TWI307932B - Substrate processing apparatus - Google Patents

Description

1307932 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係，有關於被處理基板上供給被處理液，以進 行特定的處理之基板處理技術，特別是有關將基板以水平 流動方式一邊於水平方向搬送一邊進行液體處理之基板處 理裝置。 • 【先前技術】 最近，於LCD (液晶顯示器）製造的阻材塗佈顯像處 理系統，作爲可以有利地對應LCD用基板（例如玻璃基 板）的大型化的顯像方式，在把轉子鋪設於水平方向的搬 送路徑上，進行一邊搬送基板一邊於搬送中顯像、清洗、 乾燥等的一連串的顯像處理工程，所謂的水平流動方式是 爲普及。這樣的水平流動方式，係與使基板進行迴轉運動 之旋轉方式相比之下，有著大型基板的處理較爲簡單、減 ^ 少發生霧化的發生乃至於對基板進行再附著等的優點。 採用水平流動方式之以往的顯像處理裝置，係爲了提 高顯像液的個別回收率，例如在專利文獻1中所揭示般地 ，關於平流得搬送路徑，於顯像液供給部的下流側，設置 有將基板傾斜在搬送方向之基板傾斜機構，以顯像液供給 部於水平的基板上盛上顯像液並保持水平流動地、將基板 搬送到搬送路徑的下游側，於特定時間後在搬送路徑上的 特定位置，基板傾斜機構將基板向前或是向後傾斜，使得 基板上的顯像液因重力而掉落，將落下的顯像液用顯像液 -5- (2) 1307932 回收用盤皿承接收集起來。接著，基板傾斜機構，是將利 用上述般的傾斜姿勢所進行的除液，於一定時間內結束並 將基板回復到水平姿勢，接著基板用以水平流動送往下游 側的清洗部，在此清洗噴嘴藉由在水平姿勢的基板上噴上 清洗液，進行在基板上從顯像液至清洗液的置換（顯像停 • 止）。在該清洗部，從基板掉落的液體承接收集到清洗液 — 回收用盤皿。接著，於清洗處理完畢的基板以水平流動於 • 下游側的乾燥部的方式通過的期間，透過空氣刀（air knife )在與搬送方向相逆向的方向上使高壓的氣體流觸碰 於水平姿勢的基板上並進行除液，使基板表面乾燥。 . [專利文獻1 ]日本特開2 0 0 3 - 7 5 8 2號公報 【發明內容】 〔發明欲解決之課題〕 但是’關於上述之以往的顯像處理裝置，使盛著顯像 • 液的基板停止在搬送路徑上並從水平狀態姿勢變換到傾斜 • 狀態’以傾斜姿勢進行除液後再回復到水平姿勢，再進行 水平的搬送這樣的機構以及一連串的動作，有著所謂的其 結構繁雜且沒有效率的一面。更進一步，從開始顯像液的 除液 '一直到在下游側的清洗部的液體置換、亦即開始顯 像停止用的清洗處理爲止的時間耽誤是很長的緣故，於實 行清洗處理前，從基板的前端側，使被處理面乾掉產生斑 的污點這樣的顯像處理品質低下，也令人遺憾。 又’也針對顯像時間’是難以保證基板上的內面均一 -6 - (3) 1307932 性。亦即’將盛著顯像液的基板在停止位置從水平姿勢姿 勢變換到傾斜姿勢之際，在基板的各部的運動速度 '連動 範圍（特別是高度位置）等各爲相異之故，在與顯像液供 給時相同的時間差之下，進行各部的除液是不可能的；其 結果’從顯像液的供給至顯像停止的時間、簡言之顯像時 間’在基板的各部（特別是基板前端部與後端部之間）造 1 成了雜點這樣的問題。 • 本發明係，其目的爲有鑑於上述以往技術的問題點， 提供有在水平流動之搬送線上’分別回收供給到被處理基 板的第1處理液，且置換成第2處理液的動作能夠比較有 效率平順地進行之基板處理裝置。 本發明之其他目的，係提供有在水平流動之搬送線上 ’把供給到被處理基板的第1處理液，經過特定的處理時 間後予以分別回收，且置換成第2處理液的動作能夠比較 有效率內面均一地進行之基板處理裝置。

本發明之其他目的，係提供有在平流的搬送線上，一 邊搬送被處理基板一邊在基板上依序施以一連串的處理之 際，同時實現了各處理間的連續性乃至於流通量的提升與 相互干涉的防止之基板處理裝置。 〔課題欲解決之課題〕 爲了達成上述目的，本發明之基板處理裝置，係具備 有：水平流動之搬送線，將爲了把被處理基板使被處理面 朝上、以朝上仰的姿勢來搬送之搬送體，鋪設於水平之特 1307932

定的搬送方向，包含了 ：於前述搬送方向具有實質的水平 搬送路徑之第1搬送區間、具有於前述第1搬送區間持續 上升傾斜的搬送路徑之第2搬送區間、具有於前述第2搬 送區間持續下降傾斜的搬送路徑之第3搬送區間、以及具 有於前述第3搬送區間連續實質的水平搬送路徑之第4搬 送區間；和在前述搬送線上爲了搬送前述基板以驅動前述 搬送體之搬送驅動部；和在前述第1或第2搬送區間內供 給第1處理液於前述基板上之第1處理液供給部；和在前 述第3搬送區間內供給第2處理液於前述基板上之第2處 理液供給部。 關於上述之裝置構成，於第2及第3搬送區間之中， 形成***比第1及第4搬送區間還高的***部。於基板上 進到該***部的上升傾斜路徑（第2搬送區間）之際，基 板上的第1處理液利用重力移動到下方、亦即後方，並從 基板後端流落下來。此時’在基板上，從基板的前端側朝 向到後端側，並以與搬送速度大約相等的移動速度來進行 第1處理液的除液。如此，乘越過***部的上升傾斜路徑 (第2搬送區間）之基板，以第1處理液於該上面殘留有 非常薄的液膜之狀態下，進入到下降傾斜路徑（第3搬送 區間）。在此，針對下降到該下降傾斜路徑之基板，利用 第2處理液供給部供給第2處理液，薄薄殘留在基板上的 各部之第1處理液受到重力與第1處理液的流動之壓力， 流下到前方並從基板前端清除出去。如此，在基板上，從 基板的前端側朝向到後端側，並以與搬送速度大約相等的 -8 - (5) 1307932 移動速度，把第1處理液置換成第2處理液。 由適合本發明之其中一樣態，於搬送方向’第2搬送 區間設定成比基板的尺寸還短的長度，更適當的話’把合 計第2搬送區間與第3搬送區間之區間設定成比基板的尺 寸還短的長度。在該場合，基板係，透過該可撓性，於基 '板全長的一部份，形成仿效***部之突條的基板***部， 且以相等於搬送速度的速度，將基板***部，從基板的前 φ 端至後端、於與搬送方向相反方向，一邊相對的移動一邊 通過搬送線的***部（第2及第3搬送區間）。 本發明之水平流動之搬送線係，較佳的是在各搬送區 間的境界地點，進行曲折成大角度的前進路徑變更，在該 附近描繪出適度的曲率半徑以進行前進路徑變更；又*** 部的頂點形成平的構成，亦即於第2搬送區間的終端部與 第3搬送區間的始端部之間，也可以形成實質的水平的搬 送路徑。

