TWI357102B - Method and apparatus of manufacturing semiconducto - Google Patents
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Description
九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 有研置之製造找及/或設備,尤有關於具 ,研磨aa Η “之+導體裝置之製造方法及/或設備。 【先前技術】 舉例^導ίίί製^料可能她™时表面平坦化。 絕二Ϊί=層間絕緣膜之平坦化製程、形成電晶體 形成金屬配線等用之接觸部之製程、及 為使表面平触,有_ 的目的可能不止 於絕ίί二成接卿之製歡形成金屬崎之製程中, ^:ΐΓ;::;ΐ:: r〇itr^ ^ cvd 表面。除凹在此,▲屬膜平均形絲凹部以外的 形成於非必要部分的金屬膜。 磨之-例力^:成接觸部之1中所進行的研磨,作為此類研 22 21 mt 運用2。當藉由猶法或CVD法以嵌入金屬膜2時,除^
否則金屬膜2除了形成於孔4中之外也2 非2·^ S4M 3之上。因為形成於孔4以外部分的金屬膜2 A 1357102 的需$,而使增加生產力(比如說產量等)成為—重要 *與上述說明相關聯者,日本公開專利公報JP-P 9ηη/ΐ_9〇(^ίΐί; Α號揭示一種半導體裝置的製造方法。其一目的 吝旦。j 文J揭示具有複數個研磨平台及研磨頭的一研磨问立二: 著在非用於SC二
6432825^^^23^^ ^ 2〇〇°'173959 A US = 9 A)揭示一種半導體裝置的製造方法。哕 32=金Γ表面之表面層移除製程,其中=個: —研階段係在高負載情況下進行研磨。而第 -段巾’係在低於第―賴的貞載情況下進行研磨。 過研^人已發現下列事實:當研磨標的物被研磨時,有時會進行 行過:面層被研磨到預纽之後,再進 而’ §進行過研磨時,有時會發生於研磨初期實質上未進 兩誘者導心广一1·長的情形。
膜兩者皆露出的表面進行過研磨時,金屬材料容 I虫作§用晰日中被研磨溶液腐飾。也就是說’後退(由化學溶液腐 (密集配線的局部後退)的 祕时,了棘’關方、上返問喊之一項原因,吾人可思考如下: 研磨=所=:力:開始後’溫咖 可诗ϋ^2!:00—173959 A揭示一種在全部晶圓表面為金屬膜之時 月技術。然而,並未有任何文件揭露··當在金屬 “巴ί膜兩者皆露出的表面進行過研磨時,可減少誘導時間的 ^。此,吾人需要可在過研磨時減少誘導時間的技術。 6 U57102 【發明内容】 本發明^求解決上述之一或多個問題,或至 二通。ΐ —實施例中,—種半導體裝置的製造方法’包刀括j迷 2遠露出之,膜及該露出之金屬膜的表面進行; 。括· 0)1:)在南摩擦力之情況下研磨表面及 γ 低於高摩擦力的平常摩擦力情況下研磨表面。驟(bl)後以 如同上述,在過研磨步驟的步·驟(1))中,一 低負載或/及-低轉速)以進行研磨。因此,在早射, 研磨標的物騎磨墊之間的摩擦因此增加熱能產生。因此,曰 ,加加到金屬_熱能以相對快速地升高金屬膜溫度。因此,4 能減少誘導時間及減少移除金屬膜的所需時間。結果使得產量增 加。 9 【實施方式】
