塑膠，其係可為透明的，舉例為聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene 2,6－naphthalate，PEN)或聚亞醯胺(Polyimide，PI)。可撓式基底200之厚度約為50微米至200微米。接下來，在製程溫度約為20度C至350度C下，較佳的是約為20度C至150度C下，形成絕緣材料層210於該可撓式基底200上，其中該絕緣材料層210之材質包括有機材料。之後，如第2B圖所示，於該絕緣材料層210之上表面形成複數凸起210’。然後如第2C圖所示，形成反射層220於該些凸起210’上，也就是說，形成反射層220於該具有凸起210’之絕緣材料層210之上表面。該反射層 220之材質包括金屬，舉例而言為鉬、鋁或上述組合，是故，反射層220便會具有凹凸表面用以反射由硬質基板10側進入的環境光以達到反射式顯示面板的功能。如此一來，係完成可撓式基板20。
接下來，請參照第3A圖至第3B圖。如第3A圖所示，形成液晶層30於該硬質基板10以及該可撓式基板20之間，其中形成該液晶層30於該硬質基板10以及該可撓式基板20之間之步驟係包括利用一液晶滴入法(one drop fill，ODF)或一真空注入法(vacuum injection)，在此時，硬質基板10以及該可撓式基板20係被對組結合。接下來如第3B圖所示，薄化該硬質基底100使硬質基底100’之厚度約為100微米至200微米，薄化該硬質基底100之步驟係利用蝕刻法或是拋光法(polish)，且移除該載具板2，使可撓式基板20脫離該載具板2。薄化該硬質基底100以及移除該載具板2之兩步驟之順序並不侷限，可為同時進行或是先薄化該硬質基底100再移除該載具板2，或者是，先移除該載具板2再薄化該硬質基底100。
是故，便完成本發明之第一實施例之反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板1。然而，在本實施例中，可撓式基底200舉例可替換為金屬薄片具有可撓性之材料，舉例係為不鏽鋼，厚度約為50微米至200微米，一樣可達到反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板之功能。
第二實施例
第4A圖至第6B圖為本發明之第二實施例之穿透式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板的製造方法。第4A圖至第4B圖為製造本發明之本實施例之硬質基板的方法。第5A圖至第5B圖為製造本發明之本實施例之可撓式基板的方法。
第4A圖至第4B圖為形成硬質基板的方法。如第4A圖及第4B圖所示，提供硬質基底100，硬質基底100厚度約為100微米至700微米，硬質基底100之材質包括玻璃或石英，接下來，於製程溫度約為220度C至700度C下，形成彩色濾光主動陣列115於該硬質基底100上，形成彩色濾光主動陣列115之方式為，如第4A圖所示，形成主動陣列110於硬質基底100上，然後如第4B圖所示，形成彩色濾光層120於主動陣列110上，其中主動陣列110以及彩色濾光層120構成彩色濾光主動陣列115。是故，便完成硬質基板10。
第5A圖至第5B圖為形成可撓式基板的方法。如第5A圖至第5B圖所示，提供載具板2，形成可撓式基底200於該載具板2上，可撓式基底200之材質包括塑膠，其係可為透明的，舉例為聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)。可撓式基底200之厚度約為50微米至200微米。接下來，在製程溫度約為20度C至350度C下，較佳的是約為20度C至200度C下，如第5B圖所示，形成遮光矩陣230於該可撓式基底200上，遮 光矩陣230之材質舉例係為碳黑、色阻、金屬、樹脂或暗色有機材料等等。遮光矩陣230的形成方式舉例係為全面形成遮光材料(未繪示)於可撓式基底200上，然後以蝕刻或雷射剝除等圖案化製成形成遮光矩陣230。如此一來，係完成可撓式基板20。
接下來，請參照第6A圖至第6B圖。如第6A圖所示，形成液晶層30於該硬質基板10以及該可撓式基板20之間，其中形成該液晶層30於該硬質基板10以及該可撓式基板20之間之步驟係包括利用一液晶滴入法(one drop fill，ODF)或一真空注入法(vacuum injection)，在此時，硬質基板10以及該可撓式基板20係被對組結合。接下來如第6B圖所示，薄化該硬質基底100使硬質基底100’之厚度約為100微米至200微米，薄化該硬質基底100之步驟係利用蝕刻法或是拋光法(polish)，且移除該載具板2，使可撓式基板20脫離該載具板2。薄化該硬質基底100以及移除該載具板2之兩步驟之順序並不侷限，可為同時進行或是先薄化該硬質基底100再移除該載具板2，或者是，先移除該載具板2再薄化該硬質基底100。
是故，便完成本發明之第二實施例之穿透式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板3。
第三實施例
第7A圖至第9B圖為本發明之第三實施例之反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板的製造方法。第7A 圖至第7B圖為製造本發明之本實施例之第一可撓式基板的方法。第8A圖至第8F圖為製造本發明之本實施例之第二可撓式基板的方法。
第7A圖至第7B圖為形成第一可撓式基板的方法。如第7A圖及第7B圖所示，提供第一載具板2a，在製程溫度約為20度C至200度C下，形成第一可撓式基底300於該第一載具板2a上，第一可撓式基底300之材質包括塑膠，其係可為透明的，舉例為聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)。接下來如第7B圖所示，選擇性形成遮光矩陣310於該第一可撓式基底300上，遮光矩陣310之材質舉例係為碳黑、色阻、金屬、樹脂或暗色有機材料等等。遮光矩陣310的形成方式舉例係為全面形成遮光材料(未繪示)於第一可撓式基底300上，然後以蝕刻或雷射剝除等圖案化製成形成遮光矩陣310。如此一來，便完成第一可撓式基板40。