又’本發明之較佳的其中一樣態，設有在前述第2搬 送區間內’從搬送線上、離開到上方的基板的部位，抑制 在特定的高度位置之基板抑制部。該基板抑制部係較佳爲 ’具有抵接於基板的左右兩線部之一對可迴轉之滾輪。於 基板上進到第2搬送區間的上升傾斜路徑之際，基板的後 端部也從搬送線的搬送路徑離開到上方，一邊受到來自基 板抑制部的高度限制、一邊可以維持後傾姿勢至頂上附近 之故’可以從頭到尾都很妥當地進行基板上的除液直到最 後（基板後端）。 -9 - (6) 1307932 又，做爲較佳之其中一樣態，於比第1處理液供給部 還要下游側的第2搬送區間內的特定位置上’設有噴出除 液用氣體第1空氣刀（air nkife)。於基板上進到第2搬 送區間內的上升傾斜路徑之際，以將來自第1空氣刀的氣 體流碰到基板上的方式，可以促進或是援助基板上的第1 '處理液的除液。 1 又，於比第1處理液供給部還要下游側的第1或第2 φ 搬送區間內的特定位置上，設有爲了觸發從基板的後端讓 第1處理液流落之除液觸發部亦是較佳的。做爲適合的其 中一樣態，該除液觸發部，是以於搬送路徑上、配置做爲 搬送體之外徑爲一定的圓柱狀或圓桶狀的轉子，來加以構 成。或者是，做爲另一個適合的樣態，除液觸發部，把氣 體流碰觸於基板的後端部、於從上方與搬送方向相逆的方 向上之氣體噴嘴，來加以構成。 由本發明之適合的其中一樣態，第1處理液供給部， ® 具有在第1搬送區間內的特定位置上，向著基板吐出第1 處理液之處理液供給噴嘴；搬送驅動部，在第1及第2搬 送區間裏，將基板以一定的速度搬送。在該場合，在下游 側的第2及第3搬送區間，以與在第1搬送區間於基板上 供給第1處理液時大約相同的掃瞄速度，進行從基板的前 端向著第1處理液的除液乃至到第2處理液的置換。 由適合的其中一樣態，在第1及第2搬送區間，設有 :爲了承接收集落於搬送路徑之下的液體之第1集液部； 和’在第3及第4搬送區間，爲了承接收集落於搬送路徑 -10- (7) 1307932 之下的液體之第2集液部。於相關之構成，可以將來自第 1處理液供給部並供給於基板上的第1處理液的大部分， 分別回收於第〗集液部。於第2集液部，主要作爲回收第 2處理液。 由適合的其中一樣態，設有：於第2搬送區間與第3 搬送區間內的境界附近，爲了把沿著搬送線周圍的空間， '間隔成上游側與下游側之第1隔壁。於該第1隔壁，形成 Φ 爲了通過搬送線之開口。 又，由適合的其中一樣態，搬送線包含有：於第4搬 送區間、具有持續上升傾斜的搬送路徑之第5搬送區間， 和於第5搬送區間、具有連續實質的水平搬送路徑之第6 搬送區間。於相關之構成，從第4搬送區間到第6搬送區 間，形成上升段差部。該上升段差部或是第5搬送區間， 設定成比基板的尺寸還要短的長度是爲較佳。由此，基板 係，利用該可撓性，於基板全長的一部份，形成仿效該段 ® 差部之線狀的基板段差部，且以相等於搬送速度的速度， 將基板段差部，從基板的前端至後端、於與搬送方向相反 方向，一邊相對的移動一邊通過搬送線的上升段差部（第 5搬送區間）。在該上升段差部（第5搬送區間），殘留 在基板上的第2處理液，從基板前端側往後方利用重力移 動，並從基板後端流落下來。 由適合的其中一樣態，在第5或第6搬送區間內、爲 了援助從基板上的液體（第2處理液）的除液’設有於與 搬送方向相逆的方向上噴出氣體於基板上之第2空氣刀。 -11 - (8) 1307932 由適合的其中一樣態，設有：於第5搬送區間與第6 搬送區間內的境界附近，爲了把沿著搬送線周圍的空間， 間隔成上游側與下游側之第2隔壁。也於該第2隔壁’形 成爲了通過搬送線之開口。 由適合的其中一樣態，搬送線，包含有··在比第1搬 送區間還要上游側、在比第1搬送區間還要高的位置、具 有實質的水平搬送路徑之第7搬送區間，和在第7搬送區 鲁 間與第1搬送區間之間、具有往下降傾斜的搬送路徑之第 8搬送區間。於相關之構成，從第7搬送區間到第1搬送 區間，形成下降段差部。該下降段差部係可以發揮有，供 給於基板上的第1處理液沿著基板上，並防止及於上游側 附近之其他的單元或處理部之功能。該上升段差部、亦即 第8搬送區間，設定成比基板的尺寸還要短的長度。又， 設有：於第8搬送區間與第1搬送區間內的境界附近，爲 了把沿著搬送線周圍的空間，間隔成上游側與下游側之第 • 3隔壁。 而且’關於本發明在搬送線上擺放基板朝上仰的姿勢 係，不僅僅是水平姿勢或於搬送方向的傾斜姿勢，是包含 了以任意的方向（例如左右的橫方向）傾斜的姿勢。 〔發明的效果〕 由本發明的基板處理裝置，利用上述如此之構成及作 用’可以在水平流動之搬送線上，分別回收供給到被處理 基板的第1處理液’且置換成第2處理液的動作比較有效 -12- (9) 1307932 率平順地進行。又，可以分別回收經過特定的處理時間之 第1處理液’且置換成第2處理液的動作比較有效率且內 面均一地進行。更進一步，可以同時實現在平流的搬送線 上’一邊搬送被處理基板一邊在基板上依序施以一連串的 處理之際，同時實現了各處理間的連續性乃至於流通量的 提升與相互干涉的防止。

【實施方式】 於圖1，係顯示可以作爲適用本發明之基板處理裝置 的一個構成例子之塗佈顯像處理系統。於該塗佈顯像處理 系統1 〇係，設置於無塵室內，例如將LCD用的玻璃基板 作爲被處理基板，於 LCD製造過程進行光刻（ photolithography)工程中的洗淨、阻材塗佈、預焙、顯像 、以及後焙等之各種處理。曝光處理係，以設置鄰接於該 系統外部的曝光裝置12來進行。 該塗佈顯像處理系統1〇係，配置橫跨於中心部的製 程工作站（P/S ) 16，於該較長方向（X方向）的兩端部 配置卡匣工作站（C/S) 14與介面工作站（I/F) 18。 卡匣工作站（C/S ) 1 4，係爲系統1 〇的卡匣搬出入埠 :具備有：將把基板G多段地累積起來之可以收容複數沒 的卡匣C，於水平的一個方向（Y方向）並列到4個之卡 匣臺20，以及對該臺20上的卡匣C進行基板G的出入之 搬送機構22。搬送機構22係’具有可以保持基板G的手 段之例如搬送臂2 2 a，可以以X、Y、Z、4軸來動作， -13- (10) 1307932 進行與鄰接的製程工作站（P/S ) 1 6側之基板G的交接。 製程工作站（P / S ) 1 6係，於延展在水平的系統的較 長方向（X方向）之一對平行且逆向的一對線路A、B， 依照處理流程或是工程的順序來配置各處理部。更詳細地 說，於從卡匣工作站（C/S ) 14側向著介面工作站（I/F )

1 8的上游部的處理線A，將洗淨處理部24、第1熱處理 .部2 6、塗佈處理部2 8、以及第2熱處理部3 0，配置爲橫 ^ 成一列。在此，洗淨處理部24係具備有，共有1個水平 流動搬送線之水平流動方式的準分子UV照射單元（e-UV )41、以及洗滌洗淨單元（SCR) 42。又，塗佈處理部28 係具備有，阻材塗佈單元（CT ) 82、減壓乾燥單元（VD

一方面，於從介面工作站（I/F ) 1 8側向著卡匣工作 站（C/S ) 14的下游部的處理線B，將第2熱處理部30、 顯像處理部32、脫色處理部34、以及第3熱處理部36， 配置爲橫成一列。在此，顯像處理部32與脫色處理部34 係爲水平流動型式，接續在共通的水平流動搬送線。 於兩處理線A、B之間，設有輔助搬送空間3 8，是可 以將基板G以1片爲單位載置成水平的搬運梭40，利用 未圖示之驅動機構，可以在線路方向（X方向）上進行雙 方向移動。 鄰接於洗淨處理部24的下游側之第1熱處理部26係 ，沿著處理線A，於中心部設有縱型的搬送機構4 6，於該 前後兩側多段地層積配置複數個單元。例如，如圖2所示 -14 - (11) 1307932

，於上游側的多段單元部（τ B ) 4 4，把基板交接用的通過 單元（PASSL) 50、脫水烘烤用加熱單元（DHP ) 52，54、 以及黏著單元（AD) 56，由下開始依序累積。在此’通 過單元（PASSL) 50係用以，由洗漉洗淨單元（SCR) 42 側將基板<3以水平流動的方式來接收。又，於下游側的多 段單元部（TB ) 48，把基板交接用的通過單元（PASSR) 60、冷卻單元（COL) 62, 64、以及黏著單元（AD) 66， 由下開始依序累積。在此，通過單元（PAS SR) 60係’把 至塗佈處理部2 8側的基板G以水平流動的方式來發送。 如圖2所示，縱型搬送機構46係具有，沿著延展在 垂直方向的導軌68可以升降移動的升降搬送體70、在該 升降搬送體70上於0方向可以迴轉或是迴旋的迴旋搬送 體72、在該迴旋搬送體72上一邊支持基板G —邊可以於 前後方向進退或是伸縮的搬送臂或是鉗74。升降驅動升降 搬送體70之驅動部76，設於垂直導軌68的基端側；迴旋 驅動迴旋搬送體72之驅動部78，安裝於升降搬送體70 ; 進退驅動搬送臂74之的驅動部80，安裝於迴轉搬送體72 。各驅動部76, 7 8，80係，例如以電動馬達等來構成爲佳 。關於構成的搬送機構46係，是可以進出於在高速升降 乃至迴旋運動之兩相鄰的多段單元部（TB) 44，48之中的 任意之單元，也可以與與輔助搬送空間38側的搬運梭40 交接基板G。 鄰接於塗佈處理部2 8的下游側之第2熱處理部3 0係 也，具有與上述第1熱處理部26同樣的構成，於兩處理 -15- (12) 1307932 線A，B之間設有縱型的搬送機構9 0，於處理線a側（最 後尾段）設有其中一方的多段單元部（TB ) 88，於處理線 B側設有另外一方的多段單元部（T B ) 9 2。又，配置於顯 像處理部3 2的下游側之第3熱處理部3 6係也，具有與上 述第1熱處理部26或第2熱處理部30同樣的構成，沿著 處理線B設有縱型的搬送機構1 00，與於該前後兩側之一 對多段單元部（TB ) 98，102。 介面工作站（I/F) 18係，具有進行鄰接的曝光裝置 12與基板G的交換之搬送裝置104，於該周圍配置有緩衝 臺（BUF) 106、擴充冷卻臺（EXT· COL) 108、以及周 邊裝置110。於緩衝臺（BUF) 106安置有定置型的緩衝匣 (未圖示）。擴充冷卻臺（EXT . COL ) 108係爲，具備 冷卻功能之基板交接用的臺，是使用於與製程工作站（ P / S ) 1 6側交換基板G之際。。周邊裝置1 1 〇係，例如上