在此將敘述本發明並可參照說明實施例。熟悉本項技術者可 藉由利用本發明的揭露以發現許多替代的實施方式,而且本發明 並不受限於為解釋目的之說明實施例。 (第一實施例) 於下參照圖示敘述本發明之第一實施例。在此,下述的實施 例係以半導體晶圓研磨,其中鶴膜及氮化欽/鈦膜在孔中被嵌入作 為金屬膜的情形作為例子。然而,本發明的想法並不限於此。本 發明也可運用於其中金屬膜被嵌入於晶圓上形成之凹部中之類 型。 圖2為顯示依據此實施例之半導體裝置之製造設備100的示 意圖。此半導體裝置之製造設備1〇〇具有控制器101及研磨單元 1357102 102。控制器1〇1控制研磨單 言為一電腦可藉由所安裝的裎^的刼作。控制器101,舉例而 作(將於後述敘}為依據控制巧其功能。研磨單元1〇2的操 示。 13 1指不所進行—除非另有其他指 如圖1Α所示,依據此實 , 所研磨的研磨標的物1〇5,為二】’半導體裝置之製造設備100 層21及嫣膜層22)被嵌入到形二^ ^由氮化鈦/鈦形成的阻障 之後的一晶圓。當金屬膜2形成氧化膜)上的孔4 在圖2中’將於下敘述研磨單 =俨為-_化學機械研磨:= 磨平台。三座研磨平台之—為麵移二^兀,已括二座研 層移除平自104以及還有另-座為過卿:、座為阻障 著Γί座::平台的每一座。連接研磨;磨= 平台103、阻障層移除平台104及過研磨 ln9 7照&财式,既然已使用具有油研磨平纟的研磨單元 ^02 ’即可同_磨複數個晶圓。因此,相較於使用具有單一研磨 平σ的研磨單元,產量可以增加。 接下來將解釋絲此實關之製造半導難置的方法。圖3 為顯示在此實施例中製造半導體裝置之方法的流程圖。赞迕半導 體裝置之方法包括:金屬膜形成步驟(步驟Sl〇)、起始研磨<步驟(步 驟S20)及過研磨步驟(步驟S30、S40)。個別步驟操作將於下詳述, 並可參照圖4A至4D之顯示晶圓在這些研磨步驟中之剖面圖。 (Ό步驟S10 :金屬膜形成步驟
製備半導體晶圓,其中孔4升>成於層間絕緣膜3中。金屬膜 2形成於此半導體晶圓表面之上。舉例而言,金屬膜2的形成可 由使用CVD法及濺鍍法。當利用這.種方式形成金屬膜2時,於孔I ⑶/102 中瓜入金屬膜2。另外’晶圓除孔4之外的表面被金屬膜卩所覆蓋。 (2)步驟S20 :起始研磨步驟 首先,上的金屬膜2由研磨單元102進行研磨。 ' 不使用鶴臈移除平台103以研磨辑膜声22。接 下來,使用阻障層移除平台綱^接 在此圓達到此種情形’即表示完成金屬膜2的起始研磨。 在緊接於備測到終點之後,如圖4C所示,可 iii:日;ίΓΐ分表面的情況。在此實施例中所使用的cmp方法 ίϊίΐ 為在外部邊緣研磨速度相對為慢速,容易在 此產生研磨金屬膜2的殘留物。 (3)步驟S30到S40 :過研磨步驟 ° w .汴熠十α i〇b之上進仃。圖5為顯示在第一實施例中右 e·驟(S2Q)及過研磨步驟⑽、⑽) 間 圖示° #進行過研磨之時,研磨首綠高負載 負載研磨;步驟S30)情況下進行。接下來,研磨在都載^ ^H3;!負載)情況下進行。如圖4D所示,藉由在這些步驟(S30、 要 ㈣兒明者’在圖5.中所顯示’起始研磨步驟(s2g)中的研磨 ΐ 研磨步,0)相同。然而,平常負載研磨步驟⑽) 呻促的It況並不需要在相同負載下進行研磨。 