接下來，請參照第8A圖至第8F圖。第8A圖至第8F圖為形成第二可撓式基板的方法。如第8A圖至第8F圖所示，提供第二載具板2b，形成第二可撓式基底400於該第二載具板2b上，該第二可撓基底400包括塑膠，舉例為包括聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene 2,6－naphthalate，PEN)或聚亞醯胺(Polyimide，PI)，此外，該第二可撓基底400之材質也可為金屬，舉例係為不鏽鋼，厚度約為50微米至200微米。接下來，在製程溫度約為20度C至350度C下，如第8B圖所示，形成主動陣列410於該第二可撓式基 底400上，在此步驟中，若第二可撓基底400之材質使用的是上述金屬，則耐熱性比使用塑膠更佳。然後如第8C圖所示，形成絕緣材料層420於該主動陣列410上，該絕緣材料層420之材質包括有機材料，在絕緣材料層420之上表面形成複數凸起420’。如第8E圖所示，形成反射層430於該些凸起420’上，也就是說，形成反射層430於該具有凸起410’之絕緣材料層420之上表面。該反射層430之材質包括金屬，舉例而言為鉬、鋁或上述組合，是故，反射層430便會具有凹凸表面用以反射由第一可撓式基板40側進入的環境光以達到反射式顯示面板的功能。接下來，如第8F圖所示，形成彩色濾光層450於該反射層430上，在形成彩色濾光層450於該反射層430上之前，可選擇性先形成平坦層440於該反射層430上，再形成彩色濾光層450於該平坦層440上，平坦層440之材質舉例係為有機材料。是故，便完成第二可撓式基板50。
接下來，請參照第9A圖至第9B圖。如第9A圖所示，形成液晶層30於該第一可撓式基板40以及該第二可撓式基板50之間，其中形成該液晶層30於該第一可撓式基板40以及該第二可撓式基板50之間之步驟係包括利用一液晶滴入法(one drop fill，ODF)或一真空注入法(vacuum injection)，在此時，第一可撓式基板40以及該第二可撓式基板50係被對組結合。
接下來如第9B圖所示，選擇性薄化該第二可撓基底400，薄化該第二可撓基底400之方式舉例係為蝕刻法或是 拋光法(polish)，相同地，第一可撓式基底300也可依相同的方式選擇性薄化。移除第一載具板2a以及第二載具板2b，使第一可撓式基板40以及第二可撓式基板50分別脫離第一載具板2a以及第二載具板2b。薄化基底以及移除載具板之步驟之順序並不侷限，可為同時進行或是先薄化基底再移除該載具板，或者是，先移除該載具板再薄化基底。
是故，便完成本發明之第三實施例之反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板4。
上述各實施例之主動陣列舉例係包含薄膜電晶體陣列，而彩色濾光層舉例係包含紅色、綠色、藍色或其他顏色構成的彩色濾光陣列，此係為習知易於了解範圍，在此不贅述。
本發明之各實施例之製程溫度可為高溫製程，是故可節省製程時間成本。此外，本發明之各實施例之可撓式液晶顯示面板具有較佳之可撓性
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板
10‧‧‧硬質基板
100‧‧‧硬質基底
110、110’‧‧‧主動陣列
115‧‧‧彩色濾光主動陣列
120‧‧‧彩色濾光層
2、2a、2b‧‧‧載具板
20‧‧‧可撓式基板
200‧‧‧可撓式基底
210‧‧‧絕緣材料層
210’‧‧‧凸起
220‧‧‧反射層
230‧‧‧遮光矩陣
3‧‧‧穿透式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板
30‧‧‧液晶層
300、300’‧‧‧第一可撓式基底
310‧‧‧遮光矩陣
4‧‧‧反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板
40‧‧‧第一可撓式基板
400、400’‧‧‧第二可撓式基底
410‧‧‧主動陣列
420‧‧‧絕緣材料層
420’‧‧‧凸起
430‧‧‧反射層
440‧‧‧平坦層
450‧‧‧彩色濾光層
50‧‧‧第二可撓式基板
第1A圖至第3B圖為本發明之第一實施例之反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板的製造方法；第4A圖至第6B圖為本發明之第二實施例之穿透式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板的製造方法；第7A圖至第9B圖為本發明之第三實施例之反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板的製造方法。
1‧‧‧反射式彩色濾光片於陣列上可撓式液晶顯示面板
100’‧‧‧硬質基底
110‧‧‧主動陣列
120‧‧‧彩色濾光層
20‧‧‧可撓式基板
200‧‧‧可撓式基底
210‧‧‧絕緣材料層
210’‧‧‧凸起
220‧‧‧反射層
30‧‧‧液晶層

Claims (34)