下累積標示機（TITLER)與周邊曝光裝置（EE)之是爲 較佳。搬送裝置1 〇 4係’具有可以保持基板G的手段之例 如搬送臂10“ ’進行與鄰接的曝光裝置12或各單元（ BUF ) 106、（EXT· COL ) 108、（TITLER/EE) 110 與基 板G的交接。 於圖3，顯示對於該塗佈顯像處理系統之1片基板的 處理的順序。首先，於卡匣工作站（C/S ) 1 4 ’搬送機構 22從臺20上的特定的卡匣C之中取出基板G，搬入於製 程工作站（P/S )〗6的洗淨處理部24的搬送線（步驟S 1 -16- 1307932 (13) 在洗淨處理部24內的基板G係，在搬送線上 '於處 理線A方向以水平流動的方式來搬送，用以途中的準分子 UV照射單元（e-UV ) 41、以及洗滌洗淨單元（SCR ) 42 來依序施以紫外線洗淨處理、刻繪（scribing )洗淨處理 等（步驟S2, S3)。在洗滌洗淨單元（SCR) 42內完成洗 淨處理的基板G係，搬入到持續承載在該搬送線上第1熱 處理部26的上游側烘烤塔（TB ) 44內的通過單元（ | PASSl) 50。 於第1熱處理部26，基板G係經由縱型搬送機構46 以序列方式回到特定的單元。例如，基板G係，於最初從 通過單元（PASSL) 50移到加熱單元（DHP) 52，54之其 中1個，在此接受脫水處理（步驟S4)。接著，基板G 係，移到冷卻單元（COL ) 62，64之其中1個’在此冷卻 到一定的基板溫度（步驟S4 )。然後，基板G係’移到 黏著單元（AD) 56，66之其中1個，在此接受疏水化處理 > (步驟S6 )。於該疏水化處理結束後，基板G係’以冷 卻單元（COL ) 62，64之其中1個，冷卻到一定的基板溫 度（步驟S 7 )。於最後，基板G係’移到屬於下游側多 段單元部（TB) 48之通過單元（PASSR) 60。 由此，在第1熱處理部26內’基板G係’介著搬送 機構4 6可以任意來去在上游側多段單元部（T B ) 4 4與下 游側多段單元部（T B ) 4 8之間。尙且’也在第2以及第3 熱處理部3 0, 3 6進行同樣的基板搬送動作。 在第1熱處理部26’受到了如上述之一連串的熱或熱 -17- (14) 1307932 系的處理之基板G係，從下游側多段單元部（TB ) 48內 的通過單元（PASSr ) 60移動到下游側相鄰的塗佈處理部 28的阻材塗佈單元（CT) 82。 基板G係，阻材塗佈單元（CT ) 82例如經由狹縫塗 佈（slit coat )法，於基板上面（被處理面）塗佈阻材液 ，馬上接著於以下游側相鄰的減壓乾燥單元（VD ) 84接 受減壓乾燥處理（步驟S8)。

在塗佈處理部2 8，接受如上述之阻材塗佈處理之基板 G係，交接於屬於位置於下游側相鄰之第2熱處理部3 0 的上游側多段單元部（TB) 88之通過單元（PASS)。 在第2熱處理部30內，基板G係經由縱型搬送機構 90以特定的序列方式回到特定的單元。例如，基板G係 ，於最初從該通過單元（PASS )移到加熱單元( PREBAKE)之其中1個’在此接受阻材塗佈後的烘烤（步 驟S9 )。接著，基板G係，移到冷卻單元（COL )之其中 1個’在此冷卻到一定的基板溫度（步驟S10 )。然後， 基板G係經由下游側多段單元部（τ B ) 9 2側的通過單元 (PASS )’或者是不經由就交接到介面工作站（I/F ) 18 側的擴充冷卻臺（EXT · C0L ) 108。 於介面工作站（I / F ) 1 8，基板G係，從擴充冷卻臺 (EXT · COL ) 1〇8搬入到周邊裝置lio的周邊曝光裝置 (E E )，在此接受了將附著於基板G的周邊部的阻材於 顯像時除去之曝光後’送到相鄰的曝光裝置12 (步驟S11 -18- (15) 1307932 在曝光裝置12 ’基板G上的阻材使特定的迴路圖案 曝光。在此，結束圖案曝光的基板G係’從曝光裝置12 回到介面工作站（1 /F ) 1 8後（步驟S 1 1 )’首先搬入到周 邊裝置110的標示機（TITLER)，在此於基板上的特定部 位紀錄特定的資訊（步驟s 1 2 )。然後，基板G係回到擴 充冷卻臺（EXT· COL) 108。於介面工作站（I/F) 18的

基板G的搬送以及與曝光裝置1 2的基板G的交換係’利 用搬送裝置104來進行。 在製程工作站（P/S) 16’於第2熱處理部30’搬送 機構90接受來自擴充冷卻臺（EXT . COL) 108曝光結束 的基板G，介著處理線B側的多段單元部（TB ) 92內的 通過單元（PASS )交接到顯像處理部32。 在顯像處理部32，把從該多段單元部（TB) 92內的 通過單元（PASS)所接受的基板G，以水平流動的方式搬 入到顯像單元（DEV ) 94。於顯像單元（DEV ) 94，基板 G係，於向著處理線B的下游且搬送在水平流動之搬送線 上的期間來施以顯像、清洗、乾燥之一連串的顯像處理（ 步驟S 1 3 )。 在顯像處理部3 2接受顯像處理的基板G係，持續承 載於水平流動之搬送線並搬入到脫色處理部3 4，在此接受 由i線照射單元（i · U V ) 9 6之脫色處理（步驟S 1 4 )。脫 色處理完畢的基板G係，交接到第3熱處理部3 6的上游 側多段單元部（TB) 98內的通過單元（PASS)。 於第3熱處理部3 6，基板G係，於最初從該通過單 "19- (16) 1307932 元（PASS)移到加熱單元（pobake)之其中1個’在此 接受後焙（步驟s 1 5 )。接著’基板G係’移到下游側多 段單元部（TB) 102內的通過冷卻單元（PASS· COL) ’ 在此冷卻到一定的基板溫度（步驟s 1 6 ) °第3熱處理部 36之基板G的搬送係，利用搬送機構1〇〇來進行。 在卡匣工作站（C/S) 14側’搬送機構22爲’接收了 結束在從第3熱處理部36的通過冷卻單元（PASS· COL )的塗佈顯像處理的全部工程之基板G ’將接受後的基板 G收容到任意一個（通常爲元）的卡匣C (步驟S1)。 於該塗佈顯像處理系統1 〇，於具有水平流動之搬送線 之顯像處理部32以及洗淨處理部24，是可以適用本發明 的。 〔實施型態1〕 以下，參閱圖4〜圖13，說明本發明適用於顯像處理 部3 2的顯像單元（D EV ) 9 4之一實施型態。 於圖4，有模式地顯示於該實施型態之顯像單元（ DEV ) 94內的全體構成。該顯像單元（DEV ) 94係，如圖 示般地’設置沿著處理線B延展於水平方向（X方向）之 水平流動之搬送線1 2 0，沿著該搬送線1 2 0從上游側依序 設有顯像部1 22、清洗部1 24、以及乾燥部1 26。 搬送線1 2 0係，將基板G以被處理面向上朝上仰的姿 勢來搬送的轉子128，於搬送方向（X方向）以一定間隔 來鋪設’把第2熱處理部30(圖1)之多段單元部（TB) -20- (17) 1307932 92內的通過單元（PASS )做爲始點，穿過顯像單元（ DEV) 94以及脫色處理部34，以第3熱處理部36 (圖1 )之多段單元部（TB ) 98內的通過單元（PASS )作爲終 端。搬送線1 2 0之各個轉子1 2 8係，例如於具有電動馬達 之搬送驅動部（未圖示），介著齒輪機構或是皮帶機構等 的傳動機構來連接。 該搬送線120係，於搬送方向（X方向）並不是從始 Φ 點到終點是持續以相同的高度位置，在途中特定的地方有 ***部120a，120b ’以及段差部120c，如圖4所示，對應 從搬送方向（X方向）之其中一側所看到的搬送路徑的形 狀可以區分成搬送區間M!，M2，M3, M4, M5, M6，M7, M8, M 9。 第1搬送區間Mi係，是爲從多段單元部（TB) 92的 通過單元（PASS )內的始點到設定於比顯像部122內 的出口還要少許的面前（上游側）的位置之第1區間變更 ® 點P 1 ’具有延伸於持續保持在始點P 〇的高度位置之水平 一直線之水平搬送路徑。第2搬送區間μ 2係，是爲從上 述第1區間變更點Ρ 1到設定於顯像部1 2 2與清洗部1 2 4 的境界附近的位置之第2區間變更點ρ2的區間，具有到 比始點Ρ0的商度位置還要尚於特定量（例如〜25mm) 之第1***部1 20a的頂上、以特定的傾斜角度（例如2〜 5 0 )上升之上升傾斜的搬送路徑。 第3搬送區間M3係’是爲從上述第2區間變更點p2 到設定於清洗部1 24的入口附近之第3區間變更點p3的 -21 - (18) 1307932 區間，具有從第1***部I 2 0 a的頂上、到比該位 低於特定量（例如1 0〜2 5mm )的底部位置，以特 斜角度（例如2〜5 〇 )下降之下降傾斜的搬送路徑 搬送區間M4係’爲從在清洗部1 24內的入口附近 第3區間變更點P3到設定於裡面深處的特定位置 區間變更點P 4之區間，具有以與上述第1底部位 高度延展成大約水平一直線之水平搬送路徑。 # 第5搬送區間M5係，是爲從在清洗部124內 區間變更點P4到設定於僅比這個位置還要下游側 之第5區間變更點P5的區間，具有一直到比第1 置還要高於特定量（例如10〜25mm)之第2***i 的頂上、以特定的傾斜角度（例如5〜5 0 )上升之 斜的搬送路徑。第6搬送區間M6係，是爲從在 1 24內的第5區間變更點P5到設定於僅比這個位置 游側的位置之第6區間變更點P6的區間，具有從上 ® ***部120b的頂上、一直到比該位置還要低於特 例如10〜25mm )之第2底部位置、以特定的傾斜 例如2〜50 )下降之下降傾斜的搬送路徑。 第7搬送區間Μ 7係，爲從在清洗部1 2 4內從 6區間變更點Ρ 6、到設定於僅比特定的距離還要下 位置即比出口還要少許前面（上游側）的位置之第 變更點Ρ7之區間，具有以與上述第2底部位置同 延展成大約水平一直線之水平搬送路徑。第8搬 Μ 8係，是爲從上述第7區間變更點Ρ 7、到設定於 置還要 定的傾 。第4 之上述 之第4 置同樣 的第4 的位置 底部位 ^ 12 0b 上升傾 清洗部 還要下 .述第2 定量（ 角度（ 上述第 游側的 7區間 樣高度 送區間 清洗部 -22- (19) 1307932 1 24與乾燥部1 26的境界附·近的位置之第8區間變更 的區間，具有~直到比上述第2底部位置還要高於特 (例如10〜25mm)之段差部120c的上段位置、以特 傾斜角度（例如2〜50 )上升之上升傾斜的搬送路徑， 第9搬送區間M9係，是爲從上述第8區間變更丨 、一直到通過乾燥部126以及脫色處理部34 (圖1 ) 段單元部（TB) 98(圖1)的通過單元（PASS)內的 # 之區間’具有將上述段差部1 20c的上段位置的高度 保持爲一定並延展成水平一直線之水平搬送路徑。 尙且，搬送線1 20係，在各區間變更點p進行折 大角度之前進路徑變更的話，在該拊近描繪出適度的 半徑來進行前進路徑變更是爲較佳，又***部12〇a, 爲形成具有平的（水平）頂上之臺形的形狀亦是較佳 於顯像部1 22 ’於第1搬送區間Μ,內的特定位 向著把搬送線120上以轉子搬送移動之水平姿勢的基 ® ’從上方吐出基準濃度的顯像液之顯像液供給噴嘴（ ’簡稱爲顯像噴嘴）130爲沿著搬送方向配置1個或 數個。各顯像噴嘴130係，例如是由狹縫狀的吐出口 配置成一列之多數個細微口徑吐出口之長尺型的噴嘴 成’介著未圖示之顯像液供給源來供給顯像液。 於顯像部1 2 2內’也設有承接收集落下到搬送線 下方的顯像液之盤皿132。該盤皿132的排液□係介 液管1 3 4通到顯像液再利用機構1 3 6。顯像液再利用 1 3 6係，由顯像液噴嘴1 3 0於基板G上盛著顯像液之 點P 8 疋里 定的 沾P8 並多 終點 持續 ’曲成 曲率 120b 〇 置， 板G 以下 是複 或是 所形 120 著排 機構 際， -23- (20) 1307932 將零星落下的顯像液介著盤皿1 3 2以及排液管1 3 4來加以 回收，於回收後的顯像液加入原液或溶媒，將調整到基準 濃度後的回收顯像液送到上述顯像液供給源。