9 I357l〇2 另外,此貫鈀例解釋時是使用鎢膜移除 層22及使用阻障層移除平台104以研磨 磨轉膜 嫣膜層22及阻障層21並不-定要在不同曰^之例子。然而, 而言,鎮膜層22可等到其中間部分到—研磨磨。舉例 剩餘的鎮膜層22及阻障層21可由另„ 進仃研磨而 此時,當研磨裝置中數個研磨平台的各口二=。在 同,因而可以增加產量。 名子間a又疋為大約相 當金屬膜2具有膜厚度為4〇〇咖時, 研磨時間如下:起始研磨步驟(在鎢膜移除+ 個步驟的 ㈣時間在2WG秒之間、阻障料磨步口 ^^ =膜 及S40)的時間在10到50秒之間。 ,傯^驟(全部的S3〇 相較於未使用高負載研磨步驟(S30)的 減少誘導時間。所造成原因如下列敘述。 k據此貫施例可 當利用研磨標的物及研磨墊之間 如W法或是類似的方法),研磨^面摩^以進仃(例 度。當金屬膜2及層間絕緣膜3上所二磨部分的溫 層間絕緣膜3會造成藉由摩擦所產生_能^ ::磨之時, 熱傳到金屬膜2而使得溫度很難上升,因不易將 相反地,在此實施例中,在過=導巧^ 因此,勒口晶圓表面的縣,因而增加產丁 =載研磨。 屬膜2的熱能增加而金屬膜2的溫度相:速;=,加到金 少誘導時間並且減少移除金屬膜2 、'同口此,可減 另外,因為誘導時間減少可^ 吉 =成產量增加。 且減少與研漿的接觸時間,因卩f後退及钕蝕的產生。而 且因此達到理想的形狀。 *研磨的表面形狀更加平順並 另外,當過研磨步驟(S3〇、s ⑽,在不同的研磨平台進 的步驟 -平台上進行,在過研磨步咖二她於王獨研磨步驟在同 汁I驟開始時研磨部分溫度容易降低。因 10 得更有效率5。述同負载研磨步驟⑻騎減少誘導時間作用而變 ^ 4frt^3?£S4〇^ 〇, 5 8Ϋ ·〇 負裁H得太高,結果可能勾H大於3. 5 PS1,研磨 秒之間。進行高負载研磨步驟⑽)的較佳時間為介於1至15 輝開始到結束,在粉財縣果’纽過研磨步 上:金她所需的時 ⑽)時,時間為2 ^用阿負載研磨步驟 ^ ps^;- ^ 卜在舟負載研磨舟镄;》亚A ^ 的1選订研磨。另 台的轉速為ΐοΐ ΐ吊負載研磨步驟兩步驟中,在研磨平 /、长日日圓表面上研磨數篁之間的關将夕阁碎 :;L:;:n 磨=定為 磨(3.8 顯示當進行高負載研 :ίί :;ΐ。在另外,在高負載研磨步驟:及下平 === 咖的=下t=台的轉速為1Mrpm及研磨頭的轉速為100 質上丨子1中’當在步驟啟紅後,表面研磨實 啟動之德1間、力為8秒。另—方面’在比較例1中,當在步驟 欠動之後,表面研磨實質上啟動的時間為約12秒。因此,輕相 Ϊ357102 較於比較例1 ’帛一實施例的例子1的誘導時間減少約4秒。 入在此,此實施例為解釋其中鈦/氮化鈦疊層膜及鎢膜被嵌入於 =屬膜中的相關情況(插塞形成)。然而,此實施例並不限於此, 可運,於獨的金屬配線形成步驟_例如銅配線或介層形成。 二3 %當銅配線形成時’配線形成溝渠(计⑶⑻而介層孔形 此的凹部。接著’阻障金屬及銅膜形成為金屬膜。在 、,銅朕及阻障膜亦形成於晶圓表面除凹面的部分。 凹S的阻障膜,可運用此實施例所述之研磨負載 之此可運用於包括銅卿氮化- (第二實施例) 以下將敘述本發明之第二實施例。