  1. 一種可撓式液晶顯示面板的製造方法，包括：形成一硬質基板，該硬質基板包括一硬質基底，其中該硬質基底之厚度約為100微米至700微米；形成一可撓式基板，該可撓式基板包括一可撓式基底；形成一液晶層於該硬質基板以及該可撓式基板之間；以及形成該液晶層後，薄化該硬質基底。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中該硬質基底之厚度約為100微米至200微米。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中該硬質基底之材質包括玻璃或石英。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中該可撓式基底之材質包括塑膠。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之製造方法，其中該可撓式基底之材質包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene 2,6-naphthalate，PEN)或聚亞醯胺(Polyimide，PI)。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中該可撓式基底之厚度約為50微米至200微米。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中形成該硬質基板之步驟包括： 提供該硬質基底；以及形成一彩色濾光主動陣列於該硬質基底上。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之製造方法，其中形成該可撓式基板之步驟包括：提供一載具板；形成該可撓式基底於該載具板上；形成一絕緣材料層於該可撓式基底上；於該絕緣材料層之上表面形成複數凸起；以及形成一反射層於該些凸起上。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之製造方法，其中該絕緣材料層之材質包括有機材料且該反射層之材質包括金屬。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之製造方法，其中該金屬包括鉬、鋁或上述組合。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之製造方法，更包括：移除該載具板。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之製造方法，其中薄化該硬質基底之步驟係利用蝕刻法或是拋光法(polish)。
  13. 如申請專利範圍第8項所述之製造方法，其中形成該硬質基板之製程溫度約為220度C至700度C，且形成該可撓式基板之製程溫度約為20度C至350度C。
  14. 如申請專利範圍第8項所述之製造方法，其中該可撓式基底之材質包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)、聚萘二甲酸乙二酯 (polyethylene 2,6-naphthalate，PEN)或聚亞醯胺(Polyimide，PI)。
  15. 如申請專利範圍第7項所述之製造方法，其中形成該可撓式基板之步驟包括：提供一載具板；以及形成該可撓式基底於該載具板上，其中該可撓式基底係為透明。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之製造方法，其中該可撓式基底之材質包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之製造方法，更包括形成一遮光矩陣於該可撓式基底上。
  18. 如申請專利範圍第15項所述之製造方法，更包括：移除該載具板。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之製造方法，其中薄化該硬質基底之步驟係利用蝕刻法或是拋光法(polish)。
  20. 如申請專利範圍第15項所述之製造方法，其中形成該硬質基板之製程溫度約為220度C至700度C，且形成該可撓式基板之製程溫度約為20度C至200度C。
  21. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中形成該液晶層於該硬質基板以及該可撓式基板之間之步驟係包括利用一液晶滴入法(one drop fill，ODF)或一真空注入法(vacuum injection)。
  22. 一種可撓式液晶顯示面板的製造方法，包括：形成一第一可撓式基板，包括：提供一第一載具板；以及形成一第一可撓式基底於該第一載具板上；形成一第二可撓式基板，包括：提供一第二載具板；形成一第二可撓式基底於該第二載具板上；以及形成一主動陣列於該第二可撓式基底上；形成一液晶層於該第一可撓式基板以及該第二可撓式基板之間；以及形成該液晶層後，薄化該第一及第二可撓基底。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之製造方法，其中形成該第二可撓式基板之步驟更包括：形成一絕緣材料層於該主動陣列上；於該絕緣材料層之上表面形成複數凸起；形成一反射層於該些凸起上；以及形成一彩色濾光層於該反射層上。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之製造方法，其中該絕緣材料層之材質包括有機材料且該反射層之材質包括金屬。
  25. 如申請專利範圍第23項所述之製造方法，更包括：移除該第一以及第二載具板。
  26. 如申請專利範圍第23項所述之製造方法，其中該 第一可撓基底之材質包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)，且該第二可撓基底之材質包括聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene 2,6-naphthalate，PEN)或聚亞醯胺(Polyimide，PI)。
  27. 如申請專利範圍第23項所述之製造方法，其中形成該第一可撓式基板之製程溫度約為20度C至200度C，且形成該第二可撓式基板之製程溫度約為20度C至350度C。
  28. 如申請專利範圍第23項所述之製造方法，其中該第二可撓式基底之材質為金屬。
  29. 如申請專利範圍第28項所述之製造方法，其中該金屬包括不鏽鋼，厚度約為50微米至200微米。
  30. 如申請專利範圍第22項所述之製造方法，其中形成該第一可撓式基板之步驟更包括形成一遮光矩陣於該第一可撓式基底上。