於清洗部1 24，於入口附近的第3搬送區間M3內的 特定位置，向著通過搬送線120的上述第1***部120a 的下降斜面之基板G，從上方吐出液置換（顯像停止）用 的清洗液之第1清洗液供給噴嘴（以下，簡稱爲清洗噴嘴 。）138爲沿著搬送方向配置1個或是複數個。又，於中 心部的第5搬送區間Μ 5內的特定位置，向著通過搬送線 120的上述第2***部120b的上升斜面之基板G，從上方 吐出洗淨用的清洗液之第2清洗噴嘴140爲沿著搬送方向 配置1個或是複數個。又，於該下游側相鄰的第6搬送區 間Me內的特定位置，向著通過搬送線！ 20的上述第2隆 起部1 2 0 b的下降斜面之基板G，從上方吐出洗淨用的清 洗液之第3清洗噴嘴142爲沿著搬送方向配置1個或是複 數個。而且’於清洗部124的出口附近之第8搬送區間 Μ8內的特定位置’向著上升到搬送線】2 〇的上升段差部 120 c之基板G，從上方吐出最後洗淨用的清洗液之第4清 洗噴嘴145爲沿著搬送方向配置〗個或是複數個。各清洗 噴嘴13 8，M〇，ίο, MS係’例如是由具有與上述顯像液 噴嘴130同樣的構成之長尺型噴嘴所構成，從未圖示的清 洗液供給源介著配管來供給清洗液。 於清洗部124內，設有承接收集落下到搬送線12〇下 方的清洗液之盤皿1 44。該盤皿1 44的排液口係介著排液 -24- (21) (21)

1307932 管146通到清洗液回收部136。省 120的下方，可以對基板G的下面 液之下部清洗噴嘴。 於乾燥部126，於第9搬送區 定位置，向著上升到搬送線1 20的 的基板G，並接觸到從上方與搬送 乾燥用的高壓氣體流（通常爲氣體 • 嘴或是空氣刀1 48爲沿著搬送方向配 。也可以設置從搬送線1 20的下方， 抵接著除液甚至是乾燥用的高壓氣I 圖示）。又，在乾燥部126內，設3 線1 2 0下方的液體之盤皿（未圖示） 於下游側相鄰的脫色處理部3 4， 以轉子搬送移動之基板G，並從上2 線（波長3 65nm )之i線照射單元（ 顯像單元（DEV ) 94係，於一整 有顯像部1 22、清洗部1 24、以及乾| 理部間的境界處，設有把沿著搬送線 隔成上游側與下游側之延展在垂直方 更詳細的是，於顯像部122與清洗窗 搬送區間M2與第3搬送區間M3货 152;清洗部124與乾燥部126之境 M8與第9搬送區間的境界附近證 壁1 5 2 , 1 5 4，通過搬送線1 2 0個別形 ，圖示的是，從搬送線 :有噴出洗淨用的清洗 3 M9的始端附近的特 二述段差部120c當頭 '向相逆向除液甚至是 ,)之長尺型的氣體噴 製程1個或是複數個 向著基板G的下面並 丨流之下部空氣刀（未 ί承接收集落下到搬送 亦是較佳。 向著把搬送線1 2 0上 ΐ照射脫色處理用的i i-UV ) 96。 :體的外殼150內收容 桑部126，於相異的處 1 2 0之周圍的空間分 向之隔壁152, 154。 ;124之境界亦即第2 ]境界附近，設有隔壁 界亦即第8搬送區間 έ有隔壁1 5 4。於各隔 成開口 1 5 6，】5 8。 -25- (22) 1307932 於該顯像單元（DEV) 94，各處理部〗22，124，〗26內 的空間係，介著隔壁152，B4的開口 156，158相互地連 通。在顯像部1 22以及乾燥部1 26，利用引入室外的空氣 之風扇160，162’與把由這些風扇160, ι62之空氣流予以 除塵之空氣過濾器1 6夂1 66 ’從天井以下流的方式供給清 靜的空氣到室內。在這之中’從顯像部122的天井所供給 的清靜空氣係’混入了於顯像處理時所發生的顯像液的霧 ’通過上述隔壁1 5 2的開口 1 5 6，流入到清洗部1 2 4的室 內。一方面’從乾燥部126的天井所供給的清靜空氣係， 混入了在乾燥（除液）處理時所發生的清洗液的霧，通過 上述隔壁154的開口 158，流入到清洗部124的室內。於 清洗部1 24的底部’設有通過具有例如排氣泵或是排氣風 扇之排氣機構168之排氣口 170。如上述所述，從顯像部 122流入的霧所混雜的空氣、與從乾燥部126流入的霧所 混雜的空氣係，也將發生在清洗部124內的霧混入，由左 右合流，並從排氣口 1 7 0排出。 在此，說明該顯像單元（DEV) 94之全體的動作。如 上所述，於第2熱處理部30(圖1)，曝光後的基板G係 藉著搬送機構90搬入到多段單元部（TB ) 92的通過單元 (PASS )。如圖4所示，於該通過單元（PASS )內，設 有從搬送機構90 (圖1 )接收基板G之提升銷（lift pin ) 升降機構172。經由該提升銷升降機構172，在搬送線120 上的基板G做水平的移載，利用搬送驅動部的驅動以一定 速度的滾子搬送之基板G係，往相鄰的顯像單元（DEV ) -26- (23) (23)

1307932 94搬送過去。 在顯像單元（DEV ) 94，於最初的顯像部1 22 G於搬送線1 2 0之第1搬送區間μ ,內以水平姿勢 期間，由定置的顯像噴嘴1 3 0供給顯像液，於基板 基板前端朝向基板後端以與搬送速度相等的掃瞄速 著顯像液。從基板G溢出的顯像液承接收集到盤皿 如上述般地盛著顯像液的基板G係，馬上在第 區間Μ2上升在第1***部120a的上升傾斜路徑上 基板G上的顯像液朝向下方亦即後方因重力而移動 板後端流落下去。從流落的顯像液承接收集到盤皿 此時，在基板G上，從基板的前端側朝向到後端側 與搬送速度大約相等的移動速度來進行第1處理液 。如此，乘越第1過***部120a之基板，以於該 留有非常薄的液膜之狀態下，來到清洗部1 24側的 斜路徑（第3搬送區間M3)。 於清洗部1 24，基板G在第3搬送區間M3的 斜路徑下降時，經由上方的清洗噴嘴1 3 8供給清洗 板G上，薄薄殘留在基板G上的各部之顯像液受 與清洗液的流動之壓力，流下到前方並從基板前端 去。流到基板G的前方的顯像液以及清洗液承接收 皿1 44。如此，在基板G上，從基板的前端側朝向 側，並以與搬送速度大約相等的移動速度’把顯像 成清洗液，停止顯像。 如上所述結束顯像處理的基板G係’通過水平 ，基板 移動的 G上從 度來盛 132 ° 2搬送 ，在此 並從基 132 ° ，並以 的除液 上面殘 下降傾 下降傾 液於基 到重力 清除出 集到盤 到後端 液置換 的第4 -27- 1307932 (24) 搬送區間M4，並順著第2***部1 20b的上升傾斜路徑上 升到下一個之第5搬送區間Μ 5。此時’殘留在基板G上 之置換用的清洗液從基板前端側朝向後方利用重力移動並 從基板後端流落下去。更進一步’由上方的清洗噴嘴 供給一次洗淨用的清洗液於基板G上，一邊清除出去舊的 清洗液一邊也把新的清洗液從基板後端流落出去。流到基 板的後方的清洗液承接收集到盤皿1 44。如此’乘越第2 φ 過***部120b的頂點之基板G，以於該上面殘留有薄薄 的一次洗淨用的清洗液之液膜之狀態下，來到第2***部 120b的下降傾斜路徑（第6搬送區間M6 )。 接下來，於基板G順著第2***部120b的下降傾斜 路徑（M6)下降之際，由上方的清洗噴嘴142供給二次洗 淨用之新的清洗液於基板G上，將殘留在基板G上薄薄 的一次洗淨液一邊於前方清除出去一邊也將新的清洗液從 基板前端流落出去。流到基板G的前方的清洗液承接收集 ® 到盤皿1 4 4。 如上所述結束清洗處理的基板G係，通過水平的第7 搬送區間M7，並第8搬送區間M8順著上升段差部120c 的傾斜路徑上升。此時，殘留在基板G上之完工用的清洗 液從基板前端側朝向後方利用重力移動並從基板後端流落 下去。更進一步，由上方的清洗噴嘴145供給最後洗淨用 的清洗液於基板G上，一邊清除出去舊的清洗液一邊也把 新的清洗液從基板後端流落出去。流到基板G的後方的清 洗液承接收集到盤皿1 44。接著，基板G順著段差部1 20c -28 - (25) 1307932 上升’乾燥部1 2 6側亦即第9搬送區間μ 9內的上升搬送 路徑，經由空氣刀〗48對基板G朝著與搬送方向相逆的方 向使高壓氣體流接觸，殘留在基板G上的清洗液靠向基板 後方並從基板後端清除出去（進行除液）。飛出於基板G 的後方的清洗液承接收集到盤皿1 4 4。

如此’在顯像單元（D Ε V ) 3 2內，結束掉一連串的顯 像處理工程的基板G係，經由保持這樣一直順著搬送線 φ 120上移動’並在下游側相鄰的脫色處理部34接受脫色處 理’送往多段單元部（ΤΒ) 98(圖1)之通過單元（PASS 如上所述，於該實施型態的顯像單元（DEV ) 3 2，縱 斷單元的搬送線120上的基板G，以一定速度的滾子搬送 來移動’於該水平流動的移動中，在顯像部122、清洗部 1 24、以及乾燥部1 2 6，依序施以各個顯像處理、清洗處理 、乾燥處理。

特別是，在顯像部122，在水平搬送路徑（Ml)上的 特定位置，於水平姿勢的基板G上盛著顯像液，於位置在 從這邊到搬送線1 20的下游側僅離開特定的距離的場所之 第1***部1 20a的傾斜路徑上，進行利用重力之顯像液 的除液乃至顯像停止。特別是，於基板G順著第1***部 12 0a的上升傾斜路徑（M2 )上升之際，基板G上的顯像 液的大部分都落到後方之故，是沒有必要特地將基板停止 抬起並從水平姿勢變換姿勢成傾斜變換。然而，基板G越 過上升傾斜路徑（M2 )後，基板G的上面（被處理面） -29 - (26) 1307932 在還沒乾的時候就馬上在下降傾斜路徑（M3 )供給液置換 用的清洗液之故，可以防止因液置換前之不期望的乾燥所 引起的顯像不良（發生斑等）。又’在基板G上的各部’ 進行顯像液的去除乃至顯像停止之掃瞄的方向以及速度’ 相等於在基板G上的各部盛著顯像液時的掃猫方向與速度 之故，可以得顯像時間的內面均一性進而提升顯像均一性 。又，基板G通過***部120a之際所形成的基板***部 φ 或是傾斜部爲局部的瘤狀’基板全體觀之’基板上的顯像 液的流動是以低速從容流動。由此’基板上的液體難以引 起亂流或缺液。此點’關於將基板全體從水平姿勢急速地 變換姿勢成特定角度的傾斜姿勢之先前方式，在基板上急 速地流下的顯像液容易引起亂流或是缺液’成爲顯像色不 均的原因。 在清洗部124’於基板G通過搬送線120的第2*** 部1 20b之際，在該上升傾斜路徑（M5 )進行一次洗淨’ ® 在下降傾斜路徑（M6 )進行二次洗淨。在傾斜路徑（M5 、M6 )，基板G上的清洗液利用重力自然地往基板後方 或是基板前方流下之故’可以很有效率地進行基板的洗淨 。尙且，於通過上升傾斜路徑（Ms )之際’基板G上的 清洗液係，往後方靠過去並從基板後端落下之故’可以省 去在該上升傾斜路徑（M5 )供給洗淨水之清洗噴嘴1 40 ° 但是，將用於顯像停止之清洗液以必要的最小限度之洗淨 水快速地沖洗流動，在該上升傾斜路徑（M 5 )進行一次洗 淨是非常有效率的。因此，僅於下降傾斜路徑（Μ6 )側開 -30- (27) 1307932 始複數個並列清洗噴嘴1 42，配置將其中1個作爲於上升 傾斜路徑（M5 )側之一次洗淨用的清洗噴嘴1 4〇的方法， 在成本績效方面是較優秀的。 在該實施型態，在該稍微下游側，設於上升段差部 120c的上方之清洗噴嘴1C爲達到與上述清洗噴嘴M〇同 樣的作用效果之故，省掉第2***部1 20b之構成，亦即 也是可以置換成水平一直線的搬送路徑。於該場合，將上 # 述清洗噴嘴14〇, 142沿著水平搬送路徑配置也是較佳的， 或是省略也是可以的。 在乾燥部126，於基板G通過搬送線120的段差部 12 0c之際’在該上升傾斜路徑（M8 )，殘留於基板G上 的多數清洗液利用重力自然地往基板後方流下之故，可以 節省配置於上段的水平搬送路徑（M9 )側的空氣刀1 48的 數量或是乾燥用氣體的消耗量。尙且，也是可以將空氣刀 1 4 8設置於上升傾斜路徑（Μ 8 )的上方。

又’在顯像單元（DEV) 32的外殼150內，由設於顯 像部1 22之清靜空氣供給部（1 60，1 64 )所供給的清靜空 氣流，從顯像部1 22流到清洗部1 24，設於乾燥部1 26的 清靜空氣供給部（1 62，1 66 )所供給的清靜空氣，從乾燥 部126流到清洗部124。發生在顯像部122以及乾燥部 1 26內的霧係快速地收集到清洗部1 24，從清洗部1 24到 顯像部1 2 2以及乾燥部1 2 6的霧不會逆流。由此，在顯像 部1 22以及乾燥部1 26內，可以有效率地確實防止霧再附 著到基板G。尙且，在清洗部〗24內，也附著到基板G的 -31 - (28) (28)

1307932 霧迅速地與清洗液一塊地沖洗流出之故，不會有任 接著，隨著圖5〜圖1 3，說明該實施型態的顯 (DE V ) 3 2之各部的實施例以及作用。 如上所述’於盛著顯像液的基板G順著搬送線 ***部1 2 0 a的上升傾斜路徑Μ 2之際，基板G上的 重力朝基板後方靠過去。此時，作用著表面張力從 0 的後端之顯像液難以落下之故，給予使該表面張力 促進顯像液的圓滑乃至均一地流下之適當的外力或 是爲較佳。 圖5係’顯示從相關的觀點用於上升傾斜路徑 適合的轉子搬送路徑的構成。於該構成例，於搬送 的轉子128’使用對應搬送區間之2種轉子128Α, 詳細的說’構成水平搬送路徑Μ 1以及下降傾斜掷 Μ3之第1型的轉子128Α係，於比較細的軸172之 方’固著大口徑的滾輪部1 74，於滾輪部搭載基板 轉。用於上升傾斜路徑Μ 2之第2型之轉子1 2 8 Β存 與第1型的滾輪部174相同直徑的圓柱或是圓桶死 ’於該軸176本身搭載基板G並迴轉。尙且，於第 轉子128Β，裝著有多數個於軸方向適當的間隔詔 製的止滑圈177是爲較佳。 如圖7所示，於第2型的轉子128Β爲壓著基 後端並送出之際，經由接觸在基板G的後端緣部· 子]28Β的軸176，從基板G的後端緣部之均一庄 何妨害 像單元 120的 液體因 基板G 崩壞並 是作用 Μ2並 線 12 0 1 28Β。 送路徑 數個地 G並迴 ，具有 〔軸 176 2型的 置橡膠 板G的 體之轉 顯像液 -32- (29) 1307932 R捲繞於軸176而零星掉落。 於圖5，各轉子128 (128A, 128B)係，將 軸承1 7 8支撐成可以迴轉，於安裝於比一端部 178還要外側的端之齒輪滑輪180，捲掛上皮帶 的正時皮帶。該正時皮帶182係，連接於由電動 之搬送驅動部（未圖示）之迴轉驅動軸。尙且 128的齒輪滑輪180以及正時皮帶182係，配 1 5 0 外。 如圖6所示，於相鄰接的轉子1 2 8 , 1 2 8之間 輪1 84。各惰輪1 84係，在將正時皮帶1 8 2捲掛 滑輪1 8 0之ON位置（以實線標示之位置）、以 皮帶182從各齒輪滑輪180離開之OFF位置（以 之位置）之間進行切換。 於圖8，顯示在搬送線1 2 0的上升傾斜路徑 從基板G的後端顯像液的零星掉落之其他方法。 ，於上升傾斜路徑的適當的位置例如麓的位 ’配置氣體噴嘴或是空氣刀186，朝向基板G的 由該氣體噴嘴186噴出一時或是瞬間的高壓氣體 高壓空氣），利用該高壓氣體的壓力，從基板G 顯像液R落到後方去。 圖9所示之構成係，適合用於將搬送線1 2〇 斜路徑M2形成陡坡之場合之故，如圖所示，於 子1 2 8，1 2 8之間’架設帶狀無端皮帶I 8 8。基板 上升傾斜路徑Μ 2的入口一直到從水平移動變換 兩端部之 側的軸承 傳動機構 馬達所成 ，各轉子 置於外殻 ，配置惰 到各齒輪 及將正時 鏈線標示 Μ2，輔助 該方法係 置的上方 後端部， (通常爲 的後端將 的上升傾 相鄰的轉 G爲，於 成向上移 -33- (30) 1307932 動之際，基板G的前端爲搭載於皮帶1 8 8並平順地乘移到 上段側的轉子1 2 2。 如圖1 0所示之構成，在搬送線1 20的上升傾斜路徑 M2之除液，可以確實於基板G的後端部所殘留顯像液的 積留液之故，上升傾斜路徑M2的上方，最好是在比頂上 部還要稍微不到之上游側的位置，在特定的高度位置配置 抵接於基板G的左右兩線部之一對滾輪190。 φ 基板G爲通過上升傾斜路徑M2之際，基板G上的液 體利用重力朝基板後方靠過去並從基板後端流落下去，從 基板BLI端基板G的大部分移到下降傾斜路徑M3側，基板 G的後端部從上升傾斜路徑M2朝上方離去。此時，基板 G的後端部以點鏈線G ’所示般地大幅地往上跳，於基板G 的後端部之顯像液的積留液恐怕會殘留。但是，經由此構 成例，基板G的後端部從上升傾斜路徑M2也離開到上方 ，由滾輪1 90 —邊受到高度限制一直到頂上附近可以維持 ® 後傾姿勢之故，可以遂行最後基板G上的除液一直到最後 。尙且，於把基板G送到前方之方向，迴轉驅動滾輪1 9 0 之構成也是可以的。 圖1 1係，顯示於搬送線1 2 0的上升傾斜路徑M2的上 方，配置除液促進用的空氣刀1 9 2之構成。於基板G順著 上升傾斜路徑M2上升之際，經由空氣刀1 9 2從上方對空 氣端吹下’在基板G上可以促進顯像液朝後方流下。該構 成係，上升傾斜路徑M2的傾斜角度或高度差爲較小時可 以適合的適用。 -34- (31) 1307932 尙且，上述之各部的實施例（圖5〜圖11)係，不限 定爲對搬送線120的第1***部I20a的適用，第2*** 部l2〇b或段差部120c也可以適用。 於圖12’模式的顯不在搬送線120上，基板G爲通 過第1***部12 0 a時的液處理的作用。如圖示般，基板 G ’係利用該可撓性’於基板全長的一部份，形成仿效隆 起部1 20a之突條的基板***部Ga，且以搬送速度相等的 ^ 速度’將基板***部Ga ’從基板的前端至後端、於與搬 送方向相反方向，一邊相對的移動一邊通過***部120a。 。搬送方向之第1***部1 20a的區間長，亦即合計搬送 區間M2，M3的長度例如爲數十cm左右，比基板G的全長 (例如100〜25 0cm )還要短。 在往上傾斜路徑M2上，在基板G上顯像液R利用重 力往基板後方流動，從基板G的前端向著後端以大約相等 的搬送速度，把顯像液R的液膜從盛液的狀態變化成薄膜 ® R’的狀態。在成爲薄膜R’的狀態的時間點，顯像係來到終 盤（例如9 5 %以上）。 當基板G越過***部1 20a的頂點移動到往下傾斜路 徑M3時，經由從上方的清洗噴嘴1 3 8以帶狀的吐出流供 給清洗液S，在著液基板G上的清洗液S的線的附近，薄 膜狀態的顯像液R係置換成清洗液S使顯像完全停止。置 換過的顯像液R’係，往前方流下並從基板前端落下。此時 ，流動置換成清洗液的顯像液R’的範圍係已經（先行一步 )停止顯像之故，於顯像的進行不會受到任何的影響。又 -35- (32) 1307932 ，如圖1 2所示，於挾著***部1 20a之基板前後端的範圍 、在流動著顯像液R之一方，於基板前端側的範圍流動著 清洗液S之故，基板G的全體爲因爲液體的重量得以持續 保持安定的姿勢來通過搬送線120的***部12〇a。又，於 基板G通過***部120a之際，在該頂上部的前後，亦即 基板前端側與基板後端側，可以供給不同的液體（顯像液 與清洗液）而不會混雜，可以防止顯像的色不均。順便一 • 提，在基板G上混雜到顯像液與清洗液，在基板G上的 各部液體濃度不同很容易引起顯像液的色不均。更進一步 ，不用停止基板G的搬送，在較短的距離或是空間內更加 有效率，且可以將基板上之相異的液體分別回收到.盤皿 132, 144° 也在搬送線120的第2***部120b，就僅僅是液體爲 相異，也發揮了與上述第1***部〗2〇a之同樣的作用。 極端的說，如上所述，省掉第2***部1 2 0 b，將該區間構

成水平一直線的搬送路徑也是可以的。 於圖1 3，模式的顯示基板G通過搬送線1 2 0的段差 部1 20c (搬送區間M8 )時的除液的作用。如圖所示，基 板G係，利用該可撓性，於基板全長的一部份，形成仿效 該段差部1 20c之線狀的基板段差部Gc，且以相等於搬送 速度的速度，將基板段差部Gc，從基板的前端至後端、 於與搬送方向相反方向，一邊相對的移動一邊通過搬送線 1 2 0的上升段差部1 2 0 c ( Μ 8 )。 在該上升段差部120c(Ms)上，在基板G上使用完 -36- (33) 1307932 畢的清洗液S及以由清洗噴嘴1 45供給於基板G上新的清 洗液S爲，利用重力往基板後方流動，從基板G的前端向 著後端以大約相等的搬送速度，把清洗液S的液膜從大約 盛液的狀態變化成薄膜S ’的狀態。基板G爲越過段差部 120c (M8)進入到上段的水平搬送路徑M9，由上方的空 氣刀1 4 8以刀狀的吐出流將高壓氣體流以與搬送方向相反 的方向噴出，基板G上殘留薄膜狀態的清洗液S ’係徹底 φ 往基板後方側靠過去並從基板除去。 〔實施型態2〕 接著，參閱圖1 4〜圖1 7 ’說明本發明適用於洗淨處 理部24之一實施型態。 於圖1 4，係顯示由本發明之一實施型態的洗淨處理部 2 4內的構成。該洗淨處理部2 4係，如圖示般地，設置沿 著處理線A延展於水平方向·（ X方向）之水平流動之搬送 ® 線200 ’沿著該搬送線200配置有準分子照射單元（e_uv )41、與洗滌洗淨單元（SCR) 42。接著，於洗滌洗淨單 元（SCR ) 42內，從上游側依序設有搬入部202、刻繪洗 淨部2 0 4、吹除洗淨部2 0 6、清洗部2 0 8、乾燥部2 1 0、以 及搬出部2 1 2。 搬送線2 0 0係，將基板G以被處理面向上朝上仰的姿 勢來搬送的轉子214，於搬送方向（X方向）以一定間隔 來鋪設’於洗淨處理部24的入口具有始點，穿過準分子 照射單兀（e-UV) 41以及洗條洗淨單元（SCR) 42，在第 -37- (34) 1307932 1熱處理部2ό(圖1)之多段單元部（ΤΒ) 44內的通過單 元（PASSL) 50(圖2)作爲終端。搬送線200之各個轉 子2 1 4係，例如於具有電動馬達之搬送驅動部（未圖示） ’介著齒輪機構或是皮帶機構等的傳動機構來連接。 該搬送線200也’於搬送方向（X方向）從始點到終 點並不是持續以同樣的高度位置，在途中於特定的地方具 有***部200a, 20 0b、上升段差部2〇〇c、以及下降段差部 Φ 200d。更詳細的是’於搬入部202內設有第1***部200a ，於吹除洗淨部2〇6內設有第2***部200b，於清洗部 208內設有上升段差部200c，於乾燥部210與搬出部212 的境界附近設有下降段差部200d，這些起伏部以外的搬送 區間係形成水平一直線的搬送路徑。 準分子UV照射單元（e-UV) 41係，於搬送線200的 上方收容紫外線燈2 1 6之燈室2 1 8。紫外線燈2 1 6係，例 如用介電壁障放電燈，將適合有機污染的洗淨之波長 ® 172nm的紫外線（紫外準分子光），於下面的搬送線200 上的基板G，透過石英玻璃窗220來照射。於紫外線燈 2 1 6的背後或上面，設有橫斷面圓弧狀的凹面反射鏡222 〇 於洗滌洗淨單元（SCR ) 42，於搬入部202的天井， 安裝將清靜的空氣以下流方式來供給之風扇過濾單元（ FFU ) 2 24。於第1***部200a的上方，特別是噴嘴、空 氣刀等的工具是沒有設的。 於刻繪洗淨部204內，沿著搬送路徑線路2 00，從上 -38- (35) 1307932 游側依序配置空氣幕噴嘴2 2 6、藥液供給噴嘴2 2 8、輥刷 23 0、以及洗淨噴霧管23 2。空氣幕噴嘴226係配置成，對 通過正下方的基板G的上面，將狹縫狀的空氣流向著搬送 方向的下游側噴出。於空氣幕噴嘴226的正下方，配置具 有跨過全長且圓桶狀的軸之第2型的轉子2 1 4 B。藥液供 給噴嘴2〗8、輥刷23 0、以及洗淨噴霧管23 2係，可以挾 著搬送線200設在該上下兩側。 # 於吹除洗淨部206內，於第2***部200b的上升傾 斜路徑的上方，設有做爲吹除洗淨用噴嘴之例如2流體噴 射噴嘴234。於清洗部208內，於上升段差部200c的上方 ，設有清洗噴嘴23 6。於乾燥部210內，於水平搬送路徑 的上方，設有空氣刀23 8。尙且，可以把清洗噴嘴236以 及空氣刀238挾著搬送線200的方式設在該上下兩側。又 ，也於吹除洗淨部206，從搬送線206的下方，可以對基 板G的下面（背面）設有噴出洗淨用的清洗液之下部清洗 ® 噴嘴（未圖示）。也於搬出部2 12的天井，安裝將清靜的 空氣以下流方式來供給之風扇過濾單元（FFU ) 240。於下 降段差部200 a的上方，特別是噴嘴、空氣刀等的工具是 沒有設的。 相鄰接之單元或處理部4 1, 202, 204，2 06, 208, 2 1 0, 212之間各自設有隔壁242, 244, 246，248，250，252。又 ’於汲取液體的處理部204，206, 208, 2 1 0內，各自設有 承接收集落下到搬送線200下方的液體之盤皿254, 256, 2 5 8，2 6 0。於各盤皿的底部之排液口，連接回收系統或排 -39- (36) 1307932 液系統的配管。又，在位置於洗滌洗淨單元（SCR ) 42的 中心部之吹除洗淨部206內的底部，設有通過具有例如排 氣栗或是排氣風扇之排氣機構（未圖示）之排氣口 262。 在此，說明該洗淨處理部2 4之全體的動作及作用。 經由如上述之卡匣工作站（C/S ) 1 4側的搬送機構22 ，爲處理的基板G搬入於搬送線200上，由轉子搬送以水 平流動向著處理線A的下游側搬送過去。 在準分子UV照射單元（e-UV ) 41，由燈室218內的 紫外線燈2 1 6所發出的紫外線透過石英玻璃窗220並照射 於搬送線200上的基板G。經由該紫外線，激發基板表面 附近的氧並生成臭氧，藉著該臭氧氧化•氣化基板表面的 有機物並去除。 如此，在準分子UV照射單元（e-UV) 41接受紫外線 洗淨處理之基板G係，進入到相鄰下游側的洗滌洗淨單元 (SCR) 42，通過搬入部2 02內的第1***部200a，並送 到刻繪洗淨部2 04。 於刻繪洗淨部204，基板G係於最初由藥液噴嘴228 噴出例如氧或是鹼系的藥液。殘留於基板G上的藥液係， 接受來自空氣幕噴嘴226的空氣流，將基板G流動於上游 側並進入到搬入部202是不用的。又，圓桶轉子2 1 4B係 ，經由將基板G的背面側一邊堵塞一邊搬送，作用出滲到 基板G的背面並不會使液體跑到搬入部202側這樣的功能 。供給藥液之基板G係，於正後方使輥刷2 3 0的下面一邊 擦過一邊穿過。輥刷2 3 0係，利用未圖示的刷驅動部的迴 -40- (37) 1307932 轉驅動力並以與搬送方向對抗之方向來迴轉，是以擦取基 板表面的異物（塵埃、破片、污染物等）。於該正後方， 洗淨噴霧管2 3 2於基板G噴出洗淨液例如純水，洗掉於基 板上浮游的異物。在刻繪洗淨部2 0 4內，落到基板G乃至 搬送線200的下方之液體係承接收集於盤皿254。 之後，基板G係進入到吹除洗淨部206，來到於第2 ***部200b，順著該上升傾斜路徑之際，經由2流體噴射 # 噴嘴234接受吹除洗淨。2流體噴射噴嘴234係，在順著 第2***部200b的上升傾斜路徑之基板G上，以使液體 的膜厚變得很薄爲目標，噴射加壓過的洗淨（例如水）與 加壓過的氣體（例如氮氣）之混合流體，附著於基板G的 表面或殘留的異物以加壓2流體之非常強的衝擊力來除去 。基板G上的液體的大部分係，在***部2 0 Ob的上升傾 斜路徑側往下方（上游側）吹飛，承接收集到盤皿2 5 6。 在基板G上，把持並進入於***部200b的下降傾斜路徑 ® 側亦即清洗部208之液體幾乎沒有。 在清洗部208，向著順著上升段差部200c上升之基板 G ’清洗噴嘴23 6供給最後洗淨用清洗液。於基板G上所 供給的清洗液係朝向到基板後端側流動在基板上，該多數 是落到清洗部2 0 8內的盤皿2 5 8。於如此順著上升段差部 2〇〇c上升之傾斜姿勢的基板G，噴出清洗液並進行清洗處 理的方式係，與對水平姿勢的基板將清洗液噴出的以往方 式來比較，基板上的液體的流動或置換效率較好，可以大 幅地減低。 -41 - (38) 1307932 基板G順著上升段差部200c上升並進入到水平搬送 路徑的區間，空氣刀23 8等候著，對基板G把高壓氣體流 以搬送方向相逆的方向碰上。藉著這樣，基板G上的殘留 '凊洗液靠到基板後方並從基板後方清除出去（進行除液）

從搬入部202天井的風扇過濾單元（FFU) 224供給 到下流的清靜空氣係，通過上述隔壁244，246的開口（基 板通路）並流入到吹除洗淨部2 0 6的室內，於此之際，發 生在刻繪洗淨部204內的藥液的霧也運到吹除洗淨部206 內。從搬入部212天井的風扇過濾單元（FFU ) 240供給 到下流的清靜空氣係，通過上述隔壁25 2，25 0的開口（基 板通路）並流入到吹除洗淨部206的室內，於此之際，發 生在刻繪洗淨部210內的藥液的霧也運到吹除洗淨部206 內。如上述所述，從搬入部202流入的霧所混雜的空氣、 與從搬出部2 1 2流入的霧所混雜的空氣係’也將發生在吹 除洗淨部206內的霧混入，由左右合流，並從排氣口 262 排出。因此，發生在吹除洗淨部2〇6內的霧爲沒有進入到 鄰室，特別是清洗部208。 如上所述，於洗滌洗淨單元（s c R ) 4 2 ’於水平流動 之搬送線200的途中’設有***部200b以及上升段差部 2 00c，且於這些的上方或該附近’經由配置吹除洗淨部噴 嘴或清洗噴嘴等的工具之構成’關於基板G上的液處理， 可以得到與關於上述的弟1貫施型態之顯像卓兀（D E V ) 32同樣的作用效果。 -42- (39) 1307932 更進一步，該洗滌洗淨單元（SCR) 42係，於該入口 或搬入部202內設有***部200a，於該出口或搬出部212 內設有下降段差部200d。 接著於圖15〜圖17，說明設於搬入部2 02內的*** 部2 00a的作用。尙且，省略掉空氣幕噴嘴226。 由洗滌洗淨單元（SCR) 42內的藥液供給噴嘴228滴 下於基板G上之藥液K係，經由***部200a的壁，圖15 • 以及圖16所示般地，阻止到上游側的擴散（特別是以點 鏈線270所示之在基板中央部的擴散）。 又，於系統的運作中發生突然的警報並停止搬送線 200，搬送線200上移動之各基板G係停止在液處理途中 之各位置。此時，跨過準分子UV照射單元（e-UV ) 41與 洗滌洗淨單元（SCR) 42並停止的基板G，如圖17所示 ，基板G上的藥液K果然藉著***部200a的壁阻止到準 分子UV照射單元（e-UV) 41的侵入（進行塞止）。 @ 於準分子U V照射單元（e - U V ) 4 1內，摻入藥液之外 其他的液體，成爲石英玻璃窗2 2 0或紫外線燈2 1 6等的劣 化或故障的原因。在此，以往，於準分子UV照射單元（ e-U V ) 4 1與藥液供給噴嘴22 8之間，設有隔開基板1片 份的空間或緩衝範圍。藉由該實施型態，經由如上所述的 ***部200a的塞止功能，可以省掉如此大空間的緩衝範 圍，可以將配置於洗滌洗淨單元（SCR ) 42側的最上游處 之藥液供給噴嘴22 8盡可能的配置於準分子UV照射單元 (e-UV ) 41的附近。尙且，也可以將該***部200a以下 -43- (40) 1307932 降段差部來代用。 搬出部212內的下降段差部200d係，將搬送線200 的始點與終點合於同樣的高度位置。於如上所述之搬入部 202內’設有下降段差部之場合，於搬出部212內是不要 下降段差部200d。 以上’說明關於本發明之適合的實施型態，本發明係 不限定於上述的實施型態，在該技術思想的範圍內進行種 # 種的變形或是變更是可以的。例如，於上述顯像處理部3 2 的搬送線1 2 0或是洗淨處理部2 4的搬送線2 0 0，將如上所 述之***部或段差部設置於任意的順序以及任意的地方是 可以的。例如，也於上述顯像處理部3 2的搬送線1 2 0，於 顯像部1 22的入口附近，可以設有***部或下降段差部。 由此’由顯像噴嘴130供給於基板G上的顯像液並不及於 相鄰上游側之其他的單元’可以將搬送線丨20的始點的高 度位置合於終點的高度位置。又，把設於洗滌洗淨單元（ ^ SCR ) 42之空氣幕噴嘴226以及圓桶轉子214B的構成或 是功能適用於洗滌洗淨單元（SCR) 94也是可以的。上述 實施型態的搬送線1 2 0 , 2 0 0之基板G的朝上仰的姿勢係 水平姿勢或則後方向（X方向）的傾斜姿勢，在左右方向 (Y方向）之其他的方向做傾斜姿勢也是可以的。 上述實施型態係’有關顯像處理裝置以及洗淨處理裝 置’本發明係可以適用於使用1種或是多種類的處理液， 對基板施以所期望的處理之任意的處理裝置。本發明之被 處理基板係’並不限定於LCD基板，平面顯示器用的各 -44- (41) 1307932 種基板、或半導體晶圓、C D基板、玻璃基板、光罩、印 刷基板等也是可以的。 【圖式簡單說明】 [圖1 ]顯示本發明的可以適用的塗佈顯像處理系統的 構成之平面圖。 [圖2]顯示上述塗佈顯像處理系統之熱處理部的構成 之側面圖。 [圖3 ]顯示上述塗佈顯像處理系統之處理順序之流程 〇 [圖4]顯示關於實施型態之顯像單元內的全體構成之 正面圖。 [圖5]顯示實施型態之搬送線的構成之平面圖。 [圖6]顯示實施型態之搬送線的驅動部的構成之側面 圖。 [圖7]顯示於實施型態的搬送線，從基板上落下液體 時的其中一實施例的作用之圖。 [圖8 ]顯示於實施型態的搬送線，促進從基板上落下 液體時的其中一實施例之圖。 [圖9]顯示實施型態之可以適用於搬送線的上升傾斜 路徑的其中一實施例之立體圖。 [圖10]顯示實施型態之可以適用於搬送線的上升傾斜 路徑的其中一實施例之立體圖。 [圖1 1 ]顯示實施型態之可以適用於搬送線的上升傾斜 -45- (42) 1307932 路徑的其中一實施例之立體圖。 [圖12]顯示於實施型態，在搬送線的***部附近進行 的液處理的作用之圖。 [圖〗3 ]顯示於實施型態，在搬送線的上升段差部附近 進行的液處理乃至乾燥處理的作用之圖。 [圖1 4]顯示關於實施型態之洗淨處理部內的全體構成 之正面圖。 [圖15]顯示於圖14的實施型態’下降段差部的一作 用之部分側面圖。 [圖16]顯示於圖14的實施型態’下降段差部的一作 用之平面圖。 [圖17]顯示於圖14的實施型態’下降段差部的一作 用之部分側面圖。 【主要元件符號說明】

10:塗佈顯像處理系統 24 :洗淨處理部 3 2 :顯像處理部 41 :紫外線照射單元（e-UV) 42 :洗滌洗淨單元（SCR ) 94 :顯像單元（DEV ) 1 2 0 :搬送線 120a, 120b:***部 120c :段差部 -46 - (43) (43)1307932 122 :顯像部 1 2 4 :清洗部 1 2 6 :乾燥部 1 2 8 :轉子 1 3 0 :顯像液供給噴嘴（顯像噴嘴） 1 3 6 :顯像液再利用機構 1 3 8, 1 4 0，142 :清洗液供給噴嘴（清洗噴嘴） 1 4 5 :清洗液供給噴嘴（清洗噴嘴） 1 48 :空氣刀 1 5 2 , 1 5 4 :隔壁 1 82 :正時皮帶 1 8 6 :氣體噴嘴 1 8 8 :帶狀無端皮帶 1 9 0 :滾輪 192 :空氣刀 2 0 0 :搬送線 120a, 200b :***部 2 00c :上升段差部 2 0 0d :下降段差部 224:風扇過濾單元（FFU) 2 2 6 :空氣幕噴嘴 2 2 8 :藥液供給噴嘴 2 3 0 :輥刷 2 3 2 :洗淨噴霧管 -47- (44) 1307932 2 3 4 :空氣刀2流體噴射噴嘴 2 3 6 :清洗液供給噴嘴（清洗噴嘴） 2 3 8 :空氣刀 -48-

Claims (1)

1307932 (1) 十、申請專利範圍 1 · 一種基板處理裝置，其特徵爲： 具備有：水平流動之搬送線，將爲了把被處理基板使 被處理面朝上、以朝上仰的姿勢來搬送之搬送體，鋪設於 水平之特定的搬送方向，包含了：於前述搬送方向具有實 質的水平搬送路徑之第I搬送區間、具有於前述第1搬送 區間持續上升傾斜的搬送路徑之第2搬送區間、具有於前 # 述第2搬送區間持續下降傾斜的搬送路徑之第3搬送區間 、以及具有於前述第3搬送區間連續實質的水平搬送路徑 之第4搬送區間；和 搬送驅動部，驅動在前述搬送線上搬送前述基板之前 述搬送體；和 第1處理液供給部，在前述第1或第2搬送區間內、 於前述基板上供給第1處理液；和 第2處理液供給部，在前述第3搬送區間內、於前述 ® 基板上供給第2處理液。 2 .如申請專利範圍第1項所記載之基板處理裝置， 其中：於前述搬送方向，前述第2搬送區間的長度比前述 基板的尺寸還短。 3. 如申請專利範圍第1項所記載之基板處理裝置， 其中：於前述搬送方向，前述第2搬送區間與前述第3搬 送區間所合計的區間的長度，比前述基板的尺寸還短。 4. 如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基板 處理裝置’其中：於前述搬送方向’於前述第2搬送區間 -49 - (2) 1307932 的終端部與前述第3搬送區間的始端部之間，形成實質的 水平搬送路徑。 5. 如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基板 處理裝置，其中：具有在前述第2搬送區間內，將從前述 搬送線上的搬送路徑、離開到上方的前述基板的部位，抑 制在特定的高度位置之基板抑制部。 6. 如申請專利範圍第5項所記載之基板處理裝置， • 其中：前述基板抑制部，具有抵接於前述基板的左右兩緣 部之一對可迴轉之滾輪。 7. 如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基板 處理裝置，其中：於比前述第1處理液供給部還要下游側 的前述第2搬送區間內的特定位置上，具有噴出除液用氣 體於前述基板上之第1空氣刀（airnkife)。 8. 如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基板 處理裝置，其中：於比前述第1處理液供給部還要下游側 胃的前述第1或第2搬送區間內的特定位置上，具有爲了觸 發從前述基板的後端讓前述第1處理液流落之除液觸發部 〇 9. 如申請專利範圍第8項所記載之基板處理裝置， 其中：前述除液觸發部，是以於前述搬送路徑上、配置做 爲前述搬送體之外徑爲一定的圓柱狀或圓桶狀的轉子，來 加以構成。 10. 如申請專利範圍第8項所記載之基板處理裝置， 其中：前述除液觸發部，包含把氣體流碰觸於前述基板的 -50- (3) 1307932 後端部、於從上方與前述搬送方向相逆的方 嘴。 11. 如申請專利範圍第1〜3項中任〜項所記載之基 板處理裝置，其中： 第1處理液供給部’具有在前述第1搬送區間內的特 疋位置上，向者目υ述基板吐出弟1處理液之處理液供給噴· 嘴； 前述搬送驅動部，通過前述第1及第2搬送區間，將 前述基板以一定的速度來搬送。 12. 如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基 板處理裝置，其中： 具有：在前述第1及第2搬送區間，爲了承接收集落 於前述搬送路徑之下的液體之第1集液部；和，在前述第 3及第4搬送區間，爲了承接收集落於前述搬送路徑之下 的液體之第2集液部。 1 3 .如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基 板處理裝置，其中： 具有於前述第2搬送區間與前述第3搬送區間內的境 界附近，爲了把沿著前述搬送線周圍的空間，間隔成上游 側與下游側之第1隔壁。 14.如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基 板處理裝置，其中： 前述搬送線，包含有：於前述第4搬送區間、具有持 續上升傾斜的搬送路徑之第5搬送區間，和於前述第5搬 -51 - (4) 1307932 送區間、具有連續實質的水平搬送路徑之第6搬送區間。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所記載之基板處理裝置 ，其中： 於前述搬送方向，前述第5搬送區間的長度比前述基 板的尺寸還短。 1 6 .如申請專利範圍第1 4項所記載之基板處理裝置 ，其中： 在前述第5或第6搬送區間內、爲了援助從前述基板 上的前述處理液的除液’具有於與前述搬送方向相逆的方 向上噴出氣體於前述基板上之第2空氣刀。 17. 如申請專利範圍第14項所記載之基板處理裝置 ，其中： 具有於前述第5搬送區間與前述第6搬送區間內的境 界附近，爲了把沿著前述搬送線周圍的空間’間隔成上游 側與下游側之第2隔壁。 18. 如申請專利範圍第1〜3項中任一項所記載之基 板處理裝置，其中： 前述搬送線，包含有：在比則述第1搬送區間還要上 游側、在比前述第1搬送區間還要高的位置、具有實質的 水平搬送路徑之第7搬送區間’和在前述第7搬送區間與 前述第1搬送區間之間、具有下降傾斜的搬送路徑之第8 搬送區間。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項所記載之基板處理裝置 ，其中： -52- (5) 1307932 於前述搬送方向，前述第8搬送區間的長度比前述基 板的尺寸還短。 20.如申請專利範圍第1 8項所記載之基板處理裝置 ，其中： 具有於前述第8搬送區間與前述第1搬送區間內的境 界附近，爲了把沿著前述搬送線周圍的空間，間隔成上游 側與下游側之第3隔壁。 -53-