_ 磨步驟(S30)的操作依第一實施例再^貝^列中|南負載研 (S30)之外轉作與第—實施例相:;^=、略磨步驟 步驟(1〇7货二:在第:實t施例中在起始研磨步驟(S2°)及過研磨 )中,研磨時間與研磨負載之間嶋之圖ί ί 高負载研磨步驟。第-高倉卷廳,負載研磨步驟及第二 載研磨步驟的研磨負載。另外,第$高於第二高負 高於平常負載研磨步驟的研磨負載。1 磨1的研磨負載 ⑽、S40)中,研磨負載逐漸變小。也就疋5兄,在過研磨步驟 有一情況為:能於高負載情况下進行研磨 ^ 膜2的強度而受麻制。舉例而言,磨的^間,係依金屬 介電膜等)進行研磨時,若長時間進“弱之膜(例如低 2 〇 , ’有 抑制金屬膜2的損壞,並於研磨負載高於漸減小’而可 況下持續進行研磨。也就是說,可抑 、細磨步驟的情 少誘導時間。 2之損壞並充分減 1357102 (第三實施例) 〇〇於下敘述第三實施例。此實施例與上述實施例不同在於研磨 單元102内的研磨平台數目。上述實施例中的研磨平台數目為三 座。然而,在此實施例中,數目為兩座。在此實施例中,在單= 研磨平台上移除金屬膜2。在此,省略關於與上述實施例相同的 計及操作之解釋。 立圖8為,不依據此實施例之半導體裝置之製造設備1〇〇的示 思圖。在此貫掩例中,兩座研磨平台被配置於研磨單元1⑽中。 兩座研磨平台為金·移除平台⑽及過研磨平台⑽。鎮卵 22及阻障層21在金屬膜移除平台⑽上進行研磨。已完成在金^ 膜移除平台108上之製程後的基板被移_研磨平台廳,而在立 上進行過研磨步驟,此與上述實施例相似。 /、 圖9A及9B為顯不在第三實施例中,在起始研磨步驟(% 及過研磨步驟⑽、S40)中,研磨時間與研磨負載之間的關係之 圖示。如圖9A所示,過研磨是由第二研磨平台所進行。與上述 施^目似,在過研磨時進行高負載研磨步驟 載 父階段時之圖形,與第—實施例相似。圖9B顯^石汗 磨負載在南負載研磨步驟中逐漸減少的例子,與第 因此,平台的數目並不―以要為三座,*上述=^及 第-貫施例不同。如果過研磨步驟具有高 載研磨步驟,研磨平台的數目可為兩座。及·^負 (第四實施例) 半導施,10為顯示依據此實施例之 ΐΐϋ備⑽除第三實施例之外更包括光製研磨平台 ί ⑽完成過研磨步驟後,在晶圓上進^光研磨。 在此4略與上述實施例相似的設計 仃九衣· 13 1357102
圖11A及11B為顯不在第四實施例中,起 及過研磨步驟⑽、S4G)中,研磨時間與研磨負載間的關^之圖) 式。如圖11A、11B所示,在過研磨步驟中進行高負 圖11A顯示在恆定研磨負載下進行高負載研磨步驟之例子,= -實施例相似。圖11B顯示在在高負载研磨步驟 逐 減少之例子,與第二實施例相似。 篇貞戟、漸 如圖11A、11B所示,在完成過研磨步驟之後,在晶圓上 步進行光製研磨步驟。光製研磨步驟在光製研磨平台1〇9上以 定研磨負載下進行。進行此光㈣磨以移除在完成過研磨後 留微研磨瑕疵。通常,會使用不同於過研磨步驟所用之 行此步驟。 因此,過研磨步驟並不一定需要在最後處理晶圓的研磨平台 上進行。在過研磨步驟之後,不同的步驟例如光製研磨步驟| 以在不同平台上進行。 ’ (第五實施例) 於下敘述第五實施例。在此實施例中,進行高轉速研磨步驟 (S30)而非如同上述第一貫施例之高負載研磨步驟(wo)。在此, 向轉速研磨步驟(S30)中,以高轉速進行研磨。其他設計及操作與 % 第一實施例的設計相似,因此省略與第一實施例相同的詳細解釋 圖12為一圖式’顯示在第五實施例中,在起始研磨步驟(s2〇) 及過研磨步驟(S30、S40)中,研磨時間、研磨負載及轉速之間的 關係。在起始研磨步驟及過研磨步驟中,當旋轉研磨墊所附著的 • 研磨平台之時,推動附著於研磨頭的晶圓抵緊研磨墊以進行研 - 磨。在此實施例中,當進行過研磨時,首先以高轉速(高轉速研磨; 步驟S30)進行研磨。在此之後,於平常轉速(轉速低於S3〇之速 率)(步驟S40)進行研磨。在此時情況下的轉速表示研磨平台的轉 速。在步驟S30、S40的這些製程中,如圖4D所示,除了孔4的 其他部分金屬膜2被移除。因此,於非必要部分升多成的金屬膜2 磨起始研磨步驟⑽)及過研磨步驟⑽、 要與阻障層處研磨的轉速相(^中’_處的研磨轉速並不一定 研磨日度為伽nm時,舉例而言,每一步驟的 的鶴膜::,i=r5==rr所進行的研磨) 除平台上進行的研磨)的卩且,在起始_步驟(在阻障層移 磨巧及⑽全部)的時間^到到5〇秒之間及過研 的研磨UTf〇 轉錄高於平常舰研磨步驟 而i r情況時二=可 驟的之較 ⑽)^==’娜綱磨步驟 與第-實_她,可;^2=擦耻增加減產生。因此, 升高金屬膜2的溫度,曰因此可至以屬膜2±的熱能並且減快速地 的所需時間,結果使得產量增加^誘料間及減少移除金屬膜2 減少與研制後退及侵蝕的產生。而且, 且可以得到理想的形^。使传研磨後的表面形狀更加平順並 (S10、S2卜⑽' S4Q)及在過研磨步驟之前的步驟 磨心的·度在過研磨步驟開始時容易下降。因此,誘導時間= 咸同上述的高轉速研磨步驟(s3G)變得更有效率。 步驟(s3〇)祐古絲:/匕實施例解釋關於第-實施例中的高負載研磨 二=研磨步驟⑽)取代_。然而,可以進行 取代第二到第四實施例中的高負載所磨 ^分為兩階段施例中所述,高轉速研磨梦鱗可 驟可運用於研磨平台數目為兩座之時。此外’如第 四貫她例所述,可在過研磨後加人域研磨步驟。 (第六實施例) 磨步ίϊ ί六實施,。第—到第五實施例為解釋關於在過研 刖,進行咼負載研磨步驟及高轉速研磨步驟的情 #«研:在此實施例中’在高負載、高轉速情況下進行高 巧”,。其他設計及_與上述實關她 實施例相同的詳細解釋。 $合/、工k 麼牛在第六實施例中,在起始研雜驟⑽)及過研 4〇)中,研磨時間、研磨負載及轉速間的關係之圖 ΐ截 例中’當進行過研磨之時,魏在高負载、高轉速(高 負載及问轉速研磨;步驟S30)情況下進行研磨。接下 負^'平常轉速情況下(平常負载及平常轉速研磨 ==喊況下的轉速表示研磨平台的轉心 Sj的绝二衣裎中,如所示圖4D,除了孔4其他部分的金 被移除。因此,於非必要部分形成的金屬臈2被移除。 、 如在此實施例中所述’在過研磨開始之時,藉由灰 座m的情況下進行研磨可能增加施加於概f ' 衫麵。因此,相似於第一實施例’可3 熱能而相對快速地升高金層膜2的溫度。ϋ此,可減少導^ 及減少移除金屬膜2所需時間。結果造成產量增加。 寸曰1 在此時’因為設定高負載及高轉速,施加於晶圓表面摩擦力 16 1357102 所造成的熱能可協同增加’因此可在研磨時升高溫度。 附帶說明者,此實施例解釋關於以高負載速研 (S30)取代第-及第五實施例中高負載研磨步驟及高轉速研磨步 驟的情況。然而,可進行咼負載及高轉速研磨步驟(S3〇)取代第二 至第四實施例中高負載研磨步驟(S30)。 一 依據本發明提供一種可在過研磨時減少誘導時間的半導體妒 置製造方法及製造設備。 且、