  31. 一種可撓式液晶顯示面板，包括：一第一可撓式基板，包括一第一可撓式基底；一第二可撓式基板，包括：一第二可撓式基底；一主動陣列位於該第二可撓式基底上；一絕緣材料層位於該主動陣列上，該絕緣材料層具有複數凸起；一反射層位於該些凸起上；以及一彩色濾光層位於該反射層上，其中該反射層位 於該主動陣列和該彩色濾光層之間；以及一液晶層位於該第一可撓式基板以及該第二可撓式基板之間。
  32. 如申請專利範圍第31項所述之可撓式液晶顯示面板，其中該第一可撓式基底之材質包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)，且該第二可撓式基底之材質包括聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene 2,6-naphthalate，PEN)或聚亞醯胺(Polyimide，PI)。
  33. 如申請專利範圍第31項所述之可撓式液晶顯示面板，其中該第一可撓式基底之材質包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚醚(Polyphenylene Sulfide,PES)，且該第二可撓式基底之材質包括金屬。
  34. 如申請專利範圍第33項所述之可撓式液晶顯示面板，其中該金屬包括不鏽鋼，厚度約為50微米至200微米。
TW097135390A 2008-09-15 2008-09-15 可撓式液晶顯示面板及其製造方法 TWI390286B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW097135390A TWI390286B (zh) 2008-09-15 2008-09-15 可撓式液晶顯示面板及其製造方法
US12/318,548 US20100066951A1 (en) 2008-09-15 2008-12-31 Flexible liquid crystal display panel and method for manufacturing the same
US13/537,255 US20120264243A1 (en) 2008-09-15 2012-06-29 Flexible liquid crystal display panel and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW097135390A TWI390286B (zh) 2008-09-15 2008-09-15 可撓式液晶顯示面板及其製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201011396A TW201011396A (en) 2010-03-16
TWI390286B true TWI390286B (zh) 2013-03-21

Family

ID=42006918

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097135390A TWI390286B (zh) 2008-09-15 2008-09-15 可撓式液晶顯示面板及其製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (2) US20100066951A1 (zh)
TW (1) TWI390286B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI410910B (zh) * 2010-08-02 2013-10-01 Au Optronics Corp 可撓式顯示面板的製作方法
KR102097031B1 (ko) 2013-07-22 2020-04-06 삼성디스플레이 주식회사 폴더블 디스플레이 장치 및 그의 제조 방법
CN103646611B (zh) * 2013-09-04 2015-11-11 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、柔性显示器件及阵列基板的制作方法
CN107579088B (zh) * 2016-07-11 2021-02-26 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性oled显示面板及其制备方法
KR102539196B1 (ko) * 2016-08-18 2023-06-02 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 표시 장치
CN107703672A (zh) * 2017-11-21 2018-02-16 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板及其制作方法、柔性显示面板、柔性显示器
WO2020049674A1 (ja) * 2018-09-06 2020-03-12 シャープ株式会社 表示デバイス
CN115128860B (zh) * 2021-03-29 2024-01-23 瀚宇彩晶股份有限公司 可挠式显示面板的制造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58125084A (ja) * 1982-01-21 1983-07-25 株式会社東芝 液晶表示装置およびその製造方法
JPH10268338A (ja) * 1997-01-23 1998-10-09 Toshiba Corp 液晶表示装置およびその製造方法
US6221543B1 (en) * 1999-05-14 2001-04-24 3M Innovatives Properties Process for making active substrates for color displays