很顯然本發明並不限於上述實施例,而可以在不悖離本發明 的範園及精神下做修飾及改變。 X
【圖式簡單說明】 圖1A為顯示研磨前之一晶圓的剖面圖; 圖1B為顯示研磨後之同一晶圓的剖面圖; 圖2為顱示依據第一實施例之半導體裝置製造設備的示意 圖; 圖3為顯示第一實施例的半導體裝置製造方法的流程圖; 圖4A至4D為顯示第一貫施例的研磨製程中之晶圓的剖面圖; 圖5為顯示在第一實施例之研磨步驟中,研磨時間與研磨負 载的關係之圖式; 圖6為顯示第一實施例的一例與比較例的實驗結果之圖式; 圖7為顯示在第二實施例研磨步驟中,研磨時間與研磨負載 的關係之圖式; 圖8為顯示依據第三實施例之半導體裝置之製造設備之示意 圖; 圖9A及9B為顯示在第三實施例研磨步驟中,研磨時間與研 磨負載的關係之圖式; 圖10為顯示依據第四實施例之半導體裝置之製造設備之示 意圖; 圖11A及11B為顯示在第四實施例研磨步驟中,研磨時間與 1357102 研磨負載的關係之圖式; 圖12為顯示在第五實施例研磨步驟中,研磨時間、研磨負載 及轉速的關係之圖式;及 圖13為顯示在第六實施例研磨步驟中,研磨時間、研磨負載 及轉速的關係之圖式。 【主要元件符號說明】
1基板 2金屬膜 3層間絕緣膜 4孔 21阻障層 22鎢膜層 100半導體裝置製造設備 101控制器 102研磨單元 103鎢膜移除平台 104阻障層移除平台 105研磨標的物 106過研磨平台 108金屬膜移除平台 109光製研磨平台 S10 :金屬膜形成步驟 S20 :初始研磨步驟 S30 :高負載研磨步驟 S40 :平常負載研磨步驟 18
Claims (1)
1357102 1畔㈣日修正本 十、申請專利範圍: __ 1. 一種半導體裝置的製造方法,包括: (a)取得一研磨標的物之表面,其中霖出— 100年9月9曰修正替換頁 96132698(無劃線) 膜 及 絕緣膜及一金屬 ⑹研磨具有該露出之絕緣膜及該露出 其中該步驟(b)包括: 至屬膜的表面, (bl)在高摩擦力之情況下研磨該表面及 (b2)於該步驟(bl)之後,在低於該高摩擦力 情況下研磨該表面 之平常摩擦力之 (b3)旋轉附著有一研磨塾之一研磨△ 抵緊於該研磨墊以研磨該表面, D 動该研磨標的物 其中該步驟(M)包括: (bl2)在該研磨平台以高轉速研磨表面, 其中該步驟(b2)包括: 常轉細㈣,細㈣《峨高轉速之平 專利細第1項之半導體裝置的製造方法,其中該步驟 (bll)於高負載情況之下,研磨表面 其中該步驟(b2)包括: 下研在雜雜11)之後,在低_高貞載之平常負載情況 包tf:專纖圍第1項之半導體裝置的紐方法,其中該步驟 (1)在形成於該研磨標的物之上的—絕緣膜之中形成凹部; 形成一金屬臈使得該金屬膜覆蓋該凹部及該絕緣膜;以 及 19 100年9月9曰修正替換頁 96132698(無劃線)、 (a3)研磨&金屬膜以至少露出部分絕緣膜 4·如申請專利範圍第1項 r(a)所在的研磨二二=之= 5. 如申請專利範圍第1項之 膜包括: 绔體裝置的製造方法,其中該金屬 包含氮化鈦層之一阻障層;及 形成於該阻障層上之一鶴膜層。 6. 如申請專利範圍第5項之半導體 制 層為包括氮化鈦及鈦之—疊層。_的病方法,其中該阻障 其中該步驟 ^^#糊細第5項之半導體裝置㈣造方法, (a4)移除該鎢膜層;及 (a5)移除該阻障層; 之-ί磨中該步驟⑽的—研磨平台係不同於進行該步驟⑽ 8. 如申請專利範圍第i項之半導體裝置的製造方法,其中該 膜包括一銅膜。 9. 如申請專利範圍第8項之半導體裝置的製造方法,其中該金屬 膜更包括.包含组及氣化纽之一疊層膜。 、, 10·如申請專利範圍第2項之半導體裝置的製造方法,其中該 (bll)包括: 20 /102 ,、 100年9月9曰修正替換頁 96132698(無劃線)、 • (bill)於第一·高負載情況下研磨該表面;及 (bl 12)於該步驟(bin)之後,在低於該第一高負載及高於該 肀常負載之第二高負載情況下,研磨該表面。 如申請專利範圍第1項之半導體裝置的製造方法,其中該步驟 (bl2)包括: (M21)以第一高轉速研磨表面;及 (M22)在該步驟(bi21)之後,以低於該第一高轉速及高於該 十书轉速之第二高轉速研磨表面。 # $如申請專利範圍第!至U項中任一項之半導體裝置的製造方 凌’更包括: (c)在該步驟(b)之後,改變研漿並進行光製研磨以光製該表 申請專利·第1項之半導體裝置的製造方法,其中該研磨 竭物為在—半導體晶圓上形成之-膜。 (tt申請專利範圍第1項之半導體裝置的製造方法,其中該步驟 方法^CMP(ChemiCal MeChaniCal P〇lishing,化學機械研磨) 15· —種半導體裝置之製造設備, 一研磨單元 包括 及 控制态,用以控制該研磨單元之操作; 其中該研磨單元包括: j始研磨平台’用以研磨_研磨標的物;及 磨桿的研磨平台’用㈣於使賊触研磨平台研磨過之該研 培加的物進一步施以研磨; 1 21 1357102 100年9月9日修正替換頁 Cp /' . ^ I /々厂 ^ ^ J7T> i f- pp 金二標的物’以露出該研磨標的物上之—絕緣膜及一 當該研妙IL1於—早期隨之該研磨標的物上之縣力,係較 七^磨π的物姻該過研磨平台加以研磨時_餘階段之摩擦 該㈣雖繼研縣议猶, 力更高 早期11控制該研磨單元之操作使得該過研磨平台在該 磨“階Ϊ之ίΐυ研磨標的物·該過研磨平台加以研 =之半_置之製造設備,其中該控 =標的物利用該過研磨平台加以研磨時的剩餘階段之 ί單如元申利翻第15項之半導體裝置之製造設備,其中該研 -錄研磨平台’用於光製研磨,以對於利用該 研磨過之該研磨標的物施以光製。 咐厘十 18·。。如申請專利範圍第15項之半導體裝置之製造設備, =福-CMP(Chemical Mechamcal P〇llshlng,化學機械研磨) $如申請專利範圍第15至18項中任—項之半導體 備,其中該起始研磨平台包括: 衣^ 一鎢膜移除平台,用以移除包括於該金屬膜中之—鎢膜;及 一阻障層移除平台’用以移除包括於該金屬膜中之一阻障層。 十一、圖式: 22
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