JP2001133791A (ja) * 1999-11-09 2001-05-18 Toshiba Corp 液晶表示装置
KR100628679B1 (ko) * 1999-11-15 2006-09-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 어레이 패널, 액정 표시장치 제조방법 및 그 제조방법에따른액정표시장치
US6727970B2 (en) * 2001-06-25 2004-04-27 Avery Dennison Corporation Method of making a hybrid display device having a rigid substrate and a flexible substrate
US6856086B2 (en) * 2001-06-25 2005-02-15 Avery Dennison Corporation Hybrid display device
JP4104489B2 (ja) * 2002-05-17 2008-06-18 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 表示装置及びその製造方法
US7388631B2 (en) * 2002-10-10 2008-06-17 Samsung Electronics, Co., Ltd. Parallax compensating color filter and black mask for display apparatus
KR100577797B1 (ko) * 2004-02-04 2006-05-11 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 반투과형 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법
JP4213616B2 (ja) * 2004-03-31 2009-01-21 大日本印刷株式会社 液晶パネル用ベースフィルム、液晶パネル用機能フィルム、機能フィルムの製造方法、および機能フィルムの製造装置
JP4378314B2 (ja) * 2005-04-26 2009-12-02 シャープ株式会社 表示装置及び表示装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20120264243A1 (en) 2012-10-18
TW201011396A (en) 2010-03-16
US20100066951A1 (en) 2010-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI390286B (zh) 可撓式液晶顯示面板及其製造方法
US20110255034A1 (en) Display device
TWI468786B (zh) 製造輕薄液晶顯示裝置的方法
TWI734074B (zh) 顯示面板及其製作方法
WO2012147322A1 (ja) 表示装置、それを備えた電子機器、及び表示装置の製造方法
TW201327304A (zh) 觸控顯示面板
JPH10311982A (ja) 反射型液晶表示装置およびその製造方法
TW200426482A (en) Color filter structure and method of fabrication
US7742129B2 (en) Color filter substrate and manufacturing method thereof and liquid crystal display panel
US20120081651A1 (en) Display panel
KR101002936B1 (ko) 캐리어 기판, 이를 이용한 플라스틱 기판의 적층 방법 및유연한 디스플레이 장치의 제조 방법
US11670197B2 (en) Flexible display panel including insulation layer as base substrate, manufacturing method for the same, and display device
WO2018209796A1 (zh) 液晶显示面板及其制造方法以及曲面显示设备
JP2013235196A (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
CN110333624B (zh) 显示模块
WO2019184047A1 (zh) 具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、显示面板
CN101377582A (zh) 可挠式液晶显示面板及其制造方法
JP2010101935A (ja) カラーフィルタ及び液晶表示装置
KR20080000246A (ko) 전사필름, 이를 이용하여 제조된 액정표시장치 및 그의제조방법
WO2010047307A1 (ja) 表示パネル用の基板、表示パネル、表示パネル用の基板の製造方法
TW201022773A (en) Liquid crystal display and method for forming alignment film
JP2009116190A (ja) 表示パネルの製造方法
TWI383225B (zh) 液晶顯示面板及其製作方法
TWI834300B (zh) 電子裝置
US20080212015A1 (en) Method for manufacturing liquid crystal display panel

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees